ガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システム
【課題】 複数の成分を含む原料ガスからガス成分および凝縮性成分を回収するに際し、所望の純度を有し所望の製品ガスおよび凝縮性成分を確保するとともに、ガス分離膜の1次側ガス中で凝縮性成分が液化することを回避しつつ、高い回収率を得ることができるガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムを提供すること。
【解決手段】 ガス分離膜Sから得られる透過ガスと、気液分離部D2から得られる副生液および副生ガスを生成するシステムであって、少なくとも、原料ガス流路Uo、ガス分離膜S、透過ガス流路T1、残留ガス流路R2、冷却部C2および気液分離部D2、副生ガス流路G2、副生液流路L2、添加ガス流路Fa、圧力調整部PCr1、流量調整部FCb1を有することを特徴とする。
【解決手段】 ガス分離膜Sから得られる透過ガスと、気液分離部D2から得られる副生液および副生ガスを生成するシステムであって、少なくとも、原料ガス流路Uo、ガス分離膜S、透過ガス流路T1、残留ガス流路R2、冷却部C2および気液分離部D2、副生ガス流路G2、副生液流路L2、添加ガス流路Fa、圧力調整部PCr1、流量調整部FCb1を有することを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明は、ガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムに関し、具体的には、選択的透過性を有するガス分離膜の分離機能と各成分の凝縮温度の相違による気液分離機能を用い、複数の成分を含む混合ガスから特定の成分を分離回収するガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、半導体製造工場あるいは各種の化学プロセス工場などにおいては、各工程における原料ガスあるいは処理ガスとして所定量の純度の高いガスが必要とされ、入手容易で低コストの原料からこうしたガスを分離して連続的に使用することが多く行われる。具体的には、例えば、空気から富化酸素ガスと富化窒素ガスのいずれかあるいは両方を得る場合、ナフサ分解ガスから水素(H2)を分離濃縮する場合、有機物蒸気を含むガス混合物から有機物蒸気を分離回収する場合、水性ガスからH2を分離する場合などが該当する。かかる工程においては、装置が小型で簡便であることから、選択的透過性を有するガス分離膜に透過性の異なるガス混合物を原料ガスとして供給し、透過ガスと残留ガスに分離し、易透過性ガスに富んだ透過ガスを製品として取り出す方法が採られることが多い。
【0003】
こうしたガス分離膜を用いたガス製造方法においては、図9に例示するような、圧縮機102、乾燥器108、加熱器109、ガス分離膜101を備えたガス分離部103、残留側圧力調整弁110、冷却器113透過側圧力調整弁111を備えた系を基本として、所望の用途や仕様に応じた種々の構成が用いられてきた(例えば特許文献1参照)。
【0004】
例えば、比較的高圧の水素ガスおよび比較的低圧の水素ガスの製品を必要とする場合、図10に示すようなカスケードサイクルが有効であることはよく知られている。この例にあっては、二組のガス分離膜201(第1ガス分離膜201a及び第2ガス分離膜201b)が組み合わせて使用される。この構造にあっては、原料ガスg1は、第2ガス分離膜201bの透過性ガスg2aaと合流され、圧縮後、第1ガス分離膜201aに供給される。この状態で、第1ガス分離膜201aによる透過性ガスg2aが産出され、その残留性ガスg2bは、第2ガス分離膜201bの原料ガスとして供給される。この第2ガス分離膜201bでは、残留性ガスが産出される。それからの透過性ガスg2aaは、元々の原料ガスと合流することにより再利用される(例えば特許文献1参照)。ここで、図10においては、第2ガス分離膜201bからの透過性ガスg2aaが再利用される構成として例示されているが、透過性ガスg2aを高圧製品ガスとして取り出し、透過性ガスg2aaを低圧製品ガスとして取り出すことが可能である。
【0005】
また、並列サイクルとして、図11に例示するような、空気から富化窒素ガスを分離回収するシステムを挙げることができる。図11では、2本の中空糸分離膜モジュール312、313が並列で用いられており、供給ガスは前処理を終わったあと分岐してそれぞれのモジュール312、313へ供給され、それぞれの中空糸分離膜モジュール312、313で得られた富化窒素ガスは合流して製品ガス出口324へ導かれている。空気取入口301から採取された空気はダストフィルター302で空気中の浮遊粒子などを除去されコンプレッサー303へ供給される。ここで加圧された空気は、中空糸ガス分離膜モジュール312、313のガス供給口から膜の供給側へ流される。透過した透過ガスは、膜の透過側を流れてモジュールの透過ガス排出口を経由して透過ガス排出流となり、配管の途中で流量調節弁316、317で流量を絞られたのち系外へ排出される(例えば特許文献2参照)。ここで、図11のシステムにおいては、富化窒素ガスを製品ガスとして回収する場合を表しているが、透過ガス排出流は富化酸素ガスであり、これを製品ガスとして回収することも可能である。このとき、並列の中空糸分離膜モジュール312、313に供給する空気の圧力や流量を各々独立的に調整することによって、一方の透過性ガスを高圧製品ガスとして取り出し、他方の透過性ガスを低圧製品ガスとして取り出すことが可能である。
【0006】
【特許文献1】特開2000−33222号公報
【特許文献2】特開2002−35530号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
ガス分離膜を利用してガスを製造する場合、製品の純度と回収率が主要な特性となる。一般に、製品ガスの用途に応じて、所要の純度が定まり、その範囲で回収率をできるだけ確保するとの方針で検討を行いプロセスや減量操作を含めた制御方法を決定する。しかしながら、難透過性かつ凝縮性の成分を含む複数の成分を含有する原料ガスに対しては、上記システムあるいは方法によっては、いくつかの課題が生じることがあった。
(i)膜自体の変質を齎すことがあるので、膜の1次側のガス中でのミストの生成を回避する必要がある。より詳細には、原料ガス中に凝縮性成分が含まれる場合には、常温で液化を起こす可能性があり、この凝縮性成分が難透過性ガスであるとき、ガス分離の進行に従い、ガス分離膜の1次側(非透過側)のガス中に凝縮性成分が濃縮し液化する恐れがあることから、例えば約40℃(夏季の外気条件)まで原料ガスを冷却し、凝縮液化成分を分離後、加熱手段にて加熱することにより、ガス分離膜での液体ミストの生成の恐れを回避する必要があった。
(ii)しかし、ガス分離膜の分離特性や高温耐性などの関係から加熱温度に限界があるので、透過ガスの所望成分の回収率を上昇しようとすると、ガス分離膜の残留ガス側で凝縮性成分が液化する恐れが残る。そのため、ガス分離膜の1次圧力を下げて、液化を回避するとの対策がなされて来たが、回収率を確保することに困難な場合があった。
なお、本発明ではガス分離膜の1次側のガス中に凝縮性成分の濃縮に伴う液化を避けることに注目する。透過の進行に伴い、凝縮性成分の濃縮が進行するので、残留ガス出口(直近)のガスが最も液化し易い状態となる。従って、残留ガス出口のガスの圧力下の露点が重要となり、露点がガス分離膜でのガス温度に比較して低いならば、ガス分離膜の1次側のガス中で液化が起こらないこととなる。実際には、原料ガス組成や運転条件の変動などを考慮して、ガス分離膜のガス温度に対し僅かに(例えば10℃)低く、前記露点の基準値を設定して運用するのが望ましい。以下、ガス分離膜の残留ガス出口直後の圧力を「残留ガス圧力」といい、ガス分離膜の残留ガス流路出口直後における残留ガス圧力下の露点を「残留ガス露点」、ガス分離膜の残留ガスの流量を「残留ガス流量」、透過ガスの圧力および流量を「透過ガス圧力」および「透過ガス流量」という。
【0008】
本発明の目的は、複数の成分を含む原料ガスからガス成分および凝縮性成分を回収するに際し、所望の純度を有し所望の製品ガスおよび凝縮性成分を確保するとともに、効率的かつ汎用的な手法で、ガス分離膜の1次側ガス中で凝縮性成分が液化することを回避しつつ、高い回収率を得ることができるガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムを提供することにある。特に、減量操作に際して、さらに高い回収率を得ることを目的とする。なお、本願において、単に「回収率」とした場合には、製品ガス中の所望の成分(易透過性ガス)流量の総計の、原料ガス中の所望の成分の流量に対する割合を意味し、また、最終残留ガスは副製品として利用される場合も含むものとする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、以下に示すガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに到った。なお、同一機能の要素について、上流側を第1または1次、下流側を第2または2次という。
【0010】
本発明は、複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜による分離機能と、前記ガス分離膜の後段に設けられた少なくとも1つの各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離機能を利用し、前記ガス分離膜の分離機能によって得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離機能によって得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および前記成分Bが減少した副生ガスを生成する方法であって、少なくとも下記の工程
(1)前記原料ガスを前記ガス分離膜に供給する工程
(2)前記ガス分離膜の1次圧力あるいはこれと連動するプロセス値のいずれかを調整する工程
(3)前記ガス分離膜において、透過ガスと残留ガスに分離する工程
(4)前記ガス分離膜に対し前記成分Aに富んだ透過ガスを製品ガスとして抜き出す工程
(5)前記ガス分離膜に対し難透過性ガスに富んだ残留ガスを抜き出す工程
(6)前記残留ガスの冷却処理および気液分離処理を行う工程
(7)前記気液分離処理により得られた前記成分Bに富んだ副生液を抜き出す工程
(8)前記気液分離処理により得られた前記成分Bが減少した副生ガスを抜き出す工程
(9)前記副生ガスの一部を、添加ガスとして分岐する工程
(10)前記添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加する工程
(11)透過ガスまたは透過ガスと添加ガスの混合ガスを製品ガスとする工程
を有することを特徴とする。
【0011】
複数の成分を含む原料ガスから易透過性かつ非凝縮性の成分(本発明において「成分A」とする。)および難透過性かつ凝縮性の成分(本発明において「成分B」とする。)あるいは難透過性かつ非凝縮性の成分(あるいは成分Bが減少した成分)を回収し、所望の純度や回収率を確保する方法として、選択的透過性を有するガス分離膜による分離機能を利用する方法や各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離機能を利用する方法があり、従前各々別個に使用されることが多かった。また、これらを組合せる場合においても、前処理として気液分離機能を用いて処理されたガスを、ガス分離膜による分離機能を用いて処理する方法、あるいはその逆の方法は用いられることがあるが、いずれも一方を主とし、他方をその補助とするものであった。本発明は、原料ガスに成分Bが含まれる場合、ガス分離膜の残留ガス中に成分Bが濃縮することを利用し、冷却部と気液分離部の組合せをガス分離膜の後段あるいは前後に配設し、凝縮性成分および難透過性ガス成分の回収率の向上を図る。また、本発明は、残留ガス露点を制限して、ガス分離膜の1次側での液化を避けるために、残留ガス中にあるレベル残された成分Aを、残留ガスの冷却と気液分離によって副生ガス中に濃縮し、前記副生ガスの一部をガス分離膜の2次側流路に添加することによって、透過性ガス成分の回収率の向上を図るものである。つまり、ガス分離膜の透過ガスの純度が基準値から余裕があるとき、副生ガスの一部を添加ガスとして有効に利用することにより、ガス分離膜の1次側での液化を避けつつ、透過性ガス成分の高い回収率を確保することが可能となる。
【0012】
なお、ここで、「ガス分離膜」とは、1つの膜モジュールを用い供給ガス、透過ガスおよび残留ガスの各流入出路を設けた場合だけではなく、複数の膜モジュールを必要数並列に配設して、各々の供給ガス、透過ガスおよび残留ガスの各流入出路毎に統合して構成した場合を含むものとする。また、「ガス分離膜の2次側流路」とは、ガス分離膜内の膜エレメントの透過側空間と流路および透過ガスが取出される透過ガス流路のいずれをも含む流路をいう。「凝縮性成分」とは、凝縮処理に対して凝縮性を有する成分をいい、ガス分離膜に対する透過性の容難に限定されるものではない。「易透過性かつ非凝縮性の成分A」とは、ガス分離膜に対して易透過性を有し、かつ凝縮処理に対して非凝縮性を有する成分をいい、具体的には、後述の実施例において、例えば原料ガス中に、水素、メタン、ブタン、ペンタンが混在する場合についての水素をいう。「難透過性かつ凝縮性の成分B」とは、ガス分離膜に対して難透過性を有し、かつ凝縮処理に対して凝縮性を有する成分をいい、上記例におけるブタンおよびペンタンをいう。また、本発明は、原料ガス中に透過性かつ凝縮性の成分(例えば、後述の実施例における原料ガス中に水分)が少量含まれる場合にも本質的に同様の効果がある。従って、本発明は、このような場合を含むことを注記しておく。また、ここでいう「圧力と連動するプロセス値」とは、圧力変化に伴い変化するプロセス値をいい、1次圧力に対し残留ガス流量また、2次圧力に対して透過ガス流量を挙げることができる。以下同様である。
【0013】
本発明は、複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離部を有し、前記ガス分離膜から得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離部から得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造システムであって、少なくとも下記の構成要素
(a)前記原料ガスが供給される原料ガス流路
(b)前記透過ガスと残留ガスに分離するガス分離膜
(c)前記ガス分離膜から透過される透過ガスが取り出される透過ガス流路
(d)前記ガス分離膜からの残留ガスが供出される残留ガス流路
(e)前記残留ガス流路に配設された冷却部および気液分離部
