ディスプレイ用光学フィルタ、これを備えたディスプレイ及びプラズマディスプレイパネル
【課題】軽量で薄く、電磁波シールド性に優れ、且つ平坦性、表面硬度そして寸法安定性に優れたディスプレイ用光学フィルタを提供すること。
【解決手段】透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、ハードコート層の表面が、０．１未満の表面粗さ（Ｒａ）及び２Ｈ以上の鉛筆硬度を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【解決手段】透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、ハードコート層の表面が、０．１未満の表面粗さ（Ｒａ）及び２Ｈ以上の鉛筆硬度を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、大画面表示デバイスとして、液晶ディスプレイと共にＰＤＰが一般的になってきている。ＰＤＰは液晶ディスプレイに比べて応答速度が早い等の利点を有する。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、これらを防止する目的で、ＰＤＰに対して、導電性を有する種々のＰＤＰフィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）が提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００４】
さらに、従来のＰＤＰを初めとした大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされた積層フィルムが設置されている。
【０００５】
上記電磁波シールド性光透過窓材においては、例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚のガラス板等の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。
【０００６】
また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部（端部）とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−７４６８３号公報
【特許文献２】特開２００１−１４２４０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に示されているように、従来のＰＤＰ等のディスプレイ用光学フィルタは、一般に複数の機能性フィルムを製造後、それらを貼り合わせるので煩雑な製造工程となり、コスト面でも不利である。
【０００９】
このため、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図るため、特許文献２に示されるようなフィルタ部材にガラスを含まないタイプのＰＤＰフィルタ（直張りタイプＰＤＰフィルタ）が提案されている。しかしながら、このような直張りタイプＰＤＰフィルタもガラス以外の機能性フィルムを予め製造した後、貼り合わせるという点では、従来のフィルタと同様で、煩雑な製造工程となり、コスト面でも十分とは言えない。
【００１０】
これらの問題を解決するために、基板として一枚の樹脂フィルムのみを用い、複数の機能層をその表面に形成する構造を採用することが考えられる。その製造方法として最も簡便なものが、樹脂フィルム上に導電メッシュを形成した電磁波シールドフィルム上に、反射防止層、近赤外線吸収層等の機能層を塗工によって形成する方法である。
【００１１】
しかしながら、導電メッシュ上に、上記のように塗工によって各機能層を形成する際、即ち、導電メッシュ上に各機能層を硬化等により膜を形成した場合、メッシュの凹凸の影響を受けて機能層の表面の平坦性が十分に良好とは言えない場合があることが明らかとなった。本発明者の検討によると、機能層として比較的可撓性のある膜を形成した場合は、良好な表面平坦性が得られやすいが、表面の鉛筆硬度が不十分であることが判明した。
【００１２】
従って、本発明は、軽量で薄く、電磁波シールド性に優れ、且つ平坦性、表面硬度そして寸法安定性に優れたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１３】
また、本発明は、軽量で薄く、メッシュ状導電層上に設けられるハードコート層又は近赤外線吸収層等の機能層の平坦性及び表面硬度が優れたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
さらに、本発明は、軽量で薄く、メッシュ状導電層上に設けられるハードコート層又は近赤外線吸収層等の機能層の平坦性及び硬度が優れたＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
また、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１６】
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
従って、本発明は、
少なくとも１枚の透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた機能層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能層の表面が、０．２未満の表面粗さ（Ｒａ）を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及び
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層の表面が、０．２未満の表面粗さ（Ｒａ）及び２Ｈ以上の鉛筆硬度を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；
にある。
【００１８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）前者のディスプレイ用光学フィルタにおいて、機能層の表面が２Ｈ以上の鉛筆硬度を有する。
（２）前者のディスプレイ用光学フィルタにおいて、機能層が、ハードコート層である。或いは他の反射防止層（例、低屈折率層）であっても良い。ハードコート層が好ましい。
（３）ハードコート層等の機能層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にある。上記表面粗さ（Ｒａ）及び鉛筆硬度を満足させることが容易である。
（４）メッシュ状導電層の層厚が、１〜１０μｍ、好ましくは２〜８μｍ、特に３〜６μｍである。機能層又はハードコート層は、メッシュ状導電層の凹部を完全に覆うことが容易である。
（５）メッシュ状導電層が、金属蒸着膜を含む層である。塗工による導電層（例、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層）でも良い。さらに金属蒸着膜又は塗工による導電層とその上に設けられたメッキ層であってもよい。
メッシュ状導電層は、メッシュ状導電層は、透明フィルム表面に、水等の溶剤に対して可溶な物質によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層の塗工層又は導電材料の蒸着層を形成し、フィルム面を上記溶剤を用いてドット及びドット上の導電材料層又は蒸着層を除去する方法（いわゆる印刷メッシュ法）により形成されていることが好ましく、本発明では有利である。
（６）ハードコート層の上に、さらにハードコート層より屈折率の低い低屈折率層が形成されている。良好な反射防止性が得られる。
（７）近赤外線吸収層の、透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。近赤外線吸収層が粘着性を有していても良い。
（８）透明フィルムがプラスチックフィルムである。
（９）透明粘着剤層又は粘着性近赤外線吸収層の上に剥離シートが設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
（１０）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００１９】
また、本発明は、少なくとも１枚の透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた機能層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及び
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；にもある。
【００２０】
前記光学フィルタの好適態様をここでも適用することができる。
【００２１】
さらに、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、特に電磁波シールド性に優れたメッシュ状導電層を備え、且つその上にハードコート層等の機能層を直接設けた簡易な構成を有する光学フィルタであって、且つ平坦性、表面硬度そして寸法安定性においても優れたものである。即ち、メッシュ状導電層は、表面が凹凸であるため、その上に設けられるハードコート層等の機能層は、その凹凸の影響を受けて、表面の平坦性と表面硬度とを高レベルで両立させることが困難であるが、本発明ではこれを機能層の硬化収縮率を制御すること等によりその両立を可能にしている。
【００２３】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、軽量で薄く、電磁波シールド性に優れ、平坦性、表面硬度に優れ、このため寸法安定性にも優れている。
【００２４】
また、上記のようにメッシュ状導電層の上に直接ハードコート層等の機能層を設けることは、光学フィルタ自体の薄膜化に有効であり、例えば透明フィルムを１枚用いて上記光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。
【００２５】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明の表面の平坦性、硬度に優れたディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。
【００２７】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの基本構成を示す１例の概略断面図を図１に示す。図１において、透明フィルム１２の一方の表面に、メッシュ状導電層１３、ハードコート層１６及び低屈折率層等の反射防止層１７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５が設けられている。この構成において、反射防止性がやや劣るが、反射防止層１７が無くても良い。また、近赤外線遮断性に劣るが、近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５も無くても良い。機能層は、ハードコート層１６以外の、例えば低屈折率層等の反射防止層であっても良い。
【００２８】
上記メッシュ状導電層１３の凹部をハードコート層１６が完全に覆っており、メッシュ状導電層１３は露出していない。そして本発明の機能層であるハードコート層１６が、優れた平坦性及び高い鉛筆硬度を有している。即ち、ハードコート層１６は、０．２未満（特に０．１未満）の表面粗さ（Ｒａ）及び２Ｈ以上の鉛筆硬度を有している。
【００２９】
尚、表面粗さ（Ｒａ）は、接触式表面粗さ計（Talystep；テーラーホプソン（株）製）を用い、ハードコート層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を測定する。また鉛筆硬度は、ＪＩＳ−Ｋ−５６００（２００２年）に準拠して測定する。
【００３０】
メッシュ導電層１３、２３は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されている。これにより低抵抗を得られやすい。一般に、メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの凹部（空隙）は、上記の図１に示すように、機能層で完全に埋められている。これにより透明性が向上する。
【００３１】
本発明のメッシュ導電層は、印刷法により形成される、いわゆる印刷メッシュ法で形成される薄層であることが好ましい。メッシュ導電層は、一般に金属蒸着膜であるが、塗工による導電層（例、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層）でも良い。さらに金属蒸着膜又は塗工による導電層とその上に設けられたメッキ層であってもよい。
【００３２】
メッシュ状導電層の層厚は、一般に１〜１０μｍ、好ましくは２〜８μｍ、特に３〜６μｍが好ましい。このようなメッシュ状導電層は、開口部を大きくすることができ、ディスプレイの画面をより明るくすることができる。またハードコート層等の機能層が、容易に、メッシュ状導電層の凹部を完全に覆うのにも有利である。
【００３３】
反射防止層１７は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層１６とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層１６との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
【００３４】
また反射防止層１７は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層１６のみであっても良い。ハードコート層１６、反射防止層１７は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。
【００３５】
近赤外線吸収層１４は、ＰＤＦのネオン発光等の不要な光を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層１５は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層１５の上に剥離シートを設けても良い。
【００３６】
上述のディスプレイ用光学フィルタは、例えば、長尺状のプラスチックフィルムの一方の表面に、メッシュ状導電層、ハードコート層及び反射防止層を形成し、他方の表面に近赤外線吸収層、透明粘着剤層を形成し、矩形状に裁断して得られる。
【００３７】
矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、上記のように連続フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。
【００３８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に詳細に説明する。
【００３９】
透明フィルムは、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。
【００４０】
透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００４１】
本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□の範囲となるように設定される。
【００４２】
メッシュ状の導電層としては上記印刷メッシュ法により形成されたものの他に、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００４３】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００４４】
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００４５】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００４６】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００４７】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００４８】
或いは、メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。
【００４９】
一般に、粒径１００μｍ以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を５０〜９０重量％濃度にＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。
【００５０】
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５１】
このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。
【００５２】
導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００５３】
本発明では、メッシュ状の導電層として、前記したように印刷メッシュ法で行うことが好ましい。
【００５４】
上記印刷メッシュ法について、図２にその導電層の形成方法を説明する概略図を示す。まず(1)、(2)に示すように透明基板１上に水等の溶剤に対して可溶な材料を用いてドット２を印刷する。次いで、(3)に示すように、透明基板１のドット２の上及びドット２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように導電材料層３を形成する。ドット上にも導電材料層３が設けられるが、余り厚すぎると後の洗浄でドットを除去できなくなる。次に、この透明基板１を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。導電材料層３は、金属を蒸着することにより形成することも、低抵抗が得られやすく好ましい。
【００５５】
上記洗浄により、(4)に示すように可溶性のドット２が溶解し、このドット２上の導電材料も透明基板１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された導電材料よりなる導電性パターン（メッシュ状導電層）４が透明基板１上に残る。この導電性パターン４は、ドット１間の領域を占めるものであるから、全体としてはメッシュ状（格子状）となる。
【００５６】
従って、ドット２間の間隙を狭くしておくことにより、線幅の小さい格子状の導電性パターン４が形成される。また、各ドット２の面積を広くすることにより、開口率の大きなメッシュ状の導電性パターン４が形成される。ドット２を形成するための前記水等に対して可溶な印刷材料は、微粒子を分散させる必要のないものであり、低粘性のものでも充分使用できる。この低粘性の印刷材料を使用することにより、微細なドットパターンとなるようにドットを印刷することができる。
【００５７】
なお、上記(4)の工程後、必要に応じ仕上げ洗浄（リンス）し、乾燥することにより、電磁波シールド性光透過窓材用の導電層が得られる。
【００５８】
上記印刷メッシュ法において形成される塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。
【００５９】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００６０】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６１】
上記塗工による導電層の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。
【００６２】
上記塗工形成された導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６３】
前記の図２で示した印刷メッシュ法において、導電層を気相成膜法により形成する場合（金属蒸着膜）、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。前記の導電性粒子を構成する無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、０．１〜１０μｍ、さらに２〜８μｍ、特に３〜６μｍが好ましい。
【００６４】
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００６５】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００６６】
本発明の反射防止層は、一般にハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止層は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００６７】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００６８】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００６９】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート［（メタ）アクリレートはアクリレート及びメタアクリレートを意味する］、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００７０】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００７１】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７２】
ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。
【００７３】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００７４】
本発明において、ハードコート層を機能層として、メッシュ状導電層上に設ける場合は、上記のように０．２未満（特に０．１未満）の表面粗さ（Ｒａ）、そして２Ｈ以上の鉛筆硬度を有することが好ましい。このためには、一般にハードコート層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることが好ましい。尚、硬化収縮率は、
［｛（硬化物比重）−（硬化前比重）｝／｛硬化前比重｝］×１００
により得られる。
【００７５】
このような硬化収縮率を有するハードコート層は、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレートと、他のモノマー又はオリゴマーとの組合せが好ましい。他のモノマー又はオリゴマーとしては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の２官能又は３官能（メタ）アクリレートモノマー類；及びポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類を挙げることができ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましい。
【００７６】
特に、上記ペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレートと、ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレートとの組合せが好ましく、前者：後者が、９０：１０〜１０：９０、特に９０：１０〜２０：８０が好ましい。
【００７７】
或いは、上記特定の表面粗さ（Ｒａ）及び鉛筆硬度を有するハードコート層を得るために、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン骨格を有する多官能（メタ）アクリレートモノマー類を主体（一般に９０質量％以上、特に９５質量％以上）として使用することも好ましい。
【００７８】
ハードコート層には、後述する高屈折率層で使用される金属微粒子、低屈折率で使用される微粒子等のフィラーを含むことができる。
【００７９】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）、ＳｎＯ2−ＺｒＯ2−Ｓｂ2Ｏ5−ＳｉＯ2混合物（例、商品名サンコロイドＨＸ−３０５Ｍ５、日産化学工業（株）製）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８０】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００８１】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜６０重量％（好ましくは１０〜５０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４０〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８２】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００８３】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００８４】
反射防止層が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍ、低屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍであることが好ましい。またこのような３層の合計の可視光線透過率も、８５％以上であることが好ましい。
【００８５】
低屈折率層を機能層とする場合は、前記ハードコート層の組成に基づいて低屈折率層の組成を決定することにより、規定の表面粗さ及び鉛筆硬度を得ることができる。
【００８６】
ハードコート層を含む反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００８７】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【００８８】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００８９】
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９０】
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。
【００９１】
（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。
【００９２】
上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９３】
近赤外線吸収層は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダ樹脂又は紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００９４】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００９５】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００９６】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００９７】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００９８】
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【００９９】
近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【０１００】
本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１０１】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１０２】
本発明において透明フィルム２枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１０３】
その層厚は、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１０４】
