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国際特許分類[H05K3/06]の内容

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電気分解により除去されるもの

国際特許分類[H05K3/06]に分類される特許

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【課題】解像度及び密着性に優れ、且つめっき耐性が良好である感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造方法、プリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提供する。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、及び(C)光重合開始剤を含有する感光性樹脂組成物であって、(A)成分が、(a1)ベンジル(メタ)アクリレート誘導体由来の構成単位を50〜80質量%、(a2)スチレン誘導体由来の構成単位を5〜40質量%、(a3)(メタ)アクリル酸アルキルエステル由来の構成単位を1〜20質量%、及び(a4)(メタ)アクリル酸由来の構成単位を5〜30質量%含む、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】レジスト膜の厚みを比較的小さくしてかつオーバーエッチングするパターン状金属膜の製造方法において、所望パターンの金属膜を安定的に製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】金属膜上にパターン状のレジスト膜を形成する工程(A)、前記金属膜をエッチングする工程(B)を順次有するパターン状金属膜の製造方法であって、前記レジスト膜は厚みが5μm以下でかつ鉛筆硬度がB以下であり、前記工程(B)において前記レジスト膜の線幅100%に対してパターン状金属膜の線幅が80%以下となるようにオーバーエッチングする、パターン状金属膜の製造方法。 (もっと読む)


【課題】凹版印刷法によって少なくとも2本の連続線が交わる交点を有するパターンを印刷するときの、交点近傍の連続線上に発生するピンホール状欠点を防止することができる印刷方法を提供する。
【解決手段】凹版は、少なくとも2本の連続線を含む凹部パターンを有し、凹部パターンは、下記(A)、(B)のいずれかを満たし、かつ前記インキが下記(1)及び(2)の条件を満足することを特徴とする、印刷方法。(A)凹部パターンは、少なくとも2本の連続線が交わる交点を有し、さらに、該交点を形成する少なくとも1本の連続線が前記交点もしくは交点近傍で断線している。(B)凹部パターンは、少なくとも2本の連続線が交わる交点を有しない。(1)剪断速度10(1/s)における粘度(1)が0.30〜30Pa・sの範囲である。(2)剪断速度100(1/s)における粘度(2)が0.15〜15Pa・sの範囲である。 (もっと読む)


【課題】 回路パターンを良好なファインピッチで形成することができる積層体及びそれを用いたプリント配線板を提供する。
【解決手段】 表面処理層が形成されたメッキ銅層を含む積層体であって、
前記表面処理層が、Au、Pd及びPtの少なくともいずれか1種を含み、
前記表面処理層側の20nmの深さまでの表層の2価のCuの酸化物の原子数の割合である(2価のCuの酸化物の原子数)/{(1価のCuの酸化物の原子数)+(単体のCuの原子数)}(%)が80%以下である積層体。 (もっと読む)


【課題】密着性と解像度が優れ、レジストの微少な欠損が少なく、断面形状が矩形に近いレジストパターンを形成可能な感光性エレメント、並びに、これを用いたレジストパターンの形成及びプリント配線板の製造方法の提供。
【解決手段】支持フィルム10と、その上に形成された感光層20と、保護フィルムを備える感光性エレメント1であって、支持フィルムのヘーズが、0.01〜1.5%であり、かつ、該支持フィルムに含まれる直径5μm以上の粒子及び直径5μm以上の凝集物の総数が5個/mm以下であり、また、バインダーポリマーとエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物及び光重合開始剤を含有する感光層の厚さT(μm)と365nmにおける吸光度Aとが、0.005≦A/T≦0.020で表される関係を満足し、更に、保護フィルムの酸素透過率が、5×10−2/m・日・MPa以下である感光性エレメント。 (もっと読む)


【課題】
銅または銅合金に対してスプレーエッチング処理時に面内均一性に優れる銅または銅合金表面を得るための表面処理剤および表面処理方法を提供する。
【解決手段】
硫酸1〜25重量%、過酸化水素0.5〜10重量%、エチレングリコール誘導体0.01〜5重量%を含有し、かつかつ硫酸と過酸化水素のモル比(HSO/H)が0.65〜1.40であることを特徴とする銅または銅合金表面処理剤。 (もっと読む)


【課題】本発明は、感光性樹脂中のモノマーの保護層からのブリードアウトが抑制されたドライフィルムレジストロール、該ドライフィルムレジストロールを用いて基板上にレジストパターンを形成する方法、及び該レジストパターンの用途を提供することを目的とする。
【解決手段】感光性樹脂積層体が巻き芯に巻かれてなるドライフィルムレジストロールであって、該感光性樹脂積層体が、支持体(A)、感光性樹脂層(B)及び保護層(C)を、この順で位置するように有し、該感光性樹脂層(B)が、(a)カルボキシル基を含有する熱可塑性重合体20〜90質量%、(b)分子内に少なくとも1つの重合可能なエチレン性不飽和結合を有する付加重合性モノマー5〜75質量%、及び(c)光重合開始剤0.01〜30質量%を含み、該保護層(C)がプロピレン系共重合体フィルムである、ドライフィルムレジストロール。 (もっと読む)


【課題】導電性ペーストを充填したインナーバイアホールと内層導体回路及び外層導体回路との位置ズレ量が低減可能である多層プリント配線板を実現し、多層プリント配線板の製造工程の歩留まりを向上させる多層プリント配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】銅張積層板の表面上の一部領域を、局所エッチングブースで銅箔を除去し、開口部を形成し、開口部から露出した位置認識用の導通孔及び認識用ランドを基準として回路パターン及び認識ランドが形成されることを特徴とするプリント配線板の製造方法およびエッチング装置。 (もっと読む)


【課題】高解像性及び高密着性でかつエッチング耐性に優れるネガ型の感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性高分子20〜90質量%、(B)エチレン性不飽和付加重合性モノマー5〜75質量%、及び(C)光重合開始剤0.01〜30質量%を含有する感光性樹脂組成物であって、該(A)アルカリ可溶性高分子が、下記一般式(I):


[式中、R1は水素原子又はメチル基を表し、そしてR2は炭素数が6〜20のアルキル基を表す。]で表される単量体単位構造を含み、該(B)エチレン性不飽和付加重合性モノマーが、分子内に少なくとも1つのエチレン性不飽和基及び少なくとも1つのイソシアヌル環構造を有するイソシアヌル環含有不飽和化合物を含む、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】レジストパターンの剥離残りの発生の把握が容易な配線基板の製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。
【解決手段】レジストパターン160を介してリード電極90及び島状のカウントマーク120をパターニングするパターニング工程と、パターニング工程の後、レジストパターン160を酸素プラズマによって剥離するアッシング工程と、を有する流路形成基板10の製造方法であって、パターニング工程では、アッシング工程におけるレジストパターン160の剥離特性に基づいて、リード電極90におけるレジストパターン160の剥離時間よりも、カウントマーク120におけるレジストパターン160の剥離時間を長くするように、カウントマーク120の平面形状を設定するという手法を採用する。 (もっと読む)


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