ポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩を含むミクロ構造
ミクロ構造化表面を含む光学フィルムなどのフィルムが記載される。ミクロ構造は、帯電防止剤として特定のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩を含む重合性樹脂組成物の反応生成物である。少なくとも２つの芳香環を含むジ（メタ）アクリレートモノマーを少なくとも１つと、反応性希釈剤と、帯電防止剤として特定のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩と、を含む重合性樹脂もまた記載される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
背景技術
米国特許出願公開第２００５／０１４８７２５号に記載されているような特定のミクロ構造化光学製品は、一般に「輝度向上フィルム」と呼ばれる。輝度向上フィルムは、エレクトロルミネッセントパネル、ラップトップコンピュータディスプレイ、ワードプロセッサ、デスクトップモニタ、テレビ、ビデオカメラ、並びに自動車及び飛行機用ディスプレイに使用されるものなどを含む液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のようなバックライト付きフラットパネルディスプレイの輝度を増大するため、多数の電子製品に利用される。
【０００２】
輝度向上フィルムは、望ましくは、生じる輝度増加（すなわち、「ゲイン」）に関連する輝度向上フィルムの屈折率を包含する固有の光学的及び物理的特性を示す。輝度の向上は、ディスプレイを照明するのにより少ない出力を使用することによって電子製品がより効率的に作動することを可能にし、それによって電力消費を低減し、その構成要素により低い熱負荷が加わり、製品の寿命を延長する。
【０００３】
輝度向上フィルムは、硬化又は重合化される高屈折率モノマーを含む重合性樹脂組成物から調製されてきた。多くの場合、ハロゲン化（例えば臭素化）モノマー又はオリゴマーを用いて、例えば１．５６以上の屈折率を得る。高屈折率組成物を得るための別の方法は、高屈折率ナノ粒子を含む重合性組成物を用いることである。
【発明の概要】
【０００４】
発明が解決しようとする課題
課題を解決するための手段
一実施形態では、以下の一般式を有する帯電防止剤を含む重合性樹脂組成物の反応生成物をミクロ構造が含む、重合化されたミクロ構造化表面を含む、輝度向上フィルムなどの、ミクロ構造化（例えば、光学）フィルムが、記載される。
【０００５】
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又は少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素又は炭素であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である。
【０００６】
ミクロ構造は、典型的には、ミクロ構造とは異なる組成を有する（所望により下地処理された）ベースフィルム層（偏光フィルムなど）上に配置される。
【０００７】
このような実施形態では、ミクロ構造は、ベースフィルム層に対して少なくとも９０％のクロスハッチ付着性を呈する。
【０００８】
別の実施形態では、少なくとも２つの芳香環を含むジ（メタ）アクリレートモノマーを少なくとも１つと、反応性希釈剤と、一般式ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍを有する帯電防止剤（上記）と、を含む重合性樹脂組成物が記載される。
【０００９】
これらの実施形態の各々において、帯電防止剤は、約０．５重量％〜約１５重量％の固体、好ましくは約３重量％〜約５重量％の固体、の範囲の量で存在し得る。更に、電荷減衰は、２１．１℃（７０°Ｆ）及び５０％相対湿度で試験するとき、好ましくは１．５秒未満、より好ましくは０．５秒未満である。
【００１０】
Ｒの炭素原子の合計は、少なくとも５、６、７又は８である。いくつかの実施形態では、ｘは４であり、Ｒの炭素原子の合計は少なくとも７である。いくつかの実施形態では、少なくとも１つのＲｆは、ＣＦ３である。いくつかの実施形態では、少なくとも１つのＲはメチルであり、他のＲ基は少なくとも２つの炭素原子を含む。他の実施形態では、ｘは３であり、各Ｒは少なくとも２つの炭素原子を含む。いくつかの実施形態では、Ｊは窒素である。他の実施形態では、Ｊはリンであり、ｘは４である。
【００１１】
一実施形態では、Ｒはヒドロキシル末端基を含む。重合性樹脂組成物は好ましくは、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの混合物などの（例えば、モノ）カルボン酸を少なくとも１つ更に含む。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
ここでは、ミクロ構造化表面を含む（例えば、光学）フィルムが記載される。ミクロ構造は、帯電防止剤として特定のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含む。
【００１３】
用語「導電性」は多くの場合、産業において「静電気拡散性」を指すために使用されるが、これらの用語は同義ではない。具体的には、導電性材料は、１×１０５オーム／スクエア以下の表面抵抗率を有し、これに対して、帯電防止材料は典型的には、１×１０１２オーム／スクエア以下の表面抵抗率を有すると考えられる。本明細書に開示されているミクロ構造化（例えば、光学）フィルムは、少なくとも約１×１０７、１×１０８、１×１０９、１×１０１０オーム／スクエア又は１×１０１１オーム／スクエアの表面抵抗率を呈し、それでも帯電防止特性を維持することができる。
【００１４】
本明細書に記載されている光学フィルムは典型的には、（例えば、予備成形された）光透過性ベース（例えば、フィルム）層及び光透過性の重合化されたミクロ構造化光学層から構成される。ベース層及び光学層は、同一物から形成することができるが、典型的には異なる高分子材料から形成される。
【００１５】
米国特許第５，１７５，０３０号（Ｌｕ ｅｔ ａｌ．）及び同第５，１８３，５９７号（Ｌｕ）に記載のように、ミクロ構造保有物品（例えば輝度向上フィルム）は、（ａ）重合性組成物を調製する工程と、（ｂ）マスターのキャビティーを満たすのにかろうじて十分な量でマスターネガミクロ構造化成形表面上に重合性組成物を堆積させる工程と、（ｃ）予備成形されたベース（ＰＥＴフィルムなど）とマスター（少なくとも一方は可撓性である）との間で重合性組成物のビードを移動させることによりキャビティーを満たす工程と、（ｄ）組成物を硬化させる工程と、を含む方法により作製可能である。マスターは、ニッケル、ニッケルメッキ銅、若しくは黄銅のような金属製であってよく、又は重合条件下で安定でありかつ好ましくはマスターから重合化材料をきれいに取り出すことができる表面エネルギーを有する熱可塑性材料であってもよい。
【００１６】
有用なベース材料としては、例えば、スチレン−アクリロニトリル、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルローストリアセテート、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ナフタレンジカルボン酸系コポリマー又はブレンド、ポリシクロオレフィン、ポリイミド、及びガラスが挙げられる。任意に応じて、基部材料には、これらの物質の混合物又は組み合わせを含めることができる。更に、ベースは多層であってもよいし、又は連続相の中に懸濁又は分散した分散成分を含有してもよい。
【００１７】
輝度向上フィルムなどのミクロ構造保有製品の場合、好ましいベース材料の例には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリカーボネートが挙げられる。有用なＰＥＴフィルムの例としては、フォトグレードのポリエチレンテレフタレート及びＭＥＬＩＮＥＸ（商標）ＰＥＴ（ＤｕＰｏｎｔ Ｆｉｌｍｓ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌ）から入手可能）が挙げられる。
【００１８】
いくつかのベース材料は、光学的に活性であり得、及び偏光板として作用することができる。フィルムを通る光の偏光は、例えば通過光を選択的に吸収する、フィルム材料内二色偏光子の包含により実現され得る。光の偏光はまた、配列雲母チップのような無機材料を組み込むことによって、又は、連続フィルム中に分散している光変調液晶の液滴といった連続フィルム中に分散している不連続相によって実現させることができる。代替手段として、異なる材料のマイクロファイン層から偏光フィルムを調製することができる。フィルム内の材料は、例えば、フィルムの延伸、電場又は磁場の印加、及びコーティング技術のような方法を用いることによって、偏光配向に揃えることができる。
【００１９】
偏光フィルムの例としては、米国特許第５，８２５，５４３号及び同５，７８３，１２０号に記載のものが挙げられる。輝度上昇フィルムとの組み合わせによるこれらの偏光フィルムの使用は、米国特許第６，１１１，６９６号に記載されている。ベースとして使用できる偏光フィルムの別の例は、米国特許第５，８８２，７７４号に記載されたフィルムである。
【００２０】
有用な基材としては、Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）Ｄｕａｌ Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｆｉｌｍ（ＤＢＥＦ）、Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｆｉｌｍ（ＢＥＦ）、Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）Ｄｉｆｆｕｓｅ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｆｉｌｍ（ＤＲＰＦ）、Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ（ＥＳＲ）、及びＶｉｋｕｉｔｉ（商標）Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ Ｆｉｌｍ（ＡＰＦ）として販売されている市販の光学フィルムが挙げられ、いずれも３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能である。
【００２１】
ベースへの光学層の付着を促進するために、ベースフィルム材料の１つ以上の表面に、所望により下地処理又は他の処理を施すことができる。ポリエステルベースフィルム層に特に好適なプライマーには、米国特許第５，４２７，８３５号に記載されているようなスルホポリエステルプライマーが挙げられる。プライマー層の厚さは、典型的には少なくとも２０ｎｍであり、一般的には、３００ｎｍ以下から４００ｎｍ以下である。
【００２２】
光学層は、任意の多数の有用なパターンを有することができる。これらは、規則的又は不規則的なプリズムパターンを含み、それは環状プリズムパターン、キューブコーナーパターン又は任意のその他のレンズ状微細構造であり得る。有用なミクロ構造は、輝度向上フィルムとして使用するための完全内部反射フィルムとして作用できる定形プリズムパターンである。別の有用なミクロ構造は、反射フィルムとして使用するための再帰反射フィルム又は素子として作用できるコーナーキューブプリズムパターンである。別の有用なミクロ構造は、光学ディスプレイに使用するための光学回転フィルム又は素子として作用できるプリズムパターンである。
【００２３】
重合化された微細構造化表面を有する１つの好ましい光学フィルムは、輝度向上フィルムである。輝度向上フィルムは、一般に、照明装置の軸上の輝き（本明細書で「輝度」と呼ばれる）を増強する。ミクロ構造のトポグラフィーは、フィルム表面上に複数のプリズムがあり、その結果フィルムを使用して反射及び屈折を通じて光を転送することができる。プリズムの高さは典型的には約１〜約７５ミクロンである。ラップトップコンピューター、時計などに見られるような光学ディスプレイで使用した場合、微細構造化光学フィルムは、光学ディスプレイを貫通する法線軸から所望の角度で配設された１対の平面内に、ディスプレイから散逸する光を制限することにより、光学ディスプレイの輝度を増大させることが可能である。結果として、許容可能な範囲の外側でディスプレイを出るであろう光は、反射されてディスプレイへ戻り、そこでその一部が「再利用」され、ディスプレイから放出できる角度でミクロ構造フィルムに戻されることができる。この再利用は、ディスプレイに所望の輝度を提供するために必要な電力消費量を低減することができることから、有用である。
【００２４】
輝度向上フィルムのミクロ構造化光学層は、一般に、フィルムの長さ又は幅に沿って伸びる複数の平行な長手方向隆起部を含む。これらの隆起部は、複数個のプリズム頂点から形成できる。それぞれのプリズムは、第１ファセット及び第２ファセットを有する。プリズムは、プリズムが形成されている第１表面及び実質的に平ら又は平面でありかつ第１表面に対向する第２表面を有するベースの上に形成されている。直角プリズムとは、頂角が典型的には約９０°であることを意味する。しかし、この角度は７０°〜１２０°の範囲の場合もあり、８０°〜１００°の範囲でもよい。これらの頂点は、先鋭形、丸形、又は平坦形若しくは切頭形とすることができる。例えば、隆起部は４〜７〜１５マイクロメートルの範囲の半径に丸めることができる。プリズム頂点間の間隔（又はピッチ）は、５〜３００マイクロメートルであることができる。プリズムは、米国特許第７，０７４，４６３号に記載のもののように種々のパターンに調製することができ、これは参照により本明細書に組み込まれる。
【００２５】
