説明

ガス濃度測定装置およびガス濃度測定方法

【課題】回路規模の増大を抑制しつつ、ガス濃度の計測精度を向上させる。
【解決手段】2倍波ずらし周波数信号発生部45は、変調周波数fmの2倍波周波数からずらし周波数Δfだけずらされた周波数(2f+Δf)を持つ(2f+Δf)参照信号を発生し、検波器46は、2倍周波数信号発生部45にて発生された(2f+Δf)参照信号とバンドパスフィルタ44からの出力を合成することで、バンドパスフィルタ44からの出力から2f成分を生成し、ローパスフィルタ47にて1f以上の高域成分を十分減衰させ、ピークホールド回路49にてピークホールドされた値からΔf成分をローパスフィルタ50にて抽出し、2f成分検出信号として出力する。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
本発明はガス濃度測定装置およびガス濃度測定方法に関し、特に、周波数変調されたレーザ光を用いてガスの濃度を測定する方法に適用して好適なものである。
【背景技術】
【0002】
気体状のガス分子にはそれぞれ固有の光吸収スペクトルが有ることが知られており、ガス分子の吸収線の中心周波数における減衰量はガスの濃度に比例する。このため、ガス分子の吸収線の中心周波数に一致した発振周波数をもつ半導体レーザ光をガスに照射し、その時のレーザ光の減衰量を測定することで、ガスの濃度を推定することができる(特許文献1)。
この原理を発展させたものとして2波長差分方式及び周波数変調方式があり、2波長差分方式では、半導体レーザの発振周波数はTHzオーダの信号であることから、複雑な信号処理を行うことができないのに対して、周波数変調方式では、数kHzのベースバンド領域で信号処理を行うことができるという利点がある。
【0003】
この周波数変調方式では、中心周波数fc、変調周波数fmで半導体レーザの出力が周波数変調され、測定対象ガスに照射される。なお、周波数変調とは、半導体レーザに供給されるドライブ電流を正弦波状にすることである。そして、半導体レーザは、温度や電流によって出射光の波長が変化するので、半導体レーザに供給されるドライブ電流を正弦波状にすることで、半導体レーザの出射光の波長を変調することができる。ここで、測定対象ガスの吸収線は変調周波数に対してほぼ2次関数となっているので、この吸収線が弁別器の役割を果たし、変調周波数fmの2倍の周波数の成分(2倍波成分)が得られる。そして、測定対象ガスの濃度が高いほどレーザ光の吸収量も大きくなるので、2倍波成分の強度も強くなり、この2倍波成分を検出することで、測定対象ガスの濃度を測定することができる。なお、以下の説明では、変調周波数fmを1f、変調周波数fmの2倍波周波数を2fとも呼び、2倍波成分を2f成分とも呼ぶ。
【0004】
図11は、従来のガス濃度測定装置の受信側の概略構成を示すブロック図である。
図11において、ガス濃度測定装置の受信側には、半導体レーザから出射されたレーザ光を検出するフォトダイオード111、フォトダイオード111から出力される電流を電圧に変換するI−V変換回路112、I−V変換回路112から出力された電圧を増幅する増幅器113、増幅器113を介して出力された信号から変調周波数の2倍波成分を抽出するバンドパスフィルタ114、変調周波数fmの2倍波周波数を持つ2f参照信号を発生する2倍波周波数信号発生部115、2f参照信号を用いることで、バンドパスフィルタ114の出力から2f成分を抽出する検波器116、検波器116の出力から不要な高域成分を除去するローパスフィルタ117、ローパスフィルタ117から出力された電圧を増幅する増幅器118が設けられている。
【0005】
なお、2f参照信号は、レーザ光の変調に使用した信号と一定の位相関係を保つ必要がある。一定の位相関係とは、位相そのものはずれていてもよいが、その位相のずれ量が時間とともに変化しないということである。このような一定の位相関係を保つ方法として、送信側と受信側とで同一の原発振クロックを用いて分周する方法、PLL(Phase Locked Loop)などを用いて一方の信号に他方の信号を同期させる方法などがある。一定の位相関係が保たれた信号を用いない場合、周波数がごくわずかでも異なっていたり、位相関係が徐々にずれたりすることで、検出信号にふらつきが発生する。
【0006】
また、検波器116としては、ミキサを用いることができ、受信信号と参照信号の乗算処理を行うことで、周波数変換を行うことができる。なお、検出信号と参照信号の周波数が同じ場合、PSD(Phase Sensitive Detector)を用いるようにしてもよい。
検波器116の検波方式としては、参照信号の位相に応じてアナログスイッチで信号のオン/オフまたは信号極性を切り替える方式、トランスとダイオードからなる回路にてスイッチングを行うことで信号極性を切り替える方式(DBM:Double Balanced Mixer)、アナログ乗算回路を用いる方式などを用いることができる。
【0007】
そして、例えば、NHガスの濃度を測定する場合、周波数変調されたレーザ光がNHガスを通過すると、NHガスによる吸収量に対応した減衰を受けた後、フォトダイオード111に入射し、フォトダイオード111にてレーザ光が検出される。そして、フォトダイオード111にて検出された電流はI−V変換回路112にて電圧に変換され、増幅器113にて増幅された後、バンドパスフィルタ114にて変調周波数の2倍波成分が抽出され、検波器116に入力される。そして、2倍周波数信号発生部115にて発生された2f参照信号とバンドパスフィルタ114からの出力が検波器116にて合成されることにより、バンドパスフィルタ114からの出力から2f成分が抽出される。そして、検波器116にて抽出された2f成分は、ローパスフィルタ117にて不要な高域成分が除去された後、増幅器118にて増幅され、2f成分検出信号として出力される。
【0008】
ここで、フォトダイオード111にて受光された受光信号は、以下の(1)式で表すことができる。
f(t)=Asin(ωt+φ)+Asin(2ωt+φ
