【課題】Ｘ線減弱率が被検査物の正常部位と大差のない物質からなる異物でも、その混入を確実に検出することができ、しかも、検査に先立つ装置の設定作業が容易で、更にはこれらの機能を持つが故のコストの上昇を極力抑制したＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】Ｘ線エネルギが互いに異なる透過Ｘ線を検出するＸ線検出手段２と、良品の被検査物もしくはそれと同等の物品を撮像して得られる複数のＸ線エネルギそれぞれの出力の相互の関係を記録しておく記録手段７を備えるとともに、被検査物の検査時にＸ線検出手段２による複数のＸ線エネルギの検出出力から、記録手段により記録した相互の関係からの乖離度より画像を形成する画像形成手段６を備え、その画像形成手段により形成された画像に基づいて異物の有無を判定する。画像形成手段６により形成された画像は、異物以外の被検査物の像はほぼ一様となるのに対し、異物の像は強調された状態となり、その画像形成手段により形成された画像に基づいて異物の有無を判定することで、課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】 異物起因のコントラストのみを明確に判別して過検出及び誤検出を防ぐこと。
【解決手段】 測定試料に含まれる一つの元素のＸ線吸収端より低く、かつ、検出元素のＸ線吸収端より高いエネルギーの特性Ｘ線を試料に照射するＸ線管球１１と、Ｘ線が試料を透過した際の透過Ｘ線を検出するＸ線検出器１３と、透過Ｘ線の透過像からコントラスト像を得る演算部１５と、を備えたＸ線透過装置及びＸ線透過方法とする。 （もっと読む）

【課題】水素ラジカル大気における反射コーティングのシリサイド化に関連する欠点を伴わずに、効率的および製造が容易であるＥＵＶスペクトル純度フィルタを提供する。
【解決手段】透過型スペクトル純度フィルタは、極端紫外線を透過させるように構成されている。スペクトル純度フィルタは、極端紫外線を透過させ、かつ第２のタイプの放射の透過を抑制するために複数のアパーチャを有するフィルタ部分を含む。アパーチャは、異方性エッチングプロセスによってシリコンなどのキャリア材料において製造されてもよく、またＭｏ金属、Ｒｕ金属、ＴｉＮまたはＲｕＯなどの反射層によって頂部が覆われてもよい。窒化珪素Ｓｉ_３Ｎ_４または二酸化珪素ＳｉＯ_２などの拡散バリア層は、高温下における金属の拡散およびシリサイド化を防ぐために金属と半導体との間に設けられる。 （もっと読む）

【課題】 屈折コントラスト法の問題点を解決することができるＸ線撮像装置およびＸ線撮像方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 被検知物によるＸ線の位相変化情報を取得するＸ線撮像装置であり、Ｘ線発生手段１０１から発生したＸ線を空間的に分割する分割素子１０３を有する。分割素子１０３により分割されたＸ線の入射位置に応じてＸ線の透過量が連続的に変化する減衰素子２０４、４０４が複数配列された減衰手段１０５を有する。さらに、減衰手段１０５により減衰されたＸ線の強度を検出するための強度検出手段１０６を有する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線を高い効率で「水の窓」領域を含む０．６〜６ｎｍの波長領域の軟Ｘ線に変換すること及び荷電粒子線の試料内での拡散範囲を狭く抑えて試料へのダメージを抑制すること。
【解決手段】
本発明の試料支持部材（１１）は、窒化シリコン膜またはカーボン膜の試料支持膜（１１ａ）の一方主面に、電子線照射により０．６〜６．０ｎｍの波長領域の特性Ｘ線を放射する金属膜（１１ｂ）が設けられている。これは、電子線の照射を受けた金属膜（１１ｂ）から軟Ｘ領域の特性Ｘ線を高効率（高強度）で放射させるためであり、このような高強度の特性Ｘ線を試料（１０）に照射させることにより、観察画像のＳＮ比を向上させることができる。また、金属膜（１１ｂ）には、試料支持膜（１１ａ）内での電子の拡散範囲を抑制するという効果もあるため、入射電子線の加速電圧を高めることが可能となり、ＳＮ比の向上のみならず分解能の向上にも効果がある。 （もっと読む）