上記透明粘着剤層の材料として、ＥＶＡも使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【０１０５】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【０１０６】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【０１０７】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【０１０８】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【０１０９】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【０１１０】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【０１１１】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１１２】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【０１１３】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１１４】
上記接着層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１１５】
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【０１１６】
透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１１７】
本発明の光学フィルタは、例えば、長尺状の透明フィルムの一方の表面に、メッシュ状導電層、ハードコート層及び反射防止層等を順次設け、次いで、透明フィルムの他方の表面に、近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設けることにより製造することができる。各層の設置は、連続的に行っても、バッチで行っても良い。このようにして得られた長尺状の積層体を、裁断することにより光学フィルタを得ることができる。長尺状の透明フィルムに、各層を塗工（塗布）する際に使用される塗工機としては、スリットダイ、リップダイレクト、リップリバース等使用することができる。また両面を同時に塗布する場合は、リップダイを両面に配置した両面同時塗工機が一般に使用される。
【０１１８】
このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１１９】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを１枚使用した場合は、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１２０】
従って、本発明の光学フィルタを有するディスプレイは、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、寸法安定性に優れたディスプレイということができる。
【実施例】
【０１２１】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１２２】
［実施例１］
＜ディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（１）メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ１００ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
【０１２３】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルム上にメッシュ状導電層を形成した。
【０１２４】
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは４μｍであった。また表面粗さ（Ｒａ）は１．８８であった。
【０１２５】
（２）ハードコート層の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製） ２０質量部
ビスフェノールＡジアクリレート
（Ａ−ＢＰＥ−４、新中村化学（株）製） ８０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
【０１２６】
これによりディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１２７】
［実施例２］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１２８】
配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ５０質量部
ビスフェノールＡジアクリレート
（Ａ−ＢＰＥ−４、新中村化学（株）製） ５０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１２９】
［実施例３］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３０】
配合：
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴ） １００質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３１】
［実施例４］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３２】
配合：
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（Ａ−ＴＭＭ−３；新中村化学（株）製） ５０質量部
ジプロピレングリコールジアクリレート（ＰＯ２モル）
（ＡＰＧ−１００；新中村化学（株）製） ５０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３３】
［実施例５］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３４】
配合：
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（Ａ−ＴＭＭ−３；新中村化学（株）製） ２５質量部
ジプロピレングリコールジアクリレート（ＰＯ２モル）
（ＡＰＧ−１００；新中村化学（株）製） ２５質量部
サンコロイドＨＸ−３０５Ｍ５
（ＳｎＯ2−ＺｒＯ2−Ｓｂ2Ｏ5−ＳｉＯ2／メタノール
＝３０／７０；粒径１５μｍ、日産化学工業（株）製 １６０質量部
メチルエチルケトン ４５質量部
トルエン ４５質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３５】
［実施例６］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３６】
配合：
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（Ａ−ＴＭＭ−３；新中村化学（株）製） １５質量部
ジプロピレングリコールジアクリレート（ＰＯ２モル）
（ＡＰＧ−１００；新中村化学（株）製） １５質量部
サンコロイドＨＸ−３０５Ｍ５
（ＳｎＯ2−ＺｒＯ2−Ｓｂ2Ｏ5−ＳｉＯ2／メタノール
＝３０／７０；粒径１５μｍ、日産化学工業（株）製） ２３０質量部
メチルエチルケトン ２０質量部
トルエン ２０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３７】
［比較例１］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３８】
配合：
ビスフェノールＡジアクリレート
（Ａ−ＢＰＥ−４、新中村化学（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３９】
［比較例２］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４０】
配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） １００質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１４１】
［実施例７］
さらに下記の各層を設けた以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４２】
（３）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（ＪＳＲ（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン １１７質量部
メチルイソブチルケトン １１７質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１４３】
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート ３０質量部
ＴＰ−２（山田化学工業（株）製） ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ Ｒｅｄ ８３８０（有本化学工業（株）製） ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製） １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製） ０．６質量部
メチルエチルケトン １５２質量部
メチルイソブチルケトン １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンフィルムの裏面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ５μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。
【０１４４】
（５）透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製） １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製） ０．４５質量部
トルエン １５質量部
酢酸エチル ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した。
【０１４５】
これによりディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４６】
得られたディスプレイ用光学フィルタを下記のように評価した。
【０１４７】
［光学フィルタの評価］
（１）表面粗さ
表面粗さ（Ｒａ）は、接触式表面粗さ計（Talystep；テーラーホプソン（株）製）を用い、実施例及び比較例で得られたハードコート層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を測定する。尚、中心線は、長尺状ＰＥＴフィルムの長さ方向の中心線である。
【０１４８】
（２）鉛筆硬度
鉛筆硬度は、実施例及び比較例で得られたハードコート層について、ＪＩＳ−Ｋ−５６００（２００２年）に準拠して測定する。
【０１４９】
（３）硬化収縮率
実施例及び比較例で得られたハードコート層の硬化前と硬化後の比重を測定した。比重は、ＪＩＳ−Ｋ−６８３３に従い測定する。
【０１５０】
そして硬化収縮率は、
［｛（硬化物比重）−（硬化前比重）｝／｛硬化前比重｝］×１００
により計算した。
【０１５１】
上記結果を表１に示す。
【０１５２】
【表１】
【０１５３】
実施例１〜６で得られたＰＤＰフィルタは、膜強度、表面の平坦性の両方において優れていた。これは硬化収縮率が適当な範囲にあるためと推測される。
【０１５４】
また、実施例１のハードコート層を有し、さらに反射防止層、近赤外線吸収層等を設けた実施例７の光学フィルタは、優れた電磁波シールド性、高い透過率を示した。
【図面の簡単な説明】
【０１５５】
【図１】本発明の光学フィルタの基本構成の１例を示す概略断面図である。
【図２】印刷メッシュ法によるメッシュ状導電層の形成方法を説明する概略図である。
【符号の説明】
【０１５６】
１１ ディスプレイ用光学フィルタ
１２ 透明フィルム
１３ メッシュ状導電層
１６ ハードコート層
１７ 反射防止層
１４ 近赤外線吸収層
１５ 透明粘着剤層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する光学フィルタ、及びこの光学フィルタを備えたディスプレイ、特にＰＤＰに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＥＬディスプレイ等のフラットパネルディスプレイ、及びＣＲＴディスプレイにおいては、外部からの光が表面で反射し、内部の視覚情報が見えにくいとの問題は、従来から知られており、反射防止膜等を含む光学フィルムの設置等、種々対策がなされている。
【０００３】
近年、ディスプレイは大画面表示が主流となり、大画面表示デバイスとして、液晶ディスプレイと共にＰＤＰが一般的になってきている。ＰＤＰは液晶ディスプレイに比べて応答速度が早い等の利点を有する。しかしながら、このＰＤＰでは画像表示のため発光部に高周波パルス放電を行っているため、不要な電磁波の輻射や赤外線リモコン等の誤動作の原因ともなる赤外線の輻射のおそれがあり、このため、これらを防止する目的で、ＰＤＰに対して、導電性を有する種々のＰＤＰフィルタ（電磁波シールド性光透過窓材）が提案されている。この電磁波シールド性光透過窓材の導電層としては、例えば、(1)金属銀を含む透明導電薄膜、(2)金属線又は導電性繊維を網状にした導電メッシュ、(3)透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、(4)透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等が知られている。
【０００４】
さらに、従来のＰＤＰを初めとした大型ディスプレイでは、反射防止フィルムや近赤外線カットフィルム等の種々のフィルムが貼り合わされた積層フィルムが設置されている。
【０００５】
上記電磁波シールド性光透過窓材においては、例えば、特許文献１（特開平１１−７４６８３号公報）には、２枚のガラス板等の透明基板の間に導電性メッシュを介在させて、透明接着樹脂で接合一体化してなる電磁波シールド性光透過窓材が記載されている。
【０００６】
また、特許文献２（特開２００１−１４２４０６号公報）には、１枚の透明基板と、電磁波シールド材と、最表層の反射防止フィルムと、近赤外線カットフィルムとが積層一体化されてなる積層体を備え、該透明基板の端面及び表裏の縁部にまたがって導電性粘着テープが付着され、該導電性粘着テープと該電磁波シールド材の縁部（端部）とが導電性粘着剤によって付着されている電磁波シールド性光透過積層フィルムが記載されている。
