エステル又はラクトン類の水素還元によるアルコール類の製造方法
【課題】本発明は、比較的温和な条件下でエステル又はラクトンからアルコール類を高収率かつ高触媒効率で製造する方法を提供する。
【解決手段】次の一般式（１）
ＲｕＨ（Ｘ）(Ｌ1)(Ｌ2)n （１）
（式中、Ｘは１価のアニオン性配位子を表し、Ｌ1は少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表し、Ｌ2はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、Ｌ1が４座配位子の場合はｎ＝０であり、Ｌ1が２座配位子の場合はｎ＝１である。）
で表されるルテニウム錯体を触媒として、塩基化合物を添加することなくエステル又はラクトンを水素還元することによる対応するアルコール類の製造方法。
【解決手段】次の一般式（１）
ＲｕＨ（Ｘ）(Ｌ1)(Ｌ2)n （１）
（式中、Ｘは１価のアニオン性配位子を表し、Ｌ1は少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表し、Ｌ2はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、Ｌ1が４座配位子の場合はｎ＝０であり、Ｌ1が２座配位子の場合はｎ＝１である。）
で表されるルテニウム錯体を触媒として、塩基化合物を添加することなくエステル又はラクトンを水素還元することによる対応するアルコール類の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はエステル又はラクトンを水素還元してアルコール類を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
エステル及びラクトンを還元してアルコール類を得る方法は化学合成において重要である。この反応は化学量論量以上のシリルヒドリド、水素化ホウ素ナトリウムや水素化アルミニウムリチウムなどの水素化金属化合物を用いる方法と分子状水素を用いる触媒的水素化還元する方法が提案されてきた。前者は還元剤に由来する多量の廃棄物が生じることや非常に反応性の高い還元剤を使用することによる安全性の問題等があり、近年においては環境調和型技術である分子状水素を用いた触媒的水素化還元による方法が不均一系及び均一系を問わず積極的に開発検討されている。
【０００３】
不均一系による水素化還元としてはたとえば特許文献１や非特許文献１に示される例が提案されているが高温または高圧、あるいはその両方の条件が必要であるなどの問題点がある。また非特許文献２では光学活性エステルのラセミ化を伴わないような条件での製造が記されているが、基質であるエステルが芳香環を持つ場合には芳香環が還元されたアルコールが多く副生するなどの選択性が低い問題や、非常に高価な触媒を大量に用いなければならないというコスト面での不利があり工業的には問題があった。
均一系ではホスフィン配位子を持つルテニウム錯体の利用が多く提案されてきている。
例えば非特許文献３、非特許文献４や非特許文献５にはモノホスフィン，ジホスフィン、トリホスフィン及びテトラホスフィン配位子などを用いた方法が開示されており、特に３座トリホスフィン配位子の場合には比較的高い水素化活性を示すものの活性化されていないエステルの場合には環境負荷の大きいフッ素化化合物を溶媒として使用する必要などがあり工業的には問題があった。非特許文献６や非特許文献７には三座のジアミノホスフィンやアミノジホスフィン配位子を有するルテニウム錯体によるエステルの水素化還元が開示されているが、非特許文献６の方法では配位子や錯体を調製する際に環境に有害で世界的に製造そのものが禁止されつつある四塩化炭素を用いていることや低温反応が必要であり工業化には不利な点が多く、非特許文献７に開示されている方法では錯体調製をマイクロ波を照射しながら行うことや、エステル水素化においても１４０〜１５０℃といった高温が必要でかつフッ素化された活性なエステルの場合においてのみ高収率が得られるなどの難点があった。特許文献２、特許文献３，特許文献４及び非特許文献８には２座及び４座のアミノホスフィン及びイミノホスフィンを配位子としたルテニウム触媒を用いた効率的なエステルの水素化還元法が開示されているが、反応の実施には塩基としてアルカリ金属アルコキシドを使用する必要があり塩基性に不安定な官能基を持つ基質の還元や、不斉炭素を有するエステルの還元においては化合物の分解やラセミ化を起こすといった問題を生じる。また塩基を添加することなくカルボニル基を還元することが報告されているアミノホスフィンやジホスフィンとジアミンを配位子として持つルテニウム錯体はケトンのみを還元し、同時に存在するエステル基の還元が困難であることが非特許文献９や特許文献５などに示されている。また本発明で使用するような錯体は、例えば非特許文献１０や１１に開示されるようにイミノホスフィン配位子をあらかじめ還元し、ルテニウム前駆体と錯体を調製した後にさらに還元をするような多段階を経る方法で調製されていた。
【０００４】
【特許文献１】特開昭５１−８２０３号公報
【特許文献２】WO２００６/１０６４８３
【特許文献３】WO２００６/１０６４８４
【特許文献４】WO２００８/０６５５８８
【特許文献５】特開２００３−１０４９９３
【非特許文献１】Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔ．，１９５４，８，１
【非特許文献２】Ａｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔ．，２００１，３４３，８０２
【非特許文献３】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９８１，１０３，７５３６．
【非特許文献４】Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９８，１３６７
【非特許文献５】Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａｌ．Ａ：Ｃｈｅｍ．，２００３，２０６，１８５．
【非特許文献６】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２００６，４５，１１１３．
【非特許文献７】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．２００７，２６，１６
【非特許文献８】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２００７，４６，７４７３．
【非特許文献９】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００５，１２７，５１６．
【非特許文献１０】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．２００４，２３，６２３９．
【非特許文献１１】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．２００７，２６，５９４０．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って本発明の目的は比較的温和な条件下で比較的簡便に調製できる配位子や錯体を用いてエステル又はラクトンから副反応などを抑制し、高収率かつ高触媒効率で、さらに比較的簡便に錯体を調製することで、工業的に効率よくアルコール類を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記事情に鑑み鋭意検討を行った結果、塩基性化合物を添加することなく、少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を２つ有するルテニウム錯体を触媒として用いることにより、副反応などを抑制し、高収率かつ高触媒効率でエステル又はラクトンからアルコール類を製造することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００７】
本発明をより詳細に説明すれば、本発明は、以下の［１］〜［９］に関するものである。
［１］次の一般式（１）
【０００８】
ＲｕＨ（Ｘ）(Ｌ1)(Ｌ2)n （１）
【０００９】
（式中、Ｘは１価のアニオン性配位子を表し、Ｌ1は少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表し、Ｌ2はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、Ｌ1が４座配位子の場合はｎ＝０であり、Ｌ1が２座配位子の場合はｎ＝１である。）
で表されるルテニウム錯体を触媒として、塩基化合物を添加することなくエステル又はラクトンを水素還元することによる対応するアルコール類の製造方法。
［２］一般式（１）で表される錯体におけるＸがＢＨ4である［１］に記載の製造方法。
［３］一般式（１）で表される錯体においてＬ1で表される４座配位子において、残りの２座のうちの１つが配位性リン原子及び１つが配位性窒素原子で配位する配位子である［１］又は［２］に記載の製造方法。
［４］一般式（１）で表される錯体のＬ1が下記一般式（２）で表される４座配位子である［３］に記載の製造方法。
【００１０】
【化１】
【００１１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ1同士、Ｒ1とＲ2又はＲ3又はＲ4、Ｒ3とＲ4、又はＲ5とＲ6が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ1及びＱ2は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
［５］一般式（１）で表される錯体のＬ1及びＬ2が同一又は異なる下記一般式（３）で表される２座のアミノホスフィン配位子である［１］又は［２］に記載の製造方法。
【００１２】
【化２】
【００１３】
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ7とＲ8又はＲ9、Ｒ8とＲ9、又はＲ10とＲ11が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ3は置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
［６］下記一般式（４）又は（５）
【００１４】
【化３】
【００１５】
（式中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ12同士、Ｒ12とＲ13又はＲ14、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16、Ｒ17同士、Ｒ19とＲ17又はＲ18、又はＲ20とＲ21が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ4、Ｑ5、Ｑ6及びＱ7は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
で表される４座配位子を有する一般式（６）
【００１６】
[Ｒｕ（Ｘ1）k（Ｘ2）l（Ｙ1）m（Ｙ2）o(Ｌ1')]（Ｚ）q （６）
【００１７】
（式中、Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立して中性の単座配位子を表し、Ｚは金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1'は一般式（４）又は一般式（５）で表される４座配位子を表す。ただし、ｋ、ｌ、ｍ、ｏは０≦ｋ+ｌ+ｍ+ｏ≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ+ｌ＝２のときはｑ＝０、ｋ+ｌ＝１のときはｑ＝1、ｋ+ｌ＝０のときはｑ＝２である。）
で表されるルテニウム錯体を還元して得られる錯体を用いる［４］に記載の製造方法。
［７］下記一般式（７ａ）及び（７ｂ）
【００１８】
【化４】
【００１９】
（式中、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104及びＲ105は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ22とＲ23、Ｒ24とＲ25、又はＲ104とＲ105が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ7a及びＱ7bは置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
で表される２座のアミノホスフィン配位子を有する一般式（６'）
【００２０】
[Ｒｕ（Ｘ3）k'（Ｘ4）l'（Ｙ3）m'（Ｙ4）o'(Ｌ1'')（Ｌ2''）]（Ｚ'）q' （６'）
【００２１】
（式中、Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ3及びＹ4はそれぞれ独立して中性の単座配位子を表し、Ｚ'は金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1''及びＬ2''は同一又は異なっていてもよく一般式（７ａ）又は（７ｂ）で表される２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、ｋ'、ｌ'、ｍ'、ｏ'は０≦ｋ'+ｌ'+ｍ'+ｏ'≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ'+ｌ'＝２のときはｑ'＝０、ｋ'+ｌ'＝１のときはｑ'＝1、ｋ'+ｌ'＝０のときはｑ'＝２である。）で表されるルテニウム錯体を還元して得られる錯体を用いる［５］に記載の製造方法。
［８］調製した錯体を反応溶液から単離することなく触媒として用いる［１］〜［７］に記載の製造方法。
［９］エステル又はラクトンが光学活性体であり、得られるアルコール類の光学純度が、水素還元されるエステル又はラクトンの光学純度の９０％以上の数値を保持していることを特徴とする［１］〜［８］に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の製造方法によれば、工業的に有利な比較的低い水素圧及び反応温度で、エステル及びラクトンから高収率、高触媒効率でアルコール類を製造することが可能である。また、還元されるエステル又はラクトンが塩基に不安定な場合にも分解や重合などの必要としない化学変換をおこすことなく、また光学活性体である場合でも、光学純度の低下を伴うことなくアルコール類へ還元することができる。また触媒を簡便に調製することで工業的により有利な方法とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明において原料の水素化基質としてエステル又はラクトンが用いられる。水素化基質として用いられるエステルとしては、脂肪族カルボン酸エステル又は芳香族カルボン酸エステル等が挙げられる。該エステルはモノカルボン酸由来でもポリカルボン酸由来でも良い。また、これらのエステル類やラクトン類は、本発明の水素化方法において悪影響を及ぼさないいかなる置換基で置換されていてもよい。
【００２４】
本発明において水素化基質として用いられるエステル類としては、例えば、下記の脂肪族カルボン酸又は芳香族カルボン酸のアルキルエステル、アリールエステル、アラルキルエステル、シクロアルキルエステル等が挙げられる。
【００２５】
脂肪族カルボン酸としては、炭素数２〜５０、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１５の鎖状または環状の脂肪族基を持つモノ又はポリカルボン酸や、炭素数２〜１４で、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子及び／又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、３〜８員、好ましくは４〜６員の単環、多環、又は縮合環の脂肪族複素環基を持つモノ又はポリカルボン酸等が挙げられる。具体的には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ドデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、シュウ酸、プロパンジカルボン酸、ブタンジカルボン酸、ヘキサンジカルボン酸、セバシン酸、アクリル酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロペンテンカルボン酸、シクロヘキセンカルボン酸、２−アゼチジンカルボン酸、２−ピロリジンカルボン酸（プロリン）、３−ピロリジンカルボン酸、２−ピペリジンカルボン酸、３−ピペリジンカルボン酸、４−ピペリジンカルボン酸、ピペラジン−２−カルボン酸等が挙げられる。
【００２６】
また、これら脂肪族カルボン酸は置換基で置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
上記脂肪族カルボン酸の置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜５０、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。
【００２７】
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアリール基としては、炭素数６〜３６、好ましくは炭素数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１４の単環式、多環式、又は縮合環式のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアラルキル基としては、前記アルキル基の少なくとも１個の水素原子が前記アリール基で置換された基が挙げられ、例えば炭素数７〜１５のアラルキル基が好ましく、具体的にはベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、３−ナフチルプロピル基等が挙げられる。
【００２８】
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのシクロアルキル基としては炭素数３〜３０、好ましくは炭素数３〜２０、より好ましくは炭素数３〜１０の単環式、多環式、又は縮合環式のシクロアルキル基が挙げられ、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１５、より好ましくは炭素数１〜１０の直鎖若しくは分岐又は環状（環状の場合は炭素数３以上である。）のアルキル基またはシクロアルキル基が酸素に結合したアルコキシ基が挙げられ、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【００２９】
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアリールオキシ基としては、炭素数６〜３６、好ましくは炭素数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１４の単環式、多環式、又は縮合環式のアリール基が酸素に結合したアリールオキシ基が挙げられ、具体的には、例えば、フェノキシ基、トリロキシ基、キシリロキシ基、ナフトキシ基等が挙げられる。
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアラルキルオキシ基としては前記アルコキシ基のアルキル基またはシクロアルキル基の少なくとも１個の水素原子が前記アリール基で置換された基が挙げられ、例えば炭素数７〜１５のアラルキルオキシ基が好ましく、具体的にはベンジルオキシ基、１−フェニルエトキシ基、２−フェニルエトキシ基、１−フェニルプロポキシ基、２−フェニルプロポキシ基、３−フェニルプロポキシ基、４−フェニルブトキシ基、１−ナフチルメトキシ基、２−ナフチルメトキシ基等を挙げることができる基等が挙げられる。
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。
【００３０】
さらに、脂肪族カルボン酸の置換基としての複素環基としては、脂肪族複素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基としては、例えば、炭素数２〜１４で、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子及び／又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、３〜８員、好ましくは４〜６員の単環の脂肪族複素環基、多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、アゼチジル基、アゼチジノ基、ピロリジル基、ピロリジノ基、ピペリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、ピペラジノ基、モルホリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオフェニル基等が挙げられる。芳香族複素環基としては、例えば、炭素数２〜１５で、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子及び／又は硫黄原子等の異種原子を含んでいる、３〜８員、好ましくは５又は６員の単環式ヘテロアリール基、多環式又は縮合環式のヘテロアリール基が挙げられる。その具体例としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、ピリダジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フタラジル基、キナゾリル基、ナフチリジル基、シンノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、アクリジル基、アクリジニル基等が挙げられる。
【００３１】
さらに、脂肪族カルボン酸の置換基としての保護されていてもよいアミノ基としては、無保護のアミノ基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基；Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基；Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基；ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、ヘキサノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基；メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基等のアルコキシカルボニルアミノ基；フェニルオキシカルボニルアミノ基等のアリールオキシカルボニルアミノ基；ベンジルオキシカルボニルアミノ基等のアラルキルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。さらに保護されていてもよいアミノ基としては、例えば参考文献１（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ， ＪＯＨＮ ＷＩＲＥＹ ＆ ＳＯＮＳ，ＩＮＣ．１９９１）に記載されている一般的なアミノ基の保護基で保護されたアミノ基が挙げられる。
【００３２】
