【課題】 ガスバリアフィルムの基板として有用な、耐熱性と表面平滑性に優れたプラスチックフィルムを効率よく提供すること。
【解決手段】 特定の構造を有するガラス転移温度２５０℃以上のポリアリレートを複数層共流延または複数層逐次流延のいずれかの方法で製膜してなる、２層以上の多層構造を有することを特徴とするプラスチックフィルム。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）の構造を有するガラス転移温度２５０℃以上のポリアリレートを複数層共流延または複数層逐次流延のいずれかの方法で製膜してなる、２層以上の多層構造を有することを特徴とするプラスチックフィルム。
一般式（１）
【化１】

［一般式（１）中、Ｘは下記構造で表されるナフタレンまたはビフェニル構造を有する連結基を表し、Ａは一般式（２）で表される連結基を表す。］
【化２】

一般式（２）
【化３】

［一般式（２）中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表し、ｊおよびｋはそれぞれ独立に０〜４の整数を表す。ｊが２以上の場合、Ｒ¹は同じであっても異なっていてもよく、ｋが２以上の場合、Ｒ²は同じであっても異なっていても良い。
【請求項２】
前記プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面を構成する層は厚さが１〜５０μｍの表面平滑化層であり、該層の表面に高さ０．２μｍ以上の突起が存在しないことを特徴とする請求項１に記載のプラスチックフィルム。
【請求項３】
前記プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面を構成する層は厚さが１〜５０μｍの滑り層であることを特徴とする請求項１または２に記載のプラスチックフィルム。
【請求項４】
前記プラスチックフィルムが３層以上の多層構造を有し、前記プラスチックフィルムの一方の表面を構成する層は厚さが１〜５０μｍの表面平滑化層であり、かつ、前記プラスチックフィルムの他方の表面を構成する層は厚さが１〜５０μｍの滑り層であることを特徴とする請求項１に記載のプラスチックフィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のプラスチックフィルムからなる基板上に、少なくとも１層の無機物からなるバリア層を有することを特徴とするガスバリアフィルム。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載のプラスチックフィルムからなる基板上に、少なくとも１層の無機物からなるバリア層と少なくとも１層の有機層とを交互に有することを特徴とするガスバリアフィルム。
【請求項７】
請求項５または６に記載のガスバリアフィルムを基板として用いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセンス素子。
【請求項８】
請求項５または６に記載のガスバリアフィルムを用いることを特徴とする画像表示素子。

【図１】

【図２】

【公開番号】特開２００６−２６４１１８（Ｐ２００６−２６４１１８Ａ）
【公開日】平成１８年１０月５日（２００６．１０．５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−８５９０２（Ｐ２００５−８５９０２）
【出願日】平成１７年３月２４日（２００５．３．２４）
【出願人】（０００００５２０１）富士写真フイルム株式会社 (7,609)
【Ｆターム（参考）】