【課題】製造コストを下げ製造プロセスを簡略化しても追加の構成要素を必要としないで均一性を改良した高電流イオンビーム発生のための新しいシステム構成を提供すること。
【解決手段】本発明は多様な操作様式を有するイオン注入装置を開示する。それはイオン源およびそこからリボン状イオンビームを引き出すための引き出し手段を有する。イオン注入装置は質量スリットを通って基板に描出するため特定の質量対電荷を有するイオンを選択するマグネット分析機を含む。多極レンズがビームの均一性と平行を制御するために提供される。本発明は、第二の経路がエネルギー濾過を、組み入れ減速システムを組み込んだ２経路ビームラインをさらに開示する。本発明は、注入の様式がターゲットの１次元走査から２次元走査に、また単純な経路から減速を有するＳ状経路に切り替えることができるイオン注入の方法を開示する。 （もっと読む）

【課題】 大面積のイオンビームに対しても、高精度な質量分離を行う。
【解決手段】 本発明の質量分離装置１０は、略扇形状の偏向ケース１と、入口部導体２ｃ、出口部導体２ｄ、外径側導体２ａおよび内径側導体２ｂからなる空芯ソレノイド状の電流路２と、入口部導体２ｃと対向して配置される入口部磁気シールド７ｃと、出口部導体２ｄと対向して配置される出口部磁気シールド７ｄとを備え、出口部導体〜外径側導体〜入口部導体〜内径側導体からなる電流路２によって電流路２の内部に均一な磁場を形成するとともに、入口部磁気シールド７ｃおよび出口部磁気シールド７ｄによって電流路２の外側への磁場の漏洩を抑制する。 （もっと読む）

質量選択的イオントラップ（１２）、及び質量選択的イオントラップ（１２）の下流に配置される四重極ロッドセット質量フィルタ（１４）を含む質量分析計が開示される。質量フィルタ（１４）のデューティサイクルを向上させるために、イオンは、質量フィルタ（１４）のスキャンに実質的に同期してイオントラップ（１２）から質量選択的に排出される。 （もっと読む）

【課題】イオン質量分離装置から所望イオン種のイオンビームを安定して導出できるようにする。
【解決手段】中和電子供給体７の電流と、プラズマ発生装置８のアーク電流と、引出し電極９の引出し電流とを設定して出口部３から導出されるイオンビームのビーム電流密度が所定の照射要求密度になるように調節した状態において、空芯励磁電流路６の磁石電流を変化させることにより磁場強度を変化させ、磁場強度の変化時における出口部３から導出されるイオンビームのビーム電流密度を測定し、測定したビーム電流密度の分布から所望イオン種の密度ピーク位置を計測し、計測した密度ピーク位置から基準磁石電流を計算して、磁石電流を設定する。 （もっと読む）

イオン弁（120）と質量分析器（26）との間に配置されるディスパージョンシステム（140）を含むイオン注入システムが設けられる。このディスパージョンシステムは、イオン源から質量分析器に引き出されたイオンビームを選択的に通過させ、または分散されたイオンビームを前記質量分析器に向けて指向させるように作動し、分散されたイオンビームが、引き出されたイオンビームよりも不要な質量範囲のイオンを少なくする。
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本発明は、リボン型イオンビーム内の多数の種から所望のイオン種を選択する一対の永久磁石を構成する質量分析器を使用する。永久磁石は、所望の方向に特定の力を加える電磁石で達成できない小さい領域に適切な大きさのほぼ均一な磁界を与える。この力は、リボン型イオンビームの通過粒子に印加され、この粒子の経路をそれぞれの質量に応じて変化させる。その結果、拒絶された種および／または汚染物質が質量分析器を通過できないように（例えば、分析器にある磁石および／または他の障壁に衝突して）する力によってビームから選択されたイオン種が得られる。質量分析器により、多数の種を発生させるドーパント／種のイオン源が単一のドーパント／種を供給するイオン源の代わりに用いることができる。
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減圧チャンバー内のイオンのような陽性粒子および陰性粒子両方を測定するために適切な質量分析計。この質量分析計は、この陽性粒子および陰性粒子を分離するために適切な方向を有する適切な磁束をもつ継鉄のギャップを提供する整調可能な常磁性セグメントを備える。極性を変えることは、これらイオンの飛行を調節する。従って、負に荷電したイオンおよび正に荷電したイオンは、反対の極性の下で類似の飛行経路に従い、単一アレイの検出器の使用を可能にする。上記ギャップに適切な磁束を提供するために、上記整調可能な常磁性セグメントに代えて、またはそれに加えて、１つ以上のコイルが用いられ得、そして／またはこの整調可能な磁性セグメントの整調プロセスを容易にする。検出器は、検出器領域、２荷電モード増幅器、第１および第２のＣＣＤシフトレジスターを備え得る。
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【解決手段】イオン注入システムとそのビームラインアセンブリを備えており、マルチカスプ磁界がビームガイドに供給され、このビームガイドは進行波にマイクロ波電界をビームガイド通路に沿って供給している。磁界と電界は相互作用して、ビームガイド通路へのビーム封じ込めのために電子サイクロトロン共鳴状態を供給する。 （もっと読む）