【課題】積層照射における線量校正を各層事に行え、積層照射時における線量校正の精度を向上する。
【解決手段】標的体積の所定領域を粒子線の進行方向に複数の層に分割して粒子線を照射する粒子線治療装置の線量校正方法であって、粒子線治療装置は、粒子線の線量をカウント値としてモニタする線量モニタを有し、所定領域内に照射野を形成する粒子線照射部１０５と、粒子線照射部の動作を制御する治療制御部１０２とを備え、線量校正方法は、
複数の層のうち各層に粒子線を照射したときの物理線量をカウント値で除して各層ごとに校正係数αｉを求めるステップを有する。 （もっと読む）

【課題】電気的操作でＸ線ビームの２次元空間における微細な強度変調が可能なＸ線空間変調装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線空間変調装置１は、スピン注入により磁化方向が反転されるスピン注入型磁化反転素子（以下、素子）５を２次元に配列したＸ線変調手段１０と、２次元に配列した素子５の中から、磁化方向を反転させる素子５を選択する素子選択手段１１と、素子選択手段１１によって選択した素子５に磁化反転のための電流である磁化反転電流を注入して、当該素子５の磁化方向を反転させる磁化反転電流注入手段１２とを備える。Ｘ線空間変調装置１は、素子選択手段１１によって個々の素子５の磁化方向を制御して単色円偏光Ｘ線ビームＢ２に対する素子５の吸収率を変化させることによって、素子５に入射し、当該素子５を透過する単色円偏光Ｘ線ビームＢ２の２次元空間における強度分布を変調する。 （もっと読む）

【課題】照射対象の移動に起因して生じる有限幅の呼吸位相領域でのイオン線照射の偏在を解消し、照射対象に対して計画にあった線量分布の放射線を照射システムを提供する。
【解決手段】放射線を生成する放射線生成装置１と、放射線生成装置から出射された放射線の線量を計測する線量計測装置と、照射対象の位置を計測する変動計測装置２１２と、放射線生成装置１からの放射線の出射開始及び出射停止を制御する制御装置を備え、この照射装置が、目標照射位置情報，線量計測装置からの線量情報及び変動計測装置からの照射対象の位置情報に基づいて、照射対象の照射位置を複数に分割した分割領域ごとに目標線量に達したかを判定し、目標線量に達していない層領域に対して放射線を照射するように出射開始及び出射停止を制御する。 （もっと読む）

【課題】電気的操作でＸ線ビームの２次元空間における微細な強度変調が可能なＸ線空間変調装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線空間変調装置１は、スピン注入により磁化方向が互いに逆向きの磁区の境界である磁壁が移動されるスピン注入型磁壁移動素子（以下、素子）５を２次元に配列したＸ線変調手段１０と、２次元に配列した素子５の中から、磁壁を移動させる素子５を選択する素子選択手段１１と、素子選択手段１１によって選択した素子５に磁壁移動のための電流である磁壁移動電流を注入して、当該素子５の磁壁を移動させる磁壁移動電流注入手段１２とを備える。Ｘ線空間変調装置１は、素子選択手段１１によって、個々の素子５の磁壁の位置を制御し、単色円偏光Ｘ線ビームＢ２に対する素子５の吸収率を変化させることによって、素子５を透過する単色円偏光Ｘ線ビームＢ２の２次元空間における強度分布を変調する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子照射システムにおいて、ビーム走査とエネルギースタッキングにより動く照射対象を照射し、一様な線量分布を形成したいニーズがある。
【解決手段】目標ビーム電流値を設定してイオンビームを出射する荷電粒子ビーム発生装置１と、走査電磁石２３，２４及びエネルギーフィルタ２６を有し、イオンビームを出射する照射装置２１と、照射対象の位置を測定し、照射対象の移動によって時間変化する信号を出力する監視装置６６を備え、監視装置から出力される信号に基づいて、イオンビームの出射タイミングを決定し、イオンビームのエネルギーを順次変更して各エネルギーでリペイント照射することで、上記課題を解決する。 （もっと読む）