薄い輝度向上フィルムの場合、ピッチは、好ましくは１０〜３６マイクロメートル、より好ましくは１８〜２４マイクロメートルである。これは、好ましくは約５〜１８マイクロメートル、より好ましくは約９〜１２マイクロメートルのプリズム高さに相当する。プリズム面は同一である必要はなく、プリズムは互いに傾いていてもよい。光学物品の全厚とプリズム高さとの関係は、変化してよい。しかしながら、典型的には、明確なプリズム面を有する比較的薄い光学層を用いるのが望ましい。ほぼ２０〜３５マイクロメートル（１ミル）の厚みを備えた基材上の薄い輝度向上フィルムの場合、プリズム高さ対総厚みの比は通常、０．２〜０．４である。
【００２６】
本明細書に記載のミクロ構造化物（例えば、輝度向上フィルム）は、重合化されたミクロ構造化表面（例えば、ミクロ構造化光学層）を含み、ここで、ミクロ構造は、帯電防止剤を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含む。
【００２７】
種々の帯電防止剤が約２〜１０秒での静電気減衰時間を提供できる（実施例に記載される試験方法に従って測定されるとき）が、特定の種類及び量の帯電防止剤のみが１．５秒未満の静電気減衰時間を提供できることが判明している。好ましい帯電防止剤は、０．５、０．４、０．３、０．２又は０．１秒以下の静電気減衰時間を提供する。
【００２８】
ミクロ構造が、光透過性（例えば、ポリエステル）フィルムなどのベース層上に配置される実施形態の場合、帯電防止剤の種類及び量はまた、重合性樹脂中のその存在がベースフィルム層との重合化ミクロ構造の付着性を損なわないように、選択される。ミクロ構造は、ベースフィルム層に対して少なくとも８０％、８５％又は９０％のクロスハッチ付着性を呈する（実施例に記載される試験方法に従って測定されるとき）。最も好ましい実施形態では、クロスハッチ付着性は、９５〜１００％である。
【００２９】
帯電防止剤は、好ましくは以下の一般式を有するポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩である。
【００３０】
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又はヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素原子又は炭素原子であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である。
【００３１】
Ｒ基中の炭素原子の合計は、一般的に少なくとも５である。いくつかの実施形態では、Ｒの炭素原子の合計は少なくとも６、７又は８である。
【００３２】
Ｊがリンである実施形態では、Ｘは好ましくは４である。いくつかの実施形態では、ｘは３であり、各Ｒは少なくとも２つの炭素原子を含む。例えば、帯電防止剤は、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）２、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２及びこれらに類するものを含んでもよい。
【００３３】
いくつかの実施形態では、ｘは４であり、Ｒの炭素原子の合計は少なくとも７又は８である。例えば、少なくとも１つのＲ基はメチルであることができ、他の３つのＲ基は少なくとも２つの炭素原子を含み、これは例えば、（Ｃ２Ｈ５）３Ｎ（ＣＨ３）＋ − Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ４Ｈ９）３Ｎ（ＣＨ３）＋ − Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２及びこれらに類するものにより例示される。
【００３４】
あるいは、４つのＲ基は全てエチル又はブチルであることができる。例えば、帯電防止剤は、（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋ Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ２Ｈ５）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋ −Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３及びこれらに類するものを含んでもよい。
【００３５】
好ましくはＲｆ基のうちの少なくとも１つ又は２つは、トリフルオロメチル又はトリフルオロエチルである。しかしながら、ぺルフルオロブチルなどのより高級なフルオロアルキル基もまた用いることができる。例えば、帯電防止剤は、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）２、（Ｃ６Ｈ１３）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２、（Ｃ１２Ｈ２５）（ＣＨ３）３Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２及びこれらに類するものを含んでもよい。
【００３６】
一般的に、イミド塩、すなわち、式中Ｑが窒素であるもの、は、メチドよりも好ましい。
【００３７】
いくつかの実施形態では、Ｒは好ましくは、少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含む。
【００３８】
本明細書に記載のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩の種々の混合物もまた用いることができる。
【００３９】
ポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩の全濃度は、重合化ミクロ構造の、好ましくは約０．５又は１重量％、いくつかの実施形態では好ましくは２又は３重量％であり、一般的に約１０、１１、１２、１３、１４又は１５重量％以下である。約３重量％〜約５重量％の濃度は、好ましい静電気減衰特性、すなわち、０．５、０．４、０．３、０．２又は０．１秒未満の静電気減衰を提供することが分かっている。下地処理されていない偏光ベース層が用いられているときなどのいくつかの実施形態では、少なくとも８０又は９０％のクロスハッチ付着性を得るために、典型的には、１０重量％未満のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩を用いることが好ましい。
【００４０】
本明細書に記載のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩は市販されており、又は当該技術分野に記載されているように、既知の技術により合成することができる。例えば、米国特許第６，９２４，３２９号、同第６，７８４，２３７号、同第６，７４０，４１３号、同第６，７０６，９２０号、同第６，５９２，９８８号、同第６，３７２，８２９号及び米国特許出願公開第ＵＳ２００３／１１４５６０号などの種々の特許及び特許出願がポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルイミド及び／又はメチドのオニウム塩の合成を記載している。
【００４１】
ポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩は、当該技術分野において既知であるように、ミクロ構造を形成するのに好適な種々の重合性樹脂組成物と組み合わせることができる。
【００４２】
ポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム帯電防止剤の塩は、ミクロ構造を形成するためにバルク重合性樹脂組成物と帯電防止剤の塩を組み合わせるのに先立って、カルボン酸と組み合わせてもよい。代表的な例には、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの混合物が挙げられる。種々のジカルボン酸もまた好適であると推察される。ジカルボン酸は、好ましくは分子量が比較的低い。ジカルボン酸は直鎖又は分枝鎖であってよい。カルボン酸基の間に６個までの炭素原子を有するジカルボン酸が好ましい。これらには、例えばマレイン酸、コハク酸、スベリン酸、フタル酸、及びイタコン酸が挙げられる。
【００４３】
いくつかの実施形態では、重合性樹脂組成物は、表面修飾無機ナノ粒子を含む。このような実施形態においては、「重合性組成物」は、全組成物、すなわち有機成分及び表面修飾無機ナノ粒子を指す。
【００４４】
有機成分並びに重合性組成物は、好ましくは実質的に溶媒を含まない。「実質的に溶媒を含まない」は、５重量％、４重量％、３重量％、２重量％、１重量％、及び０．５重量％未満の非重合性（例えば有機）溶媒を有する重合性組成物を指す。溶媒濃度は、ガスクロマトグラフィー（ＡＳＴＭ Ｄ５４０３にて記載の通り）などの既知の方法によって決定することができる。０．５重量％未満の溶媒濃度が好ましい。
【００４５】
有機成分の構成成分は、好ましくは、重合性樹脂組成物が低粘度を有するように選択される。いくつかの実施形態では、有機成分の粘度は、コーティング温度において、１０００ｃｐｓ未満であり、典型的には９００ｃｐｓ未満である。有機成分の粘度は、コーティング温度において８００ｃｐｓ未満、７００ｃｐｓ未満、６００ｃｐｓ未満、又は５００ｃｐｓ未満であってよい。本明細書で使用するとき、粘度は（１０００ｓｅｃ−１までの剪断速度で）、動的応力レオメーター（Dynamic Stress Rheometer）を使用して、２５ｍｍ平行プレートで測定される。更に、有機成分の粘度は典型的にはコーティング温度において少なくとも１０ｃｐｓ、より典型的には少なくとも５０ｃｐｓである。
【００４６】
コーティング温度は典型的には、周囲温度（２５℃（７７°Ｆ））〜８２℃（１８０°Ｆ）の範囲である。コーティング温度は、７７℃（１７０°Ｆ）未満、７１℃（１６０°Ｆ）未満、６６℃（１５０°Ｆ）未満、６０℃（１４０°Ｆ）未満、５４℃（１３０°Ｆ）未満、又は４９℃（１２０°Ｆ）未満であってもよい。有機成分は、重合性組成物の融点がコーティング温度よりも低いという条件で、固体であってよく又は固体成分を含むことができる。本明細書に記載の有機成分は、好ましくは周囲温度で液体である。
【００４７】
有機成分は、少なくとも１．５４、１．５５、１．５６、１．５７、１．５８、１．５９、１．６０又は１．６１の屈折率を有する。高屈折率ナノ粒子を含む重合性組成物は、１．７０程度の屈折率を有することができる（例えば、少なくとも１．６１、１．６２、１．６３、１．６４、１．６５、１．６６、１．６７、１．６８又は１．６９）。可視光線スペクトルにおける高透過性もまた典型的には好ましい。
【００４８】
重合性組成物は、好ましくは５分未満の時間スケールでエネルギー硬化可能である（例えば、７５マイクロメートルの厚さを有する輝度向上フィルムの場合）。重合性組成物は、好ましくは一般的に４５℃を超えるガラス転移温度を提供するように十分に架橋される。ガラス転移温度は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）、変調ＤＳＣ、又は動的機械測定等の当該技術分野で既知の方法によって測定することができる。重合性組成物は、従来のフリーラジカル重合法によって重合化することができる。
【００４９】
重合性樹脂組成物は、様々な芳香族モノマー及び／又はオリゴマーを含むことができる。重合性樹脂組成物は、好ましくは、少なくとも２つの芳香環を含むジ（メタ）アクリレートモノマー又はオリゴマーを少なくとも１つ含む。このようなジ（メタ）アクリレートモノマーは典型的には、少なくとも３５０ｇ／モル、４００ｇ／モル又は４５０ｇ／モルの分子量を有する。
【００５０】
少なくとも２つの重合性（メタ）アクリレート基を有する芳香族モノマー又はオリゴマーは、合成されてもよく、又は、購入されてもよい。芳香族モノマー又はオリゴマーは典型的には、特定構造の主要部、すなわち、少なくとも６０〜７０重量％を含有する。他の反応生成物もこのようなモノマーの合成の副生成物として典型的に存在することは、一般的に認識される。
【００５１】
いくつかの実施形態では、重合性組成物は、次の一般的構造を有する主要部を含む少なくとも１つの芳香族（所望により臭素化される）二官能性（メタ）アクリレートモノマーを含む。
【００５２】
【化１】
【００５３】
式中、Ｚは、独立して−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ（Ｏ）２−であり、各Ｑは、独立してＯ又はＳであり、Ｌは、連結基である。Ｌは、独立して、分岐又は直鎖のＣ２〜Ｃ１２アルキル基を含んでもよく、ｎは、０〜１０の範囲である。Ｌは、好ましくは、分岐又は直鎖のＣ２〜Ｃ６アルキル基を含む。より好ましくは、Ｌは、Ｃ２又はＣ３であり、ｎは、０、１、２又は３である。アルキル連結基の炭素鎖は、１つ以上のヒドロキシ基で置換されていてもよい。例えば、Ｌは、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−であってもよい。典型的には、連結基は同一である。Ｒ１は、独立して、水素又はメチルである。
【００５４】
いくつかの実施形態では、芳香族モノマーは、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、すなわち、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルとアクリル酸の反応生成物である。ビスフェノールＡジグリシジルエーテルは一般に、より幅広く利用可能ではあるが、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルなどのその他のビスフェノールジグリシジルエーテルもまた用いることができると考えられている。例えば、ジ（メタ）アクリレートモノマーは、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルとアクリル酸との反応生成物であることができる。このようなモノマーは、ＵＣＢ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｓｍｙｒｎａ，ＧＡ）から「ＲＤＸ−５１０２７」の商標名で入手することができる。この物質は、２−プロペン酸、（１−メチルエチリデン）ビス［（２，６−ジブロモ−４，１−フェニレン）オキシ（２−ヒドロキシ−３，１−プロパンジイル）］エステルの主要部を含む。
