【課題】液処理装置の総排気量の増大を抑えながら、基板保持部の配列数を増加すること。
【解決手段】ｎ個（ｎは３以上の整数）のカップ体４を、夫々第１のダンパ７２が設けられた複数の個別排気路７と、これら複数の個別排気路７の下流側に共通に接続される共通排気路７３を介して排気量Ｅで吸引排気するにあたり、薬液ノズル５がウエハＷと対向する設定位置にある一のカップ体においては、当該カップ体側から外気を第１の取り込み量Ｅ１で取り込み、他の残りのカップ体においては、当該カップ体側から第１の取り込み量Ｅ１よりも小さい第２の取り込み量Ｅ２で取り込み、かつカップ体４側及び分岐路７６側の両方の外気の取り込み量が（Ｅ−Ｅ１）／（ｎ−１）となるように第１のダンパ７２を構成する。 （もっと読む）

【課題】レジストを塗布し、露光後に現像を行ってレジストパターンを形成するにあたって、レジスト表面に残渣が付着することで生ずる現像欠陥を抑制すること。
【解決手段】ウエハＷの表面にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成し、その後レジスト膜が形成されたウエハＷの表面を露光して、この露光処理されたウエハＷの表面に、酸性アルコールＬを供給して、当該表面に形成されているレジスト膜の低分子層の一部を溶解し、さらに、その後行われる現像処理に用いられる現像液に対する当該低分子層の溶解性を高める。 （もっと読む）

【課題】基板を搬送する搬送アームを自動で洗浄することができ、これにより基板の汚染を低減できる塗布、現像装置を提供すること。
【解決手段】洗浄液または薬液をウェハＷに供給して処理を行う、ベベル部洗浄ノズル７２が設けられた洗浄モジュール１００と、ＩＦアームＡ５の基板載置部材切片５５ａ、５５ｂ、５５ｃにベベル部が保持され当該基板載置部材切片５５ａ、５５ｂ、５５ｃに付着している汚染物を転写させる、洗浄冶具載置棚Ｃ２に格納された洗浄用ウェハ６と、洗浄モジュール１００にてベベル部が洗浄された洗浄用ウェハ６をＩＦアームＡ５に保持させるように制御する制御部１１０とを備え、洗浄用ウェハ６に基板載置部材切片５５ａ、５５ｂ、５５ｃの汚染物を転写させることにより、ウェハＷ用の洗浄モジュール１００で自動的にＩＦアームＡ５を洗浄する。 （もっと読む）

【課題】先発ロットＡの基板と後発ロットＢの基板との間で、加熱モジュールの加熱処理温度を変更する場合に、スループットの向上を図ること。
【解決手段】先発ロットＡの最後の基板を前記処理部に受け渡した後、前記後発ロットＢの最初の基板を前記処理部に受け渡すまでに、前記整定処理に要する時間を一の搬送サイクルを実行するときに要する最大時間であるサイクル時間で除して得られる遅延サイクル数だけサイクルを空けるように搬送スケジュールを作成し、前記所定の実行サイクルを終了後次のサイクルを開始する前に、整定対象モジュール毎に次のサイクルを実行するための適正時間を求め、これらのうち最も長い適正時間と前記実行サイクルの実行時間とを比較して前記適正時間が長い場合には、前記適正時間と前記実行時間との差に相当する時間だけ前記実行サイクルの次のサイクルの開始を待機するようにメインアームを制御する。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥を解消した電子デバイスを得るための液浸リソグラフィの現像方法であって、簡便で低コスト、かつ高速スキャン可能な高撥水性を付与することが可能なプロセスを提供する。また、新たな設備を導入することなく、安価な材料による改良を加えた現像処理方法による液浸リソグラフィの現像処理方法、該現像処理方法に用いる溶液および該現像処理方法を用いた電子デバイスを提供する。
【解決手段】アルカリ浸漬による現像工程を含む電子デバイスの液浸リソグラフィの現像処理方法であって、表面偏析剤と化学増幅型レジストとを含むレジストのうち表面偏析剤を選択的に溶解除去する溶解除去溶液を用いて行なわれる溶解除去工程ＳＴ５−６を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】細線再現性、非画像部の汚れ、印刷刷りだしの損紙枚数抑制の両立した感光性平版印刷版の処理方法及びそれに用いる自動現像機を提供する。
【解決手段】感光性平版印刷版を、３５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲に発光波長を持つレーザー光源により画像情報を露光、記録した後、自動現像機にてｐＨが３．０から９．０の範囲の水溶液で未露光部を除去して平版印刷版を作製するが、該自動現像機が、該感光性平版印刷版を加熱するプレヒート部、該酸素遮断層を水洗除去するプレ水洗部、非画像部の該感光層を除去し且つ該平版印刷版面を保護する水溶性高分子を皮膜する現像部、付着した現像液を乾燥する乾燥部の順に有し、且つ、該プレヒート部入り口から該乾燥部出口までの長さａと該現像部の長さｂの関係が、０．５５＞ｂ／ａ＞０．２３である自動現像機で処理することを特徴とする感光性平版印刷版の処理方法及びそれに用いる自動現像機。 （もっと読む）