(f)前記気液分離部の気相部からの副生ガスが供出される副生ガス流路
(g)前記気液分離部の液相部から副生液が取り出される副生液流路
(h)前記副生ガス流路を分岐して形成される添加ガス流路
(j)前記分岐以降の前記副生ガス流路に配設された圧力調整部あるいは流量調整部
(k)前記添加ガス流路に設けられた流量調整部
(m)前記添加ガス流路と透過ガス流路が接合して形成される製品ガス流路
を有することを特徴とする。
【0014】
上記製造方法を具体的に実施する製造システムとしては、ガス分離膜および冷却部と気液分離部からなる構成要素(a)〜(k)に加え、添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加するための構成要素を必要とする。こうした構成要素として、本発明においては(m)「添加ガス流路と透過ガス流路が接合して形成される製品ガス流路」を設けたもので、残留ガス中にあるレベル残された成分Aを、残留ガスの冷却と気液分離によって副生ガス中に濃縮し、副生ガスの一部を透過ガスに添加することによって、透過性ガス成分の回収率の向上を図ることが可能となる。つまり、ガス分離膜の透過ガスの純度が基準値から余裕があるとき、副生ガスの一部を添加ガスとして有効に利用することにより、ガス分離膜の1次側での液化を避けつつ、透過性ガス成分の高い回収率を確保することが可能となる。また、ガス分離膜の後段に透過ガスを昇圧する昇圧手段がある場合には添加ガスの合流点を昇圧の中間段あるいは出口の適当な点とすることにより、副生ガスの有する圧力エネルギーのロスを少なく抑えることができて望ましい。
【0015】
本発明は、複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離部を有し、前記ガス分離膜から得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離部から得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造システムであって、少なくとも下記の構成要素
(a)前記原料ガスが供給される原料ガス流路
(b)前記透過ガスと残留ガスに分離するガス分離膜
(c)前記ガス分離膜から透過される透過ガスが取り出される透過ガス流路
(d)前記ガス分離膜からの残留ガスが供出される残留ガス流路
(e)前記残留ガス流路に配設された冷却部および気液分離部
(f)前記気液分離部の気相部からの副生ガスが供出される副生ガス流路
(g)前記気液分離部の液相部から副生液が取り出される副生液流路
(h)前記副生ガス流路を分岐して形成される添加ガス流路
(j)前記分岐以降の前記副生ガス流路に配設された圧力調整部あるいは流量調整部
(k’)前記添加ガス流路に設けられた流量調整部、または流量調整部および加熱部
(n)前記ガス分離膜の2次側に前記添加ガス流路と接合する添加ガス導入部
を有することを特徴とする。
上記製造方法を具体的に実施する製造システムとして、ガス分離膜および冷却部と気液分離部からなる構成要素(a)〜(k’)に加え、添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加するための構成要素を必要とする。こうした構成要素として、本発明においては(n)「ガス分離膜の2次側に添加ガス流路と接合する添加ガス導入部」が配設される。副生ガスの添加による透過ガスの純度および回収率の調整機能に加え、ガス分離膜内部において成分Aの濃度の低い添加ガスを透過ガスと混合することによって、ガス分離膜の透過側の成分Aの分圧を低下させ、成分Aの透過機能を向上させることができる。
【0016】
本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造方法であって、前記原料ガスを、
(1a)前記原料ガスの1次冷却処理を行う工程
(1b)前記原料ガスの1次気液分離処理を行う工程
(1c)前記1次気液分離処理により得られた前記成分Bが減少した第1副生ガスを抜き出す工程
(1d)前記1次気液分離処理により得られた主として前記成分Bからなる第1副生液を抜き出す工程
(1e)前記原料ガスあるいは第1副生ガスの加熱処理を行う工程
のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせた1次処理工程を経てから前記ガス分離膜へ供給することを特徴とする。
【0017】
また、本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造システムであって、前記原料ガス流路に、
(aa)第1冷却部
(ab)第1気液分離部
(ac)前記第1気液分離部の気相部から副生ガスが取り出される第1副生ガス流路
(ad)前記第1気液分離部の液相部から副生液が取り出される第1副生液流路
(ae)前記原料ガス流路あるいは第1副生ガス流路に設けられた加熱部
のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせが配設されることを特徴とする。
【0018】
上記においては、基本的にガス分離膜の後段に冷却手段と気液分離手段を配設し、副生ガスを透過ガスに添加する構成を挙げたが、こうした構成によって得られる機能や効果は原料ガスを、その性状に応じて予め所定の処理を行うことが好ましい。具体的には、成分Bの濃度が高い原料ガスの場合に予め成分Bを回収するための第1冷却部と第1気液分離部、あるいは残留ガス中の成分Bの濃度の上昇に伴う液化の防止を図る加熱部などを、ガス分離膜の上流側に設けることによって、透過ガスおよび凝縮性成分の回収率の向上を図ることができる。
【0019】
本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造方法であって、減量操作に際して、減量度に応じて前記ガス分離膜の1次圧力、2次圧力あるいはこれらと連動するプロセス値のいずれかを調整するとともに、前記添加ガスの流量を減量度に応じて調整することを特徴とする。
【0020】
原料ガスの減量操作を行った場合、ガス分離膜の1次圧力および2次圧力を一定にしたままであれば、回収率は上昇する反面、透過ガス中の透過性ガスの濃度は低下すると同時に、ガス分離膜の1次側のガス中において成分Bが液化しやすくなる。本発明は、凝縮性成分の液化の防止を図り、かつ製品ガスの純度を確保すべく、減量度に応じてガス分離膜の1次圧力、2次圧力あるいはこれらと連動するプロセス値のいずれかを調整し、さらに減量度に応じて添加ガス流量を制御することによって、所望の製品ガスの純度と回収率の確保することを図るものである。
【0021】
本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造方法であって、前記ガス分離膜を複数段利用し、前段のガス分離膜の残留ガスを後段のガス分離膜に供給し、カスケード接続を形成することを特徴とする。
【0022】
また、本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造システムであって、前記ガス分離膜を複数段利用し、前段のガス分離膜の残留ガス流路を後段のガス分離膜の供給ガス流路に接続し、カスケード接続を形成することを特徴とする。
【0023】
通常、カスケードサイクルは、純度の異なる複数の製品ガスを作製する場合などに、複数段のガス分離膜を用い、各透過ガスを製品ガスとすることで、比較的小さな膜面積であっても所定の製品純度および回収率を確保することができる。つまり、前段のガス分離膜からの残留ガス中には透過性ガスが比較的多く含まれていることから、順次後段のガス分離膜に供給されるに従い、凝縮性成分が濃縮され効率よく回収することができる。このカスケードサイクルの一般的利点に加え、さらに、本発明は、こうして濃縮されたガスを透過ガスへ添加し、製品ガスとして取り出すことが可能であり、減量処理に対しても、製品ガス中の所望の成分濃度を高い回収率で形成することが可能となる。このとき複数段のいずれの透過ガスに対しても添加が可能である。また、カスケード方式を利用して、各段のガス分離膜の1次圧力を順次低く制御することによりガス分離膜の1次側ガス中で成分Bの液化を抑制でき、順次後段のガス分離膜に供給され、各段で最大限の透過性成分の回収が可能となる。従って、所望の純度を有し所望の製品ガスおよび凝縮性成分を確保するとともに、効率的かつ汎用的な手法で、ガス分離膜の1次側ガス中で凝縮性成分が液化することを回避しつつ、高い回収率を得ることができるガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムを提供することが可能となる。
【発明の効果】
【0024】
以上のように、本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムを適用することによって、所望の純度を有し所望の製品ガスおよび凝縮性成分を確保するとともに、効率的かつ汎用的な手法で、ガス分離膜の1次側ガス中で凝縮性成分が液化することを回避しつつ、高い回収率を得ることができるガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムを提供することが可能となる。特に、減量操作に際して、さらに高い回収率を得ることが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【0025】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。ここでは、複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜による分離機能と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離機能を利用し、分離機能によって得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、気液分離機能によって得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造プロセスにおいて、ガス分離膜による選択的分離処理の後に、残留ガスの冷却処理および気液分離処理を行い、さらに気液分離処理によって生じた副生ガスの一部をガス分離膜の2次側流路に添加することにより所望の純度の透過ガスを作製するとともに、凝縮性成分についても所望の回収率を確保することが基本となる。なお、ガス分離膜を用いるプロセスに要求される条件は、上流、下流のプロセス構成や製品ガスの用途により、様々に変化し、それに応じてその運転条件や制御方法が選定されるので、ここでは典型的な例を挙げた。また、本発明は、以下に述べる構成例に限定されるものでなく、ガス分離膜プロセス一般に上記特徴を組合せることにより、多くの変形や拡張が可能となる。
【0026】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの基本構成例>
図1に、本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの1の構成例(第1構成例、「本システム1」という)を示す。具体的には、原料ガス流路Uo、ガス分離膜S、透過ガス流路T1、残留ガス流路R1、副生ガス流路G2、副生液流路L2、添加ガス流路Fa、製品ガス流路A1、残留ガス流路G1に設けられた冷却部C2および気液分離部D2、副生ガス流路G2に設けられた圧力調整手段PCr1(圧力制御弁PCV1および圧力調節計PC1)、副生液流路L2に設けられた液面検知部LC2および制御弁LCV2、添加ガス流路Faに設けられた流量調整手段FCb1(流量制御弁FCV1および流量調節計FC1)、および制御部(図示せず)から構成される。また、ガス製造プロセスの性能確認用に、原料ガスの分析ポートAPo、透過ガスの分析ポートAP1および製品ガスの分析ポートAP3(ガスクロ分析計などによるバッチ分析に利用する)が設けられている。なお、分析ポートに代え、濃度計測手段を設けることも可能である。詳細は後述する。
【0027】
本システム1においては、添加ガスをガス分離膜Sの2次側流路に添加する方法として、添加ガス流路Faを透過ガス流路T1に接合し、添加ガスを透過ガスと混合する構成を用いている。ここで、原料ガスを供給する1次圧力P1の制御を、副生ガス流路G2に設けられた圧力調整手段PCr1によって行う構成を例示しているが、圧力調整手段PCr1を原料ガス流路Uo、残留ガス流路R1あるいは別途バイパス流路を追加してそこに配設する構成等、これに限定されるものでないことはいうまでもない。なお、気液分離部D2での凝縮は、一般に高圧の状態の方が効果的であるので、圧力制御弁PCV1を副生ガス流路G2の循環ガス分岐点以降に置くことが望ましい。また、1次圧力P1の制御に代え、1次圧力の変化に伴い変化するプロセス値として、残留ガスの流量を制御することも可能である。
【0028】
原料ガスは、精製ガスあるいは粗製ガスを精製処理されたガスを供給することが好ましく、具体的には、精製空気、精製ナフサ分解ガス、精製改質ガス、精製水性ガス、精製天然ガスなどが該当する。原料ガスの供給条件は、通常、環境温度とし、流量約1,000〜100,000[Nm3/h]の上記各種ガスが使用される。また、圧力条件は、透過ガスの用途などによって異なるが、1〜50[bar(abs)]程度に加圧して使用する。
【0029】
ガス分離膜Sは、原料ガスあるいは透過ガスの種類によって、最適な素材や容量(表面積)あるいは形状などが選択される。ガス分離膜Sの素材として、例えば、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、シリコーンゴム、ポリスルフォン、酢酸セルロース、ポリアラミド(PA)やポリイミド(PI)などの分離膜を挙げることができる。本システム1においては、これらに限定されるものではない。
【0030】
分析ポートAPo、AP1およびAP3から採取したガスは、ガスクロマトグラフィーなどを使用してバッチ分析を行い、定期的な分析結果から、演算式の係数を修正する方式を採ることができる。また、これに代え、濃度計測手段を後述するように制御に利用することもできる。濃度計測手段は、所望の成分、つまり製品ガス成分に対して選択性の高い分析計が好ましく、連続分析で信頼できるものが好ましい。また、製品ガスに対して化学的な変化を生じさせない分析計が好ましい。例えば、成分が水素の場合には熱伝導度式分析計や成分がメタンの場合には赤外線吸光式分析計などを挙げることができる。また、バッチ分析と連続分析を併用する方式も可能である。より信頼できるバッチ分析の結果から連続分析計の誤差を確認しつつ、微調整の判断に供することができる。
【0031】
〔本システム1を用いた制御方法例〕
本システム1のガス分離膜Sに供給される原料ガスから最終製品ガスおよび凝縮性成分の作製までのプロセスにおいては、ガス分離膜Sの透過ガスを製品ガスとした場合、少なくとも以下の工程によって構成される。