【０００７】
【特許文献１】特開平１１−７４６８３号公報
【特許文献２】特開２００１−１４２４０６号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１に示されているように、従来のＰＤＰ等のディスプレイ用光学フィルタは、一般に複数の機能性フィルムを製造後、それらを貼り合わせるので煩雑な製造工程となり、コスト面でも不利である。
【０００９】
このため、部品数の低減による生産性の向上及びコストの低減を図るため、特許文献２に示されるようなフィルタ部材にガラスを含まないタイプのＰＤＰフィルタ（直張りタイプＰＤＰフィルタ）が提案されている。しかしながら、このような直張りタイプＰＤＰフィルタもガラス以外の機能性フィルムを予め製造した後、貼り合わせるという点では、従来のフィルタと同様で、煩雑な製造工程となり、コスト面でも十分とは言えない。
【００１０】
これらの問題を解決するために、基板として一枚の樹脂フィルムのみを用い、複数の機能層をその表面に形成する構造を採用することが考えられる。その製造方法として最も簡便なものが、樹脂フィルム上に導電メッシュを形成した電磁波シールドフィルム上に、反射防止層、近赤外線吸収層等の機能層を塗工によって形成する方法である。
【００１１】
しかしながら、導電メッシュ上に、上記のように塗工によって各機能層を形成する際、即ち、導電メッシュ上に各機能層を硬化等により膜を形成した場合、メッシュの凹凸の影響を受けて機能層の表面の平坦性が十分に良好とは言えない場合があることが明らかとなった。本発明者の検討によると、機能層として比較的可撓性のある膜を形成した場合は、良好な表面平坦性が得られやすいが、表面の鉛筆硬度が不十分であることが判明した。
【００１２】
従って、本発明は、軽量で薄く、電磁波シールド性に優れ、且つ平坦性、表面硬度そして寸法安定性に優れたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１３】
また、本発明は、軽量で薄く、メッシュ状導電層上に設けられるハードコート層又は近赤外線吸収層等の機能層の平坦性及び表面硬度が優れたディスプレイ用光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１４】
さらに、本発明は、軽量で薄く、メッシュ状導電層上に設けられるハードコート層又は近赤外線吸収層等の機能層の平坦性及び硬度が優れたＰＤＰ用に好適な光学フィルタを提供することを目的とする。
【００１５】
また、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたディスプレイを提供することを目的とする。
【００１６】
さらにまた、本発明は、上記優れた特性の光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされたＰＤＰを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
従って、本発明は、
少なくとも１枚の透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた機能層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能層の表面が、０．２未満の表面粗さ（Ｒａ）を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及び
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層の表面が、０．２未満の表面粗さ（Ｒａ）及び２Ｈ以上の鉛筆硬度を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；
にある。
【００１８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの好適態様は以下の通りである。
（１）前者のディスプレイ用光学フィルタにおいて、機能層の表面が２Ｈ以上の鉛筆硬度を有する。
（２）前者のディスプレイ用光学フィルタにおいて、機能層が、ハードコート層である。或いは他の反射防止層（例、低屈折率層）であっても良い。ハードコート層が好ましい。
（３）ハードコート層等の機能層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にある。上記表面粗さ（Ｒａ）及び鉛筆硬度を満足させることが容易である。
（４）メッシュ状導電層の層厚が、１〜１０μｍ、好ましくは２〜８μｍ、特に３〜６μｍである。機能層又はハードコート層は、メッシュ状導電層の凹部を完全に覆うことが容易である。
（５）メッシュ状導電層が、金属蒸着膜を含む層である。塗工による導電層（例、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層）でも良い。さらに金属蒸着膜又は塗工による導電層とその上に設けられたメッキ層であってもよい。
メッシュ状導電層は、メッシュ状導電層は、透明フィルム表面に、水等の溶剤に対して可溶な物質によってドットを形成し、フィルム面に溶剤に対して不溶な導電材料よりなる導電材料層の塗工層又は導電材料の蒸着層を形成し、フィルム面を上記溶剤を用いてドット及びドット上の導電材料層又は蒸着層を除去する方法（いわゆる印刷メッシュ法）により形成されていることが好ましく、本発明では有利である。
（６）ハードコート層の上に、さらにハードコート層より屈折率の低い低屈折率層が形成されている。良好な反射防止性が得られる。
（７）近赤外線吸収層の、透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。近赤外線吸収層が粘着性を有していても良い。
（８）透明フィルムがプラスチックフィルムである。
（９）透明粘着剤層又は粘着性近赤外線吸収層の上に剥離シートが設けられている。ディスプレイへの装着が容易となる。
（１０）プラズマディスプレイパネル用フィルタである。
【００１９】
また、本発明は、少なくとも１枚の透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた機能層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；及び
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ；にもある。
【００２０】
前記光学フィルタの好適態様をここでも適用することができる。
【００２１】
さらに、本発明は、
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ；及び
上記のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネルにもある。
【発明の効果】
【００２２】
本発明のディスプレイ用光学フィルタは、特に電磁波シールド性に優れたメッシュ状導電層を備え、且つその上にハードコート層等の機能層を直接設けた簡易な構成を有する光学フィルタであって、且つ平坦性、表面硬度そして寸法安定性においても優れたものである。即ち、メッシュ状導電層は、表面が凹凸であるため、その上に設けられるハードコート層等の機能層は、その凹凸の影響を受けて、表面の平坦性と表面硬度とを高レベルで両立させることが困難であるが、本発明ではこれを機能層の硬化収縮率を制御すること等によりその両立を可能にしている。
【００２３】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、軽量で薄く、電磁波シールド性に優れ、平坦性、表面硬度に優れ、このため寸法安定性にも優れている。
【００２４】
また、上記のようにメッシュ状導電層の上に直接ハードコート層等の機能層を設けることは、光学フィルタ自体の薄膜化に有効であり、例えば透明フィルムを１枚用いて上記光学フィルタを得た場合は、光学フィルタの厚さが極めて小さくなり、これに伴い質量も小さくなるため、ディスプレイに装着する際、そして装着後も取扱い上極めて有利である。
【００２５】
従って、本発明のディスプレイ用光学フィルタは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、ブラウン管（ＣＲＴ）ディスプレイ、液晶ディスプレイ、有機ＥＬ（電界発光）ディスプレイ、表面電界型ディスプレイ（ＳＥＤ）を含む電界放出型ディスプレイ（ＦＥＤ）等の各種ディスプレイに対して反射防止、近赤外線遮断、電磁波遮蔽等の各種機能を有する、生産性に優れた光学フィルタということができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
本発明の表面の平坦性、硬度に優れたディスプレイ用光学フィルタについて、以下に詳細に説明する。
【００２７】
本発明のディスプレイ用光学フィルタの基本構成を示す１例の概略断面図を図１に示す。図１において、透明フィルム１２の一方の表面に、メッシュ状導電層１３、ハードコート層１６及び低屈折率層等の反射防止層１７がこの順で設けられ、他方の表面には近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５が設けられている。この構成において、反射防止性がやや劣るが、反射防止層１７が無くても良い。また、近赤外線遮断性に劣るが、近赤外線吸収層１４及びその上に透明粘着剤層１５も無くても良い。機能層は、ハードコート層１６以外の、例えば低屈折率層等の反射防止層であっても良い。
【００２８】
上記メッシュ状導電層１３の凹部をハードコート層１６が完全に覆っており、メッシュ状導電層１３は露出していない。そして本発明の機能層であるハードコート層１６が、優れた平坦性及び高い鉛筆硬度を有している。即ち、ハードコート層１６は、０．２未満（特に０．１未満）の表面粗さ（Ｒａ）及び２Ｈ以上の鉛筆硬度を有している。
【００２９】
尚、表面粗さ（Ｒａ）は、接触式表面粗さ計（Talystep；テーラーホプソン（株）製）を用い、ハードコート層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を測定する。また鉛筆硬度は、ＪＩＳ−Ｋ−５６００（２００２年）に準拠して測定する。
【００３０】
メッシュ導電層１３、２３は、例えば、メッシュ状の金属層又は金属含有層である。メッシュ状の金属層又は金属含有層は、一般に、エッチングにより、又は印刷法により形成されている。これにより低抵抗を得られやすい。一般に、メッシュ状の金属層又は金属含有層のメッシュの凹部（空隙）は、上記の図１に示すように、機能層で完全に埋められている。これにより透明性が向上する。
【００３１】
本発明のメッシュ導電層は、印刷法により形成される、いわゆる印刷メッシュ法で形成される薄層であることが好ましい。メッシュ導電層は、一般に金属蒸着膜であるが、塗工による導電層（例、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層）でも良い。さらに金属蒸着膜又は塗工による導電層とその上に設けられたメッキ層であってもよい。
【００３２】
メッシュ状導電層の層厚は、一般に１〜１０μｍ、好ましくは２〜８μｍ、特に３〜６μｍが好ましい。このようなメッシュ状導電層は、開口部を大きくすることができ、ディスプレイの画面をより明るくすることができる。またハードコート層等の機能層が、容易に、メッシュ状導電層の凹部を完全に覆うのにも有利である。
【００３３】
反射防止層１７は、一般に低屈折率層である。即ち、ハードコート層１６とその上に設けられた低屈折率層との複合膜により反射防止効果を示す。この低屈折率層とハードコート層１６との間に高屈折率層を設けても良い。これにより反射防止機能は向上する。
【００３４】
また反射防止層１７は設けなくても良く、透明フィルムと、透明フィルムより屈折率の高い又は低い（好ましくは低い）ハードコート層１６のみであっても良い。ハードコート層１６、反射防止層１７は、いずれも塗工により形成されていることが、生産性、経済性の観点から好ましい。
【００３５】
近赤外線吸収層１４は、ＰＤＦのネオン発光等の不要な光を遮断する機能を有する。一般に８００〜１２００ｎｍに吸収極大を有する色素を含む層である。透明粘着層１５は一般にディスプレイへの容易に装着するために設けられている。透明粘着剤層１５の上に剥離シートを設けても良い。
【００３６】
上述のディスプレイ用光学フィルタは、例えば、長尺状のプラスチックフィルムの一方の表面に、メッシュ状導電層、ハードコート層及び反射防止層を形成し、他方の表面に近赤外線吸収層、透明粘着剤層を形成し、矩形状に裁断して得られる。
【００３７】
矩形の透明フィルムの場合、各層はバッチ式で形成されても良いが、上記のように連続フィルム上に、各層を連続式、一般にロールトゥロール方式で形成し、裁断することが好ましい。
【００３８】
本発明のディスプレイ用光学フィルタに使用される材料について以下に詳細に説明する。
【００３９】
透明フィルムは、その材料としては、透明（「可視光に対して透明」を意味する。）であれば特に制限はないが、一般にプラスチックフィルムが使用される。例えば、ポリエステル｛例、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート｝、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、アクリル樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリスチレン、トリアセテート樹脂、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等を挙げることができる。これらの中でも、加工時の負荷（熱、溶剤、折り曲げ等）に対する耐性が高く、透明性が特に高い等の点で、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等が好ましい。特に、ＰＥＴが、加工性に優れているので好ましい。
【００４０】
透明フィルムの厚さとしては、光学フィルタの用途等によっても異なるが、一般に１μｍ〜１０ｍｍ、１μｍ〜５ｍｍ、特に２５〜２５０μｍが好ましい。
【００４１】
本発明の導電層は、得られる光学フィルタの表面抵抗値が、一般に１０Ω／□以下、好ましくは０．００１〜５Ω／□の範囲、特に０．００５〜５Ω／□の範囲となるように設定される。
【００４２】
メッシュ状の導電層としては上記印刷メッシュ法により形成されたものの他に、透明フィルム上の銅箔等の層を網状にエッチング加工し、開口部を設けたもの、透明フィルム上に導電性インクをメッシュ状に印刷したもの、等を挙げることができる。