【００５５】
１つの例示的なビスフェノール−Ａエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ６０２」で市販されている（２０℃において６１０ｃｐｓの粘度及び２℃のＴｇを有すると報告されている）。別の例示的なビスフェノール−Ａエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ６０１」で市販されている（２０℃において、１０８０ｃｐｓの粘度及び６０℃のＴｇを有すると報告されている）。
【００５６】
代わりに、又はそれに加えて、有機成分は、１つ以上の（メタ）アクリレート化芳香族エポキシオリゴマーを含んでよい。種々の（メタ）アクリル化芳香族エポキシオリゴマーが市販されている。例えば、（メタ）アクリレート化芳香族エポキシ（変性エポキシアクリレートとして記載される）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒ（Ｅｘｔｏｎ，ＰＡ）から「ＣＮ１１８」及び「ＣＮ１１５」の商標名で入手可能である。（メタ）アクリレート化芳香族エポキシオリゴマー（エポキシアクリレートオリゴマーとして記載される）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒから「ＣＮ２２０４」の商標名で入手可能である。更に、（メタ）アクリレート化芳香族エポキシオリゴマー（４０％トリメチロールプロパントリアクリレートとブレンドしたエポキシノボラックアクリレートとして記載される）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒから、「ＣＮ１１２Ｃ６０」の商標名で入手可能である。１つの例示的な芳香族エポキシアクリレートは、Ｓａｒｔｏｍｅｒから「ＣＮ １２０」の商標名で市販されている（供給元によって、１．５５５６の屈折率、６５℃にて２１５０の粘度、及び６０℃のＴｇを有すると報告されている）。
【００５７】
いくつかの実施形態では、重合性樹脂組成物は、次の一般的構造を有する主要部を含む二官能性ビフェニル（メタ）アクリレートモノマーを少なくとも１つ含む。
【００５８】
【化２】
【００５９】
式中、各Ｒ１は独立してＨ又はメチルであり、
各Ｒ２は独立してＢｒであり、
ｍは０〜４の範囲であり、
各Ｑは独立してＯ又はＳであり、
ｎは０〜１０の範囲であり、
Ｌは１つ以上のヒドロキシル基により所望により置換されたＣ２〜Ｃ１２アルキル基であり、
ｚは芳香環であり、及び
ｔは独立して０又は１である。
【００６０】
いくつかの実施形態では、Ｑは、好ましくはＯである。更に、ｎは典型的には０、１又は２である。Ｌは、典型的には、Ｃ２又はＣ３である。あるいは、Ｌは、典型的には、ヒドロキシル置換されたＣ２又はＣ３である。いくつかの実施形態では、ｚは、好ましくはフェニル基に縮合し、それによってビナフチル（binapthyl）コア構造体を形成する。
【００６１】
好ましくは、−Ｑ［Ｌ−Ｏ］ｎ Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ２基の少なくとも１つは、オルト位又はメタ位にて置換されている。より好ましくは、ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、モノマーが２５℃で液体であるように、十分な量のオルト及び／又はメタ（メタ）アクリレート置換基を含む。いくつかの実施形態では、置換基を含有するそれぞれの（メタ）アクリレート基は、オルト位又はメタ位にて芳香環基に結合している。ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーが過半量（すなわち、ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーの置換基の少なくとも５０％、６０％、７０％、８０％、９０％又は９５％）のオルト（メタ）アクリレート置換基を含むことが好ましい。いくつかの実施形態では、置換基を含有する各（メタ）アクリレート基は、オルト位又はメタ位にて芳香環基に結合している。メタ及び特にパラ置換基の数が増えると共に、有機成分の粘度も同様に増大し得る。更に、パラ−ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、室温で固体であり、フェノキシエチルアクリレート及びテトラヒドロフルフリルアクリレート中においてさえ、わずかな溶解度（すなわち、１０％未満）である。
【００６２】
このようなビフェニルモノマーは特許出願第６０／８９３９５３号（２００７年３月９日出願）にて、更に詳細に記載されている。その他のビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、文献に記載されている。
【００６３】
重合性樹脂組成物は、所望により、１つ以上の（例えば、単官能性）（メタ）アクリレート希釈剤を含んでもよい。（メタ）アクリレート希釈剤の総量は、重合性組成物の少なくとも５重量％、１０重量％、１５重量％、２０重量％、又は２５重量％であることができる。（メタ）アクリレート希釈剤の総量は、典型的には４０重量％以下であり、より典型的には約３５重量％以下である。
【００６４】
いくつかの実施形態では、多官能性（メタ）アクリレート架橋剤は、希釈剤として使用されてもよい。例えば、ＳａｒｔｏｍｅｒからＳＲ ２６８の商標名で市販されるものなどのテトラエチレングリコールジアクリレートは、好適な希釈剤であることが判明している。その他の好適な多官能性希釈剤としては、ＳＲ３５１、つまりトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）が挙げられる。
【００６５】
１つ以上の芳香族（例えば、単官能性）（メタ）アクリレートモノマーが希釈剤として使用されるとき、かかる希釈剤は、同時に重合性樹脂組成物の屈折率を上昇させることができる。好適な芳香族単官能性（メタ）アクリレートモノマーは、典型的には少なくとも１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、１．５４、１．５５、１．５６、１．５７、又は１．５８の屈折率を有する。
【００６６】
芳香族（例えば単官能性）（メタ）アクリレートモノマーは、典型的には、フェニル、クミル、ビフェニル、又はナフチル（napthyl）基を含む。
【００６７】
好適なモノマーとしては、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、２−ナフチルチオエチルアクリレート、１−ナフチルチオエチルアクリレート、ナフチルオキシエチルアクリレート、２−ナフチルオキシエチルアクリレート、フェノキシ−２−メチルエチルアクリレート、フェノキシエトキシエチルアクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、及びフェニルアクリレートが挙げられる。
【００６８】
フェノキシエチルアクリレートとしては、Ｓａｒｔｏｍｅｒからの商標名「ＳＲ３３９」、Ｅｔｅｒｎａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．Ｌｔｄ．からの商標名「Ｅｔｅｒｍｅｒ ２１０」、及びＴｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄからの商標名「ＴＯ−１１６６」、を含む、複数の供給元から市販されている。フェニルチオエチルアクリレート（ＰＴＥＡ）もまた、Ｃｏｇｎｉｓから市販されている。これらのモノマーの構造は、次に示す通りである。
【００６９】
【化３】
【００７０】
いくつかの実施形態では、重合性組成物は、１つ以上の単官能性ビフェニルモノマーを含む。
【００７１】
多官能ビフェニルモノマーは、末端ビフェニル基（ここで、２つのフェニル基は融合しておらず、結合によって繋がっている）又は連結基（例えばＱ）で繋がれた２つの芳香族基を含む末端基を含む。例えば、連結基がメタンであるとき、末端基はビフェニルメタン基である。あるいは、連結基が−（Ｃ（ＣＨ３）２−である場合、末端基は４−クミルフェニルである。単官能ビフェニルモノマーは、好ましくは（例えば紫外線）放射への曝露によって重合可能である１つのエチレン性不飽和基も含む。単官能性ビフェニルモノマーは、好ましくは１つの（メタ）アクリレート基又は１つのチオ（メタ）アクリレート基を含む。アクリレート官能基が一般的に好ましい。いくつかの態様において、ビフェニル基は、エチレン性不飽和（例えば、（メタ）アクリレート）基に直接結合する。この種類の例示的なモノマーは、２−フェニル−フェニルアクリレートである。ビフェニルモノ（メタ）アクリレート又はビフェニルチオ（メタ）アクリレートモノマーは、任意選択的に１つ以上のヒドロキシル基で置換された（例えば１〜５個の炭素の）アルキル基を更に含んでよい。この種類の代表的な種は、２−フェニル−２−フェノキシエチルアクリレートである。
【００７２】
一実施形態では、次の一般式を有する単官能性ビフェニル（メタ）アクリレートモノマーが用いられる。
【００７３】
【化４】
【００７４】
式中、Ｒ１はＨ又はＣＨ３であり、
ＱはＯ又はＳであり、
ｎは０〜１０の範囲（例えば、ｎは１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０である）であり、
Ｌは好ましくは、１〜５個の炭素原子を有するアルキル基（すなわち、メチル、エチル、プロピル、ブチル又はペンチル）であって所望によりヒドロキシで置換される。
【００７５】
別の実施形態では、単官能性ビフェニル（メタ）アクリレートモノマーは次の一般式の構造を有する。
【００７６】
【化５】
【００７７】
式中、Ｒ１はＨ又はＣＨ３であり、
ＱはＯ又はＳであり、
Ｚは−（Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）−及び−Ｓ（Ｏ）２−から選択され、
ｎは０〜１０の範囲（例えば、ｎは１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０である）であり、
Ｌは、１〜５個の炭素原子を有するアルキル基（すなわち、メチル、エチル、ブチル又はペンチル）であって所望によりヒドロキシで置換される。
【００７８】
Ｔｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄ．（Ｊａｐａｎ）より市販されているいくつかの特定のモノマーとして、例えば商標名「ＴＯ−２３４４」で入手可能な２−フェニル−フェニルアクリレート、商標名「ＴＯ−２３４５」で入手可能な４−（−２−フェニル−２−プロピル）フェニルアクリレート、及び商標名「ＴＯ−１４６３」で入手可能な２−フェニル−２−フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。
【００７９】
芳香族単官能性（メタ）アクリレートモノマーの各種組み合わせを用いることができる。例えば、フェニル基を含む（メタ）アクリレートモノマーを、ビフェニル基を含む１つ以上の（メタ）アクリレートモノマーと組み合わせて用いてよい。更に、２つの異なったビフェニル（メタ）アクリレート単官能性モノマーを用いてもよい。
【００８０】
重合性樹脂は、各種他（例えば非ハロゲン化）エチレン系不飽和モノマーを３５重量％まで含んでもよい。例えば、構造体（例えば、プリズム）が、予備成形されたポリカーボネート高分子フィルム上でキャストされ、光硬化された場合、重合性樹脂組成物は、１つ以上のＮ，Ｎ−二置換（メタ）アクリルアミドモノマーを含んでもよい。これらとしては、Ｎ−アルキルアクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、特にＣ１〜４アルキル基を含有するものが挙げられる。例には、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、及びＮ−ビニルカプロラクタムがある。
【００８１】
重合性樹脂組成物は、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を含む非芳香族架橋剤を２０重量％以下で任意的に含んでもよい。好適な架橋剤としては、例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタクリレート）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールプロポキシレートトリ（メタ）アクリレート、及びジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートが挙げられる。架橋剤の任意の１つ又は組み合わせを用いてもよい。メタクリレート基は、アクリレート基より反応性でない傾向があるため、架橋剤は好ましくはメタクリレート官能基を含まない。
【００８２】
様々な架橋剤が市販されている。例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｅｘｔｏｎ，ＰＡ）から「ＳＲ４４４」の商標名で、Ｏｓａｋａ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ，Ｌｔｄ．（Ｏｓａｋａ，Ｊａｐａｎ）から「Ｖｉｓｃｏａｔ Ｎｏ．３００」の商標名で、Ｔｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄ（Ｔｏｋｙｏ，Ｊａｐａｎ）から「Ａｒｏｎｉｘ Ｍ−３０５」の商標名で、及びＥｔｅｒｎａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．（Ｋａｏｈｓｉｕｎｇ，Ｔａｉｗａｎ）から「Ｅｔｅｒｍｅｒ ２３５」の商標名で市販されている。トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙから「ＳＲ３５１」の商標名にて市販されている。ＴＭＰＴＡは、「Ａｒｏｎｉｘ Ｍ−３０９」の商標名で、Ｔｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄ．からも入手可能である。更に、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート及びエトキシル化ペンタエリスリトールトリアクリレートは、Ｓａｒｔｏｍｅｒからそれぞれ商標名「ＳＲ４５４」及び「ＳＲ４９４」のもとに市販されている。
