【課題】厚みが回転方向において変化して通過するイオンビームのエネルギーを変える１つの回転体で治療できる患者数を増加する。
【解決手段】イオンビームを患者３２に照射して治療を行うイオンビーム出射装置において、イオンビームを発生させるビーム発生装置１と、周回方向に所定の厚さ分布を備え、ビーム発生装置１から発生されたイオンビームの進路上で回転しイオンビームの飛程を制御するレンジモジュレーションホイール２９を備えたビーム照射ノズル１５と、レンジモジュレーションホイール２９の回転位相に応じて、ビーム発生装置１のビーム発生加速動作を制御する照射制御装置３８とを備える。 （もっと読む）

【構成】 正方形反対称均一冗長アレイ符号化アパーチャは、透明および不透明セルを含み、第１位置で正規マスクパターンを呈し、および第１位置から９０°回転位置のずれた第２位置で補完マスクパターンを呈する。符号化アパーチャは、ガンマ線またはＸ線等の非合焦性放射線源の撮像用のシステムに用いられる。撮像システムは、発生源から発生された放射線（２０）を受けて二位置で符号化陰影を発生する符号化アパーチャ（２２），符号化アパーチャを二位置間で回転させる回転プラットフォーム（２４）およびモータ（３０），それに当った陰影の符号化光信号を発生する位置検知検出器１０），光信号の符号化電機信号を発生する光信号変換器（３４），および電気信号を解読して非合焦性放射線源の画像信号を発生する信号処理器（１４）を含む。
【効果】 人間の放射線被爆に対する危険を最小限にしながら、ガンマ線発生源の画像表示することができる。 （もっと読む）

【課題】 広範囲かつきめ細かなスペクトル調節ができしかも小型化が可能なフィルタ、および、そのようなフィルタを備えたＸ線撮影装置を実現する。
【解決手段】 フィルタは、Ｘ線を横切る層を形成することが可能な複数のフィルタプレート（１６１−１６４）と、複数のフィルタプレートをＸ線通過空間に個別に進退させて層を形成するフィルタプレートの組み合わせを調節する調節手段（２６１−２６４，４６１−４６４）とを具備する。複数のフィルタプレートは、最も薄いフィルタプレートを基準として順次に２倍の厚みを持つ。調節手段は、複数のフィルタプレートの半数ずつをＸ線通過空間の両側からそれぞれ進退させる１対の進退機構を有する。 （もっと読む）

【課題】放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法、フィルタ・システム、装置、及びリソグラフィ装置を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ、例えば極紫外線リソグラフィに使用するのに適した、放射ビームから粒子をフィルタ除去するように動作可能なフィルタ・システムを提供する方法が提供され、この方法は、粒子を捕捉するための弛緩フォイル又は弛緩ワイヤを提供すること、フォイル又はワイヤの少なくとも第１の点又は側面を取付アセンブリの第１の位置に取り付けること、及び、少なくとも使用時に、少なくとも放射ビームの範囲内で、弛緩フォイル又は弛緩ワイヤを放射が伝播する方向にほぼ平行に実質的に伸ばすことを含む。 （もっと読む）

【課題】 放射線撮影読取装置において、装置コストを高くすることなく、容易にエネルギサブトラクション画像を取得する。
【解決手段】
被写体を透過した放射線を、この放射線に対するエネルギ吸収特性が互いに異なる２種類のフィルタ体に通して入射させて放射線像変換パネルに記録した被写体を表す放射線像Ｚ１を読み取って画像信号Ｇを得、上記フィルタ体の種類ごとに、フィルタ体に対応する対応領域１Ａを示す、画像信号Ｇ中の部分画像信号Ｇａと、部分画像信号Ｇａから補間して得られた上記対応領域１Ａ以外の領域２Ａを表す補間画像信号Ｆａとを合成して合成画像信号Ｓｏ１を作成し、フィルタ体の種類ごとに作成した合成画像信号Ｓｏ１、Ｓｏ２間でエネルギサブトラクション処理を行ってエネルギサブトラクション画像を作成する。 （もっと読む）

【課題】 各治療に共通に利用でき、製作までの時間と材料の浪費を抑制することができる荷電粒子照射野形成装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 加速器で加速された荷電粒子ビーム１を照射対象に照射するものであり、荷電粒子ビーム１によって形成されるブラッグピークの線量カーブのピーク形状を拡大する拡大ブラッグピーク形成器を備えた荷電粒子照射野形成装置において、拡大ブラッグピーク形成器は、平板の一方向にスリット状の穴５が周期的に形成され、荷電粒子ビーム１の照射方向に、スリット状の穴５の向きが同一方向となるようにして積層された同一形状の層板２と、スリット状の穴５の周期的な繰り返しの方向に層板それぞれを独立に移動させるとともに移動量を調節する図示していない移動機構とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】 イオンビーム等のエネルギービームの収束状態や被加工物への照射方向等を維持すると共に，被加工物の加工深さなどの加工条件等に応じて被加工物へ照射するエネルギービームのエネルギーを変更する際の作業を簡略化すること。
【解決手段】 被加工物７にプロトンビームＬ１（エネルギービーム）を照射させて該被加工物７を加工するエネルギービーム加工装置Ｘにおいて，イオン発生源１及びイオン加速装置２からなるエネルギービームの発生源と上記被加工物７との間の上記プロトンビーム１の光路上に，上記プロトンビームＬ１の持つエネルギーを変更させるエネルギー変更手段１０を設ける。 （もっと読む）

【課題】 簡易に、しかも被験者の負担を増加することもなしに、眼球への被曝を低減する。
【解決手段】 円筒状の出射窓２ｂの外周に沿って回転するＸ線管３から放射されるＸ線を出射窓２ｂより出射させるＸ線撮像装置に、中央部に、出射窓２ｂの最上部近辺の内周面と同一曲率の曲面１ａを持ち、かつ入射したＸ線を減衰させて透過させるように構成したＸ線フィルタ１を取り付ける。 （もっと読む）

【課題】 測定試料中の重金属元素分析で、１ｐｐｍ以下の微量元素を分析可能とする小型蛍光Ｘ線分析装置を提供する。
【解決手段】Ｓｉなどの軽元素から構成される１次フィルタで測定元素帯域のエネルギを吸収し、励起エネルギ帯域のエネルギを透過させ、励起Ｘ線強度を高める。また、測定元素毎に選択されるＴｅ，Ｍｏ，Ｃｏなどから構成される２次ターゲットを１次フィルタの周囲に配置し、２次ターゲットで発生した蛍光Ｘ線を励起線とする。また、試料から発生したバックグラウンド成分を２次フィルタで吸収し、測定領域のエネルギを透過させる。 （もっと読む）

【課題】装置を低コストに抑え、かつ、レンジシフタ駆動音の低減を図ることが可能な粒子線照射装置を得る。
【解決手段】荷電粒子ビーム２を偏向させて、被照射体６の内部の照射領域７での平面方向の位置を制御する偏向電磁石１ａ，１ｂが設けられている。また、偏向された荷電粒子ビーム２を通過させることにより、被照射体６の内部の照射領域７での深さ方向の位置を制御する階段状に構成された階段状レンジシフタ３が設けられている。駆動装置により階段状レンジシフタ３をＡ方向に移動させることにより、レンジシフタの厚さの調整を行われ、当該厚さに基づいて、被照射体６の内部の照射領域７での深さ方向の位置が決定される。また、荷電粒子ビーム２の照射位置が正しく制御されているかを確認するための位置モニタ４および線量モニタ５が設けられている。 （もっと読む）