カラーフィルタ、表示装置、光学装置、カラーフィルタの製造方法、表示装置の製造方法、および光学装置の製造方法
【課題】均一な厚みで形成された機能性薄膜層を備えた機能性薄膜デバイスを
提供する。
【解決手段】仕切部材であるバンク(110)で囲まれた領域(101)に１層以上の薄
膜層(131)が積層された薄膜構造を備える機能性薄膜デバイスである。バンク(11
0)は、薄膜層(131)の液相材料である薄膜材料液に対し親和性を示す親和性バン
ク層(111,112)と薄膜材料液に対し非親和性を示す非親和性バンク層(121)とが交
互に積層されて構成されている。薄膜層(131)は、親和性バンク層(111)とその上
に積層された非親和性バンク層(121)との境界を含む平面がその界面となるよう
にその厚みが調整されて形成されている。
提供する。
【解決手段】仕切部材であるバンク(110)で囲まれた領域(101)に１層以上の薄
膜層(131)が積層された薄膜構造を備える機能性薄膜デバイスである。バンク(11
0)は、薄膜層(131)の液相材料である薄膜材料液に対し親和性を示す親和性バン
ク層(111,112)と薄膜材料液に対し非親和性を示す非親和性バンク層(121)とが交
互に積層されて構成されている。薄膜層(131)は、親和性バンク層(111)とその上
に積層された非親和性バンク層(121)との境界を含む平面がその界面となるよう
にその厚みが調整されて形成されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子またはＬＥＤ（発光ダイオード）素子などを備えた表示装置やカラーフィルタの製造に適した薄膜形成技術に係わる。特に仕切部材間に多層の薄膜層を形成する際に有利な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置における発光層やカラーフィルタにおける着色層を有機半導体や着色樹脂などの薄膜材料液を用いて製造する技術が存在する。これらの技術は薄膜材料液を画素領域単位で充填し加熱処理で硬化させて画素領域を覆う薄膜層を形成するというものである。以下、これら一定の機能を備えた薄膜層を備えるデバイスを「機能性薄膜デバイス」と称する。
【０００３】
画素領域に薄膜材料液を充填する場合、吐出された薄膜材料液が隣の画素領域に流出することを防止するために、画素領域を仕切る仕切部材（以下「バンク」ともいう。また仕切部材を構成する層を「バンク層」という。）を設けて、仕切部材に囲まれる画素領域に薄膜材料液を充填する。バンクで囲まれた画素領域には成膜後の体積に比べてはるかに大きい薄膜材料液が充填される。しかし表示装置は一般に薄いことが要求されるため、バンクをやたらに高く形成することができない。このことからバンクやバンクで囲まれた画素領域が、薄膜材料液に対してどのような濡れ性（親和性）を示すかで充填された薄膜材料液の挙動が異なる。例えば特開平９−２０３８０３号や特開平９−２３０１２９号には、表面処理によりバンクの濡れ性を調整する発明が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平９−２０３８０３号公報
【特許文献２】特開平９−２３０１２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
バンクが薄膜材料液に対し親和性である場合、バンクと薄膜材料液との密着性がよく、薄膜材料液がバンクの表面に沿って広がりやすい。このため、図８（ａ）に示すようにバンクの高さを超える量の薄膜材料液を充填すると、バンクの側面（バンクの幅方向の壁をなす傾斜面をいう）や上面（バンクの頂部にある水平面をいう）で薄膜材料液がはじかれることなく、薄膜材料液がバンクを容易に乗り越えて隣接する画素領域に容易に流出してしまう。逆にバンクが薄膜材料液に対し非親和性を示す場合、バンクと薄膜材料液との密着性が悪く、薄膜材料液がバンクの表面に沿って広がりにくい。このため、図８（ｂ）に示すようにバンクの高さを越える量の薄膜材料液を充填しても、薄膜材料液の表面張力が作用しバンクの上面を越えて薄膜材料液が広がって隣の画素領域に薄膜材料液が流れ出すことはない。このように盛り上がった状態で薄膜材料液を加熱して溶媒を蒸発させると、側面で薄膜材料液がはじかれたまま薄膜材料液の嵩が減っていく。このため、成膜後には図８（ｃ）に示すように中央部で厚く周辺部で薄い薄膜が形成されてしまう。中央部でも周辺部でも均一な厚みになり表面が平面をなすように薄膜が形成されていないと、色むらが生じたり信頼性が低下したりする。
【０００６】
特に、多層の薄膜で形成される有機半導体膜などの装置を製造する場合には、薄膜を積層するにあたりいずれの薄膜層も均一な厚みに形成されていなければならない。前記特開平９−２０３８０３号や特開平９−２３０１２９号には、表面処理によりバンクの濡れ性を調整する発明が開示されているが、薄膜を均一な厚みに形成する方法や各膜厚を均一にしながら多数積層する技術については開示されていなかった。
【０００７】
そこで本発明の課題は、親和性の程度の異なる領域を備えたバンクを備えることにより、均一な厚みで積層された薄膜層を備えた機能性薄膜デバイスを提供することである。これにより明るさや色にむらが生じない画像表示が可能で信頼性の高い表示装置やカラーフィルタ等を提供することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明にかかるカラーフィルタは、電極層と、前記電極層上に形成された第１の膜と、前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、前記第１のバンク上に形成される絶縁性の第２のバンクと、を有することを特徴とする。これによれば、第１のバンクに囲まれた第１の膜の平坦性が向上する。
また、本発明にかかるカラーフィルタは、電極層と、前記電極層上に形成された第１の膜と、前記第１の膜上に形成された第２の膜と、前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、前記第２のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第３のバンクと、を有することを特徴とする。
【０００９】
ここで、上記カラーフィルタにおいては、前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接することが好ましい。
また、本発明にかかるカラーフィルタは、電極層と、前記電極層上に形成された第１の膜と、前記第１の膜上に形成された第２の膜と、前記第２の膜上に形成された第３の膜と、前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、前記第２のバンク上に形成される絶縁性の第３のバンクと、を有し、前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接し、前記第２の膜と前記第３の膜の界面と、前記第２のバンクにおける前記第３のバンクが形成される面とが接することを特徴とする。
【００１０】
ここで、上記カラーフィルタにおいては、前記第１のバンクの側面が斜面を有することが好ましい。また、前記電極層が透明電極層であることが好ましい。また、前記第１のバンクの少なくとも一部が前記電極層の少なくとも一部を覆っていることが好ましい。また、前記第１のバンクが無機化合物を含むことが好ましい。また、前記第２のバンクが有機化合物を含むことが好ましい。また、前記第１のバンクが酸化シリコンを含み、前記第２のバンクがポリイミドを含むことが好ましい。また、前記第１の膜を溶解する溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記溶媒に対する前記第２のバンクの新和性より大きいことが好ましい。
【００１１】
また、本発明にかかるカラーフィルタの製造方法は、絶縁性の第１のバンクと絶縁性の第２のバンクとを前記第１のバンクの上に前記第２のバンクが位置するよう形成する工程と、前記電極層上の前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の溶媒と第１の膜材料を含んだ第１の溶液を塗布する工程と、前記第１の溶媒を除去し、前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の膜を形成する工程と、前記第１の膜上に、第２の溶媒と第２の膜材料を含んだ第２の溶液を塗布する工程と、前記第２の溶媒を除去し、前記第１の膜上に第２の膜を形成する工程と、を有し、前記第１の溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記第１の溶媒に対する前記第２のバンクの親和性より大きいことを特徴とする。
このカラーフィルタの製造方法は、前記第１の溶液がインクジェット法で塗布されてもよい。または、前記第１の溶液がスピンコート法で塗布されてもよい。
【００１２】
ここで「バンク」とは、例えば半導体薄膜素子を利用した表示装置の画素を仕切るために設けたり、カラーフィルタの画素領域を仕切るために設けたりする仕切部材のことをいう。バンクの積層構造は層ごとに非親和性材料や親和性材料の種類を変えて用いてもよい。各層の厚みは層ごとに変更して積層してもよい。バンク形成面とはこのバンクを設ける面のことで、表示装置等の駆動基板であってもカラーフィルタ等の透明基板等であってもよい。
【００１３】
バンク層が「親和性」であるか「非親和性」であるかは、充填する薄膜材料液がどのような性質を備えているかで決まる。例えば極性分子を多く含む薄膜材料液であれば極性基を有する表面が親和性を示し、非極性基を有する表面が非親和性を示す。逆に極性分子が少数派の薄膜材料液であれば極性基を有する表面が非親和性を示し、非極性基を有する表面が親和性を示す。また、充填する薄膜材料液の表面張力によってもバンク層の親和性の程度が決まる。例えば、水に対して非親和性（疎水性）を示すバンク層であっても薄膜材料液が水より表面張力の小さい溶剤を多量に含んでいると、その薄膜材料液は水より表面張力が小さくなり、該バンク層は該薄膜材料液に対して親和性を示すことになる。したがって、薄膜材料液を何にするかは、製造対象によって種々に変更して適用することになる。薄膜材料液が一層ごとに極性分子を多く含むか否かが変わる場合には、その薄膜材料液で形成される薄膜層に対応する位置に設けられる二層のバンク層のうち、この薄膜材料液に対して下層がその薄膜材料液に対し非親和性を示し上層が親和性を示すように、層構造を変更して適用可能である。
【００１４】
「機能性薄膜デバイス」とは単一層または複数層の薄膜層を備えるあらゆる装置を含むものとする。例えば有機ＥＬ素子等で構成された表示装置やカラーフィルタが該当する。さらに光学装置に限定されることなく、１以上の薄膜層を備えることにより、一定の機能・作用・効果を奏する装置に適用可能である。
【００１５】
具体的な構造として、バンクは、最下層に親和性バンク層を備えていたり、最下層に非親和性バンク層を備えていたりする。最上層に親和性バンク層を備えていてもよい。この場合には、複数の領域に共通なバンクを越えた共通の薄膜層を形成可能となる。また、バンクは光を透過しない不透明層を備えていてもよい。カラーフィルタにおけるブラックマトリクスのように機能させることができる。
【００１６】
ここで親和性バンク層は、薄膜材料液に対する接触角が３０度以下であることが好ましく、非親和性バンク層は、薄膜材料液に対する接触角が４０度以上であることが好ましい。
【００１７】
