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国際特許分類[H05H1/30]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | プラズマ技術 (5,423) | プラズマの生成;プラズマの取扱い (4,622) | プラズマの発生 (4,176) | プラズマトーチ (410) | 電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー (97)

国際特許分類[H05H1/30]に分類される特許

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【課題】大気圧〜数Torrの圧力下において、安定したプラズマ着火が可能なマイクロ波プラズマトーチを提供する。
【解決手段】誘電体からなる円筒状の放電管1と、放電管の一端開口を封閉する蓋体9と、蓋体を貫通して放電管内にその中心軸に沿ってのびるマイクロ波供給用アンテナ4と、放電管の外側を被覆するグランド電極2と、放電管内にプラズマ生成用ガスを供給するガス供給管3と、グランド電極の外面を被覆する誘電体の外被5を備える。アンテナには、その先端部から間隔をあけた位置にプラズマ遮断手段6a〜6cが設けられる。プラズマ遮断手段は誘電体からなり、プラズマ遮断手段と放電管との間、またはプラズマ遮断手段自体に、プラズマ生成用ガスを通過させるが、プラズマは遮断する通路が設けられる。 (もっと読む)


【課題】簡単かつコンパクトな構成にてアンテナや電極の温度上昇を確実に防止して安定してプラズマを発生することができる大気圧プラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】一端が吹き出し口3として開放された反応管2と、反応管2の外側近傍に配置されたアンテナ4又は電極とを備え、反応管2の他端側からプラズマ生成ガスを導入し、アンテナ4又は電極に高周波電圧を印加することで反応管2内でプラズマを発生させて吹き出し口3から吹き出す大気圧プラズマ発生装置1において、アンテナ4又は電極に接触させて非導電性放熱部材7を配設し、非導電性放熱部材7で放熱してアンテナ4の温度上昇を防止した。 (もっと読む)


【課題】プラズマを照射して、基板の改質等、ワークに所定の処理を施与するワーク処理装置において、プラズマ化したガスを生成して放出するプラズマ発生ノズルが導波管を介して伝搬されたマイクロ波のエネルギーに基づき前記プラズマ化したガスを生成する場合、処理すべきワークの幅などに対応し、無駄のないようにする。
【解決手段】複数のプラズマ発生ノズル31が取付けられる導波管10部分を、フランジ部Fで接合可能にモジュール化し、プラズマ発生ノズル31の下方を通過するようにワークを搬送するワーク搬送手段Cに、処理すべきワークWの幅や要求される処理速度などに対応して、プラズマ発生モジュールM1,M2を1または複数組合わせてワーク処理装置を構成する。したがって、単一のワーク処理装置Sで、処理すべきワークWの幅や要求される処理速度などに柔軟に対応し、無駄なく最適な処理を行うことができる。 (もっと読む)


【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマの点灯状態を反映したメンテナンスを可能にする。
【解決手段】プラズマ発生ノズル31の先端に設けられる保護管36の外周面に光センサユニット38を取付け、点灯されていることが検出されると、CPU901は、メモリ903に記憶される点灯時間を積算して更新し、メモリ904に予め記憶されている閾値点灯時間となると、交換時期であることを操作部95に表示する。したがって、プラズマの点灯状態を反映したメンテナンスが可能になり、メンテナンスのコストを抑えつつも、安定したプルームPを得ることができる。 (もっと読む)


【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、導波管にプラズマ発生ノズルが複数個取付けられ、複数の被処理ワークや大面積の被処理ワークの処理などに対応するにあたって、複数のプラズマ発生ノズルのそれぞれで安定したプルームを得ることができ、かつ効率良くプラズマ処理を行うことができるようにする。
【解決手段】全体制御部90のCPU901は、処理ガス供給源921から各プラズマ発生ノズル31へ供給されるガス流量を流量センサ961でそれぞれ測定し、モニタする一方、メモリ903には、ガス流量のレベルに対応して、プルームの大きさや形状がどのようになり、プラズマの温度がどの程度になるかなどのプラズマ出力特性が記憶されており、それを読出し、所望とする特性となるように各流量制御弁923をフィードバック制御する。 (もっと読む)


