【課題】 鏡筒内部に配置されている部材が帯電または汚染されることを防止して描画性能の低下を最小限にとどめる。
【解決手段】 荷電ビーム源と、荷電ビームを偏向するブランキング電極１７ａ，１７ｂと、該ブランキング電極により偏向された荷電ビームを遮蔽するブランキングアパーチャー１８とを用い、該ブランキングアパーチャー１８で反射荷電粒子１６または発生した荷電粒子１６を吸収するための導電性モジュールを有し、前記導電性モジュールは、ブランキングアパーチャー１８よりも前記荷電ビーム源側に配置され、前記荷電ビームとは反対極性の電圧が印加される。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線光学系の収差を分離して測定できるようにし、荷電粒子線光学系の有効領域における収差をバランスよく調整することが可能な収差測定装置を提供する。
【解決手段】 荷電粒子線光学系の収差を測定するために、複数の荷電粒子線を互いに異なる入射角で前記荷電粒子線光学系の物体面に入射させる荷電粒子生成手段と、前記複数の荷電粒子線が、前記荷電粒子線光学系の像面上に結像する位置を検出する検出手段とを有し、前記荷電粒子生成手段は、各荷電粒子線に対応した電子光学系を有し、各電子光学系の瞳位置に、対応する荷電粒子線が互いに異なる入射角で前記物体面に入射するような開口絞りを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】半導体ウェーハの測定、検査、欠陥レビュー用などの走査電子顕微鏡において、画像を撮像する時間の短縮と高画質撮像の両立を実現する。
【解決手段】大ビーム電流を用いて低倍画像を撮像し、小ビーム電流を用いて高倍画像を撮像し、ビーム電流の変化によって発生する撮像画像の輝度変化、焦点ずれ、アライメントずれ、視野ずれを補正する制御量を予め全体制御系１１８内のメモリに保存しておき、ビーム電流を切り替える都度これを補正することにより、電流を切り替えた後の調整作業なしで画像を撮像することを可能にする。また、電子ビームの照射経路中に絞り８０１を設けることにより、電流切り替え時間を短縮する。 （もっと読む）

イオン注入のクリーニング方法は、１つ以上の汚染物質が堆積する１つ以上の構成部品を有するイオン注入システムを用意し、このイオン注入システムに処理用イオン種を与える。ここで、イオン種は、加工物にイオンを注入するために用いられるイオン種である。イオンは、イオン源を形成する処理用イオン種から作り出される。イオンビームは、イオン源に関連した引出しアセンブリに引出し電圧を印加することにより、イオン源から引き出される。さらに、引出し電圧は、イオンビームの軌道が所定の範囲内で変動するように調整される。イオンビームは、１つ以上の構成部品を横切って掃引され、その結果、１つ以上の汚染物質が実質的に取り除かれる。
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【課題】ミラー電子を使った電子線式検査装置においては、ウェハ上で予備帯電された領域の境界が像となって現れてしまい、正しい検査ができなかった。また、予備帯電は検査と同時に行われるため、照射時間を長くする必要がある場合、ステージの移動速度を遅くせざるを得ず、検査速度が遅くなってしまっていた。
【解決手段】予備照射のビーム源とウェハとの間に、そのサイズが可変な開口を設け、その大きさの一辺をウェハのチップ列の幅と等しくなるように設定し、かつ、チップ列と垂直方向へのウェハの動きに合わせて、開口も移動するように制御する。また、ステージの移動速度を遅くすること無く、ウェハの検査時のステージ移動途中に十分なビーム照射ができるように、その開口をチップ列と平行な方向に大きくするよう設定できるようにした。 （もっと読む）

【課題】 特にマルチ電子ビーム型露光装置において、電子ビームの照射によるアパーチャアレイの熱負荷を低減し、描画精度を向上させることが可能な荷電粒子線露光装置を提供する。
【解決手段】 電子源１からの電子ビームを複数の開口によって分割し、各種レンズを含む縮小投影系７などを介して複数（マルチ）の電子ビームによってウエハ８を露光するためのアパーチャアレイ４と、前記アパーチャアレイ４の前段に配置され、前記アパーチャアレイ４の開口を内包する開口を備え、前記アパーチャアレイ４に照射する電子ビームの照射量を制限するためのプリアパーチャアレイ３とを設ける。 （もっと読む）

機構や構造体を形成し、材料の表面に書き込むためのイオン又は電子源などの粒子ビーム源と共に使用するのに好適なマスクが提供される。このマスクは、複数の開口部を有する開口プレートと、この開口プレートの下側に配置された集束手段とを備えている。複数の開口部がアレイを形成して、これにより各プレートの開口部が開口プレートに入射する粒子ビームの一部を受け取るように適合される。そして、粒子ビームの各部分は集束手段を通過することにより、表面上に集束される。これによりマスクは、複数の高い分解能の同時に動作可能な集束された粒子ビームを形成する。
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【課題】 絞り部材の交換を効率良く行えるとともに、絞り部材の孔の中心軸がモノクロメータの作用軸に対して独立して位置調整可能となる電子銃及び当該電子銃を備える電子ビーム装置を提供する。
【解決手段】 電子源１と、電子源１からの電子５２ａが通過する開口部３ｂを有する第１の電極３と、第１の電極３の開口部３ｂを通過した電子５２ａが入射する入射用開口５ｂを有するフィルタリング手段５と、フィルタリング手段５を通過した電子５２ａを加速するための第２の電極６，７とを備える電子銃５１において、フィルタリング手段５の入射用開口５ｂよりも狭く形成された孔４ａを有する絞り部材４を第１の電極３に配置した。 （もっと読む）

本発明は、粒子ビームから複数の個々のビームを生成するマルチビームモジュレータに関する。粒子ビームはマルチビームモジュレータを少なくとも部分的にその表面にわたって照明する。マルチビームモジュレータは複数の開口群を有し、それぞれの開口群は複数の開口行群を有する。全ての開口行の全体はｍ×ｎセルの行列を画定する。ここでｍセルは１つの行を形成し、ｋの開口がそれぞれの行に形成される。行内の開口の密度が不均質に分布される。
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【課題】異なる試料位置のエネルギースペクトルを同時に分離して計測する。
【解決手段】透過型電子顕微鏡の試料と前記電子線を結像させるレンズ群との間に、電子線の有するエネルギー量により、該電子線を分光する電子分光器を備え、かつ分光された該電子線の該電子分光器のエネルギー分散方向と、該エネルギー分散方向と直交する方向での、分光された電子線の収束位置が異なっていること。 （もっと読む）