+Asin(3ωt+φ)+・・・ (1)
ただし、ω=2πf、fは1fの周波数である。また、φ、φ、φは、2f参照信号の位相を0とした時の受光信号と2f参照信号との位相差である。
【0009】
(1)式において、右辺の第1項は、1fの周波数変調によって電流が変調されたことによる信号強度の変化を示す。上述したように周波数変調を電流で行っているが、電流を変化させることで波長が変化するとともに、電流の変化によって発光信号の強度も変化する。右辺の第2項は、ガスの吸収スペクトルによって生じる2倍波周波数成分、右辺の第3項は3倍波周波数成分、右辺の第4項は4倍波周波数成分である。なお、ガスによる吸収量は一般的には微弱なものであり、受信信号成分の大部分が右辺の第1項の1f成分である。
【0010】
検波器116では、2f参照信号が受信信号に掛け合わせられる処理が行われるので、1fの周波数をf、ω=2πf、2f参照信号をsin(2ωt)とすると、検波器116にて生成された信号は、以下の(2)式で表すことができる。
f(t)・sin(2ωt)=Asin(ωt+φ)・sin(2ωt)
+Asin(2ωt+φ)・sin(2ωt)
+Asin(3ωt+φ)・sin(2ωt)+・・・
=−1/2A[cos{(ω+2ω)t+φ
−cos{(ω−2ω)t+φ}]
−1/2A[cos{(2ω+2ω)t+φ
−cos{(2ω−2ω)t+φ}]
−1/2A[cos{(3ω+2ω)t+φ
−cos{(3ω−2ω)t+φ}]+・・・ (2)
【0011】
ここで、ローパスフィルタ117にてω以上の周波数成分を十分に減衰させると、ローパスフィルタ117から出力される信号は、以下の(3)式で表すことができる。
I=1/2Acosφ (3)
このように、2f成分が直流に周波数変換され、増幅器118から出力される2f成分検出信号は、周波数変調信号と2f参照信号との位相差φの値が反映される。例えば、周波数変調信号と2f参照信号との位相差φの値がπ/2の場合、ガスの濃度に関わらず検波器116の出力は0となる。従って、2f成分を正しく検出するためには、以下のいずれかの方法を採る必要がある。
【0012】
第1の方法では、周波数変調信号と2f参照信号との位相差が最適化されるように位相を予め調整する方法である。位相の調整方法としては、アナログ移相回路を用いる方法や、2fよりも高い原発振信号を分周して周波数変調用の1fおよび2f参照信号の2fをデジタル回路にて生成する時にデジタル信号の位相をカウンタなどで調整する方法がある。
2f成分を正しく検出するための第2の方法は、検波器を2系統分設け、直交検波を用いる方法である。
【0013】
図12は、従来のガス濃度測定装置の受信側のその他の概略構成を示すブロック図である。
図12において、ガス濃度測定装置の受信側には、半導体レーザから出射されたレーザ光を検出するフォトダイオード121、フォトダイオード121から出力される電流を電圧に変換するI−V変換回路122、I−V変換回路122から出力された電圧を増幅する増幅器123、増幅器123を介して出力された信号から変調周波数の2倍波成分を抽出するバンドパスフィルタ124、変調周波数fmの2倍波周波数を持つ2f(sin)参照信号を発生する2倍波周波数信号発生部125a、2f(sin)参照信号を用いることで、バンドパスフィルタ124の出力から2f同相成分Iを抽出する検波器126a、検波器126aの出力から不要な高域成分を除去するローパスフィルタ127a、ローパスフィルタ127aから出力された電圧を増幅する増幅器128a、2f(sin)参照信号に対して90°だけ位相のずれた2f(cos)参照信号を発生する2倍波周波数信号発生部125b、2f(cos)参照信号を用いることで、バンドパスフィルタ124の出力から2f直交成分Qを抽出する検波器126b、検波器126bの出力から不要な高域成分を除去するローパスフィルタ127b、ローパスフィルタ127bから出力された電圧を増幅する増幅器128b、2f同相成分Iと2f直交成分Qとに基づいて2f成分検出信号を算出する演算回路129が設けられている。
【0014】
そして、例えば、NHガスの濃度を測定する場合、周波数変調されたレーザ光がNHガスを通過すると、NHガスによる吸収量に対応した減衰を受けた後、フォトダイオード121に入射し、フォトダイオード121にてレーザ光が検出される。そして、フォトダイオード121にて検出された電流はI−V変換回路122にて電圧に変換され、増幅器123にて増幅された後、バンドパスフィルタ124にて変調周波数の2倍波成分が抽出され、検波器126a、126bに入力される。
【0015】
そして、バンドパスフィルタ124からの出力が検波器126aに入力されると、2倍周波数信号発生部125aにて発生された2f(sin)参照信号とバンドパスフィルタ124からの出力が検波器126aにて合成されることにより、バンドパスフィルタ124からの出力から2f同相成分Iが抽出される。そして、検波器126aにて抽出された2f同相成分は、ローパスフィルタ127aにて不要な高域成分が除去された後、増幅器128aにて増幅され、演算回路129に出力される。
【0016】
また、バンドパスフィルタ124からの出力が検波器126bに入力されると、2倍周波数信号発生部125bにて発生された2f(cos)参照信号とバンドパスフィルタ124からの出力が検波器126bにて合成されることにより、バンドパスフィルタ124からの出力から2f直交成分Qが抽出される。そして、検波器126bにて抽出された2f直交成分は、ローパスフィルタ127bにて不要な高域成分が除去された後、増幅器128bにて増幅され、演算回路129に出力される。
そして、演算回路129において、2f同相成分Iと2f直交成分Qとに基づいて2f成分検出信号が算出され、外部に出力される。
【0017】
ここで、2f(sin)参照信号をsin(2ωt)、2f(cos)参照信号をcos(2ωt)とし、検波器126bにて生成された信号をローパスフィルタ127bにてω以上の周波数成分を十分に減衰させると、ローパスフィルタ127bから出力される信号は、以下の(4)式で表すことができる。
