【課題】原料モノマーとしてエチレンのみを使用した場合であっても、短鎖分岐を有するエチレン系重合体を効率的に製造できる触媒及び当該触媒によりエチレン系重合体を製造する方法を提供すること。
【解決手段】エチレン系重合体製造用触媒であって、下記一般式（１）で表される第４族遷移金属の錯体（Ｉ）、オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体から調製される触媒であって、前記錯体（Ｉ）及びオレフィン重合用錯体が担体に担持された触媒。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン系重合体製造用触媒であって、以下の一般式（１）、（２−１）または（２−２）で表される錯体（Ｉ）、オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体から調製される触媒であって、錯体（Ｉ）及びオレフィン重合用錯体が担体に担持された触媒。

［式中、Ｍ^１は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｃｐはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表し、
Ｊ^１は元素の周期律表の第１３〜１６族から選択される原子を表し、
ｌ及びｍは、夫々、１または０であり、ｌ＋ｍは（Ｊ^１の価数−２）に等しい整数を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、夫々、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、置換ヒドロカルビルオキシ基、置換シリル基、２置換アミノ基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４及びＲ^５のうち、隣接した２つの炭素原子に結合する２つの基は結合して、該２つの基が結合している２つの炭素原子と一緒になって環を形成していてもよく、Ｒ^６及びＲ^７は結合して、それらが結合しているＪ^１と一緒になって環を形成していてもよく、Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３のうち、２つの基は結合して、Ｍ^１と一緒になって環を形成していてもよい。］

［式中、Ｍ^２は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ａ^２１は、酸素原子、窒素原子、リン原子又は硫黄原子を表し、
Ｚ^１は、Ａ^２１とＮとを連結する基であり、Ａ^２１とＮとを結ぶ最短結合数は４〜６であり、
Ａ^２１とＺ^１とを結ぶ結合は二重結合であってもよく、
Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２５及びＸ^４は、夫々、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、置換ヒドロカルビルオキシ基、置換シリル基、２置換アミノ基を表し、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４及びＲ^２５のうち、２つ以上が互いに連結していてもよく、３つのＸ^４は、夫々同じでも異なっていてもよく、２つ以上のＸ^４は結合して、Ｍ^２と一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ^２６は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、ヒドロカルビリデン基、置換ヒドロカルビリデン基を表し、Ｒ^２６とＡ^２１とを結ぶ結合は二重結合であってもよく、Ｒ^２６はＺ^１と結合していてもよい。］

［式中、Ｍ^２は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ａ^２２は、窒素原子又はリン原子を表し、
Ｚ^２は、Ａ^２２とＮとを連結する基であり、Ａ^２２とＮとを結ぶ最短結合数は４〜６であり、
Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４、Ｒ^２５及びＸ^４は、夫々、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、置換ヒドロカルビルオキシ基、置換シリル基、２置換アミノ基を表し、Ｒ^２１、Ｒ^２２、Ｒ^２３、Ｒ^２４及びＲ^２５のうち、２つ以上が互いに連結していてもよく、３つのＸ^４は、夫々同じでも異なっていてもよく、２つ以上のＸ^４は結合して、Ｍ^２と一緒になって環を形成していてもよく、
Ｒ^２７及びＲ^２８は、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基を表し、Ｒ^２８はＺ^２と結合していてもよい。］
【請求項２】
下記成分（Ｘ）を有する請求項１に記載の触媒。
成分（Ｘ）：錯体（Ｉ）、オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体を接触させて得られる粒子。
【請求項３】
下記成分（Ａ）と下記成分（Ｂ）とを有する請求項１に記載の触媒。
成分（Ａ）：錯体（Ｉ）、活性化助触媒成分及び担体を接触させて得られる粒子。
成分（Ｂ）：オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体を接触させて得られる粒子。
【請求項４】
下記成分（Ｘ）と、下記成分（Ａ）及び下記成分（Ｂ）の両方又はいずれか一方とを有する請求項１に記載の触媒。
成分（Ｘ）：錯体（Ｉ）、オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体を接触させて得られる粒子。
成分（Ａ）：錯体（Ｉ）、活性化助触媒成分及び担体を接触させて得られる粒子。
成分（Ｂ）：オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体を接触させて得られる粒子。
【請求項５】
式（１）で表される化合物が下記式（１−２）で表される化合物である請求項１〜４のいずれかに記載の触媒。