親和性バンク層および非親和性バンク層は、Ａｌ、Ｔａ等の金属、酸化シリコン、窒化シリコン、アモルファスシリコン、ポリシリコン、ポリイミド、フッ素結合を有する有機化合物、フォトレジストのうちいずれか二種以上から構成される無機化合物または有機化合物で構成されることが好ましい。導電性を有してもよいなら金属を使用でき絶縁性が必要なら金属以外の化合物で構成する。これらの材料は、二種類の材料の薄膜材料液に対する接触角の相違によって、親和性バンク層になるか非親和性バンク層になるかが決まる。すなわち親和性であるか非親和性であるかは相対的に決まり絶対的なものではない。表面処理の有無によっても親和性の程度が変動する。同一の材料が親和性バンク層として用いられたり非親和性バンク層として用いられたりする。
【００１８】
機能性薄膜デバイスの一つの具体的な構造として、薄膜層には発光作用を示す発光層を含み、表示装置として機能可能に構成される。この場合、例えば複数の前記領域にまたがって形成された金属層を前記薄膜層の最上層として備えている。また領域の底部には透明電極を備えている。さらに複数の薄膜層は、下層に透明電極層を備え、その上層に発光層を備えている。
【００１９】
また他の機能性薄膜デバイスの具体的な構造として、薄膜層には画素に色彩を付与するための着色層を含み、カラーフィルタとして機能可能に構成されている。この場合、例えば複数の領域にまたがって形成された透明導電層を薄膜層の最上層として備えている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
次に本発明の好適な実施の形態を、図面を参照して説明する。
【００２１】
（実施形態１）
本発明の実施形態１は、有機ＥＬ素子に関する。図１に本実施形態の有機ＥＬ素子の積層構造断面図を示す。本有機ＥＬ素子は、図１に示すように、駆動基板１００、バンク１１０、発光層１３１、透明電極１４１および金属層１５１を備えている。この図では、簡略化のために一つの画素を表示させるための領域（画素領域）のみを図示してある。
【００２２】
駆動基板１００は、図示しない薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）、配線膜および絶縁膜等が多層に積層されており、金属層１５１および各透明電極１４１間に画素単位で電圧を印加可能に構成されている。駆動基板１００は公知の薄膜プロセスによって製造される。
【００２３】
バンク１１０は、親和性バンク層１１１、非親和性バンク層１２１および親和性バンク層１１２を下から順に積層して形成されている。親和性バンク層１１１、１１２および非親和性バンク層１２１は、絶縁無機化合物または絶縁有機化合物によってそれぞれ構成されている。具体的には、酸化シリコン、窒化シリコン、アモルファスシリコン、ポリシリコン、ポリイミドまたはフッ素化合物のうちいずれか二種から選択される。Ａｌ、Ｔａ等の金属もバンク層として必要な接触角を備えるが、導電性を有する点で、本実施形態では使用することができない。好ましくは、親和性バンク層１１１，１１２は、発光層１３１を形成する元となる薄膜材料液に対する接触角が３０度以下となるように調整される。また非親和性バンク層１２１は、薄膜材料液に対する接触角が４０度以上となるように調整される。ただし、親和性の程度は相対的なものであるため、親和性バンク層の親和性の程度が非親和性バンク層より高くなるように設定する必要がある。つまり、接触角の大きさがどのような材料を組み合わせても常に
非親和性バンク層＞親和性バンク層
という関係を満たすように調整されている。また、親和性バンク層１１１の厚み、すなわち親和性バンク層１１１および非親和性バンク層１２１間の境界までの高さは、発光層１３１の厚みと等しくなるように調整されている。言い換えれば、この境界の高さを発光層に必要とされる厚みに調整しておく。非親和性バンク層１２１の厚みは、薄膜材料液を十分にはじき、薄膜材料液を上層の親和性バンク層１１２から分離させるのに十分な厚みに形成する。また親和性バンク層１１２の厚みは、金属層１５１の元となる薄膜材料液を広がりやすくすれば十分であるため、塗布法など、採用した製造方法によってほぼ均一に形成可能な厚みがあればよい。バンク１１０は、複数のバンク層をフォトリソグラフィ法等で積層していくことで製造される。膜形成は、無機化合物膜の場合にはスパッタ法、ＣＶＤ法または塗布法、有機化合物膜の場合には塗布法を使用する。
【００２４】
発光層１３１は、電流を流すことにより発光する材料、例えばポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）等公知の有機半導体材料を使用して、十分な光量が得られる厚み、例えば０．０５μｍ〜０．２μｍ程度積層して構成される。この厚みは上述したように下層の親和性バンク層１１１の厚みと等しくなっている。発光層１３１はインクジェット方式などの方法によって液相の薄膜材料液をバンク１１０で囲まれる凹部１０１に充填し加熱処理することで形成される。カラーの有機ＥＬ素子を形成する場合には、赤、緑または青などの異なる発光色を有する発光層を形成する必要がある。したがって、隣接する領域に異なる発光層を形成する必要があり、任意の位置に異なる薄膜材料液を吐出できるインクジェット方式で発光層を形成する方法は非常に有効な方法である。
【００２５】
透明電極１４１は、導電性がありかつ光透過性のある材料、例えばＩＴＯ、ネサ等により構成されている。透明電極１４１は、画素単位で発光させるために、画素領域ごとに独立して設けられており、その厚みが０．０５μｍ〜０．２μｍ程度に調整されている。
【００２６】
金属層１５１は、導電性のある金属材料、例えばアルミニウムリチウム（Ａｌ−Ｌｉ）を０．１μｍ〜１．０μｍ程度積層して構成される。金属層１５１は、透明電極１４１に対向する共通電極として作用可能に、総ての画素にまたがってバンク１１０を覆うように形成されている。
【００２７】
上記のような層構造を有する有機ＥＬ素子において、透明電極１４１と金属層１５１との間に電圧が印加された画素領域では、発光層１３１に電流が流れ、エレクトロルミネッセンス現象を生じ、透明電極１４１および駆動基板１００を通して光が射出されるようになっている。
【００２８】
（製造方法）
次に、本有機ＥＬ素子の製造方法を、図４および図５の製造工程断面図を参照して説明する。
【００２９】
バンク形成工程（図４（ａ）〜（ｆ））： バンク形成工程は、駆動基板１００のバンク形成面に親和性バンク層１１１、１１２および非親和性バンク層１２１を積層してバンク１１０を形成する工程である。
【００３０】
予め公知の半導体プロセスなどによって駆動基板１００を製造しておく。駆動基板１００のパターン形成面には透明電極１４１を画素領域ごとに形成しておく。すなわち、スパッタ法または塗布法によってＩＴＯ等の透明電極材料を上記した厚みに成膜し、フォトリソグラフィ法により画素領域を覆う形状に形成する。
【００３１】
次いでフォトリソグラフィ法およびそれに準ずる方法により、各バンク層を積層していく。まず親和性バンク層１１１を駆動基板１００の一面に塗布する（図４（ａ））。親和性バンク層１１１として酸化シリコン、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン等の無機化合物材料を利用する場合にはスパッタ法やＣＶＤ法によって形成する。また親和性バンク層として酸化シリコンや有機化合物材料を使用する場合には各種塗布法（スピンコート、スプレーコード、ロールコート、ダイコート、ディップコート）によって形成可能である。親和性バンク層１１１を形成する厚みは、薄膜層１３１に設定する厚みに合わせておく。
【００３２】
次いでバンク形状に合わせて非親和性バンク層１２１を形成する（図４（ｂ））。すなわちポリイミド等の有機化合物は一般にフォトレジスト材料としても利用されているが、このような有機化合物を非親和性バンク層１２１とした場合には、非親和性バンク層そのものがレジストとして機能する。非親和性バンク層の形成時に、下層の親和性バンク層１１１の溶剤が除去されていなくてもよい。非親和性バンク層の形成過程で両バンク層が混濁することなく親和性バンク層から溶剤を除去させることが可能だからである。非親和性バンク層を組成する有機化合物をポジ型のフォトレジストとして作用しうる材料に選択する場合には、バンクの領域を覆う形状のマスクを施して露光する。非親和性バンク層を組成する有機化合物をネガ型のフォトレジストとして作用しうる材料に選択する場合には、バンクの領域に光が当たるようにマスクを施して露光する。露光には、有機化合物に一定のエネルギーを印加可能なエネルギー源を用いる。例えばエキシマレーザ等の短波長のレーザ光やＵＶ光を照射する。次いでこのフォトレジスト、すなわち非親和性バンク層１２１を現像して不要な部分の層を除去する。
【００３３】
次いでこの非親和性バンク層１２１をレジストとして親和性バンク層１１１をエッチングする（図４（ｃ））。エッチングには公知のドライエッチングまたはウェットエッチングのいずれも適用可能である。
【００３４】
次いで再度図４（ａ）と同様の方法で、バンクを含めた全面に親和性バンク層１１２を形成する（図４（ｄ））。詳細な方法は上記と同様である。ただし必ずしも親和性バンク層１１２の組成を既に形成してある親和性バンク層１１１の組成と同じにする必要はなく、親和性バンク層１１２の高さに形成する金属層１５１の薄膜材料液に対する親和性の程度やエッチング条件に応じて材料を変更することが可能である。
【００３５】
次いで親和性バンク層１１２を形成するためにフォトレジストを施す（図４（ｅ））。このフォトレジストはバンクを形成するものではないが、非親和性バンク層１２１と同等の材料を用いることもできる。もちろん市販のフォトレジスト材料、例えば環化イソプレンゴム、ビスアジド、フェノール樹脂、塩素化ポリスチレン、ノボラック樹脂、キノンジアジド、ＰＭＭＡ、ＰＭＰＫ等を使用可能である。図４（ｅ）にはポジ型のフォトレジストを使用して露光・現像した後のレジスト１４１が示されている。
【００３６】
最後に上記フォトレジスト１４１上から上記と同様にドライエッチングまたはウェットエッチングを行って、親和性バンク層１１２をバンクの最上層として形成する（図４（ｆ））。
【００３７】
以上の工程によって、三層からなるバンク１１０が形成される。バンク１１０で囲まれる凹部１０１が画素領域となる。バンク１１０が形成できれば、あとはインクジェット方式によって薄膜材料液を充填可能な装置を使用して発光層１３１を形成することになる。
【００３８】
薄膜形成工程（図５）： 薄膜形成工程はバンク１１０で囲まれた凹部１０１に薄膜材料液を順次充填して薄膜層を積層していく工程である。薄膜材料液１３０としては、上記したように電流により発光する有機半導体材料を使用する。各薄膜材料液１３０を充填する量は、当該発光層１３０に対応する位置に形成されている層、すなわち親和性バンク層１１１の厚みと同様になるように調整する。つまり加熱処理により溶媒成分を蒸発させた際に、蒸発した後に形成される発光層の表面が親和性バンク層１１１と非親和性バンク層１２１との境界と同じ高さになるような量に調整する。
【００３９】