I=1/2Asinφ (4)
そして、(3)式および(4)式を用いることで、以下の(5)式が得られる。
+Q=1/4A(cosφ+sinφ)=1/4A
=2√(I+Q) (5)
従って、(5)式の演算を演算回路129にて行わせることで、受光信号と参照信号との位相に関係なく、ガス濃度に対応した2f成分検出信号を得ることができる。
【0018】
図13は、図12のガス濃度測定装置の受信側の各部における信号波形を示す図である。なお、横軸は時間軸、縦軸は信号振幅値を示す。また、図13(c)〜図13(e)は、一部分の波形を時間軸拡大したものである。また、図13(d)、図13(e)は、直交検波の2系統の信号のうち片側の波形を示す。ここで、図13では、送信側の変調方式として、所定の振幅幅で1fの周波数にて変調しながら、変調幅の中心波長を徐々に変えて掃引する方法を用い、その時の各部における信号波形をシミュレーションで算出した。このシミュレーションでは、レーザ光の特性と測定対象ガスの吸光波形は実測データを用いた。また、測定対象ガスとして、NHガスを用いた。
【0019】
図13において、NHガスによる吸収を受けたレーザ光がフォトダイオード121にて受光されることで、図13(a)の受光信号波形が得られ、図13(a)の受光信号波形の時間軸を拡大すると、図13(c)の波形が得られる。そして、図13(c)の波形を2f=300kHzの参照信号と掛け合わせると、図13(d)の波形が得られ、図13(d)の高調波成分をローパスフィルタにて減衰させることで、図13(e)の波形が得られ、2f成分が直流成分に変換される。そして、図13(e)の信号の直交検波の両側について二乗平均を取ることにより、図13(b)の2f成分検出信号を得ることができ、2f成分検出信号の大きさはガス濃度に比例することから、2f成分検出信号からガス濃度を算出することができる。
【特許文献1】特開平10−142148号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【0020】
しかしながら、従来のガス濃度測定装置では、2f成分を直流成分に周波数変換するため、回路系のDCオフセット成分やDCオフセットドリフトが2f成分検出信号に直接影響を与え、計測精度が劣化するという問題があった。
また、送信側の1f信号と、受信信号から2f成分を検出するための2f参照信号との間に一定の位相関係が要求されるので、送信側と受信側とで信号の受け渡しをする必要があり、信号線を引き回して2f参照信号の基準となる信号を受け渡すか、あるいは受信信号の1f成分からPLLなどの方法で2f参照信号を生成する必要があった。
【0021】
また、2f成分を正しく検出するために位相を予め調整する方法では、回路系の温度特性や経時変化により位相が変化すると、2f成分検出信号がドリフトしたり、2f成分検出信号の絶対値が経時変化を起こすという問題があった。
一方、2f成分を正しく検出するために直交検波を用いる方法では、検波器以降の回路が2系統分だけ必要となり、回路規模が増大し、コストアップを招くという問題があった。
そこで、本発明の目的は、回路規模の増大を抑制しつつ、ガス濃度の計測精度を向上させることが可能なガス濃度測定装置およびガス濃度測定方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【0022】
上述した課題を解決するために、請求項1記載のガス濃度測定装置によれば、周波数変調されたレーザ光を検出する光検出部と、前記光検出部にて検出された受光信号の変調周波数の2倍の周波数から所定のずらし周波数だけずらされた2倍波ずらし周波数参照信号を発生する2倍波ずらし周波数信号発生部と、前記2倍波ずらし周波数信号発生部にて発生された2倍波ずらし周波数参照信号を前記受光信号に掛け合わせることにより、前記受光信号の2倍波成分を周波数変換する周波数変換部と、前記周波数変換部にて周波数変換された信号に基づいて、前記レーザ光が透過した測定対象ガスの濃度を算出するガス濃度算出部とを備えることを特徴とする。
【0023】
また、請求項2記載のガス濃度測定装置によれば、前記周波数変換部にて周波数変換された信号から前記変調周波数以上の成分を減衰させる第1のローパスフィルタと、前記第1のローパスフィルタの出力をピークホールドするピークホールド回路と、前記ピークホールド回路の出力から前記ずらし周波数成分を抽出する第2のローパスフィルタとを備えることを特徴とする。
【0024】
また、請求項3記載のガス濃度測定装置によれば、前記周波数変換部にて周波数変換された信号から前記変調周波数以上の成分を減衰させる第1のローパスフィルタと、前記第1のローパスフィルタの出力を全波整流する全波整流器と、前記全波整流器の出力から前記ずらし周波数成分を抽出する第2のローパスフィルタとを備えることを特徴とする。
また、請求項4記載のガス濃度測定装置によれば、前記ずらし周波数は、2倍波成分の時間的変化として検出される周波数の10倍以上であることを特徴とする。
また、請求項5記載のガス濃度測定装置によれば、前記ずらし周波数は、前記変調周波数の3分の1以下であることを特徴とする。
【0025】
また、請求項6記載のガス濃度測定方法によれば、周波数変調されたレーザ光を測定対象ガス中に通過させるステップと、前記測定対象ガス中に通過された前記レーザ光を検出するステップと、前記検出された受光信号の変調周波数の2倍の周波数から所定のずらし周波数だけずらされた2倍波ずらし周波数参照信号を発生するステップと、前記2倍波ずらし周波数参照信号を前記受光信号に掛け合わせることにより、前記受光信号の2倍波成分を周波数変換するステップと、前記周波数変換された信号に基づいて、前記レーザ光が透過した測定対象ガスの濃度を算出するステップとを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【0026】
