インク組成物及びインクジェット記録方法
【課題】吐出安定性、顔料分散性及び保存安定性に優れたインク組成物及び前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供すること。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物及び（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含み、前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤が、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンであることを特徴とするインク組成物。（ａ1）被記録媒体上に、前記インク組成物を吐出する工程及び（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化する工程、を含むインクジェット記録方法。
【解決手段】（Ａ）顔料、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物及び（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含み、前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤が、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンであることを特徴とするインク組成物。（ａ1）被記録媒体上に、前記インク組成物を吐出する工程及び（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化する工程、を含むインクジェット記録方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット記録用として好適に用いられるインク組成物及びインクジェット記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像データ信号に基づき、紙などの被記録媒体に画像を形成する画像記録方法として、電子写真方式、昇華型及び溶融型熱転写方式、インクジェット方式などがある。電子写真方式は、感光体ドラム上に帯電及び露光により静電潜像を形成するプロセスを必要とし、システムが複雑となり、結果的に製造コストが高価になるなどの問題がある。また熱転写方式は、装置は安価であるが、インクリボンを用いるため、ランニングコストが高く、かつ廃材が出るなどの問題がある。
一方、インクジェット方式は、安価な装置で、かつ、必要とされる画像部のみにインクを吐出し被記録媒体上に直接画像形成を行うため、インク組成物を効率よく使用でき、ランニングコストが安い。さらに、騒音が少ないなど、画像記録方式として優れている。
【０００３】
特許文献１には、光開始剤、光重合性化合物、分散剤及び変性シリコーンオイルを含有する活性光硬化型インクジェットインクにおいて、前記変性シリコーンオイルを含まない状態の前記インクジェットインクに対して変性シリコーンオイルを０．１質量％添加した時、２５℃における表面張力の減少が０〜３ｍＮ／ｍであることを特徴とする活性光線硬化型インクジェットインクが開示されている。
【０００４】
特許文献２には、（Ａ）分子内に２個以上のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、（Ｂ）分子内に２個以上のヒドロシリル基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｃ）白金系触媒、（Ｄ）反応制御剤、（Ｅ）顔料、（Ｆ）分散剤及び（Ｇ）溶媒を含有してなる眼用レンズ材料用シリコーンインク組成物が開示されている。
【０００５】
特許文献３には、ナノ粒子との親和性を有する頭部と、シリコン樹脂との親和性を有する尾部と、を含むシロキサン系分散剤が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００６／０２７９６６号パンフレット
【特許文献２】特開２００８−２２４７７５号公報
【特許文献３】特開２００７−１９６２２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、吐出安定性、顔料分散性及び保存安定性に優れたインク組成物及び前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題は、下記＜１＞〜＜８＞に記載の手段により解決された。
＜１＞（Ａ）顔料、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、及び、（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含み、前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤が、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンであることを特徴とするインク組成物、
＜２＞前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤をインク組成物中に１重量％以上含む、前記＜１＞に記載のインク組成物、
＜３＞前記（Ａ）顔料が白色顔料である、前記＜１＞又は＜２＞に記載のインク組成物、
＜４＞前記白色顔料が酸化チタンである、前記＜３＞に記載のインク組成物、
＜５＞前記（Ｃ）重合性化合物としてカチオン重合性化合物を含む、前記＜１＞〜＜４＞いずれか１つに記載のインク組成物、
＜６＞さらに（Ｅ）アミン化合物を含む、前記＜５＞に記載のインク組成物、
＜７＞前記（Ｃ）重合性化合物としてラジカル重合性化合物を含む、前記＜１＞〜＜６＞いずれか１つに記載のインク組成物、
＜８＞（ａ1）被記録媒体上に、前記＜１＞〜＜７＞いずれか１つに記載のインク組成物を吐出する工程、及び、（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化する工程、を含むインクジェット記録方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、吐出安定性、顔料分散性及び保存安定性に優れたインク組成物及び前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
（１）インク組成物
本発明のインク組成物は、（Ａ）顔料、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物及び（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含み、前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤が、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンであることを特徴とする。本発明のインク組成物は、インクジェット記録用インク組成物として好適に使用することができる。以下、本発明について詳細に説明する。
【００１１】
本発明のインク組成物は、放射線により硬化可能なインク組成物である。また、油性のインク組成物である。
本発明でいう「放射線」とは、その照射によりインク組成物中において開始種を発生させうるエネルギーを付与することができる活性放射線であれば特に制限はなく、広くα線、γ線、Ｘ線、紫外線（ＵＶ）、可視光線、電子線などを包含する。中でも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から紫外線及び電子線が好ましく、特に紫外線が好ましい。したがって、本発明のインク組成物としては、放射線として、紫外線を照射することにより硬化可能なインク組成物が好ましい。
【００１２】
（Ａ）顔料
本発明のインク組成物は、（Ａ）顔料を含有する。
顔料とは、一般に、種々溶媒（有機溶剤、水）に対して難溶の着色剤を意味し、通常のインク組成物においては、含有する着色剤の全固形分のうち、インク組成物中に溶解している量が１０重量％以下のものを意味する。
本発明に用いることができる顔料としては、特に制限はなく、公知の顔料を用いることができる。本発明に用いることができる顔料は、活性放射線による硬化反応の感度を低下させないという観点からは、硬化反応である重合反応において重合禁止剤として機能しない化合物を選択することが好ましい。
【００１３】
本発明に用いることができる顔料としては、特に限定されるわけではないが、例えばカラーインデックスに記載される下記の番号の有機又は無機顔料が使用できる。
赤又はマゼンタ顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ３，５，１９，２２，３１，３８，４２，４３，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４８：５，４９：１，５３：１，５７：１，５７：２，５８：４，６３：１，８１，８１：１，８１：２，８１：３，８１：４，８８，１０４，１０８，１１２，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１６６，１６８，１６９，１７０，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，２０８，２１６，２２６，２５７、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ３，１９，２３，２９，３０，３７，５０，８８、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ １３，１６，２０，３６、
青又はシアン顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，１７−１，２２，２７，２８，２９，３６，６０、
緑顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，２６，３６，５０、
黄顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １，３，１２，１３，１４，１７，３４，３５，３７，５５，７４，８１，８３，９３，９４，９５，９７，１０８，１０９，１１０，１２０，１３７，１３８，１３９，１５３，１５４，１５５，１５７，１６６，１６７，１６８，１８０，１８５，１９３、
黒顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ７，２８，２６等が挙げられる。
【００１４】
また、本発明のインク組成物は（Ａ）顔料として白色顔料を含有するものが好ましい。中でも白色顔料として酸化チタンを含有するものがより好ましい。
酸化チタンは、他の白色顔料と比べて比重が小さく、屈折率が大きく、化学的、物理的にも安定であるため、顔料としての隠蔽力や着色力が大きい。さらに、酸やアルカリ、その他の環境に対する耐久性にも優れている。
【００１５】
酸化チタンは、特に限定されず、白色顔料として使用されている公知の酸化チタンから適宜選択して使用することができる。ルチル型二酸化チタン及びアナターゼ型二酸化チタンのいずれも使用することができるが、触媒活性能が低く、経時安定性に優れる点から、ルチル型二酸化チタンが好ましく使用される。
酸化チタンは上市されており、例えば、Ｔｉｐａｑｕｅ ＣＲ６０−２、Ｔｉｐａｑｕｅ Ａ−２２０（いずれも、石原産業（株）製）や、ＫＲＯＮＯＳ１００１、１０１４、１０７１、１０７４、１０７５、１０７７、１０７８、１０８０、１１７１、２０４４、２０４７、２０５６、２０６３、２０８０、２０８１、２０８４、２０８７、２１６０、２１９０、２２１１、２２２０、２２２２、２２２５、２２３０、２２３３、２２５７、２３００、２３１０、２４５０、２５００、３０００、３０２５（いずれも、ＫＲＯＮＯＳ社製）等が例示できる。
また、酸化チタンは、必要に応じて表面処理してもよい。具体的には、例えば、シリカ、アルミナ、亜鉛、ジルコニア、有機物処理が行われ、処理方法によって耐候性や親油水性が異なる。本発明においてはアルミナ、亜鉛、ジルコニア、塩基性有機物処理されたものが好ましい。
【００１６】
これらの顔料は、インク組成物の使用目的に応じて、１種又は２種以上を適宜選択して用いればよい。
【００１７】
顔料を分散する場合は、分散剤と混合して重合性モノマーに分散する、又は、重合性モノマーと分散剤とを混合した後に顔料を分散することが好ましい。顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等の各分散装置を用いることができる。
【００１８】
顔料は、インク組成物の調製に際して、各成分とともに直接添加により配合してもよいが、分散性向上のため、あらかじめ溶剤又は本発明に使用する重合性モノマーのような分散媒体に添加し、均一分散又は溶解させた後、配合することもできる。
本発明において、溶剤が硬化画像に残留する場合の耐溶剤性の劣化及び残留する溶剤のＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ：揮発性有機化合物）の問題を避けるためにも、着色剤は、重合性モノマーのような分散媒体に予め添加して、配合することが好ましい。なお、分散適性の観点のみを考慮した場合、着色剤の添加に使用する重合性モノマーとして、最も粘度の低い重合性モノマーを選択することが好ましい。
【００１９】
白色顔料を除く顔料粒子の平均粒径は、好ましくは０．００５〜０．５μｍ、より好ましくは０．０１〜０．３０μｍ、さらに好ましくは０．０１５〜０．１５μｍとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を設定することが好ましい。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インク組成物の保存安定性、透明性及び硬化感度を維持することができるので好ましい。
【００２０】
一方、酸化チタン等の白色顔料の平均粒径は０．０１〜０．５μｍであることが好ましく、０．０１〜０．３μｍであることがより好ましく、０．０１５〜０．１５μｍであることがさらに好ましい。
また、最大粒径は１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましい。最大粒径が上記範囲内となるように、白色顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、濾過条件を設定することが好ましい。また、遠心分離などの後処理によって大きな粒子を取り除くことも有効である。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インク組成物の保存安定性（特に沈降の抑止）、十分な隠蔽性及び硬化感度を維持することができる。
【００２１】
インク組成物中における顔料の粒径は、公知の測定方法で測定することができる。具体的には遠心沈降光透過法、Ｘ線透過法、レーザー回折・散乱法、動的光散乱法により測定することができる。
【００２２】
本発明において、（Ａ）顔料に対する（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤等の分散剤の重量比は、インク組成物中における顔料の重量をＡと、インク組成物中における分散剤の重量Ｄとした場合、その重量比（Ｄ／Ａ）が、０．５＜Ｄ／Ａ≦１５であり、１≦Ｄ／Ａ≦１０であることが好ましく、１．２≦Ｄ／Ａ≦８であることがより好ましい。
上記範囲内であると経時保存後の顔料の凝集・沈降、インク粘度上昇が生じず、経時保存安定性に優れるインク組成物が得られる。また、インク粘度が低粘度で吐出安定性に優れるインク組成物が得られる。
【００２３】
本発明において、白色顔料を除く顔料のインク組成物への添加量は、インク組成物の全重量に対し、１〜２０重量％が好ましく、５〜１５重量％がより好ましい。上記の数値の範囲内であると、高顔料濃度化に伴う粘度や粒径の上昇がないため好ましい。
【００２４】
本発明において、白色顔料のインク組成物への添加量は、インク組成物の全重量に対し、１０〜４５重量％が好ましく、１０〜４０重量％がより好ましく、１５〜４０重量％がさらに好ましい。
従来の白色インク組成物において、酸化チタン等の白色顔料の添加量が多い場合には、顔料の凝集による吐出安定性及び保存安定性の低下、さらには、硬化して得られる画像においてざらつきなどが見られ、画質に劣る場合が見られた。
しかし、本発明のインク組成物は、特定の（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を使用することにより、酸化チタン等の白色顔料のインク組成物への添加量が、インク組成物の全重量に対し、１０〜４５重量％である場合でも、活性放射線に対する高感度を維持することができ、また、吐出安定性及び保存安定性に優れ、さらに、硬化して得られる画像の画質に優れる。
【００２５】
また、インク組成物に酸化チタンを添加するにあたっては、必要に応じて、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。分散助剤は、酸化チタン１００重量部に対し、１〜５０重量部添加することが好ましい。
【００２６】
（Ｂ）光重合開始剤
本発明のインク組成物は、（Ｂ）光重合開始剤を含有する。
本発明で用いることができる光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができ、カチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤を使用することが好ましい。本発明に用いることができる光重合開始剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、ラジカル重合開始剤とカチオン重合開始剤とを併用してもよい。
【００２７】
＜カチオン重合開始剤＞
本発明において（Ｃ）重合性化合物として、カチオン重合性化合物を用いる場合、カチオン重合開始剤を用いることが好ましい。本発明に用いることができるカチオン重合開始剤としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる（有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版（１９９３年）、１８７〜１９２ページ参照）。本発明に好適なカチオン重合開始剤の例を以下に挙げる。
【００２８】
本発明に用いることのできるカチオン重合開始剤は、活性放射線の照射により酸を発生する化合物であることが好ましい（以下、「光酸発生剤」ともいう。）。
本発明に用いることができる光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている光（２００〜４００ｎｍの紫外線、遠紫外線、特に好ましくは、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー光）、ＡｒＦエキシマレーザー光、電子線、Ｘ線、分子線又はイオンビームなどの照射により酸を発生する化合物を適宜選択して使用することができる。
【００２９】
このような光酸発生剤としては、活性放射線の照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、光酸発生剤としてオニウム塩を使用することが好ましい。
【００３０】
本発明に用いることができる好ましい光酸発生剤として、下記式（ｂ１）、（ｂ２）、又は、（ｂ３）で表される化合物を挙げることができる。
【００３１】
【化１】
【００３２】
式（ｂ１）において、Ｒ201、Ｒ202及びＲ203は、各々独立に有機基を表す。
Ｘ-は、非求核性アニオンを表し、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス（アルキルスルホニル）アミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＦ6-や以下に示す基などが好ましく挙げられる。また、炭素原子を有する有機アニオンであることが好ましい。
【００３３】
【化２】
【００３４】
好ましい有機アニオンとしては、以下に示す有機アニオンが挙げられる。
【００３５】
【化３】
【００３６】
Ｒｃ1は、有機基を表す。
Ｒｃ1における有機基としては、炭素数１〜３０のものが挙げられ、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はこれらの複数を組み合わせた基が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ3−、−ＳＯ2Ｎ（Ｒｄ1）−などの連結基で連結された基を挙げることができる。Ｒｄ1は、水素原子、アルキル基を表す。
Ｒｃ3、Ｒｃ4、Ｒｃ5は、各々独立に、有機基を表す。
Ｒｃ3、Ｒｃ4、Ｒｃ5の有機基として、好ましくはＲｃ1における好ましい有機基と同じものを挙げることができ、最も好ましくは炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基である。
Ｒｃ3とＲｃ4とが結合して環を形成していてもよい。Ｒｃ3とＲｃ4とが結合して形成される基としてはアルキレン基、アリーレン基が挙げられる。好ましくは炭素数２〜４のパーフルオロアルキレン基である。
【００３７】
Ｒｃ1、Ｒｃ3〜Ｒｃ5の有機基として、最も好ましくは１位がフッ素原子又はフルオロアルキル基で置換されたアルキル基、フッ素原子又はフルオロアルキル基で置換されたフェニル基である。フッ素原子又はフルオロアルキル基を有することにより、光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上する。
【００３８】
Ｒ201、Ｒ202及びＲ203としての有機基の炭素数は、好ましくは１〜３０、より好ましくは１〜２０である。
また、Ｒ201〜Ｒ203のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。Ｒ201〜Ｒ203の内の２つが結合して形成する基としては、アルキレン基（例えば、ブチレン基、ペンチレン基）を挙げることができる。
【００３９】
Ｒ201、Ｒ202及びＲ203としての有機基の具体例としては、後述する化合物（ｂ１−１）、（ｂ１−２）、（ｂ１−３）における対応する基を挙げることができる。
【００４０】
尚、光重合開始剤は、式（ｂ１）で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、式（ｂ１）で表される化合物のＲ201〜Ｒ203のうち少なくともひとつが、式（ｂ１）で表される他の化合物におけるＲ201〜Ｒ203の少なくともひとつと直接、又は、連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。
【００４１】
さらに好ましい（ｂ１）成分として、以下に説明する化合物（ｂ１−１）、（ｂ１−２）及び（ｂ１−３）を挙げることができる。
【００４２】
化合物（ｂ１−１）は、上記式（ｂ１）のＲ201〜Ｒ203の少なくとも１つがアリール基である、アリールスルホニム化合物、すなわち、アリールスルホニウムをカチオンとする化合物である。
【００４３】
アリールスルホニウム化合物は、Ｒ201〜Ｒ203の全てがアリール基でもよいし、Ｒ201〜Ｒ203の一部がアリール基で、残りがアルキル基、シクロアルキル基でもよい。
【００４４】
アリールスルホニウム化合物としては、例えば、トリアリールスルホニウム化合物、ジアリールアルキルスルホニウム化合物、アリールジアルキルスルホニウム化合物、ジアリールシクロアルキルスルホニウム化合物、アリールジシクロアルキルスルホニウム化合物等を挙げることができる。
【００４５】
アリールスルホニウム化合物のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基などのアリール基、インドール残基、ピロール残基などのヘテロアリール基が好ましく、さらに好ましくはフェニル基、インドール残基である。アリールスルホニム化合物が２つ以上のアリール基を有する場合に、２つ以上あるアリール基は同一であっても異なっていてもよい。
【００４６】
アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているアルキル基としては、炭素数１〜１５の直鎖又は分岐状アルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているシクロアルキル基としては、炭素数３〜１５のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
【００４７】
Ｒ201〜Ｒ203のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基は、アルキル基（例えば炭素数１〜１５）、シクロアルキル基（例えば炭素数３〜１５）、アリール基（例えば炭素数６〜１４）、アルコキシ基（例えば炭素数１〜１５）、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基を置換基として有してもよい。好ましい置換基としては、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐状アルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基であり、最も好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基は、３つのＲ201〜Ｒ203のうち、いずれか１つに置換していてもよいし、３つ全てに置換していてもよい。また、Ｒ201〜Ｒ203がアリール基の場合に、置換基はアリール基のｐ−位に置換していることが好ましい。
【００４８】
次に、化合物（ｂ１−２）について説明する。
化合物（ｂ１−２）は、式（ｂ１）におけるＲ201〜Ｒ203が、各々独立に、芳香環を含有しない有機基を表す場合の化合物である。ここで芳香環とは、ヘテロ原子を含有する芳香族環も包含するものである。
Ｒ201〜Ｒ203としての芳香環を含有しない有機基は、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０である。
Ｒ201〜Ｒ203は、各々独立に、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリル基、ビニル基であり、より好ましくは直鎖状、分岐状又は環状の２−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、特に好ましくは直鎖状又は分岐状の２−オキソアルキル基である。
【００４９】
Ｒ201〜Ｒ203としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数１〜１０の直鎖又は分岐状アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基）を挙げることができ、直鎖状又は分岐状の２−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基がより好ましい。
【００５０】
Ｒ201〜Ｒ203としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数３〜１０のシクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基）を挙げることができ、環状の２−オキソアルキル基がより好ましい。
【００５１】
Ｒ201〜Ｒ203の直鎖状、分岐状又は環状の２−オキソアルキル基としては、好ましくは、上記のアルキル基、シクロアルキル基の２位に＞Ｃ＝Ｏを有する基を挙げることができる。
Ｒ201〜Ｒ203としてのアルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基としては、好ましくは炭素数１〜５のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基）を挙げることができる。
Ｒ201〜Ｒ203は、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えば炭素数１〜５）、水酸基、シアノ基、ニトロ基によってさらに置換されていてもよい。
【００５２】
化合物（ｂ１−３）とは、以下の式（ｂ１−３）で表される化合物であり、フェナシルスルホニウム塩構造を有する化合物である。
【００５３】
【化４】
【００５４】
式（ｂ１−３）において、Ｒ1c〜Ｒ5cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
Ｒ6c及びＲ7cは、各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｒx及びＲyは、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリル基又はビニル基を表す。
Ｒ1c〜Ｒ5c中のいずれか２つ以上、Ｒ6cとＲ7c及びＲxとＲyは、それぞれ結合して環構造を形成してもよい。
Ｚｃ-は、非求核性アニオンを表し、式（ｂ１）におけるＸ-の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。
【００５５】
Ｒ1c〜Ｒ7cとしてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは炭素数１〜２０個、より好ましくは炭素数１〜１２個の直鎖状及び分岐状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、直鎖状又は分岐状のプロピル基、直鎖状又は分岐状のブチル基、直鎖状又は分岐状のペンチル基）を挙げることができる。
【００５６】
Ｒ1c〜Ｒ7cのシクロアルキル基として、好ましくは、炭素数３〜８個のシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）を挙げることができる。
【００５７】
Ｒ1c〜Ｒ5cとしてのアルコキシ基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよく、例えば炭素数１〜１０のアルコキシ基、好ましくは、炭素数１〜５の直鎖状及び分岐状のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、直鎖状又は分岐状のプロポキシ基、直鎖状又は分岐状のブトキシ基、直鎖状又は分岐状のペントキシ基）、炭素数３〜８の環状アルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基）を挙げることができる。
【００５８】
Ｒ1c〜Ｒ5c中のいずれか２つ以上、Ｒ6cとＲ7c及びＲxとＲyが結合して形成する基としては、ブチレン基、ペンチレン基等を挙げることができる。この環構造は、酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合を含んでいてもよい。
【００５９】
好ましくはＲ1c〜Ｒ5cのうちいずれかが直鎖状もしくは分岐状アルキル基、シクロアルキル基又は直鎖状、分岐状もしくは環状アルコキシ基であり、さらに好ましくはＲ1cからＲ5cの炭素数の和が２〜１５である。これにより、溶剤溶解性がより向上し、保存時にパーティクルの発生が抑制されるので好ましい。
【００６０】
Ｒx及びＲyとしてのアルキル基、シクロアルキル基は、Ｒ1c〜Ｒ7cとしてのアルキル基、シクロアルキル基と同様のものを挙げることができる。
Ｒx及びＲyは、２−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基であることが好ましい。
２−オキソアルキル基は、Ｒ1c〜Ｒ5cとしてのアルキル基、シクロアルキル基の２位に＞Ｃ＝Ｏを有する基を挙げることができる。
アルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基については、Ｒ1c〜Ｒ5cとしてのアルコキシ基と同様のものを挙げることができる。
【００６１】