薄膜材料液１３０を充填する方法としては液相材料を一定量充填可能な方法であれば種々に適用できるが、インクジェット方式によることが好ましい。インクジェット方式によれば任意の位置に任意の量で流動体を充填することができ、家庭用プリンタに使用されるような小型の装置で充填が可能だからである。さて、インクジェット式記録ヘッド１０２等を使用して薄膜材料液１３０を凹部１０１に充填したら、加熱して溶媒成分を除去する。インクジェット式記録ヘッド１０２から吐出させるには通常粘度が１〜２０ｃｐ程度であることを要する。このため最終的な必要な薄膜層の厚みに比べて多くの薄膜材料液を充填する。吐出直後では、薄膜材料液は最終的な厚みより上に配置されている非親和性バンク層１２１や親和性バンク層１１２と接している。加熱処理により溶媒成分が蒸発し体積が減少するに連れて、薄膜材料液はバンク１１０の側面に液面が引かれながらもその液面を下げてくる。この液面が非親和性バンク層１２１にかかると薄膜材料液がはじかれるため、薄膜材料液と壁面との接触点が最下段の親和性バンク層１１１と非親和性バンク層１２１との境界に移る（図５の破線）。薄膜材料液の充填量は、加熱処理後における薄膜材料液の体積が、最下段の親和性バンク層１１１と非親和性バンク層１２１との境界までの嵩と略等しく設定されている。このため、親和性バンク層１１１と非親和性バンク層１２１との境界まで液面が移動した後は、それ以上液面が下がることがない。体積減少により薄膜材料液の中央部の厚みが徐々に下がり、バンク側面との接触部分から中央部までの総ての部分おいて等しい厚みになった段階で、発光層１３１が固形化する。
【００４０】
なおインクジェット方式としてはピエゾジェット方式でも熱による気泡発生による吐出する方法であってもよい。ピエゾジェット方式では圧力室にノズルと圧電体素子とが備えられて構成されている。圧力室に流動体が充填されている圧電体素子に電圧を印加すると圧力室に体積変化が生じノズルから流動体の液滴が吐出される。気泡発生により吐出する方式では、ノズルに通ずる圧力室に発熱体が設けられている。発熱体を発熱させてノズル近辺の流動体を沸騰させ気泡を発生させてその体積膨張により流動体を吐出するものである。加熱による流動体の変質が無い点でピエゾジェット方式が好ましい。
【００４１】
最後に、スパッタ法や蒸着法等を用いてバンク１１０を覆う全面に金属層１５１を形成する（図１参照）。バンク層１１０の最上層は、親和性バンク層１１２で形成されるので、スパッタ法や蒸着法で形成した金属層との密着がよい。また金属層の形成は、広範囲にわたってほぼ均一な厚みで金属薄膜を形成可能な方法であれば、ロールコート法、スピンコート法、スプレー法等の塗布法も適用可能である。このときバンク１１０の最上層は金属層１５１の材料液に濡れやすい親和性バンク層１１２で形成されるので、どのような方法で金属層１５１を形成しても金属層の材料液がバンク１１０ではじかれて画素領域ごとに分離するといった事態が生ずることが防止される。
【００４２】
（バンク構造の変形）
本実施形態１において、バンクの層構造や薄膜層の層構造は任意に変更可能である。
【００４３】
図２に、図１におけるバンク１１０の変形例を示す。この変形例に係るバンク１１０ｂは、図２に示すように、下層から非親和性バンク層１２１，親和性バンク層１１１，非親和性バンク層１２２および親和性バンク層１１２を備えて構成されている。このバンク１１０ｂの層構造は、最下層にさらに非親和性バンク層１２１が設けられている点で図１のバンク１１０と異なる。この層構造は、例えば駆動基板１００や透明電極１４１との密着性が、親和性バンク層よりも非親和性バンク層の方が高い場合などに適用可能である。発光層などの薄膜層の厚みは、親和性バンク層とその直上の非親和性バンク層との境界の高さで決まるので、親和性バンク層の下に非親和性バンク層が存在しても薄膜層に影響は与えない。
【００４４】
図３に、図１におけるバンク１１０の他の変形例を示す。この変形例に係るバンク１１０ｃは、図３に示すように、下層から親和性バンク層１１１、非親和性バンク層１２１，親和性バンク層１１２、非親和性バンク層１２２、親和性バンク層１１３の各層で構成されている。親和性バンク層と非親和性バンク層の組が多い点で図１のバンク１１０と異なる。また薄膜層として透明電極層１４１および発光層１３１を備えている。透明電極層１３１は、透明電極の元となる薄膜材料液を凹部１０１に充填することにより、発光層１３１と同様の方法で製造されるものである。したがって透明電極１４１はバンク１１０ｃの形成後に形成される。このように親和性バンク層と非親和性バンク層の組を増やすたびに、薄膜層を１層増やすことができる。このことから、バンクの層構造を変更することにより、複数の薄膜層を備えた機能性薄膜デバイスを提供することが可能となる。例えば機能性薄膜デバイスが有機ＥＬ素子である場合には、発光層と電極層の間に、発光効率向上のために正孔輸送層や電子輸送層を設けることがあり、親和性バンク層と非親和性バンク層の組を増やすことにより、複数の薄膜層を均一な膜厚で形成できる。
【００４５】
さらに本実施形態のバンク層はその層構造を変更可能である。例えば機能性薄膜デバイス全面に金属層のような共通層を設ける必要がない場合には、最上部のバンク層を非親和性バンク層にすることが可能である。最上層が非親和性バンク層であれば、一つの凹部に多量に薄膜材料液を充填しても隣接する凹部へバンクを越えて薄膜材料液が流出することを防止できるからである。
【００４６】
上記したように本実施形態１によれば、バンクとして親和性バンク層と非親和性バンク層とを交互に備えているので、液相の薄膜材料液から形成される薄膜層を平坦に形成することができる。これにより明るさや色にむらが生じない画像表示が可能で信頼性の高い有機ＥＬ素子を提供可能である。
【００４７】
本発明の実施形態２は、本発明の機能性薄膜デバイスの構造を備えたカラーフィルタに関する。図６に本実施形態のカラーフィルタの積層構造断面図を示す。本カラーフィルタは、図６に示すように、透明基板２００，バンク２１０、着色樹脂層２３１〜２３３および保護膜２４１を備えている。
【００４８】
透明基板２００は、光を透過可能で一定の機械的強度を備えた平板であり、例えばガラスや石英により構成されている。透明基板２００は液晶パネルに貼り合わせることが可能に構成されている。液晶パネルは図示しないが、ガラス等の透明基板二枚の間に透明電極を介して液晶材料が封入されて構成されている。そして透明電極に電圧を印加することより電界を液晶分子に印加可能に構成されている。液晶パネルとしては公知の構造を備えていれば十分である。
【００４９】
バンク２１０は、画素領域２０１を取り囲むように平面図上で格子状またはストライプ状に形成されている。バンク２１０は、下層から親和性バンク層２１１，非親和性バンク層２２１および親和性バンク層２１２を順に積層して構成されている。親和性バンク層２１１、２１２は、上記実施形態１と同じく無機化合物または有機化合物によってそれぞれ構成されている。具体的には、Ａｌ、Ｔａ等の金属、酸化シリコン、窒化シリコン、アモルファスシリコン、ポリシリコン、ポリイミドまたはフッ素化合物のうちいずれか二種から選択される。非親和性バンク層２２１は、上記無機化合物または有機化合物で構成するが、光透過性の低い材料、例えば種々の金属、クロム化合物やカーボン含有の有機化合物等の遮光性材料で構成することが好ましい。すなわちいわゆるブラックマトリクスとして形成する。ただし遮光性材料は最上層である親和性バンク層に混ぜてもよい。親和性バンク層と非親和性バンク層の接触角については、上記実施形態１と同様である。また、親和性バンク層２１１の厚み、すなわち親和性バンク層２１１および非親和性バンク層２２１間の境界までの高さは、着色樹脂層２３１〜２３３の厚みと等しくなるように調整されている。非親和性バンク層２２１の厚みは、薄膜材料液を十分にはじき、薄膜材料液を上層の親和性バンク層２１２から分離させるのに十分な厚みに形成する。また親和性バンク層２１２の厚みは、保護層２５１の元となる薄膜材料液を広がりやすくすれば十分であるため、塗布法など、採用した製造方法によってほぼ均一に形成可能な厚みがあればよい。
【００５０】
着色樹脂層２３１（赤）、２３２（緑）、２３３（青）は、薄膜材料液として着色樹脂を凹部２０１に充填して形成されている。いずれの着色樹脂層も光透過性を有し、液晶パネルから透明基板２００を介して射出された光のうち特定の波長の光を透過可能に構成されている。すなわち、着色樹脂層２３１は赤色、着色樹脂層２３２は緑色、着色樹脂層２３３は青色の光を透過する。
【００５１】
上記カラーフィルタの製造方法は、上記実施形態１の製造方法に準ずる。すなわち、バンク２１０は複数のバンク層をフォトリソグラフィ法等で積層していくことで製造される。膜形成は、無機化合物膜の場合にはスパッタ法、ＣＶＤ法または塗布法、有機化合物膜の場合には塗布法を使用する。着色樹脂層２３１〜２３３は、インクジェット方式等を用いて着色染料または顔料を溶媒中に溶解または分散させた薄膜材料液を各凹部２０１に充填して溶媒成分を蒸発させて形成する。充填量の考え方は上記実施形態１と同様である。最後に、保護層または透明導電層２４１をカラーフィルタ全面にわたって形成する。形成方法は、広範囲な面積にわたってほぼ均一な厚みの膜を形成可能な塗布法などを利用する。
【００５２】
なお、上記実施形態１の変形例と同様に、本実施形態のバンク２１０も層構造を種々に変更可能である。例えば、図７に示すように、最下層を非親和性バンク層２２１で形成したバンク２１０ｂとしてもよい。また、バンク２１０を親和性バンク層と非親和性バンク層の多層構造にして、着色樹脂層の他の薄膜層を設けてもよい。さらに保護層または透明導電層２４１を設けないならば、バンク２１０の最上層を非親和性バンク層で構成してもよい。
【００５３】
上記したように本実施形態２によれば、仕切部材が親和性バンク層と非親和性バンク層とにより構成されているので、着色樹脂層を均一な厚みで形成することが可能である。このため明るさや色にむらが生じない画像表示を行うことができる。またバンク中に遮光性材料で形成された層を備えているので、画素領域ごとに光を分離し視認性をよくすることが可能である。
【００５４】
（その他の変形例）
本発明は上記実施形態に限定されることはなく、本発明の趣旨の範囲で種々に変更して適用することが可能である。例えば上記実施形態では機能性薄膜デバイスとして有機ＥＬ素子やカラーフィルタを例示したが、均一な厚みで積層された薄膜層を備えるデバイスであれば、他のデバイスにも適用可能である。光学的な装置のみならず半導体装置その他の装置に適用可能である。
【００５５】
また、親和性バンク層や非親和性バンク層の組成およびそれらの製造方法は上記によらず種々に変形可能である。本発明の主旨は親和性の程度の異なる層を交互に配置することにより薄膜層を均一な膜厚で形成する点にある。例えば親和性を示したり非親和性を示したりするバンク材料を使用する他、親和性の程度を問わず厚膜化の観点から採用した材料によりバンクを形成して、バンクの側面や上面の親和性を調整する表面処理を行ったり、親和性の程度が調整された材料を塗布して親和性バンク層と非親和性バンク層を形成してもよい。表面処理による親和性の調整方法としては、例えばフッ素を含むガスによるプラズマで表面処理することにより、無機材料と有機材料とで親和性の程度を調整可能である。また材料の塗布による親和性の調整方法としては、例えば、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（Ｃ２Ｈ５ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３）や２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート（ＦＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２ＯＯＯＣＨ＝ＣＨ２）を塗布することが挙げられる。これらの材料は、それ自体で極性基分子を有する薄膜材料液に対して非親和性を示す。
【００５６】
