【課題】本発明は、光ビーム方式において発生する被描画体の描画パターンの変形を簡単な方法で、短時間で補正できる露光装置及び露光方法を提供する、あるいは、本発明の露光装置または露光方法を用いることでスループットの高い表示用パネル基板製造装置または表示用パネル基板製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、光ビームを光ビーム照射装置で照射し、前記基板へ描画する描画データを作成し、前記基板にパターンを描画するに際し、前記基板に設けられた複数のアライメントマークを撮像し、前記描画データの作成は、前記描画する描画点に対応して前記複数のアライメントマークで結ぶ辺に対して予め規定される前記描画点の座標比率に基づいて前記描画点の位置を決め、前記描画データを作成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基板を良好に露光できる露光方法を提供する。
【解決手段】液浸機構（１）を用いて計測部材（６５）上に液浸領域（ＬＲ）を形成するとともに、液浸領域（ＬＲ）を形成する液体（ＬＱ）を介して計測光を受光して、基板（Ｐ）の露光条件を決定するための計測を行い、計測時と露光時との液体（ＬＱ）の圧力差、及び計測結果を考慮して、基板（Ｐ）を露光する。 （もっと読む）

【課題】複数のウェハ支持部材および密封部材がホルダ基板に形成されたウェハホルダにおいて、ウェハ吸着面の平面度を一層向上させる。
【解決手段】複数のウェハ支持部材６および密封部材３、４をホルダ基板２に形成する（ｂ）。密封部材３、４の上面３ａ、４ａを切削または研削して当該上面３ａ、４ａの高さを複数のウェハ支持部材６の上面６ａの高さより低くする（ｄ）。複数のウェハ支持部材６の上面６ａを切削または研削して当該上面６ａの高さを密封部材３、４の上面３ａ、４ａの高さに一致させる（ｆ）。このように、密封部材３、４とウェハ支持部材６とが別個に加工されるため、ウェハ支持部材６の上面６ａの高さと密封部材３、４の上面３ａ、４ａの高さとを加工後に一致させることができる。したがって、ウェハホルダ１のウェハ吸着面の平面度を高めることができる。 （もっと読む）

【課題】光寿命が向上した露光ヘッドを提供する。
【解決手段】有機電界発光素子６０Ｂで構成された発光部６０Ａと、発光部６０Ａからの発光を光入射面から入射すると共に光出射面から出射して予め定められた位置に結像させる結像部と、を備え、有機電界発光素子６０Ｂとして、陽極層６２と、陰極層６４と、陽極層６２及び陰極層６４の間に配された発光層６３と、陰極層６４の側面及び発光層６３側とは反対側の面を覆って配された金属層６５であって、一部又は全部が露出して配された金属層６５と、の積層体で構成させる。そして、陰極層６４は、アルカリ金属及びアルカリ土類金属に属する元素の少なくとも１種を含んで構成されている。 （もっと読む）

【課題】高動作速度がロードロックのために使用されるときの温度効果を制限することができる装置を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、真空室と気体除去のためのロードロックを有する。ロードロックは、基板を支持するために支持テーブルを有する。カバープレートは、ロードロック内に設けられ、カバープレートは、支持テーブルの上方表面に面する下方表面を有する。開口が、カバープレートの下方表面に設けられ、下方表面に対して実質的に垂直な方向に基板上方から気体の除去を可能にする。一実施形態において、支持テーブルの上方表面内の開口を有する気体除去構成が設けられ、支持テーブルの上方表面と基板との間の気体圧力を、初期的に開口を介してロードロックの残り内の同時ロードロック圧力より低い所定圧力に低減する。ロードロックの残り内のロードロック圧力が所定より低く低下されるとき、支持テーブルの上方表面と基板との間の気体圧力はロードロックの残り内のロードロック圧力とともに低減される。 （もっと読む）

【課題】レジストパターンの減膜を利用することで描画及び現像の回数を削減させつつ、疎密間でのレジストパターンの減膜速度の面内均一性を向上させる。
【解決手段】遮光部の形成領域及び半透光部の形成領域を覆い、半透光部の形成領域におけるレジスト膜の厚さが遮光部の形成領域におけるレジスト膜の厚さよりも薄い第１レジストパターンを形成する工程と、第１レジストパターンにオゾンを過剰供給して第１レジストパターンを減膜する工程とを有し、第１レジストパターンに供給される単位面積あたりの活性酸素の供給量が、第１レジストパターンを減膜することで消費される単位面積あたりの活性酸素の消費量よりも多くなるようにオゾンを供給する。 （もっと読む）

【課題】オーバレイエラーの克服に適したスペーサ支援マルチパターニングリソグラフィの方法等を提供する。
【解決手段】幾つかの事前定義された設計規則に基づいて幾何学的ブール演算を用いて元の設計レイアウトからセルフアライメント型アシストパターン（ＳＡＰ）を自動的に導出できる。ＳＡＰは、マルチパターニングリソグラフィ工程中のターゲットパターンの様々なサブレイアウトの効率的なセルフアライメントのためにマスクレイアウト内に含まれる。ＳＡＰは、任意の形状及びサイズであってもよく、連続的なフィーチャ（例えば、環）、又は不連続なフィーチャ（例えば、互いに連結していない複数の棒）を有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、単一のブラインドシャッターを用いた小型マスク連続露光方式により、露光領域における照射量分布の局所的なムラが少ない露光を実現できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、基板を搬送方向に一定の速度で搬送しながら、搬送方向に所定間隔を空けて複数並べられた前記基板上の露光領域に対して露光を行う。露光装置は、点滅式光源と、基板をＹ軸正方向に搬送する搬送装置と、光源と基板との間に配置されるフォトマスクと、光源とフォトマスクとの間に位置し、光を遮光するブラインドシャッターとを備える。光源の点滅の周波数は５０Ｈｚであり、基板の搬送速度は１００〜２００ｍｍ／ｓｅｃであり、Ｙ軸方向におけるフォトマスク上の開口パターンが形成される領域の長さは、１５０〜２５０ｍｍである。これによって、ブラインドシャッター復帰時に光源が遮られることに起因する露光量減損率は３％以下となる。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板を炉内で加熱する際、金属製の搬送トレイに搭載していたため、そのガラス端面と周辺部の輻射率の差から、ガラス基板外周端部に急激な温度勾配が発生し、その勾配によるひずみから、ガラス基板が割れる等の問題が発生していた。
【解決手段】発明の基板の熱処理装置は、熱処理の際に用いる搬送トレイ２に、ガラス基板１の周辺にガラスと輻射率の近いセラミックプレート１０および基板受け９を配置することにより、ガラス基板外周端部の温度勾配を低減させ、加熱プロセスにおけるガラス基板の割れ防止を行う。 （もっと読む）

【課題】フォトリソグラフィー工程とエッチング工程の回数を減らし、製造時間の短縮化と低コスト化を図る。
【解決手段】基板と膜の支持構造と光学積層膜と移動可能な反射層と空隙とを含む光干渉変調方式による表示装置の製造方法であって、基板上に支持構造と光学積層膜とを設けた構造に対してフォトレジスト膜を形成する工程と、透過率の異なる複数の領域を具備する多階調フォトマスクを用いて露光及び現像を行う工程と、前記現像後のフォトレジスト膜の上部に反射層を形成する工程と、前記反射層を残してレジスト膜を除去する工程と、を有する表示装置の製造方法。 （もっと読む）