【００８３】
いくつかの実施形態では、光学フィルムの重合化されたミクロ構造化表面及び重合性樹脂組成物が、実質的に臭素を含まない（すなわち、１重量％未満で含有する）ことが好ましい。その他の実施形態では、臭素と塩素とを組み合わせた総量は１重量％未満である。いくつかの態様では、重合化されたミクロ構造化表面又は光学フィルム及び重合性樹脂組成物は、実質的にハロゲン化されていない（すなわち、合計で１重量％未満の臭素、塩素、フッ素及びヨウ素を含有する）。
【００８４】
ＵＶ硬化性の重合性組成物は、少なくとも１つの光反応開始剤を含む。１つの光反応開始剤又は光反応開始剤のブレンドを、本発明の輝度向上フィルムに用いてよい。一般的には、光反応開始剤は、（例えば、樹脂の加工温度で）少なくとも部分的に可溶性であり、重合化後に実質的に無色である。ＵＶ光源に曝露後、光反応開始剤が実質的に無色であるならば、光反応開始剤が有色（例えば黄色）であってもよい。
【００８５】
好適な光反応開始剤には、モノアシルホスフィンオキシド及びビスアシルホスフィンオキシドが挙げられる。市販のモノ又はビスアシルホスフィンオキシド光反応開始剤としては、「Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ」という商標名でＢＡＳＦ（Ｃｈａｒｌｏｔｔｅ，ＮＣ）から市販されている２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（trimethylbenzoybiphenylphosphine oxide）、更に「Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ−Ｌ」という商標名でＢＡＳＦから市販されているエチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート、及び「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９」という商標名でＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから市販されているビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシドが挙げられる。その他の好適な光反応開始剤としては、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから「Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３」の商標名で市販されている２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、並びにＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、「Ｄａｒｏｃｕｒ ４２６５」、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ６５１」「Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８００」、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３６９」、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ １７００」、及び「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ９０７」の商標名にて市販されているその他の光反応開始剤が挙げられる。
【００８６】
光反応開始剤は、約０．１重量％〜約１０重量％の濃度で使用できる。より好ましくは、光反応開始剤は約０．５〜約５重量％の濃度で使用される。５重量％を超える量は、輝度向上フィルムの黄変を引き起こす傾向の観点から一般的に不利である。その他の光反応開始剤類及び光反応開始剤も、当業者によって決定されるように、好適に用いられてもよい。
【００８７】
フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤のような界面活性剤は、表面張力を低減するため、濡れを改良するため、より平滑なコーティングを可能にするため、及びコーティングの欠陥を減少させるため等の目的で、重合性組成物に任意選択的に包含させることができる。
【００８８】
いくつかの実施形態では、重合性組成物は無機ナノ粒子を更に含む。
【００８９】
表面修飾（例えば、コロイド状）ナノ粒子は、物品又は光学素子の耐久性及び／又は屈折率を向上させるのに有効な量で重合化構造体中に存在することができる。いくつかの実施形態では、表面修飾無機ナノ粒子の総量は、少なくとも１０重量％、２０重量％、３０重量％又は４０重量％の量で、重合性樹脂又は光学物品中に存在することができる。重合性樹脂組成物がミクロ構造フィルムの流延及び硬化プロセスで使用するのに好適な粘度を有するため、その濃度は、典型的には７０重量％未満であり、より典型的には６０重量％未満である。
【００９０】
このような粒子の寸法は、有意な可視光線の散乱を避けるように選択される。光学又は材料特性を最適化するため及び全組成物コストを低下させるために、複数の種類の無機酸化物粒子の混合物を用いることが望ましい場合がある。表面修飾コロイド状ナノ粒子は、１ｎｍ、５ｎｍ又は１０ｎｍ超の（例えば、非会合性）一次粒径又は会合粒径を有する酸化物粒子であることができる。一次又は会合粒径は、一般的に１００ｎｍ、７５ｎｍ、又は５０ｎｍ未満である。典型的には、一次又は会合粒径は４０ｎｍ、３０ｎｍ、又は２０ｎｍ未満である。ナノ粒子は非会合性であることが好ましい。それらの測定は、透過型電子顕微鏡法（ＴＥＭ）に基づいてよい。ナノ粒子としては、例えば、アルミナ、ジルコニア、チタニア、これらの混合物、又はこれらの混合酸化物のような金属酸化物が挙げられる。表面修飾コロイドナノ粒子は、実質的に完全に凝縮可能である。
【００９１】
完全凝縮ナノ粒子（シリカを例外として）の結晶化度（単離金属酸化物粒子として測定した場合）は、典型的には５５％を超え、好ましくは６０％を超え、より好ましくは７０％を超える。例えば、結晶化度は、約８６％までの範囲内又はそれ以上にすることができる。結晶化度は、Ｘ線回折法によって割り出すことができる。凝縮結晶性（例えばジルコニア）のナノ粒子は屈折率が高いが、非晶質ナノ粒子は典型的には屈折率がより低い。
【００９２】
ジルコニア及びチタニアナノ粒子は、５〜５０ｎｍ、又は５〜１５ｎｍ、又は８ｎｍ〜１２ｎｍの粒径を有することができる。ジルコニアナノ粒子は、耐久性物品又は光学素子中に１０〜７０重量％、又は３０〜６０重量％の量で存在できる。本発明の組成物及び物品に使用されるジルコニアは、Ｎａｌｃｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．から商標名「Ｎａｌｃｏ ＯＯＳＳＯＯ８」で、及びＢｕｈｌｅｒ ＡＧ Ｕｚｗｉｌ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄから商標名「Ｂｕｈｌｅｒ ｚｉｒｃｏｎｉａ Ｚ−ＷＯ ｓｏｌ」で入手可能である。
【００９３】
ジルコニア粒子は、米国特許第７，２４１，４３７号に記載されているような水熱技術を使用して調製することができる。ナノ粒子は、表面修飾されている。表面修飾は、無機酸化物（例えば、ジルコニア）粒子に表面修飾剤を付着させて、表面特性を修飾することを伴う。無機粒子の表面修飾の全体的な目標は、均質な構成成分を持つ、好ましくは高輝度のフィルムに調製可能な（例えばキャスト及び硬化プロセスを使用して）低粘度を持つ樹脂を提供することである。
【００９４】
ナノ粒子は、しばしば、有機マトリックス材料との相溶性を改良するために表面修飾される。表面修飾されたナノ粒子は、しばしば、有機マトリックス材料中で非会合、非粒塊、又はこれらの組み合わせの状態である。得られるこれらの表面修飾されたナノ粒子を含有する光管理フィルム（light management films）は高い光学的透明性及び低いくもりを有する傾向がある。ジルコニアのような、高屈折率の表面修飾されたナノ粒子の添加は、輝度向上フィルムのゲインを、重合化された有機材料のみを含有するフィルムと比べて増大することができる。
【００９５】
モノカルボン酸表面処理剤は、好ましくは相溶化基を含む。モノカルボン酸は式Ａ−Ｂにより表され得、式中、Ａ基は（ジルコニア又はチタニア）ナノ粒子の表面に付着可能な（例えば、モノカルボン酸）基であり、Ｂは様々な異なる官能性を含む相溶化基である。カルボン酸基は、吸着及び／又はイオン結合の形成によって表面に付着できる。相溶化基Ｂは、一般的に、それが（例えば輝度向上）光学物品の重合性樹脂と相溶するように選択される。相溶化基Ｂは、反応性又は非反応性であることができ、極性又は非極性であることができる。
【００９６】
ジルコニア粒子に非極性の性質を付与することができる相溶化基Ｂとしては、例えば、直鎖又は分枝鎖の芳香族又は脂肪族炭化水素が挙げられる。カルボン酸官能性を有する非極性修飾剤の代表的な例には、オクタン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸、及びこれらの組み合わせが挙げられる。
【００９７】
相溶化基Ｂは、所望により、それが（例えば輝度向上）光学物品の有機マトリックスと共重合可能なように、反応性であってもよい。例えば、（メタ）アクリレート相溶化基のようなフリーラジカル重合性基は、（メタ）アクリレート官能性有機モノマーと共重合して、良好な均質の輝度向上物品を生成できる。
【００９８】
好適な表面修飾は、米国特許出願公開第２００７／０１１２０９７号及び米国特許出願第６０／８９１８１２号（２００７年２月２７日出願）に記載されている。
【００９９】
表面修飾された粒子は、種々の方法で硬化性（すなわち、重合性）樹脂組成物の中に組み込むことができる。好ましい態様においては、溶媒交換手順が利用され、樹脂を表面修飾されたゾルに添加してから水及び共溶媒（使用する場合）を蒸発により除去することにより、粒子を重合性樹脂中に分散された状態にする。蒸発工程は、例えば、蒸留、回転蒸発、又はオーブン乾燥により達成可能である。別の態様では、表面修飾された粒子を水不混和性溶媒中に抽出した後、それが望ましい場合には溶媒交換を行うことができる。あるいは、表面修飾されたナノ粒子を重合性樹脂に組み込む別の方法は、修飾粒子を乾燥して粉末にした後、粒子が分散された樹脂材料を添加することを伴う。この方法における乾燥工程は、例えば、オーブン乾燥又は噴霧乾燥のような、その系に適した従来の方法によって達成することができる。
【０１００】
このような光再利用効果の一般的測定は、光学フィルムのゲインを測定することである。本明細書で使用するとき、「相対ゲイン」は、光学フィルム（又は光学フィルムアセンブリ）をライトボックスの最上部に置いて、実施例にて記載した試験方法による測定で、ライトボックスの最上部に光学フィルムが存在しない場合に測定された軸上輝度に対する軸上輝度として定義される。本定義は、次の関係によって要約することができる。
【０１０１】
【数１】
【０１０２】
次に定義する用語については、別の定義が「特許請求の範囲」中、あるいは本明細書中のいずれかの場所で与えられない限り、これらの定義が適用されるものとする。
【０１０３】
用語「ミクロ構造」は、本明細書では米国特許第４，５７６，８５０号に定義及び説明されたように使用される。それゆえ、それは、ミクロ構造を有する物品の予め定められた所望の利用目的又は機能を叙述する又は特徴づける表面の構成を意味する。その物品の表面における突出部及びくぼみのような不連続は、中心線の上の表面輪郭により包囲された面積の合計が線の下の面積の合計と等しくなるように、ミクロ構造を通って引かれた平均中心線から輪郭が偏差すると考えられ、その線は物品の呼称面（nominal surface）（ミクロ構造を有する）に本質的に平行である。例えば、１〜３０ｃｍの表面の代表的な特性長を通って、光学又は電子顕微鏡により測定したとき、その偏位の高さは典型的には、約±０．００５〜±７５０マイクロメートルである。その平均中心線は、平面、凹面、凸面、非球面又はこれらの組み合わせであってもよい。その偏位が低いオーダー、例えば、±０．００５、±０．１、又は好ましくは、±０．０５マイクロメートルであり、その偏位がまれにしか又はほとんど発生しない物品、すなわち、表面にいかなる有意な不連続もない物品は、微細構造保有表面が本質的に「平坦」又は「平滑な」表面であるものであり、そのような物品は、眼用レンズのような、例えば精密光学素子又は精密光学インタフェースを有する素子として有用である。その偏位が低いオーダーであり頻繁に発生する物品としては、反射防止ミクロ構造を有するものが挙げられる。前述の偏位が大きく、例えば、±０．１〜±７５０マイクロメートルであり、同一又は異なり及びランダム又は規則的に隔置され又は連続している複数の実用的な不連続部を含む微細構造に寄与し得る物品は、逆反射コーナーキューブシーティング、線形フレネルレンズ、ビデオディスク及び輝度向上フィルムなどの物品である。ミクロ構造を有する表面は、その低いオーダー及び高いオーダーの両方の実用的不連続を含有できる。ミクロ構造を有する表面は、その量又は種類がその物品の予め定められた所望の利用を有意に妨害するか又は悪影響を及ぼすものでない限り、外来の又は非実用的な不連続を含有してよい。
【０１０４】
