【課題】複数の粒子が固着した複合粒子を従来より簡便に製造することが可能な複合粒子製造装置の提供を目的とする。
【解決手段】本発明の複合粒子製造装置１００によれば、複数の粒子排出装置２０，２０から落下した粒子に側方からイオン風（ガス）が吹き付けられて、それら粒子が筒形加熱炉７０の上面開口の上方で合流する。各粒子には、イオン風に含まれる気体イオンが付着して互いに反対極性に帯電しているので、合流した粒子同士を静電吸着させることができる。そして、その静電吸着した合体粒子が筒形加熱炉７０を降下する間に加熱溶融されて複合化するので、複合粒子を従来より簡便に製造することができる。また、粒子に気体イオンを付着させることで帯電させているので、複数の粒子同士を衝突又は摩擦により帯電させた場合のように粒子が破壊されることもない。 （もっと読む）

【課題】造粒物を構成する粒子間の結合強度を向上させることが可能な容器回転型造粒装置及び造粒システムの提供を目的とする。
【解決手段】本発明の容器回転型造粒装置１０によれば、回転パン１２内で転動する粒子群にプラズマフレームＦ１が噴射されることで、粒子が溶融してそれら粒子同士が固着する。つまり、造粒物を構成する粒子間の結合強度を、バインダ液により結合した従来のものより向上することができる。これにより、製造後の造粒物の破壊を防止することができる。また、プラズマ中のイオン又はラジカルの作用で造粒物の表面に被膜（コーティング）が形成された場合には、その皮膜による粒子間の架橋により、造粒物をより破壊され難くすることができる。さらに、バインダ液を使用しないから、造粒後の乾燥工程が不要となる。 （もっと読む）

発明は、誘電体基板上に付着した細長い導体にインピーダンス適応デバイスを介して接続した少なくとも１つの超短波ソース（＞１００ＭＨｚ）と、前記導体を冷却する少なくとも１つの手段と、導体を支持する側の反対側で誘電体基板に近接した少なくとも１つのガス供給と、を具備するプラズマ発生装置に関する。この発明は前記装置を使用するプラズマトーチにも関連する。
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【課題】ガスプラズマを使用する表面の成形法を提供する。
【解決手段】表面下の損傷を最小限に抑えて材料の表面を成形、研磨、平坦化、及び洗浄する反応原子プラズマ処理のための装置（１０６）及び方法。加工物（１１０）及びプラズマトーチ（５０２）は、互いに対して移動される。トーチ（５０２）からのプラズマ放電を用い、加工物（１１０）の表面に対して成形、平坦化、研磨、洗浄、及び材料を堆積させることができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマトーチの種類や試料の溶媒の種類に応じて、インピーダンス整合を適切に行えるＩＣＰ用高周波電源装置を提供する。
【解決手段】電力供給部３と、誘導コイル２のインピーダンスと電力供給部３の出力インピーダンスとを調整するインピーダンス調整部４と、電力供給部３及びインピーダンス調整部４を制御する制御部５と、プラズマの点灯に適したインピーダンス調整部４のインピーダンス設定値２６をプラズマトーチの種類毎に記憶する点灯時設定値記憶部１０と、点灯時設定値記憶部１０に保存されているインピーダンス設定値２６を予め設定されたプラズマトーチの種類に応じて読み出し、プラズマの点灯時に、インピーダンス調整部４に対してインピーダンス設定値２６の設定を行う点灯時インピーダンス設定部９とを備える。 （もっと読む）

【課題】高密度・高エネルギー効率誘導結合型マイクロプラズマの安定発生・維持が可能で、かつ、プラズマを用いた処理を行うことが可能なプラズマ発生装置を提供すること。
【解決手段】絶縁体チューブの周りに誘導結合型プラズマ発生コイル９を具備し、かつ、チューブ内外に誘電体バリア放電発生用の電極３，４も具備したプラズマ発生装置である。金属電極、コイル部分と各種の電源をケーブルでつなぎ、誘電体バリア放電により誘導結合型プラズマ、特に、微細化により安定維持が困難になる１ｍｍ以下の大きさのマイクロプラズを発生させる。 （もっと読む）