(1)複数の成分を含有する原料ガスをガス分離膜Sに供給する工程
(2)ガス分離膜Sの1次圧力あるいはこれと連動するプロセス値のいずれかを調整する工程
(3)ガス分離膜Sにおいて、透過ガスと残留ガスに分離する工程
(4)ガス分離膜Sに対し成分Aに富んだ透過ガスを製品として抜き出す工程
(5)ガス分離膜Sに対し難透過性ガスに富んだ残留ガスを抜き出す工程
(6)残留ガスの冷却処理および気液分離処理を行う工程
(7)気液分離処理により得られた成分Bの減少した副生ガスを抜き出す工程
(8)気液分離処理により得られた主として成分Bからなる副生液を抜き出す工程
(9)副生ガスの一部を、添加ガスとして分岐する工程
(10)添加ガスを前記透過ガスに添加して、製品ガスとする工程
【0032】
ここで、1次圧力P1を制御して透過ガス濃度および回収率を調整すると同時に残留ガス露点を調整し、さらに添加ガス流量F1を調整して製品ガス濃度および回収率を所望の範囲に調整する。具体的には、まず分析ポートAPoおよびAP1から採取した所望の成分の濃度を基に、副生ガス流路G2に設けられた圧力調整手段PCr1にてガス分離膜Sの1次圧力P1が制御され、次に流量調整手段FCb1にて添加ガス流量F1が制御される。なお、添加ガス流量F1の制御を分析ポートAP3から採取した所望の成分の濃度を基に行うことも可能である。
【0033】
また、減量操作に際しても、上記同様、(i)ガス分離膜Sの1次圧力P1あるいは2次圧力P2を減量度に応じて調整し、(ii)添加ガス流量F1を減量度に応じて調整する。以下、各調整方法について詳述する。
【0034】
(i)ガス分離膜Sの1次圧力P1あるいは2次圧力P2を減量度に応じて調整する方法
原料ガスに成分Bが含まれる場合、原料ガスの減量操作において、ガス分離膜Sの1次圧力P1を一定にしたままであれば、上記のように回収率は上昇する反面、透過ガス中の透過性ガスの濃度は低下するともに、ガス分離膜Sの1次側のガス中において成分Bが濃縮して液化を生じるおそれがある。原料ガス流量の減少に応じて一次圧力P1を低下させた時、成分Bの分圧が低くなるので、ガス分離膜Sの1次側のガス中での成分Bの液化を防止することができる。このとき、透過ガスと残留ガスの各々の流量も原料ガス流量に応じて変化することから、減量操作においての安定的な回収率を確保することができる。
【0035】
ただし、製品に対する要求仕様によっては、減量に際して、透過性ガスの濃度の低下やガス分離膜Sの1次側のガス中において成分Bの液化を生じるおそれが問題とならないこともあり、その設定値を一定とすることが好ましい場合もある。また、製品に対する要求仕様によっては、その設定値をガス分離膜Sへの原料ガス流量あるいは透過ガス流量のある関数(例えば1次式)で演算する方法が好ましい場合もある。さらに、減量率の折れ線関数により演算し、例えば、所定の減量率までは、1次圧力P1を低下させずに、それ以降の減量率において、1次圧力P1を減量率に応じて低下させる方法が好ましい場合もある。つまり、上記のような構成あるいは方法を適用することによって、原料ガス流量が減少した場合も膜モジュールの数量を変更することなく、簡便な手法で所望の製品ガスの純度と回収率の安定性を確保することが可能となった。なお、減量に際して、1次圧力P1および2次圧力P2を一定にしておくと回収率が上昇するが、2次圧力P2を上昇させて回収率の上昇を抑え液化を防止する方法も可能である。あるいは、2次圧力P2を下げ得る場合には、1次圧力P1および2次圧力P2を同時に下げる方法も可能である。
【0036】
(ii)添加ガスの流量F1を減量度に応じて調整する方法
残留ガス露点を制限して、ガス分離膜Sの1次側での液化を避けるために、残留ガス中に成分Aがあるレベル残される。残留ガスの冷却と気液分離によって副生ガス中の前記成分が増加する。ガス分離膜Sの透過ガスの純度が基準値から余裕があるとき、副生ガスの一部を添加することが可能となる。前記成分Aの有効な回収を行うことができる。減量に際しても、上記1次圧力P1の制御の結果としての透過性ガスの濃度の変化に応じて添加ガス流量F1を調整することによって、高い回収率を得ることができる。
【0037】
具体的には、信頼できる分析計がある場合には、AP3の位置に分析計を設置し、合流後の製品純度が規定値になるよう添加ガス流量F1を制御することができる。また、減量度の関数(例えば1次関数や折れ線関数など)により添加ガス流量F1を制御しても良い。さらに、詳細は省略するが、残留ガス中の成分Aの濃度と残留ガス圧力の相関関数を利用してガス分離膜の1次側での液化を避ける方法(特願2007−232918参照)を組み合わせることも有効である。以下の他の構成例においても同様である。
【0038】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第2構成例>
本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第2構成例(以下「本システム2」という)を図2に示す。副生ガスの一部を添加ガスとしてガス分離膜Sの2次側流路に添加する方法として、添加ガス流路Faをガス分離膜Sの透過側(2次側)に設けられた添加ガス導入部Sfに接合し、ガス分離膜S内部において添加ガスを透過ガスと混合するように構成される。透過ガスと混合しつつ2次側を進み透過ガス流路T1から添加ガスと透過ガスが混合した状態で取り出される。
【0039】
成分Aの濃度に関し、添加ガスの方が透過ガスより低いことが一般的であるので、ガス分離膜Sの2次側に添加ガスを導入すると、2次側の成分Aの分圧が低くなるので、成分Aの透過は起こり易くなる。つまり、成分Aの回収率を稼ぐことができるとともに、ガス分離膜Sの膜面積を小さくすることができる。このとき、ガス分離膜Sにおいて、1次側流れ(原料ガス流路Uo〜再生ガス流路G1)と2次側流れ(添加ガス流路Fa〜透過ガス流路T1)が膜モジュール(図示せず)を介して対向するが、両流れが直交・向流・並流するケースがあり得る。実際上は、分離効率の点から並流式が使われることは稀である。本システム2においては、向流式を用いることが好ましい。1次側流れにおいて、その流出口に近づくにつれて成分Aの濃度が低くなるため、透過のドライビンフォースを確保するのが困難になる。それを補償する観点から、向流式を用いると1次側流れの流出口に対向して2次側流れの流入口が配置されるため、この位置から成分Aの濃度の低い添加ガスを導入することが好ましいからである。
【0040】
ここで、ガス分離膜Sへ添加ガスを供給する流路に加熱手段(加熱部H)を設けることが好ましい。添加ガスは、直接透過ガスに合流するのでなく、加熱部Hで昇温後、ガス分離膜Sの添加ガス導入部Sfに導入する。添加ガスを形成する副生ガスは、第2冷却部C2および第2気液分離部D2において冷却されることから、ガス分離膜Sを適切な温度条件で機能させるために加温することが好適である。また、添加ガス中に液体のミストが含まれた場合には、ガス分離膜S自体の変質を齎すことがある。さらに、添加ガス中に凝縮性成分が含まれる場合には、第2冷却部C2での冷却温度での飽和蒸気圧を有することから、常温で液化を起こす可能性があり、加温によりこうした危険性を回避し、安定した条件でガス分離を行うことができる。
【0041】
〔本システム2を用いた制御方法例〕
本システム2は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造プロセスにおいては、上記(1)〜(9)の工程に加え、以下の処理工程によって構成される。
(10a)添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加する工程
(11a)透過ガスまたは透過ガスと添加ガスの混合ガスを製品ガスとする工程
ここで、上記第1構成例と同様、添加ガスの流量F1を制御して、製品ガス濃度および回収率を所望の範囲に調整する。
【0042】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第3構成例>
本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第3構成例(以下「本システム3」という)を図3に示す。基本的な構成は第1構成例と同様であるが、予め原料ガスの1次処理を行うことができるように、原料ガス流路Uoとガス分離膜Sの間に、第1冷却部C1、第1気液分離部D1、第1副生ガス流路G1、加熱部H、第1副生液流路L1、第1副生ガス流路G1、および第1副生液流路L1に設けられた第1液面検知部LC1と第1制御弁LCV1のいずれかが付加的に配設されて構成される。なお、第1構成例において、副生ガス流路G2、副生液流路L2、冷却部C2および気液分離部D2、液面検知部LC2および制御弁LCV2とした各部は、以下において、第2副生ガス流路G2等、それぞれの頭に「第2」を付して表すものとする。
【0043】
本システム3は、原料ガスにさらに多くの成分Bが含まれる場合、ミスト発生を防ぐために適用することが好ましい。原料ガスの1次冷却処理および1次気液分離処理によって、ガス分離膜Sへの供給ガス中の成分Aの濃度を高め成分Bの濃度を低めることができ、ガス分離膜Sによる選択的分離処理および残留ガスの2次冷却処理および2次気液分離処理の負荷の低減を図ることができる。また透過ガス中の成分Aの濃度も上がるので、2次気液分離処理後の成分Bの少ない第2副生ガスの一部を分岐し、添加ガスとして透過ガスと混合すると成分Aに関して、より高い回収率を得ることができる。
【0044】
このとき、原料ガスの1次処理ポイントは、図3に示すような第1冷却部C1の直前に限定されず、原料ガスの温度あるいはその露点などによって、破線a〜cで示すように、a:第1冷却部C1と第1気液分離部D1の中間、b:第1気液分離部D1と加熱部Hの間、あるいはc:加熱部Hとガス分離膜Sの間に設けることが可能である。なお、原料ガスがガス分離膜Sの特性に合せた所定の供給圧力の確保が難しい場合などにおいては、別途昇圧部(図示せず)を用いることも可能である。また、こうした構成は、以下の構成例においても同様に適用することができる。
【0045】
ここで、ガス分離膜Sへ原料ガスを供給する流路に加熱手段(加熱部H)を設けることが好ましい。ガス分離膜Sは、その特性と用途に応じて適切な温度でガス分離を行うことが必要である。また、原料ガス中に液体のミストが含まれた場合には、ガス分離膜S自体の変質を齎すことがある。また、原料ガス中に凝縮性成分が含まれる場合には、常温で液化を起こす可能性があり、この凝縮性成分が難透過性ガス(成分B)であるとき、ガス分離の進行に従い、ガス分離膜の1次側(非透過側)のガス中に成分Bが濃縮し液化する恐れがある。そのため、原料ガス流路Uoに設けられた第1冷却部C1によって例えば約40℃(夏季の条件)まで原料ガスを冷却し、第1気液分離部D1によって凝縮液化成分を分離後、加熱部Hにて加熱することにより、ガス分離膜Sでの液体ミストの生成の恐れを回避することができる。ただし、原料ガス中に含まれる高沸点成分が少量の場合には、第1冷却部C1をパスすることも可能であり、さらには第1気液分離部D1をパスすることも可能である(つまり、第1副生ガス流路G1への原料ガスの供給)。
【0046】
〔本システム3を用いた制御方法例〕
本システム3は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造プロセスにおいては、上記(1)〜(10)の工程に加え、以下の1次処理工程のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせた工程によって構成される。
(1a)原料ガスの1次冷却処理を行う工程
(1b)原料ガスの1次気液分離処理を行う工程
(1c)1次気液分離処理により得られた成分Bが減少した第1副生ガスを抜き出す工程
(1d)1次気液分離処理により得られた主として成分Bからなる第1副生液を抜き出す工程
(1e)原料ガスあるいは第1副生ガスの加熱処理を行う工程
ここで、上記第1構成例と同様、添加ガスの流量F1を制御して、製品ガス濃度および回収率を所望の範囲に調整する。
【0047】
〔第3構成例の変形例〕
第3構成例の変形例を図4に示す。つまり、基本的な構成は、第3構成例と同様であるが、さらに、第1副生ガス流路G1に圧力調整手段PCro(圧力制御弁PCVoおよび圧力調節計PCo)を設けたシステムが構成される。原料ガスの減量操作においても、第1気液分離部D1の圧力をガス分離膜Sの1次圧力と独立に制御することが可能となるとともに、さらに高い圧力に制御するなど汎用性の高い制御が可能となる。また、第3構成例を含むこうした構成は、第2構成例に対しても適用可能であり、同様の作用・機能を有することができる。
【0048】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第4構成例>
本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第4構成例(以下「本システム4」という)を図5に示す。基本的な構成は、第1構成例と同様であるが、複数段のガス分離膜を用い、前段の第1ガス分離膜S1の第1残留ガス流路R1を後段の第2ガス分離膜S2の上流側に接続し、カスケード接続を形成したシステムを構成する。つまり、第1ガス分離膜S1の第1残留ガス流路R1を第2ガス分離膜S2の供給ガス流路に接続することによって、その第1透過ガス流路T1から第1透過ガスを取り出し、第2透過ガス流路T2から第2透過ガスを取り出すことが可能となる。また、図5では、副生ガス流路G2から分岐された添加ガス流路Faを第1透過ガス流路T1に接合し、添加ガスを第1透過ガスと混合するように構成している。
【0049】
カスケードサイクルは、各段の透過ガス圧力やガス分離膜の膜の材質など変えることにより複数の純度条件の透過ガスを得る場合に回収率を上げ得るとの利点から良く利用される。ここで、前段のガス分離膜からの残留ガス中には非凝縮性のガスが比較的多く含まれていることから、残留ガスの露点は比較的低く成分Bが液化する可能性は低く、順次後段のガス分離膜に供給されるに従い、成分Bが濃縮され効率よく回収することができる。このとき、第1ガス分離膜S1と第2ガス分離膜S2の膜面積を選択することによって、第2残留ガス中の成分Bの濃度を調整して、効率的に液化を防止することが可能である。
【0050】
カスケードサイクルに基づく機能に加え、濃縮されたガスを透過ガスへ添加し、製品ガスとして取り出すことが可能であり、減量処理に対しても、製品ガス中の所望の成分濃度を高い回収率で形成することが可能となる。また、減量操作時の処理条件の変化にも柔軟に対応することが可能となる。
【0051】