脂肪族カルボン酸の置換基としての保護されていてもよい水酸基としては、無保護の水酸基または例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリル基などのシリル基、ベンジル基やメトキシメチル基など例えば前記の参考文献１に記載されている一般的な水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基などが挙げられる。ただし、保護基がアシル基の場合には保護基が還元された生成物が得られる場合がある。
【００３３】
脂肪族カルボン酸の置換基として示したアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環基は前記したアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等でさらに置換されていてもよい。
【００３４】
芳香族カルボン酸としては、炭素数６〜３６、好ましくは炭素数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１２の単環式、多環式、若しくは縮合環式のアリール基；又は、１個〜４個、好ましくは１〜３個、より好ましくは１〜２個の窒素原子、酸素原子、若しくは硫黄原子からなる異種原子を含有する３〜８員、好ましくは５〜８員の環を有する単環式、多環式、若しくは縮合環式のヘテロアリール基を有するモノまたはポリ芳香族カルボン酸が挙げられ、例えば、安息香酸、ナフタレンカルボン酸、ピリジンカルボン酸、ピリジンジカルボン酸、キノリンカルボン酸、フランカルボン酸、チオフェンカルボン酸等が挙げられる。
【００３５】
また、これらの芳香族カルボン酸は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。
【００３６】
一方、本発明において用いられるラクトン類としては、β−ラクトン、γ−ラクトン、δ−ラクトン等が挙げられ、これらのラクトン類は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。また、ビシクロ環構造や芳香族環と縮合環構造を有していても良い。
アルキルエステルのアルキル基、アリールエステルのアリール基、アラルキルエステルのアラルキル基、シクロアルキルエステルのシクロアルキル基としてはそれぞれ脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたものが挙げられる。さらにこれらの基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。
【００３７】
好ましいエステル類としては、メチルエステル、エチルエステル、イソプロピルなどの炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキルエステルが挙げられる。より好ましいエステル類としてはメチルエステルが挙げられる。
これらのエステルは不斉中心を持っている必要はないが、光学活性体や各種異性体の混合物であってもよい。
【００３８】
本発明のアルコール類の製造方法は、無溶媒又は溶媒中で好適に実施することができるが、溶媒を使用することが好ましい。用いられる溶媒としては、基質および触媒を溶解できるものが好ましく、単一溶媒あるいは混合溶媒が用いられる。具体的にはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−プロパンジオール及びグリセリン等の多価アルコール類が挙げられる。この中でもエーテル類が好ましく、特に好ましい溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができる。反応は必要に応じ撹拌下に行われる。
【００３９】
触媒の使用量は、水素化基質、反応条件や触媒の種類等によって異なるが、通常、水素化基質に対するルテニウム金属としてのモル比で０．００１モル％〜１０モル％、好ましくは０．０５モル％〜５モル％の範囲である。
本発明の方法において、水素還元を行う際の反応温度は、５０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃である。反応温度が低すぎると未反応の原料が多く残存する場合があり、また高すぎると、原料、触媒等の分解が起こる場合があり、好ましくない。
本発明において、水素還元を行う際の水素の圧力は、１ＭＰａ〜１０ＭＰａ、好ましくは３ＭＰａ〜６ＭＰａである。
また反応時間は２時間〜２０時間程度で十分に高い原料転化率を得ることができる。
反応終了後は、抽出、濾過、結晶化、蒸留、各種クロマトグラフィー等、通常用いられる精製法を単独又は適宜組み合わせることにより目的のアルコール類を得ることができる。
【００４０】
本発明における塩基化合物の有機塩基化合物の具体例としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピペリジン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、トリ−ｎ−ブチルアミン及びＮ−メチルモルホリン等のアミン類が挙げられる。
また無機塩基化合物の具体例としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムイソプロポキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシド、リチウムイソプロポキシド、リチウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド等のアルカリ土類金属アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物が挙げられる。
【００４１】
本発明で用いられるルテニウム錯体を製造するための出発原料であるルテニウム化合物としては、例えば、ＲｕＣｌ3水和物、ＲｕＢｒ3水和物、ＲｕＩ3水和物等の無機ルテニウム化合物、ＲｕＣｌ2（ＤＭＳＯ）4、［Ｒｕ（ｃｏｄ）Ｃｌ2］n、［Ｒｕ（ｎｂｄ）Ｃｌ2］n、（ＣＯＤ）Ｒｕ(２−メタリル)2、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｂｒ2］2、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｉ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｂｒ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｉ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｂｒ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｉ2］2、［Ｒｕ（ヘキサメチルベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ヘキサメチルベンゼン）Ｂｒ2］2、［Ｒｕ（ヘキサメチルベンゼン）Ｉ2］2、ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3、ＲｕＢｒ2（ＰＰｈ3）3、ＲｕＩ2（ＰＰｈ3）3、ＲｕＨ4（ＰＰｈ3）3、ＲｕＣｌＨ（ＰＰｈ3）3、ＲｕＨ（ＯＡｃ）（ＰＰｈ3）3，ＲｕＨ2（ＰＰｈ3）4等が挙げられる。例示中、ＤＭＳＯはジメチルスルホキシド、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエン、ｎｂｄはノルボルナジエン、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ表す。
【００４２】
次に、本発明において触媒として用いられる下記一般式（１）で表されるルテニウム錯体について説明する。
【００４３】
ＲｕＨ（Ｘ）(Ｌ1)(Ｌ2)n （１）
【００４４】
（式中、Ｘは１価のアニオン性配位子を表し、Ｌ1は少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表し、Ｌ2はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、Ｌ1が４座配位子の場合はｎ＝０であり、Ｌ1が２座配位子の場合はｎ＝１である。）
【００４５】
まず、一般式（１）におけるＸで表される１価のアニオン性配位子について説明する。１価のアニオン性配位子としては、例えば水素原子（ヒドリド）、ＡｌＨ4、ＢＨ4、下記一般式（８）、（９ａ）及び（９ｂ）で表される配位子，ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヒドロキシ基又はアシルオキシ基，スルホニルオキシ基が挙げられる。
【００４６】
ＭＨrＲ25(4-r) （８）
【００４７】
【化５】
【００４８】
【化６】
【００４９】
（式中、Ｍはアルミニウムまたはホウ素を表し、ｒは０〜３の自然数であり、Ｒ25は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基又は置換基を有していてもよいアラルキルオキシ基を表し、Ｒ26及びＲ26'は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ26同士、又はＲ26とＲ26'とが結合して環を形成してもよい。Ｑ9a及びＱ9bはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基又は置換基を有していてもよいアルキレン基を表す。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基としては、脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
【００５０】
Ｑ9a及びＱ9bで表される二価のアリーレン基としては、炭素数６〜１２の単環式又は縮合環式のアリール基からなる２価の基が挙げられ、例えば、フェニレン基、２，３−ナフタレンジイル基等が挙げられる。フェニレン基としては、ｏ又はｍ−フェニレン基が挙げられる。また、アルキレン基としては、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６の鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられ、具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。さらに、アルキレン基はシクロアルキレン基であってもよく、シクロアルキレン基としては、炭素数３〜１５、好ましくは炭素数３〜１０、より好ましくは３〜６の単環式、多環式又は縮合環式のシクロアルキル基からなる２価の基が挙げられ、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等が挙げられる。これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
これらのアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及び複素環は前記したアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。Ｑ9a及びＱ9bとしては、例えば２，２，２−トリフルオロエトキシ基、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロポキシ基、１−ペンタフルオロフェニルエトキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基などが挙げられる。一般式（９ａ）や（９ｂ）で表される１価のアニオン性配位子としては下記構造式９Ａや９Ｂで表されるもの等が挙げられる。
【００５１】
【化７】
【００５２】
アシルオキシ基としては（ＲaＣＯ2）で表されるものが挙げられる。アシルオキシ基ＲaＣＯ2におけるＲaとしては、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基としては例えば脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらはさらに脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。Ｒaとしては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基等が挙げられる。
【００５３】
スルホニルオキシ基としては（ＲSＳＯ3）で表されるものが挙げられる。スルホニルオキシ基ＲSＳＯ3におけるＲSとしてはアシルオキシ基におけるＲaと同様のものがあげられる。
【００５４】
一般式（１）で表されるルテニウム錯体は、例えば、Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２００３，９，４９５４．やＡｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔａｌ．２００５，３４７，５７１．に記載の方法などにより得ることができる。このように調製される錯体は、配位子の配位様式やコンホメーションによって立体異性体を生じることがあるが、反応に用いる錯体はこれら立体異性体の混合物であっても純粋なひとつの異性体であっても構わない。
また、例えば前記した非特許文献９や非特許文献１１に記載の方法などにより、Ｘ＝ＢＨ4であるような一般式（１）で表されるルテニウムヒドリド錯体を得ることができる。これらの錯体は比較的安定に存在し、比較的取り扱いが容易である。
次に、本発明に用いられる４座配位子について説明する。一般式（１）におけるＬ1で表される４座配位子としては、少なくともひとつの配位性ホスフィノ基及び少なくともひとつの配位性アミノ基で配位する配位子が好ましく、残りの２座のうちの１つが配位性リン原子及び１つが配位性窒素原子で配位する配位子がより好ましく、２つの配位性ホスフィノ基及び２つの配位性アミノ基で配位するアミノホスフィン配位子がさらにより好ましい。
【００５５】
具体的な４座配位子としては例えば下記一般式（２）で表されるものが挙げられる。
【００５６】
【化８】
【００５７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ1同士、Ｒ1とＲ2又はＲ3又はＲ4、Ｒ3とＲ4、又はＲ5とＲ6が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ1及びＱ2は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
上記式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表される、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
【００５８】
Ｑ1及びＱ2で表される二価のアリーレン基としては、炭素数６〜１２の単環式又は縮合環式のアリール基からなる２価の基が挙げられ、例えば、フェニレン基、２，３−ナフタレンジイル基等が挙げられる。フェニレン基としては、ｏ又はｍ−フェニレン基が挙げられる。また、アルキレン基としては、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６の鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられ、具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。さらに、アルキレン基はシクロアルキレン基であってもよく、シクロアルキレン基としては、炭素数３〜１５、好ましくは炭素数３〜１０、より好ましくは３〜６の単環式、多環式又は縮合環式のシクロアルキル基からなる２価の基が挙げられ、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等が挙げられる。有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
また一般式（２）で表される配位子は光学活性体である必要はないが、Ｑ1、Ｑ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6次第では光学活性体、ラセミ体、または各種立体異性体の混合物であってもよい。
【００５９】
続いて、本発明に用いられる２座配位子について説明する。
一般式（１）におけるＬ1及びＬ2で表される２座配位子としては、配位性リン原子及び配位性窒素原子で配位するアミノホスフィン配位子が好ましい。
具体的な２座配位子としては例えば下記一般式（３）で表されるものが挙げられる。
【００６０】
【化９】
【００６１】
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ7とＲ8又はＲ9、Ｒ8とＲ9、又はＲ10とＲ11が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ3は置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
一般式（３）における、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11としては、一般式（２）の説明におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6と同様のものが挙げられ、一般式（３）におけるＱ3としては、一般式（２）の説明におけるＱ1及びＱ2と同様のものが挙げられる。
また、一般式（３）で表される配位子は光学活性体である必要はないが、Ｑ3、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11次第では光学活性体、ラセミ体、または各種立体異性体の混合物であってもよい。
【００６２】
続いて、本発明に用いられるイミン構造を持つ一般式（４）または（５）で表される４座配位子について説明する。
【００６３】
【化１０】
【００６４】
（式中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ12同士、Ｒ12とＲ13又はＲ14、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16、Ｒ17同士、Ｒ19とＲ17又はＲ18、又はＲ20とＲ21が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ4、Ｑ5、Ｑ6及びＱ7は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
一般式（４）及び（５）におけるＲ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21としては、一般式（２）の説明におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6と同様のものが挙げられ、一般式（４）及び（５）におけるＱ4、Ｑ5、Ｑ6及びＱ7としては、一般式（２）の説明におけるＱ1及びＱ2と同様のものが挙げられる。
【００６５】
続いて、本発明に用いられるイミン構造を持つ一般式（７ａ）及び（７ｂ）で表される２座配位子について説明する。
【００６６】
【化１１】
【００６７】
（式中、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104及びＲ105は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基及び置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ22とＲ23、Ｒ24とＲ25、又はＲ104とＲ105が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ7a及びＱ7bは置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
一般式（７ａ）及び（７ｂ）におけるＲ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104及びＲ105としては、一般式（２）の説明におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6と同様のものが挙げられ、一般式（７ａ）及び（７ｂ）におけるＱ7a及びＱ7bとしては、一般式（２）の説明におけるＱ1及びＱ2と同様のものが挙げられる。
【００６８】
続いて、本発明において触媒として用いられる一般式（６）及び（６'）で表されるルテニウム錯体について説明する。
【００６９】
[Ｒｕ（Ｘ1）k（Ｘ2）l（Ｙ1）m（Ｙ2）o(Ｌ1')]（Ｚ）q （６）
【００７０】
[Ｒｕ（Ｘ3）k'（Ｘ4）l'（Ｙ3）m'（Ｙ4）o'(Ｌ1'')（Ｌ2''）]（Ｚ'）q' （６'）
【００７１】
（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、及びＸ4はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、及びＹ4は中性の単座配位子を表し、Ｚ及びＺ'は金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1'は一般式（４）又は一般式（５）で表される４座配位子を表し、Ｌ1''及びＬ2''は同一又は異なっていてもよく、一般式（７ａ）又は（７ｂ）で表される２座配位子を表す。ただし、ｋ、ｌ、ｍ、ｏは０≦ｋ+ｌ+ｍ+ｏ≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ+ｌ＝２のときはｑ＝０、ｋ+ｌ＝１のときはｑ＝1、ｋ+ｌ＝０のときはｑ＝２であり、ｋ'、ｌ'、ｍ'、ｏ'は０≦ｋ'+ｌ'+ｍ'+ｏ'≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ'+ｌ'＝２のときはｑ'＝０、ｋ'+ｌ'＝１のときはｑ'＝1、ｋ'+ｌ'＝０のときはｑ'＝２である。）
【００７２】
一般式（６）及び（６'）におけるＸ1、Ｘ2、Ｘ3、及びＸ4としては、一般式（１）の説明におけるＸと同様のものが挙げられ、一般式（６）及び（６'）におけるＹ1、Ｙ2、Ｙ3、及びＹ4としては、水、アルコール、エーテル、アミン、アミド、ニトリル、スルフィド、スルホキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００７３】
アルコールとしては、例えば下記一般式（１０）で表されるアルコールが挙げられる。
【００７４】
Ｒ27−ＯＨ （１０）
【００７５】
（式中、Ｒ27は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
好ましいアルコールとしては、例えば炭素数１〜４の低級アルコールが挙げられ、より具体的にはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノールなどが挙げられる。
【００７６】
エーテルとしては、例えば下記一般式（１１）で表されるエーテルが挙げられる。
【００７７】
Ｒ28−Ｏ−Ｒ29 （１１）
【００７８】
（式中、Ｒ28及びＲ29は同一であっても異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ28とＲ29が互いに結合した環状エーテルであってもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいエーテルとしては、例えば、炭素数２〜１２の環式又は非環式エーテルが挙げられ、より具体的にはジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。
