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国際特許分類[H05H1/30]の内容

電気 (1,674,590) | 他に分類されない電気技術 (122,472) | プラズマ技術 (5,423) | プラズマの生成;プラズマの取扱い (4,622) | プラズマの発生 (4,176) | プラズマトーチ (410) | 電磁界を用いるもの,例.高周波またはマイクロ波エネルギー (97)

国際特許分類[H05H1/30]に分類される特許

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【課題】 直流プラズマ発生体の陽極筒の底部内壁に粉末等の処理物質の蒸発物が付着することが防止する。
【解決手段】絶縁フランジ2の中央部に設けられた陰極棒3と、陰極棒3を囲う様に絶縁フランジ2に取り付けられた陽極筒5を有し、陰極棒3と陽極筒5との間のプラズマ発生空間4に直流プラズマが発生される様に成した直流プラズマ発生体1、及び、陽極筒5の後部に連接され、誘導コイル13が巻かれた円筒部材12内のプラズマ発生空間17に高周波誘導プラズマが発生される様に成した高周波誘導プラズマ体11を備え、陽極筒5と絶縁フランジ2との間に、直流プラズマ発生空間4に繋がり、直流プラズマ発生空間4の中心軸Oに向かう方向のプラズマガスと直流プラズマ発生空間4の周方向に向かうプラズマガスがミックスされ、直流プラズマ発生空間4には一定方向のプラズマガスが流れる様に成した隙間21を設けた。 (もっと読む)


プラズマ・ガン30用のプラズマ流遮蔽囲い部材10は、軸線方向長さ、プラズマ流の入口端部11及びプラズマ流の出口端部13を有する略管状の部材14を含む。囲い部材10は、プラズマ・ガン30に取り付けられるように適合される。プラズマ・ガン30のプラズマガス流を保護する、閉じ込める又は遮蔽する方法は、囲い部材10がプラズマガス流の少なくとも一部を実質的に囲むようにサイズ決め及び構成されるように、プラズマガス流の囲い部材10をプラズマ・ガン30に取り付けること20を含む。
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a)前記供給物が前記プラズマ中に導入され、酸素ガスの供給が前記少なくとも一種のプラズマ形成ガス、および/または前記プラズマもしくは前記プラズマの近傍にて達成され、それにより原子への分解が誘発されたガスが得られる工程;b)反応囲壁室中において、原子への分解が誘発された前記ガスを熱破壊する第一運転が行われる工程;c)前記第一熱破壊運転を経た前記ガスを空気および/または酸素と混合することにより、前記ガスを熱破壊する第二運転が行われる工程;d)前記混合からの前記ガスの少なくとも一部を冷却することにより、再結合が達成される工程;e)前記ガスが排出される工程。
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【課題】基材の表面近傍をごく短時間だけ均一に高温熱処理するに際して、基材の所望の被処理領域全体を短時間で処理することのできる熱プラズマ処理装置を提供する。
【解決手段】内部に不活性ガス5を流す熱プラズマノズル1と基材2との間に配置されたノズルカバー7に線状スリット9が設けられ、熱プラズマノズルに電力を供給して、噴出口Fから熱プラズマジェット10を発生させ、線状スリット9を通過したエネルギー束が基材2の表面に作用し、基材2の表面近傍11を熱処理する。 (もっと読む)


本発明は、プラズマの発生部分において、接地された電極として機能する金属ハウジングを備え、その金属ハウジンング内には、HFジェネレータと、高周波数用の閉じられたフェライト磁心を備えるHF共振コイルと、ガスノズルとして機能する絶縁体と、この絶縁体に取り付けられている高圧電極とが、プロセスガスによって取り巻かれるか、または通過されるように配置されている、大気圧条件下におけるHF励起コールドプラズマの発生装置を提供する。好ましい実施形態では、取り外し可能な導電性のキャップを備え、そのキャップは前方部分にスリットまたは穴を有する。本発明は、美容及び医療用材料のプラズマ処理に有効に使用することができる。本発明により、小型化された携帯型装置内にプラズマノズル及び制御エレクトロニクスを組み込むことによって、または短い高電圧ケーブルを使用することによって、電磁適合性(EMC)ガイドラインの遵守が保証され、出力損失を最小化することにより携帯利用を実現することが可能となる。 (もっと読む)