このとき、図5では、第1ガス分離膜S1の透過ガスと添加ガスを混合する場合を例示したが、透過ガスと添加ガスの混合はこれに限定されず、複数段のいずれの透過ガスに対しても添加が可能である。また、カスケード方式を利用して、各段のガス分離膜の1次圧力を順次低く制御することにより、透過性ガスの回収率を上げることが可能となる。
【0052】
〔本システム4の変形例〕
本システム4の変形例を図6および図7に示す。つまり、基本的な構成は、第4構成例と同様であるが、図6においては、第1残留ガス流路R1に圧力調整手段PCr2(圧力制御弁PCV2および圧力調節計PC2)を設けたシステムが構成される。原料ガスの減量操作においても、第1気液分離部D1の圧力および第1ガス分離膜S1の1次圧力P1を第2ガス分離膜S2の1次圧力P2と独立に制御することが可能となる。また、図7においては、第1残留ガス流路R1に圧力調整手段PCr2を設けるとともに、さらに、第1副生ガス流路G1に圧力調整手段PCro(圧力制御弁PCVoおよび圧力調節計PCo)を設けたシステムが構成される。原料ガスの減量操作においても、第1気液分離部D1の圧力を第1,第2ガス分離膜S1,S2の1次圧力と独立に制御することが可能となるとともに、さらに高い圧力に制御することなど汎用性の高い制御が可能となる。なお、図7における原料ガスと循環ガスとの混合ポイントは、破線a,bで示すように、(a)第1冷却部C1と第1気液分離部D1の中間、(b)第1気液分離部D1と圧力調整手段PCroの中間に設けることができる。
【0053】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第5構成例>
本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第5構成例(以下「本システム5」という)を図8に示す。第2構成例と同様の構成とし、図8では、添加ガス流路Faを第2ガス分離膜S2の透過側(2次側)に設けられた添加ガス導入部Sfに接合し、第2ガス分離膜S2内部において添加ガスを透過ガスと混合するように構成される。カスケードサイクルに基づく機能に加え、副生ガスの一部を添加ガスとして第2ガス分離膜S2の2次側に導入することによって、成分Aのより高い純度および回収率を確保することができる。また、減量操作時の処理条件の変化にも柔軟に対応することが可能となる。
【0054】
このとき、図8では、第2ガス分離膜S2の透過ガスと添加ガスを混合する場合を例示したが、透過ガスと添加ガスの混合はこれに限定されず、複数段のいずれの透過ガスに対しても添加が可能である。また、カスケード方式を利用して、各段のガス分離膜の1次圧力を順次低く制御することにより、透過性ガスの回収率を上げることが可能となる。さらに、上記〔本システム4の変形例〕において開示された構成・機能は、本システム5においても適用可能であり、同等の技術的効果を得ることができる。
【実施例】
【0055】
次に、上記の構成例に関して、水素ガス製造プロセスを設定し、透過ガスの純度や回収率の数値解析を行った結果を以下に示す。
【0056】
(1)解析条件
(1−1)原料ガスの組成を表1に示す。
【表1】
(1−2)解析に用いたガス分離膜は、第1および第2ガス分離膜ともに、素材をポリアラミド系膜とした。
(1−3)原料ガスのガス分離膜入口温度は、90℃とした。
(1−4)残留ガスのガス分離膜出口における露点は、80℃以下を基準とする。
(1−5)第1,第2冷却部として水冷却方式を用い、40℃まで冷却する。
(1−6)透過ガスの圧力は、ガス分離膜出口において10bar(abs)とした。カスケード方式の場合も、第1,第2ガス分離膜の透過ガスの圧力は等しくした。
(1−7)原料ガスの流量の最大値は、10,000Nm3/hとし、以下「流量」は、この最大値に対する割合(%)によって表示した。
(1−8)本システムの圧力損失
(i)原料ガスの流量が最大(100%)のとき:第2冷却器、第2気液分離部の圧力損失は0.2barと仮定した。
(ii)減量時の圧力損失:本システムの圧力損失は、上記100%の場合を基準として、ρV2に比例して変化するものと仮定して評価した。ここにρ(kg/m3)はガスの密度、V(m3/h)は体積流量を表す。
(1−9)本システムの圧力基準点
(i)原料ガス流量が最大のとき:ガス分離膜の供給圧力は、30.8bar(abs)を基準とした。
(ii)減量操作時:制御方法に依存する。ここでは、ガス分離膜が1段のときは、残留ガス流路の圧力(第2気液分離部からの第2副生ガスの圧力で代表した)を基準とし、ガス分離膜を2段用いたカスケードサイクルの場合は、第1残留ガス流路の圧力(第1残留ガス流路の第1ガス分離膜直近の圧力で代表した)、または第2残留ガス流路の圧力(第2気液分離部からの第2副生ガスの圧力で代表した)を基準とした。
(1−10)透過ガスあるいは製品ガスの純度は、95mol%以上を基準とした。
【0057】
(2)解析結果
解析結果を〔実施例1〕〜〔実施例3〕に示す。
【0058】
〔実施例1〕
(i)検討条件
図1に示すような1段のガス分離膜を利用したシステムで、製品純度がほぼ基準値95%になるように添加ガスの流量を(製品の水素濃度を分析計で検出した場合を模擬して)制御した場合を解析した。表1の組成の原料ガスについて、ガス分離膜の残留ガス圧力を減量度の1次式で変更して減量操作を行うとした。また、ガス分離膜の面積は、原料ガス流量が100%の時に、残留ガス出口における露点が約80℃になるよう設定した。
(ii)検討結果
表2に示すように、減量が進行する伴い、回収率は顕著に上昇した。比較のため、原料ガス流量100%のときに添加ガス流量を0とすると、回収率は79.39%に低下した。なお、この圧力レベルでは原料ガスを40℃まで冷却しても凝縮は起こらなかった。
【表2】
【0059】
〔実施例2〕
(i)検討条件
図1に示すような1段のガス分離膜を利用したシステムで、表1に示す組成の原料ガスについて、ガス分離膜の残留ガス圧力および添加ガス流量を減量度の1次式で変更して減量操作を行った場合を解析した。ガス分離膜の面積は、〔実施例1〕に合わせた。
(ii)検討結果
結果は、表3に示すように、所望の水素の回収率および純度を得ることができた。
【表3】
【0060】
〔実施例3〕
(i)検討条件
図5に示すようなガス分離膜を2段利用したカスケード方式のシステムで、表1に示す組成の原料ガスについて、各段のガス分離膜の残留ガス圧力および添加ガス流量を減量度の1次式で変更して減量操作を行った場合を解析した。第1、第2ガス分離膜の面積は、それぞれ、〔実施例1〕の場合の100%、50%に採った。
(ii)検討結果
表4に示すように、減量が進行するに応じて回収率は顕著に上昇した。また、〔実施例1〕および〔実施例2〕に比較し、高い回収率が得られた。比較のため、原料ガス流量100%のときに添加ガス流量を0とすると、回収率は86.49%に低下した。
【表4】
【0061】
(3)まとめ
上記の結果に示すように、実施例1〜3のいずれについても、製品ガスの純度に対する高い安定性と高い回収率を確保することができた。
【図面の簡単な説明】
【0062】
【図1】本発明に係る製造システムの基本の構成例を示す説明図
【図2】本発明に係る製造システムの第2の構成例を示す説明図
【図3】本発明に係る製造システムの第3の構成例を示す説明図
【図4】本発明に係る製造システムの第3構成例の変形例を示す説明図
【図5】本発明に係る製造システムの第4の構成例を示す説明図
【図6】本発明に係る製造システムの第4構成例の変形例を示す説明図
【図7】本発明に係る製造システムの第4構成例の変形例を示す説明図
【図8】本発明に係る製造システムの第5の構成例を示す説明図
【図9】従来技術に係る製造システムの基本構成を例示する説明図
【図10】従来技術に係る製造システムの他の1の構成を例示する説明図
【図11】従来技術に係る製造システムの他の2の構成を例示する説明図
【符号の説明】
【0063】
APo,AP1,AP2,AP3 分析ポート
C1,C2 (第1,第2)冷却部
D1,D2 (第1,第2)気液分離部
Fa 添加ガス流路
FC1 流量調節計
FCb1 流量調整手段
FCV1 流量制御弁
G1,G2 (第1,第2)副生ガス流路
H 加熱部
L1,L2 (第1,第2)副生液流路
LC1,LC2 (第1,第2)液面検知部
LCV1,LCV2 (第1,第2)制御弁
P1 (第1)ガス分離膜の1次圧力
PCo,PC1,PC2 圧力調節計
PCro,PCr1,PCr2 圧力調整手段
PCVo,PCV1,PCV2 圧力制御弁
R1,R2 (第1,第2)残留ガス流路
S、S1,S2 (第1,第2)ガス分離膜
Sf 添加ガス導入部
T1,T2 (第1,第2)透過ガス流路
Uo 原料ガス流路
【技術分野】
【0001】
本発明は、ガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムに関し、具体的には、選択的透過性を有するガス分離膜の分離機能と各成分の凝縮温度の相違による気液分離機能を用い、複数の成分を含む混合ガスから特定の成分を分離回収するガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムに関する。
【背景技術】
【0002】
従来、半導体製造工場あるいは各種の化学プロセス工場などにおいては、各工程における原料ガスあるいは処理ガスとして所定量の純度の高いガスが必要とされ、入手容易で低コストの原料からこうしたガスを分離して連続的に使用することが多く行われる。具体的には、例えば、空気から富化酸素ガスと富化窒素ガスのいずれかあるいは両方を得る場合、ナフサ分解ガスから水素(H2)を分離濃縮する場合、有機物蒸気を含むガス混合物から有機物蒸気を分離回収する場合、水性ガスからH2を分離する場合などが該当する。かかる工程においては、装置が小型で簡便であることから、選択的透過性を有するガス分離膜に透過性の異なるガス混合物を原料ガスとして供給し、透過ガスと残留ガスに分離し、易透過性ガスに富んだ透過ガスを製品として取り出す方法が採られることが多い。
【0003】
こうしたガス分離膜を用いたガス製造方法においては、図9に例示するような、圧縮機102、乾燥器108、加熱器109、ガス分離膜101を備えたガス分離部103、残留側圧力調整弁110、冷却器113透過側圧力調整弁111を備えた系を基本として、所望の用途や仕様に応じた種々の構成が用いられてきた(例えば特許文献1参照)。
【0004】
例えば、比較的高圧の水素ガスおよび比較的低圧の水素ガスの製品を必要とする場合、図10に示すようなカスケードサイクルが有効であることはよく知られている。この例にあっては、二組のガス分離膜201(第1ガス分離膜201a及び第2ガス分離膜201b)が組み合わせて使用される。この構造にあっては、原料ガスg1は、第2ガス分離膜201bの透過性ガスg2aaと合流され、圧縮後、第1ガス分離膜201aに供給される。この状態で、第1ガス分離膜201aによる透過性ガスg2aが産出され、その残留性ガスg2bは、第2ガス分離膜201bの原料ガスとして供給される。この第2ガス分離膜201bでは、残留性ガスが産出される。それからの透過性ガスg2aaは、元々の原料ガスと合流することにより再利用される(例えば特許文献1参照)。ここで、図10においては、第2ガス分離膜201bからの透過性ガスg2aaが再利用される構成として例示されているが、透過性ガスg2aを高圧製品ガスとして取り出し、透過性ガスg2aaを低圧製品ガスとして取り出すことが可能である。
【0005】
また、並列サイクルとして、図11に例示するような、空気から富化窒素ガスを分離回収するシステムを挙げることができる。図11では、2本の中空糸分離膜モジュール312、313が並列で用いられており、供給ガスは前処理を終わったあと分岐してそれぞれのモジュール312、313へ供給され、それぞれの中空糸分離膜モジュール312、313で得られた富化窒素ガスは合流して製品ガス出口324へ導かれている。空気取入口301から採取された空気はダストフィルター302で空気中の浮遊粒子などを除去されコンプレッサー303へ供給される。ここで加圧された空気は、中空糸ガス分離膜モジュール312、313のガス供給口から膜の供給側へ流される。透過した透過ガスは、膜の透過側を流れてモジュールの透過ガス排出口を経由して透過ガス排出流となり、配管の途中で流量調節弁316、317で流量を絞られたのち系外へ排出される(例えば特許文献2参照)。ここで、図11のシステムにおいては、富化窒素ガスを製品ガスとして回収する場合を表しているが、透過ガス排出流は富化酸素ガスであり、これを製品ガスとして回収することも可能である。このとき、並列の中空糸分離膜モジュール312、313に供給する空気の圧力や流量を各々独立的に調整することによって、一方の透過性ガスを高圧製品ガスとして取り出し、他方の透過性ガスを低圧製品ガスとして取り出すことが可能である。
【0006】
【特許文献1】特開2000−33222号公報
【特許文献2】特開2002−35530号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0007】
ガス分離膜を利用してガスを製造する場合、製品の純度と回収率が主要な特性となる。一般に、製品ガスの用途に応じて、所要の純度が定まり、その範囲で回収率をできるだけ確保するとの方針で検討を行いプロセスや減量操作を含めた制御方法を決定する。しかしながら、難透過性かつ凝縮性の成分を含む複数の成分を含有する原料ガスに対しては、上記システムあるいは方法によっては、いくつかの課題が生じることがあった。
(i)膜自体の変質を齎すことがあるので、膜の1次側のガス中でのミストの生成を回避する必要がある。より詳細には、原料ガス中に凝縮性成分が含まれる場合には、常温で液化を起こす可能性があり、この凝縮性成分が難透過性ガスであるとき、ガス分離の進行に従い、ガス分離膜の1次側(非透過側)のガス中に凝縮性成分が濃縮し液化する恐れがあることから、例えば約40℃(夏季の外気条件)まで原料ガスを冷却し、凝縮液化成分を分離後、加熱手段にて加熱することにより、ガス分離膜での液体ミストの生成の恐れを回避する必要があった。
(ii)しかし、ガス分離膜の分離特性や高温耐性などの関係から加熱温度に限界があるので、透過ガスの所望成分の回収率を上昇しようとすると、ガス分離膜の残留ガス側で凝縮性成分が液化する恐れが残る。そのため、ガス分離膜の1次圧力を下げて、液化を回避するとの対策がなされて来たが、回収率を確保することに困難な場合があった。
なお、本発明ではガス分離膜の1次側のガス中に凝縮性成分の濃縮に伴う液化を避けることに注目する。透過の進行に伴い、凝縮性成分の濃縮が進行するので、残留ガス出口(直近)のガスが最も液化し易い状態となる。従って、残留ガス出口のガスの圧力下の露点が重要となり、露点がガス分離膜でのガス温度に比較して低いならば、ガス分離膜の1次側のガス中で液化が起こらないこととなる。実際には、原料ガス組成や運転条件の変動などを考慮して、ガス分離膜のガス温度に対し僅かに(例えば10℃)低く、前記露点の基準値を設定して運用するのが望ましい。以下、ガス分離膜の残留ガス出口直後の圧力を「残留ガス圧力」といい、ガス分離膜の残留ガス流路出口直後における残留ガス圧力下の露点を「残留ガス露点」、ガス分離膜の残留ガスの流量を「残留ガス流量」、透過ガスの圧力および流量を「透過ガス圧力」および「透過ガス流量」という。
