【課題】試料の先端部分が破損し難く、且つ、（メッシュが搭載される試料ホルダの窪み（凹部）形状を専用形にすることが不要な）汎用性の高い、試料保持用のメッシュ、及び元素分析方法を提供する。
【解決手段】透過型電子顕微鏡に用いられるリング状平板形状を有する試料保持用メッシュ１４において、前記リング状平板の上面に設けられた溝２２により、前記リング状平板を第１および第２の半リング状平板形状に２分して形成された第１および第２のメッシュと、を有し、前記第１および前記第２のメッシュからなる前記リング状平板形状の前記第１のメッシュ上に試料を搭載した状態で、前記第２のメッシュを前記溝から前記リング状平板の下面方向に折り曲げて、前記第１のメッシュの下面側に折りたたむことができる。 （もっと読む）

【課題】ナノスケールの高分解能画像を得る。
【解決手段】１以上の試料を特徴付けるための超高速システム（および方法）である。特徴付けられる試料を有するステージ組立部を含む。持続時間が１ピコ秒未満の光パルスを放射することができるレーザー源を有する。レーザー源に接続されたカソードを有し、特定の実施例において、カソードは１ピコ秒未満の電子パルスを放射することができる。ステージ上の試料に電子パルスの焦点を合わせられる電子レンズ組立部を有する。試料を通過する電子を捕らえる検出部を有する。検出部はプロセッサを有し、試料の構造を代表する試料を通過する電子に関連付けられた信号（たとえば、データ信号）を供給する。プロセッサは、試料の構造に関連付けられた情報を出力するために、試料を通過する関連付けられたデータ信号を処理し、出力デバイスに出力する。 （もっと読む）

【課題】電子放出顕微分光装置の電子光学カラムの非点収差を補正するための方法を提供すること。
【解決手段】本方法は、・撮像されるべき対象とする構造を含む試料の表面上に参照構造（１００ｂ）を形成するステップと、・二次電子を用いておよび内殻準位光電子を用いて顕微分光装置によって参照構造を撮像するステップと、・二次電子を用いるおよび内殻準位光電子を用いる参照構造の撮像中に現れる非点収差欠陥を除去するステップとを含み、参照構造の材料は、内殻準位光電子撮像中に、参照構造の材料の平均強度Ｉａと試料の材料の平均強度Ｉｂとの間のコントラストＣが、


であるように選択される。 （もっと読む）

【課題】試料と電極との相互の位置調整を容易に行う。
【解決手段】保持した試料に電極を介して電界をかけて加工または分析する装置に用いられ、かつ、装置本体から取り外し可能とされた試料ホルダ電極ホルダ一体化ユニットを用いる。この試料ホルダ電極ホルダ一体化ユニットは、試料を固定する試料ホルダ２１と、電極５を固定する電極ホルダ２２と、試料ホルダにより固定される試料と電極ホルダにより固定される電極との間の相対的な位置決めを行う位置決め機構とを備える。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビームを照射して加工する時に針状試料の先端の頂点周辺の汚染を抑えるとともに、針状試料の機械的な強度の低下を抑えたアトムプローブ用針状試料の加工方法及び集束イオンビーム装置を提供する。
【解決手段】針状試料１０を、その先端１１側が集束イオンビームＢの進行方向Ｄ先方を向きかつ基端１２側が集束イオンビームの進行方向後方を向くように、集束イオンビームの進行方向に対して針状試料の軸線Ｃ１が鋭角をなすように傾斜させて配置する。そして、針状試料をその軸線を中心に回転させながら、針状試料の先端に集束イオンビームを照射して加工する。 （もっと読む）

【課題】膜厚に起因するピークシフトの影響を除去することである。
【解決手段】薄膜試料Ｗに向かって電子線を照射する電子線照射部と、前記電子線の照射によって薄膜試料Ｗから発生する光）Ｌを分光し、検出する光検出部と、前記光検出部からの出力信号を受信して光）Ｌのスペクトルのピーク波長である測定ピーク波長を算出するピーク波長算出部４１と、膜厚既知の標準試料により得られた膜厚とその膜厚におけるピーク波長である基準ピーク波長との関係を示す基準データを格納する基準データ格納部Ｄ１と、前記基準データから前記薄膜試料Ｗの膜厚に対する基準ピーク波長を算出する基準ピーク波長設定部４２と、前記測定ピーク波長及び前記基準ピーク波長をパラメータとして、前記薄膜試料Ｗの状態を分析する分析部４３と、を備えている。 （もっと読む）

【目的】本発明は、パターンを転写するモールド上に作成されたパターンを検査するモールド検査方法およびモールド検査装置に関し、微細寸法のモールド（押し型）上のパターンの検査をする新たな方法を提供し、しかも、極めて短時間に微細寸法のモールド上のパターンを検査することを目的とする。
【構成】モールド上に作成されたパターンに対応する部分とそれ以外の部分との電子放出を異ならせて予め作成した転写板に、励起源を照射して励起させ、転写板上から放出された電子を、電圧により引き出して拡大画像を生成するステップと、生成された拡大画像をもとにモールド上に作成されたパターンを検査するステップとを有するモールド検査方法である。 （もっと読む）

【課題】試料の元素分析機構を、試料を観察する顕微鏡機構に搭載してなる複合的な元素分析装置において、試料を顕微鏡機構及び元素分析機構の双方に最適な位置及び角度に容易且つ性格に調整し、顕微鏡像と元素分析機構の３次元情報とを正確に対応させて、３次元再構築時のスケールや検出効率の不足を容易に補正し、高精度な元素分析を行う。
【解決手段】試料１１が設置される試料ホルダ３１にＸ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向への各平行移動と、Ｘ軸回り及びＹ軸回りの各回転移動とを行う機能（第１の移動部３５）を付加することに加えて、試料１１から離脱した元素を検出する位置敏感型検出器３に、電子顕微鏡機構における光軸と一致するＺ軸回りの回転移動を行う機能（第２の移動部２６）を付加する。 （もっと読む）

【課題】
反射電子結像による検査装置において、絶縁物からなる試料においても電子線照射による負帯電を解消し、極微小の異物や欠陥の高感度検出を高速に行うことが可能となる検査技術を提供する。
【解決手段】
上記の課題を解決するため、電子光学系の動作モードに紫外線照射発生による光電子結像モードを付加した上、紫外線の照射領域を光電子像として表示し、光電子像と反射電子像とをモニタ上に重ねて表示することにより、相互の位置関係と大きさの差を容易に把握できるようにした。すなわち、電子線の照射領域と紫外線の照射領域の形状を表示画面上で一致させ、電子線の照射領域における紫外線の強度を、反射電子像の反射電子結像条件を保持しながら調整するよう構成した。また、紫外線照射時の反射電子像を観察しながら紫外線の光量調整ができるように、モニタから紫外線の光量調整機構を制御できるようにした。 （もっと読む）

【課題】原子１個１個を直接測定することで、非常に微細な領域の原子構造を調べることができるアトムプローブ装置の機能向上を図るものである。
【解決手段】本発明によれば、電界イオン顕微鏡装置と、電界イオン顕微鏡装置により撮像された電界イオン顕微鏡像を取り込む電界イオン顕微鏡像取込装置と、取り込まれた電界イオン顕微鏡像を解析する電界イオン顕微鏡像解析装置と、を有することを特徴とする、アトムプローブ装置が提供される。 （もっと読む）