本実施形態によれば、親和性の程度の異なる領域を備えたバンクを備えたので、均一な厚みで積層された薄膜層を備えた機能性薄膜デバイスを提供することが可能である。このため機能性薄膜デバイスが有機ＥＬ素子やカラーフィルタである場合には、明るさや色にむらが生じない画像表示が可能でデバイスの信頼性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施形態１に係る機能性薄膜デバイス（有機ＥＬ素子）の層構造断面図である。
【図２】本発明の実施形態１に係る機能性薄膜デバイスの変形例を示す図である。
【図３】本発明の実施形態１に係る機能性薄膜デバイスの他の変形例を示す図である。
【図４】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ素子の製造工程断面図である。
【図５】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ素子の製造工程断面図（続き）である。
【図６】本発明の実施形態２に係る機能性薄膜デバイス（カラーフィルタ）の積層構造断面図である。
【図７】本発明の実施形態２に係る機能性薄膜デバイスの変形例を示す図である。
【図８】従来のバンク形成における問題点の説明図である。
【符号の説明】
【００５８】
１００…駆動基板
２００…透明基板
１０１、２０１…凹部
１１０、２１０…バンク
１１１、１１２、１１３、２１１，２１２…親和性バンク層
１２１、１２２、２２１，２２２…非親和性バンク層
１３０…薄膜材料液
１３１、１３２、２３１〜２３３…薄膜層（発光層、透明電極層、着色樹脂層）
１０２ インクジェット式記録ヘッド
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子またはＬＥＤ（発光ダイオード）素子などを備えた表示装置やカラーフィルタの製造に適した薄膜形成技術に係わる。特に仕切部材間に多層の薄膜層を形成する際に有利な技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示装置における発光層やカラーフィルタにおける着色層を有機半導体や着色樹脂などの薄膜材料液を用いて製造する技術が存在する。これらの技術は薄膜材料液を画素領域単位で充填し加熱処理で硬化させて画素領域を覆う薄膜層を形成するというものである。以下、これら一定の機能を備えた薄膜層を備えるデバイスを「機能性薄膜デバイス」と称する。
【０００３】
画素領域に薄膜材料液を充填する場合、吐出された薄膜材料液が隣の画素領域に流出することを防止するために、画素領域を仕切る仕切部材（以下「バンク」ともいう。また仕切部材を構成する層を「バンク層」という。）を設けて、仕切部材に囲まれる画素領域に薄膜材料液を充填する。バンクで囲まれた画素領域には成膜後の体積に比べてはるかに大きい薄膜材料液が充填される。しかし表示装置は一般に薄いことが要求されるため、バンクをやたらに高く形成することができない。このことからバンクやバンクで囲まれた画素領域が、薄膜材料液に対してどのような濡れ性（親和性）を示すかで充填された薄膜材料液の挙動が異なる。例えば特開平９−２０３８０３号や特開平９−２３０１２９号には、表面処理によりバンクの濡れ性を調整する発明が開示されている。
【０００４】
【特許文献１】特開平９−２０３８０３号公報
【特許文献２】特開平９−２３０１２９号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
バンクが薄膜材料液に対し親和性である場合、バンクと薄膜材料液との密着性がよく、薄膜材料液がバンクの表面に沿って広がりやすい。このため、図８（ａ）に示すようにバンクの高さを超える量の薄膜材料液を充填すると、バンクの側面（バンクの幅方向の壁をなす傾斜面をいう）や上面（バンクの頂部にある水平面をいう）で薄膜材料液がはじかれることなく、薄膜材料液がバンクを容易に乗り越えて隣接する画素領域に容易に流出してしまう。逆にバンクが薄膜材料液に対し非親和性を示す場合、バンクと薄膜材料液との密着性が悪く、薄膜材料液がバンクの表面に沿って広がりにくい。このため、図８（ｂ）に示すようにバンクの高さを越える量の薄膜材料液を充填しても、薄膜材料液の表面張力が作用しバンクの上面を越えて薄膜材料液が広がって隣の画素領域に薄膜材料液が流れ出すことはない。このように盛り上がった状態で薄膜材料液を加熱して溶媒を蒸発させると、側面で薄膜材料液がはじかれたまま薄膜材料液の嵩が減っていく。このため、成膜後には図８（ｃ）に示すように中央部で厚く周辺部で薄い薄膜が形成されてしまう。中央部でも周辺部でも均一な厚みになり表面が平面をなすように薄膜が形成されていないと、色むらが生じたり信頼性が低下したりする。
【０００６】
特に、多層の薄膜で形成される有機半導体膜などの装置を製造する場合には、薄膜を積層するにあたりいずれの薄膜層も均一な厚みに形成されていなければならない。前記特開平９−２０３８０３号や特開平９−２３０１２９号には、表面処理によりバンクの濡れ性を調整する発明が開示されているが、薄膜を均一な厚みに形成する方法や各膜厚を均一にしながら多数積層する技術については開示されていなかった。
【０００７】
そこで本発明の課題は、親和性の程度の異なる領域を備えたバンクを備えることにより、均一な厚みで積層された薄膜層を備えた機能性薄膜デバイスを提供することである。これにより明るさや色にむらが生じない画像表示が可能で信頼性の高い表示装置やカラーフィルタ等を提供することができる。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明にかかるカラーフィルタは、電極層と、前記電極層上に形成された第１の膜と、前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、前記第１のバンク上に形成される絶縁性の第２のバンクと、を有することを特徴とする。これによれば、第１のバンクに囲まれた第１の膜の平坦性が向上する。
また、本発明にかかるカラーフィルタは、電極層と、前記電極層上に形成された第１の膜と、前記第１の膜上に形成された第２の膜と、前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、前記第２のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第３のバンクと、を有することを特徴とする。
【０００９】
ここで、上記カラーフィルタにおいては、前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接することが好ましい。
また、本発明にかかるカラーフィルタは、電極層と、前記電極層上に形成された第１の膜と、前記第１の膜上に形成された第２の膜と、前記第２の膜上に形成された第３の膜と、前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、前記第２のバンク上に形成される絶縁性の第３のバンクと、を有し、前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接し、前記第２の膜と前記第３の膜の界面と、前記第２のバンクにおける前記第３のバンクが形成される面とが接することを特徴とする。
【００１０】
ここで、上記カラーフィルタにおいては、前記第１のバンクの側面が斜面を有することが好ましい。また、前記電極層が透明電極層であることが好ましい。また、前記第１のバンクの少なくとも一部が前記電極層の少なくとも一部を覆っていることが好ましい。また、前記第１のバンクが無機化合物を含むことが好ましい。また、前記第２のバンクが有機化合物を含むことが好ましい。また、前記第１のバンクが酸化シリコンを含み、前記第２のバンクがポリイミドを含むことが好ましい。また、前記第１の膜を溶解する溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記溶媒に対する前記第２のバンクの新和性より大きいことが好ましい。
【００１１】
また、本発明にかかるカラーフィルタの製造方法は、絶縁性の第１のバンクと絶縁性の第２のバンクとを前記第１のバンクの上に前記第２のバンクが位置するよう形成する工程と、前記電極層上の前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の溶媒と第１の膜材料を含んだ第１の溶液を塗布する工程と、前記第１の溶媒を除去し、前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の膜を形成する工程と、前記第１の膜上に、第２の溶媒と第２の膜材料を含んだ第２の溶液を塗布する工程と、前記第２の溶媒を除去し、前記第１の膜上に第２の膜を形成する工程と、を有し、前記第１の溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記第１の溶媒に対する前記第２のバンクの親和性より大きいことを特徴とする。
このカラーフィルタの製造方法は、前記第１の溶液がインクジェット法で塗布されてもよい。または、前記第１の溶液がスピンコート法で塗布されてもよい。
【００１２】
ここで「バンク」とは、例えば半導体薄膜素子を利用した表示装置の画素を仕切るために設けたり、カラーフィルタの画素領域を仕切るために設けたりする仕切部材のことをいう。バンクの積層構造は層ごとに非親和性材料や親和性材料の種類を変えて用いてもよい。各層の厚みは層ごとに変更して積層してもよい。バンク形成面とはこのバンクを設ける面のことで、表示装置等の駆動基板であってもカラーフィルタ等の透明基板等であってもよい。
【００１３】
バンク層が「親和性」であるか「非親和性」であるかは、充填する薄膜材料液がどのような性質を備えているかで決まる。例えば極性分子を多く含む薄膜材料液であれば極性基を有する表面が親和性を示し、非極性基を有する表面が非親和性を示す。逆に極性分子が少数派の薄膜材料液であれば極性基を有する表面が非親和性を示し、非極性基を有する表面が親和性を示す。また、充填する薄膜材料液の表面張力によってもバンク層の親和性の程度が決まる。例えば、水に対して非親和性（疎水性）を示すバンク層であっても薄膜材料液が水より表面張力の小さい溶剤を多量に含んでいると、その薄膜材料液は水より表面張力が小さくなり、該バンク層は該薄膜材料液に対して親和性を示すことになる。したがって、薄膜材料液を何にするかは、製造対象によって種々に変更して適用することになる。薄膜材料液が一層ごとに極性分子を多く含むか否かが変わる場合には、その薄膜材料液で形成される薄膜層に対応する位置に設けられる二層のバンク層のうち、この薄膜材料液に対して下層がその薄膜材料液に対し非親和性を示し上層が親和性を示すように、層構造を変更して適用可能である。
【００１４】
「機能性薄膜デバイス」とは単一層または複数層の薄膜層を備えるあらゆる装置を含むものとする。例えば有機ＥＬ素子等で構成された表示装置やカラーフィルタが該当する。さらに光学装置に限定されることなく、１以上の薄膜層を備えることにより、一定の機能・作用・効果を奏する装置に適用可能である。
【００１５】
具体的な構造として、バンクは、最下層に親和性バンク層を備えていたり、最下層に非親和性バンク層を備えていたりする。最上層に親和性バンク層を備えていてもよい。この場合には、複数の領域に共通なバンクを越えた共通の薄膜層を形成可能となる。また、バンクは光を透過しない不透明層を備えていてもよい。カラーフィルタにおけるブラックマトリクスのように機能させることができる。
【００１６】
ここで親和性バンク層は、薄膜材料液に対する接触角が３０度以下であることが好ましく、非親和性バンク層は、薄膜材料液に対する接触角が４０度以上であることが好ましい。
