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国際特許分類[H05B33/10]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | 電気加熱;他に分類されない電気照明 (50,146) | エレクトロルミネッセンス光源 (27,371) | エレクトロルミネッセンス光源の製造に特に適用する装置または方法 (7,860)

国際特許分類[H05B33/10]に分類される特許

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【課題】水分や酸素などの不純物による有機EL素子の劣化が抑制された発光装置を提供する。
【解決手段】互いに対向する第1の基板及び第2の基板と、第1の基板上に設けられた発光素子と、発光素子の外周を囲むように設けられた第1の封止材と、第1の封止材の外周を囲むように設けられた第2の封止材と、を有し、発光素子は、一対の電極間に発光性の有機化合物を含む層を有し、第1の封止材又は第2の封止材の一方がガラス層であり、第1の封止材又は第2の封止材の他方が樹脂層であり、第1の封止材、第2の封止材、第1の基板及び第2の基板に囲まれた第1の空間内又は樹脂層内に、乾燥剤を含み、第1の封止材、第1の基板及び第2の基板に囲まれた第2の空間内に、発光素子を備える発光装置を提供する。 (もっと読む)


【課題】高精細な薄膜パターンの形成を容易に行い得るようにする。
【解決手段】基板1上に一定形状の薄膜パターンを形成する薄膜パターン形成方法であって、前記基板1上に可視光を透過する樹脂製のフィルム4を設置する第1ステップと、前記基板1上の予め定められた部分に対応する前記フィルム4の部分を一定速度で加工して一定深さの穴部5を形成した後、該穴部5の底部を前記速度よりも遅い速度で加工して前記穴部5を貫通させ、一定形状の開口6を有するマスク7を形成する第2ステップと、前記基板1上の前記予め定められた部分に前記マスク7の前記開口6を介して成膜する第3ステップと、前記マスク7を剥離する第4ステップと、を含むものである。 (もっと読む)


【課題】 フォトリソグラフィを用いて有機化合物層をパターニングして形成される発光装置において、素子領域の外側の領域における有機化合物層の端部を素子領域内の発光層の端部と同じ条件でエッチングすると、大きな角度になってしまい、その上に形成される第2電極が途切れたり膜厚が薄くなったりして素子を流れる電流の配線抵抗が高くなり、発光装置の非点灯、シェーディングなどの発光不良や高電圧化などの課題が生じる。
【解決手段】 フォトリソグラフィにてパターニングされる複数の有機化合物層の端部のうち、発光素子間に位置せず、かつ、前記第2電極で覆われる領域に位置する端部の傾斜角を、発光素子間に位置する端部の傾斜角よりも小さくする。 (もっと読む)


【課題】 塗布液による閉図形に対して太りや断線を生ずることなく、閉図形を正確に形成することが可能な塗布方法および塗布装置を提供する。
【解決手段】 ダム剤吐出ノズル14の高さ位置を通常より低い位置に配置した状態で、ダム剤吐出ノズル14からダム剤の吐出を開始するとともに、ダム剤吐出ノズル14の移動を開始する吐出開始工程と、ダム剤吐出ノズル14から吐出されたダム剤が基板100の表面に着床した後にダム剤吐出ノズル14の高さ位置を上昇させる上昇工程と、ダム剤吐出ノズル14を矩形に対応させて移動させる塗布工程と、ダム剤吐出ノズル14からのダム剤の吐出を停止するとともに、ダム剤吐出ノズル14の高さ位置をさらに上方に上昇させる液切り工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】有機膜上に、光透過性、導電性が従来より高い透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法を提供する。
【解決手段】
有機膜上に透明導電膜を形成する透明導電膜形成方法であって、酸素ガスを含まない雰囲気中に、金属酸化物の粒子を放出させ、有機膜上に到達させ、有機膜上に金属酸化物膜27を形成する金属酸化物膜形成工程と、金属酸化物膜27を酸化又は還元して第一の透明導電膜27’を形成する金属酸化物膜改質工程とを有している。成膜中に有機膜が酸素ガス又は酸素イオン、ラジカルで損傷することがない。また金属酸化物膜27を酸化又は還元させ、その酸素含有量を増減させることにより所望の膜質の透明導電膜27’が得られる。 (もっと読む)