【００７９】
アミンとしては、例えば下記一般式（１２）で表されるアミンが挙げられる。
【００８０】
Ｒ30Ｒ31Ｒ32Ｎ （１２）
【００８１】
（式中、Ｒ30、Ｒ31及びＲ32は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ30とＲ31及び／又はＲ32が互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいアミンとしては、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリフェニルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ピリミジン等の脂肪族・芳香族アミン類等が挙げられる。
【００８２】
アミドとしては、例えば下記一般式（１３）で表されるアミドが挙げられる。
【００８３】
【化１２】
【００８４】
（式中、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ33とＲ34及び／又はＲ35が互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいアミドの例としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ベンズアミド等が挙げられる。
【００８５】
ニトリルとしては、例えば下記一般式（１４）で表されるニトリルが挙げられる。
【００８６】
Ｒ36−ＣＮ （１４）
【００８７】
（式中、Ｒ36は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいニトリルとしては、例えばアセトニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられる。
【００８８】
スルフィドとしては、例えば下記一般式（１５）で表されるスルフィドが挙げられる。
【００８９】
Ｒ37−Ｓ−Ｒ38 （１５）
【００９０】
（式中、Ｒ37及びＲ38は同一であっても異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ37とＲ38が互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいスルフィドとしては、例えばジメチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、チオアニソール、チオフェン等が挙げられる。
【００９１】
スルホキシドとしては、例えば、下記一般式（１６）で表されるスルホキシドが挙げられる。
【００９２】
【化１３】
【００９３】
（式中、Ｒ39及びＲ40は同一であっても異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ39とＲ40とが互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいスルホキシドとしては、例えばジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホキシドが挙げられる。
【００９４】
ホスフィンとしては、例えば、下記一般式（１７）で表されるホスフィンが挙げられる。
【００９５】
Ｒ41Ｒ42Ｒ43Ｐ （１７）
【００９６】
（式中、Ｒ41及びＲ42、Ｒ43は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基及び置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ41とＲ42及び／又はＲ43とが互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいホスフィンとしては、例えばトリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン等が挙げられる。
【００９７】
ホスフィンオキシドとしては、例えば、下記一般式（１８）で表されるホスフィンオキシドが挙げられる。
【００９８】
【化１４】
【００９９】
（式中、Ｒ44及びＲ45、Ｒ46は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ44とＲ45及び／又はＲ46とが互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいホスフィンオキシドとしては、例えば前記したホスフィンのオキシドが挙げられる。
【０１００】
一般式（６）及び（６'）におけるＺ及びＺ'としては、ＢＦ4、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4、ＢＰｈ4、ＰＦ6、ＣｌＯ4、ＯＴｆ等のアニオンが挙げられる。Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表す。
【０１０１】
さらに一般式（６）及び（６'）を還元して得られる錯体で反応を実施する方法について説明する。還元剤としては例えば、水素化アルミニウムリチウム（ＬＡＨ）、下記一般式（１９）で表される水素化アルコキシアルミニウムリチウム、水素化ビス（２-メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム（Ｒｅｄ−Ａｌ）、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＨ）などの水素化アルミニウム化合物や、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、下記一般式（２０）で表される水素化ホウ素テトラアルキルアンモニウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化シアノホウ素ナトリウム、下記一般式（２１）で表される水素化シアノホウ素テトラアルキルアンモニウム、水素化トリエチルホウ素リチウム（Ｓｕｐｅｒ−Ｈｙｄｒｉｄｅ），水素化トリ（ｓｅｃ−ブチル）ホウ素リチウム（Ｌ−Ｓｅｌｅｃｔｒｉｄｅ），水素化トリ（ｓｅｃ−ブチル）ホウ素カリウム（Ｋ−Ｓｅｌｅｃｔｒｉｄｅ），水素化−９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナン（Ｌｉ ９−ＢＢＮ ｈｙｄｒｉｄｅ）、ボラン・ジメチルスルフィド錯体、ボラン・テトラヒドロフラン錯体、９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナン（９−ＢＢＮ）、カテコールボランなどの水素化ホウ素化合物、又は分子状水素が挙げられる。
【０１０２】
Ｌｉ（Ｒ47Ｏ）jＡｌＨ(4-j) （１９）
【０１０３】
（Ｒ48）4ＮＢＨ4 （２０）
【０１０４】
（Ｒ49）4ＮＣＮＢＨ3 （２１）
【０１０５】
（式中、Ｒ47は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。Ｒ48及びＲ49は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、ｊは１〜３の自然数を表す。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
【０１０６】
一般式（６）及び（６'）の還元は溶媒中で実施される。用いられる溶媒は単一溶媒あるいは混合溶媒が用いられる。具体的にはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−プロパンジオール及びグリセリン等の多価アルコール類が挙げられる。中でも溶媒中には１または２級アルコールが含まれていることが望ましい。特に好ましい溶媒としては、メタノールやエタノール及びこれらとトルエンとの混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができる。反応は必要に応じ撹拌下に行われる。
【０１０７】
こうして従来イミノホスフィンタイプの配位子を持つルテニウム錯体から一工程では得られなかった一般式（２）や（３）のようなアミノホスフィン配位子を持つ一般式（１）で表されるルテニウムヒドリド錯体が、本発明中に記載されている方法を用いれば短工程で効率よく調製することができ、工程の簡略化が可能となる。
【０１０８】
また、還元工程によって得られる錯体は反応溶液から単離することなく触媒として利用することも可能である。
このようなルテニウム錯体を触媒として用いることで、工業的に有利な比較的低い水素圧及び反応温度で、エステル及びラクトンからアルコール類を高収率、高触媒効率で製造することが可能である。また、本反応で用いられるルテニウム錯体は塩基を添加することなく反応を触媒するため、還元されるエステル又はラクトンが塩基に弱い場合にも分解や重合などの好ましくない副反応をおこすことなく、また光学活性体である場合でも、光学純度の低下を伴うことなくアルコール類へ還元することができる。
【実施例】
【０１０９】
以下に実施例を挙げ、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定されるものではない。
なお、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル及び31Ｐ−ＮＭＲスペクトルの測定はバリアン社製のＭＥＲＣＵＲＹ ｐｌｕｓ ３００を使用した。また、転化率、選択率、光学純度の測定はガスクロマトグラフィー（ＧＣ）及び液体クロマトグラフィー（ＬＣ）で行った。用いた装置は次のとおりである。
Ａ．転化率・選択率
Ａ−１．転化率・選択率分析条件Ａ：実施例１〜５、８、１１〜１５、１９，２０，２３及び比較例１〜４の分析に使用
キャピラリー；ＨＰ−ＩＮＮＯＷａｘ
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
８０℃（１分）−１０℃／分−２５０℃（１２分）
Ａ−２．転化率・選択率分析条件Ｂ：実施例９，１０及び比較例１０の分析に使用
GC; キャピラリー ＲＴｘ−５
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
８０℃（１０分）−１０℃／分−２７０℃（１分）
Ａ−３．転化率・選択率分析条件Ｃ：実施例１６，２１の分析に使用
GC; キャピラリー ＴＣ−ＦＦＡＰ
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
８０℃−５℃／分−２２０℃（２分）
Ｂ．光学純度
Ｂ−１．光学純度：２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールの光学純度分析
ｐ−ニトロ安息香酸エステルに変換した後分析した。
HPLC；カラム ダイセルＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ−Ｈ
オーブン；４０℃、溶離液；ヘキサン：２−プロパノール＝９５：５
Ｂ−２．光学純度：実施例８及び比較例９
HPLC；カラム ダイセルＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ−Ｈ
オーブン；３０℃、溶離液；ヘキサン：２−プロパノール＝９８：２
Ｂ−３．光学純度：３−アミノ−１−ブタノールの光学純度分析
アミノ基及び水酸基をトリフルオロアセチル化した後分析した。
GC；キャピラリー β−ＤＥＸ２２５
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
１６０℃（１５分）
Ｂ−４．光学純度：１，２−プロパンジオールの光学純度分析
水酸基をトリフルオロアセチル化した後分析した。
GC；キャピラリー ＣＨＩＲＡＳＩＬ−ＤＥＸ−ＣＢ
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
４５℃（１５分）−１０℃／分−１２５℃
Ｂ−５．光学純度：１，３−ブタンジオールの光学純度分析
GC；キャピラリー ＢＥＴＡ−ＤＥＸTM２２５
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
１２０℃（３０分）
【０１１０】
（実施例１）ルテニウム錯体１の合成とこれを用いたエステル還元
【０１１１】
【化１５】
【０１１２】
［ＲｕＣｌＨ（ＰＰｈ3）3］（１．７３ｍｍｏｌ）とＬ1a（１．７３ｍｍｏｌ）を１００ｍＬのフラスコに仕込み窒素置換したのち、テトラヒドロフラン（２５ｍＬ）を加えて溶解した。１時間加熱還流しテトラヒドロフランの大部分を減圧回収したのちヘキサン（２５ｍＬ）を加え結晶をろ別し、ヘキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルで洗浄した。
減圧乾燥しルテニウム錯体２（７４３ｍｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ （３００ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ −１５．９２（ｔ，J＝２７．２Ｈｚ、１Ｈ）、３．３１（ｍ、２Ｈ）、３．９６（ｍ、２Ｈ）、６．８８−８．２０（ｍ、３０Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ ５９．９（ｄ，J＝２２Ｈｚ）
【０１１３】
窒素気流下、ルテニウム錯体２（０．２ｍｍｏｌ）をトルエン（２０ｍＬ）に懸濁し水素化ホウ素ナトリウム（５．４ｍｍｏｌ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を加え１時間加熱還流した。空冷し減圧濃縮したのち、トルエン（２０ｍＬ）を加えて３０分攪拌しセライトろ過した。セライトはトルエン（２０ｍＬ）で洗浄した。減圧下、大部分のトルエンを回収しヘキサン（２０ｍＬ）を加え析出した結晶をろ別した。結晶はヘキサンで洗浄しルテニウム錯体１（８０ｍｇ）を得た。1ＨＮＭＲによるルテニウム上のヒドリドの面積比より異性体比は４：３であった。
ルテニウム上のヒドリドのシグナルは下記の通りであった。
1ＨＮＭＲ （３００ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
主異性体；δ −１５．１３（ｄｄ，J＝２１．９Ｈｚ，２５．８Ｈｚ）
副異性体；δ −１４．３０（ｔ，J＝２６．１Ｈｚ）
また31ＰＮＭＲのシグナルは下記の通りであった。
31ＰＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
主異性体；δ ６６．４（ｄ，J＝３２Ｈｚ），６４．７（ｄ，J＝３２Ｈｚ）
副異性体；δ ６５．４（ｓ）
【０１１４】
こうして調製されたルテニウム錯体１（０．０１８１ｍｍｏｌ）を撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに仕込み窒素置換したのち、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（３．１６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．４ｍＬ）溶液を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６．０時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率６８．０％、選択率９７．４％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。
【０１１５】
（実施例２）安息香酸メチルの水素化
【０１１６】
【化１６】
【０１１７】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、安息香酸メチル（７．９９ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００４ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（６ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１５．５時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率９６．２％、選択率８６．７％でベンジルアルコールが生成していた。
【０１１８】
（実施例３）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１１９】
【化１７】
【０１２０】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（２．４６ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１５．５時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率３８．０％、選択率９５．３％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。得られたアルコールの光学純度は９８．８％ｅｅであった。
【０１２１】
（実施例４）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（２．４６ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率５１．９％、選択率８９．７％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。
【０１２２】
（実施例５）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（２．４６ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１２０℃で８．０時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率７７．７％、選択率９３．４％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。得られたアルコールの光学純度は９８．２％ｅｅであった。
【０１２３】
（実施例６）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、１０ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１）で精製した。９８．４％ｅｅの２−Ｂｏｃ−アミノプロパノール（７３９ｍｇ）が得られた。
【０１２４】
（実施例７）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、１０ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１）で精製した。９８．０％ｅｅの２−Ｂｏｃ−アミノプロパノール（７１９ｍｇ）が得られた。
【０１２５】
（実施例８）（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルの水素化
【０１２６】
【化１８】
【０１２７】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、７８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率９９．０％、選択率９８．６％で（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロパノールが得られた。得られたアルコールの光学純度は７７．９％ｅｅであった。
【０１２８】
（実施例９）（Ｒ）−３−アミノブタン酸メチルの水素化
【０１２９】
【化１９】
【０１３０】
攪拌機付の１００ｍＬのオートクレーブに、ルテニウム錯体１（０．３３３ｍｍｏｌ）を仕込み窒素置換した。ここにテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）と９９％ｅｅ以上の（Ｒ）−３−アミノブタン酸メチルエステル（１００ｍｍｏｌ）を加え、水素圧３．５〜５ＭＰａ、８０℃で１４時間水素化を行った。反応液を濃縮し、得られた残渣を蒸留して（Ｒ）−３−アミノブタノール（７．３９ｇ；沸点８４〜８６℃／１４Ｔｏｒｒ）が得られた。得られたアルコールの光学純度は９９％ｅｅ以上であった。
【０１３１】
（実施例１０）３−ジメチルアミノプロピオン酸メチルの水素化
【０１３２】
【化２０】
【０１３３】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、３−ジメチルアミノプロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率１００％、選択率９７．５％で３−ジメチルアミノプロパノールが得られた。
【０１３４】
（実施例１１）フタリドの水素化
【０１３５】
【化２１】
【０１３６】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、フタリド（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率６６％、選択率９９％以上で１，２−ベンゼンジメタノールが得られた。
【０１３７】
（実施例１２）ニコチン酸メチルの水素化
【０１３８】
【化２２】
【０１３９】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、ニコチン酸メチル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３.２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率４２％、選択率９９％以上で３−ピリジンメタノールが得られた。
【０１４０】
（実施例１３）安息香酸ベンジルの水素化
【０１４１】
【化２３】
【０１４２】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、安息香酸ベンジル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３.２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率２３％、選択率９８％でベンジルアルコールが得られた。
【０１４３】
（実施例１４）２−フラン酸メチルの水素化
【０１４４】
【化２４】
【０１４５】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、２-フラン酸メチル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０１６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３.２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率３３％、選択率９９％以上でフルフリルアルコールが得られた。
【０１４６】
（実施例１５）コハク酸ジメチルの水素化
【０１４７】
【化２５】
【０１４８】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、サクシン酸ジメチル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０１６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３.２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率５０％、選択率７１％で１．４−ブタンジオールが得られた。