以上説明したように、本発明によれば、2倍波成分の周波数から所定のずらし周波数だけずらされたずらし周波数信号成分に基づいて測定対象ガスの濃度を算出することにより、直交検波を用いることなく、周波数変調信号と2倍波周波数信号との位相差の影響を排除することが可能となるとともに、2倍波成分を直流成分に周波数変換する必要がなくなる。このため、回路系のDCオフセット成分やDCオフセットドリフトが計測精度に与える影響を軽減することが可能となるとともに、周波数変調信号と2倍波周波数信号との位相差が最適化されるように位相を予め調整する必要がなくなり、回路規模の増大を抑制しつつ、ガス濃度の計測精度を向上させることが可能となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【0027】
以下、本発明の実施形態に係るガス濃度測定装置について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の概略構成を示す断面図である。
図1において、ガス濃度測定装置の送信側には、レーザユニット17から出射されたレーザ光の発光波長を基本波で周波数変調する送信部基板14、レーザユニット17から出射されたレーザ光を平行ビームに変換するコリメートレンズ16およびレーザ素子が搭載されたレーザユニット17が設けられている。なお、レーザ素子としては半導体レーザを用いることができ、レーザユニット17には、レーザ素子の温度を検出するサーミスタおよびレーザ素子の温度を調整するペルチェ素子を搭載することができる。
【0028】
また、ガス濃度測定装置の受信側には、測定対象ガスを透過したレーザ光を集光する集光レンズ20、測定対象ガスを透過したレーザ光を検出する光検出部21および測定対象ガスを透過したレーザ光の2倍波周波数から±Δfだけずらされたずらし周波数に基づいてガスの濃度を算出する受信部基板22が設けられている。なお、光検出部21としては、例えば、フォトダイオードを用いることができる。
【0029】
ここで、送信部基板14、コリメートレンズ16およびレーザユニット17はハウジング18に収容されるとともに、集光レンズ20、光検出部21および受信部基板22はハウジング19に収容されている。そして、煙道などの測定対象ガスが流れる配管などの隔壁11a、11bには、フランジ12a、12bが溶接などの方法にて取り付けられる。そして、送信部基板14、コリメートレンズ16およびレーザユニット17が収容されたハウジング18は、ウェッジ窓15aにて配管内と仕切られるようにしてフランジ12aに取り付けられるとともに、集光レンズ20、光検出部21および受信部基板22が収容されたハウジング19は、ウェッジ窓15bにて配管内と仕切られるようにしてフランジ12bに取り付けられる。
【0030】
そして、中心周波数fc、変調周波数fmでレーザ素子の出力が周波数変調されながら、レーザ光がレーザユニット17から出射され、コリメートレンズ16にて平行ビームに変換された後、ウェッジ窓15aを介して隔壁11a、11b間の測定対象ガスを透過する。そして、測定対象ガスを透過したレーザ光は、測定対象ガスのガス分子の吸収線に対応した波長の吸収を受けた後、ウェッジ窓15bを介して集光レンズ20に入射し、集光レンズ20にて光検出部21上に集光される。そして、光検出部21にレーザ光が入射すると、光検出部21にて電気信号に変換され、その電気信号が受信部基板22に送られる。そして、光検出部21にて変換された電気信号が受信部基板22に送られると、検出信号の2倍波周波数から±Δfだけずらされた2倍波ずらし周波数参照信号を受光信号に掛け合わせることにより、受光信号の2倍波成分を周波数変換し、その周波数変換された信号に基づいて、測定対象ガスの濃度を算出することができる。
【0031】
図2は、本発明の一実施形態に係る周波数変調方式によるガス濃度の測定原理を説明する図である。
図2において、中心周波数fc、変調周波数fmで半導体レーザの出力を周波数変調し、測定対象ガスに照射されたものとする。ここで、測定対象ガスの吸収線は変調周波数に対してほぼ2次関数となっているので、この吸収線が弁別器の役割を果たし、光検出部21では変調周波数fmの2倍の周波数の成分(2倍波成分)が得られる。そして、変調周波数fmは任意の周波数でよいので、例えば、変調周波数fmを数kHz程度に選ぶと、ディジタル信号処理装置(DSP)または汎用のプロセッサを用い高度な信号処理を施すことが可能となる。
【0032】
そして、半導体レーザと光検出部21との距離に起因するレーザ光の減衰量の影響を周波数変調方式にてキャンセルするためには、半導体レーザの出力に周波数変調を行うと同時に変調周波数fmで振幅変調を行えばよく、半導体レーザの出力に周波数変調をかけることで振幅変調もかけることができる。そして、光検出部21でエンベロープ検波を行うことで振幅変調による基本波成分を推定することができ、この基本波成分の振幅と2倍波成分の振幅の比を位相同期させて取ることで、半導体レーザと光検出部21との距離に依存することなく、測定対象ガスの濃度に比例した値を得ることができる。
【0033】
図3は、本発明の一実施形態に係る駆動電流と半導体レーザの発光波長との関係を示す図である。
図3において、半導体レーザの発光波長は駆動電流が増加するに従って長くなる。このため、半導体レーザの駆動電流を制御することにより、半導体レーザの発光波長を調整することができる。
図4は、本発明の一実施形態に係る温度と半導体レーザの発光波長との関係を示す図である。
図4において、半導体レーザの発光波長は温度が増加するに従って長くなる。このため、半導体レーザの温度を制御することにより、半導体レーザの発光波長を調整することができる。
【0034】
図5は、本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の送信側の概略構成を示すブロック図である。
図5において、ガス濃度測定装置の送信側には、半導体レーザ36が設けられ、半導体レーザ36には、半導体レーザ36の温度を検出するサーミスタ37および半導体レーザ36の温度を調整するペルチェ素子38が搭載されている。
