【課題】フォトリソグラフィ用コーティング組成物及び方法の提供
【解決手段】第一の態様においては、（ａ）基体上に硬化性組成物を適用する工程、（ｂ）硬化性組成物上にハードマスク組成物を適用する工程、（ｃ）ハードマスク組成物上にフォトレジスト組成物層を適用する工程を含む方法であって、アッシングを含まないプロセスにおいて一以上の組成物を除去する工程、を含む方法が提供される。第二の態様においては、（ａ）基体上に有機組成物を適用する工程、（ｂ）有機組成物上にフォトレジスト組成物層を適用する工程であって、その有機組成物が、熱処理および／または放射線処理の際にアルカリ溶解性基を生じさせる材料を含む工程を含む方法が提供される。関連する組成物も提供される。 （もっと読む）

【解決手段】ナフタレン、フルオレン、フルオレノン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、アントラキノン、キサントン、チオキサントン、ベンゾクマリン、フェナレン-1-オン、アセナフテンから選ばれる芳香族基含有繰り返し単位を有し、酸によりアルカリに溶解する高分子化合物を含む第1のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して第1のレジスト膜を形成する工程と第1のレジスト膜上にアルキルアルコールを溶剤とする第2のポジ型レジスト材料を塗布して第2のレジスト膜を形成する工程と高エネルギー線で露光、ベーク後現像液を用いて前記第1,2のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】第2層のレジスト膜を第1層レジスト膜と組み合わせることにより第2層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したりイオンを打ち込んだりするときの耐性を高くできる。 （もっと読む）

【解決手段】芳香族基を繰り返し単位の２０〜１００モル％の範囲で有し、かつ酸によってアルカリに溶解する高分子化合物を含む第１のポジ型レジスト材料を基板上に塗布して、第１のレジスト膜を形成する工程と、第１のレジスト膜上に第１のレジスト膜を溶解させない炭素数３〜８のアルキルアルコールを溶媒とする第２のポジ型レジスト材料を塗布して、第２のレジスト膜を形成する工程と、高エネルギー線で露光し、ベーク後、現像液を用いて前記第１と第２のレジスト膜を同時に現像してレジストパターンを形成する工程とを含むパターン形成方法。
【効果】本発明のパターン形成方法によれば、現像後に基板面を開口させることができる。
本発明では、第２層のレジスト膜単独の場合よりも現像後のレジストパターンをマスクにして基板をエッチング加工したり、イオンを打ち込んだりするときの耐性を高くすることができる。 （もっと読む）

【課題】厚膜であっても高解像度で、順テーパーまたは矩形状のパターンを形成し、優れた耐熱性を有する膜を形成することができる感光性樹脂フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルムおよび感光性樹脂フィルムを有するフィルム積層体であって、感光性樹脂フィルムが（ａ）アルカリ可溶性ポリイミド、（ｂ）不飽和結合基含有重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤および（ｄ）熱架橋剤を含有し、感光性樹脂フィルムが厚み方向に樹脂の組成の異なる２層以上の層から形成されており、基材フィルム側に形成された感光性樹脂フィルムの最内層が、基材フィルムの反対側に形成された感光性樹脂フィルムの最外層と比較して波長４０５ｎｍにおける吸光度が小さいことを特徴とするフィルム積層体。 （もっと読む）

【課題】表面極性をリソグラフィ的に変え、自己組織化層によるパターン形成方法の提供。
【解決手段】光酸発生剤を含む感光層の一部分を照射し、発生した酸を隣の下層１２０ａの部分に拡散させる工程。前記下層１２０ａは酸分解可能基、アタッチメント基および官能基を含む酸感受性コポリマーを含む。感光層は下層の表面上に配置されており、拡散させる工程は下層１２０ａおよび感光層を加熱することを含み、下層１２０ａ中の酸感受性コポリマーの酸感受性基は拡散した酸と反応して下層の表面に極性領域を形成し、前記極性領域はパターンの形状を有する。感光層は除去され、下層の表面上に自己組織化層１５０ｂを形成する工程。前記自己組織化層１５０ｂは極性領域に対する親和性を有するブロックと、極性領域に対する親和性が低いブロックとを有するブロックコポリマーを含む。第１もしくは第２のドメインのいずれかを除去し下層の部分を露出させる工程。 （もっと読む）

【課題】現像ラチチュード、及び耐刷性に優れた赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、下層、中間層、および上層をこの順に設けてなり、前記下層、中間層、および上層がそれぞれ異なる構造の、水不溶性で且つアルカリ可溶性またはアルカリ分散性の樹脂を含む赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版。 （もっと読む）

【課題】現像ラチチュードが広く、且つ、耐刷性に優れた平版印刷版が得られる赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版及びその製造方法、並びに、該ポジ型平版印刷版原版により得られた平版印刷版及びその製造方法を提供する。
【解決手段】親水性表面を有する支持体上に、下層及び上層をこの順に形成して設けられた記録層を有してなり、前記下層が、水不溶性且つアルカリ水溶液に可溶性又は分散性の樹脂と、下層の全固形分の質量に対して５質量％〜５０質量％のフルオロ脂肪族基含有共重合体と、を含有する層であり、前記上層が、水不溶性且つアルカリ水溶液に可溶性又は分散性のポリウレタン樹脂を含有する層である赤外線感光性ポジ型平版印刷版原版及びその製造方法、並びに、該ポジ型平版印刷版原版により得られた平版印刷版及びその製造方法。 （もっと読む）

【課題】高精細な焼成物パターンの形成を可能とし、また、白黒二層構造のバス電極においては、さらにアンダーカットによるライン欠損を生じることなくパターンの形成を可能とした感光性樹脂組成物及びそれを用いた焼成物パターン並びにその焼成物パターンを備えたプラズマディスプレイパネルを提供する。
【解決手段】感光性樹脂組成物は、無機微粒子、有機バインダー及び下記一般式（Ｉ）に示されるオキシムエステル化合物を含む光重合開始剤を含有する。
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【課題】現像ラチチュード、画像形成性及び画像部強度のいずれにも優れ、且つ、像様露光後、現像処理に至るまでに経時した場合でも現像性の低下が抑制された赤外線感応性ポジ型画像形成材料、それを適用した画像形成性と画像部耐刷性とに優れた赤外線感応性ポジ型平版印刷版原版、並びに、該平版印刷版原版を使用した平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】 支持体上に、カルボン酸基を側鎖に有し、該カルボン酸基の少なくとも一部が一価の塩基性化合物と塩構造を形成しているポリマー及び赤外線吸収剤を含む下層と、熱によりアルカリ水溶液への溶解性が向上する上層とを、順次備える画像形成材料。 （もっと読む）

【課題】感熱マスク層の高い描画感度と遮光性を両立する感光性樹脂印刷版原版を提供すること。
【解決手段】支持体上に、少なくとも感光性樹脂層（Ａ）、および顔料を含有する感熱マスク層（Ｂ）をこの順に有する感光性樹脂印刷版原版であって、前記顔料を含有する感熱マスク層（Ｂ）が、ＯＤ（ＵＶ）／ＯＤ（Ｋ）≧１．２を満たすことを特徴とする感光性樹脂印刷版原版。 （もっと読む）