【課題】第１に、発生した泡を、連続的かつ確実に消泡でき、第２に、消泡剤は使用せず物理的に消泡し、第３に、しかも再使用面，構成面，後付け面，コスト負担増回避面、等々のコスト面にも優れた、泡処理装置を提案する。
【解決手段】この泡処理装置Ｅは、電子回路基板の製造工程で使用され、基板材Ａに対しアルカリ処理液Ｂを噴射して表面処理する表面処理装置１に、付設される。そして、泡Ｄを連続的な処理し、吸引部１１と処理部１２とを有している。吸引部１１は、表面処理装置１から、アルカリ処理液Ｂに感光性レジストＣが溶解する際に発生した泡Ｄを、吸引する。処理部１２は、表面処理装置１と吸引部１２との間に介装され、吸引により回収された泡Ｄを、液とガスとに分離する。処理部１２で泡Ｄを液化，分離して得られたアルカリ処理液Ｂは、表面処理装置１の液槽３へと戻されて、再使用される。 （もっと読む）

【課題】処理液による処理をウェーハの被処理面に対して均一に、且つ、処理の長時間化を抑制しながら行うことができる。
【解決手段】内部に処理液３を貯留し、処理液３によりウェーハ４の被処理面４ａに対する処理が行われる処理槽２を備える。処理槽２内の処理液３に被処理面４ａが浸漬されるように、被処理面４ａを下向きにしてウェーハ４を保持する保持部５を備える。処理液３を処理槽２内へ供給する供給手段（例えば、循環ポンプ６及び供給配管７）と、回転することによって処理槽２内の処理液３を撹拌する回転部材（例えば、スターラ２１）を備える。供給手段は、ウェーハ４の被処理面４ａに向かう上向きの噴流２０が処理槽２内に形成され、且つ、処理槽２の上端２ａから処理液３がオーバーフローするように、処理液３を処理槽２内へ供給する。回転部材は、噴流２０の経路を避けて配置されている。 （もっと読む）

感光板処理装置内の現像液（１９）の膜形成を減少するための機器は、現像液貯槽（１７）内に現像液（１９）を送り込むための手段と、第一貯槽開口と第二貯槽開口とを通じて平行して現像液貯槽を充填することによって現像液貯槽（１７）内への現像液（１９）の流れを分割する手段（２１，２２）とを含む。
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【課題】第１に、処理液の更新が促進されて、液溜まりや滞留は発生せず、表面処理の遅速，過不足，バラツキ等が解消され、第２に、しかもこれが簡単な構成により、コスト面にも優れて実現される、基板材の表面処理装置を提案する。
【解決手段】この表面処理装置１５は、電子回路基板の製造工程で使用され、搬送される基板材Ａに対し、上下のスプレーノズル１６，１７から処理液Ｂを噴射して表面処理する。スプレーノズル１６，１７は、基板材Ａの搬送方向に複数本配設されたスプレー管１９，２０に、それぞれ多数個設けられており、上側の各スプレー管１９は、左右に往復揺動する首振りオシレーション方式よりなると共に、中央側のスプレー管１９の揺動角度が、左右側のスプレー管１９の揺動角度より、大きく設定されている。もって処理液Ｂは、基板材Ａ上を左右方向Ｃに向け、液溜まりや滞留のない規則的な流れを形成する。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンをより安定的に形成するために、線幅バラツキ(LWR)、露光ラチチュード(EL)及びフォーカス余裕度(DOF)に優れるネガ型現像用レジスト組成物、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】特定の構造を有する酸分解性の繰り返し単位を有し、酸の作用によりネガ現像液に対する溶解度が減少する樹脂を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】現像部へ平版印刷版原版を導き入れる挿入ローラへ現像液が付着することに起因する汚染を防止でき、高品質の平版印刷版を作製することが可能な平版印刷版原版の自動現像装置と平版印刷版原版の処理方法を提供する。
【解決手段】平版印刷版原版を、画像露光した後に加熱した後で平版印刷版原版を現像処理浴中の現像液に浸漬させ、非画像部の画像記録層及び保護層を同時に除去する平版印刷原版の自動現像装置であって、現像処理浴に平版印刷原版を導き入れる挿入ローラと、現像液内に配された液中ローラと、現像液内の挿入ローラと液中ローラとの間に配され、搬送される平版印刷版を支持するガイドローラと備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の裏面洗浄を確実に行うことができる洗浄方法、塗布方法、現像方法及び回転処理装置を提供する。
【解決手段】一方面に基板１を周縁部が突出した状態で保持すると共に、前記一方面３の面内方向で回転される回転部材２１と、前記回転部材２１に設けられて洗浄液１００を前記基板１の前記回転部材２１に保持された保持面２側に供給する洗浄ノズル２６と、前記洗浄ノズル２６に前記洗浄液１００を供給する洗浄液供給部２７と、を具備する回転保持治具２０を用いて、前記基板１を回転させながら前記洗浄ノズル２６から前記基板１の前記保持面２ａに前記洗浄液１００を供給して、前記基板１の前記保持面２ａを洗浄する。 （もっと読む）

【課題】半導体基板の欠陥が発生することを防ぐ表面の交換が可能なフォトレジストを提供する。
【解決手段】半導体基板上にリソグラフィ工程を行う方法であって、基板上にレジストを塗布し、露光前ベーク処理を行い、露光、現像を行う工程を含み、前記レジストは、前記塗布及び露光前ベーク処理を行う間に第１の層と第２の層とに分離され、現像後に第２の層は第１の層より少なくとも０．００１ｎｍ低くなる方法である。前記レジストは、感光性ポリマー、光酸発生剤、アルカリ性クエンチャー、及び相変換型ポリマーを含むことが好ましい。 （もっと読む）

版処理装置に備わる現像液再利用装置であって、未使用現像液容器（１３）と、版処理に備え未使用現像液容器（１３）から現像液を受け入れる（１５）よう構成されている現像部用タンク（１０）と、現像部用タンク（１０）から使用済の現像液を受け入れる（１６）よう構成されている使用済現像液容器（１４）と、使用済の現像液の導電率に応じ使用済現像液容器（１４）からの返戻で現像液を補給する（２１）よう構成されている補給手段と、を備える。
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【課題】カラーフィルタ製造に用いられる現像液循環方式を用いた現像装置において、現像工程での連続稼動・運用時に、現像タンクから現像槽の現像液吐出機構に現像フィルタを介して戻る現像液の圧力及び流量を監視し、現像液の圧力・流量が低下した際に現像フィルタを自動洗浄して、現像フィルタの詰まりを無くし、現像フィルタの寿命延長と現像液の現像液吐出機構への供給安定化機構を有する現像装置を提供する。
【解決手段】少なくとも、現像処理が行われる現像槽と、現像液を収容する現像タンクと、現像液を複数の現像フィルタを介して該現像フィルタに対応する個々の送液ポンプにより前記現像槽に送液する手段とを具備する現像液循環方式の現像装置において、個々の現像フィルタに対して２方向から送液が可能とし、該個々の現像フィルタの洗浄時に、現像時とは逆向きに現像液を送液可能とする機構を有する。 （もっと読む）