【0008】
本発明の目的は、複数の成分を含む原料ガスからガス成分および凝縮性成分を回収するに際し、所望の純度を有し所望の製品ガスおよび凝縮性成分を確保するとともに、効率的かつ汎用的な手法で、ガス分離膜の1次側ガス中で凝縮性成分が液化することを回避しつつ、高い回収率を得ることができるガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムを提供することにある。特に、減量操作に際して、さらに高い回収率を得ることを目的とする。なお、本願において、単に「回収率」とした場合には、製品ガス中の所望の成分(易透過性ガス)流量の総計の、原料ガス中の所望の成分の流量に対する割合を意味し、また、最終残留ガスは副製品として利用される場合も含むものとする。
【課題を解決するための手段】
【0009】
本発明者らは、上記課題を解決するために、鋭意研究を重ねた結果、以下に示すガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムにより上記目的を達成できることを見出し、本発明を完成するに到った。なお、同一機能の要素について、上流側を第1または1次、下流側を第2または2次という。
【0010】
本発明は、複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜による分離機能と、前記ガス分離膜の後段に設けられた少なくとも1つの各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離機能を利用し、前記ガス分離膜の分離機能によって得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離機能によって得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および前記成分Bが減少した副生ガスを生成する方法であって、少なくとも下記の工程
(1)前記原料ガスを前記ガス分離膜に供給する工程
(2)前記ガス分離膜の1次圧力あるいはこれと連動するプロセス値のいずれかを調整する工程
(3)前記ガス分離膜において、透過ガスと残留ガスに分離する工程
(4)前記ガス分離膜に対し前記成分Aに富んだ透過ガスを製品ガスとして抜き出す工程
(5)前記ガス分離膜に対し難透過性ガスに富んだ残留ガスを抜き出す工程
(6)前記残留ガスの冷却処理および気液分離処理を行う工程
(7)前記気液分離処理により得られた前記成分Bに富んだ副生液を抜き出す工程
(8)前記気液分離処理により得られた前記成分Bが減少した副生ガスを抜き出す工程
(9)前記副生ガスの一部を、添加ガスとして分岐する工程
(10)前記添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加する工程
(11)透過ガスまたは透過ガスと添加ガスの混合ガスを製品ガスとする工程
を有することを特徴とする。
【0011】
複数の成分を含む原料ガスから易透過性かつ非凝縮性の成分(本発明において「成分A」とする。)および難透過性かつ凝縮性の成分(本発明において「成分B」とする。)あるいは難透過性かつ非凝縮性の成分(あるいは成分Bが減少した成分)を回収し、所望の純度や回収率を確保する方法として、選択的透過性を有するガス分離膜による分離機能を利用する方法や各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離機能を利用する方法があり、従前各々別個に使用されることが多かった。また、これらを組合せる場合においても、前処理として気液分離機能を用いて処理されたガスを、ガス分離膜による分離機能を用いて処理する方法、あるいはその逆の方法は用いられることがあるが、いずれも一方を主とし、他方をその補助とするものであった。本発明は、原料ガスに成分Bが含まれる場合、ガス分離膜の残留ガス中に成分Bが濃縮することを利用し、冷却部と気液分離部の組合せをガス分離膜の後段あるいは前後に配設し、凝縮性成分および難透過性ガス成分の回収率の向上を図る。また、本発明は、残留ガス露点を制限して、ガス分離膜の1次側での液化を避けるために、残留ガス中にあるレベル残された成分Aを、残留ガスの冷却と気液分離によって副生ガス中に濃縮し、前記副生ガスの一部をガス分離膜の2次側流路に添加することによって、透過性ガス成分の回収率の向上を図るものである。つまり、ガス分離膜の透過ガスの純度が基準値から余裕があるとき、副生ガスの一部を添加ガスとして有効に利用することにより、ガス分離膜の1次側での液化を避けつつ、透過性ガス成分の高い回収率を確保することが可能となる。
【0012】
なお、ここで、「ガス分離膜」とは、1つの膜モジュールを用い供給ガス、透過ガスおよび残留ガスの各流入出路を設けた場合だけではなく、複数の膜モジュールを必要数並列に配設して、各々の供給ガス、透過ガスおよび残留ガスの各流入出路毎に統合して構成した場合を含むものとする。また、「ガス分離膜の2次側流路」とは、ガス分離膜内の膜エレメントの透過側空間と流路および透過ガスが取出される透過ガス流路のいずれをも含む流路をいう。「凝縮性成分」とは、凝縮処理に対して凝縮性を有する成分をいい、ガス分離膜に対する透過性の容難に限定されるものではない。「易透過性かつ非凝縮性の成分A」とは、ガス分離膜に対して易透過性を有し、かつ凝縮処理に対して非凝縮性を有する成分をいい、具体的には、後述の実施例において、例えば原料ガス中に、水素、メタン、ブタン、ペンタンが混在する場合についての水素をいう。「難透過性かつ凝縮性の成分B」とは、ガス分離膜に対して難透過性を有し、かつ凝縮処理に対して凝縮性を有する成分をいい、上記例におけるブタンおよびペンタンをいう。また、本発明は、原料ガス中に透過性かつ凝縮性の成分(例えば、後述の実施例における原料ガス中に水分)が少量含まれる場合にも本質的に同様の効果がある。従って、本発明は、このような場合を含むことを注記しておく。また、ここでいう「圧力と連動するプロセス値」とは、圧力変化に伴い変化するプロセス値をいい、1次圧力に対し残留ガス流量また、2次圧力に対して透過ガス流量を挙げることができる。以下同様である。
【0013】
本発明は、複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離部を有し、前記ガス分離膜から得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離部から得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造システムであって、少なくとも下記の構成要素
(a)前記原料ガスが供給される原料ガス流路
(b)前記透過ガスと残留ガスに分離するガス分離膜
(c)前記ガス分離膜から透過される透過ガスが取り出される透過ガス流路
(d)前記ガス分離膜からの残留ガスが供出される残留ガス流路
(e)前記残留ガス流路に配設された冷却部および気液分離部
(f)前記気液分離部の気相部からの副生ガスが供出される副生ガス流路
(g)前記気液分離部の液相部から副生液が取り出される副生液流路
(h)前記副生ガス流路を分岐して形成される添加ガス流路
(j)前記分岐以降の前記副生ガス流路に配設された圧力調整部あるいは流量調整部
(k)前記添加ガス流路に設けられた流量調整部
(m)前記添加ガス流路と透過ガス流路が接合して形成される製品ガス流路
を有することを特徴とする。
【0014】
上記製造方法を具体的に実施する製造システムとしては、ガス分離膜および冷却部と気液分離部からなる構成要素(a)〜(k)に加え、添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加するための構成要素を必要とする。こうした構成要素として、本発明においては(m)「添加ガス流路と透過ガス流路が接合して形成される製品ガス流路」を設けたもので、残留ガス中にあるレベル残された成分Aを、残留ガスの冷却と気液分離によって副生ガス中に濃縮し、副生ガスの一部を透過ガスに添加することによって、透過性ガス成分の回収率の向上を図ることが可能となる。つまり、ガス分離膜の透過ガスの純度が基準値から余裕があるとき、副生ガスの一部を添加ガスとして有効に利用することにより、ガス分離膜の1次側での液化を避けつつ、透過性ガス成分の高い回収率を確保することが可能となる。また、ガス分離膜の後段に透過ガスを昇圧する昇圧手段がある場合には添加ガスの合流点を昇圧の中間段あるいは出口の適当な点とすることにより、副生ガスの有する圧力エネルギーのロスを少なく抑えることができて望ましい。
【0015】
本発明は、複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離部を有し、前記ガス分離膜から得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離部から得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造システムであって、少なくとも下記の構成要素
(a)前記原料ガスが供給される原料ガス流路
(b)前記透過ガスと残留ガスに分離するガス分離膜
(c)前記ガス分離膜から透過される透過ガスが取り出される透過ガス流路
(d)前記ガス分離膜からの残留ガスが供出される残留ガス流路
(e)前記残留ガス流路に配設された冷却部および気液分離部
(f)前記気液分離部の気相部からの副生ガスが供出される副生ガス流路
(g)前記気液分離部の液相部から副生液が取り出される副生液流路
(h)前記副生ガス流路を分岐して形成される添加ガス流路
(j)前記分岐以降の前記副生ガス流路に配設された圧力調整部あるいは流量調整部
(k’)前記添加ガス流路に設けられた流量調整部、または流量調整部および加熱部
(n)前記ガス分離膜の2次側に前記添加ガス流路と接合する添加ガス導入部
を有することを特徴とする。
上記製造方法を具体的に実施する製造システムとして、ガス分離膜および冷却部と気液分離部からなる構成要素(a)〜(k’)に加え、添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加するための構成要素を必要とする。こうした構成要素として、本発明においては(n)「ガス分離膜の2次側に添加ガス流路と接合する添加ガス導入部」が配設される。副生ガスの添加による透過ガスの純度および回収率の調整機能に加え、ガス分離膜内部において成分Aの濃度の低い添加ガスを透過ガスと混合することによって、ガス分離膜の透過側の成分Aの分圧を低下させ、成分Aの透過機能を向上させることができる。
【0016】
本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造方法であって、前記原料ガスを、
(1a)前記原料ガスの1次冷却処理を行う工程
(1b)前記原料ガスの1次気液分離処理を行う工程
(1c)前記1次気液分離処理により得られた前記成分Bが減少した第1副生ガスを抜き出す工程
(1d)前記1次気液分離処理により得られた主として前記成分Bからなる第1副生液を抜き出す工程
(1e)前記原料ガスあるいは第1副生ガスの加熱処理を行う工程
のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせた1次処理工程を経てから前記ガス分離膜へ供給することを特徴とする。
【0017】
また、本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造システムであって、前記原料ガス流路に、
(aa)第1冷却部
(ab)第1気液分離部
(ac)前記第1気液分離部の気相部から副生ガスが取り出される第1副生ガス流路
(ad)前記第1気液分離部の液相部から副生液が取り出される第1副生液流路
(ae)前記原料ガス流路あるいは第1副生ガス流路に設けられた加熱部
のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせが配設されることを特徴とする。
【0018】
上記においては、基本的にガス分離膜の後段に冷却手段と気液分離手段を配設し、副生ガスを透過ガスに添加する構成を挙げたが、こうした構成によって得られる機能や効果は原料ガスを、その性状に応じて予め所定の処理を行うことが好ましい。具体的には、成分Bの濃度が高い原料ガスの場合に予め成分Bを回収するための第1冷却部と第1気液分離部、あるいは残留ガス中の成分Bの濃度の上昇に伴う液化の防止を図る加熱部などを、ガス分離膜の上流側に設けることによって、透過ガスおよび凝縮性成分の回収率の向上を図ることができる。
【0019】
本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造方法であって、減量操作に際して、減量度に応じて前記ガス分離膜の1次圧力、2次圧力あるいはこれらと連動するプロセス値のいずれかを調整するとともに、前記添加ガスの流量を減量度に応じて調整することを特徴とする。
【0020】
原料ガスの減量操作を行った場合、ガス分離膜の1次圧力および2次圧力を一定にしたままであれば、回収率は上昇する反面、透過ガス中の透過性ガスの濃度は低下すると同時に、ガス分離膜の1次側のガス中において成分Bが液化しやすくなる。本発明は、凝縮性成分の液化の防止を図り、かつ製品ガスの純度を確保すべく、減量度に応じてガス分離膜の1次圧力、2次圧力あるいはこれらと連動するプロセス値のいずれかを調整し、さらに減量度に応じて添加ガス流量を制御することによって、所望の製品ガスの純度と回収率の確保することを図るものである。
【0021】
本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造方法であって、前記ガス分離膜を複数段利用し、前段のガス分離膜の残留ガスを後段のガス分離膜に供給し、カスケード接続を形成することを特徴とする。
【0022】
また、本発明は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造システムであって、前記ガス分離膜を複数段利用し、前段のガス分離膜の残留ガス流路を後段のガス分離膜の供給ガス流路に接続し、カスケード接続を形成することを特徴とする。
【0023】