【課題】冷却ガスにより噴出装置本体を冷却する冷却効率を向上させ、噴出装置本体に接続される配管の数を減らすこと。
【解決手段】プラズマガン4は、供給される使用ガスをマイクロ波でプラズマ化させてプラズマを噴出するガン本体32と、ガン本体32を使用ガスとは異なるガス種の冷却ガスで冷却する冷却構造50とを有する。使用ガスをガン本体32に供給するガス供給経路40の一部を、ガス管33で構成し、ガス管33をガン本体32の外周に沿って設ける。ガス管33には、使用ガスと冷却ガスとを混合させた混合ガスが導かれる。ガス管33の一部は、冷却ガスがガス管33の外部に透過する気体分離膜38で形成されており、冷却ガスは、ガン本体32と熱交換して気体分離膜38を透過する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも高い圧力下あるいは従来よりも小さなコイル電圧の印加で熱プラズマを発生させることができる誘導熱プラズマ発生方法及び装置を提供する。
【解決手段】整合用トランス26の二次側コイルの一端26aと誘導コイル22の一端22aとの間にのみ共振コンデンサ36を接続することにより、少なくとも熱プラズマの着火時に、誘導コイル22の一端22a側と他端22b側とで互いに所定値以上の比率となるように偏った容量を有するインピーダンス整合回路34を介して高周波電力を誘導コイルに供給することにより熱プラズマを発生させる。 (もっと読む)


ナノ粉末の生成および材料処理のためのプロセスおよび装置が、本明細書で説明されている。プラズマを発生させるためにプラズマトーチを備えるトーチ本体と、プラズマ放電を受け取るためにトーチ本体と流体連結し、さらに急冷部と流体連結している反応炉部と、反応炉部と熱的に連結している少なくとも1つの加熱要素とを備え、その少なくとも1つの加熱要素が反応炉部内の温度を選択的に調節すること可能にするプラズマ反応炉が、本明細書で説明されている。
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【課題】プラズマによる放射器および絶縁管の変質やエッチングを防止する。
【解決手段】上端部が閉塞板11bで閉塞され、下端部が開放端に形成された筒状の筐体31と、閉塞板11bの内面に立設された筒状の放射器14と、不活性ガスG1を筐体31内を経由して開放端まで搬送して筐体31の外部に放出させる絶縁管11cとを備え、筐体31は内部に供給された反応性ガスG2を開放端から外部に放出して開放端の前方に反応性ガス雰囲気を形成する反応性ガス供給路として構成され、放射器14が供給された高周波信号S1を放射して、絶縁管11c内にプラズマ化した不活性ガスG1による一次プラズマP1を発生させる。一次プラズマP1は、絶縁管11cの先端部から反応性ガス雰囲気中に放出されて反応性ガスG2をプラズマ化させ、処理対象体6をプラズマ処理するための二次プラズマ等P2を発生させる。 (もっと読む)


【課題】 安定したプラズマ火炎が得られ、再現性よく特性の安定した製品を造ることができ、かつ稼動中の振動によってトーチに損傷の生ずることのない固体合成用高周波熱プラズマトーチを提供する。
【解決手段】 原料ガス導入部材1の外方に、冷却水流路7を形成する内側管2と外側管3が配設され、さらに外側管3の外方に高周波コイル4が巻回され、前記原料ガス導入部材1の中心に原料ガス流路5が形成され、前記内側管2と原料ガス導入部材1との間にプラズマガス流路6が形成されてなる高周波誘導熱プラズマトーチにおいて、前記高周波コイル4とその内側の外側管3との間に絶縁体13を介在させて、高周波コイル4の位置を固定し、プラズマガス流路6と高周波コイル4との位置関係が一定に保持されている。 (もっと読む)


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