【０１４９】
（実施例１６）（Ｒ）−２−ヒドロキシプロピオン酸メチルの水素化
【０１５０】
【化２６】
【０１５１】
攪拌機付の１００ｍＬのオートクレーブに、ルテニウム錯体１（０．１２５ｍｍｏｌ）を仕込み窒素置換した。ここにテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）と９９．３％ｅｅの（Ｒ）−２−ヒドロキシプロピオン酸メチル（２５ｍｍｏｌ）を加え、水素圧４．６〜５ＭＰａ、８０℃で５時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率９８．６％、選択率９８．４％で（Ｒ）−１，２−プロパンジオールが得られた。得られたアルコールの光学純度は９６．６％ｅｅであった。
【０１５２】
（実施例１７）ルテニウム錯体３の合成
【０１５３】
【化２７】
【０１５４】
［ＲｕＣｌＨ（ＰＰｈ3）3］（１．２２ｍｍｏｌ）とＬ3a（２．４４ｍｍｏｌ）を１００ｍＬのフラスコに仕込み窒素置換したのち、トルエン（１５ｍＬ）を加えて溶解した。７０℃で１時間３０分加熱した後、氷浴で３０分冷却、析出した結晶を窒素雰囲下でろ別し、ジエチルエーテルで洗浄した。減圧乾燥しルテニウム錯体４（７９０ｍｇ）を得た。1Ｈ ＮＭＲによるルテニウム上のヒドリドの面積比より異性体比は２：１であった。
ルテニウム上のヒドリドのシグナルは下記の通りであった。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
主異性体；δ −１９．７９（ｔ，J＝２８．２Ｈｚ）
副異性体；δ −１９．５８（ｄｄ，J＝２４．９Ｈｚ，３０．０Ｈｚ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
主異性体；δ ７５．４８（ｄ，J＝２４．７Ｈｚ）
副異性体；δ ７７．１（ｄ，J＝３６．２Ｈｚ），７３．２（ｄ，J＝３６．２Ｈｚ）
【０１５５】
窒素気流下、ルテニウム錯体４（０．７ｍｍｏｌ）をトルエン（１５ｍＬ）に懸濁し水素化ホウ素ナトリウム（１１．１ｍｍｏｌ）のエタノール（１５ｍＬ）溶液を加え７０℃で１５分加熱、その後室温で１時間撹拌した。空冷し減圧濃縮したのち、トルエン（３０ｍＬ）を加えて２０分攪拌しセライトろ過した。セライトはトルエン（１０ｍＬ）で洗浄した。減圧下、大部分のトルエンを回収しヘキサン（１０ｍＬ）を加え、析出した結晶をろ別した。結晶はジエチルエーテルで洗浄しルテニウム錯体３（３９０ｍｇ）を得た。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
δ ＝ −１５．７０（ｔ，J＝２６．７Ｈｚ、１Ｈ）、−１．８（ｂｒ、４Ｈ）、２．２５（ｍ、２Ｈ）、２．３９（ｍ、２Ｈ）、２．６５（ｍ、２Ｈ）、２．９２（ｍ、２Ｈ）、３．８６（ｔ，J＝１２．３Ｈｚ、２Ｈ）、４．１６−４．５２（ｍ、４Ｈ）、６．８７−７．５０（ｍ、３０Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
δ ＝ ７７．４
【０１５６】
（実施例１８）ルテニウム錯体３の合成
【０１５７】
【化２８】
【０１５８】
［ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3］（０．７５ｍｍｏｌ）とＬ4a（１．５８ｍｍｏｌ）を１００ｍＬのフラスコに仕込み窒素置換したのち、トルエン（５ｍＬ）を加えて溶解した。８０℃で４０分加熱した後、室温に冷却、析出した結晶を窒素雰囲下でろ別し、トルエン、ジエチルエーテルで洗浄した。減圧乾燥しルテニウム錯体５（４５０ｍｇ）を得た。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ ２．５０（ｍ、４Ｈ）、４．７２（ｍ、４Ｈ）、６．９０−７．１０（ｍ、２２Ｈ）、７．４８−７．５４（ｍ、８Ｈ）、９．２２（Ｓ，２Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ ５５．９
【０１５９】
窒素気流下、ルテニウム錯体５（０．１２ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解し水素化ホウ素ナトリウム（１．３ｍｍｏｌ）のエタノール（４ｍＬ）溶液を加え８０℃で１時間加熱、その後水素化ホウ素ナトリウム（１．３ｍｍｏｌ）を加えて８０℃で１時間加熱、さらに水素化ホウ素ナトリウム（１．３ｍｍｏｌ）を加えて８０℃で１０分、その後室温で３０分撹拌した。空冷し減圧濃縮したのち、トルエン（１０ｍＬ）を加えて３０分攪拌しセライトろ過した。減圧下、大部分のトルエンを回収しヘプタン（３ｍＬ）を加え、析出した結晶を窒素雰囲気下でろ別した。結晶はヘプタンで洗浄しルテニウム錯体３（２０ｍｇ）を得た。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
δ ＝ −１５．７０（ｔ，J＝２６．７Ｈｚ、１Ｈ）、−１．８（ｂｒ、４Ｈ）、２．２５（ｍ、２Ｈ）、２．３９（ｍ、２Ｈ）、２．６５（ｍ、２Ｈ）、２．９２（ｍ、２Ｈ）、３．８６（ｔ，J＝１２．３Ｈｚ、２Ｈ）、４．１６−４．５２（ｍ、４Ｈ）、６．８７−７．５０（ｍ、３０Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
δ ＝ ７７．４
【０１６０】
（実施例１９）安息香酸メチルの水素化
【０１６１】
【化２９】
【０１６２】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、安息香酸メチル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体３（０．００８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（４ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率１００％、選択率９９．１％でベンジルアルコールが得られた。
【０１６３】
（実施例２０）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１６４】
【化３０】
【０１６５】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体３（０．０１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率７７．９％、選択率８０．３％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。得られたアルコールの光学純度は９９．３％ｅｅであった。
【０１６６】
（実施例２１）(Ｒ)−３−ヒドロキシブタン酸メチルの水素化
【０１６７】
【化３１】
【０１６８】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、９８．９％ｅｅの(Ｒ)−３−ヒドロキシブタン酸メチル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体３（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率５７．８％、選択率９５．０％で（Ｒ）−１，３−ブタンジオールが得られた。得られたアルコールの光学純度は９８．９％ｅｅであった。
【０１６９】
（実施例２２）ルテニウム錯体６の合成
【０１７０】
【化３２】
【０１７１】
［ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3］（０．９３ｍｍｏｌ）とＬ6a（１．８６ｍｍｏｌ）を１００ｍＬのフラスコに仕込み窒素置換したのち、トルエン（１０ｍＬ）を加えて溶解した。１００℃で１時間３０分加熱した後、減圧下、大部分のトルエンを回収しヘキサン（６ｍＬ）を加え、析出した結晶を窒素雰囲気下でろ別した。減圧乾燥しルテニウム錯体７（５７８ｍｇ）を得た。
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ５３．５
【０１７２】
窒素気流下、ルテニウム錯体７（０．８１ｍｍｏｌ）をトルエン（９ｍＬ）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム（１２．２ｍｍｏｌ）のエタノール（９ｍＬ）溶液を加え７０℃で３０分加熱、その後室温で３０分撹拌した。空冷し減圧濃縮したのち、トルエン（１８ｍＬ）を加えて２０分攪拌しセライトろ過した。セライトはトルエン（２ｍＬ）で洗浄した。減圧下、大部分のトルエンを回収しヘキサン（４ｍＬ）を加え、析出した結晶を窒素雰囲気下でろ別した。結晶はジエチルエーテルで洗浄しルテニウム錯体６（３４８ｍｇ）を得た。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ −１５．２６（ｄｄ，J＝２３．４Ｈｚ、J＝２６．７Ｈｚ、１Ｈ）、−１．１（ｂｒ、４Ｈ）、１．０２−１．１１（ｍ、１Ｈ）、１．２８−１．６３（ｍ、７Ｈ）、２．１２−２．５５（ｍ、６Ｈ）、２．９８−３．１４（ｍ、３Ｈ）、３．４３−３．５１（ｍ、１Ｈ）、４．４１（ｂｒ、１Ｈ）、４．８８−４．９９（ｍ、１Ｈ）、６．８８−７．１７（ｍ、１２Ｈ）、７．３２−７．３９（ｍ、２Ｈ）、７．４６−７．５２（ｍ、２Ｈ）、７．６０−７．７０（ｍ、４Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ ７４．５（ｄ、Ｊ＝３４．５Ｈｚ）、７９．７（ｄ、Ｊ＝３４．５Ｈｚ）
【０１７３】
（実施例２３）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１７４】
【化３３】
【０１７５】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体６（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率９９．８％、選択率９８．３％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。得られたアルコールの光学純度は９８．６％ｅｅであった。
【０１７６】
（比較例１）ジクロロルテニウム錯体８を用いた塩基を添加しない条件でのＬ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１７７】
【化３４】
【０１７８】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５．０ｍｍｏｌ）、ジクロロルテニウム錯体８（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１８．０時間水素化を行いガスクロマトグラフィーで反応を分析したが、アルコールは確認できず原料のエステルが残っていた。
【０１７９】
（比較例２）ジクロロルテニウム錯体８を用いて塩基を添加した条件でのＬ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１８０】
【化３５】
【０１８１】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５．０ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（５ｍｍｏｌ）、ジクロロルテニウム錯体８（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１８．０時間水素化を行った。反応溶液を５ｍＬのメタノールと２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、１０．０ｇのシリカゲルにて精製した（ジエチルエーテル／メタノール＝１０／１）。ラセミ体の４−メチルー２−オキサゾリジノン（３５６ｍｇ）が得られた。
【０１８２】
（比較例３）ジクロロルテニウム錯体８を用いた塩基を添加しない条件での（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルの水素化
【０１８３】
【化３６】
【０１８４】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、７８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ジクロロルテニウム錯体８（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行いガスクロマトグラフィーで反応を分析したが、アルコールは確認できず原料のエステルが残っていた。
【０１８５】
（比較例４）ジクロロルテニウム錯体８を用いて塩基を添加した条件での（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルの水素化
【０１８６】
【化３７】
【０１８７】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、７８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニル−プロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ジクロロルテニウム錯体８（０．０５ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、８．９ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１３．４ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）で精製した。１８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロパノール（６４５ｍｇ）が得られた。
【０１８８】
（比較例５）塩基を添加して行うＬ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１８９】
【化３８】
【０１９０】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を５ｍＬのメタノールと２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、１０．０ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５．０ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製した。ラセミ体の４−メチル−２−オキサゾリジノン（３２２ｍｇ）が得られた。
【０１９１】
（比較例６）塩基を添加して行う（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルの水素化
【０１９２】
【化３９】
【０１９３】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、７８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（１ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、８．９ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１３．４ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）で精製した。１％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロパノール（６５７ｍｇ）が得られた。
【０１９４】
（比較例７）塩基を添加して行う（Ｒ）−３−アミノブタン酸メチルの水素化
【０１９５】
【化４０】
【０１９６】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、（Ｒ）−３−アミノブタン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（１ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、反応は複雑な混合物を与え原料は消失していたが目的のアルコールは生成していなかった。
【技術分野】
【０００１】
本発明はエステル又はラクトンを水素還元してアルコール類を製造する方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
エステル及びラクトンを還元してアルコール類を得る方法は化学合成において重要である。この反応は化学量論量以上のシリルヒドリド、水素化ホウ素ナトリウムや水素化アルミニウムリチウムなどの水素化金属化合物を用いる方法と分子状水素を用いる触媒的水素化還元する方法が提案されてきた。前者は還元剤に由来する多量の廃棄物が生じることや非常に反応性の高い還元剤を使用することによる安全性の問題等があり、近年においては環境調和型技術である分子状水素を用いた触媒的水素化還元による方法が不均一系及び均一系を問わず積極的に開発検討されている。
【０００３】
不均一系による水素化還元としてはたとえば特許文献１や非特許文献１に示される例が提案されているが高温または高圧、あるいはその両方の条件が必要であるなどの問題点がある。また非特許文献２では光学活性エステルのラセミ化を伴わないような条件での製造が記されているが、基質であるエステルが芳香環を持つ場合には芳香環が還元されたアルコールが多く副生するなどの選択性が低い問題や、非常に高価な触媒を大量に用いなければならないというコスト面での不利があり工業的には問題があった。
均一系ではホスフィン配位子を持つルテニウム錯体の利用が多く提案されてきている。
例えば非特許文献３、非特許文献４や非特許文献５にはモノホスフィン，ジホスフィン、トリホスフィン及びテトラホスフィン配位子などを用いた方法が開示されており、特に３座トリホスフィン配位子の場合には比較的高い水素化活性を示すものの活性化されていないエステルの場合には環境負荷の大きいフッ素化化合物を溶媒として使用する必要などがあり工業的には問題があった。非特許文献６や非特許文献７には三座のジアミノホスフィンやアミノジホスフィン配位子を有するルテニウム錯体によるエステルの水素化還元が開示されているが、非特許文献６の方法では配位子や錯体を調製する際に環境に有害で世界的に製造そのものが禁止されつつある四塩化炭素を用いていることや低温反応が必要であり工業化には不利な点が多く、非特許文献７に開示されている方法では錯体調製をマイクロ波を照射しながら行うことや、エステル水素化においても１４０〜１５０℃といった高温が必要でかつフッ素化された活性なエステルの場合においてのみ高収率が得られるなどの難点があった。特許文献２、特許文献３，特許文献４及び非特許文献８には２座及び４座のアミノホスフィン及びイミノホスフィンを配位子としたルテニウム触媒を用いた効率的なエステルの水素化還元法が開示されているが、反応の実施には塩基としてアルカリ金属アルコキシドを使用する必要があり塩基性に不安定な官能基を持つ基質の還元や、不斉炭素を有するエステルの還元においては化合物の分解やラセミ化を起こすといった問題を生じる。また塩基を添加することなくカルボニル基を還元することが報告されているアミノホスフィンやジホスフィンとジアミンを配位子として持つルテニウム錯体はケトンのみを還元し、同時に存在するエステル基の還元が困難であることが非特許文献９や特許文献５などに示されている。また本発明で使用するような錯体は、例えば非特許文献１０や１１に開示されるようにイミノホスフィン配位子をあらかじめ還元し、ルテニウム前駆体と錯体を調製した後にさらに還元をするような多段階を経る方法で調製されていた。
【０００４】
【特許文献１】特開昭５１−８２０３号公報
【特許文献２】WO２００６/１０６４８３
【特許文献３】WO２００６/１０６４８４
【特許文献４】WO２００８/０６５５８８
【特許文献５】特開２００３−１０４９９３
【非特許文献１】Ｏｒｇ．Ｒｅａｃｔ．，１９５４，８，１
【非特許文献２】Ａｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔ．，２００１，３４３，８０２
【非特許文献３】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９８１，１０３，７５３６．
【非特許文献４】Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．１９９８，１３６７
【非特許文献５】Ｊ．Ｍｏｌ．Ｃａｔａｌ．Ａ：Ｃｈｅｍ．，２００３，２０６，１８５．
【非特許文献６】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２００６，４５，１１１３．
【非特許文献７】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．２００７，２６，１６
【非特許文献８】Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．２００７，４６，７４７３．
【非特許文献９】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２００５，１２７，５１６．
【非特許文献１０】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．２００４，２３，６２３９．
【非特許文献１１】Ｏｒｇａｎｏｍｅｔ．２００７，２６，５９４０．
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って本発明の目的は比較的温和な条件下で比較的簡便に調製できる配位子や錯体を用いてエステル又はラクトンから副反応などを抑制し、高収率かつ高触媒効率で、さらに比較的簡便に錯体を調製することで、工業的に効率よくアルコール類を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記事情に鑑み鋭意検討を行った結果、塩基性化合物を添加することなく、少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を２つ有するルテニウム錯体を触媒として用いることにより、副反応などを抑制し、高収率かつ高触媒効率でエステル又はラクトンからアルコール類を製造することができることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００７】
本発明をより詳細に説明すれば、本発明は、以下の［１］〜［９］に関するものである。
［１］次の一般式（１）
【０００８】
ＲｕＨ（Ｘ）(Ｌ1)(Ｌ2)n （１）
【０００９】
（式中、Ｘは１価のアニオン性配位子を表し、Ｌ1は少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表し、Ｌ2はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、Ｌ1が４座配位子の場合はｎ＝０であり、Ｌ1が２座配位子の場合はｎ＝１である。）
で表されるルテニウム錯体を触媒として、塩基化合物を添加することなくエステル又はラクトンを水素還元することによる対応するアルコール類の製造方法。
［２］一般式（１）で表される錯体におけるＸがＢＨ4である［１］に記載の製造方法。