【課題】不良や故障の発生した有機EL素子を、素子単位で容易に交換する。
【解決手段】有機ELパネル1は、複数の有機EL素子2と、複数の有機EL素子2を被覆可能な2つの被覆部材3とを備え、複数の有機EL素子2が被覆部材3間に挟持され、被覆部材3間が大気圧に対して減圧されている。 (もっと読む)


【課題】気密性の優れた封止体の作製方法を提供する。また、当該封止体で封止した発光装置の作製方法を提供する。
【解決手段】低融点ガラスを用いた封止体、発光装置について、ガラス粉末を溶融させガラス層にする加熱工程で、所望の表面形状にするため第3の基板を押付ける。低融点ガラスの表面と対向基板が気密性よく封止されるように、第3の基板の表面形状がなされており、その表面形状が対向基板と溶着するときまで保持できる。よって、気密性の高い封止体および当該封止体で封止した信頼性のある発光装置を作製することが出来る。当該発光装置の作製方法を、特に有機EL素子に適用した場合、信頼性の高い有機EL発光装置が作製できる。 (もっと読む)


【課題】酸化物半導体を用いた半導体装置において、より優れたゲート絶縁膜を有する半導体装置を提供する。また、現在実用化されている量産技術からの膜構成、プロセス条件、または生産装置等の変更が少なく、半導体装置に安定した電気特性を付与し、信頼性の高い半導体装置を提供する。また、当該半導体装置の作製方法を提供する。
【解決手段】ゲート電極と、ゲート電極上に形成されたゲート絶縁膜と、ゲート絶縁膜上に形成された酸化物半導体膜と、を有し、ゲート絶縁膜は、窒化酸化シリコン膜と、窒化酸化シリコン膜上に形成された酸化窒化シリコン膜と、酸化窒化シリコン膜上に形成された金属酸化膜と、を含み、金属酸化膜上に酸化物半導体膜が接して形成される。 (もっと読む)


【課題】高い水蒸気バリアー性能を有するとともに、耐水性、耐熱性及び透明性及び平滑性に優れた水蒸気バリアーフィルムとその製造方法及びその水蒸気バリアーフィルムを用いた電子機器を実現する。
【解決手段】基材1上に水蒸気バリアー層2と保護層3が積層された水蒸気バリアーフィルム10(11)を製造するにあたり、ポリシラザンを含有した第1の塗布液を基材1上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して水蒸気バリアー層2を形成する工程と、酢酸ブチルの蒸発速度を100とした時に、蒸発速度が40以下の第一溶媒と、蒸発速度が100以上の第二溶媒を含み、且つポリシロキサンを含有した第2の塗布液を水蒸気バリアー層2上に塗布して乾燥した後に、真空紫外光を照射して保護層3を形成する工程とを経るようにして、水蒸気バリアーフィルム10(11)を作製するようにした。 (もっと読む)


【課題】量産実現性のある酸素濃度・水分濃度環境下におけるウェットプロセスにて、高発光効率且つ長寿命の有機エレクトロルミネッセンス素子を安定的に製造する。
【解決手段】陽極と陰極との間に、少なくともリン光発光材料を含有する発光層が挟持され、前記発光層がウェットプロセスで形成される有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法において、発光層に含有される発光ホスト材料中に分散された、膜の状態での室温におけるリン光寿命が1.4μsec未満であり、且つリン光量子収率が70%以上のリン光発光材料を含む塗布液を調整する工程と、塗布液を、酸素濃度10〜2000ppm、水分濃度10〜2000ppmの不活性ガス雰囲気下で塗布して乾燥させる工程と、を備える。 (もっと読む)


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