【００１７】
親和性バンク層および非親和性バンク層は、Ａｌ、Ｔａ等の金属、酸化シリコン、窒化シリコン、アモルファスシリコン、ポリシリコン、ポリイミド、フッ素結合を有する有機化合物、フォトレジストのうちいずれか二種以上から構成される無機化合物または有機化合物で構成されることが好ましい。導電性を有してもよいなら金属を使用でき絶縁性が必要なら金属以外の化合物で構成する。これらの材料は、二種類の材料の薄膜材料液に対する接触角の相違によって、親和性バンク層になるか非親和性バンク層になるかが決まる。すなわち親和性であるか非親和性であるかは相対的に決まり絶対的なものではない。表面処理の有無によっても親和性の程度が変動する。同一の材料が親和性バンク層として用いられたり非親和性バンク層として用いられたりする。
【００１８】
機能性薄膜デバイスの一つの具体的な構造として、薄膜層には発光作用を示す発光層を含み、表示装置として機能可能に構成される。この場合、例えば複数の前記領域にまたがって形成された金属層を前記薄膜層の最上層として備えている。また領域の底部には透明電極を備えている。さらに複数の薄膜層は、下層に透明電極層を備え、その上層に発光層を備えている。
【００１９】
また他の機能性薄膜デバイスの具体的な構造として、薄膜層には画素に色彩を付与するための着色層を含み、カラーフィルタとして機能可能に構成されている。この場合、例えば複数の領域にまたがって形成された透明導電層を薄膜層の最上層として備えている。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２０】
次に本発明の好適な実施の形態を、図面を参照して説明する。
【００２１】
（実施形態１）
本発明の実施形態１は、有機ＥＬ素子に関する。図１に本実施形態の有機ＥＬ素子の積層構造断面図を示す。本有機ＥＬ素子は、図１に示すように、駆動基板１００、バンク１１０、発光層１３１、透明電極１４１および金属層１５１を備えている。この図では、簡略化のために一つの画素を表示させるための領域（画素領域）のみを図示してある。
【００２２】
駆動基板１００は、図示しない薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）、配線膜および絶縁膜等が多層に積層されており、金属層１５１および各透明電極１４１間に画素単位で電圧を印加可能に構成されている。駆動基板１００は公知の薄膜プロセスによって製造される。
【００２３】
バンク１１０は、親和性バンク層１１１、非親和性バンク層１２１および親和性バンク層１１２を下から順に積層して形成されている。親和性バンク層１１１、１１２および非親和性バンク層１２１は、絶縁無機化合物または絶縁有機化合物によってそれぞれ構成されている。具体的には、酸化シリコン、窒化シリコン、アモルファスシリコン、ポリシリコン、ポリイミドまたはフッ素化合物のうちいずれか二種から選択される。Ａｌ、Ｔａ等の金属もバンク層として必要な接触角を備えるが、導電性を有する点で、本実施形態では使用することができない。好ましくは、親和性バンク層１１１，１１２は、発光層１３１を形成する元となる薄膜材料液に対する接触角が３０度以下となるように調整される。また非親和性バンク層１２１は、薄膜材料液に対する接触角が４０度以上となるように調整される。ただし、親和性の程度は相対的なものであるため、親和性バンク層の親和性の程度が非親和性バンク層より高くなるように設定する必要がある。つまり、接触角の大きさがどのような材料を組み合わせても常に
非親和性バンク層＞親和性バンク層
という関係を満たすように調整されている。また、親和性バンク層１１１の厚み、すなわち親和性バンク層１１１および非親和性バンク層１２１間の境界までの高さは、発光層１３１の厚みと等しくなるように調整されている。言い換えれば、この境界の高さを発光層に必要とされる厚みに調整しておく。非親和性バンク層１２１の厚みは、薄膜材料液を十分にはじき、薄膜材料液を上層の親和性バンク層１１２から分離させるのに十分な厚みに形成する。また親和性バンク層１１２の厚みは、金属層１５１の元となる薄膜材料液を広がりやすくすれば十分であるため、塗布法など、採用した製造方法によってほぼ均一に形成可能な厚みがあればよい。バンク１１０は、複数のバンク層をフォトリソグラフィ法等で積層していくことで製造される。膜形成は、無機化合物膜の場合にはスパッタ法、ＣＶＤ法または塗布法、有機化合物膜の場合には塗布法を使用する。
【００２４】
発光層１３１は、電流を流すことにより発光する材料、例えばポリフェニレンビニレン（ＰＰＶ）等公知の有機半導体材料を使用して、十分な光量が得られる厚み、例えば０．０５μｍ〜０．２μｍ程度積層して構成される。この厚みは上述したように下層の親和性バンク層１１１の厚みと等しくなっている。発光層１３１はインクジェット方式などの方法によって液相の薄膜材料液をバンク１１０で囲まれる凹部１０１に充填し加熱処理することで形成される。カラーの有機ＥＬ素子を形成する場合には、赤、緑または青などの異なる発光色を有する発光層を形成する必要がある。したがって、隣接する領域に異なる発光層を形成する必要があり、任意の位置に異なる薄膜材料液を吐出できるインクジェット方式で発光層を形成する方法は非常に有効な方法である。
【００２５】
透明電極１４１は、導電性がありかつ光透過性のある材料、例えばＩＴＯ、ネサ等により構成されている。透明電極１４１は、画素単位で発光させるために、画素領域ごとに独立して設けられており、その厚みが０．０５μｍ〜０．２μｍ程度に調整されている。
【００２６】
金属層１５１は、導電性のある金属材料、例えばアルミニウムリチウム（Ａｌ−Ｌｉ）を０．１μｍ〜１．０μｍ程度積層して構成される。金属層１５１は、透明電極１４１に対向する共通電極として作用可能に、総ての画素にまたがってバンク１１０を覆うように形成されている。
【００２７】
上記のような層構造を有する有機ＥＬ素子において、透明電極１４１と金属層１５１との間に電圧が印加された画素領域では、発光層１３１に電流が流れ、エレクトロルミネッセンス現象を生じ、透明電極１４１および駆動基板１００を通して光が射出されるようになっている。
【００２８】
（製造方法）
次に、本有機ＥＬ素子の製造方法を、図４および図５の製造工程断面図を参照して説明する。
【００２９】
バンク形成工程（図４（ａ）〜（ｆ））： バンク形成工程は、駆動基板１００のバンク形成面に親和性バンク層１１１、１１２および非親和性バンク層１２１を積層してバンク１１０を形成する工程である。
【００３０】
予め公知の半導体プロセスなどによって駆動基板１００を製造しておく。駆動基板１００のパターン形成面には透明電極１４１を画素領域ごとに形成しておく。すなわち、スパッタ法または塗布法によってＩＴＯ等の透明電極材料を上記した厚みに成膜し、フォトリソグラフィ法により画素領域を覆う形状に形成する。
【００３１】
次いでフォトリソグラフィ法およびそれに準ずる方法により、各バンク層を積層していく。まず親和性バンク層１１１を駆動基板１００の一面に塗布する（図４（ａ））。親和性バンク層１１１として酸化シリコン、窒化シリコン、ポリシリコン、アモルファスシリコン等の無機化合物材料を利用する場合にはスパッタ法やＣＶＤ法によって形成する。また親和性バンク層として酸化シリコンや有機化合物材料を使用する場合には各種塗布法（スピンコート、スプレーコード、ロールコート、ダイコート、ディップコート）によって形成可能である。親和性バンク層１１１を形成する厚みは、薄膜層１３１に設定する厚みに合わせておく。
【００３２】
次いでバンク形状に合わせて非親和性バンク層１２１を形成する（図４（ｂ））。すなわちポリイミド等の有機化合物は一般にフォトレジスト材料としても利用されているが、このような有機化合物を非親和性バンク層１２１とした場合には、非親和性バンク層そのものがレジストとして機能する。非親和性バンク層の形成時に、下層の親和性バンク層１１１の溶剤が除去されていなくてもよい。非親和性バンク層の形成過程で両バンク層が混濁することなく親和性バンク層から溶剤を除去させることが可能だからである。非親和性バンク層を組成する有機化合物をポジ型のフォトレジストとして作用しうる材料に選択する場合には、バンクの領域を覆う形状のマスクを施して露光する。非親和性バンク層を組成する有機化合物をネガ型のフォトレジストとして作用しうる材料に選択する場合には、バンクの領域に光が当たるようにマスクを施して露光する。露光には、有機化合物に一定のエネルギーを印加可能なエネルギー源を用いる。例えばエキシマレーザ等の短波長のレーザ光やＵＶ光を照射する。次いでこのフォトレジスト、すなわち非親和性バンク層１２１を現像して不要な部分の層を除去する。
【００３３】
次いでこの非親和性バンク層１２１をレジストとして親和性バンク層１１１をエッチングする（図４（ｃ））。エッチングには公知のドライエッチングまたはウェットエッチングのいずれも適用可能である。
【００３４】
次いで再度図４（ａ）と同様の方法で、バンクを含めた全面に親和性バンク層１１２を形成する（図４（ｄ））。詳細な方法は上記と同様である。ただし必ずしも親和性バンク層１１２の組成を既に形成してある親和性バンク層１１１の組成と同じにする必要はなく、親和性バンク層１１２の高さに形成する金属層１５１の薄膜材料液に対する親和性の程度やエッチング条件に応じて材料を変更することが可能である。
【００３５】
次いで親和性バンク層１１２を形成するためにフォトレジストを施す（図４（ｅ））。このフォトレジストはバンクを形成するものではないが、非親和性バンク層１２１と同等の材料を用いることもできる。もちろん市販のフォトレジスト材料、例えば環化イソプレンゴム、ビスアジド、フェノール樹脂、塩素化ポリスチレン、ノボラック樹脂、キノンジアジド、ＰＭＭＡ、ＰＭＰＫ等を使用可能である。図４（ｅ）にはポジ型のフォトレジストを使用して露光・現像した後のレジスト１４１が示されている。
【００３６】
最後に上記フォトレジスト１４１上から上記と同様にドライエッチングまたはウェットエッチングを行って、親和性バンク層１１２をバンクの最上層として形成する（図４（ｆ））。
【００３７】
以上の工程によって、三層からなるバンク１１０が形成される。バンク１１０で囲まれる凹部１０１が画素領域となる。バンク１１０が形成できれば、あとはインクジェット方式によって薄膜材料液を充填可能な装置を使用して発光層１３１を形成することになる。
【００３８】
薄膜形成工程（図５）： 薄膜形成工程はバンク１１０で囲まれた凹部１０１に薄膜材料液を順次充填して薄膜層を積層していく工程である。薄膜材料液１３０としては、上記したように電流により発光する有機半導体材料を使用する。各薄膜材料液１３０を充填する量は、当該発光層１３０に対応する位置に形成されている層、すなわち親和性バンク層１１１の厚みと同様になるように調整する。つまり加熱処理により溶媒成分を蒸発させた際に、蒸発した後に形成される発光層の表面が親和性バンク層１１１と非親和性バンク層１２１との境界と同じ高さになるような量に調整する。
【００３９】