［３］一般式（１）で表される錯体においてＬ1で表される４座配位子において、残りの２座のうちの１つが配位性リン原子及び１つが配位性窒素原子で配位する配位子である［１］又は［２］に記載の製造方法。
［４］一般式（１）で表される錯体のＬ1が下記一般式（２）で表される４座配位子である［３］に記載の製造方法。
【００１０】
【化１】
【００１１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ1同士、Ｒ1とＲ2又はＲ3又はＲ4、Ｒ3とＲ4、又はＲ5とＲ6が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ1及びＱ2は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
［５］一般式（１）で表される錯体のＬ1及びＬ2が同一又は異なる下記一般式（３）で表される２座のアミノホスフィン配位子である［１］又は［２］に記載の製造方法。
【００１２】
【化２】
【００１３】
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ7とＲ8又はＲ9、Ｒ8とＲ9、又はＲ10とＲ11が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ3は置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
［６］下記一般式（４）又は（５）
【００１４】
【化３】
【００１５】
（式中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ12同士、Ｒ12とＲ13又はＲ14、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16、Ｒ17同士、Ｒ19とＲ17又はＲ18、又はＲ20とＲ21が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ4、Ｑ5、Ｑ6及びＱ7は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
で表される４座配位子を有する一般式（６）
【００１６】
[Ｒｕ（Ｘ1）k（Ｘ2）l（Ｙ1）m（Ｙ2）o(Ｌ1')]（Ｚ）q （６）
【００１７】
（式中、Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立して中性の単座配位子を表し、Ｚは金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1'は一般式（４）又は一般式（５）で表される４座配位子を表す。ただし、ｋ、ｌ、ｍ、ｏは０≦ｋ+ｌ+ｍ+ｏ≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ+ｌ＝２のときはｑ＝０、ｋ+ｌ＝１のときはｑ＝1、ｋ+ｌ＝０のときはｑ＝２である。）
で表されるルテニウム錯体を還元して得られる錯体を用いる［４］に記載の製造方法。
［７］下記一般式（７ａ）及び（７ｂ）
【００１８】
【化４】
【００１９】
（式中、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104及びＲ105は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ22とＲ23、Ｒ24とＲ25、又はＲ104とＲ105が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ7a及びＱ7bは置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
で表される２座のアミノホスフィン配位子を有する一般式（６'）
【００２０】
[Ｒｕ（Ｘ3）k'（Ｘ4）l'（Ｙ3）m'（Ｙ4）o'(Ｌ1'')（Ｌ2''）]（Ｚ'）q' （６'）
【００２１】
（式中、Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ3及びＹ4はそれぞれ独立して中性の単座配位子を表し、Ｚ'は金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1''及びＬ2''は同一又は異なっていてもよく一般式（７ａ）又は（７ｂ）で表される２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、ｋ'、ｌ'、ｍ'、ｏ'は０≦ｋ'+ｌ'+ｍ'+ｏ'≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ'+ｌ'＝２のときはｑ'＝０、ｋ'+ｌ'＝１のときはｑ'＝1、ｋ'+ｌ'＝０のときはｑ'＝２である。）で表されるルテニウム錯体を還元して得られる錯体を用いる［５］に記載の製造方法。
［８］調製した錯体を反応溶液から単離することなく触媒として用いる［１］〜［７］に記載の製造方法。
［９］エステル又はラクトンが光学活性体であり、得られるアルコール類の光学純度が、水素還元されるエステル又はラクトンの光学純度の９０％以上の数値を保持していることを特徴とする［１］〜［８］に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００２２】
本発明の製造方法によれば、工業的に有利な比較的低い水素圧及び反応温度で、エステル及びラクトンから高収率、高触媒効率でアルコール類を製造することが可能である。また、還元されるエステル又はラクトンが塩基に不安定な場合にも分解や重合などの必要としない化学変換をおこすことなく、また光学活性体である場合でも、光学純度の低下を伴うことなくアルコール類へ還元することができる。また触媒を簡便に調製することで工業的により有利な方法とすることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２３】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明において原料の水素化基質としてエステル又はラクトンが用いられる。水素化基質として用いられるエステルとしては、脂肪族カルボン酸エステル又は芳香族カルボン酸エステル等が挙げられる。該エステルはモノカルボン酸由来でもポリカルボン酸由来でも良い。また、これらのエステル類やラクトン類は、本発明の水素化方法において悪影響を及ぼさないいかなる置換基で置換されていてもよい。
【００２４】
本発明において水素化基質として用いられるエステル類としては、例えば、下記の脂肪族カルボン酸又は芳香族カルボン酸のアルキルエステル、アリールエステル、アラルキルエステル、シクロアルキルエステル等が挙げられる。
【００２５】
脂肪族カルボン酸としては、炭素数２〜５０、好ましくは２〜２０、より好ましくは２〜１５の鎖状または環状の脂肪族基を持つモノ又はポリカルボン酸や、炭素数２〜１４で、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子及び／又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、３〜８員、好ましくは４〜６員の単環、多環、又は縮合環の脂肪族複素環基を持つモノ又はポリカルボン酸等が挙げられる。具体的には、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ヘキサン酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デカン酸、ドデカン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、シュウ酸、プロパンジカルボン酸、ブタンジカルボン酸、ヘキサンジカルボン酸、セバシン酸、アクリル酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロペンテンカルボン酸、シクロヘキセンカルボン酸、２−アゼチジンカルボン酸、２−ピロリジンカルボン酸（プロリン）、３−ピロリジンカルボン酸、２−ピペリジンカルボン酸、３−ピペリジンカルボン酸、４−ピペリジンカルボン酸、ピペラジン−２−カルボン酸等が挙げられる。
【００２６】
また、これら脂肪族カルボン酸は置換基で置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
上記脂肪族カルボン酸の置換基としてのアルキル基としては、炭素数１〜５０、好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１０の直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基等が挙げられる。
【００２７】
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアリール基としては、炭素数６〜３６、好ましくは炭素数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１４の単環式、多環式、又は縮合環式のアリール基が挙げられ、具体的には、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、ビフェニル基等が挙げられる。
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアラルキル基としては、前記アルキル基の少なくとも１個の水素原子が前記アリール基で置換された基が挙げられ、例えば炭素数７〜１５のアラルキル基が好ましく、具体的にはベンジル基、１−フェニルエチル基、２−フェニルエチル基、１−フェニルプロピル基、３−ナフチルプロピル基等が挙げられる。
【００２８】
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのシクロアルキル基としては炭素数３〜３０、好ましくは炭素数３〜２０、より好ましくは炭素数３〜１０の単環式、多環式、又は縮合環式のシクロアルキル基が挙げられ、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアルコキシ基としては、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１５、より好ましくは炭素数１〜１０の直鎖若しくは分岐又は環状（環状の場合は炭素数３以上である。）のアルキル基またはシクロアルキル基が酸素に結合したアルコキシ基が挙げられ、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【００２９】
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアリールオキシ基としては、炭素数６〜３６、好ましくは炭素数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１４の単環式、多環式、又は縮合環式のアリール基が酸素に結合したアリールオキシ基が挙げられ、具体的には、例えば、フェノキシ基、トリロキシ基、キシリロキシ基、ナフトキシ基等が挙げられる。
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのアラルキルオキシ基としては前記アルコキシ基のアルキル基またはシクロアルキル基の少なくとも１個の水素原子が前記アリール基で置換された基が挙げられ、例えば炭素数７〜１５のアラルキルオキシ基が好ましく、具体的にはベンジルオキシ基、１−フェニルエトキシ基、２−フェニルエトキシ基、１−フェニルプロポキシ基、２−フェニルプロポキシ基、３−フェニルプロポキシ基、４−フェニルブトキシ基、１−ナフチルメトキシ基、２−ナフチルメトキシ基等を挙げることができる基等が挙げられる。
また、脂肪族カルボン酸の置換基としてのハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられる。
【００３０】
さらに、脂肪族カルボン酸の置換基としての複素環基としては、脂肪族複素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基としては、例えば、炭素数２〜１４で、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の例えば窒素原子、酸素原子及び／又は硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいる、３〜８員、好ましくは４〜６員の単環の脂肪族複素環基、多環又は縮合環の脂肪族複素環基が挙げられる。脂肪族複素環基の具体例としては、例えば、アゼチジル基、アゼチジノ基、ピロリジル基、ピロリジノ基、ピペリジニル基、ピペリジノ基、ピペラジニル基、ピペラジノ基、モルホリニル基、モルホリノ基、テトラヒドロフリル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロチオフェニル基等が挙げられる。芳香族複素環基としては、例えば、炭素数２〜１５で、異種原子として少なくとも１個、好ましくは１〜３個の窒素原子、酸素原子及び／又は硫黄原子等の異種原子を含んでいる、３〜８員、好ましくは５又は６員の単環式ヘテロアリール基、多環式又は縮合環式のヘテロアリール基が挙げられる。その具体例としては、例えば、フリル基、チエニル基、ピリジル基、ピリミジル基、ピラジル基、ピリダジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、キノリル基、イソキノリル基、キノキサリル基、フタラジル基、キナゾリル基、ナフチリジル基、シンノリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、アクリジル基、アクリジニル基等が挙げられる。
【００３１】
さらに、脂肪族カルボン酸の置換基としての保護されていてもよいアミノ基としては、無保護のアミノ基；Ｎ−メチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノ基、Ｎ−シクロヘキシルアミノ基等のモノ又はジアルキルアミノ基；Ｎ−フェニルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジフェニルアミノ基、Ｎ−ナフチルアミノ基、Ｎ−ナフチル−Ｎ−フェニルアミノ基等のモノ又はジアリールアミノ基；Ｎ−ベンジルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノ基等のモノ又はジアラルキルアミノ基；ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ペンタノイルアミノ基、ヘキサノイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等のアシルアミノ基；メトキシカルボニルアミノ基、エトキシカルボニルアミノ基、ｎ−プロポキシカルボニルアミノ基、ｎ−ブトキシカルボニルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルアミノ基、ペンチルオキシカルボニルアミノ基、ヘキシルオキシカルボニルアミノ基等のアルコキシカルボニルアミノ基；フェニルオキシカルボニルアミノ基等のアリールオキシカルボニルアミノ基；ベンジルオキシカルボニルアミノ基等のアラルキルオキシカルボニルアミノ基等が挙げられる。さらに保護されていてもよいアミノ基としては、例えば参考文献１（Ｐｒｏｔｅｃｔｉｖｅ Ｇｒｏｕｐｓ ｉｎ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ Ｓｅｃｏｎｄ Ｅｄｉｔｉｏｎ， ＪＯＨＮ ＷＩＲＥＹ ＆ ＳＯＮＳ，ＩＮＣ．１９９１）に記載されている一般的なアミノ基の保護基で保護されたアミノ基が挙げられる。
【００３２】
脂肪族カルボン酸の置換基としての保護されていてもよい水酸基としては、無保護の水酸基または例えば、トリメチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基などのトリアルキルシリル基などのシリル基、ベンジル基やメトキシメチル基など例えば前記の参考文献１に記載されている一般的な水酸基の保護基で保護されていてもよい水酸基などが挙げられる。ただし、保護基がアシル基の場合には保護基が還元された生成物が得られる場合がある。
【００３３】
脂肪族カルボン酸の置換基として示したアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、複素環基は前記したアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等でさらに置換されていてもよい。
【００３４】
芳香族カルボン酸としては、炭素数６〜３６、好ましくは炭素数６〜１８、より好ましくは炭素数６〜１２の単環式、多環式、若しくは縮合環式のアリール基；又は、１個〜４個、好ましくは１〜３個、より好ましくは１〜２個の窒素原子、酸素原子、若しくは硫黄原子からなる異種原子を含有する３〜８員、好ましくは５〜８員の環を有する単環式、多環式、若しくは縮合環式のヘテロアリール基を有するモノまたはポリ芳香族カルボン酸が挙げられ、例えば、安息香酸、ナフタレンカルボン酸、ピリジンカルボン酸、ピリジンジカルボン酸、キノリンカルボン酸、フランカルボン酸、チオフェンカルボン酸等が挙げられる。
【００３５】
また、これらの芳香族カルボン酸は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。
【００３６】
一方、本発明において用いられるラクトン類としては、β−ラクトン、γ−ラクトン、δ−ラクトン等が挙げられ、これらのラクトン類は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。また、ビシクロ環構造や芳香族環と縮合環構造を有していても良い。
アルキルエステルのアルキル基、アリールエステルのアリール基、アラルキルエステルのアラルキル基、シクロアルキルエステルのシクロアルキル基としてはそれぞれ脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたものが挙げられる。さらにこれらの基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。
【００３７】
好ましいエステル類としては、メチルエステル、エチルエステル、イソプロピルなどの炭素数１〜１０、好ましくは１〜５のアルキルエステルが挙げられる。より好ましいエステル類としてはメチルエステルが挙げられる。
これらのエステルは不斉中心を持っている必要はないが、光学活性体や各種異性体の混合物であってもよい。
【００３８】
本発明のアルコール類の製造方法は、無溶媒又は溶媒中で好適に実施することができるが、溶媒を使用することが好ましい。用いられる溶媒としては、基質および触媒を溶解できるものが好ましく、単一溶媒あるいは混合溶媒が用いられる。具体的にはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、メチルｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−プロパンジオール及びグリセリン等の多価アルコール類が挙げられる。この中でもエーテル類が好ましく、特に好ましい溶媒としては、テトラヒドロフランが挙げられる。溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができる。反応は必要に応じ撹拌下に行われる。
【００３９】
触媒の使用量は、水素化基質、反応条件や触媒の種類等によって異なるが、通常、水素化基質に対するルテニウム金属としてのモル比で０．００１モル％〜１０モル％、好ましくは０．０５モル％〜５モル％の範囲である。
本発明の方法において、水素還元を行う際の反応温度は、５０℃〜１５０℃、好ましくは６０℃〜１２０℃である。反応温度が低すぎると未反応の原料が多く残存する場合があり、また高すぎると、原料、触媒等の分解が起こる場合があり、好ましくない。
本発明において、水素還元を行う際の水素の圧力は、１ＭＰａ〜１０ＭＰａ、好ましくは３ＭＰａ〜６ＭＰａである。
また反応時間は２時間〜２０時間程度で十分に高い原料転化率を得ることができる。
反応終了後は、抽出、濾過、結晶化、蒸留、各種クロマトグラフィー等、通常用いられる精製法を単独又は適宜組み合わせることにより目的のアルコール類を得ることができる。
【００４０】
本発明における塩基化合物の有機塩基化合物の具体例としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピペリジン、ピリジン、４−ジメチルアミノピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノナ−５−エン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデカ−７−エン、トリ−ｎ−ブチルアミン及びＮ−メチルモルホリン等のアミン類が挙げられる。
また無機塩基化合物の具体例としては、例えば炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸リチウム、炭酸セシウム等のアルカリ金属炭酸塩、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム等のアルカリ土類金属炭酸塩、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリ金属炭酸水素塩、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等のアルカリ金属水酸化物、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等のアルカリ土類金属水酸化物、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムイソプロポキシド、ナトリウムｔ−ブトキシド、カリウムメトキシド、カリウムエトキシド、カリウムイソプロポキシド、カリウムｔ−ブトキシド、リチウムメトキシド、リチウムイソプロポキシド、リチウムｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、マグネシウムメトキシド、マグネシウムエトキシド等のアルカリ土類金属アルコキシド、水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物が挙げられる。
【００４１】
本発明で用いられるルテニウム錯体を製造するための出発原料であるルテニウム化合物としては、例えば、ＲｕＣｌ3水和物、ＲｕＢｒ3水和物、ＲｕＩ3水和物等の無機ルテニウム化合物、ＲｕＣｌ2（ＤＭＳＯ）4、［Ｒｕ（ｃｏｄ）Ｃｌ2］n、［Ｒｕ（ｎｂｄ）Ｃｌ2］n、（ＣＯＤ）Ｒｕ(２−メタリル)2、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｂｒ2］2、［Ｒｕ（ベンゼン）Ｉ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｂｒ2］2、［Ｒｕ（ｐ−シメン）Ｉ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｂｒ2］2、［Ｒｕ（メシチレン）Ｉ2］2、［Ｒｕ（ヘキサメチルベンゼン）Ｃｌ2］2、［Ｒｕ（ヘキサメチルベンゼン）Ｂｒ2］2、［Ｒｕ（ヘキサメチルベンゼン）Ｉ2］2、ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3、ＲｕＢｒ2（ＰＰｈ3）3、ＲｕＩ2（ＰＰｈ3）3、ＲｕＨ4（ＰＰｈ3）3、ＲｕＣｌＨ（ＰＰｈ3）3、ＲｕＨ（ＯＡｃ）（ＰＰｈ3）3，ＲｕＨ2（ＰＰｈ3）4等が挙げられる。例示中、ＤＭＳＯはジメチルスルホキシド、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエン、ｎｂｄはノルボルナジエン、Ｐｈはフェニル基をそれぞれ表す。