【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマの点灯状態を正確に反映した制御や表示を可能にする。
【解決手段】プラズマ発生部30に複数個のプラズマ発生ノズル31が設けられていることに対応して、このプラズマ発生部30から離間し、ワークWの搬送の邪魔にならず、かつ総てのプラズマ発生ノズル31を見通し可能な固定位置に、プルームPの発光光量だけを正確に測光できるようなスポット測光手段101を設け、全体制御部90のCPU901は、このスポット測光手段101を、変位手段102によって首振り走査させ、読取った明るさに対応して、処理ガスの流量制御弁923を制御する。したがって、プラズマの点灯状態を反映した制御や表示を行うことができ、またプラズマの点灯状態を検出する検出手段を、複数のプラズマ発生ノズル間で共用することができる。 (もっと読む)


【課題】プラズマの照射範囲を拡大しながら、プラズマ発生ノズルにおいてプラズマが発生しにくくなるのを抑制できるようにする。
【解決手段】プラズマ発生ユニットPUは、マイクロ波を発生するマイクロ波発生装置20と、マイクロ波を受信しそのマイクロ波のエネルギーに基づきプラズマ化されたガスを生成して放出するプラズマ発生ノズル31とを備えている。そして、プラズマ発生ノズル31は、マイクロ波を受信する内部導電体32と、この内部導電体32の周囲に離間して配置されたノズル本体33とを含み、内部導電体32で受信したマイクロ波のエネルギーを利用して内部導電体32とノズル本体33との間に供給される所定のガスをプラズマ化して放出するものであって、内部導電体32は、所定の間隙を隔てて設けられた複数の導電体32aからなる。 (もっと読む)


【課題】基板の改質等、ワークの処理などに使用されるプラズマ発生装置において、プラズマの点灯状態を正確に反映した制御や表示を可能にする。
【解決手段】プラズマ発生ノズル31の先端に臨んで、光ファイバ38の一端を取付け、前記プラズマ発生ノズル31から離間して配置され、シールド筐体981で覆われたセンサ入力部98で、捉えた光の光電変換を行い、全体制御部90へ出力する。したがって、光電変換によって得られた微弱な電圧および/または電流は、マイクロ波ノイズの影響を受けることなく、制御のための出力や表示のための出力などに正確に変換されるので、プラズマの点灯状態を正確に反映した制御や表示が可能になり、安定したプルームを得ることができる。また、ノズル周りに光電変換手段が存在しないので、被照射物を保護管36に近接させ、密度の高いプラズマを照射することができる。 (もっと読む)


【課題】プラズマ発生ノズルの耐久性を向上させることが可能なプラズマ発生装置を提供する。
【解決手段】プラズマ発生装置PUは、マイクロ波を発生するマイクロ波発生装置20と、マイクロ波を伝搬する導波管10と、導波管10のワークWとの対向面に設けられたプラズマ発生部30とを具備し、該プラズマ発生部30には、マイクロ波を受信しそのマイクロ波のエネルギーに基づきプラズマ化したガスを生成して放出するプラズマ発生ノズル31が複数個配列して取り付けられている。プラズマ発生ノズル31は、シール部材35で保持され導波管10の内部に一端が突出する中心導電体32と、該中心導電体32の周囲に離間して配置されたノズル本体33とを含んでおり、シール部材35を冷却すべくガスをシール部材35内部に形成されたシール部材側流路354を経由させて中心導電体32とノズル本体33との間に供給するように構成されている。 (もっと読む)


【課題】マイクロプラズマジェットの制御方法において、コンパクトで安価な構成にてプラズマ点灯直後からプラズマ発生中、プラズマ発生量をほぼ一定に安定して制御する。
【解決手段】複数巻のマイクロアンテナ3に高周波電力を供給し、マイクロアンテナ3近傍に配置された放電管4の一端からガスGを供給し、放電管4内で発生したプラズマPを放電管4の他端から吹き出すマイクロプラズマジェットの制御方法において、マイクロアンテナ3近傍の温度を温度検出手段7で検出して発熱体6などの温度調整手段を制御し、プラズマPの発生開始時からプラズマ発生中、マイクロアンテナ3近傍の温度を所定値又はその近傍に制御することで、プラズマ発生量をほぼ一定に制御するようにした。 (もっと読む)


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