薄膜材料液１３０を充填する方法としては液相材料を一定量充填可能な方法であれば種々に適用できるが、インクジェット方式によることが好ましい。インクジェット方式によれば任意の位置に任意の量で流動体を充填することができ、家庭用プリンタに使用されるような小型の装置で充填が可能だからである。さて、インクジェット式記録ヘッド１０２等を使用して薄膜材料液１３０を凹部１０１に充填したら、加熱して溶媒成分を除去する。インクジェット式記録ヘッド１０２から吐出させるには通常粘度が１〜２０ｃｐ程度であることを要する。このため最終的な必要な薄膜層の厚みに比べて多くの薄膜材料液を充填する。吐出直後では、薄膜材料液は最終的な厚みより上に配置されている非親和性バンク層１２１や親和性バンク層１１２と接している。加熱処理により溶媒成分が蒸発し体積が減少するに連れて、薄膜材料液はバンク１１０の側面に液面が引かれながらもその液面を下げてくる。この液面が非親和性バンク層１２１にかかると薄膜材料液がはじかれるため、薄膜材料液と壁面との接触点が最下段の親和性バンク層１１１と非親和性バンク層１２１との境界に移る（図５の破線）。薄膜材料液の充填量は、加熱処理後における薄膜材料液の体積が、最下段の親和性バンク層１１１と非親和性バンク層１２１との境界までの嵩と略等しく設定されている。このため、親和性バンク層１１１と非親和性バンク層１２１との境界まで液面が移動した後は、それ以上液面が下がることがない。体積減少により薄膜材料液の中央部の厚みが徐々に下がり、バンク側面との接触部分から中央部までの総ての部分おいて等しい厚みになった段階で、発光層１３１が固形化する。
【００４０】
なおインクジェット方式としてはピエゾジェット方式でも熱による気泡発生による吐出する方法であってもよい。ピエゾジェット方式では圧力室にノズルと圧電体素子とが備えられて構成されている。圧力室に流動体が充填されている圧電体素子に電圧を印加すると圧力室に体積変化が生じノズルから流動体の液滴が吐出される。気泡発生により吐出する方式では、ノズルに通ずる圧力室に発熱体が設けられている。発熱体を発熱させてノズル近辺の流動体を沸騰させ気泡を発生させてその体積膨張により流動体を吐出するものである。加熱による流動体の変質が無い点でピエゾジェット方式が好ましい。
【００４１】
最後に、スパッタ法や蒸着法等を用いてバンク１１０を覆う全面に金属層１５１を形成する（図１参照）。バンク層１１０の最上層は、親和性バンク層１１２で形成されるので、スパッタ法や蒸着法で形成した金属層との密着がよい。また金属層の形成は、広範囲にわたってほぼ均一な厚みで金属薄膜を形成可能な方法であれば、ロールコート法、スピンコート法、スプレー法等の塗布法も適用可能である。このときバンク１１０の最上層は金属層１５１の材料液に濡れやすい親和性バンク層１１２で形成されるので、どのような方法で金属層１５１を形成しても金属層の材料液がバンク１１０ではじかれて画素領域ごとに分離するといった事態が生ずることが防止される。
【００４２】
（バンク構造の変形）
本実施形態１において、バンクの層構造や薄膜層の層構造は任意に変更可能である。
【００４３】
図２に、図１におけるバンク１１０の変形例を示す。この変形例に係るバンク１１０ｂは、図２に示すように、下層から非親和性バンク層１２１，親和性バンク層１１１，非親和性バンク層１２２および親和性バンク層１１２を備えて構成されている。このバンク１１０ｂの層構造は、最下層にさらに非親和性バンク層１２１が設けられている点で図１のバンク１１０と異なる。この層構造は、例えば駆動基板１００や透明電極１４１との密着性が、親和性バンク層よりも非親和性バンク層の方が高い場合などに適用可能である。発光層などの薄膜層の厚みは、親和性バンク層とその直上の非親和性バンク層との境界の高さで決まるので、親和性バンク層の下に非親和性バンク層が存在しても薄膜層に影響は与えない。
【００４４】
図３に、図１におけるバンク１１０の他の変形例を示す。この変形例に係るバンク１１０ｃは、図３に示すように、下層から親和性バンク層１１１、非親和性バンク層１２１，親和性バンク層１１２、非親和性バンク層１２２、親和性バンク層１１３の各層で構成されている。親和性バンク層と非親和性バンク層の組が多い点で図１のバンク１１０と異なる。また薄膜層として透明電極層１４１および発光層１３１を備えている。透明電極層１３１は、透明電極の元となる薄膜材料液を凹部１０１に充填することにより、発光層１３１と同様の方法で製造されるものである。したがって透明電極１４１はバンク１１０ｃの形成後に形成される。このように親和性バンク層と非親和性バンク層の組を増やすたびに、薄膜層を１層増やすことができる。このことから、バンクの層構造を変更することにより、複数の薄膜層を備えた機能性薄膜デバイスを提供することが可能となる。例えば機能性薄膜デバイスが有機ＥＬ素子である場合には、発光層と電極層の間に、発光効率向上のために正孔輸送層や電子輸送層を設けることがあり、親和性バンク層と非親和性バンク層の組を増やすことにより、複数の薄膜層を均一な膜厚で形成できる。
【００４５】
さらに本実施形態のバンク層はその層構造を変更可能である。例えば機能性薄膜デバイス全面に金属層のような共通層を設ける必要がない場合には、最上部のバンク層を非親和性バンク層にすることが可能である。最上層が非親和性バンク層であれば、一つの凹部に多量に薄膜材料液を充填しても隣接する凹部へバンクを越えて薄膜材料液が流出することを防止できるからである。
【００４６】
上記したように本実施形態１によれば、バンクとして親和性バンク層と非親和性バンク層とを交互に備えているので、液相の薄膜材料液から形成される薄膜層を平坦に形成することができる。これにより明るさや色にむらが生じない画像表示が可能で信頼性の高い有機ＥＬ素子を提供可能である。
【００４７】
本発明の実施形態２は、本発明の機能性薄膜デバイスの構造を備えたカラーフィルタに関する。図６に本実施形態のカラーフィルタの積層構造断面図を示す。本カラーフィルタは、図６に示すように、透明基板２００，バンク２１０、着色樹脂層２３１〜２３３および保護膜２４１を備えている。
【００４８】
透明基板２００は、光を透過可能で一定の機械的強度を備えた平板であり、例えばガラスや石英により構成されている。透明基板２００は液晶パネルに貼り合わせることが可能に構成されている。液晶パネルは図示しないが、ガラス等の透明基板二枚の間に透明電極を介して液晶材料が封入されて構成されている。そして透明電極に電圧を印加することより電界を液晶分子に印加可能に構成されている。液晶パネルとしては公知の構造を備えていれば十分である。
【００４９】
バンク２１０は、画素領域２０１を取り囲むように平面図上で格子状またはストライプ状に形成されている。バンク２１０は、下層から親和性バンク層２１１，非親和性バンク層２２１および親和性バンク層２１２を順に積層して構成されている。親和性バンク層２１１、２１２は、上記実施形態１と同じく無機化合物または有機化合物によってそれぞれ構成されている。具体的には、Ａｌ、Ｔａ等の金属、酸化シリコン、窒化シリコン、アモルファスシリコン、ポリシリコン、ポリイミドまたはフッ素化合物のうちいずれか二種から選択される。非親和性バンク層２２１は、上記無機化合物または有機化合物で構成するが、光透過性の低い材料、例えば種々の金属、クロム化合物やカーボン含有の有機化合物等の遮光性材料で構成することが好ましい。すなわちいわゆるブラックマトリクスとして形成する。ただし遮光性材料は最上層である親和性バンク層に混ぜてもよい。親和性バンク層と非親和性バンク層の接触角については、上記実施形態１と同様である。また、親和性バンク層２１１の厚み、すなわち親和性バンク層２１１および非親和性バンク層２２１間の境界までの高さは、着色樹脂層２３１〜２３３の厚みと等しくなるように調整されている。非親和性バンク層２２１の厚みは、薄膜材料液を十分にはじき、薄膜材料液を上層の親和性バンク層２１２から分離させるのに十分な厚みに形成する。また親和性バンク層２１２の厚みは、保護層２５１の元となる薄膜材料液を広がりやすくすれば十分であるため、塗布法など、採用した製造方法によってほぼ均一に形成可能な厚みがあればよい。
【００５０】
着色樹脂層２３１（赤）、２３２（緑）、２３３（青）は、薄膜材料液として着色樹脂を凹部２０１に充填して形成されている。いずれの着色樹脂層も光透過性を有し、液晶パネルから透明基板２００を介して射出された光のうち特定の波長の光を透過可能に構成されている。すなわち、着色樹脂層２３１は赤色、着色樹脂層２３２は緑色、着色樹脂層２３３は青色の光を透過する。
【００５１】
上記カラーフィルタの製造方法は、上記実施形態１の製造方法に準ずる。すなわち、バンク２１０は複数のバンク層をフォトリソグラフィ法等で積層していくことで製造される。膜形成は、無機化合物膜の場合にはスパッタ法、ＣＶＤ法または塗布法、有機化合物膜の場合には塗布法を使用する。着色樹脂層２３１〜２３３は、インクジェット方式等を用いて着色染料または顔料を溶媒中に溶解または分散させた薄膜材料液を各凹部２０１に充填して溶媒成分を蒸発させて形成する。充填量の考え方は上記実施形態１と同様である。最後に、保護層または透明導電層２４１をカラーフィルタ全面にわたって形成する。形成方法は、広範囲な面積にわたってほぼ均一な厚みの膜を形成可能な塗布法などを利用する。
【００５２】
なお、上記実施形態１の変形例と同様に、本実施形態のバンク２１０も層構造を種々に変更可能である。例えば、図７に示すように、最下層を非親和性バンク層２２１で形成したバンク２１０ｂとしてもよい。また、バンク２１０を親和性バンク層と非親和性バンク層の多層構造にして、着色樹脂層の他の薄膜層を設けてもよい。さらに保護層または透明導電層２４１を設けないならば、バンク２１０の最上層を非親和性バンク層で構成してもよい。
【００５３】
上記したように本実施形態２によれば、仕切部材が親和性バンク層と非親和性バンク層とにより構成されているので、着色樹脂層を均一な厚みで形成することが可能である。このため明るさや色にむらが生じない画像表示を行うことができる。またバンク中に遮光性材料で形成された層を備えているので、画素領域ごとに光を分離し視認性をよくすることが可能である。
【００５４】
（その他の変形例）
本発明は上記実施形態に限定されることはなく、本発明の趣旨の範囲で種々に変更して適用することが可能である。例えば上記実施形態では機能性薄膜デバイスとして有機ＥＬ素子やカラーフィルタを例示したが、均一な厚みで積層された薄膜層を備えるデバイスであれば、他のデバイスにも適用可能である。光学的な装置のみならず半導体装置その他の装置に適用可能である。
【００５５】
また、親和性バンク層や非親和性バンク層の組成およびそれらの製造方法は上記によらず種々に変形可能である。本発明の主旨は親和性の程度の異なる層を交互に配置することにより薄膜層を均一な膜厚で形成する点にある。例えば親和性を示したり非親和性を示したりするバンク材料を使用する他、親和性の程度を問わず厚膜化の観点から採用した材料によりバンクを形成して、バンクの側面や上面の親和性を調整する表面処理を行ったり、親和性の程度が調整された材料を塗布して親和性バンク層と非親和性バンク層を形成してもよい。表面処理による親和性の調整方法としては、例えばフッ素を含むガスによるプラズマで表面処理することにより、無機材料と有機材料とで親和性の程度を調整可能である。また材料の塗布による親和性の調整方法としては、例えば、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル（Ｃ２Ｈ５ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＯＣＨ３）や２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート（ＦＣＦ２）８ＣＨ２ＣＨ２ＯＯＯＣＨ＝ＣＨ２）を塗布することが挙げられる。これらの材料は、それ自体で極性基分子を有する薄膜材料液に対して非親和性を示す。
【００５６】