「屈折率」とは、材料（例えば、モノマー）の絶対屈折率を意味し、自由空間中の電磁放射線の速度とその材料中の電磁放射線の速度との比を意味する。屈折率は既知の方法を使用して測定でき、かつ一般に、Ａｂｂｅ屈折計又はＢａｕｓｃｈ ａｎｄ Ｌｏｍｂ Ｒｅｆｒａｃｔｏｍｅｔｅｒ（カタログ番号３３．４６．１０）（例えば、Ｆｉｓｈｅｒ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ（Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ，ＰＡ）から市販されている）を使用して可視光領域内にて測定することができる。測定された屈折率は、計器に依存してある程度変動しうることは一般的に認識されている。
【０１０５】
「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート化合物及びメタクリレート化合物の両方を意味する。
【０１０６】
用語「ナノ粒子」は、本明細書において、約１００ｎｍ未満の直径を有する粒子（一次粒子又は会合一次粒子）を意味するように定義される。
【０１０７】
「表面修飾されたコロイド状ナノ粒子」は、ナノ粒子が安定な分散を提供するように各々修飾された表面を有するナノ粒子を指す。
【０１０８】
本明細書で「安定な分散」は、周囲条件−例えば、室温（約２０〜２２℃）、大気圧、及び、過剰な電磁力がない−下で、ある時間、例えば約２４時間放置された後に、コロイド状ナノ粒子が疑集しない分散として定義される。
【０１０９】
端点による数の範囲の列挙には、その範囲内に包含される全ての数（例えば１から５には、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４、及び５）が含まれる。
【０１１０】
本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用されるとき、単数形「ａ」、「ａｎ」及び「ｔｈｅ」は、その内容について別段の明確な指示がない限り、複数の指示対象を包含する。したがって、例えば「化合物」を含有する組成物の言及は、二種以上の化合物の混合物を含む。本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用されるとき、用語「又は」は、その内容について別段の明確な指示がない限り、一般的に「及び／又は」を含む意味で用いられる。
【０１１１】
特に指示がない限り、明細書及び添付特許請求の範囲に使用される成分の量、性質の測定等を表す全ての数は、全ての例において、「約」という用語により修飾されることを理解されたい。
【０１１２】
本発明は、本明細書中に記載する特定の実施例に限定されると考えるべきではなく、更に適切に言えば添付の特許請求の範囲の中で適正に述べるものが本発明の全態様を包含すると理解されるべきである。本明細書を検討すると、様々な修正形態、等価の方法、及び本発明を適用できる非常に多くの構造が、本発明についての当業者には容易に明らかなはずである。
【実施例】
【０１１３】
試験方法
クロスハッチ付着性
試験方法ＡＳＴＭ Ｄ３３５９に従い、クロスハッチ試験及び３Ｍ ６１０セロハン（登録商標）接着テープを使用して、ベースＤＢＥＦフィルムに対するミクロ構造化樹脂層の付着性を測定した。
【０１１４】
付着性は０〜５のスケールで評価され、ここで、０は１００％コーティングが除去されたことを意味し、一方、５は０％コーティングが除去されたことを意味する（したがって、「４」は約８０％定着又は２０％除去に等価である）。
【０１１５】
表面抵抗は、ＰＲＦ−９１１コンセントリック・リング固定治具を備えたＰｒｏＳｔａｔ（Ｂｅｎｓｅｎｖｉｌｌｅ，ＩＬ）ＰＲＳ−８０１抵抗システムを使用して測定した。オームでの表面抵抗は、機器に同梱されている説明書に従って測定値に１０を乗じることによってオーム／スクエアに変換した。
【０１１６】
静電荷減衰時間は、Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｔｅｃｈ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．モデル４０６Ｃ静電気減衰計を用いて測定した。この計器は、サンプルを５ｋＶまで帯電させ、そして、静電荷がその初期値の１０％まで減衰するのに要する時間を測定する。いくつかの絶縁サンプルは、５ｋＶまで完全に帯電せず、これはデータ表にＷＮＣと注記されている。
【０１１７】
ブルーミング試験
清浄で下地処理されていないＰＥＴシートに対して微細複製表面を配置することにより、帯電防止剤が表面に移動し他のフィルムに移転する傾向を評価した。次に、０．１６ｃｍ（１／１６”）の間隔で離して保持された０．３２ｃｍ（１／８”）のガラスシートの間にこの積層体を配置した。次に、６５℃において９５％の相対湿度で７２時間にわたってチャンバにこれらのパネルを定置した。次に、このポリエステルを脱色及び帯電防止添加剤の移転の証拠について視覚的に点検した。「Ｐ」は合格評価を又は移転が観察されなかったことを示し、一方、「ＮＰ」は残留物がＰＥＴ上に堆積したことを示す。
【０１１８】
帯電防止剤
一般的化学名称（商標名、供給元）
１．トリブチルメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から商標名「Ｌ−１９０５５」で入手可能）、
ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商標名「ＨＱ−１１５」で入手可能）、
２．Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３’−ドデシルオキシ−２’−ヒドロキシプロピル）メチルアンモニウムメトサルフェート（Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから商標名「Ｃｙａｓｔａｔ ６０９」で入手可能、
３．塩化コリンは、Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．から入手した。
【０１１９】
４．Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレートＱ−塩、メトサルフェート（５０％水溶液）をＭｏｎｏｍｅｒ−Ｐｏｌｙｍｅｒ ＆ Ｄａｊａｃ Ｌａｂｓ，Ｉｎｃ、カタログ番号８５９２から購入した。
【０１２０】
表１〜３に記載の他の帯電防止剤は、先に引用した特許及び特許出願に記載のように合成した。
【０１２１】
２つの異なるべース層フィルム基材を実施例に使用した。第１基材は、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商標名「Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）ＤＢＥＦ ＩＩ」として市販されている輝度向上フィルムと同一のベース層フィルム基材である（すなわち、下地処理されていない）多層光学フィルムであった。
【０１２２】
第２基材は、米国特許第６，３５２，７６１号の実施例１１に従って調製された多層反射性偏光光学フィルムであった。第２基材を、約２５０ｎｍの硬化プライマー厚さで米国特許出願公開第６１／０４０７３７号（２００８年３月３１日出願）に記載されているようにＣｙｍｅｌ ３２７メラミン／ホルムアルデヒド樹脂により架橋されたスルホン化ポリエステル樹脂でコーティングした。
【０１２３】
重合性樹脂は、２５重量％のフェノキシエチルアクリレート及び７５重量％のビスフェノールＡエポキシアクリレート（ＣＮ１２０）から構成され、０．５重量％のＤａｒｏｃｕｒ １１７３及び０．５重量％のＴＰＯを光反応開始剤として含有する。重合性樹脂は、琥珀色ねじ蓋式バイアル瓶中で２ｇの塩と１８ｇの樹脂とを混合し、バイアル瓶を封止し、炉内において９０℃で数分間にわたって混合物を加熱して、塩を溶解させることにより、表１〜３に示されている塩を使用して修飾される。塩化コリンを除く全ての塩が容易に溶解して、室温に冷却後、透明な修飾された樹脂を生じた。
【０１２４】
以下の手順を使用して、樹脂を各基材に適用した。
【０１２５】
１）６０℃にて１時間、液化するまで樹脂を加熱する。
【０１２６】
２）ホットプレート上にて７１℃（１６０°Ｆ）で１分間、平坦なＢＥＦ工具を加熱して、コーティングされる基材フィルムと接触させる。
【０１２７】
３）Ｃａｔｅｎａ ３５貼合せ機を７１℃（１６０°Ｆ）に加熱し、速度を８８．９ｃｍ／分（３５インチ／分）に設定する。
【０１２８】
４）樹脂のビーズラインを工具に適用する。
【０１２９】
５）ハンドローラーを使用して、工具に対して基材フィルムを静かに置き、ロールして所定の位置に貼り付ける。
【０１３０】
６）プライム化されていない大きなＰＥＴフィルム２枚の間に、工具及びフィルムサンプルを挟み込み、貼合せ機のロールを保護する。
【０１３１】
７）最高設定で貼合せ機の中にサンプルを通す。これにより、０．０１０ｍｍ（０．４ｍｉｌ）の呼び樹脂フィルム厚さを生じる。
【０１３２】
８）サンプルをＵＶ処理装置（Ｄバルブを装着し、１００％の出力及び９．１４ｍ／分（３０フィート／分）のラインスピードにて窒素パージ下で稼動する、ＵＶ Ｆｕｓｉｏｎ Ｌｉｇｈｔｈａｍｍｅｒ）に通す。
【０１３３】
９）工具から、フィルムサンプルをゆっくりと取り外す。
【０１３４】
全てのサンプルは、工具から容易に剥離した。
【０１３５】
一定温度／湿度チャンバにて一晩２１．１℃（７０°Ｆ）／５０％ ＲＨで、積層体を一晩調湿させておき、その後、表面抵抗率、静電気減衰時間及びクロスハッチ付着性の測定にかけた。結果を下記の表１〜３に示す。静電気減衰測定に関しては、サンプルは、ミクロ構造化プリズム列が試験電極に垂直又は平行に位置するように、配向させた。
【０１３６】
【表１】
【０１３７】
Ｌ−１９０５５を含有する積層体を周囲実験室雰囲気にて２２％ＲＨで一晩静置させておいた。静電荷減衰を再測定したところ、有意に変化しなかったことが判明したが、これは、この静電防止システムが低周囲湿度においてさえも良好に作動できることを示す。
【０１３８】
（実施例２〜６）
表２〜３に示している修飾された樹脂処方を使用して、実施例１の手順を繰り返した。ＤＢＥＦ ＩＩを基材として使用し、温度を６８℃に制御した。一定温度／湿度チャンバにて２１．１℃（７０°Ｆ）／５０％ＲＨで一晩静置した後に、積層体を静電荷減衰時間の測定にかけた。結果を表２〜３に示す。
【０１３９】
【表２】
【０１４０】
Ｌ−１９０５５は、試験された種々の塩の中で特性の最良の組み合わせと、重合性樹脂中で低濃度（＜５重量％）における最良の帯電防止性能を示す。また、この実施例で使用されたより高いプロセス温度は、ＤＢＥＦ ＩＩ基材への硬化樹脂の付着を得るために必要であった。６０℃では、樹脂付着性は乏しかった。
【０１４１】
電荷減衰とクロスハッチ付着性との好適な組み合わせを提供した他の帯電防止剤は、以下のように示される。
【０１４２】
【表３】
【０１４３】
対イオン見出し：
デブチルイミド＝−Ｎ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）２
イミド＝−Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２
メチルブチルイミド＝−Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）
ＢＥＴＩ＝−Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２
メチド＝−Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレートＱ塩、メトサルフェート（５０％水溶液）（Ｍｏｎｏｍｅｒ−Ｐｏｌｙｍｅｒ ＆ Ｄａｊａｃ Ｌａｂｓ，Ｉｎｃ、カタログ番号８５９２から購入）の１０ｇの部分を、ＨＱ１１５（ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手）の８０重量％水溶液６．０ｇとねじ蓋式バイアル瓶中で混合した。＆このわずかに不透明な混合物を１００ｍＬのジクロロメタンで抽出し、次に、有機層を分離し、脱イオン水の５０ｍＬの部分２つで洗浄した。溶媒を除去し、ロータリーエバポレーター上で乾燥したところ、４．２ｇの淡い琥珀色の、わずかに不透明な液体が残った。プロトン及びフッ素ＮＭＲによる生成物の分析は、それが、およそ８６．６重量％のヒドロキシエチルジエチルメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドと、２．６重量％のヒドロキシエチルジエチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニルイミド）と、２．２重量％のアクリル酸と、６．２重量％のメタクリル酸とから構成され、残りは未同定の不純物であることを示した。この帯電防止剤を使用して、表４の実施例１８Ａのための輝度向上フィルムを調製した。
【０１４４】
表４の実施例１９Ａは、トリエチルアンモニウムビス（ペルフルオロエタンスルホニル）イミド、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２を帯電防止剤として用い、米国特許６，３７２，８２９号の実施例１の例１に記載のように調製した。
【０１４５】
どちらの場合も、これらの帯電防止剤組成物を、前述した重合性樹脂組成物と以下の表４に示す濃度で組み合わせた。次に、この樹脂組成物を基材として「Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）ＤＢＥＦ ＩＩ」を使用して先述したように輝度向上フィルムに調製した。試験結果は以下の通りであった。
【０１４６】
【表４】
【技術分野】
【０００１】
背景技術
米国特許出願公開第２００５／０１４８７２５号に記載されているような特定のミクロ構造化光学製品は、一般に「輝度向上フィルム」と呼ばれる。輝度向上フィルムは、エレクトロルミネッセントパネル、ラップトップコンピュータディスプレイ、ワードプロセッサ、デスクトップモニタ、テレビ、ビデオカメラ、並びに自動車及び飛行機用ディスプレイに使用されるものなどを含む液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のようなバックライト付きフラットパネルディスプレイの輝度を増大するため、多数の電子製品に利用される。
