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国際特許分類[H05K3/06]の内容

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電気分解により除去されるもの

国際特許分類[H05K3/06]に分類される特許

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【課題】基板面に設けられる遮断配線による遮断性能の低下を抑制し得る配線基板の製造方法を提供する。
【解決手段】遮断配線30と一側接続配線40および他側接続配線50とを含めた配線パターンと異なる領域に形成されたエッチングレジストを除去して、一側接続配線40および他側接続配線50に相当する導体層上のエッチングレジスト29における両側の側縁が遮断配線30に相当する導体層上のエッチングレジスト29における両側の側縁となだらかに連続し接続対象に向かうにつれて徐々に広がるようにエッチングレジスト29を残した基板を、エッチング液に浸漬する。 (もっと読む)


【課題】良好な耐薬品性、機械強度及び柔軟性を有する感光性樹脂組成物及び感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性高分子:40〜80質量%、(B)光重合開始剤:0.1〜20質量%、及び(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物:0.1〜50質量%を含有する感光性樹脂組成物であって、該(C)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物として、分子内に少なくとも一つの炭素数が4以上のアルキレンオキサイド基と、少なくとも1つのウレタン結合を有する化合物:0.1〜32質量%を含有することを特徴とする前記感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】光感度に優れるとともに、光硬化後に得られるレジスト形状を良好に維持することが可能な感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】(A)バインダーポリマー、(B)分子内にエチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物、(C)光重合開始剤、及び(D)重合禁止剤を含有し、(D)重合禁止剤の含有量が組成物中の固形分全量を基準として20〜100質量ppmである、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】所定の領域にレジストパターンを安定的に精度よく形成できる電子部品の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、レジストパターンを有する電子部品1の製造方法である。本発明に係る電子部品1の製造方法は、基板2上に、第1のレジスト材料3をインクジェット装置11から部分的に吐出してパターン状に描画し、第1のレジスト材料3を配置する工程と、基板2上の第1のレジスト材料3と少なくとも一部が接触するように、基板2上に、第2のレジスト材料4をインクジェット装置12から部分的に吐出してパターン状に描画し、第1のレジスト材料3と第2のレジスト材料4とによりレジスト層5を形成する工程と、レジスト層5を硬化させて、レジストパターン(硬化したレジスト層5A)を形成する工程とを備える。 (もっと読む)


【課題】エッチングによる回路形成を行うに際し、エッチング前の銅箔の表面状態を均一に保ち、パターン欠陥を防止できる電子回路用銅箔を提供する。
【解決手段】樹脂基材に接着された銅箔からなり、エッチングによる回路形成を行う電子回路用銅箔において、銅箔の、樹脂基材との非接着面側に、Co比率が50%以上90%以下のNi−Co合金層を形成したものである。 (もっと読む)


【課題】高感度かつ解像性に優れ、良好な耐エッチング性及び硬化膜柔軟性を有する感光性樹脂組成物及び積層体の提供。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性高分子:10〜90質量%、(B)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物:5〜70質量%、及び(C)光重合開始剤:0.01〜20質量%、を含有する感光性樹脂組成物であって、該(A)アルカリ可溶性高分子が、酸当量100〜600、及び重量平均分子量5000〜500000を有し、該(A)アルカリ可溶性高分子が、特定構造のスチレン系化合物を特定量含む単量体成分の重合生成物であり、該(B)エチレン性不飽和二重結合を有する化合物が特定構造のビスフェノール系化合物を含む、感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】簡易な構成で、歩留りの向上を図り、製造コストを低減することのできる配線回路基板集合体シートおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】複数の回路付サスペンション基板2を、横方向に並列配置されるように形成し、複数のユニット5を、回路付サスペンション基板2が一定間隔毎に省かれ、回路付サスペンション基板2が省かれたマージン部分4によって区画されるように形成する。 (もっと読む)


【課題】装置の大型化を抑制し基板上の薬液が累積することなく液切りが良好に行える薬液処理装置を提供する。
【解決手段】帯状の基板(1)を長手方向(DR1)に搬送する基板搬送部(51)を備え基板(1)を搬送しつつその上表面(1u)に付着した薬液(LQ)の液切りを行う。基板搬送部(51)は、基板(1)を上下から対向挟持して搬送させる上ローラと下ローラとからなるローラ組を、第1〜第3のローラ組(R3〜R5)として長手方向(AR1)に沿ってその順に有する。上ローラと下ローラとによって基板(1)を挟む挟持位置について、第2のローラ組(R4)の挟持位置(KP4)が第1及び第3のローラ組の挟持位置(KP3,KP5)よりも低い位置にある。 (もっと読む)


【課題】 エッチング残差を低減したセラミックス回路基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 セラミックス基板上に所定形状の銅回路板を接合したセラミックス回路基板において、上記銅回路板をエッチングにより回路形成する方法において、エッチング後に酸およびアルカリによる再洗浄をすることを特徴とするセラミックス銅回路基板の製造方法。また、酸による再洗浄が5wt%以下のシュウ酸溶液であることが好ましい。また、セラミックス基板はアルミナ基板が好ましい。 (もっと読む)


【課題】パターン形成が可能で、ドライフィルムとして形成された際に、感光性樹脂組成物が柔軟であり、そのフィルムを切断しても切り屑の発生が十分に抑制される感光性樹脂組成物、並びにそれを用いた感光性樹脂積層体の提供。
【解決手段】(A)アルカリ可溶性フェノール樹脂、(B)1,2−ナフトキノンジアジド基を含む感光剤、並びに(D)ビスフェノールA、ビスフェノールE、ビスフェノールF及びビスフェノールS、並びにこれらを水素添加して得られる化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物から誘導され、且つ末端に水酸基を少なくとも1つ有する化合物を、含有してなる感光性樹脂組成物。 (もっと読む)


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