本実施形態によれば、親和性の程度の異なる領域を備えたバンクを備えたので、均一な厚みで積層された薄膜層を備えた機能性薄膜デバイスを提供することが可能である。このため機能性薄膜デバイスが有機ＥＬ素子やカラーフィルタである場合には、明るさや色にむらが生じない画像表示が可能でデバイスの信頼性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００５７】
【図１】本発明の実施形態１に係る機能性薄膜デバイス（有機ＥＬ素子）の層構造断面図である。
【図２】本発明の実施形態１に係る機能性薄膜デバイスの変形例を示す図である。
【図３】本発明の実施形態１に係る機能性薄膜デバイスの他の変形例を示す図である。
【図４】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ素子の製造工程断面図である。
【図５】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ素子の製造工程断面図（続き）である。
【図６】本発明の実施形態２に係る機能性薄膜デバイス（カラーフィルタ）の積層構造断面図である。
【図７】本発明の実施形態２に係る機能性薄膜デバイスの変形例を示す図である。
【図８】従来のバンク形成における問題点の説明図である。
【符号の説明】
【００５８】
１００…駆動基板
２００…透明基板
１０１、２０１…凹部
１１０、２１０…バンク
１１１、１１２、１１３、２１１，２１２…親和性バンク層
１２１、１２２、２２１，２２２…非親和性バンク層
１３０…薄膜材料液
１３１、１３２、２３１〜２３３…薄膜層（発光層、透明電極層、着色樹脂層）
１０２ インクジェット式記録ヘッド
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極層と、
前記電極層上に形成された第１の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成される絶縁性の第２のバンクと、を有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】
電極層と、
前記電極層上に形成された第１の膜と、
前記第１の膜上に形成された第２の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、
前記第２のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第３のバンクと、を有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項３】
電極層と、
前記電極層上に形成された第１の膜と、
前記第１の膜上に形成された第２の膜と、
前記第２の膜上に形成された第３の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、
前記第２のバンク上に形成される絶縁性の第３のバンクと、を有し、
前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接し、前記第２の膜と前記第３の膜の界面と、前記第２のバンクにおける前記第３のバンクが形成される面とが接することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項４】
請求項２において、
前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接する、カラーフィルタ。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記第１のバンクの側面が斜面を有する、カラーフィルタ。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、
前記電極層が透明電極層である、カラーフィルタ。
【請求項７】
請求項１ないし７のいずれかにおいて、
前記第１のバンクの少なくとも一部が前記電極層の少なくとも一部を覆っている、カラーフィルタ。
【請求項８】
請求項１ないし８のいずれかにおいて、
前記第１のバンクが無機化合物を含む、カラーフィルタ。
【請求項９】
請求項１ないし９のいずれかにおいて、
前記第２のバンクが有機化合物を含む、カラーフィルタ。
【請求項１０】
請求項１ないし１０のいずれかにおいて、
前記第１のバンクが酸化シリコンを含み、前記第２のバンクがポリイミドを含む、カラーフィルタ。
【請求項１１】
請求項１ないし１１のいずれかにおいて、
前記第１の膜を溶解する溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記溶媒に対する前記第２のバンクの新和性より大きい、カラーフィルタ。
【請求項１２】
請求項１ないし１２のいずれかに記載のカラーフィルタを含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項１ないし２のいずれかに記載のカラーフィルタを含むことを特徴とする光学装置。
【請求項１４】
電極層を形成する工程と、
絶縁性の第１のバンクと絶縁性の第２のバンクとを前記第１のバンクの上に前記第２のバンクが位置するよう形成する工程と、
前記電極層上の前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の溶媒と第１の膜材料を含んだ第１の溶液を塗布する工程と、
前記第１の溶媒を除去し、前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の膜を形成する工程と、を有し、
前記第１の溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記第１の溶媒に対する前記第２のバンクの親和性より大きいことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１５】
請求項１５において、
前記第１の溶液がインクジェット法で塗布される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】
請求項１５において、
前記第１の溶液がスピンコート法で塗布される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項１７】
請求項１５ないし１７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１５ないし１７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする光学装置の製造方法。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極層と、
前記電極層上に形成された着色材料を含む第１の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成される絶縁性の第２のバンクと、を有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】
電極層と、
前記電極層上に形成された着色材料を含む第１の膜と、
前記第１の膜上に形成された第２の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、
前記第２のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第３のバンクと、を有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項３】
電極層と、
前記電極層上に形成された着色材料を含む第１の膜と、
前記第１の膜上に形成された第２の膜と、
前記第２の膜上に形成された第３の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、
前記第２のバンク上に形成される絶縁性の第３のバンクと、を有し、
前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接し、前記第２の膜と前記第３の膜の界面と、前記第２のバンクにおける前記第３のバンクが形成される面とが接することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項４】
請求項２において、
前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接する、カラーフィルタ。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記第１のバンクの側面が斜面を有する、カラーフィルタ。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、
前記電極層が透明電極層である、カラーフィルタ。
【請求項７】
請求項１ないし８のいずれかにおいて、
前記第１のバンクの少なくとも一部が前記電極層の少なくとも一部を覆っている、カラーフィルタ。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかにおいて、
前記着色材料が染料または顔料の少なくともいずれかを含む、カラーフィルタ。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかにおいて、
前記電極層がトランジスタから電圧を印加されるものである、カラーフィルタ。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかにおいて、
前記第１のバンクが無機化合物を含む、カラーフィルタ。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかにおいて、
前記第２のバンクが有機化合物を含む、カラーフィルタ。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかにおいて、
前記第１の膜を溶解する溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記溶媒に対する前記第２のバンクの新和性より大きい、カラーフィルタ。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれかに記載のカラーフィルタを含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１ないし１２のいずれかに記載のカラーフィルタを含むことを特徴とする光学装置。
【請求項１５】
電極層を形成する工程と、
絶縁性の第１のバンクと絶縁性の第２のバンクとを前記第１のバンクの上に前記第２のバンクが位置するよう形成する工程と、
前記電極層上の前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の溶媒と着色材料を含む第１の膜材料を含んだ第１の溶液を塗布する工程と、
前記第１の溶媒を除去し、前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の膜を形成する工程と、を有し、
前記第１の溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記第１の溶媒に対する前記第２のバンクの親和性より大きいことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】
請求項１５において、
前記第１の溶液がインクジェット法で塗布される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項１７】