Ｒx、Ｒyは、好ましくは炭素数４個以上のアルキル基、シクロアルキル基であり、より好ましくは６個以上、さらに好ましくは８個以上のアルキル基、シクロアルキル基である。
【００６２】
式（ｂ２）、（ｂ３）中、Ｒ204〜Ｒ207は、各々独立に、アリール基、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｘ-は、非求核性アニオンを表し、式（ｂ１）におけるＸ-の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。
【００６３】
Ｒ204〜Ｒ207のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
Ｒ204〜Ｒ207としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基）を挙げることができる。Ｒ204〜Ｒ207としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数３〜１０のシクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基）を挙げることができる。
Ｒ204〜Ｒ207が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基（例えば炭素数１〜１５）、シクロアルキル基（例えば炭素数３〜１５）、アリール基（例えば炭素数６〜１５）、アルコキシ基（例えば炭素数１〜１５）、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基等を挙げることができる。
また、Ｒ204とＲ205、Ｒ206とＲ207が結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。Ｒ204とＲ205、Ｒ206とＲ207が結合して形成する基としては、アルキレン基（例えば、ブチレン基、ペンチレン基）を挙げることができる。
尚、式（ｂ２）又は（ｂ３）で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、式（ｂ２）で表される化合物のＲ204又はＲ205が、式（ｂ２）で表される他の化合物におけるＲ204又はＲ205と直接、又は、連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。
【００６４】
光酸発生剤として、さらに、下記式（ｂ４）、（ｂ５）、（ｂ６）で表される化合物を挙げることができる。
【００６５】
【化５】
【００６６】
式（ｂ４）〜（ｂ６）中、Ａｒ3及びＡｒ4は、各々独立に、アリール基を表す。
Ｒ206、Ｒ207及びＲ208は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はシアノ基を表す。
Ａは、アルキレン基、アルケニレン基又はアリーレン基を表す。
Ａｒ3及びＡｒ4、Ｒ206〜Ｒ208並びにＡは置換基を有していてもよく、例えば、アルキル基（例えば炭素数１〜１５）、シクロアルキル基（例えば炭素数３〜１５）、アリール基（例えば炭素数６〜１５）、アルコキシ基（例えば炭素数１〜１５）、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基等を挙げることができる。
尚、式（ｂ４）〜（ｂ６）で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、式（ｂ６）で表される化合物のＲ206〜Ｒ208のうち少なくともひとつが、式（ｂ６）で表される他の化合物におけるＲ206〜Ｒ208の少なくともひとつと直接又は連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。
【００６７】
前記光酸発生剤の中でも好ましいものとしては、式（ｂ１）〜（ｂ３）で表される化合物を挙げることができる。本発明に好適に用いられる光酸発生剤としては、特開２００８−０１９４０８号公報に記載された（ｂ−１）〜（ｂ−９６）を好ましく例示でき、中でも、（ｂ−２４）及び（ｂ−２９）の混合物であるＥｓａｃｕｒｅ１０６４（Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）等を好ましく用いることができる。
【００６８】
【化６】
【００６９】
また、特開２００２−１２２９９４号公報の段落００２９〜００３０に記載のオキサゾール誘導体、ｓ−トリアジン誘導体なども好適に用いられる。特開２００２−１２２９９４号公報の段落００３７〜００６３に例示されるオニウム塩化合物、スルホネート系化合物も本発明に好適に使用することができる。
【００７０】
＜ラジカル重合開始剤＞
本発明に用いることができるラジカル重合開始剤としては、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）アシルホスフィン化合物、（ｃ）芳香族オニウム塩化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）チオ化合物、（ｆ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｇ）ケトオキシムエステル化合物、（ｈ）ボレート化合物、（ｉ）アジニウム化合物、（ｊ）メタロセン化合物、（ｋ）活性エステル化合物、（ｌ）炭素ハロゲン結合を有する化合物及び（ｍ）アルキルアミン化合物等が挙げられる。これらのラジカル重合開始剤は、上記（ａ）〜（ｍ）の化合物を単独又は組み合わせて使用してもよい。本発明におけるラジカル重合開始剤は単独又は２種以上の併用によって好適に用いられる。上記（ａ）〜（ｍ）の化合物として、特開２００８−０１９４０８号公報に記載されたものが挙げられる。中でも本発明においては、（ｂ）アシルホスフィン化合物を好ましく用いることができる。
【００７１】
前記アシルホスフィン化合物（以下、「アシルホスフィン系光重合開始剤」ともいう。）は、ホスフィンのリン原子上の３つの基のうちの少なくとも１つをアシル基（ＲＣＯ−）で置換した化合物をいい、活性放射線の照射により重合開始種を生成する化合物である。活性放射線としては、装置コストや操作上の安全性の観点から、紫外線又は可視光線が好ましい。
【００７２】
本発明において、インク組成物が含有するアシルホスフィン系光重合開始剤としては、公知のアシルホスフィン系光重合開始剤を用いることができる。本発明に用いることができるアシルホスフィン系光重合開始剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７３】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、式（１）に示すモノアシルホスフィンオキサイド化合物及び式（２）に示すビスアシルホスフィンオキサイド化合物を好ましく使用することができる。
【００７４】
【化７】
【００７５】
前記式（１）中のＲ1及びＲ2は、それぞれ独立に脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環基を表し、Ｒ3は、脂肪族基、芳香族基、複素環基を表す。前記Ｒ1とＲ2は結合して５〜９員環を形成してもよい。前記環構造は、環構造中に酸素原子、窒素原子、硫黄原子等を有する複素環であってもよい。
【００７６】
前記Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表される脂肪族基は、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基、又は置換アラルキル基等が挙げられ、中でも、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アラルキル基、又は置換アラルキル基が好ましく、アルキル基、置換アルキル基が特に好ましい。
また、前記脂肪族基は、環状脂肪族基でも鎖状脂肪族基でもよい。また、鎖状脂肪族基は分岐を有していてもよい。
【００７７】
前記アルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基が挙げられ、該アルキル基の炭素原子数としては、１〜３０個が好ましく、１〜２０個がより好ましい。置換アルキル基のアルキル部分の炭素原子数の好ましい範囲については、アルキル基の場合と同様である。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ネオペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。
【００７８】
前記置換アルキル基の置換基としては、−ＣＯＯＨ（カルボキシ基）、−ＳＯ3Ｈ（スルホ基）、−ＣＮ（シアノ基）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、−ＯＨ（ヒドロキシ基）、炭素数３０以下のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数３０以下のアシルアミノスルホニル基、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルチオエチルチオエチル基等）、炭素数３０以下のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、１−ナフトキシ基、２−ナフトキシ基等）、ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数３０以下のアシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、炭素数３０以下のカルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基等）、炭素数３０以下のスルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基等）、炭素数３０以下のアリール基（例えば、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、α−ナフチル基等）、炭素数３０以下の置換アミノ基（例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アシルアミノ基等）、炭素数３０以下の置換ウレイド基、炭素数３０以下の置換ホスホノ基、環員数３０以下の複素環基等が挙げられる。ここで、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基は、塩の状態であってもよい。その際、塩を形成するカチオンは、陽イオンを形成し得る基であり、有機カチオン性化合物、遷移金属配位錯体カチオン（特許２７９１１４３号公報に記載の化合物等）又は金属カチオン（例えば、Ｎａ+、Ｋ+、Ｌｉ+、Ａｇ+、Ｆｅ2+、Ｆｅ3+、Ｃｕ+、Ｃｕ2+、Ｚｎ2+、Ａｌ3+等）が好ましい。
【００７９】
前記アルケニル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルケニル基が挙げられ、該アルケニル基の炭素原子数としては、２〜３０個が好ましく、２〜２０個がより好ましい。また、該アルケニル基は、置換基を有する置換アルケニル基、無置換のアルケニル基のいずれであってもよく、置換アルケニル基のアルケニル部分の炭素原子数の好ましい範囲はアルケニル基の場合と同様である。前記置換アルケニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００８０】
前記アルキニル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルキニル基が挙げられ、該アルキニル基の炭素原子数としては、２〜３０個が好ましく、２〜２０個がより好ましい。また、該アルキニル基は、置換基を有する置換アルキニル基、無置換のアルキニル基のいずれであってもよく、置換アルキニル基のアルキニル部分の炭素原子数の好ましい範囲はアルキニル基の場合と同様である。置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００８１】
前記アラルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルキル側鎖を有するアラルキル基が挙げられ、該アラルキル基の炭素原子数としては、７〜３５個が好ましく、７〜２５個がより好ましい。また、該アラルキル基は、置換基を有する置換アラルキル基、無置換のアラルキル基のいずれであってもよく、置換アラルキル基のアラルキル部分の炭素原子数の好ましい範囲はアラルキル基の場合と同様である。置換アラルキル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。また、アラルキル基のアリール部分が置換基を有していてもよく、該置換基としては前記アルキル基の場合と同様の置換基及び炭素数３０以下の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が例示できる。
【００８２】
前記Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表される芳香族基としては、例えば、アリール基、置換アリール基が挙げられる。アリール基の炭素原子数としては、６〜３０個が好ましく、６〜２０個がより好ましい。置換アリール基のアリール部分の好ましい炭素原子数の範囲としては、アリール基と同様である。前記アリール基としては、例えば、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基等が挙げられる。置換アリール基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基及び炭素数３０以下の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が挙げられる。
【００８３】
前記Ｒ1又はＲ2で表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜３０個のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、フェノキシエトキシ基等が挙げられる。ただし、これらに限定されるものではない。
【００８４】
前記Ｒ1又はＲ2で表されるアリールオキシ基としては、炭素数６〜３０個のアリールオキシ基が好ましく、例えば、フェノキシ基、メチルフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、オクチルオキシフェニルオキシ基等が挙げられる。ただし、これらに限定されるものではない。
【００８５】
前記Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表される複素環基としては、Ｎ、Ｏ又はＳ原子を含む複素環基が好ましく、例えば、ピリジル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピロリル基等が挙げられる。
【００８６】
【化８】
【００８７】
前記式（２）中のＲ4及びＲ6は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、複素環基を表し、Ｒ5は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環基を表す。
前記Ｒ4、Ｒ5又はＲ6で表される、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基及びアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記式（１）における場合と同様の置換基が挙げられる。
前記式（２）におけるアルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基及びアリールオキシ基としては、前記式（１）における場合と同義である。
【００８８】
前記式（１）で表される化合物は式（３）で表される化合物であることがより好ましい。
【００８９】
【化９】
【００９０】
式（３）中、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に、フェニル基、メトキシ基、又は、イソプロポキシ基を表し、Ｒ9は２，４，６−トリメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２−メチルフェニル基（ｏ−トルイル基）、イソブチル基、又は、ｔ−ブチル基を表す。
【００９１】
前記式（２）で表される化合物は、下記式（４）で表される化合物であることが好ましい。
【００９２】
【化１０】
【００９３】
式（４）中、Ｒ10及びＲ12はそれぞれ独立に、２，４，６−トリメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、又は、２，６−ジメトキシフェニル基を表し、Ｒ11はフェニル基、又は、２，４，４−トリメチルペンチル基を表す。
【００９４】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、式（１）に示すモノアシルホスフィンオキサイド化合物及び式（２）に示すビスアシルホスフィンオキサイド化合物を好ましく使用することができる。
【００９５】
前記式（１）で表される化合物は、式（５）で表される化合物であることも好ましい。
【００９６】
【化１１】
【００９７】
前記式（５）中のＲ1及びＲ2はそれぞれ独立に脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環基を表し、式（１）におけるＲ1及びＲ2と同義であり好ましい範囲も同様である。
Ｒ13は二価の連結基を表し、前記二価の連結基としては置換基を有していてもよい炭素数１〜１０個のアルキレン基を表し、炭素数１〜６個のアルキレン基であることがより好ましい。
【００９８】
前記式（１）又は（２）で表されるアシルホスフィンオキサイド化合物としては、例えば、特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報等に記載の化合物を挙げることできる。
具体的なアシルホスフィンオキサイド化合物の例としては、以下に示す化合物（例示化合物（Ｐ−１）〜（Ｐ−２８））が挙げられるが、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００９９】
【化１２】
【０１００】
【化１３】
【０１０１】
【化１４】
【０１０２】
モノアシルホスフィンオキサイド化合物としては、公知のモノアシルホスフィンオキサイド化合物を使用することができる。例えば特公昭６０−８０４７号公報、特公昭６３−４０７９９号公報、特開２００８−０１９４０８号公報に記載のモノアシルホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。
【０１０３】
ビスアシルホスフィンオキサイド化合物としては公知のビスアシルホスフィンオキサイド化合物が使用できる。例えば特開平３−１０１６８６号、特開平５−３４５７９０号、特開平６−２９８８１８号、特開２００８−０１９４０８号公報に記載のビスアシルホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。
【０１０４】
本発明に用いるアシルホスフィン系光重合開始剤としては、インク組成物に対する溶解性に優れることから、式（１）に示すモノアシルホスフィンオキサイド化合物であることが好ましく、具体的には、Ｐ−１、Ｐ−２（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド（ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ：ＢＡＳＦ社製））等であることがより好ましい。
【０１０５】
インク組成物は、光重合開始剤をインク組成物中に０．０１〜３０重量％含むものが好ましく、１〜１５重量％含むものがより好ましい。
【０１０６】
また、インク組成物に増感剤を用いる場合、光重合開始剤の総使用量は、それぞれ、増感剤に対して、光重合開始剤：増感剤の重量比で、好ましくは２００：１〜１：２００、より好ましくは５０：１〜１：５０、さらに好ましくは２０：１〜１：５の範囲である。
【０１０７】
（Ｃ）重合性化合物
本発明のインク組成物は（Ｃ）重合性化合物を含む。前記（Ｃ）重合性化合物としては、カチオン重合性化合物又はラジカル重合性化合物を好ましく例示できる。
【０１０８】
＜カチオン重合性化合物＞
本発明に用いることができるカチオン重合性化合物としては、オキシラン環（「エポキシ環」ともいう。）を有する化合物（「オキシラン化合物」又は「エポキシ化合物」ともいう。）、オキセタン環を有する化合物（「オキセタン化合物」ともいう。）、ビニルエーテル化合物等の公知のカチオン重合化合物を特に制限はなく用いることができる。
【０１０９】
本発明に用いることができるカチオン重合性化合物としては、カチオン重合開始剤から発生するカチオン重合開始種により重合反応を開始し、硬化する化合物であれば特に制限はなく、光カチオン重合性モノマーとして知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。カチオン重合性モノマーとしては、例えば、特開平６−９７１４号、特開２００１−３１８９２号、同２００１−４００６８号、同２００１−５５５０７号、同２００１−３１０９３８号、同２００１−３１０９３７号、同２００１−２２０５２６号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。また、カチオン重合性化合物としては、例えば、カチオン重合系の光硬化性樹脂が知られており、４００ｎｍ以上の可視光波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化性樹脂も、例えば特開平６−４３６３３号、特開平８−３２４１３７号の各公報等に公開されている。
【０１１０】
エポキシ化合物としては、芳香族エポキシド、脂環式エポキシド、脂肪族エポキシドなどが挙げられる。芳香族エポキシドとしては、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノール又はそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロロヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテルが挙げられる。
例えば、ビスフェノールＡ又はそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ又はそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル及びノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
【０１１１】
脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセン環又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく挙げられる。
脂肪族エポキシドとしては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加体のジもしくはポリグリシジルエーテル等が挙げられる。その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルもしくは１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルに代表されるポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
【０１１２】
本発明に用いることのできる単官能及び多官能のエポキシ化合物を詳しく例示する。
単官能エポキシ化合物の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。
【０１１３】
また、多官能エポキシ化合物の例としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、１，１３−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、１，２，５，６−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。
【０１１４】
これらのエポキシ化合物の中でも、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが、硬化速度に優れるという観点から好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。
【０１１５】
ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
【０１１６】
以下に、単官能ビニルエーテルと多官能ビニルエーテルを詳しく例示する。
単官能ビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。
【０１１７】
また、多官能ビニルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジビニルエーテルなどのジビニルエーテル類；トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、ジ又はトリビニルエーテル化合物が、硬化性、被記録媒体との密着性、形成された画像の表面硬度などの観点から好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。
【０１１８】
本発明に使用できるオキセタン化合物は、少なくとも１つのオキセタン環を有する化合物を指し、特開２００１−２２０５２６号、同２００１−３１０９３７号、同２００３−３４１２１７号の各公報に記載されているような公知のオキセタン化合物を任意に選択して使用できる。
本発明のインク組成物に用いることができるオキセタン環を有する化合物としては、その構造内にオキセタン環を１〜４個有する化合物が好ましい。このような化合物を使用することで、インク組成物の粘度をハンドリング性の良好な範囲に維持することが容易となり、また、硬化後のインク組成物の被記録媒体との高い密着性を得ることができる。
【０１１９】
分子内に１〜２個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式（１）〜（３）で表される化合物が挙げられる。
【０１２０】
【化１５】
【０１２１】
Ｒa1は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基又はチエニル基を表す。分子内に２つのＲa1が存在する場合、それらは同じであっても異なるものであってもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、フルオロアルキル基としては、これらアルキル基の水素のいずれかがフッ素原子で置換されたものが好ましく挙げられる。
Ｒa2は、水素原子、炭素数１〜６個のアルキル基、炭素数２〜６個のアルケニル基、芳香環を有する基、炭素数２〜６個のアルキルカルボニル基、炭素数２〜６個のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜６個のＮ−アルキルカルバモイル基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アルケニル基としては、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等が挙げられる。芳香環を有する基としては、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基としては、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等が挙げられる。アルキコキシカルボニル基としては、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。Ｎ−アルキルカルバモイル基としては、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等が挙げられる。また、Ｒa2は置換基を有していてもよく、置換基としては、１〜６のアルキル基、フッ素原子が挙げられる。
【０１２２】
Ｒa3は、線状又は分枝状アルキレン基、線状又は分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基、線状又は分枝状不飽和炭化水素基、カルボニル基又はカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシ基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基、又は、以下に示す基を表す。アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられ、ポリ（アルキレンオキシ）基としては、ポリ（エチレンオキシ）基、ポリ（プロピレンオキシ）基等が挙げられる。不飽和炭化水素基としては、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等が挙げられる。
【０１２３】
【化１６】
【０１２４】
Ｒa3が上記多価基である場合、Ｒa4は、水素原子、炭素数１〜４個のアルキル基、炭素数１〜４個のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシ基、カルボキシ基、又はカルバモイル基を表す。
Ｒa5は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ2、Ｃ（ＣＦ3）2、又は、Ｃ（ＣＨ3）2を表す。
Ｒa6は、炭素数１〜４個のアルキル基、又は、アリール基を表し、ｎは０〜２，０００の整数である。Ｒa7は炭素数１〜４個のアルキル基、アリール基、又は、下記構造を有する１価の基を表す。下記式中、Ｒa8は炭素数１〜４個のアルキル基、又はアリール基であり、ｍは０〜１００の整数である。
【０１２５】
【化１７】
【０１２６】
式（１）で表される化合物として、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−１０１：東亞合成（株）製）、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン（ＯＸＴ−２１２：東亞合成（株）製）、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−２１１：東亞合成（株）製）が挙げられる。式（２）で表される化合物としては、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン（ＯＸＴ−１２１：東亞合成（株）製）が挙げられる。また、式（３）で表される化合物としては、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル（ＯＸＴ−２２１：東亞合成（株）製）が挙げられる。
【０１２７】
分子内に３〜４個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式（４）で示される化合物が挙げられる。
【０１２８】
【化１８】
【０１２９】
式（４）において、Ｒa1は、前記式（１）におけるＲa1と同義である。また、多価連結基であるＲa9としては、例えば、下記Ａ〜Ｃで示される基等の炭素数１〜１２の分枝状アルキレン基、下記Ｄで示される基等の分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基又は下記Ｅで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。ｊは、３又は４である。
【０１３０】
【化１９】
【０１３１】
上記Ａにおいて、Ｒa10はメチル基、エチル基又はプロピル基を表す。また、上記Ｄにおいて、ｐは１〜１０の整数である。
【０１３２】