【００４３】
メッシュ状の導電層の場合、メッシュとしては、線径１μｍ〜１ｍｍ、開口率４０〜９５％のものが好ましい。より好ましい線径は１０〜５００μｍ、開口率は５０〜９５％である。メッシュ状の導電層において、線径が１ｍｍを超えると電磁波シールド性が向上するが、開口率が低下し両立させることができない。１μｍ未満では、メッシュとしての強度が下がり取扱いが困難となる。また開口率が９５％を超えるとメッシュとしての形状を維持することが困難であり、４０％未満では光透過性が低下し、ディスプレイからの光量も低下する。
【００４４】
なお、導電性メッシュの開口率とは、当該導電性メッシュの投影面積における開口部分が占める面積割合を言う。
【００４５】
金属箔等の導電性の箔をパターンエッチングしたもの場合、金属箔の金属としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、鉄、真鍮、或いはこれらの合金、好ましくは銅、ステンレス、アルミニウムが用いられる。
【００４６】
金属箔の厚さは、薄過ぎると取扱い性やパターンエッチングの作業性等の面で好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼし、エッチング工程の所要時間が長くなることから、１〜２００μｍ程度とするのが好ましい。
【００４７】
エッチングパターンの形状には特に制限はなく、例えば四角形の孔が形成された格子状の金属箔や、円形、六角形、三角形又は楕円形の孔が形成されたパンチングメタル状の金属箔等が挙げられる。また、孔は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この金属箔の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００４８】
或いは、メッシュ状の導電層を、透明基板に導電性インキをパターン印刷して形成しても良い。次のような導電性インキを用い、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法、静電印刷法等により透明基板の表面に印刷することができる。
【００４９】
一般に、粒径１００μｍ以下のカーボンブラック粒子、或いは銅、アルミニウム、ニッケル等の金属又は合金の粒子等の導電性材料の粒子を５０〜９０重量％濃度にＰＭＭＡ、ポリ酢酸ビニル、エポキシ樹脂等のバインダ樹脂に分散させたものである。このインクは、トルエン、キシレン、塩化メチレン、水等の溶媒に適当な濃度に希釈または分散させて透明基板の板面に印刷により塗布し、その後必要に応じ室温〜１２０℃で乾燥させ基板上に塗着させる。上記と同様の導電性材料の粒子をバインダ樹脂で覆った粒子を静電印刷法により直接塗布し熱等で固着させる。
【００５０】
このようにして形成される印刷膜の厚さは、薄過ぎると電磁波シールド性が不足するので好ましくなく、厚過ぎると得られるフィルムの厚さに影響を及ぼすことから、０．５〜１００μｍ程度とするのが好ましい。
【００５１】
このようなパターン印刷によれば、パターンの自由度が大きく、任意の線径、間隔及び開口形状の導電層を形成することができ、従って、所望の電磁波遮断性と光透過性を有するプラスチックフィルムを容易に形成することができる。
【００５２】
導電層のパターン印刷の形状には特に制限はなく、例えば四角形の開口部が形成された格子状の印刷膜や、円形、六角形、三角形又は楕円形の開口部が形成されたパンチングメタル状の印刷膜等が挙げられる。また、開口部は規則的に並んだものに限らず、ランダムパターンとしても良い。この印刷膜の投影面における開口部分の面積割合は、２０〜９５％であることが好ましい。
【００５３】
本発明では、メッシュ状の導電層として、前記したように印刷メッシュ法で行うことが好ましい。
【００５４】
上記印刷メッシュ法について、図２にその導電層の形成方法を説明する概略図を示す。まず(1)、(2)に示すように透明基板１上に水等の溶剤に対して可溶な材料を用いてドット２を印刷する。次いで、(3)に示すように、透明基板１のドット２の上及びドット２の間の透明基板露出面のすべてを覆うように導電材料層３を形成する。ドット上にも導電材料層３が設けられるが、余り厚すぎると後の洗浄でドットを除去できなくなる。次に、この透明基板１を水等の溶剤によって洗浄する。この際、必要に応じ、超音波照射やブラシ、スポンジ等で擦るなどの溶解促進手段を併用してもよい。導電材料層３は、金属を蒸着することにより形成することも、低抵抗が得られやすく好ましい。
【００５５】
上記洗浄により、(4)に示すように可溶性のドット２が溶解し、このドット２上の導電材料も透明基板１から剥れて除去される。そして、ドット同士の間の領域に形成された導電材料よりなる導電性パターン（メッシュ状導電層）４が透明基板１上に残る。この導電性パターン４は、ドット１間の領域を占めるものであるから、全体としてはメッシュ状（格子状）となる。
【００５６】
従って、ドット２間の間隙を狭くしておくことにより、線幅の小さい格子状の導電性パターン４が形成される。また、各ドット２の面積を広くすることにより、開口率の大きなメッシュ状の導電性パターン４が形成される。ドット２を形成するための前記水等に対して可溶な印刷材料は、微粒子を分散させる必要のないものであり、低粘性のものでも充分使用できる。この低粘性の印刷材料を使用することにより、微細なドットパターンとなるようにドットを印刷することができる。
【００５７】
なお、上記(4)の工程後、必要に応じ仕上げ洗浄（リンス）し、乾燥することにより、電磁波シールド性光透過窓材用の導電層が得られる。
【００５８】
上記印刷メッシュ法において形成される塗工による導電層としては、ポリマー中に無機化合物の導電性粒子が分散された塗工層を挙げることができる。
【００５９】
導電性粒子を構成する無機化合物としては、例えば、アルミニウム、ニッケル、インジウム、クロム、金、バナジウム、スズ、カドミウム、銀、プラチナ、銅、チタン、コバルト、鉛等の金属、合金；或いはＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム−酸化スズ（ＩＴＯ、いわゆるインジウムドープ酸化スズ）、酸化スズ−酸化アンチモン（ＡＴＯ、いわゆるアンチモンドープ酸化スズ）、酸化亜鉛−酸化アルミニウム（ＺＡＯ；いわゆるアルミニウムドープ酸化亜鉛）等の導電性酸化物等を挙げることができる。特に、ＩＴＯが好ましい。平均粒径は１０〜１００００ｎｍ、特に１０〜５０ｎｍが好ましい。
【００６０】
ポリマーの例としては、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、マレイン酸樹脂、メラミン樹脂、ユリア樹脂、ポリイミド樹脂、含ケイ素樹脂等を挙げることができる。さらに、これらの樹脂のうち熱硬化性樹脂であることが好ましい。
【００６１】
上記塗工による導電層の形成は、ポリマー（必要により溶剤を用いて）中に上記導電性微粒子を混合等により分散させて塗工液を作製し、この塗工液を、透明基板上に塗工し、適宜乾燥、硬化させる。熱可塑性樹脂を用いた場合は、塗工後乾燥することにより、熱硬化型の場合は、乾燥、熱硬化することにより得られる。紫外線硬化性樹脂を用いた場合は、塗工後、必要に応じて乾燥し、紫外線照射することにより得られる。
【００６２】
上記塗工形成された導電層の厚さとしては、０．０１〜５μｍ、特に０．０５〜３μｍが好ましい。前記厚さが、０．０１μｍ未満であると、電磁波シールド性が充分でないことがあり、一方５μｍを超えると、得られるフィルムの透明性を低下させる場合がある。
【００６３】
前記の図２で示した印刷メッシュ法において、導電層を気相成膜法により形成する場合（金属蒸着膜）、その形成方法としては、特に制限はないが、スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着等の気相製膜法や、印刷、塗工等が挙げることができるが、気相製膜法（スパッタリング、イオンプレーティング、電子ビーム蒸着、真空蒸着、化学蒸着）が好ましい。前記の導電性粒子を構成する無機化合物を用いて導電層を形成することができる。導電層を気相成膜法で形成した場合は、その層厚は、０．１〜１０μｍ、さらに２〜８μｍ、特に３〜６μｍが好ましい。
【００６４】
導電層上に、さらに金属メッキ層を、導電性を向上させるためは設けても良い。金属メッキ層は、公知の電解メッキ法、無電解メッキ法により形成することができる。メッキに使用される金属としては、一般に銅、銅合金、ニッケル、アルミ、銀、金、亜鉛又はスズ等を使用することが可能であり、好ましくは銅、銅合金、銀、又はニッケルであり、特に経済性、導電性の点から、銅又は銅合金を使用することが好ましい。
【００６５】
また、防眩性能を付与させても良い。この防眩化処理を行う場合、（メッシュ）導電層の表面に黒化処理を行っても良い。例えば、金属膜の酸化処理、クロム合金等の黒色メッキ、黒又は暗色系のインクの塗布等を行うことができる。
【００６６】
本発明の反射防止層は、一般にハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜であるか、或いはハードコート層と低屈折率層との間にさらに高屈折率層が設けられた複合膜である。反射防止層は基板より屈折率の低いハードコート層のみであっても有効である。但し、基板の屈折率が低い場合、透明フィルムより屈折率の高いハードコート層とその上に設けられた低屈折率層との複合膜、或いは低屈折率層上にさらに高屈折率層が設けられた複合膜としても良い。
【００６７】
ハードコート層としては、アクリル樹脂層、エポキシ樹脂層、ウレタン樹脂層、シリコーン樹脂層等を挙げることができ、通常その厚さは１〜５０μｍ、好ましくは１〜１０μｍである。熱硬化性樹脂、紫外線硬化性樹脂のいずれでもよいが、紫外線硬化性樹脂が好ましい。
【００６８】
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、レゾルシノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フラン樹脂、シリコン樹脂などを挙げることができる。
【００６９】
紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート［（メタ）アクリレートはアクリレート及びメタアクリレートを意味する］、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルポリエトキシ（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、フェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカンモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートモノマー類；ポリオール化合物（例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，９−ノナンジオール、２−エチル−２−ブチル−１，３−プロパンジオール、トリメチロールプロパン、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、ビスフェノールＡポリエトキシジオール、ポリテトラメチレングリコール等のポリオール類、前記ポリオール類とコハク酸、マレイン酸、イタコン酸、アジピン酸、水添ダイマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸等の多塩基酸又はこれらの酸無水物類との反応物であるポリエステルポリオール類、前記ポリオール類とε−カプロラクトンとの反応物であるポリカプロラクトンポリオール類、前記ポリオール類と前記、多塩基酸又はこれらの酸無水物類のε−カプロラクトンとの反応物、ポリカーボネートポリオール、ポリマーポリオール等）と有機ポリイソシアネート（例えば、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４′−ジイソシアネート、ジシクロペンタニルジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４′−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，２′−４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート等）と水酸基含有（メタ）アクリレート（例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェニルオキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキサン−１，４−ジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等）の反応物であるポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類等を挙げることができる。これら化合物は１種又は２種以上、混合して使用することができる。これらの紫外線硬化性樹脂を、熱重合開始剤とともに用いて熱硬化性樹脂として使用してもよい。
【００７０】
紫外線硬化性樹脂の光重合開始剤として、紫外線硬化性樹脂の性質に適した任意の化合物を使用することができる。例えば、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１などのアセトフェノン系、ベンジルジメチルケタールなどのベンゾイン系、ベンゾフェノン、４−フェニルベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系、イソプロピルチオキサントン、２−４−ジエチルチオキサントンなどのチオキサントン系、その他特殊なものとしては、メチルフェニルグリオキシレートなどが使用できる。特に好ましくは、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−（４−（メチルチオ）フェニル）−２−モルホリノプロパン−１、ベンゾフェノン等が挙げられる。これら光重合開始剤は、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸のごとき安息香酸系叉は、第３級アミン系などの公知慣用の光重合促進剤の１種または２種以上を任意の割合で混合して使用することができる。また、光重合開始剤のみの１種または２種以上の混合で使用することができる。特に１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャリティケミカルズ社製、イルガキュア１８４）が好ましい。