［式中、Ｍ^１は元素周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１は、水素原子、ハロゲン原子、または炭素原子数１〜２０のヒドロカルビル基を表し、
Ｒ^８、Ｒ^９、Ｒ^１０及びＲ^１１のうち、少なくとも一つはハロゲン原子、または炭素原子数１〜２０のヒドロカルビル基であり、
Ｘ^１、Ｘ^２及びＸ^３は、夫々、ハロゲン原子、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、または置換ヒドロカルビルオキシ基を表す。］
【請求項６】
オレフィン重合用錯体が下記式（１１）又は（１２）で表される化合物である請求項１〜６のいずれかに記載の触媒。

［式中、Ｍ^３は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｃｐ^１はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表し、
Ｊ^２は、元素の周期律表の第１４族の原子１個または２個でＣｐ^１とＡ^２とを連結する基を表す。
Ａ^２は、Ｊ^２とＭ^３とを連結する基であって、元素の周期律表の第１５族の原子または元素の周期律表の第１６族の原子でＭ^３と結合する基、あるいは、シクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表す。
Ｘ^５、Ｘ^６は、夫々、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、置換ヒドロカルビルオキシ基、置換シリル基、または２置換アミノ基を表す。］

［式中、Ｍ^４は元素の周期律表の第４族の遷移金属原子を表し、
Ｃｐ^２及びＣｐ^３はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基を表し、
Ｘ^７及びＸ^８は、夫々、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロカルビル基、置換ヒドロカルビル基、ヒドロカルビルオキシ基、置換ヒドロカルビルオキシ基、置換シリル基、または２置換アミノ基を表す。］
【請求項７】
請求項２に記載の触媒の製造方法であって、
該方法が、錯体（Ｉ）、オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体を溶媒中で接触させた後、溶媒を除去して成分（Ｘ）を得る工程を有する方法。
【請求項８】
請求項３に記載の触媒の製造方法であって、
該方法が、以下の成分（Ａ）を得る工程と、成分（Ｂ）を得る工程とを有する方法：
錯体（Ｉ）、活性化助触媒成分及び担体を溶媒中で接触させた後、溶媒を除去して成分（Ａ）を得る工程、
オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体を溶媒中で接触させた後、溶媒を除去して成分（Ｂ）を得る工程。
【請求項９】
請求項４に記載の触媒の製造方法であって、
該方法が、以下の成分（Ｘ）を得る工程と、以下の成分（Ａ）を得る工程及び成分（Ｂ）を得る工程の両方またはいずれか一方とを有する方法。
錯体（Ｉ）、オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体を溶媒中で接触させた後、溶媒を除去して成分（Ｘ）を得る工程、
錯体（Ｉ）、活性化助触媒成分及び担体を溶媒中で接触させた後、溶媒を除去して成分（Ａ）を得る工程、
オレフィン重合用錯体、活性化助触媒成分及び担体を溶媒中で接触させた後、溶媒を除去して成分（Ｂ）を得る工程。
【請求項１０】
請求項１〜６のいずれかに記載の触媒により、エチレンを含むオレフィンを重合するエチレン系重合体の製造方法。
【請求項１１】
気相重合法によりエチレンを含むオレフィンを重合する請求項１０に記載のエチレン系重合体の製造方法。

【公開番号】特開２０１２−２２４８４２（Ｐ２０１２−２２４８４２Ａ）
【公開日】平成２４年１１月１５日（２０１２．１１．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１２−７１３０５（Ｐ２０１２−７１３０５）
【出願日】平成２４年３月２７日（２０１２．３．２７）
【出願人】（０００００２０９３）住友化学株式会社 (8,981)
【Ｆターム（参考）】