【課題】塗布欠陥のない、長期間現像性が安定して使用可能な感光材料処理装置を提供することにある。特に菊四裁幅以上の感光材料に塗布欠陥を生じることなく安定に処理できる感光材料処理装置を提供することにある。
【解決手段】少なくとも弾性を有する配管と、配管を２方向に分岐させる分岐管と、複数の吐出口が穿設された処理液供給管と、処理液供給管に送られる処理液に圧力損失を与える抵抗部材とを少なくとも有し、分岐管により分岐された処理液を抵抗部材を介して処理液供給管の両端部に供給し、処理液供給管の複数の吐出口から処理液を拡散フィルムに向けて流下させる処理液供給部を有することを特徴とする感光材料処理装置。 （もっと読む）

【課題】遮光部の面積が光透過部の面積よりも大きいパターンを露光するような場合に、感光材料の現像後に得られるパターンの精度を向上する。
【解決手段】フォトレジストが塗布され、マスクＭのパターンを介して露光されるウエハＷを処理する処理装置３２であって、ウエハＷを保持して移動するウエハステージＷＳＴと、ウエハステージＷＳＴで保持されたウエハＷのフォトレジストの現像液に対する撥液性を低下させるために、ウエハＷの全面を露光用の照明光ＩＬで照明する調整用露光光学系３３とを備える。 （もっと読む）

【課題】基板の全面にわたって均一な品質の処理を行うことができる基板処理装置および基板処理方法を提供する。
【解決手段】基板処理装置は、基板を回転可能に保持する回転保持機構と、基板に処理液を吐出する吐出口を有する洗浄液ノズルと、前記洗浄液ノズルを平面視で基板Ｗの略中心と周縁との間で移動する洗浄液ノズル用移動機構と、回転保持機構と洗浄液ノズル用移動機構を制御して、基板を回転させ、かつ、処理液供給部を移動させて、処理液供給部から吐出された処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させる制御部と、を備えている。そして、処理液を基板Ｗの全面に対して直接着液させることで、基板Ｗの全面にわたって均一な処理を行うことができる。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ製造に用いられる限外濾過ユニットを備えた循環式現像装置であって、連続稼動・運用時の効率的な限外濾過フィルタの逆洗浄が可能で、安定した濾液確保が出来る現像装置を提供し、かつ、限外濾過フィルタの高寿命化が実現できる現像方法を提供する。
【解決手段】（１）現像ユニットと、（２）複数の限外濾過フィルタを使用して現像液を濾過する濾過ユニットと、（３）濾液の濃度を測定し、現像液原液を補充して濃度を調整する現像液濃度調整ユニットと、（４）濃度調整された現像液（濾液）を再度現像に供するため、リザーブタンクに送液し、現像タンクに送液して再利用する手段とを備えた現像液循環ユニットと、から構成される現像液循環方式の現像装置において、濾過ユニットの限外濾過フィルタ毎に、周波数増減で各々の限外濾過フィルタの流量を目標流量に調整する自動流量調整用ポンプを具備する。 （もっと読む）

【課題】限外濾過ユニットを備えた循環式現像装置で、連続稼動・運用時の膜リークを早期に発見出来、膜リーク発生時に限外濾過フィルタ交換等の対応を早急に実施でき、現像工程起因の不良品の発生を減少させることが出来る現像装置及び現像方法を提供する。
【解決手段】（１）現像ユニットと、（２）複数の限外濾過フィルタを使用して現像液を濾過する濾過ユニットと、（３）濾液の濃度を測定し、現像液原液を補充して濃度を調整する現像液濃度調整ユニットと、（４）濃度調整された現像液（濾液）を再度現像に供するため、リザーブタンクに送液し、現像タンクに送液して再利用する手段とを備えた現像液循環ユニットと、から構成される現像液循環方式の現像装置において、前記濾過ユニット通過直後、前記濾液リザーブタンク貯留前の濾液の成分変動を測定することで、前記限外濾過フィルタの膜リークを経時で監視する機構を具備する。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ製造に用いられる限外濾過ユニットを備えた循環式現像装置であって、連続稼動・運用時の効率的な限外濾過フィルタの洗浄、再生が可能な現像装置を提供し、かつ、限外濾過ユニット全体の高寿命化が実現できる現像方法を提供する。
【解決手段】（１）現像ユニットと、（２）複数の限外濾過フィルタを使用して現像液を濾過する濾過ユニットと、（３）濾液の濃度を測定し、現像液原液を補充して濃度を調整する現像液濃度調整ユニットと、（４）濃度調整された現像液（濾液）を再度現像に供するため、リザーブタンクに送液し、現像タンクに送液して再利用する手段とを備えた現像液循環ユニットと、から構成される現像液循環方式の現像装置において、濾過ユニットに、限外濾過フィルタの再生用薬液を供給可能に、薬液供給用配管経路を具備する。 （もっと読む）