また、サーミスタ37にて検出された温度に基づいてペルチェ素子38を駆動することにより、半導体レーザ36の温度を制御する温度制御部35、半導体レーザ36から出射されるレーザ光の波長をスキャンさせる波長走査信号S1を発生させる波長走査駆動信号発生器31、半導体レーザ36から出射されるレーザ光を周波数変調する高周波信号S2を発生させる高周波変調信号発生部32、波長走査信号S1と高周波信号S2を合成する合成器33、波長走査信号S1と高周波信号S2とが合成された信号に基づいて半導体レーザ36を駆動する電流を制御する電流制御部34が設けられている。
【0035】
図6は、NHガスの吸収スペクトラムの一例を示す図である。
図6において、NHガスでは、1512nm付近に吸収波長帯のピークがある。このため、波長走査駆動信号発生器31は、周波数変調されたレーザ光の発光波長が1512nm付近をスキャンするように半導体レーザ36の駆動電流を変化させることで、NHガス中でレーザ光を吸収させ、NHガスの濃度を計測させることができる。また、温度制御部35は、ペルチェ素子38を駆動することにより、波長スキャン時の中心部分でNHガスの濃度が検出されるように半導体レーザ36の温度を事前に設定することができる。
【0036】
図7は、本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の受信側の概略構成を示すブロック図である。
図7において、ガス濃度測定装置の受信側には、図5の半導体レーザ36から出射されたレーザ光を検出するフォトダイオード41、フォトダイオード41から出力される電流を電圧に変換するI−V変換回路42、I−V変換回路42から出力された電圧を増幅する増幅器43、増幅器43を介して出力された信号から変調周波数の2倍波成分を抽出するバンドパスフィルタ44、変調周波数fmの2倍波周波数からずらし周波数Δfだけずらされた周波数(2f+Δf)を持つ(2f+Δf)参照信号を発生する2倍波ずらし周波数信号発生部45、(2f+Δf)参照信号を用いることで、バンドパスフィルタ44の出力からΔf成分を生成する検波器46、検波器46の出力から1f以上の高域成分を減衰させるローパスフィルタ47、ローパスフィルタ47から出力された電圧を増幅する増幅器48、増幅器48の出力をピークホールドするピークホールド回路49およびピークホールド回路49の出力からΔf成分を抽出するローパスフィルタ50が設けられている。
【0037】
図8は、本発明の一実施形態に係る波長スキャン方式によるガス濃度の測定方法を示す図である。ここで、図5の波長走査信号S1は、波長走査信号S1の強度が一定に保たれた部分73と、波長走査信号S1の強度が台形状に直線的に増加する部分72と、波長走査信号S1の強度が0である部分74とから構成することができる。なお、図8の例では、測定対象ガスとして、NHガスを例にとった。
そして、NHガスの濃度を測定する場合、図5の温度制御部35は、ペルチェ素子38を駆動することにより、波長走査信号S1の中心部分でNHガスの濃度が検出されるように半導体レーザ36の温度を事前に設定する。
【0038】
そして、図5の波長走査駆動信号発生器31は、半導体レーザ36の発光を安定化させるために、波長走査信号S1の強度が半導体レーザ36のスレッショルドカレント以上になるようにして一定に保ちながら、波長走査信号S1の73の部分を合成器33に出力するとともに、高周波変調信号発生部32は10kHz程度の正弦波からなら高周波信号S2を合成器33に出力する。
そして、波長走査信号S1の73の部分と高周波信号S2とは合成器33にて合成され、波長走査信号S1の73の部分と高周波信号S2とが合成された信号に基づいて半導体レーザ36の電流が制御されることにより、NHガスによる吸収を受けない波長λを中心として10kHz程度の正弦波にてレーザ光が周波数変調される。
【0039】
そして、周波数変調されたレーザ光はNHガスを通過すると、NHガスによる吸収を受けることなく図7のフォトダイオード41に入射し、フォトダイオード41にてレーザ光が検出される。そして、フォトダイオード41にて検出された電流はI−V変換回路42にて電圧に変換され、増幅器43およびバンドパスフィルタ44を介して検波器46に入力される。そして、2倍波ずらし周波数信号発生部45にて発生された(2f+Δf)参照信号とバンドパスフィルタ44からの出力が検波器46にて合成され、ローパスフィルタ47にて1f以上の高域成分を十分減衰させることにより、バンドパスフィルタ44の出力からΔf成分が抽出される。
【0040】
ここで、波長λを中心として周波数変調されたレーザ光はNHガスによる吸収を受けないため、検波器46の出力から高周波信号S2の2倍の周波数成分が抽出されることはなく、検波器46からの出力は一定となる。
次に、図5の波長走査駆動信号発生器31は、NHガスの吸収波長帯をスキャンさせるために、波長走査信号S1の強度を台形状に直線的に増加させながら、波長走査信号S1の72の部分を合成器33に出力するとともに、高周波変調信号発生部32は10kHz程度の正弦波からなら高周波信号S2を合成器33に出力する。なお、NHガスの濃度を測定する場合、波長走査駆動信号発生器31は、0.2nm程度の線幅をスキャンできるように波長走査信号S1を発生することができる。
【0041】
そして、波長走査信号S1の72の部分と高周波信号S2とは合成器33にて合成され、波長走査信号S1の72の部分と高周波信号S2とが合成された信号に基づいて半導体レーザ36の電流が制御されることにより、NHガスの吸収波長帯を含むように波長λから波長λまでの範囲を中心として10kHz程度の正弦波にてレーザ光が周波数変調される。
【0042】