また、本発明に好適に用いることのできるオキセタン化合物の別の態様として、側鎖にオキセタン環を有する下記式（５）で示される化合物が挙げられる。
【０１３３】
【化２０】
【０１３４】
式（５）において、Ｒa1及びＲa8は前記式におけるのと同義である。Ｒa11はメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、ｒは１〜４である。
【０１３５】
このようなオキセタン環を有する化合物については、前記特開２００３−３４１２１７号公報の段落００２１〜００８４に詳細に記載され、ここに記載の化合物は本発明にも好適に用いることができる。
特開２００４−９１５５６号公報に記載されたオキセタン化合物も本発明に使用することができる。特開２００４−９１５５６号公報の段落００２２〜００５８に詳細に記載されている。
本発明で使用するオキセタン化合物の中でも、インク組成物の粘度と粘着性の観点から、オキセタン環を１個有する化合物を使用することが好ましい。
【０１３６】
前記カチオン重合性化合物は、オキシラン化合物及びオキセタン化合物を含有していることが好ましく、多官能オキシラン化合物及び多官能オキセタン化合物を含有していることがより好ましい。
また、前記カチオン重合性化合物は、オキシラン化合物、オキセタン化合物及び／又はビニルエーテル化合物のみからなることが好ましい。
【０１３７】
インク組成物中のカチオン重合性化合物の含有量は、インク組成物の全固形分に対し、１０〜９５重量％が好ましく、３０〜９０重量％がより好ましく、５０〜８５重量％がさらに好ましい。
【０１３８】
＜ラジカル重合性化合物＞
ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は目的とする特性を向上するために任意の比率で１種が含まれていてもよく、２種以上が含まれていてもよい。
【０１３９】
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、Ｎ−ビニルラクタム類、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸、それらのエステル及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン（メタ）アクリル系モノマー又はプレポリマー、エポキシ系モノマー又はプレポリマー、ウレタン系モノマー又はプレポリマー等の（メタ）アクリル酸エステルが好ましく用いられる。ここで、「（メタ）アクリレート」等の記載は、「メタクリレート及び／又はアクリレート」等を表す省略的表記である。
【０１４０】
本発明のインク組成物は、Ｎ−ビニルラクタム類を含有するものが好ましい。
本発明に用いることができるＮ−ビニルラクタム類の好ましい例として、下記式（Ａ−１）で表される化合物が挙げられる。
【０１４１】
【化２１】
【０１４２】
式（Ａ−１）中、ｎは１〜５の整数を表し、インク組成物が硬化した後の柔軟性、被記録媒体との密着性及び原材料の入手性の観点から、ｎは２〜４の整数であることが好ましく、ｎが２又は４であることがより好ましく、ｎが４である、すなわちＮ−ビニルカプロラクタムであることが特に好ましい。Ｎ−ビニルカプロラクタムは安全性に優れ、汎用的で比較的安価に入手でき、特に良好なインク硬化性及び硬化膜の被記録媒体への密着性が得られるので好ましい。また、上記Ｎ−ビニルラクタム類は、ラクタム環上にアルキル基、アリール基等の置換基を有していてもよく、飽和又は不飽和環構造を連結していてもよい。
【０１４３】
本発明のインク組成物は、Ｎ−ビニルラクタム類をインク全体の５重量％以上含有することが好ましく、５〜４０重量％含有することがより好ましく、８〜２０重量％以上含有することがさらに好ましい。Ｎ−ビニルラクタム類の使用量が上記範囲であると、硬化性、硬化膜柔軟性、硬化膜の基材密着性に優れる。また、Ｎ−ビニルラクタム類は比較的融点が高い化合物である。Ｎ−ビニルラクタム類が４０重量％以下の含有率であると、０℃以下の低温下でも良好な溶解性を示し、インク組成物の取り扱い可能温度範囲が広くなり好ましい。上記Ｎ−ビニルラクタム類はインク組成物中に１種のみ含有されていてもよく、複数種含有されていてもよい。
【０１４４】
本発明のインク組成物は、式（Ｉ）で表される化合物又は式（ＩＩ）で表される化合物を含有するものが好ましい。
【０１４５】
【化２２】
【０１４６】
前記式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーは、付加重合性モノマーであることが好ましく、ラジカル重合性モノマーであることがより好ましい。
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＲ1は、水素原子、ハロゲン原子、又は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、原材料入手の容易性の観点から、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましい。また、ｋ個存在するＲ1はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【０１４７】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＸ1は二価の連結基を表し、エーテル基（−Ｏ−）、エステル基（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−もしくは−ＯＣ（Ｏ）−）、アミド基（−Ｃ（Ｏ）ＮＲ’−）、カルボニル基（−Ｃ（Ｏ）−）、窒素原子（−ＮＲ’−）、置換基を有していてもよい炭素数１〜１５のアルキレン基、又は、これらを２以上組み合わせた二価の基であることが好ましい。なお、Ｒ’は水素原子、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状アルキル基、又は、炭素数６〜２０のアリール基を表す。ｋ個存在するＸ1はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【０１４８】
また、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＸ1のビニル基と結合する端部は、Ｘ1のカルボニル炭素とビニル基とが結合するエステル基又はアミド基であることが好ましく、その場合、アダマンタン骨格もしくはノルボルナン骨格と結合するＸ1の他の部分は、単結合であっても、前記の基から任意に選択したものであってもよい。
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＲ1及びＸ1を含むビニル部分（Ｈ2Ｃ＝Ｃ（Ｒ1）−Ｘ1−）の置換数ｋは１〜６の整数を表す。Ｒ1及びＸ1を含むビニル部分は、各脂環式炭化水素構造上の任意の位置で結合することができる。なお、「各脂環式炭化水素構造上」とは、式（Ｉ）におけるアダマンタン構造上、式（ＩＩ）におけるノルボルナン構造上及びｎを含む環状炭化水素構造上を指す。
また、顔料との親和性を向上させるという観点から、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＸ1の脂環式炭化水素構造と結合する端部は、酸素原子であることが好ましく、エーテル性酸素原子であることがより好ましく、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＸ1は−Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）p−（ｐは１又は２を表す。）であることがさらに好ましい。
【０１４９】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＲ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し、各脂環式炭化水素構造上の任意の位置で結合することができる。また、ｑ個存在するＲ2及びｒ個存在するＲ3はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
ｑ個存在するＲ2及びｒ個存在するＲ3は、それぞれ独立に一価又は多価の置換基であってもよく、一価の置換基として水素原子、ヒドロキシ基、置換もしくは無置換のアミノ基、チオール基、シロキサン基、さらに置換基を有していてもよい総炭素数３０以下の炭化水素基もしくは複素環基、又は、二価の置換基としてオキシ基（＝Ｏ）であることが好ましい。
Ｒ2の置換数ｑは０〜５の整数を表し、また、Ｒ3の置換数ｒは０〜５の整数を表す。
【０１５０】
式（ＩＩ）におけるｎは、環状炭化水素構造を表し、その両端はノルボルナン骨格の任意の位置で置換していてもよく、単環構造であっても、多環構造であってもよく、また、前記環状炭化水素構造として炭化水素結合以外に、カルボニル結合（−Ｃ（Ｏ）−）及び／又はエステル結合（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−）を含んでいてもよい。
また、式（Ｉ）におけるアダマンタン骨格中の一炭素原子をカルボニル結合（−Ｃ（Ｏ）−）及び／又はエステル結合（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−）で置換してもよく、式（ＩＩ）におけるノルボルナン骨格中の一炭素原子をエーテル結合（−Ｏ−）及び／又はエステル結合（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−）で置換してもよい。
【０１５１】
前記式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとしては、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）で表されるモノマーであることが好ましい。
【０１５２】
【化２３】
【０１５３】
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）及び式（Ｖ）中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｘ1は二価の連結基を表し、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に置換基を表し、ｋは１〜６の整数を表し、ｓ、ｔ及びｕはそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、また、ｓ個存在するＲ4、ｔ個存在するＲ5及びｕ個存在するＲ6はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【０１５４】
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）におけるＲ1、Ｘ1及びｋは、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＲ1、Ｘ1及びｋと同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）におけるＲ1及びＸ1を含むビニル部分は、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）における下記に示す各脂環式炭化水素構造上の任意の位置で結合することができる。
【０１５５】
【化２４】
【０１５６】
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）におけるＲ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に置換基を表し、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）における上記各脂環式炭化水素構造上の任意の位置で結合することができる。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6における置換基は、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）のＲ2及びＲ3における置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）におけるｓ、ｔ及びｕはそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、また、ｓ個存在するＲ4、ｔ個存在するＲ5及びｕ個存在するＲ6はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【０１５７】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、単官能アクリレートの好ましい具体例を以下に示す。
なお、下記例示化合物の一部において、炭化水素鎖を炭素（Ｃ）及び水素（Ｈ）の記号を省略した簡略構造式で記載する。
【０１５８】
【化２５】
【０１５９】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、単官能メタクリレートの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６０】
【化２６】
【０１６１】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、単官能アクリルアミドの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６２】
【化２７】
【０１６３】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、単官能ビニルエーテルの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６４】
【化２８】
【０１６５】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表される多官能アクリレートの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６６】
【化２９】
【０１６７】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表される多官能メタクリレートの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６８】
【化３０】
【０１６９】
これら単官能モノマー及び多官能モノマーの中でも、本発明のインク組成物における（Ｂ）式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、Ｍ−１、Ｍ−１０、Ｍ−１１、Ｍ−１２、Ｍ−１３、Ｍ−１６、又は、Ｍ−３５を用いることが特に好ましい。
【０１７０】
上記のラジカル重合性化合物の他、下記のラジカル重合性化合物もまた、使用することができる。
具体的には、（ポリ）エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコール（メタ）アクリレートメチルエステル、（ポリ）エチレングリコール（メタ）アクリレートエチルエステル、（ポリ）エチレングリコール（メタ）アクリレートフェニルエステル、（ポリ）プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートフェニルエステル、（ポリ）プロピレングリコール（メタ）アクリレートメチルエステル、（ポリ）プロピレングリコール（メタ）アクリレートエチルエステル、（ポリ）プロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのＰＯ（プロピレンオキシド）付加物ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ（エチレンオキシド）付加物ジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、ＰＯ変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＰＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＰＯ変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ＰＯ変性テトラメチロールメタンテトラアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−ノニルアクリレート、ｎ−デシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ｎ−ラウリルアクリレート、ｎ−トリデシルアクリレート、ｎ−セチルアクリレート、ｎ−ステアリルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、イソアミルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−ノニルメタクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、ｎ−ラウリルメタクリレート、ｎ−トリデシルメタクリレート、ｎ−セチルメタクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、２−エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−アクリロイロキシエチルフタル酸、ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、変性グリセリントリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、変性ビスフェノールＡジアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ラクトン変性可撓性アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマーが挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編「架橋剤ハンドブック」（１９８１年、大成社）；加藤清視編「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」７９頁（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著「ポリエステル樹脂ハンドブック」（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性又は架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。
【０１７１】
本発明のインク組成物中の（Ｂ）式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーは、インク組成物の総量に対し、１０〜５０重量％であることが好ましく、１５〜４０重量％であることがより好ましく、２０〜３０重量％であることがさらに好ましい。上記範囲内であると、硬化性に優れ、また、粘度が適度であるため好ましい。
【０１７２】
（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤
本発明のインク組成物は、（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含有する。
前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤は、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンである。
酸基としては、特に限定されないが好ましくは−ＣＯＯＨ、−ＰＯ（ＯＨ）2等が挙げられる。前記酸基は直接ポリオルガノシロキサンに結合していてもよいが、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキレン基、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキレンオキシ基及びこれらを組み合わせた連結基を介してポリオルガノシロキサンに結合していてもよい。
非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基としては、非共有電子対を有する窒素原子を含む基が好ましい。非共有電子対を有する窒素原子を含む基としては、窒素原子を環に含む環員数３〜８の複素環基、−ＮＲ2（Ｒは水素原子もしくは炭素数１〜５のアルキル基、−ＮＲ2）及びこれらを組み合わせた基が挙げられる。非共有電子対を有する窒素原子又は硫黄原子を含む基は、ポリオルガノシロキサンに直接結合していてもよいが、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキレン基、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキレンオキシ基及びこれらを組み合わせた連結基を介してポリオルガノシロキサンに結合していてもよい。
以下、本発明に好ましく用いられる酸基の具体例を（Ｄ−１）群に、非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基の具体例を（Ｄ−２）群に示す。構造式中、波線部はポリオルガノシロキサンとの結合位置を表す。なお、（Ｄ−１）群及び（Ｄ−２）群中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。
【０１７３】
【化３１】
【０１７４】
（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤は、式（Ｄ−３）に示すポリオルガノシロキサンであることが好ましい。
【０１７５】
【化３２】
【０１７６】
式（Ｄ−３）中、Ｒaのうち少なくとも１つは前記吸着基を表し、その他のＲaはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキル基を表し、ｎaは、２〜５０の整数を表す。
Ｒaが吸着基でない場合には、メチル基又はエチル基であることが好ましい。
ポリオルガノシロキサン１分子あたりの吸着基数は１〜５個が好ましく、１〜３個がより好ましく、１個がさらに好ましい。なお、ポリオルガノシロキサン１分子あたりに吸着基を２個以上有する場合には、吸着基は同一でも異なっていてもよい。
【０１７７】
シロキサン系顔料分散剤は、例えば前記（Ｄ−１）群及び（Ｄ−２）群よりなる群から選ばれた吸着基を有することが好ましく、かかる吸着基に含まれる非共有電子対が（Ａ）顔料表面に容易に配位結合することにより吸着する。さらに、式（Ｄ−３）で表されるポリオルガノシロキサンを含むことでシロキサン系顔料分散剤が吸着した（Ａ）顔料と（Ｃ）重合性化合物との親和性が大きくなる。
【０１７８】
さらに具体的には、前記シロキサン系顔料分散剤は、式（Ｄ−５）〜式（Ｄ−２７）で表されるシロキサン系顔料分散剤よりなる群から選ばれた少なくとも１種であることが好ましい。
【０１７９】
【化３３】
【０１８０】
【化３４】
【０１８１】
【化３５】
【０１８２】
【化３６】
【０１８３】
【化３７】
【０１８４】
【化３８】
【０１８５】
前記式（Ｄ−５）〜式（Ｄ−２７）中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表し、ｎは２〜３０の整数を表し、ｘ及びｙはそれぞれ独立に２〜２０の整数を表す。
【０１８６】
前記（Ｄ−２）群、式（Ｄ−６）〜式（Ｄ−１１）、式（Ｄ−１７）〜式（Ｄ−２０）、式（Ｄ−２２）〜式（Ｄ−２４）及び式（Ｄ−２７）中、Ｒの具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びイソブチル基などが挙げられる。
【０１８７】
本発明のインク組成物は、前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤をインク組成物中に１重量％以上含むものが好ましく、１〜１０重量％含むものがより好ましく、１〜６重量％含むものがさらに好ましい。
【０１８８】
上記顔料分散剤の他に、本発明のインク組成物は、顔料をインク組成物中に安定に分散させるため、その他の分散剤を含有してもよい。
本発明に用いることができるその他の分散剤としては、高分子分散剤が好ましい。なお、本発明における「高分子分散剤」とは、重量平均分子量が１，０００以上の分散剤を意味する。
【０１８９】
高分子分散剤としては、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８２（ＢＹＫケミー社製）、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ５０１０、ＥＦＫＡ５２０７、ＥＦＫＡ５２４４、ＥＦＫＡ６７４５、ＥＦＫＡ６７５０、ＥＦＫＡ７４１４、ＥＦＫＡ７４５、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ７５００、ＥＦＫＡ７５７０、ＥＦＫＡ７５７５、ＥＦＫＡ７５８０（エフカアディティブズ社製）、ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００（サンノプコ（株）製）等の高分子分散剤；ソルスパース（Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ）３０００，５０００，９０００，１２０００，１３２４０，１３９４０，１７０００，２２０００，２４０００，２６０００，２８０００，３２０００，３６０００，３９０００，４１０００，７１０００などの各種ソルスパース分散剤（アビシア社製）；アデカプルロニックＬ３１，Ｆ３８，Ｌ４２，Ｌ４４，Ｌ６１，Ｌ６４，Ｆ６８，Ｌ７２，Ｐ９５，Ｆ７７，Ｐ８４，Ｆ８７、Ｐ９４，Ｌ１０１，Ｐ１０３，Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１２３（旭電化（株）製）及びイソネットＳ−２０（三洋化成工業（株）製）、楠本化成（株）製「ディスパロン ＫＳ−８６０，８７３ＳＮ，８７４（高分子分散剤）、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル型）」が挙げられる。
インク組成物中における分散剤の含有量は、使用目的により適宜選択されるが、インク組成物全体の重量に対し、それぞれ１５重量％以下であることが好ましい。
【０１９０】
本発明において、（Ａ）顔料に対するその他の分散剤の重量比は、インク組成物中における顔料の重量をＡと、インク組成物中におけるその他の分散剤の重量Ｄ’とした場合、その重量比（Ｄ’／Ａ）が、０．０１≦Ｄ’／Ａ≦５であることが好ましく、０．０５≦Ｄ’／Ａ≦２．５であることがより好ましく、０．１≦Ｄ’／Ａ≦１であることがさらに好ましい。上記範囲であると、経時保存後の顔料の凝集・沈降、インク組成物の粘度上昇が生じず、インク組成物が経時保存安定性に優れ、また、インク組成物の粘度が低粘度であり、インク組成物が吐出安定性に優れる。
【０１９１】
（Ｅ）アミン化合物
本発明のインク組成物は、重合禁止剤を含有していてもよい。重合禁止剤を添加することにより、保存安定性に優れたインク組成物を提供することができる。
本発明のインク組成物がカチオン重合性インク組成物の場合には重合禁止剤として（Ｅ）アミン化合物を好ましく用いることができる。
【０１９２】
＜アミン化合物＞
本発明に用いることのできるアミン化合物としては、従来公知のアミン化合物であれば特に制限なく使用することができる。
また、アミン化合物は、分子内に１個のアミン部位を有する化合物であっても、分子内に２個以上のアミン部位を有する化合物であってもよく、また、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
【０１９３】
本発明に用いることのできるアミン化合物は、安全性の観点から、標準大気圧において沸点が１２０℃以上であることが好ましく、１５０℃以上であることがより好ましく、１８０℃以上であることがさらに好ましい。
アミン化合物の分子量は、１００〜１，０００の範囲であることが好ましく、１５０〜８００の範囲であることがより好ましく、２００〜６００の範囲であることがさらに好ましい。
【０１９４】
また、本発明に用いることのできるアミン化合物は、一級、二級及び三級のアミン化合物のいずれでもよいが、重合性化合物との副反応や変色反応の抑制の観点から、三級のアミン化合物を使用することが好ましい。また、脂肪族アミン化合物であっても芳香族アミン化合物であってもよいが、酸の捕捉能の観点から、脂肪族アミン化合物であることが好ましい。
したがって、本発明において好適に使用できるアミン化合物は、標準大気圧下で１８０℃以上の沸点を有し、分子量が２００〜６００の範囲にある脂肪族の三級アミン化合物である。
【０１９５】
本発明に用いることができるアミン化合物としては、ヒンダードアミン化合物が特に好ましく例示でき、分子内に求核部位を持たないヒンダードアミン化合物が最も好ましく例示できる。
【０１９６】
分子内に求核部位を持たないヒンダードアミン化合物（以下、「特定構造を有するヒンダードアミン化合物」ともいう。）は、立体障害の大きい塩基性窒素原子を除き、他の求核性部位を持たないことを特徴とする。ここで他の求核性部位とは、エステル基、エーテル基、水酸基、アミノ基、チオール基、チオカルボニル基、チオエステル基等の非共有電子対による求核性をもつ官能基を意味する。これら求核性部位は、カチオン重合反応時の生長カチオン末端と反応し、生長反応を阻害すると考えられ、感度低下を引き起こし易い。特定構造を有するヒンダードアミン化合物を使用することで、カチオン重合の生長反応を阻害することなく、暗反応により微量に発生する酸をトラップすることができるため、高感度を維持しながら、安定性を改善することができる。
【０１９７】
特定構造を有するヒンダードアミン化合物は、カチオン重合反応時の生長カチオン末端との反応による生長反応の阻害を抑制するために、塩基性窒素原子の周りに立体的に嵩高い置換基を有する。この立体的に嵩高い置換基による立体反発により、塩基性窒素原子と生長カチオン末端との反応が抑制され、高感度を維持しながら、安定性を改善することができる。
【０１９８】
本発明における特定構造を有するヒンダードアミン化合物は、暗反応よって発生する微量の酸をトラップするため、安定性を改善することができる。また、通常露光により硬化する際には、塩基性窒素原子の周りの立体的に嵩高い置換基による立体反発により、塩基性窒素原子と生長カチオン末端との反応を抑制し、カチオン重合反応の進行を阻害することがなく、高感度を維持することができると考えられる。
【０１９９】
特定構造を有するヒンダードアミン化合物は、分子内に塩基性窒素原子以外の求核部位を持たないものであり、好ましくは炭素原子、水素原子及び窒素原子のみからなる化合物である。該特定構造を有するヒンダードアミン化合物は、下記式Ｉ〜ＶＩＩのいずれかにより表される化合物であることがより好ましい。
【０２００】
【化３９】
【０２０１】
Ｒ1は、炭素数３〜８の分岐アルキル基、炭素数３〜１０の環状アルキル基又は炭素数７〜２０のアラルキル基を表し、Ｒ2は炭素数１〜４の直鎖アルキル基、炭素数３〜６の分岐アルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。Ｒ3は、水素原子、炭素数１〜２０の直鎖アルキル基、炭素数３〜６の分岐アルキル基、炭素数３〜１０の環状アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基又は炭素数２〜２０のアルケニル基を表す。ここで１分子中に複数存在するＲ1及びＲ2は、同じでも互いに異なっていてもよく、それぞれが互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｚは炭化水素からなる二価の有機基を表す。ｎ及びｍは１〜３の整数を表す。
【０２０２】
Ｒ1で表される炭素数３〜８の分岐アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基又は２−メチル−２−エチルプロピル基などが挙げられ、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基がより好ましい。