【００７１】
光重合開始剤の量は、樹脂組成物に対して０．１〜１０質量％、好ましくは０．１〜５質量％である。
【００７２】
ハードコート層は、透明フィルムより屈折率が低いことが好ましく、上記紫外線硬化性樹脂を用いることにより一般に基板より低い屈折率を得られやすい。従って、透明基板としては、ＰＥＴ等の高い屈折率の材料を用いることが好ましい。このため、ハードコート層は、屈折率を、１．６０以下にすることが好ましい。膜厚は前記の通りである。
【００７３】
ハードコート層とするには、上記の紫外線硬化性樹脂（モノマー、オリゴマー）の内、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス〔（メタ）アクリロキシエチル〕イソシアヌレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等の硬質の多官能モノマーを主に使用することが好ましい。
【００７４】
本発明において、ハードコート層を機能層として、メッシュ状導電層上に設ける場合は、上記のように０．２未満（特に０．１未満）の表面粗さ（Ｒａ）、そして２Ｈ以上の鉛筆硬度を有することが好ましい。このためには、一般にハードコート層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることが好ましい。尚、硬化収縮率は、
［｛（硬化物比重）−（硬化前比重）｝／｛硬化前比重｝］×１００
により得られる。
【００７５】
このような硬化収縮率を有するハードコート層は、上記ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレートと、他のモノマー又はオリゴマーとの組合せが好ましい。他のモノマー又はオリゴマーとしては、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジプロポキシジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の２官能又は３官能（メタ）アクリレートモノマー類；及びポリウレタン（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマー類を挙げることができ、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応物であるビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレートオリゴマーが好ましい。
【００７６】
特に、上記ペンタエリスリトール多官能（メタ）アクリレートと、ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレートとの組合せが好ましく、前者：後者が、９０：１０〜１０：９０、特に９０：１０〜２０：８０が好ましい。
【００７７】
或いは、上記特定の表面粗さ（Ｒａ）及び鉛筆硬度を有するハードコート層を得るために、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン骨格を有する多官能（メタ）アクリレートモノマー類を主体（一般に９０質量％以上、特に９５質量％以上）として使用することも好ましい。
【００７８】
ハードコート層には、後述する高屈折率層で使用される金属微粒子、低屈折率で使用される微粒子等のフィラーを含むことができる。
【００７９】
高屈折率層は、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に、ＩＴＯ、ＡＴＯ、Ｓｂ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3、ＳｂＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＺｎＯ、ＺｒＯ2、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2等の導電性金属酸化物微粒子（無機化合物）が分散した層とすることが好ましい。金属酸化物微粒子としては、平均粒径１０〜１００００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍのものが好ましい。特にＩＴＯ（特に平均粒径１０〜５０ｎｍのもの）、ＳｎＯ2−ＺｒＯ2−Ｓｂ2Ｏ5−ＳｉＯ2混合物（例、商品名サンコロイドＨＸ−３０５Ｍ５、日産化学工業（株）製）が好ましい。屈折率を１．６４以上としたものが好適である。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８０】
なお、高屈折率層が導電層である場合、この高屈折率層の屈折率を１．６４以上とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．５％以内にすることができ、１．６９以上、好ましくは１．６９〜１．８２とすることにより反射防止フィルムの表面反射率の最小反射率を１．０％以内にすることができる。
【００８１】
低屈折率層は、シリカ、フッ素樹脂等の微粒子、好ましくは中空シリカを１０〜６０重量％（好ましくは１０〜５０質量％）がポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）中に分散した層（硬化層）であることが好ましい。この低屈折率層の屈折率は、１．４０〜１．５１が好ましい。この屈折率が１．５１超であると、反射防止フィルムの反射防止特性が低下する。膜厚は一般に１０〜５００ｎｍの範囲、好ましくは２０〜２００ｎｍである。
【００８２】
中空シリカとしては、平均粒径１０〜１００ｎｍ、好ましくは１０〜５０ｎｍ、比重０．５〜１．０、好ましくは０．８〜０．９のものが好ましい。
【００８３】
ハードコート層は、可視光線透過率が８５％以上であることが好ましい。高屈折率層及び低屈折率層の可視光線透過率も、いずれも８５％以上であることが好ましい。
【００８４】
反射防止層が上記３層より構成される場合、例えば、ハードコート層の厚さは２〜２０μｍ、高屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍ、低屈折率層の厚さは７５〜２００ｎｍであることが好ましい。またこのような３層の合計の可視光線透過率も、８５％以上であることが好ましい。
【００８５】
低屈折率層を機能層とする場合は、前記ハードコート層の組成に基づいて低屈折率層の組成を決定することにより、規定の表面粗さ及び鉛筆硬度を得ることができる。
【００８６】
ハードコート層を含む反射防止層の、各層を形成するには、前記の通り、ポリマー（好ましくは紫外線硬化性樹脂）に必要に応じ上記の微粒子を配合し、得られた塗工液を塗工し、次いで乾燥、必要により熱硬化させるか、或いは塗工後、必要により乾燥し、紫外線を照射する。この場合、各層を１層ずつ塗工し硬化させてもよく、全層を塗工した後、まとめて硬化させてもよい。
【００８７】
塗工の具体的な方法としては、アクリル系モノマー等を含む紫外線硬化性樹脂をトルエン等の溶媒で溶液にした塗工液をグラビアコータ等によりコーティングし、その後乾燥し、次いで紫外線により硬化する方法を挙げることができる。このウェットコーティング法であれば、高速で均一に且つ安価に成膜できるという利点がある。このコーティング後に例えば紫外線を照射して硬化することにより密着性の向上、膜の硬度の上昇という効果が得られる。前記導電層も同様に形成することができる。
【００８８】
紫外線硬化の場合は、光源として紫外〜可視領域に発光する多くのものが採用でき、例えば超高圧、高圧、低圧水銀灯、ケミカルランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、マーキュリーハロゲンランプ、カーボンアーク灯、白熱灯、レーザー光等を挙げることができる。照射時間は、ランプの種類、光源の強さによって一概には決められないが、数秒〜数分程度である。また、硬化促進のために、予め積層体を４０〜１２０℃に加熱し、これに紫外線を照射してもよい。
【００８９】
本発明の反射防止層は、上記のように塗工により形成することが好ましいが、気相成膜法により形成しても良い。通常、高屈折率層及び低屈折率層を、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９０】
高屈折率層及び低屈折率層等の組合せの例としては、下記のものを挙げることができる。
【００９１】
（ａ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計２層に積層したもの、（ｂ） 高屈折率層／低屈折率層を２層ずつ交互に、合計４層に積層したもの、（ｃ） 中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順で各１層ずつ、合計３層に積層したもの、（ｄ） 高屈折率層／低屈折率層の順で各層を交互に３層ずつ、合計６層に積層したもの。高屈折率層としては、ＩＴＯ（スズインジウム酸化物）又はＺｎＯ、ＡｌをドープしたＺｎＯ、ＴｉＯ2、ＳｎＯ2、ＺｒＯ等の薄膜を採用することができる。また、低屈折折率層としては、ＳｉＯ2、ＭｇＦ2、Ａｌ2Ｏ3等の屈折率が１．６以下の薄膜を用いることができる。
【００９２】
上記高屈折率層及び低屈折率層等は、物理蒸着法または化学蒸着法により成膜することができる。物理蒸着法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、レーザーアブレーション法が挙げられるが、一般的にはスパッタリング法で成膜するのが好ましい。化学蒸着法としては、常圧ＣＶＤ法、減圧ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。
【００９３】
近赤外線吸収層は、一般に、透明フィルムの表面に色素等を含む層が形成することにより得られる。近赤外線吸収層は、例えば色素及びバインダ樹脂又は紫外線硬化性又は電子線硬化性の樹脂を含む塗工液を塗工、必要により乾燥、そして硬化させることにより得られる。フィルムとして使用する場合は、一般に近赤外線カットフィルムであり、例えば色素等を含有するフィルムである。色素としては、一般に８００〜１２００ｎｍの波長に吸収極大を有するもので、例としては、フタロシアニン系色素、金属錯体系色素、ニッケルジチオレン錯体系色素、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、ポリメチン系色素、アゾメチン系色素、アゾ系色素、ポリアゾ系色素、ジイモニウム系色素、アミニウム系色素、アントラキノン系色素、を挙げることができ、特にシアニン系色素又はスクアリリウム系色素が好ましい。これらの色素は、単独又は組み合わせて使用することができる。バインダ樹脂の例としては、アクリル樹脂等の熱可塑性樹脂を挙げることができる。
【００９４】
本発明では、近赤外線吸収層に、ネオン発光の吸収機能を付与することにより色調の調節機能を持たせても良い。このために、ネオン発光の吸収層を設けても良いが、近赤外線吸収層にネオン発光の選択吸収色素を含有させても良い。
【００９５】
ネオン発光の選択吸収色素としては、シアニン系色素、スクアリリウム系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ポリメチン系色素、ポリアゾ系色素、アズレニウム系色素、ジフェニルメタン系色素、トリフェニルメタン系色素を挙げることができる。このような選択吸収色素は、５８５ｎｍ付近のネオン発光の選択吸収性とそれ以外の可視光波長において吸収が小さいことが必要であるため、吸収極大波長が５７５〜５９５ｎｍであり、吸収スペクトル半値幅が４０ｎｍ以下であるものが好ましい。
【００９６】
また、近赤外線やネオン発光の吸収色素を複数種組み合わせる場合、色素の溶解性に問題がある場合、混合による色素間の反応ある場合、耐熱性、耐湿性等の低下が認められる場合には、すべての近赤外線吸収色素を同一の層に含有させる必要はなく、別の層に含有させても良い。
【００９７】
また、光学特性に大きな影響を与えない限り、さらに着色用の色素、紫外線吸収剤、酸化防止剤等を加えても良い。
【００９８】
本発明の光学フィルタの近赤外線吸収特性としては、８５０〜１０００ｎｍの透過率を、２０％以下、さらに１５％するのが好ましい。また選択吸収性としては、５８５ｎｍの透過率が５０％以下であることが好ましい。特に前者の場合には、周辺機器のリモコン等の誤作動が指摘されている波長領域の透過度を減少させる効果があり、後者の場合は、５７５〜５９５ｎｍにピークを持つオレンジ色が色再現性を悪化させる原因であることから、このオレンジ色の波長を吸収させる効果があり、これにより真赤性を高めて色の再現性を向上させたものである。
【００９９】
近赤外線吸収層の層厚は、０．５〜５０μｍが一般的である。
【０１００】
本発明の透明粘着剤層は、本発明の光学フィルムをディスプレイに接着するための層であり、接着機能を有するものであればどのような樹脂でも使用することができる。例えば、ブチルアクリレート等から形成されたアクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ（スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン）及びＳＢＳ（スチレン／ブタジエン／スチレン）等の熱可塑性エラストマー（ＴＰＥ）を主成分とするＴＰＥ系粘着剤及び接着剤等も用いることができる。
【０１０１】
その層厚は、一般に５〜５００μｍ、特に１０〜１００μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１０２】
本発明において透明フィルム２枚を使用する場合、これらの接着には、例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−アクリル酸メチル共重合体、アクリル樹脂（例、エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸エチル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル酸メチル共重合体、金属イオン架橋エチレン−（メタ）アクリル酸共重合体）、部分鹸化エチレン−酢酸ビニル共重合体、カルボキシル化エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−（メタ）アクリル−無水マレイン酸共重合体、エチレン−酢酸ビニル−（メタ）アクリレート共重合体等のエチレン系共重合体を挙げることができる（なお、「（メタ）アクリル」は「アクリル又はメタクリル」を示す。）。その他、ポリビニルブチラール（ＰＶＢ）樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、ゴム系粘着剤、ＳＥＢＳ及びＳＢＳ等の熱可塑性エラストマー等も用いることができるが、良好な接着性が得られやすいのはアクリル樹脂系粘着剤、エポキシ樹脂である。