そして、周波数変調されたレーザ光がNHガスを通過すると、NHガスによる吸収量に対応した減衰を受けた後、図7のフォトダイオード41に入射し、フォトダイオード41にてレーザ光が検出される。そして、フォトダイオード41にて検出された電流はI−V変換回路42にて電圧に変換され、増幅器43にて増幅された後、バンドパスフィルタ44にて変調周波数の2倍波成分が抽出され、検波器46に入力される。そして、2倍周波数信号発生部45にて発生された(2f+Δf)参照信号とバンドパスフィルタ44からの出力が検波器46にて合成されることにより、バンドパスフィルタ44からの出力から2f成分が生成される。ここで、NHガスの吸収波長帯を含むように波長λから波長λまでの範囲を中心として周波数変調されたレーザ光はNHガスによる吸収量に対応した減衰を受けるため、検波器46から出力されるエンベロープ波形はNHガスによる吸収波形に対応した値となる。そして、検波器46にて生成された2f成分は、ローパスフィルタ47にて1f以上の高域成分が十分減衰された後、増幅器48にて増幅され、ピークホールド回路49に入力される。そして、増幅器48の出力はピークホールド回路49にてピークホールドされ、そのピークホールド値からΔf成分がローパスフィルタ50に抽出されることで、2f成分検出信号として出力される。
【0043】
これにより、2倍波成分の周波数から±Δfだけずらされたずらし周波数信号成分に基づいて測定対象ガスの濃度を算出することができ、直交検波を用いることなく、周波数変調信号と2倍波周波数信号との位相差の影響を排除することが可能となるとともに、2倍波成分を直流成分に周波数変換する必要がなくなる。このため、回路系のDCオフセット成分やDCオフセットドリフトが計測精度に与える影響を軽減することが可能となるとともに、周波数変調信号と2倍波周波数信号との位相差が最適化されるように位相を予め調整する必要がなくなり、回路規模の増大を抑制しつつ、ガス濃度の計測精度を向上させることが可能となる。
【0044】
ここで、検波器46では、変調周波数fmの2倍波周波数からずらし周波数Δfだけ正方向にずらされた周波数(2f+Δf)を持つ(2f+Δf)参照信号が(1)式の受信信号に掛け合わせられる処理が行われるので、1fの周波数をf、ω=2πf、(2f+Δf)参照信号をsin((2ω+Δω)t)とすると、検波器46にて生成された信号は、以下の(6)式で表すことができる。
f(t)・sin((2ω+Δω)t)
=Asin(ωt+φ)・sin(2ω+Δω)t)
+Asin(2ωt+φ)・sin(2ω+Δω)t)
+Asin(3ωt+φ)・sin(2ω+Δω)t)+・・・
=−1/2A[cos{(ω+2ω+Δω)t+φ
−cos{(ω−2ω−Δω)t+φ}]
−1/2A[cos{(2ω+2ω+Δω)t+φ
−cos{(2ω−2ω−Δω)t+φ}]
−1/2A[cos{(3ω+2ω+Δω)t+φ
−cos{(3ω−2ω−Δω)t+φ}]+・・・ (6)
【0045】
ここで、ローパスフィルタ47にてω以上の周波数成分を十分に減衰させると、以下の(7)式で表される信号を得ることができる。
I=1/2Acos(−Δωt+φ) (7)
一方、検波器46では、変調周波数fmの2倍波周波数からずらし周波数Δfだけ負方向にずらされた周波数(2f−Δf)を持つ(2f−Δf)参照信号が(1)式の受信信号に掛け合わせられる処理を行うようにしてもよく、1fの周波数をf、ω=2πf、(2f−Δf)参照信号をsin((2ω−Δω)t)とすると、検波器46にて生成された信号は、以下の(6)´式で表すことができる。
f(t)・sin((2ω−Δω)t)
=Asin(ωt+φ)・sin(2ω−Δω)t)
+Asin(2ωt+φ)・sin(2ω−Δω)t)
+Asin(3ωt+φ)・sin(2ω−Δω)t)+・・・
=−1/2A[cos{(ω+2ω−Δω)t+φ
−cos{(ω−2ω+Δω)t+φ}]
−1/2A[cos{(2ω+2ω−Δω)t+φ
−cos{(2ω−2ω+Δω)t+φ}]
−1/2A[cos{(3ω+2ω−Δω)t+φ
−cos{(3ω−2ω+Δω)t+φ}]+・・・ (6)´
【0046】
ここで、ローパスフィルタ47にてω以上の周波数成分を十分に減衰させると、以下の(7)´式で表される信号を得ることができる。
I=1/2Acos(+Δωt+φ) (7)´
ここで、Δωの符号およびφは、(1)式の受信信号の位相には影響があるが、周波数および振幅には影響がない。従って、フォトダイオード41にて受光された2f成分は、検波器46にてΔfの周波数の信号に変換される。そして、このΔfの周波数の信号を、ピークホールド回路49にてピークホールドし、ローパスフィルタ50にて高域成分を減衰させることで、Δf成分を抽出することができる。
【0047】
例えば、レーザ光の周波数変調を100kHzで行った場合、吸光スペクトルによって生じる2f成分は200kHzであるが、(2f+Δf)参照信号の周波数を210kHzとすると、検波後の2f成分として10kHzの信号が得られる。(6)式に示すように、検波器46の乗算により生じる高調波成分は(ω−Δω)以上の角周波数、すなわち(f−Δf)以上の周波数である。このため、ローパスフィルタ47の特性は、Δf成分を減衰させないようにしながら、(f−Δf)以上の周波数成分を減衰させるように構成すればよく、レーザ光の変調周波数が100kHz、(2f+Δf)参照信号の周波数が210kHzの場合、10kHzの成分を減衰させないようにしながら、90kHz以上の周波数成分を減衰させればよい。なお、レーザ光の変調周波数fとずらし周波数Δfとの差が大きいほど、ローパスフィルタ47の実現が容易になる。
【0048】
図9は、図3のガス濃度測定装置の受信側の各部における信号波形を示す図である。なお、横軸は時間軸、縦軸は信号振幅値を示す。また、図9(c)〜図9(e)は、一部分の波形を時間軸拡大したものである。ここで、図9では、図13の波形と比較するために、送信側の変調方式として、所定の振幅幅で1fの周波数にて変調しながら、変調幅の中心波長を徐々に変えて掃引する方法を用い、その時の各部における信号波形をシミュレーションで算出した。このシミュレーションでは、レーザ光の特性と測定対象ガスの吸光波形は実測データを用いた。また、測定対象ガスとして、NHガスを用いた。