Ｒ1で表される炭素数３〜１０の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基などが挙げられ、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基がより好ましい。
Ｒ1で表される炭素数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α−エチルベンジル基、フェネチル基、α−メチルフェネチル基、β−メチルフェネチル基、α，α−ジメチルベンジル基、α，α−ジメチルフェネチル基、４−メチルフェネチル基、４−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、２−メチルベンジル基、４−エチルベンジル基、２−エチルベンジル基、４−イソプロピルベンジル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、４−ｔｅｒｔ−ペンチルベンジル基、４−シクロヘキシルベンジル基、４−ｎ−オクチルベンジル基、４−ｔｅｒｔ−オクチルベンジル基、４−アリルベンジル基、４−ベンジルベンジル基、４−フェネチルベンジル基、４−フェニルベンジル基、４−（４’−メチルフェニル）ベンジル基、２−フルフリル基、ジフェニルメチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基などの置換又は未置換のアラルキル基、等が挙げられ、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α−エチルベンジル基、フェネチル基、α−メチルフェネチル基がより好ましい。
【０２０３】
Ｒ2で表される炭素数１〜４の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、プロピル基が挙げられる。
Ｒ2で表される炭素数３〜６の分岐アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基又は２−メチル−２−エチルプロピル基などが挙げられ、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基がより好ましい。
Ｒ2で表される炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、４−エチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【０２０４】
Ｒ3で表される炭素数１〜２０の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、等が挙げられ、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基がより好ましい。
Ｒ3で表される炭素数２〜２０の直鎖アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチルアリル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−メチルアリル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−ヘキセニル基等が挙げられ、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、がより好ましい。
Ｒ3で表される炭素数３〜６の分岐アルキル基、炭素数３〜１０の環状アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及び炭素数７〜２０のアラルキル基は、それぞれＲ1又はＲ2で表されるものとして上述した置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０２０５】
炭化水素からなる二価の有機基としては、炭素数１〜３０の二価の有機基を示す。この場合の二価の有機基には、脂肪族基及び芳香族基が包含される。また、脂肪族基には、鎖状又は環状の飽和もしくは不飽和の二価脂肪族炭化水素基が包含され、その炭素数は１〜３０、好ましくは２〜２２である。不飽和脂肪族基には、二重結合や三重結合を持ったものが包含される。二価の芳香族基には、１つのベンゼン環を有する単環芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシレン等）から誘導される二価炭化水素基及び２つ以上、通常２〜４個のベンゼン環を有する多環芳香族炭化水素（ナフタレン、ビフェニル、ターフェニル等）から誘導される二価炭化水素基が包含される。
【０２０６】
上述した各基は、置換基を導入可能な場合には、炭化水素からなる置換基を有してもよい。
【０２０７】
以下に、本発明に好適に用いる特定構造を有するヒンダードアミン化合物として、具体的には以下の化合物〔（Ａ−１）〜（Ａ−５０）〕が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２０８】
【化４０】
【０２０９】
【化４１】
【０２１０】
【化４２】
【０２１１】
【化４３】
【０２１２】
【化４４】
【０２１３】
【化４５】
【０２１４】
上述した化合物（又は式Ｉ〜ＶＩＩ）の中でも、インクジェット吐出性と硬化速度の観点から、式ＩＶ、ＶＩ又はＶＩＩで表される化合物が好ましく、式ＶＩ又はＶＩＩで表される化合物がより好ましく、Ａ−２４〜Ａ−３０がさらに好ましく、Ａ−２６が特に好ましい。
【０２１５】
本発明において、アミン化合物（好ましくは、特定構造を有するヒンダードアミン化合物）の添加量は、顔料分散物の全量に対し、１〜３０重量％が好ましく、３〜２０重量％がより好ましく、５〜１５重量％がさらに好ましい。上記範囲であると、感度に優れ、高画質な印刷物を得ることが可能なインク組成物を得ることができる。
また、アミン化合物の添加量は、インク組成物の全量に対し、０．０５〜２０重量％が好ましく、０．１〜１５重量％がより好ましく、０．５〜１０重量％がさらに好ましい。
本発明において、アミン化合物を１種のみ添加してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０２１６】
本発明のインク組成物は、保存時の所望されないラジカル重合を抑制するためにラジカル重合禁止剤を含有していてもよい。ラジカル重合禁止剤としては、フェノール系水酸基含有化合物類、キノン類、Ｎ−オキシド化合物類、ピペリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類、ピロリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類及びカチオン染料類からなる群より選択される化合物が挙げられる。
【０２１７】
ラジカル重合禁止剤の具体例としては、ハロイドキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、レゾルシノール、カテコール、ｔ−ブチルカテコール、ハイドロキノン、ベンゾキノン、４，４−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン及びその誘導体、ジ−ｔ−ブチルニトロキシド、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシド及びその誘導体等、ピペリジン１−オキシルフリーラジカル、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−アセトアミド−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−マレイミド−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−ホスホノキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、３−カルボキシ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジン１−オキシルフリーラジカル、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩、クリスタルバイオレット、メチルバイオレット、エチルバイオレット及びビクトリアピュアブルーＢＯＨ等が挙げられる。
【０２１８】
ラジカル重合禁止剤のインク組成物に対する含有量は０．０００１〜１重量％が好ましく、０．００１〜０．５重量％がより好ましく、０．００１〜０．３重量％がさらに好ましい。上記の数値の範囲内であると、インク組成物の調製時の重合を抑制でき、インクジェットノズルの詰まりを防止できるため好ましい。
【０２１９】
（Ｆ）その他の成分
本発明のインク組成物には、必要に応じて、前記成分以外の（Ｆ）その他の成分を添加することができる。
その他の成分としては、例えば、特開２００８−０１９４０８号公報に記載の増感剤、共増感剤（強増感剤）、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、褪色防止剤、導電性塩類、溶剤、高分子化合物、塩基性化合物等が挙げられる。
【０２２０】
〔インク物性〕
本発明においては、吐出性を考慮し、インク組成物の２５℃における粘度が４０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、５〜４０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、７〜３５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。
また、吐出温度（好ましくは２５〜８０℃、より好ましくは２５〜５０℃）における粘度が、３〜１５ｍＰａ・ｓであることが好ましく、３〜１３ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。本発明のインク組成物は、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。室温での粘度を高く設定することにより、多孔質な被記録媒体を用いた場合でも、被記録媒体中へのインク組成物の浸透を回避し、未硬化モノマーの低減が可能となる。さらにインク組成物の液滴着弾時におけるインクの滲みを抑えることができ、その結果として画質が改善されるので好ましい。
【０２２１】
本発明のインク組成物の２５℃における表面張力は、２０〜３５ｍＮ／ｍであることが好ましく、２３〜３３ｍＮ／ｍであることがより好ましい。ポリオレフィン、ＰＥＴ、コート紙、非コート紙など様々な被記録媒体へ記録する場合、滲み及び浸透の観点から、２０ｍＮ／ｍ以上が好ましく、濡れ性の点では、３５ｍＮ／ｍ以下が好ましい。
【０２２２】
（２）インクジェット記録方法、インクジェット記録装置及び印刷物
本発明のインク組成物は、インクジェット記録用として好適に使用される。
本発明のインクジェット記録方法は、本発明のインク組成物をインクジェット記録用として被記録媒体（支持体、記録材料等）上に吐出し、被記録媒体上に吐出されたインク組成物に活性放射線を照射し、インク組成物を硬化して画像を形成する方法である。
【０２２３】
より具体的には、本発明のインクジェット記録方法は、（ａ1）被記録媒体上に、本発明のインク組成物を吐出する工程及び（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、該インク組成物を硬化する工程、を含むことを特徴とする。
本発明のインクジェット記録方法は、上記（ａ1）及び（ｂ1）工程を含むことにより、被記録媒体上において硬化したインク組成物により画像が形成される。
また、本発明の印刷物は、本発明のインク組成物を使用して得られた印刷物であり、本発明のインクジェット記録方法によって記録された印刷物であることが好ましい。
前記吐出は、圧電素子の変形によりインク組成物を吐出するインクジェットヘッドを用いて行われることが好ましい。
また、前記吐出は、１〜１０ｐｌの液滴量、かつ１，２００×１，２００〜４，８００×４，８００ｄｐｉで行われることが好ましい。
【０２２４】
本発明のインクジェット記録方法における（ａ1）工程には、以下に詳述するインクジェット記録装置が用いることができる。
【０２２５】
〔インクジェット記録装置〕
本発明のインクジェット記録方法に用いられるインクジェット記録装置としては、特に制限はなく、目的とする解像度を達成することができる公知のインクジェット記録装置を任意に選択して使用することができる。すなわち、市販品を含む公知のインクジェット記録装置であれば、いずれも、本発明のインクジェット記録方法の（ａ1）工程における被記録媒体へのインク組成物の吐出を実施することができる。
本発明で用いることのできるインクジェット記録装置としては、例えば、インク供給系、温度センサー、活性放射線源を含む装置が挙げられる。
インク供給系は、例えば、本発明のインク組成物を含む元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドからなる。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、好ましくは１〜１００ｐｌ、より好ましくは１〜１０ｐｌのマルチサイズドットを、好ましくは３００×３００〜４，８００×４，８００ｄｐｉ、より好ましくは１，２００×１，２００〜４，８００×４，８００ｄｐｉの解像度で吐出できるよう駆動することができる。なお、本発明でいうｄｐｉとは、２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。
また、本発明のインクジェット記録方法においては、インクジェットヘッドとして、圧電素子の変形によりインク組成物を吐出するインクジェットヘッド、いわゆる、ピエゾ型のインクジェットヘッドを使用することが好ましい。
【０２２６】
上述したように、本発明のインク組成物のように放射線硬化型インク組成物は、吐出されるインク組成物を一定温度にすることが望ましいことから、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までは、断熱及び加温を行うことができる。温度コントロールの方法としては、特に制約はないが、例えば、温度センサーを各配管部位に複数設け、インク組成物の流量、環境温度に応じた加熱制御をすることが好ましい。温度センサーは、インク供給タンク及びインクジェットヘッドのノズル付近に設けることができる。また、加熱するヘッドユニットは、装置本体を外気からの温度の影響を受けないよう、熱的に遮断もしくは断熱されていることが好ましい。加熱に要するプリンター立上げ時間を短縮するため、又は、熱エネルギーのロスを低減するために、他部位との断熱を行うと共に、加熱ユニット全体の熱容量を小さくすることが好ましい。
【０２２７】
上記のインクジェット記録装置を用いて、本発明のインク組成物の吐出は、インク組成物を、好ましくは２５〜８０℃、より好ましくは２５〜５０℃に加熱して、インク組成物の粘度を、好ましくは３〜１５ｍＰａ・ｓ、より好ましくは３〜１３ｍＰａ・ｓに下げた後に行うことが好ましい。特に、本発明のインク組成物として、２５℃におけるインク粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下であるものを用いると、良好に吐出が行えるので好ましい。この方法を用いることにより、高い吐出安定性を実現することができる。
本発明のインク組成物のような放射線硬化型インク組成物は、概して通常インクジェット記録用インク組成物で使用される水性インク組成物より粘度が高いため、吐出時の温度変動による粘度変動が大きい。インク組成物の粘度変動は、液滴サイズの変化及び液滴吐出速度の変化に対して大きな影響を与え、ひいては画質劣化を引き起こす。したがって、吐出時のインク組成物の温度はできるだけ一定に保つことが必要である。よって、本発明において、インク組成物の温度の制御幅は、好ましくは設定温度の±５℃、より好ましくは設定温度の±２℃、さらに好ましくは設定温度±１℃とすることが適当である。
【０２２８】
次に、（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化する工程について説明する。
被記録媒体上に吐出されたインク組成物は、活性放射線を照射することによって硬化する。これは、本発明のインク組成物に含まれる光重合開始剤が活性放射線の照射により分解して、開始種を発生し、その開始種の機能に重合性化合物の重合反応が、生起、促進されるためである。このとき、インク組成物において重合開始剤と共に増感剤が存在すると、系中の増感剤が活性放射線を吸収して励起状態となり、重合開始剤と接触することによって重合開始剤の分解を促進させ、より高感度の硬化反応を達成させることができる。
【０２２９】
ここで、使用される活性放射線は、α線、γ線、電子線、Ｘ線、紫外線、可視光又は赤外光などが使用され得る。活性放射線のピーク波長は、増感剤の吸収特性にもよるが、例えば、２００〜６００ｎｍであることが好ましく、３００〜４５０ｎｍであることがより好ましく、３５０〜４２０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０２３０】
また、本発明のインク組成物の重合開始系は、低出力の活性放射線であっても十分な感度を有するものである。したがって、露光面照度が、好ましくは１０〜４，０００ｍＷ／ｃｍ2、より好ましくは２０〜２，５００ｍＷ／ｃｍ2で硬化させることが適当である。
【０２３１】
活性放射線源としては、水銀ランプやガス・固体レーザー等が主に利用されており、紫外線光硬化型インクジェット記録用インクの硬化に使用される光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプが広く知られている。しかしながら、現在環境保護の観点から水銀フリー化が強く望まれており、ＧａＮ系半導体紫外発光デバイスへの置き換えは産業的、環境的にも非常に有用である。さらに、ＬＥＤ（ＵＶ−ＬＥＤ），ＬＤ（ＵＶ−ＬＤ）は小型、高寿命、高効率、低コストであり、光硬化型インクジェット用光源として期待されている。
また、発光ダイオード（ＬＥＤ）及びレーザーダイオード（ＬＤ）を活性放射線源として用いることが可能である。特に、紫外線源を要する場合、紫外ＬＥＤ及び紫外ＬＤを使用することができる。例えば、日亜化学（株）は、主放出スペクトルが３６５ｎｍと４２０ｎｍとの間の波長を有する紫色ＬＥＤを上市している。さらに一層短い波長が必要とされる場合、米国特許番号第６，０８４，２５０号明細書は、３００ｎｍと３７０ｎｍとの間に中心付けされた活性放射線を放出し得るＬＥＤを開示している。また、他の紫外ＬＥＤも、入手可能であり、異なる紫外線帯域の放射を照射することができる。本発明で特に好ましい活性放射線源はＵＶ−ＬＥＤであり、特に好ましくは３５０〜４２０ｎｍにピーク波長を有するＵＶ−ＬＥＤである。
なお、ＬＥＤの被記録媒体上での最高照度は１０〜２，０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、２０〜１，０００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、５０〜８００ｍＷ／ｃｍ2であることが特に好ましい。
【０２３２】
本発明のインク組成物は、このような活性放射線に、好ましくは０．０１〜１２０秒、より好ましくは０．１〜９０秒照射されることが適当である。
活性放射線の照射条件及び基本的な照射方法は、特開昭６０−１３２７６７号公報に開示されている。具体的には、インク組成物の吐出装置を含むヘッドユニットの両側に光源を設け、いわゆるシャトル方式でヘッドユニットと光源を走査することによって行われる。活性放射線の照射は、インク組成物の着弾後、一定時間（好ましくは０．０１〜０．５秒、より好ましくは０．０１〜０．３秒、さらに好ましくは０．０１〜０．１５秒）をおいて行われることになる。このようにインク組成物の着弾から照射までの時間を極短時間に制御することにより、被記録媒体に着弾したインク組成物が硬化前に滲むことを防止するこが可能となる。また、多孔質な被記録媒体に対しても光源の届かない深部までインク組成物が浸透する前に露光することができるため、未反応モノマーの残留を抑えることができるので好ましい。
さらに、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させてもよい。国際公開第９９／５４４１５号パンフレットでは、照射方法として、光ファイバーを用いた方法やコリメートされた光源をヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へＵＶ光を照射する方法が開示されており、このような硬化方法もまた、本発明のインクジェット記録方法に適用することができる。
【０２３３】
上述したようなインクジェット記録方法を採用することにより、表面の濡れ性が異なる様々な被記録媒体に対しても、着弾したインク組成物のドット径を一定に保つことができ、画質が向上する。なお、カラー画像を得るためには、明度の低い色から順に重ねていくことが好ましい。明度の低いインク組成物から順に重ねることにより、下部のインク組成物まで照射線が到達しやすくなり、良好な硬化感度、残留モノマーの低減、密着性の向上が期待できる。また、照射は、全色を吐出してまとめて露光することが可能だが、１色毎に露光するほうが、硬化促進の観点で好ましい。
このようにして、本発明のインク組成物は、活性放射線の照射により高感度で硬化することで、被記録媒体表面に画像を形成することができる。
【０２３４】
本発明において、被記録媒体としては、特に限定されず、支持体や記録材料として公知の被記録媒体を使用することができる。例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上述した金属がラミネートされ又は蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。また、本発明における被記録媒体として、非吸収性被記録媒体が好適に使用することができる。
【実施例】
【０２３５】
以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、以下の記載における「部」とは、特に断りのない限り「重量部」を示すものとする。
【０２３６】
本実施例で使用した化合物を以下に記載する。
（顔料）
・Ｃ顔料（シアン顔料）：ＩＲＧＡＬＩＴＥ ＢＬＵＥ ＧＬＶＯ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
・Ｍ顔料（マゼンタ顔料）：ＣＩＮＱＵＡＳＩＡ ＭＡＧＥＮＴＡ ＲＴ−３５５Ｄ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
・Ｙ顔料（イエロー顔料）：ＮＯＶＯＰＥＲＭ ＹＥＬＬＯＷ Ｈ２Ｇ（クラリアント社製）
・Ｋ顔料（ブラック顔料）：ＳＰＥＣＩＡＬ ＢＬＡＣＫ ２５０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
・Ｗ顔料（ホワイト顔料）：アルミナ処理酸化チタン
【０２３７】
（分散剤）
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１（酸基を有するポリシロキサン構造を有していない共重合物、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製）
・化合物１
なお、化合物１は以下のようにして合成した。
窒素雰囲気のガラスフラスコ中で、乾燥したトルエンに１，７−ジクロロオクタメチルテトラシロキサン２０部を溶解させた。次いで、１，７−ジクロロオクタメチルテトラシロキサンとトリメチルシラノールとのモル比が１：１となるように、トリメチルシラノールをゆっくり添加して反応させた後、生成された酸及び残存したクロロ基をヒドロキシ基に変えるために、アンモニア水を入れて強く撹拌した。その後、得られた反応溶液を水で洗ってから、乾燥剤で乾燥させた。乾燥させた反応溶液に、乾燥したトルエンに溶かしたＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシランを、１，７−ジクロロオクタメチルテトラシロキサンに対して０．５当量となる量でゆっくり添加した。混合溶液を、８０〜１００℃の温度で加熱し、２４時間反応させた。その後、反応溶液を減圧加熱することで、揮発性物質を全て除去し、シロキサン系化合物（化合物１）を得た。化合物１の構造は下記の通りである。
【０２３８】
【化４６】
【０２３９】
・Ｄ−１３（下記化合物）
・Ｄ−１４（下記化合物）
【０２４０】
【化４７】
【０２４１】
（カチオン重合性化合物）
・ＯＸＴ−２２１（ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、東亞合成（株）製）
・セロキサイド３０００（１，２：８，９−ジエポキシリモネン、ダイセル化学工業（株）製）
・ＲＡＰＩ−ＣＵＲＥ ＤＶＥ−３（トリエチレングリコールジビニルエーテル、アイエスピー・ジャパン（株）製）
【０２４２】
（ラジカル重合性化合物）
・ＮＰＧＰＯＤＡ（ネオペンチルグリコールプロポキシレートジアクリレート、サートマー社製）
・ＦＡ−５１２Ａ（ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−ト、日立化成工業（株）製）
・ＮＶＣ（Ｎ−ビニル−カプロラクタム、ＢＡＳＦ社製）
【０２４３】
（重合開始剤）
Ｅｓａｃｕｒｅ１０６４（Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）
【０２４４】
【化４８】
【０２４５】
ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
【０２４６】
【化４９】
【０２４７】
（増感剤）
ＤＢＡ（９，１０−ジブトキシアントラセン、川崎化成工業（株）製）
【０２４８】
（界面活性剤）
ＢＹＫ−３０７（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製）
【０２４９】
（重合禁止剤）
ＦＩＲＳＴＣＵＲＥ ＳＴ−１（ＡＬＢＥＭＡＲＬＥ社製）
【０２５０】
【化５０】
【０２５１】
化合物Ａ
【０２５２】
【化５１】
【０２５３】
（顔料ミルベースの調製）
以上の成分から顔料と分散剤、分散媒としてＵＶ硬化性カチオン重合性インク組成物ではＯＸＴ−２２１、ＵＶ硬化性ラジカル重合性インク組成物ではＦＡ−５１２Ａを、それぞれ表１〜表８に示す処方で用いて撹拌し、各色顔料ミルベースを得た。尚、顔料ミルベースは、顔料及び分散媒を分散機モーターミルＭ５０（アイガー社製）に入れて、直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを用い、周速９ｍ／ｓで８時間分散して調製した。
【０２５４】
（インク組成物の調製）
得られた顔料ミルベース、各重合性化合物、光重合開始剤、添加剤を混合し高速撹拌することで、それぞれ表１〜表８に示す処方でカチオン重合性インク組成物及びラジカル重合性インク組成物を得た。
【０２５５】
＜インク評価＞
表１〜表８に記載された処方のインク組成物を下記の方法にしたがって評価した。評価結果は表１〜表８に記した。
【０２５６】
（粘度）
各インクジェット記録用インク組成物の２５℃における粘度を、Ｅ型粘度計（東機産業（株）製、ＲＥ−８０Ｌ）を用いて測定し、吐出安定性を評価する指標とした。評価基準は下記のとおりである。
Ａ：３０ｍＰａ・ｓ未満
Ｂ：３０ｍＰａ・ｓ以上、４０ｍＰａ・ｓ未満
Ｃ：４０ｍＰａ・ｓ以上（吐出上問題のあるレベル）
【０２５７】
（粒径）
各インクジェット記録用インク組成物について、光散乱回折式の粒度分布測定装置（ＬＡ−９１０、（株）堀場製作所製）を用いて顔料の体積基準平均粒径Ｄ50を測定し、評価し、分散安定性を評価する指標とした。評価基準は下記のとおりである。
Ａ：Ｄ50が１５０ｎｍ未満
Ｂ：Ｄ50が１５０ｎｍ以上、２５０ｎｍ未満
Ｃ：Ｄ50が２５０ｎｍ以上
【０２５８】
（保存安定性）
作製したインク組成物を７５％ＲＨ、６０℃で３日保存した後、吐出温度でのインク粘度を測定し、インク組成物の粘度の増加分を、保存後／保存前の粘度比で表した。粘度が変化せず１．０に近い方が、保存安定性が良好であり、１．５を超えると吐出時に目詰まりを起こす場合があり好ましくない。
保存安定性は以下の基準で評価した。
Ａ・・・保存後／保存前の粘度比が１．０以上で１．１０未満
Ｂ・・・保存後／保存前の粘度比が１．１０以上で１．５０未満
Ｃ・・・保存後／保存前の粘度比が１．５０以上
【０２５９】
【表１】
【０２６０】
【表２】
【０２６１】
【表３】
【０２６２】
【表４】
【０２６３】
【表５】
【０２６４】
【表６】
【０２６５】
【表７】
【０２６６】
【表８】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インクジェット記録用として好適に用いられるインク組成物及びインクジェット記録方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
画像データ信号に基づき、紙などの被記録媒体に画像を形成する画像記録方法として、電子写真方式、昇華型及び溶融型熱転写方式、インクジェット方式などがある。電子写真方式は、感光体ドラム上に帯電及び露光により静電潜像を形成するプロセスを必要とし、システムが複雑となり、結果的に製造コストが高価になるなどの問題がある。また熱転写方式は、装置は安価であるが、インクリボンを用いるため、ランニングコストが高く、かつ廃材が出るなどの問題がある。
一方、インクジェット方式は、安価な装置で、かつ、必要とされる画像部のみにインクを吐出し被記録媒体上に直接画像形成を行うため、インク組成物を効率よく使用でき、ランニングコストが安い。さらに、騒音が少ないなど、画像記録方式として優れている。
【０００３】
特許文献１には、光開始剤、光重合性化合物、分散剤及び変性シリコーンオイルを含有する活性光硬化型インクジェットインクにおいて、前記変性シリコーンオイルを含まない状態の前記インクジェットインクに対して変性シリコーンオイルを０．１質量％添加した時、２５℃における表面張力の減少が０〜３ｍＮ／ｍであることを特徴とする活性光線硬化型インクジェットインクが開示されている。
【０００４】
特許文献２には、（Ａ）分子内に２個以上のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサン、（Ｂ）分子内に２個以上のヒドロシリル基を有するオルガノハイドロジェンポリシロキサン、（Ｃ）白金系触媒、（Ｄ）反応制御剤、（Ｅ）顔料、（Ｆ）分散剤及び（Ｇ）溶媒を含有してなる眼用レンズ材料用シリコーンインク組成物が開示されている。
【０００５】
特許文献３には、ナノ粒子との親和性を有する頭部と、シリコン樹脂との親和性を有する尾部と、を含むシロキサン系分散剤が開示されている。
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００６／０２７９６６号パンフレット
【特許文献２】特開２００８−２２４７７５号公報
【特許文献３】特開２００７−１９６２２４号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明が解決しようとする課題は、吐出安定性、顔料分散性及び保存安定性に優れたインク組成物及び前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題は、下記＜１＞〜＜８＞に記載の手段により解決された。
＜１＞（Ａ）顔料、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物、及び、（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含み、前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤が、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンであることを特徴とするインク組成物、
