【課題】 柱状電極を有する半導体装置において、柱状電極を形成するためのドライフィルムレジストからなるメッキレジスト膜を現像する際、膨潤したメッキレジスト膜の急激な収縮を抑制し、且つ、レジスト残渣が発生しにくいようにする
【解決手段】 現像部３２では、メッキレジスト膜２５の非露光部は現像液と接触する表面から膨潤して溶解され、メッキレジスト膜２５に柱状電極形成用の開口部が形成される。この状態では、メッキレジスト膜２５の開口部の底部にレジスト溶解物が残存している。中間処理部３３では、現像液用シャワー４２およびリンス液用シャワー４３から現像液およびリンス液が吹き出され、メッキレジスト膜２５上で吹き出された両液が交差して混合される。これにより、膨潤したメッキレジスト膜２５の急激な収縮を抑制し、且つ、レジスト残渣が発生しにくいようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】現像欠陥を抑制する被処理体の処理方法及び被処理体の処理装置を提供する。
【解決手段】本発明の被処理体の処理方法は、被処理体１０のパターン転写膜２にパターン潜像を転写する工程と、パターン転写膜２上に現像液４１を供給してパターン転写膜２の選択的除去を行いパターン転写膜２にパターンを形成する工程と、パターンの形成後、被処理体１０上に洗浄液４２を供給する工程と、洗浄液４２が供給された被処理体１０に対してブローノズルヘッド１９に形成されたブローノズル３１からガスを吹き付けながら、パターンレイアウトに応じて設定された方向Ａにブローノズル３１を移動させ、その方向Ａに洗浄液４２を流動させる工程と、を備えている。 （もっと読む）

【課題】カラーフィルタ製造に用いられる限外濾過ユニットを備えた循環式現像装置において、現像液濃度測定器の精度確認ができ、校正作業負荷を減じ、測定ズレ・バラツキによる品質不具合が生じず、コスト軽減が可能な現像装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、（１）現像ユニットと、（２）限外濾過フィルタを使用した濾過ユニットと、（３）濾液の濃度を測定し、現像液原液を補充する現像液濃度調整ユニットと、（４）現像液（濾液）を再度現像に供する現像液循環方式を用いた現像装置において、濾液の濃度測定器が、現像液主成分のＮａ_２ＣＯ_３標準液を自動測定する機能を有し、前記Ｎａ_２ＣＯ_３標準液の自動測定結果に基き、必要に応じて、該濃度測定器の自動校正を行う機構を有する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の検知センサとして現像装置などで使用される振り子センサがガラス基板の裏面に接触することによって発生する汚れを防止することができる現像装置を提供すること。
【解決手段】振り子センサを移動させる機構が、該振り子センサを制御する装置に予め登録した現像処理される基板の情報に従って、前記現像処理される基板のパターンが形成されていない領域に自動的に移動する現像装置。また、前記振り子センサを移動させる機構の可動範囲が、前記現像装置が処理できる流れ方向に垂直な方向の基板寸法の最大値以上であることを特徴とする現像装置。 （もっと読む）

【課題】現像装置において、ガラス基板への現像液、および水洗水を常に安定して塗布することにより、安定的に生産することを目的とする。
【解決手段】上記目的を達成するために、本発明の現像装置は、長手方向に複数のノズル２０を配したシャワー管１８を複数備えたシャワー管ユニット３８を有し、ノズルからの現像液の吐出が放射状になるようにシャワー管ユニットが回転する機構を有し、ノズルから吐出する現像液の圧力または流量を直接的または間接的に観測した結果によって回転する機構およびノズルからの吐出状態を制御する機構を有したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、洗浄特性が著しく向上しており、現像装置に悪影響を及ぼすことなく、平版印刷版原版の現像装置内の付着堆積物を、非常に効率よく除去することができる現像装置用洗浄組成物を提供する。
【解決手段】平版印刷版原版の現像装置用洗浄組成物であって、（ａ）酸化剤および（ｂ）活性化剤を含むことを特徴とする洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】現像液中に分散する感光性樹脂成分を効率的に除去可能な現像装置を提供する。
【解決手段】印刷原版１に現像液５を供給する供給装置３１と、印刷原版１の感光性樹脂組成物層から遊離した感光性樹脂組成物が分散している現像液５が通され、現像液５中に分散している感光性樹脂組成物を凝集させる分散物フィルタ１３と、分散物フィルタ１３を通過した現像液５から、凝集された感光性樹脂組成物を除去する凝集物フィルタ１５と、を備える、現像装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】半導体、液晶などの製造工程に使用される現像液などの薬剤を高濃度の原液を超純水などで希釈し、所望の濃度に調整するにあたり、不純物の混入を防ぐことができ、かつ設備がコンパクトな希釈装置を提供する。
【解決手段】薬剤及び希釈液が導入される希釈タンク１を備えている薬剤の希釈装置であって、希釈タンク１に、希釈タンク１内の液体を撹拌するための磁気浮上ポンプ２を設けるとともに、薬剤の濃度を測定する濃度計３を備え、薬剤の所望の濃度に基づいて、上記測定値を上記所望の濃度に近づけるように薬剤の量と希釈液の量を制御する。 （もっと読む）

【課題】希釈対象である薬剤の量の誤差を少なくすることによって、濃度調整を容易とする。
【解決手段】希釈タンク２と、希釈タンク２内の液体を循環させる循環用配管４と、循環用配管４の一端から希釈タンク２内の液体を吸引し他端から当該液体を希釈タンク２内に戻すためのポンプ３と、を備える希釈装置１を用いた薬剤（例えば現像液の原液等）の希釈方法であって、薬剤を希釈するための希釈液の一部を、少なくとも、サクション管４’内が満たされるまで希釈タンク２内に導入する第１の希釈液導入工程と、前記薬剤を希釈タンク２内に導入する薬剤導入工程と、希釈液の残部を前記容器内に導入する第２の希釈液導入工程と、を包含する。 （もっと読む）

【課題】ライン幅ラフネスをより低減することが可能なレジスト塗布現像装置およびレジスト塗布現像方法、並びにレジスト膜処理装置およびレジスト膜処理方法を提供する。
【解決手段】基板上にレジストを塗布してレジスト膜を形成するレジスト膜形成部と、露光されたレジスト膜を現像するレジスト現像部１８と、レジスト現像部１８で現像されてパターン化されたレジスト膜を、気相雰囲気下で、当該レジスト膜に対して溶解性を有する第１の溶剤に晒す溶剤気相供給部１００と、第１の溶剤に晒されたレジスト膜に、当該レジスト膜に対して溶解性を有する第２の溶剤を供給する溶剤供給部１００とを備えるレジスト塗布現像装置１を開示する。 （もっと読む）