請求項１５において、
前記第１の溶液がスピンコート法で塗布される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項１８】
請求項１５ないし１７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１５ないし１７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項１】
電極層と、
前記電極層上に形成された第１の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成される絶縁性の第２のバンクと、を有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】
電極層と、
前記電極層上に形成された第１の膜と、
前記第１の膜上に形成された第２の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、
前記第２のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第３のバンクと、を有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項３】
電極層と、
前記電極層上に形成された第１の膜と、
前記第１の膜上に形成された第２の膜と、
前記第２の膜上に形成された第３の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、
前記第２のバンク上に形成される絶縁性の第３のバンクと、を有し、
前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接し、前記第２の膜と前記第３の膜の界面と、前記第２のバンクにおける前記第３のバンクが形成される面とが接することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項４】
請求項２において、
前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接する、カラーフィルタ。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記第１のバンクの側面が斜面を有する、カラーフィルタ。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、
前記電極層が透明電極層である、カラーフィルタ。
【請求項７】
請求項１ないし７のいずれかにおいて、
前記第１のバンクの少なくとも一部が前記電極層の少なくとも一部を覆っている、カラーフィルタ。
【請求項８】
請求項１ないし８のいずれかにおいて、
前記第１のバンクが無機化合物を含む、カラーフィルタ。
【請求項９】
請求項１ないし９のいずれかにおいて、
前記第２のバンクが有機化合物を含む、カラーフィルタ。
【請求項１０】
請求項１ないし１０のいずれかにおいて、
前記第１のバンクが酸化シリコンを含み、前記第２のバンクがポリイミドを含む、カラーフィルタ。
【請求項１１】
請求項１ないし１１のいずれかにおいて、
前記第１の膜を溶解する溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記溶媒に対する前記第２のバンクの新和性より大きい、カラーフィルタ。
【請求項１２】
請求項１ないし１２のいずれかに記載のカラーフィルタを含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１３】
請求項１ないし２のいずれかに記載のカラーフィルタを含むことを特徴とする光学装置。
【請求項１４】
電極層を形成する工程と、
絶縁性の第１のバンクと絶縁性の第２のバンクとを前記第１のバンクの上に前記第２のバンクが位置するよう形成する工程と、
前記電極層上の前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の溶媒と第１の膜材料を含んだ第１の溶液を塗布する工程と、
前記第１の溶媒を除去し、前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の膜を形成する工程と、を有し、
前記第１の溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記第１の溶媒に対する前記第２のバンクの親和性より大きいことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１５】
請求項１５において、
前記第１の溶液がインクジェット法で塗布される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】
請求項１５において、
前記第１の溶液がスピンコート法で塗布される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項１７】
請求項１５ないし１７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１８】
請求項１５ないし１７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする光学装置の製造方法。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電極層と、
前記電極層上に形成された着色材料を含む第１の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成される絶縁性の第２のバンクと、を有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項２】
電極層と、
前記電極層上に形成された着色材料を含む第１の膜と、
前記第１の膜上に形成された第２の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、
前記第２のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第３のバンクと、を有することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項３】
電極層と、
前記電極層上に形成された着色材料を含む第１の膜と、
前記第１の膜上に形成された第２の膜と、
前記第２の膜上に形成された第３の膜と、
前記電極層および前記第１の膜を囲む絶縁性の第１のバンクと、
前記第１のバンク上に形成され、前記第２の膜を囲む絶縁性の第２のバンクと、
前記第２のバンク上に形成される絶縁性の第３のバンクと、を有し、
前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接し、前記第２の膜と前記第３の膜の界面と、前記第２のバンクにおける前記第３のバンクが形成される面とが接することを特徴とするカラーフィルタ。
【請求項４】
請求項２において、
前記第１の膜と前記第２の膜の界面と、前記第１のバンクにおける前記第２のバンクが形成される面とが接する、カラーフィルタ。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかにおいて、
前記第１のバンクの側面が斜面を有する、カラーフィルタ。
【請求項６】
請求項１ないし５のいずれかにおいて、
前記電極層が透明電極層である、カラーフィルタ。
【請求項７】
請求項１ないし８のいずれかにおいて、
前記第１のバンクの少なくとも一部が前記電極層の少なくとも一部を覆っている、カラーフィルタ。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかにおいて、
前記着色材料が染料または顔料の少なくともいずれかを含む、カラーフィルタ。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかにおいて、
前記電極層がトランジスタから電圧を印加されるものである、カラーフィルタ。
【請求項１０】
請求項１ないし９のいずれかにおいて、
前記第１のバンクが無機化合物を含む、カラーフィルタ。
【請求項１１】
請求項１ないし１０のいずれかにおいて、
前記第２のバンクが有機化合物を含む、カラーフィルタ。
【請求項１２】
請求項１ないし１１のいずれかにおいて、
前記第１の膜を溶解する溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記溶媒に対する前記第２のバンクの新和性より大きい、カラーフィルタ。
【請求項１３】
請求項１ないし１２のいずれかに記載のカラーフィルタを含むことを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
請求項１ないし１２のいずれかに記載のカラーフィルタを含むことを特徴とする光学装置。
【請求項１５】
電極層を形成する工程と、
絶縁性の第１のバンクと絶縁性の第２のバンクとを前記第１のバンクの上に前記第２のバンクが位置するよう形成する工程と、
前記電極層上の前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の溶媒と着色材料を含む第１の膜材料を含んだ第１の溶液を塗布する工程と、
前記第１の溶媒を除去し、前記第１のバンクに囲まれた領域に、第１の膜を形成する工程と、を有し、
前記第１の溶媒に対する前記第１のバンクの親和性が、前記第１の溶媒に対する前記第２のバンクの親和性より大きいことを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
【請求項１６】
請求項１５において、
前記第１の溶液がインクジェット法で塗布される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項１７】
請求項１５において、
前記第１の溶液がスピンコート法で塗布される、カラーフィルタの製造方法。
【請求項１８】
請求項１５ないし１７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする表示装置の製造方法。
【請求項１９】
請求項１５ないし１７のいずれかに記載のカラーフィルタの製造方法を用いることを特徴とする光学装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２００６−１６３４３２（Ｐ２００６−１６３４３２Ａ）
【公開日】平成１８年６月２２日（２００６．６．２２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−６１１７（Ｐ２００６−６１１７）
【出願日】平成１８年１月１３日（２００６．１．１３）
【分割の表示】特願平１０−１３３９４５の分割
【原出願日】平成１０年５月１５日（１９９８．５．１５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年６月２２日（２００６．６．２２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１月１３日（２００６．１．１３）
【分割の表示】特願平１０−１３３９４５の分割
【原出願日】平成１０年５月１５日（１９９８．５．１５）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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