＜２＞前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤をインク組成物中に１重量％以上含む、前記＜１＞に記載のインク組成物、
＜３＞前記（Ａ）顔料が白色顔料である、前記＜１＞又は＜２＞に記載のインク組成物、
＜４＞前記白色顔料が酸化チタンである、前記＜３＞に記載のインク組成物、
＜５＞前記（Ｃ）重合性化合物としてカチオン重合性化合物を含む、前記＜１＞〜＜４＞いずれか１つに記載のインク組成物、
＜６＞さらに（Ｅ）アミン化合物を含む、前記＜５＞に記載のインク組成物、
＜７＞前記（Ｃ）重合性化合物としてラジカル重合性化合物を含む、前記＜１＞〜＜６＞いずれか１つに記載のインク組成物、
＜８＞（ａ1）被記録媒体上に、前記＜１＞〜＜７＞いずれか１つに記載のインク組成物を吐出する工程、及び、（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化する工程、を含むインクジェット記録方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明により、吐出安定性、顔料分散性及び保存安定性に優れたインク組成物及び前記インク組成物を用いたインクジェット記録方法を提供することができた。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１０】
（１）インク組成物
本発明のインク組成物は、（Ａ）顔料、（Ｂ）光重合開始剤、（Ｃ）重合性化合物及び（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含み、前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤が、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンであることを特徴とする。本発明のインク組成物は、インクジェット記録用インク組成物として好適に使用することができる。以下、本発明について詳細に説明する。
【００１１】
本発明のインク組成物は、放射線により硬化可能なインク組成物である。また、油性のインク組成物である。
本発明でいう「放射線」とは、その照射によりインク組成物中において開始種を発生させうるエネルギーを付与することができる活性放射線であれば特に制限はなく、広くα線、γ線、Ｘ線、紫外線（ＵＶ）、可視光線、電子線などを包含する。中でも、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から紫外線及び電子線が好ましく、特に紫外線が好ましい。したがって、本発明のインク組成物としては、放射線として、紫外線を照射することにより硬化可能なインク組成物が好ましい。
【００１２】
（Ａ）顔料
本発明のインク組成物は、（Ａ）顔料を含有する。
顔料とは、一般に、種々溶媒（有機溶剤、水）に対して難溶の着色剤を意味し、通常のインク組成物においては、含有する着色剤の全固形分のうち、インク組成物中に溶解している量が１０重量％以下のものを意味する。
本発明に用いることができる顔料としては、特に制限はなく、公知の顔料を用いることができる。本発明に用いることができる顔料は、活性放射線による硬化反応の感度を低下させないという観点からは、硬化反応である重合反応において重合禁止剤として機能しない化合物を選択することが好ましい。
【００１３】
本発明に用いることができる顔料としては、特に限定されるわけではないが、例えばカラーインデックスに記載される下記の番号の有機又は無機顔料が使用できる。
赤又はマゼンタ顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ３，５，１９，２２，３１，３８，４２，４３，４８：１，４８：２，４８：３，４８：４，４８：５，４９：１，５３：１，５７：１，５７：２，５８：４，６３：１，８１，８１：１，８１：２，８１：３，８１：４，８８，１０４，１０８，１１２，１２２，１２３，１４４，１４６，１４９，１６６，１６８，１６９，１７０，１７７，１７８，１７９，１８４，１８５，２０８，２１６，２２６，２５７、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ３，１９，２３，２９，３０，３７，５０，８８、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ １３，１６，２０，３６、
青又はシアン顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １，１５，１５：１，１５：２，１５：３，１５：４，１５：６，１６，１７−１，２２，２７，２８，２９，３６，６０、
緑顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７，２６，３６，５０、
黄顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ １，３，１２，１３，１４，１７，３４，３５，３７，５５，７４，８１，８３，９３，９４，９５，９７，１０８，１０９，１１０，１２０，１３７，１３８，１３９，１５３，１５４，１５５，１５７，１６６，１６７，１６８，１８０，１８５，１９３、
黒顔料としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ７，２８，２６等が挙げられる。
【００１４】
また、本発明のインク組成物は（Ａ）顔料として白色顔料を含有するものが好ましい。中でも白色顔料として酸化チタンを含有するものがより好ましい。
酸化チタンは、他の白色顔料と比べて比重が小さく、屈折率が大きく、化学的、物理的にも安定であるため、顔料としての隠蔽力や着色力が大きい。さらに、酸やアルカリ、その他の環境に対する耐久性にも優れている。
【００１５】
酸化チタンは、特に限定されず、白色顔料として使用されている公知の酸化チタンから適宜選択して使用することができる。ルチル型二酸化チタン及びアナターゼ型二酸化チタンのいずれも使用することができるが、触媒活性能が低く、経時安定性に優れる点から、ルチル型二酸化チタンが好ましく使用される。
酸化チタンは上市されており、例えば、Ｔｉｐａｑｕｅ ＣＲ６０−２、Ｔｉｐａｑｕｅ Ａ−２２０（いずれも、石原産業（株）製）や、ＫＲＯＮＯＳ１００１、１０１４、１０７１、１０７４、１０７５、１０７７、１０７８、１０８０、１１７１、２０４４、２０４７、２０５６、２０６３、２０８０、２０８１、２０８４、２０８７、２１６０、２１９０、２２１１、２２２０、２２２２、２２２５、２２３０、２２３３、２２５７、２３００、２３１０、２４５０、２５００、３０００、３０２５（いずれも、ＫＲＯＮＯＳ社製）等が例示できる。
また、酸化チタンは、必要に応じて表面処理してもよい。具体的には、例えば、シリカ、アルミナ、亜鉛、ジルコニア、有機物処理が行われ、処理方法によって耐候性や親油水性が異なる。本発明においてはアルミナ、亜鉛、ジルコニア、塩基性有機物処理されたものが好ましい。
【００１６】
これらの顔料は、インク組成物の使用目的に応じて、１種又は２種以上を適宜選択して用いればよい。
【００１７】
顔料を分散する場合は、分散剤と混合して重合性モノマーに分散する、又は、重合性モノマーと分散剤とを混合した後に顔料を分散することが好ましい。顔料の分散には、例えば、ボールミル、サンドミル、アトライター、ロールミル、アジテータ、ヘンシェルミキサ、コロイドミル、超音波ホモジナイザー、パールミル、湿式ジェットミル、ペイントシェーカー等の各分散装置を用いることができる。
【００１８】
顔料は、インク組成物の調製に際して、各成分とともに直接添加により配合してもよいが、分散性向上のため、あらかじめ溶剤又は本発明に使用する重合性モノマーのような分散媒体に添加し、均一分散又は溶解させた後、配合することもできる。
本発明において、溶剤が硬化画像に残留する場合の耐溶剤性の劣化及び残留する溶剤のＶＯＣ（Ｖｏｌａｔｉｌｅ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｏｍｐｏｕｎｄ：揮発性有機化合物）の問題を避けるためにも、着色剤は、重合性モノマーのような分散媒体に予め添加して、配合することが好ましい。なお、分散適性の観点のみを考慮した場合、着色剤の添加に使用する重合性モノマーとして、最も粘度の低い重合性モノマーを選択することが好ましい。
【００１９】
白色顔料を除く顔料粒子の平均粒径は、好ましくは０．００５〜０．５μｍ、より好ましくは０．０１〜０．３０μｍ、さらに好ましくは０．０１５〜０．１５μｍとなるよう、顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、ろ過条件を設定することが好ましい。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インク組成物の保存安定性、透明性及び硬化感度を維持することができるので好ましい。
【００２０】
一方、酸化チタン等の白色顔料の平均粒径は０．０１〜０．５μｍであることが好ましく、０．０１〜０．３μｍであることがより好ましく、０．０１５〜０．１５μｍであることがさらに好ましい。
また、最大粒径は１μｍ以下であることが好ましく、０．５μｍ以下であることがより好ましい。最大粒径が上記範囲内となるように、白色顔料、分散剤、分散媒体の選定、分散条件、濾過条件を設定することが好ましい。また、遠心分離などの後処理によって大きな粒子を取り除くことも有効である。この粒径管理によって、ヘッドノズルの詰まりを抑制し、インク組成物の保存安定性（特に沈降の抑止）、十分な隠蔽性及び硬化感度を維持することができる。
【００２１】
インク組成物中における顔料の粒径は、公知の測定方法で測定することができる。具体的には遠心沈降光透過法、Ｘ線透過法、レーザー回折・散乱法、動的光散乱法により測定することができる。
【００２２】
本発明において、（Ａ）顔料に対する（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤等の分散剤の重量比は、インク組成物中における顔料の重量をＡと、インク組成物中における分散剤の重量Ｄとした場合、その重量比（Ｄ／Ａ）が、０．５＜Ｄ／Ａ≦１５であり、１≦Ｄ／Ａ≦１０であることが好ましく、１．２≦Ｄ／Ａ≦８であることがより好ましい。
上記範囲内であると経時保存後の顔料の凝集・沈降、インク粘度上昇が生じず、経時保存安定性に優れるインク組成物が得られる。また、インク粘度が低粘度で吐出安定性に優れるインク組成物が得られる。
【００２３】
本発明において、白色顔料を除く顔料のインク組成物への添加量は、インク組成物の全重量に対し、１〜２０重量％が好ましく、５〜１５重量％がより好ましい。上記の数値の範囲内であると、高顔料濃度化に伴う粘度や粒径の上昇がないため好ましい。
【００２４】
本発明において、白色顔料のインク組成物への添加量は、インク組成物の全重量に対し、１０〜４５重量％が好ましく、１０〜４０重量％がより好ましく、１５〜４０重量％がさらに好ましい。
従来の白色インク組成物において、酸化チタン等の白色顔料の添加量が多い場合には、顔料の凝集による吐出安定性及び保存安定性の低下、さらには、硬化して得られる画像においてざらつきなどが見られ、画質に劣る場合が見られた。
しかし、本発明のインク組成物は、特定の（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を使用することにより、酸化チタン等の白色顔料のインク組成物への添加量が、インク組成物の全重量に対し、１０〜４５重量％である場合でも、活性放射線に対する高感度を維持することができ、また、吐出安定性及び保存安定性に優れ、さらに、硬化して得られる画像の画質に優れる。
【００２５】
また、インク組成物に酸化チタンを添加するにあたっては、必要に応じて、分散助剤として、各種顔料に応じたシナージストを用いることも可能である。分散助剤は、酸化チタン１００重量部に対し、１〜５０重量部添加することが好ましい。
【００２６】
（Ｂ）光重合開始剤
本発明のインク組成物は、（Ｂ）光重合開始剤を含有する。
本発明で用いることができる光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができ、カチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤を使用することが好ましい。本発明に用いることができる光重合開始剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。また、ラジカル重合開始剤とカチオン重合開始剤とを併用してもよい。
【００２７】
＜カチオン重合開始剤＞
本発明において（Ｃ）重合性化合物として、カチオン重合性化合物を用いる場合、カチオン重合開始剤を用いることが好ましい。本発明に用いることができるカチオン重合開始剤としては、例えば、化学増幅型フォトレジストや光カチオン重合に利用される化合物が用いられる（有機エレクトロニクス材料研究会編、「イメージング用有機材料」、ぶんしん出版（１９９３年）、１８７〜１９２ページ参照）。本発明に好適なカチオン重合開始剤の例を以下に挙げる。
【００２８】
本発明に用いることのできるカチオン重合開始剤は、活性放射線の照射により酸を発生する化合物であることが好ましい（以下、「光酸発生剤」ともいう。）。
本発明に用いることができる光酸発生剤としては、光カチオン重合の光開始剤、光ラジカル重合の光開始剤、色素類の光消色剤、光変色剤、あるいはマイクロレジスト等に使用されている光（２００〜４００ｎｍの紫外線、遠紫外線、特に好ましくは、ｇ線、ｈ線、ｉ線、ＫｒＦエキシマレーザー光）、ＡｒＦエキシマレーザー光、電子線、Ｘ線、分子線又はイオンビームなどの照射により酸を発生する化合物を適宜選択して使用することができる。
【００２９】
このような光酸発生剤としては、活性放射線の照射により分解して酸を発生する、ジアゾニウム塩、ホスホニウム塩、スルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩化合物、イミドスルホネート、オキシムスルホネート、ジアゾジスルホン、ジスルホン、ｏ−ニトロベンジルスルホネート等のスルホネート化合物などを挙げることができる。これらの中でも、光酸発生剤としてオニウム塩を使用することが好ましい。
【００３０】
本発明に用いることができる好ましい光酸発生剤として、下記式（ｂ１）、（ｂ２）、又は、（ｂ３）で表される化合物を挙げることができる。
【００３１】
【化１】
【００３２】
式（ｂ１）において、Ｒ201、Ｒ202及びＲ203は、各々独立に有機基を表す。
Ｘ-は、非求核性アニオンを表し、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオン、ビス（アルキルスルホニル）アミドアニオン、トリス（アルキルスルホニル）メチドアニオン、ＢＦ4-、ＰＦ6-、ＳｂＦ6-や以下に示す基などが好ましく挙げられる。また、炭素原子を有する有機アニオンであることが好ましい。
【００３３】
【化２】
【００３４】
好ましい有機アニオンとしては、以下に示す有機アニオンが挙げられる。
【００３５】
【化３】
【００３６】
Ｒｃ1は、有機基を表す。
Ｒｃ1における有機基としては、炭素数１〜３０のものが挙げられ、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はこれらの複数を組み合わせた基が、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｓ−、−ＳＯ3−、−ＳＯ2Ｎ（Ｒｄ1）−などの連結基で連結された基を挙げることができる。Ｒｄ1は、水素原子、アルキル基を表す。
Ｒｃ3、Ｒｃ4、Ｒｃ5は、各々独立に、有機基を表す。
Ｒｃ3、Ｒｃ4、Ｒｃ5の有機基として、好ましくはＲｃ1における好ましい有機基と同じものを挙げることができ、最も好ましくは炭素数１〜４のパーフルオロアルキル基である。
Ｒｃ3とＲｃ4とが結合して環を形成していてもよい。Ｒｃ3とＲｃ4とが結合して形成される基としてはアルキレン基、アリーレン基が挙げられる。好ましくは炭素数２〜４のパーフルオロアルキレン基である。
【００３７】
Ｒｃ1、Ｒｃ3〜Ｒｃ5の有機基として、最も好ましくは１位がフッ素原子又はフルオロアルキル基で置換されたアルキル基、フッ素原子又はフルオロアルキル基で置換されたフェニル基である。フッ素原子又はフルオロアルキル基を有することにより、光照射によって発生した酸の酸性度が上がり、感度が向上する。
【００３８】
Ｒ201、Ｒ202及びＲ203としての有機基の炭素数は、好ましくは１〜３０、より好ましくは１〜２０である。
また、Ｒ201〜Ｒ203のうち２つが結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。Ｒ201〜Ｒ203の内の２つが結合して形成する基としては、アルキレン基（例えば、ブチレン基、ペンチレン基）を挙げることができる。
【００３９】
Ｒ201、Ｒ202及びＲ203としての有機基の具体例としては、後述する化合物（ｂ１−１）、（ｂ１−２）、（ｂ１−３）における対応する基を挙げることができる。
【００４０】
尚、光重合開始剤は、式（ｂ１）で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、式（ｂ１）で表される化合物のＲ201〜Ｒ203のうち少なくともひとつが、式（ｂ１）で表される他の化合物におけるＲ201〜Ｒ203の少なくともひとつと直接、又は、連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。
【００４１】
さらに好ましい（ｂ１）成分として、以下に説明する化合物（ｂ１−１）、（ｂ１−２）及び（ｂ１−３）を挙げることができる。
【００４２】
化合物（ｂ１−１）は、上記式（ｂ１）のＲ201〜Ｒ203の少なくとも１つがアリール基である、アリールスルホニム化合物、すなわち、アリールスルホニウムをカチオンとする化合物である。
【００４３】
アリールスルホニウム化合物は、Ｒ201〜Ｒ203の全てがアリール基でもよいし、Ｒ201〜Ｒ203の一部がアリール基で、残りがアルキル基、シクロアルキル基でもよい。
【００４４】
アリールスルホニウム化合物としては、例えば、トリアリールスルホニウム化合物、ジアリールアルキルスルホニウム化合物、アリールジアルキルスルホニウム化合物、ジアリールシクロアルキルスルホニウム化合物、アリールジシクロアルキルスルホニウム化合物等を挙げることができる。
【００４５】
アリールスルホニウム化合物のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基などのアリール基、インドール残基、ピロール残基などのヘテロアリール基が好ましく、さらに好ましくはフェニル基、インドール残基である。アリールスルホニム化合物が２つ以上のアリール基を有する場合に、２つ以上あるアリール基は同一であっても異なっていてもよい。
【００４６】
アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているアルキル基としては、炭素数１〜１５の直鎖又は分岐状アルキル基が好ましく、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基等を挙げることができる。
アリールスルホニウム化合物が必要に応じて有しているシクロアルキル基としては、炭素数３〜１５のシクロアルキル基が好ましく、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。
【００４７】
Ｒ201〜Ｒ203のアリール基、アルキル基、シクロアルキル基は、アルキル基（例えば炭素数１〜１５）、シクロアルキル基（例えば炭素数３〜１５）、アリール基（例えば炭素数６〜１４）、アルコキシ基（例えば炭素数１〜１５）、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基を置換基として有してもよい。好ましい置換基としては、炭素数１〜１２の直鎖又は分岐状アルキル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、炭素数１〜１２の直鎖、分岐又は環状のアルコキシ基であり、最も好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基である。置換基は、３つのＲ201〜Ｒ203のうち、いずれか１つに置換していてもよいし、３つ全てに置換していてもよい。また、Ｒ201〜Ｒ203がアリール基の場合に、置換基はアリール基のｐ−位に置換していることが好ましい。
【００４８】
次に、化合物（ｂ１−２）について説明する。
化合物（ｂ１−２）は、式（ｂ１）におけるＲ201〜Ｒ203が、各々独立に、芳香環を含有しない有機基を表す場合の化合物である。ここで芳香環とは、ヘテロ原子を含有する芳香族環も包含するものである。
Ｒ201〜Ｒ203としての芳香環を含有しない有機基は、好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは炭素数１〜２０である。
Ｒ201〜Ｒ203は、各々独立に、好ましくはアルキル基、シクロアルキル基、アリル基、ビニル基であり、より好ましくは直鎖状、分岐状又は環状の２−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基、特に好ましくは直鎖状又は分岐状の２−オキソアルキル基である。
【００４９】
Ｒ201〜Ｒ203としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数１〜１０の直鎖又は分岐状アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基）を挙げることができ、直鎖状又は分岐状の２−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基がより好ましい。
【００５０】
Ｒ201〜Ｒ203としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数３〜１０のシクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基）を挙げることができ、環状の２−オキソアルキル基がより好ましい。
【００５１】
Ｒ201〜Ｒ203の直鎖状、分岐状又は環状の２−オキソアルキル基としては、好ましくは、上記のアルキル基、シクロアルキル基の２位に＞Ｃ＝Ｏを有する基を挙げることができる。
Ｒ201〜Ｒ203としてのアルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基としては、好ましくは炭素数１〜５のアルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペントキシ基）を挙げることができる。
Ｒ201〜Ｒ203は、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えば炭素数１〜５）、水酸基、シアノ基、ニトロ基によってさらに置換されていてもよい。
【００５２】
化合物（ｂ１−３）とは、以下の式（ｂ１−３）で表される化合物であり、フェナシルスルホニウム塩構造を有する化合物である。
【００５３】
【化４】
【００５４】
式（ｂ１−３）において、Ｒ1c〜Ｒ5cは、各々独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、又はハロゲン原子を表す。
Ｒ6c及びＲ7cは、各々独立に、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。
Ｒx及びＲyは、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリル基又はビニル基を表す。
Ｒ1c〜Ｒ5c中のいずれか２つ以上、Ｒ6cとＲ7c及びＲxとＲyは、それぞれ結合して環構造を形成してもよい。
Ｚｃ-は、非求核性アニオンを表し、式（ｂ１）におけるＸ-の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。
【００５５】
Ｒ1c〜Ｒ7cとしてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは炭素数１〜２０個、より好ましくは炭素数１〜１２個の直鎖状及び分岐状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、直鎖状又は分岐状のプロピル基、直鎖状又は分岐状のブチル基、直鎖状又は分岐状のペンチル基）を挙げることができる。
【００５６】
Ｒ1c〜Ｒ7cのシクロアルキル基として、好ましくは、炭素数３〜８個のシクロアルキル基（例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基）を挙げることができる。
【００５７】
Ｒ1c〜Ｒ5cとしてのアルコキシ基は、直鎖状、分岐状及び環状のいずれであってもよく、例えば炭素数１〜１０のアルコキシ基、好ましくは、炭素数１〜５の直鎖状及び分岐状のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、直鎖状又は分岐状のプロポキシ基、直鎖状又は分岐状のブトキシ基、直鎖状又は分岐状のペントキシ基）、炭素数３〜８の環状アルコキシ基（例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基）を挙げることができる。
【００５８】
Ｒ1c〜Ｒ5c中のいずれか２つ以上、Ｒ6cとＲ7c及びＲxとＲyが結合して形成する基としては、ブチレン基、ペンチレン基等を挙げることができる。この環構造は、酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合を含んでいてもよい。
【００５９】
好ましくはＲ1c〜Ｒ5cのうちいずれかが直鎖状もしくは分岐状アルキル基、シクロアルキル基又は直鎖状、分岐状もしくは環状アルコキシ基であり、さらに好ましくはＲ1cからＲ5cの炭素数の和が２〜１５である。これにより、溶剤溶解性がより向上し、保存時にパーティクルの発生が抑制されるので好ましい。
【００６０】
Ｒx及びＲyとしてのアルキル基、シクロアルキル基は、Ｒ1c〜Ｒ7cとしてのアルキル基、シクロアルキル基と同様のものを挙げることができる。
Ｒx及びＲyは、２−オキソアルキル基、アルコキシカルボニルメチル基であることが好ましい。
２−オキソアルキル基は、Ｒ1c〜Ｒ5cとしてのアルキル基、シクロアルキル基の２位に＞Ｃ＝Ｏを有する基を挙げることができる。
アルコキシカルボニルメチル基におけるアルコキシ基については、Ｒ1c〜Ｒ5cとしてのアルコキシ基と同様のものを挙げることができる。
【００６１】
Ｒx、Ｒyは、好ましくは炭素数４個以上のアルキル基、シクロアルキル基であり、より好ましくは６個以上、さらに好ましくは８個以上のアルキル基、シクロアルキル基である。
【００６２】
式（ｂ２）、（ｂ３）中、Ｒ204〜Ｒ207は、各々独立に、アリール基、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。Ｘ-は、非求核性アニオンを表し、式（ｂ１）におけるＸ-の非求核性アニオンと同様のものを挙げることができる。
【００６３】
Ｒ204〜Ｒ207のアリール基としてはフェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
Ｒ204〜Ｒ207としてのアルキル基は、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、好ましくは、炭素数１〜１０の直鎖状又は分岐状のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基）を挙げることができる。Ｒ204〜Ｒ207としてのシクロアルキル基は、好ましくは、炭素数３〜１０のシクロアルキル基（シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基）を挙げることができる。
Ｒ204〜Ｒ207が有していてもよい置換基としては、例えば、アルキル基（例えば炭素数１〜１５）、シクロアルキル基（例えば炭素数３〜１５）、アリール基（例えば炭素数６〜１５）、アルコキシ基（例えば炭素数１〜１５）、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基等を挙げることができる。
また、Ｒ204とＲ205、Ｒ206とＲ207が結合して環構造を形成してもよく、環内に酸素原子、硫黄原子、エステル結合、アミド結合、カルボニル基を含んでいてもよい。Ｒ204とＲ205、Ｒ206とＲ207が結合して形成する基としては、アルキレン基（例えば、ブチレン基、ペンチレン基）を挙げることができる。
尚、式（ｂ２）又は（ｂ３）で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、式（ｂ２）で表される化合物のＲ204又はＲ205が、式（ｂ２）で表される他の化合物におけるＲ204又はＲ205と直接、又は、連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。
【００６４】
光酸発生剤として、さらに、下記式（ｂ４）、（ｂ５）、（ｂ６）で表される化合物を挙げることができる。
【００６５】
【化５】
【００６６】
式（ｂ４）〜（ｂ６）中、Ａｒ3及びＡｒ4は、各々独立に、アリール基を表す。
Ｒ206、Ｒ207及びＲ208は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はシアノ基を表す。
Ａは、アルキレン基、アルケニレン基又はアリーレン基を表す。
Ａｒ3及びＡｒ4、Ｒ206〜Ｒ208並びにＡは置換基を有していてもよく、例えば、アルキル基（例えば炭素数１〜１５）、シクロアルキル基（例えば炭素数３〜１５）、アリール基（例えば炭素数６〜１５）、アルコキシ基（例えば炭素数１〜１５）、ハロゲン原子、水酸基、フェニルチオ基等を挙げることができる。
尚、式（ｂ４）〜（ｂ６）で表される構造を複数有する化合物であってもよい。例えば、式（ｂ６）で表される化合物のＲ206〜Ｒ208のうち少なくともひとつが、式（ｂ６）で表される他の化合物におけるＲ206〜Ｒ208の少なくともひとつと直接又は連結基を介して結合した構造を有する化合物であってもよい。
【００６７】
前記光酸発生剤の中でも好ましいものとしては、式（ｂ１）〜（ｂ３）で表される化合物を挙げることができる。本発明に好適に用いられる光酸発生剤としては、特開２００８−０１９４０８号公報に記載された（ｂ−１）〜（ｂ−９６）を好ましく例示でき、中でも、（ｂ−２４）及び（ｂ−２９）の混合物であるＥｓａｃｕｒｅ１０６４（Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）等を好ましく用いることができる。
【００６８】
【化６】
【００６９】
また、特開２００２−１２２９９４号公報の段落００２９〜００３０に記載のオキサゾール誘導体、ｓ−トリアジン誘導体なども好適に用いられる。特開２００２−１２２９９４号公報の段落００３７〜００６３に例示されるオニウム塩化合物、スルホネート系化合物も本発明に好適に使用することができる。
【００７０】
＜ラジカル重合開始剤＞
本発明に用いることができるラジカル重合開始剤としては、（ａ）芳香族ケトン類、（ｂ）アシルホスフィン化合物、（ｃ）芳香族オニウム塩化合物、（ｄ）有機過酸化物、（ｅ）チオ化合物、（ｆ）ヘキサアリールビイミダゾール化合物、（ｇ）ケトオキシムエステル化合物、（ｈ）ボレート化合物、（ｉ）アジニウム化合物、（ｊ）メタロセン化合物、（ｋ）活性エステル化合物、（ｌ）炭素ハロゲン結合を有する化合物及び（ｍ）アルキルアミン化合物等が挙げられる。これらのラジカル重合開始剤は、上記（ａ）〜（ｍ）の化合物を単独又は組み合わせて使用してもよい。本発明におけるラジカル重合開始剤は単独又は２種以上の併用によって好適に用いられる。上記（ａ）〜（ｍ）の化合物として、特開２００８−０１９４０８号公報に記載されたものが挙げられる。中でも本発明においては、（ｂ）アシルホスフィン化合物を好ましく用いることができる。
【００７１】