通常、カスケードサイクルは、純度の異なる複数の製品ガスを作製する場合などに、複数段のガス分離膜を用い、各透過ガスを製品ガスとすることで、比較的小さな膜面積であっても所定の製品純度および回収率を確保することができる。つまり、前段のガス分離膜からの残留ガス中には透過性ガスが比較的多く含まれていることから、順次後段のガス分離膜に供給されるに従い、凝縮性成分が濃縮され効率よく回収することができる。このカスケードサイクルの一般的利点に加え、さらに、本発明は、こうして濃縮されたガスを透過ガスへ添加し、製品ガスとして取り出すことが可能であり、減量処理に対しても、製品ガス中の所望の成分濃度を高い回収率で形成することが可能となる。このとき複数段のいずれの透過ガスに対しても添加が可能である。また、カスケード方式を利用して、各段のガス分離膜の1次圧力を順次低く制御することによりガス分離膜の1次側ガス中で成分Bの液化を抑制でき、順次後段のガス分離膜に供給され、各段で最大限の透過性成分の回収が可能となる。従って、所望の純度を有し所望の製品ガスおよび凝縮性成分を確保するとともに、効率的かつ汎用的な手法で、ガス分離膜の1次側ガス中で凝縮性成分が液化することを回避しつつ、高い回収率を得ることができるガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムを提供することが可能となる。
【発明の効果】
【0024】
以上のように、本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムを適用することによって、所望の純度を有し所望の製品ガスおよび凝縮性成分を確保するとともに、効率的かつ汎用的な手法で、ガス分離膜の1次側ガス中で凝縮性成分が液化することを回避しつつ、高い回収率を得ることができるガス成分および凝縮性成分の製造方法および製造システムを提供することが可能となる。特に、減量操作に際して、さらに高い回収率を得ることが可能となった。
【発明を実施するための最良の形態】
【0025】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら説明する。ここでは、複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜による分離機能と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離機能を利用し、分離機能によって得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、気液分離機能によって得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造プロセスにおいて、ガス分離膜による選択的分離処理の後に、残留ガスの冷却処理および気液分離処理を行い、さらに気液分離処理によって生じた副生ガスの一部をガス分離膜の2次側流路に添加することにより所望の純度の透過ガスを作製するとともに、凝縮性成分についても所望の回収率を確保することが基本となる。なお、ガス分離膜を用いるプロセスに要求される条件は、上流、下流のプロセス構成や製品ガスの用途により、様々に変化し、それに応じてその運転条件や制御方法が選定されるので、ここでは典型的な例を挙げた。また、本発明は、以下に述べる構成例に限定されるものでなく、ガス分離膜プロセス一般に上記特徴を組合せることにより、多くの変形や拡張が可能となる。
【0026】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの基本構成例>
図1に、本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの1の構成例(第1構成例、「本システム1」という)を示す。具体的には、原料ガス流路Uo、ガス分離膜S、透過ガス流路T1、残留ガス流路R1、副生ガス流路G2、副生液流路L2、添加ガス流路Fa、製品ガス流路A1、残留ガス流路G1に設けられた冷却部C2および気液分離部D2、副生ガス流路G2に設けられた圧力調整手段PCr1(圧力制御弁PCV1および圧力調節計PC1)、副生液流路L2に設けられた液面検知部LC2および制御弁LCV2、添加ガス流路Faに設けられた流量調整手段FCb1(流量制御弁FCV1および流量調節計FC1)、および制御部(図示せず)から構成される。また、ガス製造プロセスの性能確認用に、原料ガスの分析ポートAPo、透過ガスの分析ポートAP1および製品ガスの分析ポートAP3(ガスクロ分析計などによるバッチ分析に利用する)が設けられている。なお、分析ポートに代え、濃度計測手段を設けることも可能である。詳細は後述する。
【0027】
本システム1においては、添加ガスをガス分離膜Sの2次側流路に添加する方法として、添加ガス流路Faを透過ガス流路T1に接合し、添加ガスを透過ガスと混合する構成を用いている。ここで、原料ガスを供給する1次圧力P1の制御を、副生ガス流路G2に設けられた圧力調整手段PCr1によって行う構成を例示しているが、圧力調整手段PCr1を原料ガス流路Uo、残留ガス流路R1あるいは別途バイパス流路を追加してそこに配設する構成等、これに限定されるものでないことはいうまでもない。なお、気液分離部D2での凝縮は、一般に高圧の状態の方が効果的であるので、圧力制御弁PCV1を副生ガス流路G2の循環ガス分岐点以降に置くことが望ましい。また、1次圧力P1の制御に代え、1次圧力の変化に伴い変化するプロセス値として、残留ガスの流量を制御することも可能である。
【0028】
原料ガスは、精製ガスあるいは粗製ガスを精製処理されたガスを供給することが好ましく、具体的には、精製空気、精製ナフサ分解ガス、精製改質ガス、精製水性ガス、精製天然ガスなどが該当する。原料ガスの供給条件は、通常、環境温度とし、流量約1,000〜100,000[Nm3/h]の上記各種ガスが使用される。また、圧力条件は、透過ガスの用途などによって異なるが、1〜50[bar(abs)]程度に加圧して使用する。
【0029】
ガス分離膜Sは、原料ガスあるいは透過ガスの種類によって、最適な素材や容量(表面積)あるいは形状などが選択される。ガス分離膜Sの素材として、例えば、ポリエチレン(PE)、ポリプロピレン(PP)、シリコーンゴム、ポリスルフォン、酢酸セルロース、ポリアラミド(PA)やポリイミド(PI)などの分離膜を挙げることができる。本システム1においては、これらに限定されるものではない。
【0030】
分析ポートAPo、AP1およびAP3から採取したガスは、ガスクロマトグラフィーなどを使用してバッチ分析を行い、定期的な分析結果から、演算式の係数を修正する方式を採ることができる。また、これに代え、濃度計測手段を後述するように制御に利用することもできる。濃度計測手段は、所望の成分、つまり製品ガス成分に対して選択性の高い分析計が好ましく、連続分析で信頼できるものが好ましい。また、製品ガスに対して化学的な変化を生じさせない分析計が好ましい。例えば、成分が水素の場合には熱伝導度式分析計や成分がメタンの場合には赤外線吸光式分析計などを挙げることができる。また、バッチ分析と連続分析を併用する方式も可能である。より信頼できるバッチ分析の結果から連続分析計の誤差を確認しつつ、微調整の判断に供することができる。
【0031】
〔本システム1を用いた制御方法例〕
本システム1のガス分離膜Sに供給される原料ガスから最終製品ガスおよび凝縮性成分の作製までのプロセスにおいては、ガス分離膜Sの透過ガスを製品ガスとした場合、少なくとも以下の工程によって構成される。
(1)複数の成分を含有する原料ガスをガス分離膜Sに供給する工程
(2)ガス分離膜Sの1次圧力あるいはこれと連動するプロセス値のいずれかを調整する工程
(3)ガス分離膜Sにおいて、透過ガスと残留ガスに分離する工程
(4)ガス分離膜Sに対し成分Aに富んだ透過ガスを製品として抜き出す工程
(5)ガス分離膜Sに対し難透過性ガスに富んだ残留ガスを抜き出す工程
(6)残留ガスの冷却処理および気液分離処理を行う工程
(7)気液分離処理により得られた成分Bの減少した副生ガスを抜き出す工程
(8)気液分離処理により得られた主として成分Bからなる副生液を抜き出す工程
(9)副生ガスの一部を、添加ガスとして分岐する工程
(10)添加ガスを前記透過ガスに添加して、製品ガスとする工程
【0032】
ここで、1次圧力P1を制御して透過ガス濃度および回収率を調整すると同時に残留ガス露点を調整し、さらに添加ガス流量F1を調整して製品ガス濃度および回収率を所望の範囲に調整する。具体的には、まず分析ポートAPoおよびAP1から採取した所望の成分の濃度を基に、副生ガス流路G2に設けられた圧力調整手段PCr1にてガス分離膜Sの1次圧力P1が制御され、次に流量調整手段FCb1にて添加ガス流量F1が制御される。なお、添加ガス流量F1の制御を分析ポートAP3から採取した所望の成分の濃度を基に行うことも可能である。
【0033】
また、減量操作に際しても、上記同様、(i)ガス分離膜Sの1次圧力P1あるいは2次圧力P2を減量度に応じて調整し、(ii)添加ガス流量F1を減量度に応じて調整する。以下、各調整方法について詳述する。
【0034】
(i)ガス分離膜Sの1次圧力P1あるいは2次圧力P2を減量度に応じて調整する方法
原料ガスに成分Bが含まれる場合、原料ガスの減量操作において、ガス分離膜Sの1次圧力P1を一定にしたままであれば、上記のように回収率は上昇する反面、透過ガス中の透過性ガスの濃度は低下するともに、ガス分離膜Sの1次側のガス中において成分Bが濃縮して液化を生じるおそれがある。原料ガス流量の減少に応じて一次圧力P1を低下させた時、成分Bの分圧が低くなるので、ガス分離膜Sの1次側のガス中での成分Bの液化を防止することができる。このとき、透過ガスと残留ガスの各々の流量も原料ガス流量に応じて変化することから、減量操作においての安定的な回収率を確保することができる。
【0035】
ただし、製品に対する要求仕様によっては、減量に際して、透過性ガスの濃度の低下やガス分離膜Sの1次側のガス中において成分Bの液化を生じるおそれが問題とならないこともあり、その設定値を一定とすることが好ましい場合もある。また、製品に対する要求仕様によっては、その設定値をガス分離膜Sへの原料ガス流量あるいは透過ガス流量のある関数(例えば1次式)で演算する方法が好ましい場合もある。さらに、減量率の折れ線関数により演算し、例えば、所定の減量率までは、1次圧力P1を低下させずに、それ以降の減量率において、1次圧力P1を減量率に応じて低下させる方法が好ましい場合もある。つまり、上記のような構成あるいは方法を適用することによって、原料ガス流量が減少した場合も膜モジュールの数量を変更することなく、簡便な手法で所望の製品ガスの純度と回収率の安定性を確保することが可能となった。なお、減量に際して、1次圧力P1および2次圧力P2を一定にしておくと回収率が上昇するが、2次圧力P2を上昇させて回収率の上昇を抑え液化を防止する方法も可能である。あるいは、2次圧力P2を下げ得る場合には、1次圧力P1および2次圧力P2を同時に下げる方法も可能である。
【0036】
(ii)添加ガスの流量F1を減量度に応じて調整する方法
残留ガス露点を制限して、ガス分離膜Sの1次側での液化を避けるために、残留ガス中に成分Aがあるレベル残される。残留ガスの冷却と気液分離によって副生ガス中の前記成分が増加する。ガス分離膜Sの透過ガスの純度が基準値から余裕があるとき、副生ガスの一部を添加することが可能となる。前記成分Aの有効な回収を行うことができる。減量に際しても、上記1次圧力P1の制御の結果としての透過性ガスの濃度の変化に応じて添加ガス流量F1を調整することによって、高い回収率を得ることができる。
【0037】
具体的には、信頼できる分析計がある場合には、AP3の位置に分析計を設置し、合流後の製品純度が規定値になるよう添加ガス流量F1を制御することができる。また、減量度の関数(例えば1次関数や折れ線関数など)により添加ガス流量F1を制御しても良い。さらに、詳細は省略するが、残留ガス中の成分Aの濃度と残留ガス圧力の相関関数を利用してガス分離膜の1次側での液化を避ける方法(特願2007−232918参照)を組み合わせることも有効である。以下の他の構成例においても同様である。
【0038】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第2構成例>
本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第2構成例(以下「本システム2」という)を図2に示す。副生ガスの一部を添加ガスとしてガス分離膜Sの2次側流路に添加する方法として、添加ガス流路Faをガス分離膜Sの透過側(2次側)に設けられた添加ガス導入部Sfに接合し、ガス分離膜S内部において添加ガスを透過ガスと混合するように構成される。透過ガスと混合しつつ2次側を進み透過ガス流路T1から添加ガスと透過ガスが混合した状態で取り出される。
【0039】
成分Aの濃度に関し、添加ガスの方が透過ガスより低いことが一般的であるので、ガス分離膜Sの2次側に添加ガスを導入すると、2次側の成分Aの分圧が低くなるので、成分Aの透過は起こり易くなる。つまり、成分Aの回収率を稼ぐことができるとともに、ガス分離膜Sの膜面積を小さくすることができる。このとき、ガス分離膜Sにおいて、1次側流れ(原料ガス流路Uo〜再生ガス流路G1)と2次側流れ(添加ガス流路Fa〜透過ガス流路T1)が膜モジュール(図示せず)を介して対向するが、両流れが直交・向流・並流するケースがあり得る。実際上は、分離効率の点から並流式が使われることは稀である。本システム2においては、向流式を用いることが好ましい。1次側流れにおいて、その流出口に近づくにつれて成分Aの濃度が低くなるため、透過のドライビンフォースを確保するのが困難になる。それを補償する観点から、向流式を用いると1次側流れの流出口に対向して2次側流れの流入口が配置されるため、この位置から成分Aの濃度の低い添加ガスを導入することが好ましいからである。
【0040】
ここで、ガス分離膜Sへ添加ガスを供給する流路に加熱手段(加熱部H)を設けることが好ましい。添加ガスは、直接透過ガスに合流するのでなく、加熱部Hで昇温後、ガス分離膜Sの添加ガス導入部Sfに導入する。添加ガスを形成する副生ガスは、第2冷却部C2および第2気液分離部D2において冷却されることから、ガス分離膜Sを適切な温度条件で機能させるために加温することが好適である。また、添加ガス中に液体のミストが含まれた場合には、ガス分離膜S自体の変質を齎すことがある。さらに、添加ガス中に凝縮性成分が含まれる場合には、第2冷却部C2での冷却温度での飽和蒸気圧を有することから、常温で液化を起こす可能性があり、加温によりこうした危険性を回避し、安定した条件でガス分離を行うことができる。
【0041】
〔本システム2を用いた制御方法例〕
本システム2は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造プロセスにおいては、上記(1)〜(9)の工程に加え、以下の処理工程によって構成される。
(10a)添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加する工程