【課題】複数の反応管から均等にプラズマを吹き出し、広範囲のプラズマ処理を均一にかつ効率的に行うことができる大気圧プラズマ発生方法及び装置を提供する。
【解決手段】一端に吹き出し口７ａ、７ｂ、７ｃを有し、外周にアンテナ３ａ、３ｂ、３ｃが配置された複数の反応管２ａ、２ｂ、２ｃを並列配置し、各アンテナ３ａ、３ｂ、３ｃに対して共通の高周波電源４から共通の整合回路５と位相回路６を介して高周波電圧を印加するとともに、各反応管２ａ、２ｂ、２ｃにガス９を供給することで、各反応管２ａ、２ｂ、２ｂの吹き出し口７ａ、７ｂ、７ｃからプラズマ１０を吹き出す大気圧プラズマ発生方法及び装置において、反応管２ａ、２ｂ、２ｃの配置位置に基づいてその外周のアンテナ３ａ、３ｂ、３ｃの巻き数を変え、若しくは供給ガス量を変えることで各反応管２ａ、２ｂ、２ｃで発生するプラズマの強度が略同一になるようにした。 （もっと読む）

【課題】開放空間で対象物にプラズマを照射することができ、しかも外部に漏れる高周波ノイズを有効に低減することができる大気圧プラズマ発生方法及び装置を提供する。
【解決手段】一端が吹き出し口６ａ、６ｂとして開放された反応管２ａ、２ｂの他端側からガス８を導入し、反応管２ａ、２ｂの外周に沿って配置されたアンテナ３ａ、３ｂに高周波電源５にて高周波電圧を印加し、反応管２ａ、２ｂ内で発生したプラズマ１０を吹き出し口６ａ、６ｂから吹き出す大気圧プラズマ発生方法及び装置において、複数の反応管２ａ、２ｂを並列配置し、隣り合う反応管２ａ、２ｂの外周に沿って配置されるアンテナ３ａ、３ｂの巻き方向を逆方向とするなどの手段にて反応管２ａ、２ｂ内の磁界の方向が互いに逆になるようにし、発生する高周波ノイズが相互に打ち消し合うようにした。 （もっと読む）

【課題】液体を高精度で噴出する液体噴出装置を提供すること。
【解決手段】液体の流路を形成する管体と、流路の開閉を制御する開閉弁と、開閉弁を制御する開閉弁制御装置と、開閉弁の前段に配置され、管体内の液体に圧力を付与する圧力付与装置と、開閉弁の後段に配置され、液体を噴射する噴出口と、を備え、開閉弁制御装置の制御により噴出口から液体を一線状に噴射する、液体噴射装置。 （もっと読む）

【課題】簡単な工程で各種基板材料の表面にグラファイトやグラッシーカーボン等のカーボン系物質に代表される無機系物質を減圧下乃至加圧下において基板を格別に過熱することなくマイクロメートル・オーダーの領域にマスク等を用いずに直接に堆積させるマイクロプラズマＣＶＤ装置を提供する。
【解決手段】円筒状の絶縁材料性プラズマトーチ５、プラズマガス供給系１、プラズマ発生用高周波電源９、マッチングボックス１０、プラズマ点灯用イグナイター８、雰囲気ガス吹き付けノズル２及び堆積基板の位置を制御する３軸マニピュレーター１４からなり、カーボンナノチューブ系の材料を基板１１上に堆積させるためには、アルゴン等の不活性ガスに代表されるプラズマガス中にメタン等の炭化水素ガスを混合しプラズマノズルに供給すればよく、この工程は、大気圧、減圧条件下乃至高圧条件下においても可能である。 （もっと読む）