前記アシルホスフィン化合物（以下、「アシルホスフィン系光重合開始剤」ともいう。）は、ホスフィンのリン原子上の３つの基のうちの少なくとも１つをアシル基（ＲＣＯ−）で置換した化合物をいい、活性放射線の照射により重合開始種を生成する化合物である。活性放射線としては、装置コストや操作上の安全性の観点から、紫外線又は可視光線が好ましい。
【００７２】
本発明において、インク組成物が含有するアシルホスフィン系光重合開始剤としては、公知のアシルホスフィン系光重合開始剤を用いることができる。本発明に用いることができるアシルホスフィン系光重合開始剤は、単独で使用してもよく、２種以上を併用してもよい。
【００７３】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、式（１）に示すモノアシルホスフィンオキサイド化合物及び式（２）に示すビスアシルホスフィンオキサイド化合物を好ましく使用することができる。
【００７４】
【化７】
【００７５】
前記式（１）中のＲ1及びＲ2は、それぞれ独立に脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環基を表し、Ｒ3は、脂肪族基、芳香族基、複素環基を表す。前記Ｒ1とＲ2は結合して５〜９員環を形成してもよい。前記環構造は、環構造中に酸素原子、窒素原子、硫黄原子等を有する複素環であってもよい。
【００７６】
前記Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表される脂肪族基は、例えば、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基、アラルキル基、又は置換アラルキル基等が挙げられ、中でも、アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アラルキル基、又は置換アラルキル基が好ましく、アルキル基、置換アルキル基が特に好ましい。
また、前記脂肪族基は、環状脂肪族基でも鎖状脂肪族基でもよい。また、鎖状脂肪族基は分岐を有していてもよい。
【００７７】
前記アルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルキル基が挙げられ、該アルキル基の炭素原子数としては、１〜３０個が好ましく、１〜２０個がより好ましい。置換アルキル基のアルキル部分の炭素原子数の好ましい範囲については、アルキル基の場合と同様である。
前記アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２−エチルヘキシル基、デシル基、ドデシル基、オクタデシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、ネオペンチル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。
【００７８】
前記置換アルキル基の置換基としては、−ＣＯＯＨ（カルボキシ基）、−ＳＯ3Ｈ（スルホ基）、−ＣＮ（シアノ基）、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子）、−ＯＨ（ヒドロキシ基）、炭素数３０以下のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基）、炭素数３０以下のアルキルスルホニルアミノカルボニル基、アリールスルホニルアミノカルボニル基、アルキルスルホニル基、アリールスルホニル基、炭素数３０以下のアシルアミノスルホニル基、炭素数３０以下のアルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、ベンジルオキシ基、フェノキシエトキシ基、フェネチルオキシ基等）、炭素数３０以下のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、メチルチオエチルチオエチル基等）、炭素数３０以下のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基、１−ナフトキシ基、２−ナフトキシ基等）、ニトロ基、アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数３０以下のアシルオキシ基（例えば、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基等）、炭素数３０以下のアシル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等）、炭素数３０以下のカルバモイル基（例えば、カルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、モルホリノカルボニル基、ピペリジノカルボニル基等）、炭素数３０以下のスルファモイル基（例えば、スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、モルホリノスルホニル基、ピペリジノスルホニル基等）、炭素数３０以下のアリール基（例えば、フェニル基、４−クロロフェニル基、４−メチルフェニル基、α−ナフチル基等）、炭素数３０以下の置換アミノ基（例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アシルアミノ基等）、炭素数３０以下の置換ウレイド基、炭素数３０以下の置換ホスホノ基、環員数３０以下の複素環基等が挙げられる。ここで、カルボキシ基、スルホ基、ヒドロキシ基、ホスホノ基は、塩の状態であってもよい。その際、塩を形成するカチオンは、陽イオンを形成し得る基であり、有機カチオン性化合物、遷移金属配位錯体カチオン（特許２７９１１４３号公報に記載の化合物等）又は金属カチオン（例えば、Ｎａ+、Ｋ+、Ｌｉ+、Ａｇ+、Ｆｅ2+、Ｆｅ3+、Ｃｕ+、Ｃｕ2+、Ｚｎ2+、Ａｌ3+等）が好ましい。
【００７９】
前記アルケニル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルケニル基が挙げられ、該アルケニル基の炭素原子数としては、２〜３０個が好ましく、２〜２０個がより好ましい。また、該アルケニル基は、置換基を有する置換アルケニル基、無置換のアルケニル基のいずれであってもよく、置換アルケニル基のアルケニル部分の炭素原子数の好ましい範囲はアルケニル基の場合と同様である。前記置換アルケニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００８０】
前記アルキニル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルキニル基が挙げられ、該アルキニル基の炭素原子数としては、２〜３０個が好ましく、２〜２０個がより好ましい。また、該アルキニル基は、置換基を有する置換アルキニル基、無置換のアルキニル基のいずれであってもよく、置換アルキニル基のアルキニル部分の炭素原子数の好ましい範囲はアルキニル基の場合と同様である。置換アルキニル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。
【００８１】
前記アラルキル基としては、直鎖状、分岐状、環状のアルキル側鎖を有するアラルキル基が挙げられ、該アラルキル基の炭素原子数としては、７〜３５個が好ましく、７〜２５個がより好ましい。また、該アラルキル基は、置換基を有する置換アラルキル基、無置換のアラルキル基のいずれであってもよく、置換アラルキル基のアラルキル部分の炭素原子数の好ましい範囲はアラルキル基の場合と同様である。置換アラルキル基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基が挙げられる。また、アラルキル基のアリール部分が置換基を有していてもよく、該置換基としては前記アルキル基の場合と同様の置換基及び炭素数３０以下の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が例示できる。
【００８２】
前記Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表される芳香族基としては、例えば、アリール基、置換アリール基が挙げられる。アリール基の炭素原子数としては、６〜３０個が好ましく、６〜２０個がより好ましい。置換アリール基のアリール部分の好ましい炭素原子数の範囲としては、アリール基と同様である。前記アリール基としては、例えば、フェニル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基等が挙げられる。置換アリール基の置換基としては、前記置換アルキル基の場合と同様の置換基及び炭素数３０以下の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基が挙げられる。
【００８３】
前記Ｒ1又はＲ2で表されるアルコキシ基としては、炭素数１〜３０個のアルコキシ基が好ましく、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基、オクチルオキシ基、フェノキシエトキシ基等が挙げられる。ただし、これらに限定されるものではない。
【００８４】
前記Ｒ1又はＲ2で表されるアリールオキシ基としては、炭素数６〜３０個のアリールオキシ基が好ましく、例えば、フェノキシ基、メチルフェニルオキシ基、クロロフェニルオキシ基、メトキシフェニルオキシ基、オクチルオキシフェニルオキシ基等が挙げられる。ただし、これらに限定されるものではない。
【００８５】
前記Ｒ1、Ｒ2又はＲ3で表される複素環基としては、Ｎ、Ｏ又はＳ原子を含む複素環基が好ましく、例えば、ピリジル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリル基、ピロリル基等が挙げられる。
【００８６】
【化８】
【００８７】
前記式（２）中のＲ4及びＲ6は、それぞれ独立にアルキル基、アリール基、複素環基を表し、Ｒ5は、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環基を表す。
前記Ｒ4、Ｒ5又はＲ6で表される、アルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基及びアリールオキシ基は、置換基を有していてもよく、該置換基としては、前記式（１）における場合と同様の置換基が挙げられる。
前記式（２）におけるアルキル基、アリール基、複素環基、アルコキシ基及びアリールオキシ基としては、前記式（１）における場合と同義である。
【００８８】
前記式（１）で表される化合物は式（３）で表される化合物であることがより好ましい。
【００８９】
【化９】
【００９０】
式（３）中、Ｒ7及びＲ8はそれぞれ独立に、フェニル基、メトキシ基、又は、イソプロポキシ基を表し、Ｒ9は２，４，６−トリメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、２−メチルフェニル基（ｏ−トルイル基）、イソブチル基、又は、ｔ−ブチル基を表す。
【００９１】
前記式（２）で表される化合物は、下記式（４）で表される化合物であることが好ましい。
【００９２】
【化１０】
【００９３】
式（４）中、Ｒ10及びＲ12はそれぞれ独立に、２，４，６−トリメチルフェニル基、２，６−ジメチルフェニル基、又は、２，６−ジメトキシフェニル基を表し、Ｒ11はフェニル基、又は、２，４，４−トリメチルペンチル基を表す。
【００９４】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、式（１）に示すモノアシルホスフィンオキサイド化合物及び式（２）に示すビスアシルホスフィンオキサイド化合物を好ましく使用することができる。
【００９５】
前記式（１）で表される化合物は、式（５）で表される化合物であることも好ましい。
【００９６】
【化１１】
【００９７】
前記式（５）中のＲ1及びＲ2はそれぞれ独立に脂肪族基、芳香族基、アルコキシ基、アリールオキシ基、複素環基を表し、式（１）におけるＲ1及びＲ2と同義であり好ましい範囲も同様である。
Ｒ13は二価の連結基を表し、前記二価の連結基としては置換基を有していてもよい炭素数１〜１０個のアルキレン基を表し、炭素数１〜６個のアルキレン基であることがより好ましい。
【００９８】
前記式（１）又は（２）で表されるアシルホスフィンオキサイド化合物としては、例えば、特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報等に記載の化合物を挙げることできる。
具体的なアシルホスフィンオキサイド化合物の例としては、以下に示す化合物（例示化合物（Ｐ−１）〜（Ｐ−２８））が挙げられるが、本発明においては、これらに限定されるものではない。
【００９９】
【化１２】
【０１００】
【化１３】
【０１０１】
【化１４】
【０１０２】
モノアシルホスフィンオキサイド化合物としては、公知のモノアシルホスフィンオキサイド化合物を使用することができる。例えば特公昭６０−８０４７号公報、特公昭６３−４０７９９号公報、特開２００８−０１９４０８号公報に記載のモノアシルホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。
【０１０３】
ビスアシルホスフィンオキサイド化合物としては公知のビスアシルホスフィンオキサイド化合物が使用できる。例えば特開平３−１０１６８６号、特開平５−３４５７９０号、特開平６−２９８８１８号、特開２００８−０１９４０８号公報に記載のビスアシルホスフィンオキサイド化合物が挙げられる。
【０１０４】
本発明に用いるアシルホスフィン系光重合開始剤としては、インク組成物に対する溶解性に優れることから、式（１）に示すモノアシルホスフィンオキサイド化合物であることが好ましく、具体的には、Ｐ−１、Ｐ−２（２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド（ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ：チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ：ＢＡＳＦ社製））等であることがより好ましい。
【０１０５】
インク組成物は、光重合開始剤をインク組成物中に０．０１〜３０重量％含むものが好ましく、１〜１５重量％含むものがより好ましい。
【０１０６】
また、インク組成物に増感剤を用いる場合、光重合開始剤の総使用量は、それぞれ、増感剤に対して、光重合開始剤：増感剤の重量比で、好ましくは２００：１〜１：２００、より好ましくは５０：１〜１：５０、さらに好ましくは２０：１〜１：５の範囲である。
【０１０７】
（Ｃ）重合性化合物
本発明のインク組成物は（Ｃ）重合性化合物を含む。前記（Ｃ）重合性化合物としては、カチオン重合性化合物又はラジカル重合性化合物を好ましく例示できる。
【０１０８】
＜カチオン重合性化合物＞
本発明に用いることができるカチオン重合性化合物としては、オキシラン環（「エポキシ環」ともいう。）を有する化合物（「オキシラン化合物」又は「エポキシ化合物」ともいう。）、オキセタン環を有する化合物（「オキセタン化合物」ともいう。）、ビニルエーテル化合物等の公知のカチオン重合化合物を特に制限はなく用いることができる。
【０１０９】
本発明に用いることができるカチオン重合性化合物としては、カチオン重合開始剤から発生するカチオン重合開始種により重合反応を開始し、硬化する化合物であれば特に制限はなく、光カチオン重合性モノマーとして知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。カチオン重合性モノマーとしては、例えば、特開平６−９７１４号、特開２００１−３１８９２号、同２００１−４００６８号、同２００１−５５５０７号、同２００１−３１０９３８号、同２００１−３１０９３７号、同２００１−２２０５２６号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。また、カチオン重合性化合物としては、例えば、カチオン重合系の光硬化性樹脂が知られており、４００ｎｍ以上の可視光波長域に増感された光カチオン重合系の光硬化性樹脂も、例えば特開平６−４３６３３号、特開平８−３２４１３７号の各公報等に公開されている。
【０１１０】
エポキシ化合物としては、芳香族エポキシド、脂環式エポキシド、脂肪族エポキシドなどが挙げられる。芳香族エポキシドとしては、少なくとも１個の芳香族核を有する多価フェノール又はそのアルキレンオキサイド付加体とエピクロロヒドリンとの反応によって製造されるジ又はポリグリシジルエーテルが挙げられる。
例えば、ビスフェノールＡ又はそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ又はそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル及びノボラック型エポキシ樹脂等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
【０１１１】
脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセン環又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく挙げられる。
脂肪族エポキシドとしては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加体のジもしくはポリグリシジルエーテル等が挙げられる。その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテルもしくは１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルに代表されるポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
【０１１２】
本発明に用いることのできる単官能及び多官能のエポキシ化合物を詳しく例示する。
単官能エポキシ化合物の例としては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブタジエンモノオキサイド、１，２−エポキシドデカン、エピクロロヒドリン、１，２−エポキシデカン、スチレンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、３−メタクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−アクリロイルオキシメチルシクロヘキセンオキサイド、３−ビニルシクロヘキセンオキサイド、４−ビニルシクロヘキセンオキサイド等が挙げられる。
【０１１３】
また、多官能エポキシ化合物の例としては、例えば、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３’，４’−エポキシ−６’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類、１，１３−テトラデカジエンジオキサイド、リモネンジオキサイド、１，２，７，８−ジエポキシオクタン、１，２，５，６−ジエポキシシクロオクタン等が挙げられる。
【０１１４】
これらのエポキシ化合物の中でも、芳香族エポキシド及び脂環式エポキシドが、硬化速度に優れるという観点から好ましく、特に脂環式エポキシドが好ましい。
【０１１５】
ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
【０１１６】
以下に、単官能ビニルエーテルと多官能ビニルエーテルを詳しく例示する。
単官能ビニルエーテルとしては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、ｔ−ブチルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、ｎ−ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、４−メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、２−ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシプロピルビニルエーテル、４−ヒドロキシブチルビニルエーテル、４−ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロルエチルビニルエーテル、クロルブチルビニルエーテル、クロルエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル等が挙げられる。
【０１１７】
また、多官能ビニルエーテルとしては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ブチレングリコールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、ビスフェノールＡアルキレンオキサイドジビニルエーテル、ビスフェノールＦアルキレンオキサイドジビニルエーテルなどのジビニルエーテル類；トリメチロールエタントリビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、グリセリントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ジペンタエリスリトールペンタビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、エチレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加トリメチロールプロパントリビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジトリメチロールプロパンテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、エチレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、プロピレンオキサイド付加ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテルなどの多官能ビニルエーテル類等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、ジ又はトリビニルエーテル化合物が、硬化性、被記録媒体との密着性、形成された画像の表面硬度などの観点から好ましく、特にジビニルエーテル化合物が好ましい。
【０１１８】
本発明に使用できるオキセタン化合物は、少なくとも１つのオキセタン環を有する化合物を指し、特開２００１−２２０５２６号、同２００１−３１０９３７号、同２００３−３４１２１７号の各公報に記載されているような公知のオキセタン化合物を任意に選択して使用できる。
本発明のインク組成物に用いることができるオキセタン環を有する化合物としては、その構造内にオキセタン環を１〜４個有する化合物が好ましい。このような化合物を使用することで、インク組成物の粘度をハンドリング性の良好な範囲に維持することが容易となり、また、硬化後のインク組成物の被記録媒体との高い密着性を得ることができる。
【０１１９】
分子内に１〜２個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式（１）〜（３）で表される化合物が挙げられる。
【０１２０】
【化１５】
【０１２１】
Ｒa1は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、アリル基、アリール基、フリル基又はチエニル基を表す。分子内に２つのＲa1が存在する場合、それらは同じであっても異なるものであってもよい。
アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、フルオロアルキル基としては、これらアルキル基の水素のいずれかがフッ素原子で置換されたものが好ましく挙げられる。
Ｒa2は、水素原子、炭素数１〜６個のアルキル基、炭素数２〜６個のアルケニル基、芳香環を有する基、炭素数２〜６個のアルキルカルボニル基、炭素数２〜６個のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜６個のＮ−アルキルカルバモイル基を表す。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。アルケニル基としては、１−プロペニル基、２−プロペニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチル−２−プロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基等が挙げられる。芳香環を有する基としては、フェニル基、ベンジル基、フルオロベンジル基、メトキシベンジル基、フェノキシエチル基等が挙げられる。アルキルカルボニル基としては、エチルカルボニル基、プロピルカルボニル基、ブチルカルボニル基等が挙げられる。アルキコキシカルボニル基としては、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等が挙げられる。Ｎ−アルキルカルバモイル基としては、エチルカルバモイル基、プロピルカルバモイル基、ブチルカルバモイル基、ペンチルカルバモイル基等が挙げられる。また、Ｒa2は置換基を有していてもよく、置換基としては、１〜６のアルキル基、フッ素原子が挙げられる。
【０１２２】
Ｒa3は、線状又は分枝状アルキレン基、線状又は分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基、線状又は分枝状不飽和炭化水素基、カルボニル基又はカルボニル基を含むアルキレン基、カルボキシ基を含むアルキレン基、カルバモイル基を含むアルキレン基、又は、以下に示す基を表す。アルキレン基としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基が挙げられ、ポリ（アルキレンオキシ）基としては、ポリ（エチレンオキシ）基、ポリ（プロピレンオキシ）基等が挙げられる。不飽和炭化水素基としては、プロペニレン基、メチルプロペニレン基、ブテニレン基等が挙げられる。
【０１２３】
【化１６】
【０１２４】
Ｒa3が上記多価基である場合、Ｒa4は、水素原子、炭素数１〜４個のアルキル基、炭素数１〜４個のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、メルカプト基、低級アルキルカルボキシ基、カルボキシ基、又はカルバモイル基を表す。
Ｒa5は、酸素原子、硫黄原子、メチレン基、ＮＨ、ＳＯ、ＳＯ2、Ｃ（ＣＦ3）2、又は、Ｃ（ＣＨ3）2を表す。
Ｒa6は、炭素数１〜４個のアルキル基、又は、アリール基を表し、ｎは０〜２，０００の整数である。Ｒa7は炭素数１〜４個のアルキル基、アリール基、又は、下記構造を有する１価の基を表す。下記式中、Ｒa8は炭素数１〜４個のアルキル基、又はアリール基であり、ｍは０〜１００の整数である。
【０１２５】
【化１７】
【０１２６】
式（１）で表される化合物として、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−１０１：東亞合成（株）製）、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン（ＯＸＴ−２１２：東亞合成（株）製）、３−エチル−３−フェノキシメチルオキセタン（ＯＸＴ−２１１：東亞合成（株）製）が挙げられる。式（２）で表される化合物としては、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン（ＯＸＴ−１２１：東亞合成（株）製）が挙げられる。また、式（３）で表される化合物としては、ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル（ＯＸＴ−２２１：東亞合成（株）製）が挙げられる。
【０１２７】
分子内に３〜４個のオキセタン環を有する化合物としては、下記式（４）で示される化合物が挙げられる。
【０１２８】
【化１８】
【０１２９】
式（４）において、Ｒa1は、前記式（１）におけるＲa1と同義である。また、多価連結基であるＲa9としては、例えば、下記Ａ〜Ｃで示される基等の炭素数１〜１２の分枝状アルキレン基、下記Ｄで示される基等の分枝状ポリ（アルキレンオキシ）基又は下記Ｅで示される基等の分枝状ポリシロキシ基等が挙げられる。ｊは、３又は４である。
【０１３０】
【化１９】
【０１３１】
上記Ａにおいて、Ｒa10はメチル基、エチル基又はプロピル基を表す。また、上記Ｄにおいて、ｐは１〜１０の整数である。
【０１３２】
また、本発明に好適に用いることのできるオキセタン化合物の別の態様として、側鎖にオキセタン環を有する下記式（５）で示される化合物が挙げられる。
【０１３３】
【化２０】
【０１３４】
式（５）において、Ｒa1及びＲa8は前記式におけるのと同義である。Ｒa11はメチル基、エチル基、プロピル基又はブチル基等の炭素数１〜４のアルキル基又はトリアルキルシリル基であり、ｒは１〜４である。
【０１３５】
このようなオキセタン環を有する化合物については、前記特開２００３−３４１２１７号公報の段落００２１〜００８４に詳細に記載され、ここに記載の化合物は本発明にも好適に用いることができる。
特開２００４−９１５５６号公報に記載されたオキセタン化合物も本発明に使用することができる。特開２００４−９１５５６号公報の段落００２２〜００５８に詳細に記載されている。
本発明で使用するオキセタン化合物の中でも、インク組成物の粘度と粘着性の観点から、オキセタン環を１個有する化合物を使用することが好ましい。
【０１３６】
前記カチオン重合性化合物は、オキシラン化合物及びオキセタン化合物を含有していることが好ましく、多官能オキシラン化合物及び多官能オキセタン化合物を含有していることがより好ましい。
また、前記カチオン重合性化合物は、オキシラン化合物、オキセタン化合物及び／又はビニルエーテル化合物のみからなることが好ましい。
【０１３７】
インク組成物中のカチオン重合性化合物の含有量は、インク組成物の全固形分に対し、１０〜９５重量％が好ましく、３０〜９０重量％がより好ましく、５０〜８５重量％がさらに好ましい。
【０１３８】
＜ラジカル重合性化合物＞
ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少なくとも１つ有する化合物であればどのようなものでもよく、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態を持つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は目的とする特性を向上するために任意の比率で１種が含まれていてもよく、２種以上が含まれていてもよい。
【０１３９】
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する重合性化合物の例としては、Ｎ−ビニルラクタム類、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸、それらのエステル及びそれらの塩、エチレン性不飽和基を有する無水物、アクリロニトリル、スチレン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン（メタ）アクリル系モノマー又はプレポリマー、エポキシ系モノマー又はプレポリマー、ウレタン系モノマー又はプレポリマー等の（メタ）アクリル酸エステルが好ましく用いられる。ここで、「（メタ）アクリレート」等の記載は、「メタクリレート及び／又はアクリレート」等を表す省略的表記である。
【０１４０】
本発明のインク組成物は、Ｎ−ビニルラクタム類を含有するものが好ましい。
本発明に用いることができるＮ−ビニルラクタム類の好ましい例として、下記式（Ａ−１）で表される化合物が挙げられる。
【０１４１】
【化２１】
【０１４２】