【０００２】
輝度向上フィルムは、望ましくは、生じる輝度増加（すなわち、「ゲイン」）に関連する輝度向上フィルムの屈折率を包含する固有の光学的及び物理的特性を示す。輝度の向上は、ディスプレイを照明するのにより少ない出力を使用することによって電子製品がより効率的に作動することを可能にし、それによって電力消費を低減し、その構成要素により低い熱負荷が加わり、製品の寿命を延長する。
【０００３】
輝度向上フィルムは、硬化又は重合化される高屈折率モノマーを含む重合性樹脂組成物から調製されてきた。多くの場合、ハロゲン化（例えば臭素化）モノマー又はオリゴマーを用いて、例えば１．５６以上の屈折率を得る。高屈折率組成物を得るための別の方法は、高屈折率ナノ粒子を含む重合性組成物を用いることである。
【発明の概要】
【０００４】
発明が解決しようとする課題
課題を解決するための手段
一実施形態では、以下の一般式を有する帯電防止剤を含む重合性樹脂組成物の反応生成物をミクロ構造が含む、重合化されたミクロ構造化表面を含む、輝度向上フィルムなどの、ミクロ構造化（例えば、光学）フィルムが、記載される。
【０００５】
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又は少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素又は炭素であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である。
【０００６】
ミクロ構造は、典型的には、ミクロ構造とは異なる組成を有する（所望により下地処理された）ベースフィルム層（偏光フィルムなど）上に配置される。
【０００７】
このような実施形態では、ミクロ構造は、ベースフィルム層に対して少なくとも９０％のクロスハッチ付着性を呈する。
【０００８】
別の実施形態では、少なくとも２つの芳香環を含むジ（メタ）アクリレートモノマーを少なくとも１つと、反応性希釈剤と、一般式ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍを有する帯電防止剤（上記）と、を含む重合性樹脂組成物が記載される。
【０００９】
これらの実施形態の各々において、帯電防止剤は、約０．５重量％〜約１５重量％の固体、好ましくは約３重量％〜約５重量％の固体、の範囲の量で存在し得る。更に、電荷減衰は、２１．１℃（７０°Ｆ）及び５０％相対湿度で試験するとき、好ましくは１．５秒未満、より好ましくは０．５秒未満である。
【００１０】
Ｒの炭素原子の合計は、少なくとも５、６、７又は８である。いくつかの実施形態では、ｘは４であり、Ｒの炭素原子の合計は少なくとも７である。いくつかの実施形態では、少なくとも１つのＲｆは、ＣＦ３である。いくつかの実施形態では、少なくとも１つのＲはメチルであり、他のＲ基は少なくとも２つの炭素原子を含む。他の実施形態では、ｘは３であり、各Ｒは少なくとも２つの炭素原子を含む。いくつかの実施形態では、Ｊは窒素である。他の実施形態では、Ｊはリンであり、ｘは４である。
【００１１】
一実施形態では、Ｒはヒドロキシル末端基を含む。重合性樹脂組成物は好ましくは、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの混合物などの（例えば、モノ）カルボン酸を少なくとも１つ更に含む。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
ここでは、ミクロ構造化表面を含む（例えば、光学）フィルムが記載される。ミクロ構造は、帯電防止剤として特定のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含む。
【００１３】
用語「導電性」は多くの場合、産業において「静電気拡散性」を指すために使用されるが、これらの用語は同義ではない。具体的には、導電性材料は、１×１０５オーム／スクエア以下の表面抵抗率を有し、これに対して、帯電防止材料は典型的には、１×１０１２オーム／スクエア以下の表面抵抗率を有すると考えられる。本明細書に開示されているミクロ構造化（例えば、光学）フィルムは、少なくとも約１×１０７、１×１０８、１×１０９、１×１０１０オーム／スクエア又は１×１０１１オーム／スクエアの表面抵抗率を呈し、それでも帯電防止特性を維持することができる。
【００１４】
本明細書に記載されている光学フィルムは典型的には、（例えば、予備成形された）光透過性ベース（例えば、フィルム）層及び光透過性の重合化されたミクロ構造化光学層から構成される。ベース層及び光学層は、同一物から形成することができるが、典型的には異なる高分子材料から形成される。
【００１５】
米国特許第５，１７５，０３０号（Ｌｕ ｅｔ ａｌ．）及び同第５，１８３，５９７号（Ｌｕ）に記載のように、ミクロ構造保有物品（例えば輝度向上フィルム）は、（ａ）重合性組成物を調製する工程と、（ｂ）マスターのキャビティーを満たすのにかろうじて十分な量でマスターネガミクロ構造化成形表面上に重合性組成物を堆積させる工程と、（ｃ）予備成形されたベース（ＰＥＴフィルムなど）とマスター（少なくとも一方は可撓性である）との間で重合性組成物のビードを移動させることによりキャビティーを満たす工程と、（ｄ）組成物を硬化させる工程と、を含む方法により作製可能である。マスターは、ニッケル、ニッケルメッキ銅、若しくは黄銅のような金属製であってよく、又は重合条件下で安定でありかつ好ましくはマスターから重合化材料をきれいに取り出すことができる表面エネルギーを有する熱可塑性材料であってもよい。
【００１６】
有用なベース材料としては、例えば、スチレン−アクリロニトリル、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルローストリアセテート、ポリエーテルスルホン、ポリメチルメタクリレート、ポリウレタン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ナフタレンジカルボン酸系コポリマー又はブレンド、ポリシクロオレフィン、ポリイミド、及びガラスが挙げられる。任意に応じて、基部材料には、これらの物質の混合物又は組み合わせを含めることができる。更に、ベースは多層であってもよいし、又は連続相の中に懸濁又は分散した分散成分を含有してもよい。
【００１７】
輝度向上フィルムなどのミクロ構造保有製品の場合、好ましいベース材料の例には、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリカーボネートが挙げられる。有用なＰＥＴフィルムの例としては、フォトグレードのポリエチレンテレフタレート及びＭＥＬＩＮＥＸ（商標）ＰＥＴ（ＤｕＰｏｎｔ Ｆｉｌｍｓ（Ｗｉｌｍｉｎｇｔｏｎ，Ｄｅｌ）から入手可能）が挙げられる。
【００１８】
いくつかのベース材料は、光学的に活性であり得、及び偏光板として作用することができる。フィルムを通る光の偏光は、例えば通過光を選択的に吸収する、フィルム材料内二色偏光子の包含により実現され得る。光の偏光はまた、配列雲母チップのような無機材料を組み込むことによって、又は、連続フィルム中に分散している光変調液晶の液滴といった連続フィルム中に分散している不連続相によって実現させることができる。代替手段として、異なる材料のマイクロファイン層から偏光フィルムを調製することができる。フィルム内の材料は、例えば、フィルムの延伸、電場又は磁場の印加、及びコーティング技術のような方法を用いることによって、偏光配向に揃えることができる。
【００１９】
偏光フィルムの例としては、米国特許第５，８２５，５４３号及び同５，７８３，１２０号に記載のものが挙げられる。輝度上昇フィルムとの組み合わせによるこれらの偏光フィルムの使用は、米国特許第６，１１１，６９６号に記載されている。ベースとして使用できる偏光フィルムの別の例は、米国特許第５，８８２，７７４号に記載されたフィルムである。
【００２０】
有用な基材としては、Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）Ｄｕａｌ Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｆｉｌｍ（ＤＢＥＦ）、Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）Ｂｒｉｇｈｔｎｅｓｓ Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｆｉｌｍ（ＢＥＦ）、Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）Ｄｉｆｆｕｓｅ Ｒｅｆｌｅｃｔｉｖｅ Ｐｏｌａｒｉｚｅｒ Ｆｉｌｍ（ＤＲＰＦ）、Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）Ｅｎｈａｎｃｅｄ Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｒｅｆｌｅｃｔｏｒ（ＥＳＲ）、及びＶｉｋｕｉｔｉ（商標）Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｐｏｌａｒｉｚｉｎｇ Ｆｉｌｍ（ＡＰＦ）として販売されている市販の光学フィルムが挙げられ、いずれも３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手可能である。
【００２１】
ベースへの光学層の付着を促進するために、ベースフィルム材料の１つ以上の表面に、所望により下地処理又は他の処理を施すことができる。ポリエステルベースフィルム層に特に好適なプライマーには、米国特許第５，４２７，８３５号に記載されているようなスルホポリエステルプライマーが挙げられる。プライマー層の厚さは、典型的には少なくとも２０ｎｍであり、一般的には、３００ｎｍ以下から４００ｎｍ以下である。
【００２２】
光学層は、任意の多数の有用なパターンを有することができる。これらは、規則的又は不規則的なプリズムパターンを含み、それは環状プリズムパターン、キューブコーナーパターン又は任意のその他のレンズ状微細構造であり得る。有用なミクロ構造は、輝度向上フィルムとして使用するための完全内部反射フィルムとして作用できる定形プリズムパターンである。別の有用なミクロ構造は、反射フィルムとして使用するための再帰反射フィルム又は素子として作用できるコーナーキューブプリズムパターンである。別の有用なミクロ構造は、光学ディスプレイに使用するための光学回転フィルム又は素子として作用できるプリズムパターンである。
【００２３】
重合化された微細構造化表面を有する１つの好ましい光学フィルムは、輝度向上フィルムである。輝度向上フィルムは、一般に、照明装置の軸上の輝き（本明細書で「輝度」と呼ばれる）を増強する。ミクロ構造のトポグラフィーは、フィルム表面上に複数のプリズムがあり、その結果フィルムを使用して反射及び屈折を通じて光を転送することができる。プリズムの高さは典型的には約１〜約７５ミクロンである。ラップトップコンピューター、時計などに見られるような光学ディスプレイで使用した場合、微細構造化光学フィルムは、光学ディスプレイを貫通する法線軸から所望の角度で配設された１対の平面内に、ディスプレイから散逸する光を制限することにより、光学ディスプレイの輝度を増大させることが可能である。結果として、許容可能な範囲の外側でディスプレイを出るであろう光は、反射されてディスプレイへ戻り、そこでその一部が「再利用」され、ディスプレイから放出できる角度でミクロ構造フィルムに戻されることができる。この再利用は、ディスプレイに所望の輝度を提供するために必要な電力消費量を低減することができることから、有用である。
【００２４】
輝度向上フィルムのミクロ構造化光学層は、一般に、フィルムの長さ又は幅に沿って伸びる複数の平行な長手方向隆起部を含む。これらの隆起部は、複数個のプリズム頂点から形成できる。それぞれのプリズムは、第１ファセット及び第２ファセットを有する。プリズムは、プリズムが形成されている第１表面及び実質的に平ら又は平面でありかつ第１表面に対向する第２表面を有するベースの上に形成されている。直角プリズムとは、頂角が典型的には約９０°であることを意味する。しかし、この角度は７０°〜１２０°の範囲の場合もあり、８０°〜１００°の範囲でもよい。これらの頂点は、先鋭形、丸形、又は平坦形若しくは切頭形とすることができる。例えば、隆起部は４〜７〜１５マイクロメートルの範囲の半径に丸めることができる。プリズム頂点間の間隔（又はピッチ）は、５〜３００マイクロメートルであることができる。プリズムは、米国特許第７，０７４，４６３号に記載のもののように種々のパターンに調製することができ、これは参照により本明細書に組み込まれる。
【００２５】
薄い輝度向上フィルムの場合、ピッチは、好ましくは１０〜３６マイクロメートル、より好ましくは１８〜２４マイクロメートルである。これは、好ましくは約５〜１８マイクロメートル、より好ましくは約９〜１２マイクロメートルのプリズム高さに相当する。プリズム面は同一である必要はなく、プリズムは互いに傾いていてもよい。光学物品の全厚とプリズム高さとの関係は、変化してよい。しかしながら、典型的には、明確なプリズム面を有する比較的薄い光学層を用いるのが望ましい。ほぼ２０〜３５マイクロメートル（１ミル）の厚みを備えた基材上の薄い輝度向上フィルムの場合、プリズム高さ対総厚みの比は通常、０．２〜０．４である。
【００２６】
本明細書に記載のミクロ構造化物（例えば、輝度向上フィルム）は、重合化されたミクロ構造化表面（例えば、ミクロ構造化光学層）を含み、ここで、ミクロ構造は、帯電防止剤を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含む。
【００２７】