(11a)透過ガスまたは透過ガスと添加ガスの混合ガスを製品ガスとする工程
ここで、上記第1構成例と同様、添加ガスの流量F1を制御して、製品ガス濃度および回収率を所望の範囲に調整する。
【0042】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第3構成例>
本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第3構成例(以下「本システム3」という)を図3に示す。基本的な構成は第1構成例と同様であるが、予め原料ガスの1次処理を行うことができるように、原料ガス流路Uoとガス分離膜Sの間に、第1冷却部C1、第1気液分離部D1、第1副生ガス流路G1、加熱部H、第1副生液流路L1、第1副生ガス流路G1、および第1副生液流路L1に設けられた第1液面検知部LC1と第1制御弁LCV1のいずれかが付加的に配設されて構成される。なお、第1構成例において、副生ガス流路G2、副生液流路L2、冷却部C2および気液分離部D2、液面検知部LC2および制御弁LCV2とした各部は、以下において、第2副生ガス流路G2等、それぞれの頭に「第2」を付して表すものとする。
【0043】
本システム3は、原料ガスにさらに多くの成分Bが含まれる場合、ミスト発生を防ぐために適用することが好ましい。原料ガスの1次冷却処理および1次気液分離処理によって、ガス分離膜Sへの供給ガス中の成分Aの濃度を高め成分Bの濃度を低めることができ、ガス分離膜Sによる選択的分離処理および残留ガスの2次冷却処理および2次気液分離処理の負荷の低減を図ることができる。また透過ガス中の成分Aの濃度も上がるので、2次気液分離処理後の成分Bの少ない第2副生ガスの一部を分岐し、添加ガスとして透過ガスと混合すると成分Aに関して、より高い回収率を得ることができる。
【0044】
このとき、原料ガスの1次処理ポイントは、図3に示すような第1冷却部C1の直前に限定されず、原料ガスの温度あるいはその露点などによって、破線a〜cで示すように、a:第1冷却部C1と第1気液分離部D1の中間、b:第1気液分離部D1と加熱部Hの間、あるいはc:加熱部Hとガス分離膜Sの間に設けることが可能である。なお、原料ガスがガス分離膜Sの特性に合せた所定の供給圧力の確保が難しい場合などにおいては、別途昇圧部(図示せず)を用いることも可能である。また、こうした構成は、以下の構成例においても同様に適用することができる。
【0045】
ここで、ガス分離膜Sへ原料ガスを供給する流路に加熱手段(加熱部H)を設けることが好ましい。ガス分離膜Sは、その特性と用途に応じて適切な温度でガス分離を行うことが必要である。また、原料ガス中に液体のミストが含まれた場合には、ガス分離膜S自体の変質を齎すことがある。また、原料ガス中に凝縮性成分が含まれる場合には、常温で液化を起こす可能性があり、この凝縮性成分が難透過性ガス(成分B)であるとき、ガス分離の進行に従い、ガス分離膜の1次側(非透過側)のガス中に成分Bが濃縮し液化する恐れがある。そのため、原料ガス流路Uoに設けられた第1冷却部C1によって例えば約40℃(夏季の条件)まで原料ガスを冷却し、第1気液分離部D1によって凝縮液化成分を分離後、加熱部Hにて加熱することにより、ガス分離膜Sでの液体ミストの生成の恐れを回避することができる。ただし、原料ガス中に含まれる高沸点成分が少量の場合には、第1冷却部C1をパスすることも可能であり、さらには第1気液分離部D1をパスすることも可能である(つまり、第1副生ガス流路G1への原料ガスの供給)。
【0046】
〔本システム3を用いた制御方法例〕
本システム3は、上記ガス成分および凝縮性成分の製造プロセスにおいては、上記(1)〜(10)の工程に加え、以下の1次処理工程のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせた工程によって構成される。
(1a)原料ガスの1次冷却処理を行う工程
(1b)原料ガスの1次気液分離処理を行う工程
(1c)1次気液分離処理により得られた成分Bが減少した第1副生ガスを抜き出す工程
(1d)1次気液分離処理により得られた主として成分Bからなる第1副生液を抜き出す工程
(1e)原料ガスあるいは第1副生ガスの加熱処理を行う工程
ここで、上記第1構成例と同様、添加ガスの流量F1を制御して、製品ガス濃度および回収率を所望の範囲に調整する。
【0047】
〔第3構成例の変形例〕
第3構成例の変形例を図4に示す。つまり、基本的な構成は、第3構成例と同様であるが、さらに、第1副生ガス流路G1に圧力調整手段PCro(圧力制御弁PCVoおよび圧力調節計PCo)を設けたシステムが構成される。原料ガスの減量操作においても、第1気液分離部D1の圧力をガス分離膜Sの1次圧力と独立に制御することが可能となるとともに、さらに高い圧力に制御するなど汎用性の高い制御が可能となる。また、第3構成例を含むこうした構成は、第2構成例に対しても適用可能であり、同様の作用・機能を有することができる。
【0048】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第4構成例>
本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第4構成例(以下「本システム4」という)を図5に示す。基本的な構成は、第1構成例と同様であるが、複数段のガス分離膜を用い、前段の第1ガス分離膜S1の第1残留ガス流路R1を後段の第2ガス分離膜S2の上流側に接続し、カスケード接続を形成したシステムを構成する。つまり、第1ガス分離膜S1の第1残留ガス流路R1を第2ガス分離膜S2の供給ガス流路に接続することによって、その第1透過ガス流路T1から第1透過ガスを取り出し、第2透過ガス流路T2から第2透過ガスを取り出すことが可能となる。また、図5では、副生ガス流路G2から分岐された添加ガス流路Faを第1透過ガス流路T1に接合し、添加ガスを第1透過ガスと混合するように構成している。
【0049】
カスケードサイクルは、各段の透過ガス圧力やガス分離膜の膜の材質など変えることにより複数の純度条件の透過ガスを得る場合に回収率を上げ得るとの利点から良く利用される。ここで、前段のガス分離膜からの残留ガス中には非凝縮性のガスが比較的多く含まれていることから、残留ガスの露点は比較的低く成分Bが液化する可能性は低く、順次後段のガス分離膜に供給されるに従い、成分Bが濃縮され効率よく回収することができる。このとき、第1ガス分離膜S1と第2ガス分離膜S2の膜面積を選択することによって、第2残留ガス中の成分Bの濃度を調整して、効率的に液化を防止することが可能である。
【0050】
カスケードサイクルに基づく機能に加え、濃縮されたガスを透過ガスへ添加し、製品ガスとして取り出すことが可能であり、減量処理に対しても、製品ガス中の所望の成分濃度を高い回収率で形成することが可能となる。また、減量操作時の処理条件の変化にも柔軟に対応することが可能となる。
【0051】
このとき、図5では、第1ガス分離膜S1の透過ガスと添加ガスを混合する場合を例示したが、透過ガスと添加ガスの混合はこれに限定されず、複数段のいずれの透過ガスに対しても添加が可能である。また、カスケード方式を利用して、各段のガス分離膜の1次圧力を順次低く制御することにより、透過性ガスの回収率を上げることが可能となる。
【0052】
〔本システム4の変形例〕
本システム4の変形例を図6および図7に示す。つまり、基本的な構成は、第4構成例と同様であるが、図6においては、第1残留ガス流路R1に圧力調整手段PCr2(圧力制御弁PCV2および圧力調節計PC2)を設けたシステムが構成される。原料ガスの減量操作においても、第1気液分離部D1の圧力および第1ガス分離膜S1の1次圧力P1を第2ガス分離膜S2の1次圧力P2と独立に制御することが可能となる。また、図7においては、第1残留ガス流路R1に圧力調整手段PCr2を設けるとともに、さらに、第1副生ガス流路G1に圧力調整手段PCro(圧力制御弁PCVoおよび圧力調節計PCo)を設けたシステムが構成される。原料ガスの減量操作においても、第1気液分離部D1の圧力を第1,第2ガス分離膜S1,S2の1次圧力と独立に制御することが可能となるとともに、さらに高い圧力に制御することなど汎用性の高い制御が可能となる。なお、図7における原料ガスと循環ガスとの混合ポイントは、破線a,bで示すように、(a)第1冷却部C1と第1気液分離部D1の中間、(b)第1気液分離部D1と圧力調整手段PCroの中間に設けることができる。
【0053】
<本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第5構成例>
本発明に係るガス成分および凝縮性成分の製造システムの第5構成例(以下「本システム5」という)を図8に示す。第2構成例と同様の構成とし、図8では、添加ガス流路Faを第2ガス分離膜S2の透過側(2次側)に設けられた添加ガス導入部Sfに接合し、第2ガス分離膜S2内部において添加ガスを透過ガスと混合するように構成される。カスケードサイクルに基づく機能に加え、副生ガスの一部を添加ガスとして第2ガス分離膜S2の2次側に導入することによって、成分Aのより高い純度および回収率を確保することができる。また、減量操作時の処理条件の変化にも柔軟に対応することが可能となる。
【0054】
このとき、図8では、第2ガス分離膜S2の透過ガスと添加ガスを混合する場合を例示したが、透過ガスと添加ガスの混合はこれに限定されず、複数段のいずれの透過ガスに対しても添加が可能である。また、カスケード方式を利用して、各段のガス分離膜の1次圧力を順次低く制御することにより、透過性ガスの回収率を上げることが可能となる。さらに、上記〔本システム4の変形例〕において開示された構成・機能は、本システム5においても適用可能であり、同等の技術的効果を得ることができる。
【実施例】
【0055】
次に、上記の構成例に関して、水素ガス製造プロセスを設定し、透過ガスの純度や回収率の数値解析を行った結果を以下に示す。
【0056】
(1)解析条件
(1−1)原料ガスの組成を表1に示す。
【表1】
(1−2)解析に用いたガス分離膜は、第1および第2ガス分離膜ともに、素材をポリアラミド系膜とした。
(1−3)原料ガスのガス分離膜入口温度は、90℃とした。
(1−4)残留ガスのガス分離膜出口における露点は、80℃以下を基準とする。
(1−5)第1,第2冷却部として水冷却方式を用い、40℃まで冷却する。
(1−6)透過ガスの圧力は、ガス分離膜出口において10bar(abs)とした。カスケード方式の場合も、第1,第2ガス分離膜の透過ガスの圧力は等しくした。
(1−7)原料ガスの流量の最大値は、10,000Nm3/hとし、以下「流量」は、この最大値に対する割合(%)によって表示した。
(1−8)本システムの圧力損失
(i)原料ガスの流量が最大(100%)のとき:第2冷却器、第2気液分離部の圧力損失は0.2barと仮定した。
(ii)減量時の圧力損失:本システムの圧力損失は、上記100%の場合を基準として、ρV2に比例して変化するものと仮定して評価した。ここにρ(kg/m3)はガスの密度、V(m3/h)は体積流量を表す。
(1−9)本システムの圧力基準点
(i)原料ガス流量が最大のとき:ガス分離膜の供給圧力は、30.8bar(abs)を基準とした。
(ii)減量操作時:制御方法に依存する。ここでは、ガス分離膜が1段のときは、残留ガス流路の圧力(第2気液分離部からの第2副生ガスの圧力で代表した)を基準とし、ガス分離膜を2段用いたカスケードサイクルの場合は、第1残留ガス流路の圧力(第1残留ガス流路の第1ガス分離膜直近の圧力で代表した)、または第2残留ガス流路の圧力(第2気液分離部からの第2副生ガスの圧力で代表した)を基準とした。
(1−10)透過ガスあるいは製品ガスの純度は、95mol%以上を基準とした。
【0057】
(2)解析結果
解析結果を〔実施例1〕〜〔実施例3〕に示す。
【0058】
〔実施例1〕
(i)検討条件
図1に示すような1段のガス分離膜を利用したシステムで、製品純度がほぼ基準値95%になるように添加ガスの流量を(製品の水素濃度を分析計で検出した場合を模擬して)制御した場合を解析した。表1の組成の原料ガスについて、ガス分離膜の残留ガス圧力を減量度の1次式で変更して減量操作を行うとした。また、ガス分離膜の面積は、原料ガス流量が100%の時に、残留ガス出口における露点が約80℃になるよう設定した。
(ii)検討結果
表2に示すように、減量が進行する伴い、回収率は顕著に上昇した。比較のため、原料ガス流量100%のときに添加ガス流量を0とすると、回収率は79.39%に低下した。なお、この圧力レベルでは原料ガスを40℃まで冷却しても凝縮は起こらなかった。
【表2】
【0059】
〔実施例2〕
(i)検討条件
図1に示すような1段のガス分離膜を利用したシステムで、表1に示す組成の原料ガスについて、ガス分離膜の残留ガス圧力および添加ガス流量を減量度の1次式で変更して減量操作を行った場合を解析した。ガス分離膜の面積は、〔実施例1〕に合わせた。
(ii)検討結果
結果は、表3に示すように、所望の水素の回収率および純度を得ることができた。
【表3】
【0060】
〔実施例3〕
(i)検討条件
図5に示すようなガス分離膜を2段利用したカスケード方式のシステムで、表1に示す組成の原料ガスについて、各段のガス分離膜の残留ガス圧力および添加ガス流量を減量度の1次式で変更して減量操作を行った場合を解析した。第1、第2ガス分離膜の面積は、それぞれ、〔実施例1〕の場合の100%、50%に採った。
(ii)検討結果
表4に示すように、減量が進行するに応じて回収率は顕著に上昇した。また、〔実施例1〕および〔実施例2〕に比較し、高い回収率が得られた。比較のため、原料ガス流量100%のときに添加ガス流量を0とすると、回収率は86.49%に低下した。
【表4】
【0061】
(3)まとめ
上記の結果に示すように、実施例1〜3のいずれについても、製品ガスの純度に対する高い安定性と高い回収率を確保することができた。
【図面の簡単な説明】
【0062】
【図1】本発明に係る製造システムの基本の構成例を示す説明図
【図2】本発明に係る製造システムの第2の構成例を示す説明図
【図3】本発明に係る製造システムの第3の構成例を示す説明図
【図4】本発明に係る製造システムの第3構成例の変形例を示す説明図
【図5】本発明に係る製造システムの第4の構成例を示す説明図
【図6】本発明に係る製造システムの第4構成例の変形例を示す説明図
【図7】本発明に係る製造システムの第4構成例の変形例を示す説明図
【図8】本発明に係る製造システムの第5の構成例を示す説明図
【図9】従来技術に係る製造システムの基本構成を例示する説明図
【図10】従来技術に係る製造システムの他の1の構成を例示する説明図
【図11】従来技術に係る製造システムの他の2の構成を例示する説明図
【符号の説明】
【0063】
APo,AP1,AP2,AP3 分析ポート