【００４２】
次に、本発明において触媒として用いられる下記一般式（１）で表されるルテニウム錯体について説明する。
【００４３】
ＲｕＨ（Ｘ）(Ｌ1)(Ｌ2)n （１）
【００４４】
（式中、Ｘは１価のアニオン性配位子を表し、Ｌ1は少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表し、Ｌ2はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、Ｌ1が４座配位子の場合はｎ＝０であり、Ｌ1が２座配位子の場合はｎ＝１である。）
【００４５】
まず、一般式（１）におけるＸで表される１価のアニオン性配位子について説明する。１価のアニオン性配位子としては、例えば水素原子（ヒドリド）、ＡｌＨ4、ＢＨ4、下記一般式（８）、（９ａ）及び（９ｂ）で表される配位子，ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ヒドロキシ基又はアシルオキシ基，スルホニルオキシ基が挙げられる。
【００４６】
ＭＨrＲ25(4-r) （８）
【００４７】
【化５】
【００４８】
【化６】
【００４９】
（式中、Ｍはアルミニウムまたはホウ素を表し、ｒは０〜３の自然数であり、Ｒ25は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいシクロアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していてもよいアリールオキシ基又は置換基を有していてもよいアラルキルオキシ基を表し、Ｒ26及びＲ26'は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ26同士、又はＲ26とＲ26'とが結合して環を形成してもよい。Ｑ9a及びＱ9bはそれぞれ独立して、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基又は置換基を有していてもよいアルキレン基を表す。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基としては、脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
【００５０】
Ｑ9a及びＱ9bで表される二価のアリーレン基としては、炭素数６〜１２の単環式又は縮合環式のアリール基からなる２価の基が挙げられ、例えば、フェニレン基、２，３−ナフタレンジイル基等が挙げられる。フェニレン基としては、ｏ又はｍ−フェニレン基が挙げられる。また、アルキレン基としては、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６の鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられ、具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。さらに、アルキレン基はシクロアルキレン基であってもよく、シクロアルキレン基としては、炭素数３〜１５、好ましくは炭素数３〜１０、より好ましくは３〜６の単環式、多環式又は縮合環式のシクロアルキル基からなる２価の基が挙げられ、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等が挙げられる。これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
これらのアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基及び複素環は前記したアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。Ｑ9a及びＱ9bとしては、例えば２，２，２−トリフルオロエトキシ基、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロポキシ基、１−ペンタフルオロフェニルエトキシ基、ペンタフルオロフェノキシ基などが挙げられる。一般式（９ａ）や（９ｂ）で表される１価のアニオン性配位子としては下記構造式９Ａや９Ｂで表されるもの等が挙げられる。
【００５１】
【化７】
【００５２】
アシルオキシ基としては（ＲaＣＯ2）で表されるものが挙げられる。アシルオキシ基ＲaＣＯ2におけるＲaとしては、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基が挙げられる。アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基としては例えば脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらはさらに脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等で置換されていてもよい。Ｒaとしては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ｔ−ブチル基、トリフルオロメチル基、フェニル基、ペンタフルオロフェニル基等が挙げられる。
【００５３】
スルホニルオキシ基としては（ＲSＳＯ3）で表されるものが挙げられる。スルホニルオキシ基ＲSＳＯ3におけるＲSとしてはアシルオキシ基におけるＲaと同様のものがあげられる。
【００５４】
一般式（１）で表されるルテニウム錯体は、例えば、Ｃｈｅｍ．Ｅｕｒ．Ｊ．２００３，９，４９５４．やＡｄｖ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃａｔａｌ．２００５，３４７，５７１．に記載の方法などにより得ることができる。このように調製される錯体は、配位子の配位様式やコンホメーションによって立体異性体を生じることがあるが、反応に用いる錯体はこれら立体異性体の混合物であっても純粋なひとつの異性体であっても構わない。
また、例えば前記した非特許文献９や非特許文献１１に記載の方法などにより、Ｘ＝ＢＨ4であるような一般式（１）で表されるルテニウムヒドリド錯体を得ることができる。これらの錯体は比較的安定に存在し、比較的取り扱いが容易である。
次に、本発明に用いられる４座配位子について説明する。一般式（１）におけるＬ1で表される４座配位子としては、少なくともひとつの配位性ホスフィノ基及び少なくともひとつの配位性アミノ基で配位する配位子が好ましく、残りの２座のうちの１つが配位性リン原子及び１つが配位性窒素原子で配位する配位子がより好ましく、２つの配位性ホスフィノ基及び２つの配位性アミノ基で配位するアミノホスフィン配位子がさらにより好ましい。
【００５５】
具体的な４座配位子としては例えば下記一般式（２）で表されるものが挙げられる。
【００５６】
【化８】
【００５７】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ1同士、Ｒ1とＲ2又はＲ3又はＲ4、Ｒ3とＲ4、又はＲ5とＲ6が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ1及びＱ2は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
上記式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6で表される、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
【００５８】
Ｑ1及びＱ2で表される二価のアリーレン基としては、炭素数６〜１２の単環式又は縮合環式のアリール基からなる２価の基が挙げられ、例えば、フェニレン基、２，３−ナフタレンジイル基等が挙げられる。フェニレン基としては、ｏ又はｍ−フェニレン基が挙げられる。また、アルキレン基としては、炭素数１〜２０、好ましくは炭素数１〜１０、より好ましくは炭素数１〜６の鎖状又は分岐状のアルキル基が挙げられ、具体的には例えば、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。さらに、アルキレン基はシクロアルキレン基であってもよく、シクロアルキレン基としては、炭素数３〜１５、好ましくは炭素数３〜１０、より好ましくは３〜６の単環式、多環式又は縮合環式のシクロアルキル基からなる２価の基が挙げられ、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基等が挙げられる。有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
また一般式（２）で表される配位子は光学活性体である必要はないが、Ｑ1、Ｑ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5及びＲ6次第では光学活性体、ラセミ体、または各種立体異性体の混合物であってもよい。
【００５９】
続いて、本発明に用いられる２座配位子について説明する。
一般式（１）におけるＬ1及びＬ2で表される２座配位子としては、配位性リン原子及び配位性窒素原子で配位するアミノホスフィン配位子が好ましい。
具体的な２座配位子としては例えば下記一般式（３）で表されるものが挙げられる。
【００６０】
【化９】
【００６１】
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ7とＲ8又はＲ9、Ｒ8とＲ9、又はＲ10とＲ11が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ3は置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
一般式（３）における、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11としては、一般式（２）の説明におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6と同様のものが挙げられ、一般式（３）におけるＱ3としては、一般式（２）の説明におけるＱ1及びＱ2と同様のものが挙げられる。
また、一般式（３）で表される配位子は光学活性体である必要はないが、Ｑ3、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11次第では光学活性体、ラセミ体、または各種立体異性体の混合物であってもよい。
【００６２】
続いて、本発明に用いられるイミン構造を持つ一般式（４）または（５）で表される４座配位子について説明する。
【００６３】
【化１０】
【００６４】
（式中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ12同士、Ｒ12とＲ13又はＲ14、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16、Ｒ17同士、Ｒ19とＲ17又はＲ18、又はＲ20とＲ21が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ4、Ｑ5、Ｑ6及びＱ7は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
一般式（４）及び（５）におけるＲ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21としては、一般式（２）の説明におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6と同様のものが挙げられ、一般式（４）及び（５）におけるＱ4、Ｑ5、Ｑ6及びＱ7としては、一般式（２）の説明におけるＱ1及びＱ2と同様のものが挙げられる。
【００６５】
続いて、本発明に用いられるイミン構造を持つ一般式（７ａ）及び（７ｂ）で表される２座配位子について説明する。
【００６６】
【化１１】
【００６７】
（式中、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104及びＲ105は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基及び置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ22とＲ23、Ｒ24とＲ25、又はＲ104とＲ105が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ7a及びＱ7bは置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
一般式（７ａ）及び（７ｂ）におけるＲ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104及びＲ105としては、一般式（２）の説明におけるＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6と同様のものが挙げられ、一般式（７ａ）及び（７ｂ）におけるＱ7a及びＱ7bとしては、一般式（２）の説明におけるＱ1及びＱ2と同様のものが挙げられる。
【００６８】
続いて、本発明において触媒として用いられる一般式（６）及び（６'）で表されるルテニウム錯体について説明する。
【００６９】
[Ｒｕ（Ｘ1）k（Ｘ2）l（Ｙ1）m（Ｙ2）o(Ｌ1')]（Ｚ）q （６）
【００７０】
[Ｒｕ（Ｘ3）k'（Ｘ4）l'（Ｙ3）m'（Ｙ4）o'(Ｌ1'')（Ｌ2''）]（Ｚ'）q' （６'）
【００７１】
（式中、Ｘ1、Ｘ2、Ｘ3、及びＸ4はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ1、Ｙ2、Ｙ3、及びＹ4は中性の単座配位子を表し、Ｚ及びＺ'は金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1'は一般式（４）又は一般式（５）で表される４座配位子を表し、Ｌ1''及びＬ2''は同一又は異なっていてもよく、一般式（７ａ）又は（７ｂ）で表される２座配位子を表す。ただし、ｋ、ｌ、ｍ、ｏは０≦ｋ+ｌ+ｍ+ｏ≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ+ｌ＝２のときはｑ＝０、ｋ+ｌ＝１のときはｑ＝1、ｋ+ｌ＝０のときはｑ＝２であり、ｋ'、ｌ'、ｍ'、ｏ'は０≦ｋ'+ｌ'+ｍ'+ｏ'≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ'+ｌ'＝２のときはｑ'＝０、ｋ'+ｌ'＝１のときはｑ'＝1、ｋ'+ｌ'＝０のときはｑ'＝２である。）
【００７２】
一般式（６）及び（６'）におけるＸ1、Ｘ2、Ｘ3、及びＸ4としては、一般式（１）の説明におけるＸと同様のものが挙げられ、一般式（６）及び（６'）におけるＹ1、Ｙ2、Ｙ3、及びＹ4としては、水、アルコール、エーテル、アミン、アミド、ニトリル、スルフィド、スルホキシド、ホスフィン、ホスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００７３】
アルコールとしては、例えば下記一般式（１０）で表されるアルコールが挙げられる。
【００７４】
Ｒ27−ＯＨ （１０）
【００７５】
（式中、Ｒ27は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
好ましいアルコールとしては、例えば炭素数１〜４の低級アルコールが挙げられ、より具体的にはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノールなどが挙げられる。
【００７６】
エーテルとしては、例えば下記一般式（１１）で表されるエーテルが挙げられる。
【００７７】
Ｒ28−Ｏ−Ｒ29 （１１）
【００７８】
（式中、Ｒ28及びＲ29は同一であっても異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ28とＲ29が互いに結合した環状エーテルであってもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいエーテルとしては、例えば、炭素数２〜１２の環式又は非環式エーテルが挙げられ、より具体的にはジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。
【００７９】
アミンとしては、例えば下記一般式（１２）で表されるアミンが挙げられる。
【００８０】
Ｒ30Ｒ31Ｒ32Ｎ （１２）
【００８１】
（式中、Ｒ30、Ｒ31及びＲ32は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ30とＲ31及び／又はＲ32が互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいアミンとしては、トリエチルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリフェニルアミン、ピリジン、ジメチルアミノピリジン、ピリミジン等の脂肪族・芳香族アミン類等が挙げられる。
【００８２】
アミドとしては、例えば下記一般式（１３）で表されるアミドが挙げられる。
【００８３】
【化１２】
【００８４】
（式中、Ｒ33、Ｒ34及びＲ35は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ33とＲ34及び／又はＲ35が互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいアミドの例としては、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ベンズアミド等が挙げられる。
【００８５】
ニトリルとしては、例えば下記一般式（１４）で表されるニトリルが挙げられる。
【００８６】
Ｒ36−ＣＮ （１４）
【００８７】
（式中、Ｒ36は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいニトリルとしては、例えばアセトニトリル、ベンゾニトリル等が挙げられる。
【００８８】
スルフィドとしては、例えば下記一般式（１５）で表されるスルフィドが挙げられる。
【００８９】
Ｒ37−Ｓ−Ｒ38 （１５）
【００９０】
（式中、Ｒ37及びＲ38は同一であっても異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ37とＲ38が互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいスルフィドとしては、例えばジメチルスルフィド、テトラヒドロチオフェン、チオアニソール、チオフェン等が挙げられる。
【００９１】
スルホキシドとしては、例えば、下記一般式（１６）で表されるスルホキシドが挙げられる。
【００９２】
【化１３】
【００９３】
（式中、Ｒ39及びＲ40は同一であっても異なっていてもよく、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ39とＲ40とが互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいスルホキシドとしては、例えばジメチルスルホキシド、テトラメチレンスルホキシドが挙げられる。
【００９４】
ホスフィンとしては、例えば、下記一般式（１７）で表されるホスフィンが挙げられる。
【００９５】
Ｒ41Ｒ42Ｒ43Ｐ （１７）
【００９６】
（式中、Ｒ41及びＲ42、Ｒ43は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基及び置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ41とＲ42及び／又はＲ43とが互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいホスフィンとしては、例えばトリフェニルホスフィン、トリトリルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィン、メチルジフェニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン等が挙げられる。
【００９７】
ホスフィンオキシドとしては、例えば、下記一般式（１８）で表されるホスフィンオキシドが挙げられる。
【００９８】
【化１４】
【００９９】
（式中、Ｒ44及びＲ45、Ｒ46は同一であっても異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。また、Ｒ44とＲ45及び／又はＲ46とが互いに結合して環を形成してもよい。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。好ましいホスフィンオキシドとしては、例えば前記したホスフィンのオキシドが挙げられる。
【０１００】
一般式（６）及び（６'）におけるＺ及びＺ'としては、ＢＦ4、Ｂ（Ｃ6Ｆ5）4、ＢＰｈ4、ＰＦ6、ＣｌＯ4、ＯＴｆ等のアニオンが挙げられる。Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表す。
【０１０１】
さらに一般式（６）及び（６'）を還元して得られる錯体で反応を実施する方法について説明する。還元剤としては例えば、水素化アルミニウムリチウム（ＬＡＨ）、下記一般式（１９）で表される水素化アルコキシアルミニウムリチウム、水素化ビス（２-メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム（Ｒｅｄ−Ａｌ）、水素化ジイソブチルアルミニウム（ＤＩＢＡＨ）などの水素化アルミニウム化合物や、例えば水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素リチウム、下記一般式（２０）で表される水素化ホウ素テトラアルキルアンモニウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化シアノホウ素ナトリウム、下記一般式（２１）で表される水素化シアノホウ素テトラアルキルアンモニウム、水素化トリエチルホウ素リチウム（Ｓｕｐｅｒ−Ｈｙｄｒｉｄｅ），水素化トリ（ｓｅｃ−ブチル）ホウ素リチウム（Ｌ−Ｓｅｌｅｃｔｒｉｄｅ），水素化トリ（ｓｅｃ−ブチル）ホウ素カリウム（Ｋ−Ｓｅｌｅｃｔｒｉｄｅ），水素化−９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナン（Ｌｉ ９−ＢＢＮ ｈｙｄｒｉｄｅ）、ボラン・ジメチルスルフィド錯体、ボラン・テトラヒドロフラン錯体、９−ボラビシクロ［３．３．１］ノナン（９−ＢＢＮ）、カテコールボランなどの水素化ホウ素化合物、又は分子状水素が挙げられる。
【０１０２】
Ｌｉ（Ｒ47Ｏ）jＡｌＨ(4-j) （１９）
【０１０３】
（Ｒ48）4ＮＢＨ4 （２０）
【０１０４】
（Ｒ49）4ＮＣＮＢＨ3 （２１）
【０１０５】
（式中、Ｒ47は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表す。Ｒ48及びＲ49は置換基を有していてもよいアルキル基を表し、ｊは１〜３の自然数を表す。）