【０１０３】
その層厚は、一般に１０〜５０μｍ、好ましくは、２０〜３０μｍの範囲が好ましい。光学フィルタは、一般に上記粘着剤層をディスプレイのガラス板に加熱圧着することによる装備することができる。
【０１０４】
上記透明粘着剤層の材料として、ＥＶＡも使用する場合、ＥＶＡとしては酢酸ビニル含有量が５〜５０重量％、好ましくは１５〜４０重量％のものが使用される。酢酸ビニル含有量が５重量％より少ないと透明性に問題があり、また４０重量％を超すと機械的性質が著しく低下する上に、成膜が困難となり、フィルム相互のブロッキングが生じ易い。
【０１０５】
架橋剤としては加熱架橋する場合は、有機過酸化物が適当であり、シート加工温度、架橋温度、貯蔵安定性等を考慮して選ばれる。使用可能な過酸化物としては、例えば２，５−ジメチルヘキサン−２，５−ジハイドロパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン−３；ジーｔ−ブチルパーオキサイド；ｔ−ブチルクミルパーオキサイド；２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン；ジクミルパーオキサイド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン；ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）バレレート；２，２−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ブタン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート；ベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシアセテート；２，５−ジメチル−２，５−ビス（第３ブチルパーオキシ）ヘキシン−３；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン；１，１−ビス（第３ブチルパーオキシ）シクロヘキサン；メチルエチルケトンパーオキサイド；２，５−ジメチルヘキシル−２，５−ビスパーオキシベンゾエート；第３ブチルハイドロパーオキサイド；ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド；ｐ−クロルベンゾイルパーオキサイド；第３ブチルパーオキシイソブチレート；ヒドロキシヘプチルパーオキサイド；クロルヘキサノンパーオキサイド等を挙げることができる。これらの過酸化物は１種を単独で又は２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００重量部に対して、５質量部以下、好ましくは０．５〜５．０質量部の割合で使用される。
【０１０６】
有機過酸化物は通常ＥＶＡに対し押出機、ロールミル等で混練されるが、有機溶媒、可塑剤、ビニルモノマー等に溶解し、ＥＶＡのフィルムに含浸法により添加しても良い。
【０１０７】
なお、ＥＶＡの物性（機械的強度、光学的特性、接着性、耐候性、耐白化性、架橋速度など）改良のために、各種アクリロキシ基又はメタクリロキシ基及びアリル基含有化合物を添加することができる。この目的で用いられる化合物としてはアクリル酸又はメタクリル酸誘導体、例えばそのエステル及びアミドが最も一般的であり、エステル残基としてはメチル、エチル、ドデシル、ステアリル、ラウリル等のアルキル基の他、シクロヘキシル基、テトラヒドロフルフリル基、アミノエチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシプロピル基、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル基などが挙げられる。また、エチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール等の多官能アルコールとのエステルを用いることもできる。アミドとしてはダイアセトンアクリルアミドが代表的である。
【０１０８】
その例としては、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、グリセリン等のアクリル又はメタクリル酸エステル等の多官能エステルや、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、フタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、マレイン酸ジアリル等のアリル基含有化合物が挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して、通常ＥＶＡ１００質量部に対して０．１〜２質量部、好ましくは０．５〜５質量部用いられる。
【０１０９】
ＥＶＡを光により架橋する場合、上記過酸化物の代りに光増感剤が通常ＥＶＡ１００質量部に対して５質量部以下、好ましくは０．１〜３．０質量部使用される。
【０１１０】
この場合、使用可能な光増感剤としては、例えばベンゾイン、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ジベンジル、５−ニトロアセナフテン、ヘキサクロロシクロペンタジエン、ｐ−ニトロジフェニル、ｐ−ニトロアニリン、２，４，６−トリニトロアニリン、１，２−ベンズアントラキノン、３−メチル−１，３−ジアザ−１，９−ベンズアンスロンなどが挙げられ、これらは１種を単独で或いは２種以上を混合して用いることができる。
【０１１１】
また、接着促進剤としてシランカップリング剤が併用される。このシランカップリング剤としては、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【０１１２】
シランカップリング剤は、一般にＥＶＡ１００質量部に対して０．００１〜１０質量部、好ましくは０．００１〜５質量部の割合で１種又は２種以上が混合使用される。
【０１１３】
なお、本発明に係るＥＶＡ接着層には、その他、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、老化防止剤、塗料加工助剤、着色剤等を少量含んでいてもよく、また、場合によってはカーボンブラック、疎水性シリカ、炭酸カルシウム等の充填剤を少量含んでも良い。
【０１１４】
上記接着層は、例えばＥＶＡと上述の添加剤とを混合し、押出機、ロール等で混練した後、カレンダー、ロール、Ｔダイ押出、インフレーション等の成膜法により所定の形状にシート成形することにより製造される。
【０１１５】
反射防止層上には、保護層を設けても良い。保護層は、前記ハードコート層と同様にして形成することが好ましい。
【０１１６】
透明粘着剤層上に設けられる剥離シートの材料としては、ガラス転移温度が５０℃以上の透明のポリマーが好ましく、このような材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリシクロヘキシレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ナイロン４６、変性ナイロン６Ｔ、ナイロンＭＸＤ６、ポリフタルアミド等のポリアミド系樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリチオエーテルサルフォン等のケトン系樹脂、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン等のサルフォン系樹脂の他に、ポリエーテルニトリル、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース、ポリスチレン、ポリビニルクロライド等のポリマーを主成分とする樹脂を用いることができる。これら中で、ポリカーボネート、ポリメチルメタアクリレート、ポリビニルクロライド、ポリスチレン、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いることができる。厚さは１０〜２００μｍが好ましく、特に３０〜１００μｍが好ましい。
【０１１７】
本発明の光学フィルタは、例えば、長尺状の透明フィルムの一方の表面に、メッシュ状導電層、ハードコート層及び反射防止層等を順次設け、次いで、透明フィルムの他方の表面に、近赤外線吸収層及び透明粘着剤層を設けることにより製造することができる。各層の設置は、連続的に行っても、バッチで行っても良い。このようにして得られた長尺状の積層体を、裁断することにより光学フィルタを得ることができる。長尺状の透明フィルムに、各層を塗工（塗布）する際に使用される塗工機としては、スリットダイ、リップダイレクト、リップリバース等使用することができる。また両面を同時に塗布する場合は、リップダイを両面に配置した両面同時塗工機が一般に使用される。
【０１１８】
このようにして得られる本発明のディスプレイ用光学フィルタは、ＰＤＰ等のディスプレイの画像表示ガラス板の表面に貼り合わされて使用される。
【０１１９】
本発明のＰＤＰ表示装置は、透明基板としてプラスチックフィルムを使用しているので、本発明の光学フィルタをその表面であるガラス板表面に直接貼り合わせることができるため、特に透明フィルムを１枚使用した場合は、ＰＤＰ自体の軽量化、薄型化、低コスト化に寄与できる。また、ＰＤＰの前面側に透明成形体からなる前面板を設置する場合に比べると、ＰＤＰとＰＤＰ用フィルタとの間に屈折率の低い空気層をなくすことができるため、界面反射による可視光反射率の増加、二重反射などの問題を解決でき、ＰＤＰの視認性をより向上させることができる。
【０１２０】
従って、本発明の光学フィルタを有するディスプレイは、反射防止効果、帯電防止性に優れ、危険な電磁波の放射もほとんどなく、見やすく、ホコリ等が付きにくく、寸法安定性に優れたディスプレイということができる。
【実施例】
【０１２１】
以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１２２】
［実施例１］
＜ディスプレイ用光学フィルタの作製＞
（１）メッシュ状導電層の形成
表面に易接着層（ポリエステルポリウレタン；厚さ１００ｎｍ）を有する厚さ１００μｍの長尺状ポリエチレンテレフタレートフィルム（幅：６００ｍｍ、長さ１００ｍ）の易接着層上に、ポリビニルアルコールの２０％水溶液をドット状に印刷した。ドット１個の大きさは１辺が２３４μｍの正方形状であり、ドット同士間の間隔は２０μｍであり、ドット配列は正方格子状である。印刷厚さは、乾燥後で約５μｍである。
【０１２３】
その上に、銅を平均膜厚４μｍとなるように真空蒸着した。次いで、常温の水に浸漬し、スポンジで擦ることによりドット部分を溶解除去し、次いで水でリンスした後、乾燥してポリエチレンフィルム上にメッシュ状導電層を形成した。
【０１２４】
このフィルム表面の導電層は、正確にドットのネガパターンに対応した正方格子状のものであり、線幅は２０μｍ、開口率は７７％であった。また、導電層（銅層）の平均厚さは４μｍであった。また表面粗さ（Ｒａ）は１．８８であった。
【０１２５】
（２）ハードコート層の形成
下記の配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
（ＤＰＨＡ；日本化薬（株）製） ２０質量部
ビスフェノールＡジアクリレート
（Ａ−ＢＰＥ−４、新中村化学（株）製） ８０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記メッシュ状導電層上にバーコータを用いて塗布し、紫外線照射により硬化させた。これにより、メッシュ状導電層上に厚さ５μｍのハードコート層（屈折率１．５２）を形成した。
【０１２６】
これによりディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１２７】
［実施例２］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１２８】
配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） ５０質量部
ビスフェノールＡジアクリレート
（Ａ−ＢＰＥ−４、新中村化学（株）製） ５０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１２９】
［実施例３］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３０】
配合：
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴ） １００質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３１】
［実施例４］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３２】
配合：
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（Ａ−ＴＭＭ−３；新中村化学（株）製） ５０質量部
ジプロピレングリコールジアクリレート（ＰＯ２モル）
（ＡＰＧ−１００；新中村化学（株）製） ５０質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３３】
［実施例５］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３４】
配合：
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（Ａ−ＴＭＭ−３；新中村化学（株）製） ２５質量部
ジプロピレングリコールジアクリレート（ＰＯ２モル）
（ＡＰＧ−１００；新中村化学（株）製） ２５質量部
サンコロイドＨＸ−３０５Ｍ５
（ＳｎＯ2−ＺｒＯ2−Ｓｂ2Ｏ5−ＳｉＯ2／メタノール
＝３０／７０；粒径１５μｍ、日産化学工業（株）製 １６０質量部
メチルエチルケトン ４５質量部
トルエン ４５質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３５】
［実施例６］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３６】
配合：
ペンタエリスリトールトリアクリレート