C1,C2 (第1,第2)冷却部
D1,D2 (第1,第2)気液分離部
Fa 添加ガス流路
FC1 流量調節計
FCb1 流量調整手段
FCV1 流量制御弁
G1,G2 (第1,第2)副生ガス流路
H 加熱部
L1,L2 (第1,第2)副生液流路
LC1,LC2 (第1,第2)液面検知部
LCV1,LCV2 (第1,第2)制御弁
P1 (第1)ガス分離膜の1次圧力
PCo,PC1,PC2 圧力調節計
PCro,PCr1,PCr2 圧力調整手段
PCVo,PCV1,PCV2 圧力制御弁
R1,R2 (第1,第2)残留ガス流路
S、S1,S2 (第1,第2)ガス分離膜
Sf 添加ガス導入部
T1,T2 (第1,第2)透過ガス流路
Uo 原料ガス流路
【特許請求の範囲】
【請求項1】
複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜による分離機能と、前記ガス分離膜の後段に設けられた少なくとも1つの各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離機能を利用し、前記ガス分離膜の分離機能によって得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離機能によって得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および前記成分Bが減少した副生ガスを生成する方法であって、少なくとも下記の工程
(1)前記原料ガスを前記ガス分離膜に供給する工程
(2)前記ガス分離膜の1次圧力あるいはこれと連動するプロセス値のいずれかを調整する工程
(3)前記ガス分離膜において、透過ガスと残留ガスに分離する工程
(4)前記ガス分離膜に対し前記成分Aに富んだ透過ガスを製品ガスとして抜き出す工程
(5)前記ガス分離膜に対し難透過性ガスに富んだ残留ガスを抜き出す工程
(6)前記残留ガスの冷却処理および気液分離処理を行う工程
(7)前記気液分離処理により得られた前記成分Bに富んだ副生液を抜き出す工程
(8)前記気液分離処理により得られた前記成分Bが減少した副生ガスを抜き出す工程
(9)前記副生ガスの一部を、添加ガスとして分岐する工程
(10)前記添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加する工程
(11)透過ガスまたは透過ガスと添加ガスの混合ガスを製品ガスとする工程
を有することを特徴とするガス成分および凝縮性成分の製造方法。
【請求項2】
前記原料ガスを、
(1a)前記原料ガスの1次冷却処理を行う工程
(1b)前記原料ガスの1次気液分離処理を行う工程
(1c)前記1次気液分離処理により得られた前記成分Bが減少した第1副生ガスを抜き出す工程
(1d)前記1次気液分離処理により得られた主として前記成分Bからなる第1副生液を抜き出す工程
(1e)前記原料ガスあるいは第1副生ガスの加熱処理を行う工程
のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせた工程を経てから前記ガス分離膜へ供給することを特徴とする請求項1記載のガス成分および凝縮性成分の製造方法。
【請求項3】
減量操作に際して、減量度に応じて前記ガス分離膜の1次圧力、2次圧力あるいはこれらと連動するプロセス値のいずれかを調整するとともに、前記添加ガスの流量を減量度に応じて調整することを特徴とする請求項1または2記載のガス成分および凝縮性成分の製造方法。
【請求項4】
前記ガス分離膜を複数段利用し、前段のガス分離膜の残留ガスを後段のガス分離膜に供給し、カスケード接続を形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガス成分および凝縮性成分の製造方法。
【請求項5】
複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離部を有し、前記ガス分離膜から得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離部から得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造システムであって、少なくとも下記の構成要素
(a)前記原料ガスが供給される原料ガス流路
(b)前記透過ガスと残留ガスに分離するガス分離膜
(c)前記ガス分離膜から透過される透過ガスが取り出される透過ガス流路
(d)前記ガス分離膜からの残留ガスが供出される残留ガス流路
(e)前記残留ガス流路に配設された冷却部および気液分離部
(f)前記気液分離部の気相部からの副生ガスが供出される副生ガス流路
(g)前記気液分離部の液相部から副生液が取り出される副生液流路
(h)前記副生ガス流路を分岐して形成される添加ガス流路
(j)前記分岐以降の前記副生ガス流路に配設された圧力調整部あるいは流量調整部
(k)前記添加ガス流路に設けられた流量調整部
(m)前記添加ガス流路と透過ガス流路が接合して形成される製品ガス流路
を有することを特徴とするガス成分および凝縮性成分の製造システム。
【請求項6】
複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離部を有し、前記ガス分離膜から得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離部から得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造システムであって、少なくとも下記の構成要素
(a)前記原料ガスが供給される原料ガス流路
(b)前記透過ガスと残留ガスに分離するガス分離膜
(c)前記ガス分離膜から透過される透過ガスが取り出される透過ガス流路
(d)前記ガス分離膜からの残留ガスが供出される残留ガス流路
(e)前記残留ガス流路に配設された冷却部および気液分離部
(f)前記気液分離部の気相部からの副生ガスが供出される副生ガス流路
(g)前記気液分離部の液相部から副生液が取り出される副生液流路
(h)前記副生ガス流路を分岐して形成される添加ガス流路
(j)前記分岐以降の前記副生ガス流路に配設された圧力調整部あるいは流量調整部
(k’)前記添加ガス流路に設けられた流量調整部、または流量調整部および加熱部
(n)前記ガス分離膜の2次側に前記添加ガス流路と接合する添加ガス導入部
を有することを特徴とするガス成分および凝縮性成分の製造システム。
【請求項7】
前記原料ガス流路に、
(aa)第1冷却部
(ab)第1気液分離部
(ac)前記第1気液分離部の気相部から副生ガスが取り出される第1副生ガス流路
(ad)前記第1気液分離部の液相部から副生液が取り出される第1副生液流路
(ae)前記原料ガス流路あるいは第1副生ガス流路に設けられた加熱部
のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせが配設されることを特徴とする請求項5または6記載のガス成分および凝縮性成分の製造システム。
【請求項8】
前記ガス分離膜を複数段利用し、前段のガス分離膜の残留ガス流路を後段のガス分離膜の供給ガス流路に接続し、カスケード接続を形成することを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載のガス成分および凝縮性成分の製造システム。
【請求項1】
複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜による分離機能と、前記ガス分離膜の後段に設けられた少なくとも1つの各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離機能を利用し、前記ガス分離膜の分離機能によって得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離機能によって得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および前記成分Bが減少した副生ガスを生成する方法であって、少なくとも下記の工程
(1)前記原料ガスを前記ガス分離膜に供給する工程
(2)前記ガス分離膜の1次圧力あるいはこれと連動するプロセス値のいずれかを調整する工程
(3)前記ガス分離膜において、透過ガスと残留ガスに分離する工程
(4)前記ガス分離膜に対し前記成分Aに富んだ透過ガスを製品ガスとして抜き出す工程
(5)前記ガス分離膜に対し難透過性ガスに富んだ残留ガスを抜き出す工程
(6)前記残留ガスの冷却処理および気液分離処理を行う工程
(7)前記気液分離処理により得られた前記成分Bに富んだ副生液を抜き出す工程
(8)前記気液分離処理により得られた前記成分Bが減少した副生ガスを抜き出す工程
(9)前記副生ガスの一部を、添加ガスとして分岐する工程
(10)前記添加ガスをガス分離膜の2次側流路に添加する工程
(11)透過ガスまたは透過ガスと添加ガスの混合ガスを製品ガスとする工程
を有することを特徴とするガス成分および凝縮性成分の製造方法。
【請求項2】
前記原料ガスを、
(1a)前記原料ガスの1次冷却処理を行う工程
(1b)前記原料ガスの1次気液分離処理を行う工程
(1c)前記1次気液分離処理により得られた前記成分Bが減少した第1副生ガスを抜き出す工程
(1d)前記1次気液分離処理により得られた主として前記成分Bからなる第1副生液を抜き出す工程
(1e)前記原料ガスあるいは第1副生ガスの加熱処理を行う工程
のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせた工程を経てから前記ガス分離膜へ供給することを特徴とする請求項1記載のガス成分および凝縮性成分の製造方法。
【請求項3】
減量操作に際して、減量度に応じて前記ガス分離膜の1次圧力、2次圧力あるいはこれらと連動するプロセス値のいずれかを調整するとともに、前記添加ガスの流量を減量度に応じて調整することを特徴とする請求項1または2記載のガス成分および凝縮性成分の製造方法。
【請求項4】
前記ガス分離膜を複数段利用し、前段のガス分離膜の残留ガスを後段のガス分離膜に供給し、カスケード接続を形成することを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のガス成分および凝縮性成分の製造方法。
【請求項5】
複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離部を有し、前記ガス分離膜から得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離部から得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造システムであって、少なくとも下記の構成要素
(a)前記原料ガスが供給される原料ガス流路
(b)前記透過ガスと残留ガスに分離するガス分離膜
(c)前記ガス分離膜から透過される透過ガスが取り出される透過ガス流路
(d)前記ガス分離膜からの残留ガスが供出される残留ガス流路
(e)前記残留ガス流路に配設された冷却部および気液分離部
(f)前記気液分離部の気相部からの副生ガスが供出される副生ガス流路
(g)前記気液分離部の液相部から副生液が取り出される副生液流路
(h)前記副生ガス流路を分岐して形成される添加ガス流路
(j)前記分岐以降の前記副生ガス流路に配設された圧力調整部あるいは流量調整部
(k)前記添加ガス流路に設けられた流量調整部
(m)前記添加ガス流路と透過ガス流路が接合して形成される製品ガス流路
を有することを特徴とするガス成分および凝縮性成分の製造システム。
【請求項6】
複数の成分を含有する原料ガスに対して、選択的透過性を有するガス分離膜と各成分の凝縮性の相違に基づく気液分離部を有し、前記ガス分離膜から得られる易透過性かつ非凝縮性の成分Aに富んだ透過ガスと、前記気液分離部から得られる難透過性かつ凝縮性の成分Bに富んだ副生液および成分Bが減少した副生ガスを生成する製造システムであって、少なくとも下記の構成要素
(a)前記原料ガスが供給される原料ガス流路
(b)前記透過ガスと残留ガスに分離するガス分離膜
(c)前記ガス分離膜から透過される透過ガスが取り出される透過ガス流路
(d)前記ガス分離膜からの残留ガスが供出される残留ガス流路
(e)前記残留ガス流路に配設された冷却部および気液分離部
(f)前記気液分離部の気相部からの副生ガスが供出される副生ガス流路
(g)前記気液分離部の液相部から副生液が取り出される副生液流路
(h)前記副生ガス流路を分岐して形成される添加ガス流路
(j)前記分岐以降の前記副生ガス流路に配設された圧力調整部あるいは流量調整部
(k’)前記添加ガス流路に設けられた流量調整部、または流量調整部および加熱部
(n)前記ガス分離膜の2次側に前記添加ガス流路と接合する添加ガス導入部
を有することを特徴とするガス成分および凝縮性成分の製造システム。
【請求項7】
前記原料ガス流路に、
(aa)第1冷却部
(ab)第1気液分離部
(ac)前記第1気液分離部の気相部から副生ガスが取り出される第1副生ガス流路
(ad)前記第1気液分離部の液相部から副生液が取り出される第1副生液流路
(ae)前記原料ガス流路あるいは第1副生ガス流路に設けられた加熱部
のうちのいずれか、あるいはいくつかを組み合わせが配設されることを特徴とする請求項5または6記載のガス成分および凝縮性成分の製造システム。
【請求項8】
前記ガス分離膜を複数段利用し、前段のガス分離膜の残留ガス流路を後段のガス分離膜の供給ガス流路に接続し、カスケード接続を形成することを特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載のガス成分および凝縮性成分の製造システム。
【図1】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【図2】
【図3】
【図4】
【図5】
【図6】
【図7】
【図8】
【図9】
【図10】
【図11】
【公開番号】特開2009−61420(P2009−61420A)
【公開日】平成21年3月26日(2009.3.26)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2007−233029(P2007−233029)
【出願日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【出願人】(000109428)日本エア・リキード株式会社 (53)
【Fターム(参考)】
【公開日】平成21年3月26日(2009.3.26)
【国際特許分類】
【出願日】平成19年9月7日(2007.9.7)
【出願人】(000109428)日本エア・リキード株式会社 (53)
【Fターム(参考)】
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