【0049】
図9において、NHガスによる吸収を受けたレーザ光が図7のフォトダイオード41にて受光されることで、図9(a)の受光信号波形が得られ、図9(a)の受光信号波形の時間軸を拡大すると、図9(c)の波形が得られる。そして、Δf=30kHzとし、図9(c)の波形を(2f+Δf)=330kHzの周波数を持つ参照信号と掛け合わせると、図9(d)の波形が得られ、図9(d)の波形の30kHz以下の成分を残しつつ、高調波成分をローパスフィルタ47にて減衰させることで、図9(e)の波形が得られる。そして、図9(e)の信号をピークホールド回路49にてピークホールドさせた後、ローパスフィルタ50を通過させることで、図9(b)の2f成分検出信号を得ることができる。ここで、図7のピークホールド回路49を所定の時定数で放電するように構成することで、図9(e)の波形のエンベロ−プを良好に検出することができる。図9(b)の波形と図13(b)の波形を比較すると、ほとんど同様の波形を得ることができ、受光信号に掛け合わされる参照信号の周波数を、変調周波数fmの2倍波周波数から±Δfだけずらした場合においても、2f成分を良好に検出することができる。
【0050】
なお、図9(e)の波形のエンベロ−プを検出するために、ピークホールドの代わりに全波整流回路または絶対値回路を用いることにより、図9(e)の波形を電圧0の値から正側にのみ折り返し、ローパスフィルタを通過させることで、図9(f)の波形を得ることができる。ただし、この場合には、Δf成分のRMS(Root Mean Square)値が検出されるため、図9(b)の波形とは信号電圧の絶対値が異なる。
【0051】
図10は、本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の受信側のその他の概略構成を示すブロック図である。
図10において、ガス濃度測定装置の受信側には、図7のピークホールド回路49の代わりに全波整流器69が設けられている。
そして、増幅器48から出力された信号は全波整流器69にて全波整流され、その全波整流された値からΔf成分がローパスフィルタ50に抽出されることで、2f成分検出信号として出力される。
あるいは、ガス濃度測定装置の受信側には、図7のピークホールド回路49と図10の全波整流器69の双方を設け、全波整流を行ってからピークホールドを行うようにしてもよい。これにより、図7のピークホールド回路49のみを設けた場合に比べて、ピークホールドによる波形変動を減少させることができる。
【0052】
なお、図9(e)の波形から図9(b)または図9(f)の信号を得るに当たっては、ピークホールドや全波整流によって生じる波形の変動を図7および図10のローパスフィルタ50にて減衰させることで滑らかにしている。この場合、2f成分検出信号は、レーザ光の周波数変調時の中心波形がスキャンされることで時間的にレベルが変化することから、その時間的なレベルの変化分がローパスフィルタ50にて減衰されないようにする必要がある。従って、図8の波長スキャン方式によって生じる2f成分検出信号のレベルの変動周波数に対し、ずらし周波数Δfは10倍以上に設定することが好ましい。例えば、図8の波長スキャン方式によって生じる2f成分検出信号のレベルの変動周波数が1kHzである場合、ずらし周波数Δfは10kHz以上に設定することが好ましい。
【0053】
ただし、レーザ光の変調周波数1fを変化させることなく、ずらし周波数Δfのみを大きくすると、検波後の高調波成分のうち最も低い周波数成分(1f−Δf)がΔfに近づく。例えば、変調周波数1fが150kHzでずらし周波数Δfを70kHzとすると、2f成分は70kHzに変換される一方、検波後の高調波成分のうち最も低い周波数成分(1f−Δf)は80kHzとなり、検波後の高調波成分のうち最も低い周波数成分(1f−Δf)をローパスフィルタ47で除去するのが困難になる。さらに、ずらし周波数Δfが75kHzより大きくなると、検波後の高調波成分のうち最も低い周波数成分(1f−Δf)の方がずらし周波数Δfより低くなり、Δf成分を抽出するのが困難になる。
【0054】
一般的なフィルタを用いた場合、検波後の高調波成分のうち最も低い周波数成分(1f−Δf)がずらし周波数Δfの2倍以上でないと、フィルタでの弁別が困難となることから、ずらし周波数Δfは変調周波数1fの1/3に設定することが好ましい。
また、ローパスフィルタ50の通過後の図9(e)の信号の周波数はΔfであり、図9(e)の信号にはDC成分が含まれない。このため、DC成分をカットできるようにローパスフィルタ50をAC結合してもよいし、カットオフ周波数がΔf以下のハイパスフィルタをローパスフィルタ50の後段に挿入するようにしてもよい。これにより、回路系のDCオフセットやDCオフセット変動の影響を受け難くすることができる。
【0055】
このように、上述した実施形態では、2倍波成分の周波数から±Δfだけずらされたずらし周波数信号成分に基づいて測定対象ガスの濃度を算出することにより、検波器46を一系統分だけよく、しかも送信側の変調波と受信側の参照波との位相合わせも不要とすることができ、変調波と参照波との位相差のドリフトの影響を受け難くすることが可能となるとともに、回路系のDCオフセットやDCオフセット変動の影響を受け難くすることができる。
また、送信側の変調のためのタイミングと受信側の参照波との間で一定の位相関係を保つ必要がなくなるため、送受信間でタイミング信号を受け渡したり、受光信号からPLLにて同期クロック信号を作成したりする必要がなくなり、装置構成を簡潔化することができる。
【0056】
なお、上述した実施形態では、送信側の変調方式として、所定の振幅幅で1fの周波数にて変調しながら、変調幅の中心波長を徐々に変えて掃引する方法について説明したが、特許文献1に開示されているように、変調の中心波長が常に吸収波長に一致するように制御するようにしてもよい。この場合には、2f成分の時間的変化の速度は、ガス濃度の変化の速度に対応し、比較的ゆっくり変化するようになる。このため、図8の波長スキャン方式に比べて、図7および図10のローパスフィルタ50のカットオフ周波数を下げることができ、ずらし周波数Δfも低くすることができる。