ここで、アルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基は脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基と同じものが挙げられ、これらの基が有していてもよい置換基としては脂肪族カルボン酸の置換基における説明中で述べたようなアルキル基、アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子、複素環基、保護されていてもよいアミノ基、保護されていてもよい水酸基等が挙げられる。
【０１０６】
一般式（６）及び（６'）の還元は溶媒中で実施される。用いられる溶媒は単一溶媒あるいは混合溶媒が用いられる。具体的にはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素、塩化メチレン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ｔ−ブチルメチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール等のアルコール類、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，２−プロパンジオール及びグリセリン等の多価アルコール類が挙げられる。中でも溶媒中には１または２級アルコールが含まれていることが望ましい。特に好ましい溶媒としては、メタノールやエタノール及びこれらとトルエンとの混合溶媒が挙げられる。溶媒の使用量は、反応条件等により適宜選択することができる。反応は必要に応じ撹拌下に行われる。
【０１０７】
こうして従来イミノホスフィンタイプの配位子を持つルテニウム錯体から一工程では得られなかった一般式（２）や（３）のようなアミノホスフィン配位子を持つ一般式（１）で表されるルテニウムヒドリド錯体が、本発明中に記載されている方法を用いれば短工程で効率よく調製することができ、工程の簡略化が可能となる。
【０１０８】
また、還元工程によって得られる錯体は反応溶液から単離することなく触媒として利用することも可能である。
このようなルテニウム錯体を触媒として用いることで、工業的に有利な比較的低い水素圧及び反応温度で、エステル及びラクトンからアルコール類を高収率、高触媒効率で製造することが可能である。また、本反応で用いられるルテニウム錯体は塩基を添加することなく反応を触媒するため、還元されるエステル又はラクトンが塩基に弱い場合にも分解や重合などの好ましくない副反応をおこすことなく、また光学活性体である場合でも、光学純度の低下を伴うことなくアルコール類へ還元することができる。
【実施例】
【０１０９】
以下に実施例を挙げ、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によってなんら限定されるものではない。
なお、1Ｈ−ＮＭＲスペクトル及び31Ｐ−ＮＭＲスペクトルの測定はバリアン社製のＭＥＲＣＵＲＹ ｐｌｕｓ ３００を使用した。また、転化率、選択率、光学純度の測定はガスクロマトグラフィー（ＧＣ）及び液体クロマトグラフィー（ＬＣ）で行った。用いた装置は次のとおりである。
Ａ．転化率・選択率
Ａ−１．転化率・選択率分析条件Ａ：実施例１〜５、８、１１〜１５、１９，２０，２３及び比較例１〜４の分析に使用
キャピラリー；ＨＰ−ＩＮＮＯＷａｘ
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
８０℃（１分）−１０℃／分−２５０℃（１２分）
Ａ−２．転化率・選択率分析条件Ｂ：実施例９，１０及び比較例１０の分析に使用
GC; キャピラリー ＲＴｘ−５
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
８０℃（１０分）−１０℃／分−２７０℃（１分）
Ａ−３．転化率・選択率分析条件Ｃ：実施例１６，２１の分析に使用
GC; キャピラリー ＴＣ−ＦＦＡＰ
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
８０℃−５℃／分−２２０℃（２分）
Ｂ．光学純度
Ｂ−１．光学純度：２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールの光学純度分析
ｐ−ニトロ安息香酸エステルに変換した後分析した。
HPLC；カラム ダイセルＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＤ−Ｈ
オーブン；４０℃、溶離液；ヘキサン：２−プロパノール＝９５：５
Ｂ−２．光学純度：実施例８及び比較例９
HPLC；カラム ダイセルＣＨＩＲＡＬＣＥＬ ＯＪ−Ｈ
オーブン；３０℃、溶離液；ヘキサン：２−プロパノール＝９８：２
Ｂ−３．光学純度：３−アミノ−１−ブタノールの光学純度分析
アミノ基及び水酸基をトリフルオロアセチル化した後分析した。
GC；キャピラリー β−ＤＥＸ２２５
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
１６０℃（１５分）
Ｂ−４．光学純度：１，２−プロパンジオールの光学純度分析
水酸基をトリフルオロアセチル化した後分析した。
GC；キャピラリー ＣＨＩＲＡＳＩＬ−ＤＥＸ−ＣＢ
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
４５℃（１５分）−１０℃／分−１２５℃
Ｂ−５．光学純度：１，３−ブタンジオールの光学純度分析
GC；キャピラリー ＢＥＴＡ−ＤＥＸTM２２５
注入温度 ２５０℃， 検出温度 ２５０℃
１２０℃（３０分）
【０１１０】
（実施例１）ルテニウム錯体１の合成とこれを用いたエステル還元
【０１１１】
【化１５】
【０１１２】
［ＲｕＣｌＨ（ＰＰｈ3）3］（１．７３ｍｍｏｌ）とＬ1a（１．７３ｍｍｏｌ）を１００ｍＬのフラスコに仕込み窒素置換したのち、テトラヒドロフラン（２５ｍＬ）を加えて溶解した。１時間加熱還流しテトラヒドロフランの大部分を減圧回収したのちヘキサン（２５ｍＬ）を加え結晶をろ別し、ヘキサン、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルで洗浄した。
減圧乾燥しルテニウム錯体２（７４３ｍｇ）を得た。
1ＨＮＭＲ （３００ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ −１５．９２（ｔ，J＝２７．２Ｈｚ、１Ｈ）、３．３１（ｍ、２Ｈ）、３．９６（ｍ、２Ｈ）、６．８８−８．２０（ｍ、３０Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ ５９．９（ｄ，J＝２２Ｈｚ）
【０１１３】
窒素気流下、ルテニウム錯体２（０．２ｍｍｏｌ）をトルエン（２０ｍＬ）に懸濁し水素化ホウ素ナトリウム（５．４ｍｍｏｌ）のエタノール（２０ｍＬ）溶液を加え１時間加熱還流した。空冷し減圧濃縮したのち、トルエン（２０ｍＬ）を加えて３０分攪拌しセライトろ過した。セライトはトルエン（２０ｍＬ）で洗浄した。減圧下、大部分のトルエンを回収しヘキサン（２０ｍＬ）を加え析出した結晶をろ別した。結晶はヘキサンで洗浄しルテニウム錯体１（８０ｍｇ）を得た。1ＨＮＭＲによるルテニウム上のヒドリドの面積比より異性体比は４：３であった。
ルテニウム上のヒドリドのシグナルは下記の通りであった。
1ＨＮＭＲ （３００ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
主異性体；δ −１５．１３（ｄｄ，J＝２１．９Ｈｚ，２５．８Ｈｚ）
副異性体；δ −１４．３０（ｔ，J＝２６．１Ｈｚ）
また31ＰＮＭＲのシグナルは下記の通りであった。
31ＰＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
主異性体；δ ６６．４（ｄ，J＝３２Ｈｚ），６４．７（ｄ，J＝３２Ｈｚ）
副異性体；δ ６５．４（ｓ）
【０１１４】
こうして調製されたルテニウム錯体１（０．０１８１ｍｍｏｌ）を撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに仕込み窒素置換したのち、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（３．１６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（１．４ｍＬ）溶液を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６．０時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率６８．０％、選択率９７．４％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。
【０１１５】
（実施例２）安息香酸メチルの水素化
【０１１６】
【化１６】
【０１１７】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、安息香酸メチル（７．９９ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００４ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（６ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１５．５時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率９６．２％、選択率８６．７％でベンジルアルコールが生成していた。
【０１１８】
（実施例３）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１１９】
【化１７】
【０１２０】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（２．４６ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１５．５時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率３８．０％、選択率９５．３％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。得られたアルコールの光学純度は９８．８％ｅｅであった。
【０１２１】
（実施例４）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（２．４６ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率５１．９％、選択率８９．７％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。
【０１２２】
（実施例５）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（２．４６ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（１ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１２０℃で８．０時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率７７．７％、選択率９３．４％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。得られたアルコールの光学純度は９８．２％ｅｅであった。
【０１２３】
（実施例６）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、１０ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１）で精製した。９８．４％ｅｅの２−Ｂｏｃ−アミノプロパノール（７３９ｍｇ）が得られた。
【０１２４】
（実施例７）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、１０ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝２／１〜１／１）で精製した。９８．０％ｅｅの２−Ｂｏｃ−アミノプロパノール（７１９ｍｇ）が得られた。
【０１２５】
（実施例８）（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルの水素化
【０１２６】
【化１８】
【０１２７】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、７８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率９９．０％、選択率９８．６％で（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロパノールが得られた。得られたアルコールの光学純度は７７．９％ｅｅであった。
【０１２８】
（実施例９）（Ｒ）−３−アミノブタン酸メチルの水素化
【０１２９】
【化１９】
【０１３０】
攪拌機付の１００ｍＬのオートクレーブに、ルテニウム錯体１（０．３３３ｍｍｏｌ）を仕込み窒素置換した。ここにテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）と９９％ｅｅ以上の（Ｒ）−３−アミノブタン酸メチルエステル（１００ｍｍｏｌ）を加え、水素圧３．５〜５ＭＰａ、８０℃で１４時間水素化を行った。反応液を濃縮し、得られた残渣を蒸留して（Ｒ）−３−アミノブタノール（７．３９ｇ；沸点８４〜８６℃／１４Ｔｏｒｒ）が得られた。得られたアルコールの光学純度は９９％ｅｅ以上であった。
【０１３１】
（実施例１０）３−ジメチルアミノプロピオン酸メチルの水素化
【０１３２】
【化２０】
【０１３３】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、３−ジメチルアミノプロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率１００％、選択率９７．５％で３−ジメチルアミノプロパノールが得られた。
【０１３４】
（実施例１１）フタリドの水素化
【０１３５】
【化２１】
【０１３６】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、フタリド（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率６６％、選択率９９％以上で１，２−ベンゼンジメタノールが得られた。
【０１３７】
（実施例１２）ニコチン酸メチルの水素化
【０１３８】
【化２２】
【０１３９】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、ニコチン酸メチル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３.２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率４２％、選択率９９％以上で３−ピリジンメタノールが得られた。
【０１４０】
（実施例１３）安息香酸ベンジルの水素化
【０１４１】
【化２３】
【０１４２】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、安息香酸ベンジル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．００８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３.２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率２３％、選択率９８％でベンジルアルコールが得られた。
【０１４３】
（実施例１４）２−フラン酸メチルの水素化
【０１４４】
【化２４】
【０１４５】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、２-フラン酸メチル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０１６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３.２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率３３％、選択率９９％以上でフルフリルアルコールが得られた。
【０１４６】
（実施例１５）コハク酸ジメチルの水素化
【０１４７】
【化２５】
【０１４８】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、サクシン酸ジメチル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０１６ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（３.２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率５０％、選択率７１％で１．４−ブタンジオールが得られた。
【０１４９】
（実施例１６）（Ｒ）−２−ヒドロキシプロピオン酸メチルの水素化
【０１５０】
【化２６】
【０１５１】
攪拌機付の１００ｍＬのオートクレーブに、ルテニウム錯体１（０．１２５ｍｍｏｌ）を仕込み窒素置換した。ここにテトラヒドロフラン（４０ｍＬ）と９９．３％ｅｅの（Ｒ）−２−ヒドロキシプロピオン酸メチル（２５ｍｍｏｌ）を加え、水素圧４．６〜５ＭＰａ、８０℃で５時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率９８．６％、選択率９８．４％で（Ｒ）−１，２−プロパンジオールが得られた。得られたアルコールの光学純度は９６．６％ｅｅであった。
【０１５２】
（実施例１７）ルテニウム錯体３の合成
【０１５３】
【化２７】
【０１５４】
［ＲｕＣｌＨ（ＰＰｈ3）3］（１．２２ｍｍｏｌ）とＬ3a（２．４４ｍｍｏｌ）を１００ｍＬのフラスコに仕込み窒素置換したのち、トルエン（１５ｍＬ）を加えて溶解した。７０℃で１時間３０分加熱した後、氷浴で３０分冷却、析出した結晶を窒素雰囲下でろ別し、ジエチルエーテルで洗浄した。減圧乾燥しルテニウム錯体４（７９０ｍｇ）を得た。1Ｈ ＮＭＲによるルテニウム上のヒドリドの面積比より異性体比は２：１であった。
ルテニウム上のヒドリドのシグナルは下記の通りであった。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
主異性体；δ −１９．７９（ｔ，J＝２８．２Ｈｚ）
副異性体；δ −１９．５８（ｄｄ，J＝２４．９Ｈｚ，３０．０Ｈｚ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
主異性体；δ ７５．４８（ｄ，J＝２４．７Ｈｚ）
副異性体；δ ７７．１（ｄ，J＝３６．２Ｈｚ），７３．２（ｄ，J＝３６．２Ｈｚ）
【０１５５】
窒素気流下、ルテニウム錯体４（０．７ｍｍｏｌ）をトルエン（１５ｍＬ）に懸濁し水素化ホウ素ナトリウム（１１．１ｍｍｏｌ）のエタノール（１５ｍＬ）溶液を加え７０℃で１５分加熱、その後室温で１時間撹拌した。空冷し減圧濃縮したのち、トルエン（３０ｍＬ）を加えて２０分攪拌しセライトろ過した。セライトはトルエン（１０ｍＬ）で洗浄した。減圧下、大部分のトルエンを回収しヘキサン（１０ｍＬ）を加え、析出した結晶をろ別した。結晶はジエチルエーテルで洗浄しルテニウム錯体３（３９０ｍｇ）を得た。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
δ ＝ −１５．７０（ｔ，J＝２６．７Ｈｚ、１Ｈ）、−１．８（ｂｒ、４Ｈ）、２．２５（ｍ、２Ｈ）、２．３９（ｍ、２Ｈ）、２．６５（ｍ、２Ｈ）、２．９２（ｍ、２Ｈ）、３．８６（ｔ，J＝１２．３Ｈｚ、２Ｈ）、４．１６−４．５２（ｍ、４Ｈ）、６．８７−７．５０（ｍ、３０Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
δ ＝ ７７．４
【０１５６】
（実施例１８）ルテニウム錯体３の合成
【０１５７】
【化２８】
【０１５８】
［ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3］（０．７５ｍｍｏｌ）とＬ4a（１．５８ｍｍｏｌ）を１００ｍＬのフラスコに仕込み窒素置換したのち、トルエン（５ｍＬ）を加えて溶解した。８０℃で４０分加熱した後、室温に冷却、析出した結晶を窒素雰囲下でろ別し、トルエン、ジエチルエーテルで洗浄した。減圧乾燥しルテニウム錯体５（４５０ｍｇ）を得た。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ ２．５０（ｍ、４Ｈ）、４．７２（ｍ、４Ｈ）、６．９０−７．１０（ｍ、２２Ｈ）、７．４８−７．５４（ｍ、８Ｈ）、９．２２（Ｓ，２Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ ５５．９
【０１５９】
窒素気流下、ルテニウム錯体５（０．１２ｍｍｏｌ）をトルエン（４ｍＬ）に溶解し水素化ホウ素ナトリウム（１．３ｍｍｏｌ）のエタノール（４ｍＬ）溶液を加え８０℃で１時間加熱、その後水素化ホウ素ナトリウム（１．３ｍｍｏｌ）を加えて８０℃で１時間加熱、さらに水素化ホウ素ナトリウム（１．３ｍｍｏｌ）を加えて８０℃で１０分、その後室温で３０分撹拌した。空冷し減圧濃縮したのち、トルエン（１０ｍＬ）を加えて３０分攪拌しセライトろ過した。減圧下、大部分のトルエンを回収しヘプタン（３ｍＬ）を加え、析出した結晶を窒素雰囲気下でろ別した。結晶はヘプタンで洗浄しルテニウム錯体３（２０ｍｇ）を得た。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
δ ＝ −１５．７０（ｔ，J＝２６．７Ｈｚ、１Ｈ）、−１．８（ｂｒ、４Ｈ）、２．２５（ｍ、２Ｈ）、２．３９（ｍ、２Ｈ）、２．６５（ｍ、２Ｈ）、２．９２（ｍ、２Ｈ）、３．８６（ｔ，J＝１２．３Ｈｚ、２Ｈ）、４．１６−４．５２（ｍ、４Ｈ）、６．８７−７．５０（ｍ、３０Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ ＣＤ2Ｃｌ2）：
δ ＝ ７７．４
【０１６０】
（実施例１９）安息香酸メチルの水素化
【０１６１】
【化２９】
【０１６２】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、安息香酸メチル（８ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体３（０．００８ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（４ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率１００％、選択率９９．１％でベンジルアルコールが得られた。
【０１６３】
（実施例２０）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１６４】
【化３０】
【０１６５】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体３（０．０１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率７７．９％、選択率８０．３％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。得られたアルコールの光学純度は９９．３％ｅｅであった。