【課題】基板上のレジスト膜の有効面積を向上させつつ、露光処理後に基板の周縁部上のレジスト膜を完全に除去する。
【解決手段】ウェハ上にレジスト液を塗布し、ウェハの全面にレジスト膜を形成する（工程Ｓ１）。その後、プリベーク処理を行った後（工程Ｓ２）、ウェハ上のレジスト膜を露光処理する（工程Ｓ３）。その後、ウェハの周縁部上のレジスト膜に溶剤を供給し、この周縁部上のレジスト膜を除去する（工程Ｓ４）。その後、露光後ベーク処理を行った後（工程Ｓ５）、ウェハ上のレジスト膜を現像する（工程Ｓ６）。 （もっと読む）

【課題】高品質な平版印刷版を作製でき、メンテナンス性に優れる自動現像装置を提供する。
【解決手段】自動現像装置２は、支持体上の画像記録層が画像露光された平版印刷版原版４を、現像液５８が満たされた現像槽２０に浸漬して現像処理するものであって、前記現像槽２０から搬出される前記平版印刷版４を上下に挟み、該平版印刷版４に付着している前記現像液５８を絞り取る一対の絞りロール２６と、一対の前記絞りロール２６の少なくとも上側に配置された絞りロール２６に接触し、該絞りロール２６に付着している付着物を除去する除去手段２９と、を備え、下側に配置された絞りロール２６は、その一部を前記現像槽２０内の前記現像液５８に浸漬されており、前記除去手段２９は、少なくとも一部分を前記現像槽２０内の前記現像液５８に浸漬されている。 （もっと読む）

【課題】廃液を削減し、現像液の温度を維持して現像処理を安定させることができる自動現像装置を提供する。
【解決手段】自動現像装置１は、支持体上の画像記録層が画像露光された平版印刷版原版２を搬送する搬送手段１１、及び該搬送手段によって搬送される前記平版印刷版原版に現像液を吹き付ける吹付手段１２を有する現像部３と、前記吹付手段から噴射された前記現像液が回収される外部タンク５と、前記外部タンクに回収された前記現像液を前記吹付手段に再び供給する配管６と、前記吹付手段に供給される前記現像液を加熱する加熱手段７と、を備え、前記現像部３が、前記吹付手段から噴射された前記現像液の温度を保持する保温手段９，１３，３２，３４を有する。 （もっと読む）

【課題】基板の現像処理を基板面内で均一に行い、レジストパターンの寸法の基板面内における均一性を向上させる。
【解決手段】現像液ノズル３３と純水ノズル４０からウェハＷの中心部に現像液Ｄと純水Ｐをそれぞれ供給し、現像液Ｄと純水Ｐの混合液ＣをウェハＷ全面に拡散させる（図４（ａ））。純水ノズル４０からウェハＷの中心部に純水Ｐを供給し（図４（ｂ））、純水ＰをウェハＷ全面に拡散させる（図４（ｃ））。現像液ノズル３３からウェハＷの外周部に現像液Ｄを供給した後（図４（ｄ））、現像液ノズル３３をウェハＷの中心部に移動させながら、ウェハＷに現像液Ｄを供給する。そして、ウェハＷ全面に現像液Ｄを拡散させ、ウェハＷの現像処理を行う（図４（ｅ））。 （もっと読む）