式（Ａ−１）中、ｎは１〜５の整数を表し、インク組成物が硬化した後の柔軟性、被記録媒体との密着性及び原材料の入手性の観点から、ｎは２〜４の整数であることが好ましく、ｎが２又は４であることがより好ましく、ｎが４である、すなわちＮ−ビニルカプロラクタムであることが特に好ましい。Ｎ−ビニルカプロラクタムは安全性に優れ、汎用的で比較的安価に入手でき、特に良好なインク硬化性及び硬化膜の被記録媒体への密着性が得られるので好ましい。また、上記Ｎ−ビニルラクタム類は、ラクタム環上にアルキル基、アリール基等の置換基を有していてもよく、飽和又は不飽和環構造を連結していてもよい。
【０１４３】
本発明のインク組成物は、Ｎ−ビニルラクタム類をインク全体の５重量％以上含有することが好ましく、５〜４０重量％含有することがより好ましく、８〜２０重量％以上含有することがさらに好ましい。Ｎ−ビニルラクタム類の使用量が上記範囲であると、硬化性、硬化膜柔軟性、硬化膜の基材密着性に優れる。また、Ｎ−ビニルラクタム類は比較的融点が高い化合物である。Ｎ−ビニルラクタム類が４０重量％以下の含有率であると、０℃以下の低温下でも良好な溶解性を示し、インク組成物の取り扱い可能温度範囲が広くなり好ましい。上記Ｎ−ビニルラクタム類はインク組成物中に１種のみ含有されていてもよく、複数種含有されていてもよい。
【０１４４】
本発明のインク組成物は、式（Ｉ）で表される化合物又は式（ＩＩ）で表される化合物を含有するものが好ましい。
【０１４５】
【化２２】
【０１４６】
前記式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーは、付加重合性モノマーであることが好ましく、ラジカル重合性モノマーであることがより好ましい。
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＲ1は、水素原子、ハロゲン原子、又は、炭素数１〜４のアルキル基を表し、原材料入手の容易性の観点から、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましい。また、ｋ個存在するＲ1はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【０１４７】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＸ1は二価の連結基を表し、エーテル基（−Ｏ−）、エステル基（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−もしくは−ＯＣ（Ｏ）−）、アミド基（−Ｃ（Ｏ）ＮＲ’−）、カルボニル基（−Ｃ（Ｏ）−）、窒素原子（−ＮＲ’−）、置換基を有していてもよい炭素数１〜１５のアルキレン基、又は、これらを２以上組み合わせた二価の基であることが好ましい。なお、Ｒ’は水素原子、炭素数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状アルキル基、又は、炭素数６〜２０のアリール基を表す。ｋ個存在するＸ1はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【０１４８】
また、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＸ1のビニル基と結合する端部は、Ｘ1のカルボニル炭素とビニル基とが結合するエステル基又はアミド基であることが好ましく、その場合、アダマンタン骨格もしくはノルボルナン骨格と結合するＸ1の他の部分は、単結合であっても、前記の基から任意に選択したものであってもよい。
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＲ1及びＸ1を含むビニル部分（Ｈ2Ｃ＝Ｃ（Ｒ1）−Ｘ1−）の置換数ｋは１〜６の整数を表す。Ｒ1及びＸ1を含むビニル部分は、各脂環式炭化水素構造上の任意の位置で結合することができる。なお、「各脂環式炭化水素構造上」とは、式（Ｉ）におけるアダマンタン構造上、式（ＩＩ）におけるノルボルナン構造上及びｎを含む環状炭化水素構造上を指す。
また、顔料との親和性を向上させるという観点から、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＸ1の脂環式炭化水素構造と結合する端部は、酸素原子であることが好ましく、エーテル性酸素原子であることがより好ましく、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＸ1は−Ｃ（Ｏ）Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）p−（ｐは１又は２を表す。）であることがさらに好ましい。
【０１４９】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＲ2及びＲ3はそれぞれ独立に置換基を表し、各脂環式炭化水素構造上の任意の位置で結合することができる。また、ｑ個存在するＲ2及びｒ個存在するＲ3はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
ｑ個存在するＲ2及びｒ個存在するＲ3は、それぞれ独立に一価又は多価の置換基であってもよく、一価の置換基として水素原子、ヒドロキシ基、置換もしくは無置換のアミノ基、チオール基、シロキサン基、さらに置換基を有していてもよい総炭素数３０以下の炭化水素基もしくは複素環基、又は、二価の置換基としてオキシ基（＝Ｏ）であることが好ましい。
Ｒ2の置換数ｑは０〜５の整数を表し、また、Ｒ3の置換数ｒは０〜５の整数を表す。
【０１５０】
式（ＩＩ）におけるｎは、環状炭化水素構造を表し、その両端はノルボルナン骨格の任意の位置で置換していてもよく、単環構造であっても、多環構造であってもよく、また、前記環状炭化水素構造として炭化水素結合以外に、カルボニル結合（−Ｃ（Ｏ）−）及び／又はエステル結合（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−）を含んでいてもよい。
また、式（Ｉ）におけるアダマンタン骨格中の一炭素原子をカルボニル結合（−Ｃ（Ｏ）−）及び／又はエステル結合（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−）で置換してもよく、式（ＩＩ）におけるノルボルナン骨格中の一炭素原子をエーテル結合（−Ｏ−）及び／又はエステル結合（−Ｃ（Ｏ）Ｏ−）で置換してもよい。
【０１５１】
前記式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとしては、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）で表されるモノマーであることが好ましい。
【０１５２】
【化２３】
【０１５３】
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）及び式（Ｖ）中、Ｒ1は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表し、Ｘ1は二価の連結基を表し、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に置換基を表し、ｋは１〜６の整数を表し、ｓ、ｔ及びｕはそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、また、ｓ個存在するＲ4、ｔ個存在するＲ5及びｕ個存在するＲ6はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【０１５４】
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）におけるＲ1、Ｘ1及びｋは、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）におけるＲ1、Ｘ1及びｋと同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）におけるＲ1及びＸ1を含むビニル部分は、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）における下記に示す各脂環式炭化水素構造上の任意の位置で結合することができる。
【０１５５】
【化２４】
【０１５６】
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）におけるＲ4、Ｒ5及びＲ6はそれぞれ独立に置換基を表し、式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）における上記各脂環式炭化水素構造上の任意の位置で結合することができる。Ｒ4、Ｒ5及びＲ6における置換基は、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）のＲ2及びＲ3における置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
式（ＩＩＩ）、式（ＩＶ）又は式（Ｖ）におけるｓ、ｔ及びｕはそれぞれ独立に０〜５の整数を表し、また、ｓ個存在するＲ4、ｔ個存在するＲ5及びｕ個存在するＲ6はそれぞれ同じであっても、異なっていてもよい。
【０１５７】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、単官能アクリレートの好ましい具体例を以下に示す。
なお、下記例示化合物の一部において、炭化水素鎖を炭素（Ｃ）及び水素（Ｈ）の記号を省略した簡略構造式で記載する。
【０１５８】
【化２５】
【０１５９】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、単官能メタクリレートの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６０】
【化２６】
【０１６１】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、単官能アクリルアミドの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６２】
【化２７】
【０１６３】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、単官能ビニルエーテルの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６４】
【化２８】
【０１６５】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表される多官能アクリレートの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６６】
【化２９】
【０１６７】
式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表される多官能メタクリレートの好ましい具体例を以下に示す。
【０１６８】
【化３０】
【０１６９】
これら単官能モノマー及び多官能モノマーの中でも、本発明のインク組成物における（Ｂ）式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーとして、Ｍ−１、Ｍ−１０、Ｍ−１１、Ｍ−１２、Ｍ−１３、Ｍ−１６、又は、Ｍ−３５を用いることが特に好ましい。
【０１７０】
上記のラジカル重合性化合物の他、下記のラジカル重合性化合物もまた、使用することができる。
具体的には、（ポリ）エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコール（メタ）アクリレートメチルエステル、（ポリ）エチレングリコール（メタ）アクリレートエチルエステル、（ポリ）エチレングリコール（メタ）アクリレートフェニルエステル、（ポリ）プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、（ポリ）プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートフェニルエステル、（ポリ）プロピレングリコール（メタ）アクリレートメチルエステル、（ポリ）プロピレングリコール（メタ）アクリレートエチルエステル、（ポリ）プロピレングリコールジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、（ポリ）テトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのＰＯ（プロピレンオキシド）付加物ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、ビスフェノールＡのＥＯ（エチレンオキシド）付加物ジ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、ＰＯ変性ペンタエリスリトールトリアクリレート、ＥＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＰＯ変性ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＰＯ変性ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート、ＥＯ変性テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ＰＯ変性テトラメチロールメタンテトラアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、ｎ−オクチルアクリレート、ｎ−ノニルアクリレート、ｎ−デシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ｎ−ラウリルアクリレート、ｎ−トリデシルアクリレート、ｎ−セチルアクリレート、ｎ−ステアリルアクリレート、イソミリスチルアクリレート、イソステアリルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、オリゴエステルアクリレート、イソアミルアクリレート、Ｎ−メチロールアクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシアクリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ｎ−オクチルメタクリレート、ｎ−ノニルメタクリレート、ｎ−デシルメタクリレート、イソオクチルメタクリレート、ｎ−ラウリルメタクリレート、ｎ−トリデシルメタクリレート、ｎ−セチルメタクリレート、ｎ−ステアリルメタクリレート、アリルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタクリレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタクリル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル化合物の誘導体、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、１，１０−デカンジオールジアクリレート、２−エチルヘキシル−ジグリコールアクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシブチルアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、２−アクリロイロキシエチルフタル酸、ノニルフェノールＥＯ付加物アクリレート、メトキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、２−アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレート、エトキシ化フェニルアクリレート、２−アクリロイロキシエチルコハク酸、変性グリセリントリアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルアクリル酸付加物、変性ビスフェノールＡジアクリレート、フェノキシ−ポリエチレングリコールアクリレート、２−アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートトリレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、ラクトン変性可撓性アクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマー、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマーが挙げられ、さらに具体的には、山下晋三編「架橋剤ハンドブック」（１９８１年、大成社）；加藤清視編「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」７９頁（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著「ポリエステル樹脂ハンドブック」（１９８８年、日刊工業新聞社）等に記載の市販品もしくは業界で公知のラジカル重合性又は架橋性のモノマー、オリゴマー及びポリマーを用いることができる。
【０１７１】
本発明のインク組成物中の（Ｂ）式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表されるモノマーは、インク組成物の総量に対し、１０〜５０重量％であることが好ましく、１５〜４０重量％であることがより好ましく、２０〜３０重量％であることがさらに好ましい。上記範囲内であると、硬化性に優れ、また、粘度が適度であるため好ましい。
【０１７２】
（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤
本発明のインク組成物は、（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含有する。
前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤は、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンである。
酸基としては、特に限定されないが好ましくは−ＣＯＯＨ、−ＰＯ（ＯＨ）2等が挙げられる。前記酸基は直接ポリオルガノシロキサンに結合していてもよいが、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキレン基、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキレンオキシ基及びこれらを組み合わせた連結基を介してポリオルガノシロキサンに結合していてもよい。
非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基としては、非共有電子対を有する窒素原子を含む基が好ましい。非共有電子対を有する窒素原子を含む基としては、窒素原子を環に含む環員数３〜８の複素環基、−ＮＲ2（Ｒは水素原子もしくは炭素数１〜５のアルキル基、−ＮＲ2）及びこれらを組み合わせた基が挙げられる。非共有電子対を有する窒素原子又は硫黄原子を含む基は、ポリオルガノシロキサンに直接結合していてもよいが、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキレン基、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキレンオキシ基及びこれらを組み合わせた連結基を介してポリオルガノシロキサンに結合していてもよい。
以下、本発明に好ましく用いられる酸基の具体例を（Ｄ−１）群に、非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基の具体例を（Ｄ−２）群に示す。構造式中、波線部はポリオルガノシロキサンとの結合位置を表す。なお、（Ｄ−１）群及び（Ｄ−２）群中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表す。
【０１７３】
【化３１】
【０１７４】
（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤は、式（Ｄ−３）に示すポリオルガノシロキサンであることが好ましい。
【０１７５】
【化３２】
【０１７６】
式（Ｄ−３）中、Ｒaのうち少なくとも１つは前記吸着基を表し、その他のＲaはそれぞれ独立に水素原子、炭素数１〜５の直鎖又は分岐を有するアルキル基を表し、ｎaは、２〜５０の整数を表す。
Ｒaが吸着基でない場合には、メチル基又はエチル基であることが好ましい。
ポリオルガノシロキサン１分子あたりの吸着基数は１〜５個が好ましく、１〜３個がより好ましく、１個がさらに好ましい。なお、ポリオルガノシロキサン１分子あたりに吸着基を２個以上有する場合には、吸着基は同一でも異なっていてもよい。
【０１７７】
シロキサン系顔料分散剤は、例えば前記（Ｄ−１）群及び（Ｄ−２）群よりなる群から選ばれた吸着基を有することが好ましく、かかる吸着基に含まれる非共有電子対が（Ａ）顔料表面に容易に配位結合することにより吸着する。さらに、式（Ｄ−３）で表されるポリオルガノシロキサンを含むことでシロキサン系顔料分散剤が吸着した（Ａ）顔料と（Ｃ）重合性化合物との親和性が大きくなる。
【０１７８】
さらに具体的には、前記シロキサン系顔料分散剤は、式（Ｄ−５）〜式（Ｄ−２７）で表されるシロキサン系顔料分散剤よりなる群から選ばれた少なくとも１種であることが好ましい。
【０１７９】
【化３３】
【０１８０】
【化３４】
【０１８１】
【化３５】
【０１８２】
【化３６】
【０１８３】
【化３７】
【０１８４】
【化３８】
【０１８５】
前記式（Ｄ−５）〜式（Ｄ−２７）中、Ｒはそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜４の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基を表し、ｎは２〜３０の整数を表し、ｘ及びｙはそれぞれ独立に２〜２０の整数を表す。
【０１８６】
前記（Ｄ−２）群、式（Ｄ−６）〜式（Ｄ−１１）、式（Ｄ−１７）〜式（Ｄ−２０）、式（Ｄ−２２）〜式（Ｄ−２４）及び式（Ｄ−２７）中、Ｒの具体例としては、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基及びイソブチル基などが挙げられる。
【０１８７】
本発明のインク組成物は、前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤をインク組成物中に１重量％以上含むものが好ましく、１〜１０重量％含むものがより好ましく、１〜６重量％含むものがさらに好ましい。
【０１８８】
上記顔料分散剤の他に、本発明のインク組成物は、顔料をインク組成物中に安定に分散させるため、その他の分散剤を含有してもよい。
本発明に用いることができるその他の分散剤としては、高分子分散剤が好ましい。なお、本発明における「高分子分散剤」とは、重量平均分子量が１，０００以上の分散剤を意味する。
【０１８９】
高分子分散剤としては、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６２、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６３、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６６、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６７、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１６８、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７０、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７１、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１７４、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１８２（ＢＹＫケミー社製）、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ５０１０、ＥＦＫＡ５２０７、ＥＦＫＡ５２４４、ＥＦＫＡ６７４５、ＥＦＫＡ６７５０、ＥＦＫＡ７４１４、ＥＦＫＡ７４５、ＥＦＫＡ７４６２、ＥＦＫＡ７５００、ＥＦＫＡ７５７０、ＥＦＫＡ７５７５、ＥＦＫＡ７５８０（エフカアディティブズ社製）、ディスパースエイド６、ディスパースエイド８、ディスパースエイド１５、ディスパースエイド９１００（サンノプコ（株）製）等の高分子分散剤；ソルスパース（Ｓｏｌｓｐｅｒｓｅ）３０００，５０００，９０００，１２０００，１３２４０，１３９４０，１７０００，２２０００，２４０００，２６０００，２８０００，３２０００，３６０００，３９０００，４１０００，７１０００などの各種ソルスパース分散剤（アビシア社製）；アデカプルロニックＬ３１，Ｆ３８，Ｌ４２，Ｌ４４，Ｌ６１，Ｌ６４，Ｆ６８，Ｌ７２，Ｐ９５，Ｆ７７，Ｐ８４，Ｆ８７、Ｐ９４，Ｌ１０１，Ｐ１０３，Ｆ１０８、Ｌ１２１、Ｐ−１２３（旭電化（株）製）及びイソネットＳ−２０（三洋化成工業（株）製）、楠本化成（株）製「ディスパロン ＫＳ−８６０，８７３ＳＮ，８７４（高分子分散剤）、＃２１５０（脂肪族多価カルボン酸）、＃７００４（ポリエーテルエステル型）」が挙げられる。
インク組成物中における分散剤の含有量は、使用目的により適宜選択されるが、インク組成物全体の重量に対し、それぞれ１５重量％以下であることが好ましい。
【０１９０】
本発明において、（Ａ）顔料に対するその他の分散剤の重量比は、インク組成物中における顔料の重量をＡと、インク組成物中におけるその他の分散剤の重量Ｄ’とした場合、その重量比（Ｄ’／Ａ）が、０．０１≦Ｄ’／Ａ≦５であることが好ましく、０．０５≦Ｄ’／Ａ≦２．５であることがより好ましく、０．１≦Ｄ’／Ａ≦１であることがさらに好ましい。上記範囲であると、経時保存後の顔料の凝集・沈降、インク組成物の粘度上昇が生じず、インク組成物が経時保存安定性に優れ、また、インク組成物の粘度が低粘度であり、インク組成物が吐出安定性に優れる。
【０１９１】
（Ｅ）アミン化合物
本発明のインク組成物は、重合禁止剤を含有していてもよい。重合禁止剤を添加することにより、保存安定性に優れたインク組成物を提供することができる。
本発明のインク組成物がカチオン重合性インク組成物の場合には重合禁止剤として（Ｅ）アミン化合物を好ましく用いることができる。
【０１９２】
＜アミン化合物＞
本発明に用いることのできるアミン化合物としては、従来公知のアミン化合物であれば特に制限なく使用することができる。
また、アミン化合物は、分子内に１個のアミン部位を有する化合物であっても、分子内に２個以上のアミン部位を有する化合物であってもよく、また、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ハロゲン原子（−Ｆ、−Ｂｒ、−Ｃｌ、−Ｉ）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基等の置換基を有していてもよい。
【０１９３】
本発明に用いることのできるアミン化合物は、安全性の観点から、標準大気圧において沸点が１２０℃以上であることが好ましく、１５０℃以上であることがより好ましく、１８０℃以上であることがさらに好ましい。
アミン化合物の分子量は、１００〜１，０００の範囲であることが好ましく、１５０〜８００の範囲であることがより好ましく、２００〜６００の範囲であることがさらに好ましい。
【０１９４】
また、本発明に用いることのできるアミン化合物は、一級、二級及び三級のアミン化合物のいずれでもよいが、重合性化合物との副反応や変色反応の抑制の観点から、三級のアミン化合物を使用することが好ましい。また、脂肪族アミン化合物であっても芳香族アミン化合物であってもよいが、酸の捕捉能の観点から、脂肪族アミン化合物であることが好ましい。
したがって、本発明において好適に使用できるアミン化合物は、標準大気圧下で１８０℃以上の沸点を有し、分子量が２００〜６００の範囲にある脂肪族の三級アミン化合物である。
【０１９５】
本発明に用いることができるアミン化合物としては、ヒンダードアミン化合物が特に好ましく例示でき、分子内に求核部位を持たないヒンダードアミン化合物が最も好ましく例示できる。
【０１９６】
分子内に求核部位を持たないヒンダードアミン化合物（以下、「特定構造を有するヒンダードアミン化合物」ともいう。）は、立体障害の大きい塩基性窒素原子を除き、他の求核性部位を持たないことを特徴とする。ここで他の求核性部位とは、エステル基、エーテル基、水酸基、アミノ基、チオール基、チオカルボニル基、チオエステル基等の非共有電子対による求核性をもつ官能基を意味する。これら求核性部位は、カチオン重合反応時の生長カチオン末端と反応し、生長反応を阻害すると考えられ、感度低下を引き起こし易い。特定構造を有するヒンダードアミン化合物を使用することで、カチオン重合の生長反応を阻害することなく、暗反応により微量に発生する酸をトラップすることができるため、高感度を維持しながら、安定性を改善することができる。
【０１９７】
特定構造を有するヒンダードアミン化合物は、カチオン重合反応時の生長カチオン末端との反応による生長反応の阻害を抑制するために、塩基性窒素原子の周りに立体的に嵩高い置換基を有する。この立体的に嵩高い置換基による立体反発により、塩基性窒素原子と生長カチオン末端との反応が抑制され、高感度を維持しながら、安定性を改善することができる。
【０１９８】
本発明における特定構造を有するヒンダードアミン化合物は、暗反応よって発生する微量の酸をトラップするため、安定性を改善することができる。また、通常露光により硬化する際には、塩基性窒素原子の周りの立体的に嵩高い置換基による立体反発により、塩基性窒素原子と生長カチオン末端との反応を抑制し、カチオン重合反応の進行を阻害することがなく、高感度を維持することができると考えられる。
【０１９９】
特定構造を有するヒンダードアミン化合物は、分子内に塩基性窒素原子以外の求核部位を持たないものであり、好ましくは炭素原子、水素原子及び窒素原子のみからなる化合物である。該特定構造を有するヒンダードアミン化合物は、下記式Ｉ〜ＶＩＩのいずれかにより表される化合物であることがより好ましい。
【０２００】
【化３９】
【０２０１】
Ｒ1は、炭素数３〜８の分岐アルキル基、炭素数３〜１０の環状アルキル基又は炭素数７〜２０のアラルキル基を表し、Ｒ2は炭素数１〜４の直鎖アルキル基、炭素数３〜６の分岐アルキル基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。Ｒ3は、水素原子、炭素数１〜２０の直鎖アルキル基、炭素数３〜６の分岐アルキル基、炭素数３〜１０の環状アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数７〜２０のアラルキル基又は炭素数２〜２０のアルケニル基を表す。ここで１分子中に複数存在するＲ1及びＲ2は、同じでも互いに異なっていてもよく、それぞれが互いに結合して環構造を形成してもよい。Ｚは炭化水素からなる二価の有機基を表す。ｎ及びｍは１〜３の整数を表す。
【０２０２】
Ｒ1で表される炭素数３〜８の分岐アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基又は２−メチル−２−エチルプロピル基などが挙げられ、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基がより好ましい。
Ｒ1で表される炭素数３〜１０の環状アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基などが挙げられ、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基がより好ましい。