種々の帯電防止剤が約２〜１０秒での静電気減衰時間を提供できる（実施例に記載される試験方法に従って測定されるとき）が、特定の種類及び量の帯電防止剤のみが１．５秒未満の静電気減衰時間を提供できることが判明している。好ましい帯電防止剤は、０．５、０．４、０．３、０．２又は０．１秒以下の静電気減衰時間を提供する。
【００２８】
ミクロ構造が、光透過性（例えば、ポリエステル）フィルムなどのベース層上に配置される実施形態の場合、帯電防止剤の種類及び量はまた、重合性樹脂中のその存在がベースフィルム層との重合化ミクロ構造の付着性を損なわないように、選択される。ミクロ構造は、ベースフィルム層に対して少なくとも８０％、８５％又は９０％のクロスハッチ付着性を呈する（実施例に記載される試験方法に従って測定されるとき）。最も好ましい実施形態では、クロスハッチ付着性は、９５〜１００％である。
【００２９】
帯電防止剤は、好ましくは以下の一般式を有するポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩である。
【００３０】
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又はヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素原子又は炭素原子であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である。
【００３１】
Ｒ基中の炭素原子の合計は、一般的に少なくとも５である。いくつかの実施形態では、Ｒの炭素原子の合計は少なくとも６、７又は８である。
【００３２】
Ｊがリンである実施形態では、Ｘは好ましくは４である。いくつかの実施形態では、ｘは３であり、各Ｒは少なくとも２つの炭素原子を含む。例えば、帯電防止剤は、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）２、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２及びこれらに類するものを含んでもよい。
【００３３】
いくつかの実施形態では、ｘは４であり、Ｒの炭素原子の合計は少なくとも７又は８である。例えば、少なくとも１つのＲ基はメチルであることができ、他の３つのＲ基は少なくとも２つの炭素原子を含み、これは例えば、（Ｃ２Ｈ５）３Ｎ（ＣＨ３）＋ − Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ４Ｈ９）３Ｎ（ＣＨ３）＋ − Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２及びこれらに類するものにより例示される。
【００３４】
あるいは、４つのＲ基は全てエチル又はブチルであることができる。例えば、帯電防止剤は、（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋ Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ２Ｈ５）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋ −Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３及びこれらに類するものを含んでもよい。
【００３５】
好ましくはＲｆ基のうちの少なくとも１つ又は２つは、トリフルオロメチル又はトリフルオロエチルである。しかしながら、ぺルフルオロブチルなどのより高級なフルオロアルキル基もまた用いることができる。例えば、帯電防止剤は、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）２、（Ｃ６Ｈ１３）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２、（Ｃ１２Ｈ２５）（ＣＨ３）３Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２及びこれらに類するものを含んでもよい。
【００３６】
一般的に、イミド塩、すなわち、式中Ｑが窒素であるもの、は、メチドよりも好ましい。
【００３７】
いくつかの実施形態では、Ｒは好ましくは、少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含む。
【００３８】
本明細書に記載のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩の種々の混合物もまた用いることができる。
【００３９】
ポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩の全濃度は、重合化ミクロ構造の、好ましくは約０．５又は１重量％、いくつかの実施形態では好ましくは２又は３重量％であり、一般的に約１０、１１、１２、１３、１４又は１５重量％以下である。約３重量％〜約５重量％の濃度は、好ましい静電気減衰特性、すなわち、０．５、０．４、０．３、０．２又は０．１秒未満の静電気減衰を提供することが分かっている。下地処理されていない偏光ベース層が用いられているときなどのいくつかの実施形態では、少なくとも８０又は９０％のクロスハッチ付着性を得るために、典型的には、１０重量％未満のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩を用いることが好ましい。
【００４０】
本明細書に記載のポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩は市販されており、又は当該技術分野に記載されているように、既知の技術により合成することができる。例えば、米国特許第６，９２４，３２９号、同第６，７８４，２３７号、同第６，７４０，４１３号、同第６，７０６，９２０号、同第６，５９２，９８８号、同第６，３７２，８２９号及び米国特許出願公開第ＵＳ２００３／１１４５６０号などの種々の特許及び特許出願がポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルイミド及び／又はメチドのオニウム塩の合成を記載している。
【００４１】
ポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム塩は、当該技術分野において既知であるように、ミクロ構造を形成するのに好適な種々の重合性樹脂組成物と組み合わせることができる。
【００４２】
ポリアルキル窒素又はリン含有フルオロアルキルスルホニルオニウム帯電防止剤の塩は、ミクロ構造を形成するためにバルク重合性樹脂組成物と帯電防止剤の塩を組み合わせるのに先立って、カルボン酸と組み合わせてもよい。代表的な例には、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの混合物が挙げられる。種々のジカルボン酸もまた好適であると推察される。ジカルボン酸は、好ましくは分子量が比較的低い。ジカルボン酸は直鎖又は分枝鎖であってよい。カルボン酸基の間に６個までの炭素原子を有するジカルボン酸が好ましい。これらには、例えばマレイン酸、コハク酸、スベリン酸、フタル酸、及びイタコン酸が挙げられる。
【００４３】
いくつかの実施形態では、重合性樹脂組成物は、表面修飾無機ナノ粒子を含む。このような実施形態においては、「重合性組成物」は、全組成物、すなわち有機成分及び表面修飾無機ナノ粒子を指す。
【００４４】
有機成分並びに重合性組成物は、好ましくは実質的に溶媒を含まない。「実質的に溶媒を含まない」は、５重量％、４重量％、３重量％、２重量％、１重量％、及び０．５重量％未満の非重合性（例えば有機）溶媒を有する重合性組成物を指す。溶媒濃度は、ガスクロマトグラフィー（ＡＳＴＭ Ｄ５４０３にて記載の通り）などの既知の方法によって決定することができる。０．５重量％未満の溶媒濃度が好ましい。
【００４５】
有機成分の構成成分は、好ましくは、重合性樹脂組成物が低粘度を有するように選択される。いくつかの実施形態では、有機成分の粘度は、コーティング温度において、１０００ｃｐｓ未満であり、典型的には９００ｃｐｓ未満である。有機成分の粘度は、コーティング温度において８００ｃｐｓ未満、７００ｃｐｓ未満、６００ｃｐｓ未満、又は５００ｃｐｓ未満であってよい。本明細書で使用するとき、粘度は（１０００ｓｅｃ−１までの剪断速度で）、動的応力レオメーター（Dynamic Stress Rheometer）を使用して、２５ｍｍ平行プレートで測定される。更に、有機成分の粘度は典型的にはコーティング温度において少なくとも１０ｃｐｓ、より典型的には少なくとも５０ｃｐｓである。
【００４６】
コーティング温度は典型的には、周囲温度（２５℃（７７°Ｆ））〜８２℃（１８０°Ｆ）の範囲である。コーティング温度は、７７℃（１７０°Ｆ）未満、７１℃（１６０°Ｆ）未満、６６℃（１５０°Ｆ）未満、６０℃（１４０°Ｆ）未満、５４℃（１３０°Ｆ）未満、又は４９℃（１２０°Ｆ）未満であってもよい。有機成分は、重合性組成物の融点がコーティング温度よりも低いという条件で、固体であってよく又は固体成分を含むことができる。本明細書に記載の有機成分は、好ましくは周囲温度で液体である。
【００４７】
有機成分は、少なくとも１．５４、１．５５、１．５６、１．５７、１．５８、１．５９、１．６０又は１．６１の屈折率を有する。高屈折率ナノ粒子を含む重合性組成物は、１．７０程度の屈折率を有することができる（例えば、少なくとも１．６１、１．６２、１．６３、１．６４、１．６５、１．６６、１．６７、１．６８又は１．６９）。可視光線スペクトルにおける高透過性もまた典型的には好ましい。
【００４８】
重合性組成物は、好ましくは５分未満の時間スケールでエネルギー硬化可能である（例えば、７５マイクロメートルの厚さを有する輝度向上フィルムの場合）。重合性組成物は、好ましくは一般的に４５℃を超えるガラス転移温度を提供するように十分に架橋される。ガラス転移温度は、示差走査熱量計（ＤＳＣ）、変調ＤＳＣ、又は動的機械測定等の当該技術分野で既知の方法によって測定することができる。重合性組成物は、従来のフリーラジカル重合法によって重合化することができる。
【００４９】
重合性樹脂組成物は、様々な芳香族モノマー及び／又はオリゴマーを含むことができる。重合性樹脂組成物は、好ましくは、少なくとも２つの芳香環を含むジ（メタ）アクリレートモノマー又はオリゴマーを少なくとも１つ含む。このようなジ（メタ）アクリレートモノマーは典型的には、少なくとも３５０ｇ／モル、４００ｇ／モル又は４５０ｇ／モルの分子量を有する。
【００５０】
少なくとも２つの重合性（メタ）アクリレート基を有する芳香族モノマー又はオリゴマーは、合成されてもよく、又は、購入されてもよい。芳香族モノマー又はオリゴマーは典型的には、特定構造の主要部、すなわち、少なくとも６０〜７０重量％を含有する。他の反応生成物もこのようなモノマーの合成の副生成物として典型的に存在することは、一般的に認識される。
【００５１】
いくつかの実施形態では、重合性組成物は、次の一般的構造を有する主要部を含む少なくとも１つの芳香族（所望により臭素化される）二官能性（メタ）アクリレートモノマーを含む。
【００５２】
【化１】
【００５３】
式中、Ｚは、独立して−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２−、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓ−、−Ｓ（Ｏ）−、又は−Ｓ（Ｏ）２−であり、各Ｑは、独立してＯ又はＳであり、Ｌは、連結基である。Ｌは、独立して、分岐又は直鎖のＣ２〜Ｃ１２アルキル基を含んでもよく、ｎは、０〜１０の範囲である。Ｌは、好ましくは、分岐又は直鎖のＣ２〜Ｃ６アルキル基を含む。より好ましくは、Ｌは、Ｃ２又はＣ３であり、ｎは、０、１、２又は３である。アルキル連結基の炭素鎖は、１つ以上のヒドロキシ基で置換されていてもよい。例えば、Ｌは、−ＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２−であってもよい。典型的には、連結基は同一である。Ｒ１は、独立して、水素又はメチルである。
【００５４】
いくつかの実施形態では、芳香族モノマーは、ビスフェノールジ（メタ）アクリレート、すなわち、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルとアクリル酸の反応生成物である。ビスフェノールＡジグリシジルエーテルは一般に、より幅広く利用可能ではあるが、ビスフェノールＦジグリシジルエーテルなどのその他のビスフェノールジグリシジルエーテルもまた用いることができると考えられている。例えば、ジ（メタ）アクリレートモノマーは、テトラブロモビスフェノールＡジグリシジルエーテルとアクリル酸との反応生成物であることができる。このようなモノマーは、ＵＣＢ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｓｍｙｒｎａ，ＧＡ）から「ＲＤＸ−５１０２７」の商標名で入手することができる。この物質は、２−プロペン酸、（１−メチルエチリデン）ビス［（２，６−ジブロモ−４，１−フェニレン）オキシ（２−ヒドロキシ−３，１−プロパンジイル）］エステルの主要部を含む。
【００５５】
１つの例示的なビスフェノール−Ａエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ６０２」で市販されている（２０℃において６１０ｃｐｓの粘度及び２℃のＴｇを有すると報告されている）。別の例示的なビスフェノール−Ａエトキシル化ジアクリレートモノマーは、Ｓａｒｔｏｍｅｒから商標名「ＳＲ６０１」で市販されている（２０℃において、１０８０ｃｐｓの粘度及び６０℃のＴｇを有すると報告されている）。
【００５６】