【０１６６】
（実施例２１）(Ｒ)−３−ヒドロキシブタン酸メチルの水素化
【０１６７】
【化３１】
【０１６８】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、９８．９％ｅｅの(Ｒ)−３−ヒドロキシブタン酸メチル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体３（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率５７．８％、選択率９５．０％で（Ｒ）−１，３−ブタンジオールが得られた。得られたアルコールの光学純度は９８．９％ｅｅであった。
【０１６９】
（実施例２２）ルテニウム錯体６の合成
【０１７０】
【化３２】
【０１７１】
［ＲｕＣｌ2（ＰＰｈ3）3］（０．９３ｍｍｏｌ）とＬ6a（１．８６ｍｍｏｌ）を１００ｍＬのフラスコに仕込み窒素置換したのち、トルエン（１０ｍＬ）を加えて溶解した。１００℃で１時間３０分加熱した後、減圧下、大部分のトルエンを回収しヘキサン（６ｍＬ）を加え、析出した結晶を窒素雰囲気下でろ別した。減圧乾燥しルテニウム錯体７（５７８ｍｇ）を得た。
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ５３．５
【０１７２】
窒素気流下、ルテニウム錯体７（０．８１ｍｍｏｌ）をトルエン（９ｍＬ）に溶解し、水素化ホウ素ナトリウム（１２．２ｍｍｏｌ）のエタノール（９ｍＬ）溶液を加え７０℃で３０分加熱、その後室温で３０分撹拌した。空冷し減圧濃縮したのち、トルエン（１８ｍＬ）を加えて２０分攪拌しセライトろ過した。セライトはトルエン（２ｍＬ）で洗浄した。減圧下、大部分のトルエンを回収しヘキサン（４ｍＬ）を加え、析出した結晶を窒素雰囲気下でろ別した。結晶はジエチルエーテルで洗浄しルテニウム錯体６（３４８ｍｇ）を得た。
1Ｈ ＮＭＲ （３００ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ −１５．２６（ｄｄ，J＝２３．４Ｈｚ、J＝２６．７Ｈｚ、１Ｈ）、−１．１（ｂｒ、４Ｈ）、１．０２−１．１１（ｍ、１Ｈ）、１．２８−１．６３（ｍ、７Ｈ）、２．１２−２．５５（ｍ、６Ｈ）、２．９８−３．１４（ｍ、３Ｈ）、３．４３−３．５１（ｍ、１Ｈ）、４．４１（ｂｒ、１Ｈ）、４．８８−４．９９（ｍ、１Ｈ）、６．８８−７．１７（ｍ、１２Ｈ）、７．３２−７．３９（ｍ、２Ｈ）、７．４６−７．５２（ｍ、２Ｈ）、７．６０−７．７０（ｍ、４Ｈ）
31Ｐ ＮＭＲ （１２１．５ＭＨｚ Ｃ6Ｄ6）：
δ ＝ ７４．５（ｄ、Ｊ＝３４．５Ｈｚ）、７９．７（ｄ、Ｊ＝３４．５Ｈｚ）
【０１７３】
（実施例２３）Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１７４】
【化３３】
【０１７５】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体６（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、転化率９９．８％、選択率９８．３％で２−Ｂｏｃ−アミノプロパノールが生成していた。得られたアルコールの光学純度は９８．６％ｅｅであった。
【０１７６】
（比較例１）ジクロロルテニウム錯体８を用いた塩基を添加しない条件でのＬ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１７７】
【化３４】
【０１７８】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５．０ｍｍｏｌ）、ジクロロルテニウム錯体８（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１８．０時間水素化を行いガスクロマトグラフィーで反応を分析したが、アルコールは確認できず原料のエステルが残っていた。
【０１７９】
（比較例２）ジクロロルテニウム錯体８を用いて塩基を添加した条件でのＬ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１８０】
【化３５】
【０１８１】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５．０ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（５ｍｍｏｌ）、ジクロロルテニウム錯体８（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１８．０時間水素化を行った。反応溶液を５ｍＬのメタノールと２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、１０．０ｇのシリカゲルにて精製した（ジエチルエーテル／メタノール＝１０／１）。ラセミ体の４−メチルー２−オキサゾリジノン（３５６ｍｇ）が得られた。
【０１８２】
（比較例３）ジクロロルテニウム錯体８を用いた塩基を添加しない条件での（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルの水素化
【０１８３】
【化３６】
【０１８４】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、７８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ジクロロルテニウム錯体８（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行いガスクロマトグラフィーで反応を分析したが、アルコールは確認できず原料のエステルが残っていた。
【０１８５】
（比較例４）ジクロロルテニウム錯体８を用いて塩基を添加した条件での（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルの水素化
【０１８６】
【化３７】
【０１８７】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、７８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニル−プロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ジクロロルテニウム錯体８（０．０５ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、８．９ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１３．４ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）で精製した。１８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロパノール（６４５ｍｇ）が得られた。
【０１８８】
（比較例５）塩基を添加して行うＬ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステルの水素化
【０１８９】
【化３８】
【０１９０】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、Ｌ−Ｂｏｃ−アラニンメチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（５ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０２５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、１００℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を５ｍＬのメタノールと２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、１０．０ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１５．０ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝１／２）で精製した。ラセミ体の４−メチル−２−オキサゾリジノン（３２２ｍｇ）が得られた。
【０１９１】
（比較例６）塩基を添加して行う（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルの水素化
【０１９２】
【化３９】
【０１９３】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、７８．４％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロピオン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（１ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０１ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応溶液を２０ｍＬのジエチルエーテルで希釈し、８．９ｇのシリカゲルを通した。シリカゲルはジエチルエーテルで洗浄し得られた溶液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（シリカゲル１３．４ｇ、ヘキサン／酢酸エチル＝８／１）で精製した。１％ｅｅの（Ｓ）−２−メチル−３−フェニルプロパノール（６５７ｍｇ）が得られた。
【０１９４】
（比較例７）塩基を添加して行う（Ｒ）−３−アミノブタン酸メチルの水素化
【０１９５】
【化４０】
【０１９６】
撹拌子を入れた１００ｍＬのオートクレーブに、（Ｒ）−３−アミノブタン酸メチルエステル（５ｍｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（１ｍｍｏｌ）、ルテニウム錯体１（０．０５ｍｍｏｌ）、テトラヒドロフラン（２ｍＬ）を加え、水素圧５ＭＰａ、８０℃で１６時間水素化を行った。反応液をガスクロマトグラフィーで分析した結果、反応は複雑な混合物を与え原料は消失していたが目的のアルコールは生成していなかった。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の一般式（１）
ＲｕＨ（Ｘ）(Ｌ1)(Ｌ2)n （１）
（式中、Ｘは１価のアニオン性配位子を表し、Ｌ1は少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表し、Ｌ2はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、Ｌ1が４座配位子の場合はｎ＝０であり、Ｌ1が２座のアミノホスフィン配位子の場合はｎ＝１である。）
で表されるルテニウム錯体を触媒として、塩基化合物を添加することなくエステル又はラクトンを水素還元することによる対応するアルコール類の製造方法。
【請求項２】
一般式（１）で表される錯体におけるＸがＢＨ4である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
一般式（１）で表される錯体においてＬ1で表される４座配位子において、残りの２座のうちの１つが配位性リン原子及び１つが配位性窒素原子で配位する配位子である請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
一般式（１）で表される錯体のＬ1が下記一般式（２）で表される４座配位子である請求項３記載の製造方法。
【化１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ1同士、Ｒ1とＲ2又はＲ3又はＲ4、Ｒ3とＲ4、又はＲ5とＲ6が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ1及びＱ2は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
【請求項５】
一般式（１）で表される錯体のＬ1及びＬ2が同一又は異なる下記一般式（３）で表される２座のアミノホスフィン配位子である請求項１又は２記載の製造方法。
【化２】
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ7とＲ8又はＲ9、Ｒ8とＲ9、又はＲ10とＲ11が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ3は置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
【請求項６】
下記一般式（４）又は（５）
【化３】
（式中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ12同士、Ｒ12とＲ13又はＲ14、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16、Ｒ17同士、Ｒ19とＲ17又はＲ18、又はＲ20とＲ21が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ4、Ｑ5、Ｑ6及びＱ7は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
で表される４座配位子を有する一般式（６）
[Ｒｕ（Ｘ1）k（Ｘ2）l（Ｙ1）m（Ｙ2）o(Ｌ1')]（Ｚ）q （６）
（式中、Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立して中性の単座配位子を表し、Ｚは金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1'は一般式（４）又は一般式（５）で表される４座配位子を表す。ただし、ｋ、ｌ、ｍ、ｏは０≦ｋ+ｌ+ｍ+ｏ≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ+ｌ＝２のときはｑ＝０、ｋ+ｌ＝１のときはｑ＝1、ｋ+ｌ＝０のときはｑ＝２である。）
で表されるルテニウム錯体を還元して得られる錯体を用いる請求項４に記載の製造方法。
【請求項７】
下記一般式（７ａ）又は（７ｂ）
【化４】
（式中、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104及びＲ105は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ22とＲ23、Ｒ24とＲ25、又はＲ104とＲ105が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ7a及びＱ7bは置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
で表される２座のアミノホスフィン配位子を有する一般式（６'）
[Ｒｕ（Ｘ3）k'（Ｘ4）l'（Ｙ3）m'（Ｙ4）o'(Ｌ1'')（Ｌ2''）]（Ｚ'）q' （６'）
（式中、Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ3及びＹ4はそれぞれ独立して中性の単座配位子を表し、Ｚ'は金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1''及びＬ2''は同一又は異なっていてもよく、一般式（７ａ）又は一般式（７ｂ）で表される２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、ｋ'、ｌ'、ｍ'、ｏ'は０≦ｋ'+ｌ'+ｍ'+ｏ'≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ'+ｌ'＝２のときはｑ'＝０、ｋ'+ｌ'＝１のときはｑ'＝1、ｋ'+ｌ'＝０のときはｑ'＝２である。）で表されるルテニウム錯体を還元して得られる錯体を用いる請求項５記載の製造方法。
【請求項８】
調製した錯体を反応溶液から単離することなく触媒として用いる請求項１〜７に記載の製造方法。
【請求項９】
エステル又はラクトンが光学活性体であり、得られるアルコール類の光学純度が、水素還元されるエステル又はラクトンの光学純度の９０％以上の数値を保持していることを特徴とする請求項１〜８に記載の製造方法。
【請求項１】
次の一般式（１）
ＲｕＨ（Ｘ）(Ｌ1)(Ｌ2)n （１）
（式中、Ｘは１価のアニオン性配位子を表し、Ｌ1は少なくともひとつの配位性ホスフィノ基と少なくともひとつの配位性アミノ基を有する４座配位子又はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表し、Ｌ2はひとつの配位性ホスフィノ基とひとつの配位性アミノ基を有する２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、Ｌ1が４座配位子の場合はｎ＝０であり、Ｌ1が２座のアミノホスフィン配位子の場合はｎ＝１である。）
で表されるルテニウム錯体を触媒として、塩基化合物を添加することなくエステル又はラクトンを水素還元することによる対応するアルコール類の製造方法。
【請求項２】
一般式（１）で表される錯体におけるＸがＢＨ4である請求項１に記載の製造方法。
【請求項３】
一般式（１）で表される錯体においてＬ1で表される４座配位子において、残りの２座のうちの１つが配位性リン原子及び１つが配位性窒素原子で配位する配位子である請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】
一般式（１）で表される錯体のＬ1が下記一般式（２）で表される４座配位子である請求項３記載の製造方法。
【化１】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、及びＲ6は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ1同士、Ｒ1とＲ2又はＲ3又はＲ4、Ｒ3とＲ4、又はＲ5とＲ6が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ1及びＱ2は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
【請求項５】
一般式（１）で表される錯体のＬ1及びＬ2が同一又は異なる下記一般式（３）で表される２座のアミノホスフィン配位子である請求項１又は２記載の製造方法。
【化２】
（式中、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9、Ｒ10及びＲ11は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ7とＲ8又はＲ9、Ｒ8とＲ9、又はＲ10とＲ11が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ3は置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
【請求項６】
下記一般式（４）又は（５）
【化３】
（式中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18、Ｒ19、Ｒ20及びＲ21は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ12同士、Ｒ12とＲ13又はＲ14、Ｒ13とＲ14、Ｒ15とＲ16、Ｒ17同士、Ｒ19とＲ17又はＲ18、又はＲ20とＲ21が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ4、Ｑ5、Ｑ6及びＱ7は同一又は異なっていてもよく、置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
で表される４座配位子を有する一般式（６）
[Ｒｕ（Ｘ1）k（Ｘ2）l（Ｙ1）m（Ｙ2）o(Ｌ1')]（Ｚ）q （６）
（式中、Ｘ1及びＸ2はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立して中性の単座配位子を表し、Ｚは金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1'は一般式（４）又は一般式（５）で表される４座配位子を表す。ただし、ｋ、ｌ、ｍ、ｏは０≦ｋ+ｌ+ｍ+ｏ≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ+ｌ＝２のときはｑ＝０、ｋ+ｌ＝１のときはｑ＝1、ｋ+ｌ＝０のときはｑ＝２である。）
で表されるルテニウム錯体を還元して得られる錯体を用いる請求項４に記載の製造方法。
【請求項７】
下記一般式（７ａ）又は（７ｂ）
【化４】
（式中、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25、Ｒ100、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104及びＲ105は同一又は異なっていてもよく、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基又は置換基を有していてもよいシクロアルキル基を表し、Ｒ22とＲ23、Ｒ24とＲ25、又はＲ104とＲ105が互いに結合し環を形成していてもよい。Ｑ7a及びＱ7bは置換基を有していてもよい二価のアリーレン基、置換基を有していてもよいアルキレン基又は結合手を表す。）
で表される２座のアミノホスフィン配位子を有する一般式（６'）
[Ｒｕ（Ｘ3）k'（Ｘ4）l'（Ｙ3）m'（Ｙ4）o'(Ｌ1'')（Ｌ2''）]（Ｚ'）q' （６'）
（式中、Ｘ3及びＸ4はそれぞれ独立して１価のアニオン性配位子を表し、Ｙ3及びＹ4はそれぞれ独立して中性の単座配位子を表し、Ｚ'は金属に配位していない１価のアニオンを表し、Ｌ1''及びＬ2''は同一又は異なっていてもよく、一般式（７ａ）又は一般式（７ｂ）で表される２座のアミノホスフィン配位子を表す。ただし、ｋ'、ｌ'、ｍ'、ｏ'は０≦ｋ'+ｌ'+ｍ'+ｏ'≦２を満たす０〜２の自然数であり、ｋ'+ｌ'＝２のときはｑ'＝０、ｋ'+ｌ'＝１のときはｑ'＝1、ｋ'+ｌ'＝０のときはｑ'＝２である。）で表されるルテニウム錯体を還元して得られる錯体を用いる請求項５記載の製造方法。
【請求項８】
調製した錯体を反応溶液から単離することなく触媒として用いる請求項１〜７に記載の製造方法。
【請求項９】
エステル又はラクトンが光学活性体であり、得られるアルコール類の光学純度が、水素還元されるエステル又はラクトンの光学純度の９０％以上の数値を保持していることを特徴とする請求項１〜８に記載の製造方法。
【公開番号】特開２０１１−３７８０９（Ｐ２０１１−３７８０９Ａ）
【公開日】平成２３年２月２４日（２０１１．２．２４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−１９７１２４（Ｐ２００９−１９７１２４）
【出願日】平成２１年８月２７日（２００９．８．２７）
【出願人】（０００１６９４６６）高砂香料工業株式会社 (194)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年２月２４日（２０１１．２．２４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年８月２７日（２００９．８．２７）
【出願人】（０００１６９４６６）高砂香料工業株式会社 (194)
【Ｆターム（参考）】
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