Ｒ1で表される炭素数７〜２０のアラルキル基としては、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α−エチルベンジル基、フェネチル基、α−メチルフェネチル基、β−メチルフェネチル基、α，α−ジメチルベンジル基、α，α−ジメチルフェネチル基、４−メチルフェネチル基、４−メチルベンジル基、３−メチルベンジル基、２−メチルベンジル基、４−エチルベンジル基、２−エチルベンジル基、４−イソプロピルベンジル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、２−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル基、４−ｔｅｒｔ−ペンチルベンジル基、４−シクロヘキシルベンジル基、４−ｎ−オクチルベンジル基、４−ｔｅｒｔ−オクチルベンジル基、４−アリルベンジル基、４−ベンジルベンジル基、４−フェネチルベンジル基、４−フェニルベンジル基、４−（４’−メチルフェニル）ベンジル基、２−フルフリル基、ジフェニルメチル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基などの置換又は未置換のアラルキル基、等が挙げられ、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α−エチルベンジル基、フェネチル基、α−メチルフェネチル基がより好ましい。
【０２０３】
Ｒ2で表される炭素数１〜４の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、ブチル基、プロピル基が挙げられる。
Ｒ2で表される炭素数３〜６の分岐アルキル基としては、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基、４−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３，３−ジメチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，３−ジメチルブチル基、２，３−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１−エチル−２−メチル−プロピル基、１−メチル−１−エチルプロピル基、１−メチル−２−エチルプロピル基、２−メチル−１−エチルプロピル基又は２−メチル−２−エチルプロピル基などが挙げられ、イソプロピル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、２−メチルブチル基、ネオペンチル基がより好ましい。
Ｒ2で表される炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、トリル基、キシリル基、４−エチルフェニル基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
【０２０４】
Ｒ3で表される炭素数１〜２０の直鎖アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、等が挙げられ、オクチル基、ノニル基、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基がより好ましい。
Ｒ3で表される炭素数２〜２０の直鎖アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、２−メチル−１−プロペニル基、２−メチルアリル基、１−メチル−１−プロペニル基、１−メチルアリル基、１−ペンテニル基、２−ペンテニル基、１−ヘキセニル基等が挙げられ、アリル基、１−プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、がより好ましい。
Ｒ3で表される炭素数３〜６の分岐アルキル基、炭素数３〜１０の環状アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及び炭素数７〜２０のアラルキル基は、それぞれＲ1又はＲ2で表されるものとして上述した置換基と同義であり、好ましい範囲も同様である。
【０２０５】
炭化水素からなる二価の有機基としては、炭素数１〜３０の二価の有機基を示す。この場合の二価の有機基には、脂肪族基及び芳香族基が包含される。また、脂肪族基には、鎖状又は環状の飽和もしくは不飽和の二価脂肪族炭化水素基が包含され、その炭素数は１〜３０、好ましくは２〜２２である。不飽和脂肪族基には、二重結合や三重結合を持ったものが包含される。二価の芳香族基には、１つのベンゼン環を有する単環芳香族炭化水素（ベンゼン、トルエン、キシレン等）から誘導される二価炭化水素基及び２つ以上、通常２〜４個のベンゼン環を有する多環芳香族炭化水素（ナフタレン、ビフェニル、ターフェニル等）から誘導される二価炭化水素基が包含される。
【０２０６】
上述した各基は、置換基を導入可能な場合には、炭化水素からなる置換基を有してもよい。
【０２０７】
以下に、本発明に好適に用いる特定構造を有するヒンダードアミン化合物として、具体的には以下の化合物〔（Ａ−１）〜（Ａ−５０）〕が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２０８】
【化４０】
【０２０９】
【化４１】
【０２１０】
【化４２】
【０２１１】
【化４３】
【０２１２】
【化４４】
【０２１３】
【化４５】
【０２１４】
上述した化合物（又は式Ｉ〜ＶＩＩ）の中でも、インクジェット吐出性と硬化速度の観点から、式ＩＶ、ＶＩ又はＶＩＩで表される化合物が好ましく、式ＶＩ又はＶＩＩで表される化合物がより好ましく、Ａ−２４〜Ａ−３０がさらに好ましく、Ａ−２６が特に好ましい。
【０２１５】
本発明において、アミン化合物（好ましくは、特定構造を有するヒンダードアミン化合物）の添加量は、顔料分散物の全量に対し、１〜３０重量％が好ましく、３〜２０重量％がより好ましく、５〜１５重量％がさらに好ましい。上記範囲であると、感度に優れ、高画質な印刷物を得ることが可能なインク組成物を得ることができる。
また、アミン化合物の添加量は、インク組成物の全量に対し、０．０５〜２０重量％が好ましく、０．１〜１５重量％がより好ましく、０．５〜１０重量％がさらに好ましい。
本発明において、アミン化合物を１種のみ添加してもよく、２種以上を併用してもよい。
【０２１６】
本発明のインク組成物は、保存時の所望されないラジカル重合を抑制するためにラジカル重合禁止剤を含有していてもよい。ラジカル重合禁止剤としては、フェノール系水酸基含有化合物類、キノン類、Ｎ−オキシド化合物類、ピペリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類、ピロリジン１−オキシルフリーラジカル化合物類、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン類及びカチオン染料類からなる群より選択される化合物が挙げられる。
【０２１７】
ラジカル重合禁止剤の具体例としては、ハロイドキノン、ｐ−メトキシフェノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロール、レゾルシノール、カテコール、ｔ−ブチルカテコール、ハイドロキノン、ベンゾキノン、４，４−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン及びその誘導体、ジ−ｔ−ブチルニトロキシド、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−Ｎ−オキシド及びその誘導体等、ピペリジン１−オキシルフリーラジカル、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−オキソ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−アセトアミド−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−マレイミド−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、４−ホスホノキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン１−オキシルフリーラジカル、３−カルボキシ−２，２，５，５−テトラメチルピロリジン１−オキシルフリーラジカル、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミン第一セリウム塩、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩、クリスタルバイオレット、メチルバイオレット、エチルバイオレット及びビクトリアピュアブルーＢＯＨ等が挙げられる。
【０２１８】
ラジカル重合禁止剤のインク組成物に対する含有量は０．０００１〜１重量％が好ましく、０．００１〜０．５重量％がより好ましく、０．００１〜０．３重量％がさらに好ましい。上記の数値の範囲内であると、インク組成物の調製時の重合を抑制でき、インクジェットノズルの詰まりを防止できるため好ましい。
【０２１９】
（Ｆ）その他の成分
本発明のインク組成物には、必要に応じて、前記成分以外の（Ｆ）その他の成分を添加することができる。
その他の成分としては、例えば、特開２００８−０１９４０８号公報に記載の増感剤、共増感剤（強増感剤）、界面活性剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、褪色防止剤、導電性塩類、溶剤、高分子化合物、塩基性化合物等が挙げられる。
【０２２０】
〔インク物性〕
本発明においては、吐出性を考慮し、インク組成物の２５℃における粘度が４０ｍＰａ・ｓ以下であることが好ましく、５〜４０ｍＰａ・ｓであることがより好ましく、７〜３５ｍＰａ・ｓであることがさらに好ましい。
また、吐出温度（好ましくは２５〜８０℃、より好ましくは２５〜５０℃）における粘度が、３〜１５ｍＰａ・ｓであることが好ましく、３〜１３ｍＰａ・ｓであることがより好ましい。本発明のインク組成物は、粘度が上記範囲になるように適宜組成比を調整することが好ましい。室温での粘度を高く設定することにより、多孔質な被記録媒体を用いた場合でも、被記録媒体中へのインク組成物の浸透を回避し、未硬化モノマーの低減が可能となる。さらにインク組成物の液滴着弾時におけるインクの滲みを抑えることができ、その結果として画質が改善されるので好ましい。
【０２２１】
本発明のインク組成物の２５℃における表面張力は、２０〜３５ｍＮ／ｍであることが好ましく、２３〜３３ｍＮ／ｍであることがより好ましい。ポリオレフィン、ＰＥＴ、コート紙、非コート紙など様々な被記録媒体へ記録する場合、滲み及び浸透の観点から、２０ｍＮ／ｍ以上が好ましく、濡れ性の点では、３５ｍＮ／ｍ以下が好ましい。
【０２２２】
（２）インクジェット記録方法、インクジェット記録装置及び印刷物
本発明のインク組成物は、インクジェット記録用として好適に使用される。
本発明のインクジェット記録方法は、本発明のインク組成物をインクジェット記録用として被記録媒体（支持体、記録材料等）上に吐出し、被記録媒体上に吐出されたインク組成物に活性放射線を照射し、インク組成物を硬化して画像を形成する方法である。
【０２２３】
より具体的には、本発明のインクジェット記録方法は、（ａ1）被記録媒体上に、本発明のインク組成物を吐出する工程及び（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、該インク組成物を硬化する工程、を含むことを特徴とする。
本発明のインクジェット記録方法は、上記（ａ1）及び（ｂ1）工程を含むことにより、被記録媒体上において硬化したインク組成物により画像が形成される。
また、本発明の印刷物は、本発明のインク組成物を使用して得られた印刷物であり、本発明のインクジェット記録方法によって記録された印刷物であることが好ましい。
前記吐出は、圧電素子の変形によりインク組成物を吐出するインクジェットヘッドを用いて行われることが好ましい。
また、前記吐出は、１〜１０ｐｌの液滴量、かつ１，２００×１，２００〜４，８００×４，８００ｄｐｉで行われることが好ましい。
【０２２４】
本発明のインクジェット記録方法における（ａ1）工程には、以下に詳述するインクジェット記録装置が用いることができる。
【０２２５】
〔インクジェット記録装置〕
本発明のインクジェット記録方法に用いられるインクジェット記録装置としては、特に制限はなく、目的とする解像度を達成することができる公知のインクジェット記録装置を任意に選択して使用することができる。すなわち、市販品を含む公知のインクジェット記録装置であれば、いずれも、本発明のインクジェット記録方法の（ａ1）工程における被記録媒体へのインク組成物の吐出を実施することができる。
本発明で用いることのできるインクジェット記録装置としては、例えば、インク供給系、温度センサー、活性放射線源を含む装置が挙げられる。
インク供給系は、例えば、本発明のインク組成物を含む元タンク、供給配管、インクジェットヘッド直前のインク供給タンク、フィルター、ピエゾ型のインクジェットヘッドからなる。ピエゾ型のインクジェットヘッドは、好ましくは１〜１００ｐｌ、より好ましくは１〜１０ｐｌのマルチサイズドットを、好ましくは３００×３００〜４，８００×４，８００ｄｐｉ、より好ましくは１，２００×１，２００〜４，８００×４，８００ｄｐｉの解像度で吐出できるよう駆動することができる。なお、本発明でいうｄｐｉとは、２．５４ｃｍ当たりのドット数を表す。
また、本発明のインクジェット記録方法においては、インクジェットヘッドとして、圧電素子の変形によりインク組成物を吐出するインクジェットヘッド、いわゆる、ピエゾ型のインクジェットヘッドを使用することが好ましい。
【０２２６】
上述したように、本発明のインク組成物のように放射線硬化型インク組成物は、吐出されるインク組成物を一定温度にすることが望ましいことから、インク供給タンクからインクジェットヘッド部分までは、断熱及び加温を行うことができる。温度コントロールの方法としては、特に制約はないが、例えば、温度センサーを各配管部位に複数設け、インク組成物の流量、環境温度に応じた加熱制御をすることが好ましい。温度センサーは、インク供給タンク及びインクジェットヘッドのノズル付近に設けることができる。また、加熱するヘッドユニットは、装置本体を外気からの温度の影響を受けないよう、熱的に遮断もしくは断熱されていることが好ましい。加熱に要するプリンター立上げ時間を短縮するため、又は、熱エネルギーのロスを低減するために、他部位との断熱を行うと共に、加熱ユニット全体の熱容量を小さくすることが好ましい。
【０２２７】
上記のインクジェット記録装置を用いて、本発明のインク組成物の吐出は、インク組成物を、好ましくは２５〜８０℃、より好ましくは２５〜５０℃に加熱して、インク組成物の粘度を、好ましくは３〜１５ｍＰａ・ｓ、より好ましくは３〜１３ｍＰａ・ｓに下げた後に行うことが好ましい。特に、本発明のインク組成物として、２５℃におけるインク粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下であるものを用いると、良好に吐出が行えるので好ましい。この方法を用いることにより、高い吐出安定性を実現することができる。
本発明のインク組成物のような放射線硬化型インク組成物は、概して通常インクジェット記録用インク組成物で使用される水性インク組成物より粘度が高いため、吐出時の温度変動による粘度変動が大きい。インク組成物の粘度変動は、液滴サイズの変化及び液滴吐出速度の変化に対して大きな影響を与え、ひいては画質劣化を引き起こす。したがって、吐出時のインク組成物の温度はできるだけ一定に保つことが必要である。よって、本発明において、インク組成物の温度の制御幅は、好ましくは設定温度の±５℃、より好ましくは設定温度の±２℃、さらに好ましくは設定温度±１℃とすることが適当である。
【０２２８】
次に、（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化する工程について説明する。
被記録媒体上に吐出されたインク組成物は、活性放射線を照射することによって硬化する。これは、本発明のインク組成物に含まれる光重合開始剤が活性放射線の照射により分解して、開始種を発生し、その開始種の機能に重合性化合物の重合反応が、生起、促進されるためである。このとき、インク組成物において重合開始剤と共に増感剤が存在すると、系中の増感剤が活性放射線を吸収して励起状態となり、重合開始剤と接触することによって重合開始剤の分解を促進させ、より高感度の硬化反応を達成させることができる。
【０２２９】
ここで、使用される活性放射線は、α線、γ線、電子線、Ｘ線、紫外線、可視光又は赤外光などが使用され得る。活性放射線のピーク波長は、増感剤の吸収特性にもよるが、例えば、２００〜６００ｎｍであることが好ましく、３００〜４５０ｎｍであることがより好ましく、３５０〜４２０ｎｍであることがさらに好ましい。
【０２３０】
また、本発明のインク組成物の重合開始系は、低出力の活性放射線であっても十分な感度を有するものである。したがって、露光面照度が、好ましくは１０〜４，０００ｍＷ／ｃｍ2、より好ましくは２０〜２，５００ｍＷ／ｃｍ2で硬化させることが適当である。
【０２３１】
活性放射線源としては、水銀ランプやガス・固体レーザー等が主に利用されており、紫外線光硬化型インクジェット記録用インクの硬化に使用される光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプが広く知られている。しかしながら、現在環境保護の観点から水銀フリー化が強く望まれており、ＧａＮ系半導体紫外発光デバイスへの置き換えは産業的、環境的にも非常に有用である。さらに、ＬＥＤ（ＵＶ−ＬＥＤ），ＬＤ（ＵＶ−ＬＤ）は小型、高寿命、高効率、低コストであり、光硬化型インクジェット用光源として期待されている。
また、発光ダイオード（ＬＥＤ）及びレーザーダイオード（ＬＤ）を活性放射線源として用いることが可能である。特に、紫外線源を要する場合、紫外ＬＥＤ及び紫外ＬＤを使用することができる。例えば、日亜化学（株）は、主放出スペクトルが３６５ｎｍと４２０ｎｍとの間の波長を有する紫色ＬＥＤを上市している。さらに一層短い波長が必要とされる場合、米国特許番号第６，０８４，２５０号明細書は、３００ｎｍと３７０ｎｍとの間に中心付けされた活性放射線を放出し得るＬＥＤを開示している。また、他の紫外ＬＥＤも、入手可能であり、異なる紫外線帯域の放射を照射することができる。本発明で特に好ましい活性放射線源はＵＶ−ＬＥＤであり、特に好ましくは３５０〜４２０ｎｍにピーク波長を有するＵＶ−ＬＥＤである。
なお、ＬＥＤの被記録媒体上での最高照度は１０〜２，０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、２０〜１，０００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、５０〜８００ｍＷ／ｃｍ2であることが特に好ましい。
【０２３２】
本発明のインク組成物は、このような活性放射線に、好ましくは０．０１〜１２０秒、より好ましくは０．１〜９０秒照射されることが適当である。
活性放射線の照射条件及び基本的な照射方法は、特開昭６０−１３２７６７号公報に開示されている。具体的には、インク組成物の吐出装置を含むヘッドユニットの両側に光源を設け、いわゆるシャトル方式でヘッドユニットと光源を走査することによって行われる。活性放射線の照射は、インク組成物の着弾後、一定時間（好ましくは０．０１〜０．５秒、より好ましくは０．０１〜０．３秒、さらに好ましくは０．０１〜０．１５秒）をおいて行われることになる。このようにインク組成物の着弾から照射までの時間を極短時間に制御することにより、被記録媒体に着弾したインク組成物が硬化前に滲むことを防止するこが可能となる。また、多孔質な被記録媒体に対しても光源の届かない深部までインク組成物が浸透する前に露光することができるため、未反応モノマーの残留を抑えることができるので好ましい。
さらに、駆動を伴わない別光源によって硬化を完了させてもよい。国際公開第９９／５４４１５号パンフレットでは、照射方法として、光ファイバーを用いた方法やコリメートされた光源をヘッドユニット側面に設けた鏡面に当て、記録部へＵＶ光を照射する方法が開示されており、このような硬化方法もまた、本発明のインクジェット記録方法に適用することができる。
【０２３３】
上述したようなインクジェット記録方法を採用することにより、表面の濡れ性が異なる様々な被記録媒体に対しても、着弾したインク組成物のドット径を一定に保つことができ、画質が向上する。なお、カラー画像を得るためには、明度の低い色から順に重ねていくことが好ましい。明度の低いインク組成物から順に重ねることにより、下部のインク組成物まで照射線が到達しやすくなり、良好な硬化感度、残留モノマーの低減、密着性の向上が期待できる。また、照射は、全色を吐出してまとめて露光することが可能だが、１色毎に露光するほうが、硬化促進の観点で好ましい。
このようにして、本発明のインク組成物は、活性放射線の照射により高感度で硬化することで、被記録媒体表面に画像を形成することができる。
【０２３４】
本発明において、被記録媒体としては、特に限定されず、支持体や記録材料として公知の被記録媒体を使用することができる。例えば、紙、プラスチック（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等）がラミネートされた紙、金属板（例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等）、プラスチックフィルム（例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等）、上述した金属がラミネートされ又は蒸着された紙又はプラスチックフィルム等が挙げられる。また、本発明における被記録媒体として、非吸収性被記録媒体が好適に使用することができる。
【実施例】
【０２３５】
以下に実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、以下の記載における「部」とは、特に断りのない限り「重量部」を示すものとする。
【０２３６】
本実施例で使用した化合物を以下に記載する。
（顔料）
・Ｃ顔料（シアン顔料）：ＩＲＧＡＬＩＴＥ ＢＬＵＥ ＧＬＶＯ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
・Ｍ顔料（マゼンタ顔料）：ＣＩＮＱＵＡＳＩＡ ＭＡＧＥＮＴＡ ＲＴ−３５５Ｄ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
・Ｙ顔料（イエロー顔料）：ＮＯＶＯＰＥＲＭ ＹＥＬＬＯＷ Ｈ２Ｇ（クラリアント社製）
・Ｋ顔料（ブラック顔料）：ＳＰＥＣＩＡＬ ＢＬＡＣＫ ２５０（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
・Ｗ顔料（ホワイト顔料）：アルミナ処理酸化チタン
【０２３７】
（分散剤）
・ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１１１（酸基を有するポリシロキサン構造を有していない共重合物、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製）
・化合物１
なお、化合物１は以下のようにして合成した。
窒素雰囲気のガラスフラスコ中で、乾燥したトルエンに１，７−ジクロロオクタメチルテトラシロキサン２０部を溶解させた。次いで、１，７−ジクロロオクタメチルテトラシロキサンとトリメチルシラノールとのモル比が１：１となるように、トリメチルシラノールをゆっくり添加して反応させた後、生成された酸及び残存したクロロ基をヒドロキシ基に変えるために、アンモニア水を入れて強く撹拌した。その後、得られた反応溶液を水で洗ってから、乾燥剤で乾燥させた。乾燥させた反応溶液に、乾燥したトルエンに溶かしたＮ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシランを、１，７−ジクロロオクタメチルテトラシロキサンに対して０．５当量となる量でゆっくり添加した。混合溶液を、８０〜１００℃の温度で加熱し、２４時間反応させた。その後、反応溶液を減圧加熱することで、揮発性物質を全て除去し、シロキサン系化合物（化合物１）を得た。化合物１の構造は下記の通りである。
【０２３８】
【化４６】
【０２３９】
・Ｄ−１３（下記化合物）
・Ｄ−１４（下記化合物）
【０２４０】
【化４７】
【０２４１】
（カチオン重合性化合物）
・ＯＸＴ−２２１（ビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、東亞合成（株）製）
・セロキサイド３０００（１，２：８，９−ジエポキシリモネン、ダイセル化学工業（株）製）
・ＲＡＰＩ−ＣＵＲＥ ＤＶＥ−３（トリエチレングリコールジビニルエーテル、アイエスピー・ジャパン（株）製）
【０２４２】
（ラジカル重合性化合物）
・ＮＰＧＰＯＤＡ（ネオペンチルグリコールプロポキシレートジアクリレート、サートマー社製）
・ＦＡ−５１２Ａ（ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレ−ト、日立化成工業（株）製）
・ＮＶＣ（Ｎ−ビニル−カプロラクタム、ＢＡＳＦ社製）
【０２４３】
（重合開始剤）
Ｅｓａｃｕｒｅ１０６４（Ｌａｍｂｅｒｔｉ社製）
【０２４４】
【化４８】
【０２４５】
ＤＡＲＯＣＵＲＥ ＴＰＯ（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
【０２４６】
【化４９】
【０２４７】
（増感剤）
ＤＢＡ（９，１０−ジブトキシアントラセン、川崎化成工業（株）製）
【０２４８】
（界面活性剤）
ＢＹＫ−３０７（ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉｅ社製）
【０２４９】
（重合禁止剤）
ＦＩＲＳＴＣＵＲＥ ＳＴ−１（ＡＬＢＥＭＡＲＬＥ社製）
【０２５０】
【化５０】
【０２５１】
化合物Ａ
【０２５２】
【化５１】
【０２５３】
（顔料ミルベースの調製）
以上の成分から顔料と分散剤、分散媒としてＵＶ硬化性カチオン重合性インク組成物ではＯＸＴ−２２１、ＵＶ硬化性ラジカル重合性インク組成物ではＦＡ−５１２Ａを、それぞれ表１〜表８に示す処方で用いて撹拌し、各色顔料ミルベースを得た。尚、顔料ミルベースは、顔料及び分散媒を分散機モーターミルＭ５０（アイガー社製）に入れて、直径０．６５ｍｍのジルコニアビーズを用い、周速９ｍ／ｓで８時間分散して調製した。
【０２５４】
（インク組成物の調製）
得られた顔料ミルベース、各重合性化合物、光重合開始剤、添加剤を混合し高速撹拌することで、それぞれ表１〜表８に示す処方でカチオン重合性インク組成物及びラジカル重合性インク組成物を得た。
【０２５５】
＜インク評価＞
表１〜表８に記載された処方のインク組成物を下記の方法にしたがって評価した。評価結果は表１〜表８に記した。
【０２５６】
（粘度）
各インクジェット記録用インク組成物の２５℃における粘度を、Ｅ型粘度計（東機産業（株）製、ＲＥ−８０Ｌ）を用いて測定し、吐出安定性を評価する指標とした。評価基準は下記のとおりである。
Ａ：３０ｍＰａ・ｓ未満
Ｂ：３０ｍＰａ・ｓ以上、４０ｍＰａ・ｓ未満
Ｃ：４０ｍＰａ・ｓ以上（吐出上問題のあるレベル）
【０２５７】
（粒径）
各インクジェット記録用インク組成物について、光散乱回折式の粒度分布測定装置（ＬＡ−９１０、（株）堀場製作所製）を用いて顔料の体積基準平均粒径Ｄ50を測定し、評価し、分散安定性を評価する指標とした。評価基準は下記のとおりである。
Ａ：Ｄ50が１５０ｎｍ未満
Ｂ：Ｄ50が１５０ｎｍ以上、２５０ｎｍ未満
Ｃ：Ｄ50が２５０ｎｍ以上
【０２５８】
（保存安定性）
作製したインク組成物を７５％ＲＨ、６０℃で３日保存した後、吐出温度でのインク粘度を測定し、インク組成物の粘度の増加分を、保存後／保存前の粘度比で表した。粘度が変化せず１．０に近い方が、保存安定性が良好であり、１．５を超えると吐出時に目詰まりを起こす場合があり好ましくない。
保存安定性は以下の基準で評価した。
Ａ・・・保存後／保存前の粘度比が１．０以上で１．１０未満
Ｂ・・・保存後／保存前の粘度比が１．１０以上で１．５０未満
Ｃ・・・保存後／保存前の粘度比が１．５０以上
【０２５９】
【表１】
【０２６０】
【表２】
【０２６１】
【表３】
【０２６２】
【表４】
【０２６３】
【表５】
【０２６４】
【表６】
【０２６５】
【表７】
【０２６６】
【表８】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）顔料、
（Ｂ）光重合開始剤、
（Ｃ）重合性化合物、及び、
（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含み、
前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤が、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンであることを特徴とする
インク組成物。
【請求項２】
前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤をインク組成物中に１重量％以上含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）顔料が白色顔料である、請求項１又は２に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記白色顔料が酸化チタンである、請求項３に記載のインク組成物。
【請求項５】
前記（Ｃ）重合性化合物としてカチオン重合性化合物を含む、請求項１〜４いずれか１つに記載のインク組成物。
【請求項６】
さらに（Ｅ）アミン化合物を含む、請求項５に記載のインク組成物。
【請求項７】
前記（Ｃ）重合性化合物としてラジカル重合性化合物を含む、請求項１〜６いずれか１つに記載のインク組成物。
【請求項８】
（ａ1）被記録媒体上に、請求項１〜７いずれか１つに記載のインク組成物を吐出する工程、及び、
（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化する工程、を含む
インクジェット記録方法。
【請求項１】
（Ａ）顔料、
（Ｂ）光重合開始剤、
（Ｃ）重合性化合物、及び、
（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤を含み、
前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤が、吸着基として酸基又は非共有電子対を有する窒素原子もしくは硫黄原子を含む基を有するポリオルガノシロキサンであることを特徴とする
インク組成物。
【請求項２】
前記（Ｄ）シロキサン系顔料分散剤をインク組成物中に１重量％以上含む、請求項１に記載のインク組成物。
【請求項３】
前記（Ａ）顔料が白色顔料である、請求項１又は２に記載のインク組成物。
【請求項４】
前記白色顔料が酸化チタンである、請求項３に記載のインク組成物。
【請求項５】
前記（Ｃ）重合性化合物としてカチオン重合性化合物を含む、請求項１〜４いずれか１つに記載のインク組成物。
【請求項６】
さらに（Ｅ）アミン化合物を含む、請求項５に記載のインク組成物。
【請求項７】
前記（Ｃ）重合性化合物としてラジカル重合性化合物を含む、請求項１〜６いずれか１つに記載のインク組成物。
【請求項８】
（ａ1）被記録媒体上に、請求項１〜７いずれか１つに記載のインク組成物を吐出する工程、及び、
（ｂ1）吐出されたインク組成物に活性放射線を照射して、前記インク組成物を硬化する工程、を含む
インクジェット記録方法。
【公開番号】特開２０１０−１５０４６７（Ｐ２０１０−１５０４６７Ａ）
【公開日】平成２２年７月８日（２０１０．７．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−３３２３４９（Ｐ２００８−３３２３４９）
【出願日】平成２０年１２月２６日（２００８．１２．２６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年７月８日（２０１０．７．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年１２月２６日（２００８．１２．２６）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]