【課題】露光工程においてレジスト膜から発生するアウトガスの量を低減して、レジスト膜の適正なパターニングを実現可能なレジスト処理装置を提供する。
【解決手段】開示するレジスト処理装置１０は、基板Ｗに形成されたレジスト膜に対して処理を行うレジスト処理装置１０であって、内部を真空に維持することができる処理容器１２と、処理容器１２内に設けられ、レジスト膜が形成された基板Ｗが載置される載置台１４と、化学的に不活性な第１のガスおよび第２のガスを含む混合ガスを所定の流量にて載置台１２に向けて噴出するガス供給部１６と、ガス供給部１６から所定の流量で噴出される混合ガスが処理容器内で分子線になり得る真空度に処理容器１２を排気することが可能な排気部１８と、を備える。 （もっと読む）

【課題】平流しの搬送ライン上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムースに行い、現像斑の発生を抑制する。
【解決手段】水平な搬送路を有する第１の搬送区間Ｍ１と、上り傾斜の搬送路を水平な搬送路から形成可能な第２の搬送区間Ｍ２と、第２の搬送区間Ｍ２が上り傾斜の状態で、第２の搬送区間Ｍ２に続く下り傾斜の搬送路を形成する第３の搬送区間Ｍ３とを含む平流しの搬送ライン２と、搬送体６を駆動する搬送駆動部と、第１の搬送区間Ｍ１内で基板Ｇ上に第１の処理液Ｄを供給する第１の処理液供給部９と、第３の搬送区間Ｍ３内で基板Ｇ上に第２の処理液Ｗを供給する第２の処理液供給部１３と、第２の搬送区間Ｍ２に被処理基板Ｇが載置された状態で、該第２の搬送区間Ｍ２に敷設された搬送体６を上昇移動させ、第１の搬送区間Ｍ１に続く上り傾斜の搬送路を形成する昇降手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】疎水化した基板上のレジスト膜表面の濡れ性を改善し、効率的な現像液膜の形成を可能にすると共に、現像処理の安定化を図れるようにした現像処理方法及び現像処理装置を提供する。
【解決手段】スピンチャック４０によって水平保持されたウエハＷを回転させ、該ウエハ表面に現像液を供給して現像処理を施す現像処理方法において、現像処理工程の前に、回転する基板表面の中心近傍に位置する現像ノズル５２から現像液１００を供給すると同時に、現像ノズルよりもウエハ外周側に位置する純水ノズル５３から第２の液である純水２００を供給し、ウエハの回転に伴ってウエハの外周側に流れる純水によって形成される壁３００によって現像液をウエハの回転方向に広げるプリウェット処理を行う。これにより、疎水化したウエハ上のレジスト膜表面の濡れ性を改善することができ、効率的な現像液膜の形成を可能にすると共に、現像処理の安定化を図ることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高いｐＨ値を有する現像液を必要とせず現像が可能であり、細線再現性に優れ、非画像部の汚れ防止性に優れ、現像時の傷つき防止性に優れる平版印刷版の作製方法を提供することにある。
【解決手段】支持体上に、光重合開始剤、結合材、エチレン性二重結合含有化合物及び、増感色素を含有する感光層を有し、該感光層上にポリビニルアルコールを含有する保護層を有する感光性平版印刷版材料を、波長３５０ｎｍから４５０ｎｍの範囲に発光波長を有するレーザー光源を用い、画像露光を行い、その後現像処理を行う平版印刷版の作製方法であって、該現像処理に用いられる現像液は、２５℃におけるｐＨが３．０〜９．０であり、該現像処理が、現像液の存在下に先端がテーパー状である毛を有するブラシローラーにより版面を擦る擦り工程を有することを特徴とする平版印刷版の作製方法。 （もっと読む）