【図面の簡単な説明】
【0057】
【図1】本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の概略構成を示す断面図である。
【図2】本発明の一実施形態に係る周波数変調方式によるガス濃度の測定原理を説明する図である。
【図3】本発明の一実施形態に係る駆動電流と半導体レーザの発光波長との関係を示す図である。
【図4】本発明の一実施形態に係る温度と半導体レーザの発光波長との関係を示す図である。
【図5】本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の送信側の概略構成を示すブロック図である。
【図6】NHガスの吸収スペクトラムの一例を示す図である。
【図7】本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の受信側の概略構成を示すブロック図である。
【図8】本発明の一実施形態に係る波長スキャン方式によるガス濃度の測定方法を示す図である。
【図9】図3のガス濃度測定装置の受信側の各部における信号波形を示す図である。
【図10】本発明の一実施形態に係るガス濃度測定装置の受信側のその他の概略構成を示すブロック図である。
【図11】従来のガス濃度測定装置の受信側の概略構成を示すブロック図である。
【図12】従来のガス濃度測定装置の受信側のその他の概略構成を示すブロック図である。
【図13】図12のガス濃度測定装置の受信側の各部における信号波形を示す図である。
【符号の説明】
【0058】
11a、11b 隔壁
12a、12b フランジ
14 送信部基板
15a、15b ウェッジ窓
16 コリメートレンズ
17 レーザユニット
18、19 ハウジング
20 集光レンズ
21 光検出部
22 受信部基板
31 波長走査駆動信号発生器
32 高周波変調信号発生部
33 合成器
34 電流制御部
35 温度制御部
36 半導体レーザ
37 サーミスタ
38 ペルチェ素子
41 フォトダイオード
42 I/V変換回路
43、48 増幅器
44 バンドパスフィルタ
45 2倍波ずらし周波数信号発生部
46 検波器
47、50 ローパスフィルタ
49 ピークホールド回路
69 全波整流器

【特許請求の範囲】
【請求項1】
周波数変調されたレーザ光を検出する光検出部と、
前記光検出部にて検出された受光信号の変調周波数の2倍の周波数から所定のずらし周波数だけずらされた2倍波ずらし周波数参照信号を発生する2倍波ずらし周波数信号発生部と、
前記2倍波ずらし周波数信号発生部にて発生された2倍波ずらし周波数参照信号を前記受光信号に掛け合わせることにより、前記受光信号の2倍波成分を周波数変換する周波数変換部と、
前記周波数変換部にて周波数変換された信号に基づいて、前記レーザ光が透過した測定対象ガスの濃度を算出するガス濃度算出部とを備えることを特徴とするガス濃度測定装置。
【請求項2】
前記周波数変換部にて周波数変換された信号から前記変調周波数以上の成分を減衰させる第1のローパスフィルタと、
前記第1のローパスフィルタの出力をピークホールドするピークホールド回路と、
前記ピークホールド回路の出力から前記ずらし周波数成分を抽出する第2のローパスフィルタとを備えることを特徴とする請求項1記載のガス濃度測定装置。
【請求項3】
前記周波数変換部にて周波数変換された信号から前記変調周波数以上の成分を減衰させる第1のローパスフィルタと、
前記第1のローパスフィルタの出力を全波整流する全波整流器と、
前記全波整流器の出力から前記ずらし周波数成分を抽出する第2のローパスフィルタとを備えることを特徴とする請求項1記載のガス濃度測定装置。
【請求項4】
前記ずらし周波数は、2倍波成分の時間的変化として検出される周波数の10倍以上であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項記載のガス濃度測定装置。
【請求項5】
前記ずらし周波数は、前記変調周波数の3分の1以下であることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項記載のガス濃度測定装置。
【請求項6】
周波数変調されたレーザ光を測定対象ガス中に通過させるステップと、
前記測定対象ガス中に通過された前記レーザ光を検出するステップと、
前記検出された受光信号の変調周波数の2倍の周波数から所定のずらし周波数だけずらされた2倍波ずらし周波数参照信号を発生するステップと、
前記2倍波ずらし周波数参照信号を前記受光信号に掛け合わせることにより、前記受光信号の2倍波成分を周波数変換するステップと、
前記周波数変換された信号に基づいて、前記レーザ光が透過した測定対象ガスの濃度を算出するステップとを備えることを特徴とするガス濃度測定方法。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate

【図4】
image rotate

【図5】
image rotate

【図6】
image rotate

【図7】
image rotate

【図8】
image rotate

【図9】
image rotate

【図10】
image rotate

【図11】
image rotate

【図12】
image rotate

【図13】
image rotate


【公開番号】特開2009−192245(P2009−192245A)
【公開日】平成21年8月27日(2009.8.27)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2008−30466(P2008−30466)
【出願日】平成20年2月12日(2008.2.12)
【出願人】(591083244)富士電機システムズ株式会社 (1,717)
【Fターム(参考)】