【課題】電極パターンの断線を抑制し、大画面で高精細であっても均一なパターン幅を有するＰＤＰを提供することを目的とする。
【解決手段】第１フォトマスク２２は基準位置マーク４１ａを有し、第２フォトマスク２４は位置確認マーク４２ａを有し、基準位置マーク４１ａと位置確認マーク４２ａの互いの位置を基準にして、第１フォトマスク２２でメインパターンとして転写パターン４１ｂを露光し、かつ、第２フォトマスク２４でサブパターンとして転写パターン４２ｂを露光しており、メインパターンとサブパターンの位置ずれ量に基づいて、第２露光時における第２フォトマスク２４の露光位置をあらかじめオフセットする構成である。 （もっと読む）

【課題】被製造物等を位置合せする基準となるアライメントマークを含んだ画像を辞書画像として登録する作業を、位置合せの際の画像処理に必要な条件を理解していない者でも適正に行えるようにする。
【解決手段】位置合せの対象物に付されたアライメントマークを撮影した画像のうち、辞書画像として登録する領域を設定する操作を行うための操作部と、制御部とを備え、制御部は、アライメントマーク３１を撮影した画像が表示される表示装置の画面２０上に、操作部の操作によって辞書画像として登録する領域を設定するためのＧＵＩ２１〜２３を表示させるとともに、辞書画像として登録する領域を設定する際の操作ガイダンス２４をウィンドウ表示させる処理と、操作部の操作によって現在設定されている領域内の画像の濃度又は輝度のレベル値に関するヒストグラム２５のデータを作成し、そのデータを画面２０上にウィンドウ表示させる処理とを行う。 （もっと読む）

【課題】各フィルム基板のアライメントマークの位置のずれを抑制し、精度よく各フィルム基板が積層されている積層基板およびその製造方法を提供する。
【解決手段】フィルム基板５１にフォトレジストを塗布し、ベークを行ってフォトレジスト層を形成後、アライメントマーク５０１を形成し、配線電源層５０を完成させる。フィルム基板４１にフォトレジスト層を形成後、アライメントマーク５０１を転写してアライメントマーク４０１を形成する。信号処理層４０を完成させて、配線電源層５０とアライメントマーク４０１，５０１を基準に接着する。同様に、下層から順次アライメントマークを形成し、各層を接着させてスキャナ１を完成する。フォトレジスト層を形成するためのベークによる加熱によって、フィルム基板が収縮している。その後、アライメントマーク１０１，２０１，３０１，４０１，５０１が形成される。 （もっと読む）

【課題】専用のプリアライメント装置を設けることなく、短時間で且つ精度良く基板を基板ステージに搭載して、タクトタイムを短縮することができる露光ユニットを提供する。
【解決手段】露光ユニット１は、露光装置ＰＥと、ロボット８７と、制御部８８と、処理ユニット８４に供給された基板Ｗの位置情報を検出するセンサ１００ａ，１００ｂ，１００ｃと、を備える。制御部８８は、センサ１００ａ，１００ｂ，１００ｃの検出結果と所定の基準位置とのズレ量を算出し、当該ズレ量に基づいてロボット８７のアーム部９０を処理ユニット８４から基板ステージ２０に移動しながら、基板Ｗを基準位置にプリアライメントする。 （もっと読む）

【課題】製造ラインを改造することなく、また工数も大きく増加させることなく、高い精度および良好な視認性を有するアライメントマークを簡単に形成し、さらに低コストで生産性よくフラットパネルディスプレイを製造する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイの基板の位置を認識するためのアライメントマークを形成する感光性ペーストであって、アライメントマークは、基板上に前記感光性ペーストを塗布するステップと、塗布した膜を乾燥して感光性膜とするステップと、感光性膜を露光することによりアライメントマークを形成するステップとにより形成され、感光性ペーストは、乾燥するステップの温度よりも高い沸点を有する感光性モノマーを含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光装置のステージ上に被露光ガラス基板を搭載してから、フォトマスクとガラス基板のアライメントとが終了するまでのステージの移動回数を低減するの提供である。
【解決手段】露光用光源、露光光制御機構、基板ステージ位置調節機構、アライメントマークの画像認識機構、該画像情報等を使用して位置情報を保存・算出する機構とを備える露光装置であって、ステージに被露光基板を搭載する都度、位置情報に基づいて被露光基板を初期位置に移動し、その後、画像認識によりフォトマスクのアライメントマークと被露光基板のアライメントマークが所定の許容差に収まるまで、別の位置情報に基づいて被露光基板を段階的に移動するとともに、移動後の位置を位置情報として蓄積し、次に露光する被露光基板の初期位置についての情報を、蓄積された位置情報に基づいて算出し位置情報として設定するする機構を備えたことを特徴とする露光装置。 （もっと読む）

【課題】本発明は、光ビーム方式において発生する被描画体の描画パターンの変形を簡単な方法で、短時間で補正できる露光装置及び露光方法を提供する、あるいは、本発明の露光装置または露光方法を用いることでスループットの高い表示用パネル基板製造装置または表示用パネル基板製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、光ビームを光ビーム照射装置で照射し、前記基板へ描画する描画データを作成し、前記基板にパターンを描画するに際し、前記基板に設けられた複数のアライメントマークを撮像し、前記描画データの作成は、前記描画する描画点に対応して前記複数のアライメントマークで結ぶ辺に対して予め規定される前記描画点の座標比率に基づいて前記描画点の位置を決め、前記描画データを作成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高いアライメント精度、および少ない工程数でアライメント用の光の透過率が低い材料のパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 基板の上に凹部または凸部を有するアライメントマークを含む第１のパターンを形成する工程と、第１のパターンの上に平坦化層を形成する工程と、アライメントマークの上部に形成された平坦化層を除去する工程と、アライメントマークの上部が除去された平坦化層の上に、被加工層を形成する工程と、アライメントマークの位置を被加工層の上部から光を用いて光学的に検出し、位置あわせを行う工程と、位置合わせに基づき被加工層をパターニングしてパターンを形成する工程と、を含むパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】基板の下地パターンの上に不透明な膜が塗布されている場合に、基板の下地パターンのアライメントマークの画像を鮮明に取得して、基板の下地パターンのアライメントマークの位置を精度良く検出する。
【解決手段】複数の第２の画像取得装置（下方カメラユニット５２）を、チャック１０に支持された基板１の下方に配置して、基板１の下地パターンに設けられた複数のアライメントマーク１ａの画像を基板１の下方から取得し、第２の画像取得装置が出力した基板１の下地パターンのアライメントマーク１ａの画像信号を処理して、基板１の下地パターンのアライメントマーク１ａの位置を検出する。 （もっと読む）

【課題】露光領域間におけるパターンシフト量に対して、速く且つリアルタイム的に測定でき、不良検出率及び歩留まりを向上することができる露光領域間のパターンシフト量に対する測定方法及び測定マークを提供する。
【解決手段】当該方法は、二回の露光及び他のパターニングプロセスによって、少なくとも一対の所定位置関係を有する導電測定マークを形成する工程と、少なくとも一対の導電測定マークに対して電気的特性の検定を行い、電気的特性が前記所定位置関係に合わない場合、二回の露光領域間の露光パターンシフト量が不合格であると確定し、電気的特性が前記所定位置関係に合う場合、二回の露光領域間の露光パターンシフト量が合格であると確定する工程とを含む。本発明は露光領域間におけるパターンシフト量の測定に適用される。 （もっと読む）