（Ａ−ＴＭＭ−３；新中村化学（株）製） １５質量部
ジプロピレングリコールジアクリレート（ＰＯ２モル）
（ＡＰＧ−１００；新中村化学（株）製） １５質量部
サンコロイドＨＸ−３０５Ｍ５
（ＳｎＯ2−ＺｒＯ2−Ｓｂ2Ｏ5−ＳｉＯ2／メタノール
＝３０／７０；粒径１５μｍ、日産化学工業（株）製） ２３０質量部
メチルエチルケトン ２０質量部
トルエン ２０質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３７】
［比較例１］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１３８】
配合：
ビスフェノールＡジアクリレート
（Ａ−ＢＰＥ−４、新中村化学（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１３９】
［比較例２］
ハードコート層の配合、下記のように配合に変更した以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４０】
配合：
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ） １００質量部
メチルエチルケトン １００質量部
トルエン １００質量部
イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカル社製） ４質量部
【０１４１】
［実施例７］
さらに下記の各層を設けた以外同様にして実施例１と同様にしてディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４２】
（３）低屈折率層の形成
下記の配合：
オプスターＪＮ―７２１２（ＪＳＲ（株）製） １００質量部
メチルエチルケトン １１７質量部
メチルイソブチルケトン １１７質量部
を混合して得た塗工液を、上記ハードコート層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させ、次いでその紫外線照射により硬化させた。これにより、ハードコート層上に厚さ９０ｎｍの低屈折率層（屈折率１．４２）を形成した。
【０１４３】
（４）近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）の形成
下記の配合：
ポリメチルメタクリレート ３０質量部
ＴＰ−２（山田化学工業（株）製） ０．４質量部
Ｐｌａｓｔ Ｒｅｄ ８３８０（有本化学工業（株）製） ０．１質量部
ＣＩＲ−１０８５（日本カーリット（株）製） １．３質量部
ＩＲ−１０Ａ（（株）日本触媒製） ０．６質量部
メチルエチルケトン １５２質量部
メチルイソブチルケトン １８質量部
を混合して得た塗工液を、上記ポリエチレンフィルムの裏面にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、ポリエチレンフィルム上に厚さ５μｍの近赤外線吸収層（色調補正機能を有する）を形成した。
【０１４４】
（５）透明粘着剤層の形成
下記の配合：
ＳＫダイン１８１１Ｌ（綜研化学（株）製） １００質量部
硬化剤Ｌ−４５（綜研化学（株）製） ０．４５質量部
トルエン １５質量部
酢酸エチル ４質量部
を混合して得た塗工液を、上記近赤外線吸収層上にバーコータを用いて塗布し、８０℃のオーブン中で５分間乾燥させた。これにより、近赤外線吸収層上に厚さ２５μｍの透明粘着剤層を形成した。
【０１４５】
これによりディスプレイ用光学フィルタを得た。
【０１４６】
得られたディスプレイ用光学フィルタを下記のように評価した。
【０１４７】
［光学フィルタの評価］
（１）表面粗さ
表面粗さ（Ｒａ）は、接触式表面粗さ計（Talystep；テーラーホプソン（株）製）を用い、実施例及び比較例で得られたハードコート層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を測定する。尚、中心線は、長尺状ＰＥＴフィルムの長さ方向の中心線である。
【０１４８】
（２）鉛筆硬度
鉛筆硬度は、実施例及び比較例で得られたハードコート層について、ＪＩＳ−Ｋ−５６００（２００２年）に準拠して測定する。
【０１４９】
（３）硬化収縮率
実施例及び比較例で得られたハードコート層の硬化前と硬化後の比重を測定した。比重は、ＪＩＳ−Ｋ−６８３３に従い測定する。
【０１５０】
そして硬化収縮率は、
［｛（硬化物比重）−（硬化前比重）｝／｛硬化前比重｝］×１００
により計算した。
【０１５１】
上記結果を表１に示す。
【０１５２】
【表１】
【０１５３】
実施例１〜６で得られたＰＤＰフィルタは、膜強度、表面の平坦性の両方において優れていた。これは硬化収縮率が適当な範囲にあるためと推測される。
【０１５４】
また、実施例１のハードコート層を有し、さらに反射防止層、近赤外線吸収層等を設けた実施例７の光学フィルタは、優れた電磁波シールド性、高い透過率を示した。
【図面の簡単な説明】
【０１５５】
【図１】本発明の光学フィルタの基本構成の１例を示す概略断面図である。
【図２】印刷メッシュ法によるメッシュ状導電層の形成方法を説明する概略図である。
【符号の説明】
【０１５６】
１１ ディスプレイ用光学フィルタ
１２ 透明フィルム
１３ メッシュ状導電層
１６ ハードコート層
１７ 反射防止層
１４ 近赤外線吸収層
１５ 透明粘着剤層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１枚の透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた機能層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能層の表面が、０．２未満の表面粗さ（Ｒａ）を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２】
機能層の表面が、２Ｈ以上の鉛筆硬度を有する請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタ
【請求項３】
機能層が、ハードコート層である請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタ
【請求項４】
機能層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にある請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ
【請求項５】
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層の表面が、０．２未満の表面粗さ（Ｒａ）及び２Ｈ以上の鉛筆硬度を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項６】
ハードコート層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にある請求項５に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項７】
メッシュ状導電層の層厚が、１〜１０μｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項８】
メッシュ状導電層が、金属蒸着膜を含む請求項１〜７のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項９】
ハードコート層の上に、さらにハードコート層より屈折率の低い低屈折率層が形成されている請求項３〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１０】
近赤外線吸収層の、透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項５〜９のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１１】
近赤外線吸収層が粘着性を有する請求項５〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１２】
透明フィルムがプラスチックフィルムである請求項１〜１１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１３】
透明粘着剤層又は粘着性近赤外線吸収層の上に剥離シートが設けられている請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１４】
少なくとも１枚の透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた機能層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１５】
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１６】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１７】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項１８】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項１】
少なくとも１枚の透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた機能層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能層の表面が、０．２未満の表面粗さ（Ｒａ）を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項２】
機能層の表面が、２Ｈ以上の鉛筆硬度を有する請求項１に記載のディスプレイ用光学フィルタ
【請求項３】
機能層が、ハードコート層である請求項１又は２に記載のディスプレイ用光学フィルタ
【請求項４】
機能層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にある請求項１〜３のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ
【請求項５】
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層の表面が、０．２未満の表面粗さ（Ｒａ）及び２Ｈ以上の鉛筆硬度を有することを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項６】
ハードコート層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にある請求項５に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項７】
メッシュ状導電層の層厚が、１〜１０μｍである請求項１〜６のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項８】
メッシュ状導電層が、金属蒸着膜を含む請求項１〜７のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項９】
ハードコート層の上に、さらにハードコート層より屈折率の低い低屈折率層が形成されている請求項３〜８のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１０】
近赤外線吸収層の、透明フィルムと反対側の表面に透明粘着剤層が設けられている請求項５〜９のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１１】
近赤外線吸収層が粘着性を有する請求項５〜１０のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１２】
透明フィルムがプラスチックフィルムである請求項１〜１１のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１３】
透明粘着剤層又は粘着性近赤外線吸収層の上に剥離シートが設けられている請求項１０〜１２のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１４】
少なくとも１枚の透明フィルム、その上に設けられたメッシュ状導電層、及びメッシュ状導電層上に設けられた機能層を含むディスプレイ用光学フィルタであって、
機能層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１５】
透明フィルムの一方の表面にメッシュ状導電層及びハードコート層がこの順で設けられ、他方の表面に近赤外線吸収層が設けられてなるディスプレイ用光学フィルタであって、
ハードコート層の硬化収縮率が、２〜１０％の範囲にあることを特徴とするディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１６】
プラズマディスプレイパネル用フィルタである請求項１〜１５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタ。
【請求項１７】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするディスプレイ。
【請求項１８】
請求項１〜１５のいずれか１項に記載のディスプレイ用光学フィルタが画像表示ガラス板の表面に貼り合わされていることを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【図１】
【図２】
【図２】
【公開番号】特開２００８−１５１８３１（Ｐ２００８−１５１８３１Ａ）
【公開日】平成２０年７月３日（２００８．７．３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００６−３３６７４９（Ｐ２００６−３３６７４９）
【出願日】平成１８年１２月１４日（２００６．１２．１４）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２０年７月３日（２００８．７．３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１８年１２月１４日（２００６．１２．１４）
【出願人】（０００００５２７８）株式会社ブリヂストン (11,469)
【Ｆターム（参考）】
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