代わりに、又はそれに加えて、有機成分は、１つ以上の（メタ）アクリレート化芳香族エポキシオリゴマーを含んでよい。種々の（メタ）アクリル化芳香族エポキシオリゴマーが市販されている。例えば、（メタ）アクリレート化芳香族エポキシ（変性エポキシアクリレートとして記載される）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒ（Ｅｘｔｏｎ，ＰＡ）から「ＣＮ１１８」及び「ＣＮ１１５」の商標名で入手可能である。（メタ）アクリレート化芳香族エポキシオリゴマー（エポキシアクリレートオリゴマーとして記載される）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒから「ＣＮ２２０４」の商標名で入手可能である。更に、（メタ）アクリレート化芳香族エポキシオリゴマー（４０％トリメチロールプロパントリアクリレートとブレンドしたエポキシノボラックアクリレートとして記載される）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒから、「ＣＮ１１２Ｃ６０」の商標名で入手可能である。１つの例示的な芳香族エポキシアクリレートは、Ｓａｒｔｏｍｅｒから「ＣＮ １２０」の商標名で市販されている（供給元によって、１．５５５６の屈折率、６５℃にて２１５０の粘度、及び６０℃のＴｇを有すると報告されている）。
【００５７】
いくつかの実施形態では、重合性樹脂組成物は、次の一般的構造を有する主要部を含む二官能性ビフェニル（メタ）アクリレートモノマーを少なくとも１つ含む。
【００５８】
【化２】
【００５９】
式中、各Ｒ１は独立してＨ又はメチルであり、
各Ｒ２は独立してＢｒであり、
ｍは０〜４の範囲であり、
各Ｑは独立してＯ又はＳであり、
ｎは０〜１０の範囲であり、
Ｌは１つ以上のヒドロキシル基により所望により置換されたＣ２〜Ｃ１２アルキル基であり、
ｚは芳香環であり、及び
ｔは独立して０又は１である。
【００６０】
いくつかの実施形態では、Ｑは、好ましくはＯである。更に、ｎは典型的には０、１又は２である。Ｌは、典型的には、Ｃ２又はＣ３である。あるいは、Ｌは、典型的には、ヒドロキシル置換されたＣ２又はＣ３である。いくつかの実施形態では、ｚは、好ましくはフェニル基に縮合し、それによってビナフチル（binapthyl）コア構造体を形成する。
【００６１】
好ましくは、−Ｑ［Ｌ−Ｏ］ｎ Ｃ（Ｏ）Ｃ（Ｒ１）＝ＣＨ２基の少なくとも１つは、オルト位又はメタ位にて置換されている。より好ましくは、ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、モノマーが２５℃で液体であるように、十分な量のオルト及び／又はメタ（メタ）アクリレート置換基を含む。いくつかの実施形態では、置換基を含有するそれぞれの（メタ）アクリレート基は、オルト位又はメタ位にて芳香環基に結合している。ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーが過半量（すなわち、ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーの置換基の少なくとも５０％、６０％、７０％、８０％、９０％又は９５％）のオルト（メタ）アクリレート置換基を含むことが好ましい。いくつかの実施形態では、置換基を含有する各（メタ）アクリレート基は、オルト位又はメタ位にて芳香環基に結合している。メタ及び特にパラ置換基の数が増えると共に、有機成分の粘度も同様に増大し得る。更に、パラ−ビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、室温で固体であり、フェノキシエチルアクリレート及びテトラヒドロフルフリルアクリレート中においてさえ、わずかな溶解度（すなわち、１０％未満）である。
【００６２】
このようなビフェニルモノマーは特許出願第６０／８９３９５３号（２００７年３月９日出願）にて、更に詳細に記載されている。その他のビフェニルジ（メタ）アクリレートモノマーは、文献に記載されている。
【００６３】
重合性樹脂組成物は、所望により、１つ以上の（例えば、単官能性）（メタ）アクリレート希釈剤を含んでもよい。（メタ）アクリレート希釈剤の総量は、重合性組成物の少なくとも５重量％、１０重量％、１５重量％、２０重量％、又は２５重量％であることができる。（メタ）アクリレート希釈剤の総量は、典型的には４０重量％以下であり、より典型的には約３５重量％以下である。
【００６４】
いくつかの実施形態では、多官能性（メタ）アクリレート架橋剤は、希釈剤として使用されてもよい。例えば、ＳａｒｔｏｍｅｒからＳＲ ２６８の商標名で市販されるものなどのテトラエチレングリコールジアクリレートは、好適な希釈剤であることが判明している。その他の好適な多官能性希釈剤としては、ＳＲ３５１、つまりトリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）が挙げられる。
【００６５】
１つ以上の芳香族（例えば、単官能性）（メタ）アクリレートモノマーが希釈剤として使用されるとき、かかる希釈剤は、同時に重合性樹脂組成物の屈折率を上昇させることができる。好適な芳香族単官能性（メタ）アクリレートモノマーは、典型的には少なくとも１．５０、１．５１、１．５２、１．５３、１．５４、１．５５、１．５６、１．５７、又は１．５８の屈折率を有する。
【００６６】
芳香族（例えば単官能性）（メタ）アクリレートモノマーは、典型的には、フェニル、クミル、ビフェニル、又はナフチル（napthyl）基を含む。
【００６７】
好適なモノマーとしては、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシ−２−メチルエチル（メタ）アクリレート、フェノキシエトキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニルチオエチルアクリレート、２−ナフチルチオエチルアクリレート、１−ナフチルチオエチルアクリレート、ナフチルオキシエチルアクリレート、２−ナフチルオキシエチルアクリレート、フェノキシ−２−メチルエチルアクリレート、フェノキシエトキシエチルアクリレート、３−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、及びフェニルアクリレートが挙げられる。
【００６８】
フェノキシエチルアクリレートとしては、Ｓａｒｔｏｍｅｒからの商標名「ＳＲ３３９」、Ｅｔｅｒｎａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．Ｌｔｄ．からの商標名「Ｅｔｅｒｍｅｒ ２１０」、及びＴｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄからの商標名「ＴＯ−１１６６」、を含む、複数の供給元から市販されている。フェニルチオエチルアクリレート（ＰＴＥＡ）もまた、Ｃｏｇｎｉｓから市販されている。これらのモノマーの構造は、次に示す通りである。
【００６９】
【化３】
【００７０】
いくつかの実施形態では、重合性組成物は、１つ以上の単官能性ビフェニルモノマーを含む。
【００７１】
多官能ビフェニルモノマーは、末端ビフェニル基（ここで、２つのフェニル基は融合しておらず、結合によって繋がっている）又は連結基（例えばＱ）で繋がれた２つの芳香族基を含む末端基を含む。例えば、連結基がメタンであるとき、末端基はビフェニルメタン基である。あるいは、連結基が−（Ｃ（ＣＨ３）２−である場合、末端基は４−クミルフェニルである。単官能ビフェニルモノマーは、好ましくは（例えば紫外線）放射への曝露によって重合可能である１つのエチレン性不飽和基も含む。単官能性ビフェニルモノマーは、好ましくは１つの（メタ）アクリレート基又は１つのチオ（メタ）アクリレート基を含む。アクリレート官能基が一般的に好ましい。いくつかの態様において、ビフェニル基は、エチレン性不飽和（例えば、（メタ）アクリレート）基に直接結合する。この種類の例示的なモノマーは、２−フェニル−フェニルアクリレートである。ビフェニルモノ（メタ）アクリレート又はビフェニルチオ（メタ）アクリレートモノマーは、任意選択的に１つ以上のヒドロキシル基で置換された（例えば１〜５個の炭素の）アルキル基を更に含んでよい。この種類の代表的な種は、２−フェニル−２−フェノキシエチルアクリレートである。
【００７２】
一実施形態では、次の一般式を有する単官能性ビフェニル（メタ）アクリレートモノマーが用いられる。
【００７３】
【化４】
【００７４】
式中、Ｒ１はＨ又はＣＨ３であり、
ＱはＯ又はＳであり、
ｎは０〜１０の範囲（例えば、ｎは１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０である）であり、
Ｌは好ましくは、１〜５個の炭素原子を有するアルキル基（すなわち、メチル、エチル、プロピル、ブチル又はペンチル）であって所望によりヒドロキシで置換される。
【００７５】
別の実施形態では、単官能性ビフェニル（メタ）アクリレートモノマーは次の一般式の構造を有する。
【００７６】
【化５】
【００７７】
式中、Ｒ１はＨ又はＣＨ３であり、
ＱはＯ又はＳであり、
Ｚは−（Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＨ２、−Ｃ（Ｏ）−、−Ｓ（Ｏ）−及び−Ｓ（Ｏ）２−から選択され、
ｎは０〜１０の範囲（例えば、ｎは１、２、３、４、５、６、７、８、９又は１０である）であり、
Ｌは、１〜５個の炭素原子を有するアルキル基（すなわち、メチル、エチル、ブチル又はペンチル）であって所望によりヒドロキシで置換される。
【００７８】
Ｔｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄ．（Ｊａｐａｎ）より市販されているいくつかの特定のモノマーとして、例えば商標名「ＴＯ−２３４４」で入手可能な２−フェニル−フェニルアクリレート、商標名「ＴＯ−２３４５」で入手可能な４−（−２−フェニル−２−プロピル）フェニルアクリレート、及び商標名「ＴＯ−１４６３」で入手可能な２−フェニル−２−フェノキシエチルアクリレートが挙げられる。
【００７９】
芳香族単官能性（メタ）アクリレートモノマーの各種組み合わせを用いることができる。例えば、フェニル基を含む（メタ）アクリレートモノマーを、ビフェニル基を含む１つ以上の（メタ）アクリレートモノマーと組み合わせて用いてよい。更に、２つの異なったビフェニル（メタ）アクリレート単官能性モノマーを用いてもよい。
【００８０】
重合性樹脂は、各種他（例えば非ハロゲン化）エチレン系不飽和モノマーを３５重量％まで含んでもよい。例えば、構造体（例えば、プリズム）が、予備成形されたポリカーボネート高分子フィルム上でキャストされ、光硬化された場合、重合性樹脂組成物は、１つ以上のＮ，Ｎ−二置換（メタ）アクリルアミドモノマーを含んでもよい。これらとしては、Ｎ−アルキルアクリルアミド及びＮ，Ｎ−ジアルキルアクリルアミド、特にＣ１〜４アルキル基を含有するものが挙げられる。例には、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、及びＮ−ビニルカプロラクタムがある。
【００８１】
重合性樹脂組成物は、少なくとも３つの（メタ）アクリレート基を含む非芳香族架橋剤を２０重量％以下で任意的に含んでもよい。好適な架橋剤としては、例えばペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタクリレート）、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエトキシレートトリ（メタ）アクリレート、グリセリルトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールプロポキシレートトリ（メタ）アクリレート、及びジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレートが挙げられる。架橋剤の任意の１つ又は組み合わせを用いてもよい。メタクリレート基は、アクリレート基より反応性でない傾向があるため、架橋剤は好ましくはメタクリレート官能基を含まない。
【００８２】
様々な架橋剤が市販されている。例えば、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｅｘｔｏｎ，ＰＡ）から「ＳＲ４４４」の商標名で、Ｏｓａｋａ Ｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｄｕｓｔｒｙ，Ｌｔｄ．（Ｏｓａｋａ，Ｊａｐａｎ）から「Ｖｉｓｃｏａｔ Ｎｏ．３００」の商標名で、Ｔｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄ（Ｔｏｋｙｏ，Ｊａｐａｎ）から「Ａｒｏｎｉｘ Ｍ−３０５」の商標名で、及びＥｔｅｒｎａｌ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．，Ｌｔｄ．（Ｋａｏｈｓｉｕｎｇ，Ｔａｉｗａｎ）から「Ｅｔｅｒｍｅｒ ２３５」の商標名で市販されている。トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）は、Ｓａｒｔｏｍｅｒ Ｃｏｍｐａｎｙから「ＳＲ３５１」の商標名にて市販されている。ＴＭＰＴＡは、「Ａｒｏｎｉｘ Ｍ−３０９」の商標名で、Ｔｏａｇｏｓｅｉ Ｃｏ．Ｌｔｄ．からも入手可能である。更に、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート及びエトキシル化ペンタエリスリトールトリアクリレートは、Ｓａｒｔｏｍｅｒからそれぞれ商標名「ＳＲ４５４」及び「ＳＲ４９４」のもとに市販されている。
【００８３】
いくつかの実施形態では、光学フィルムの重合化されたミクロ構造化表面及び重合性樹脂組成物が、実質的に臭素を含まない（すなわち、１重量％未満で含有する）ことが好ましい。その他の実施形態では、臭素と塩素とを組み合わせた総量は１重量％未満である。いくつかの態様では、重合化されたミクロ構造化表面又は光学フィルム及び重合性樹脂組成物は、実質的にハロゲン化されていない（すなわち、合計で１重量％未満の臭素、塩素、フッ素及びヨウ素を含有する）。
【００８４】
ＵＶ硬化性の重合性組成物は、少なくとも１つの光反応開始剤を含む。１つの光反応開始剤又は光反応開始剤のブレンドを、本発明の輝度向上フィルムに用いてよい。一般的には、光反応開始剤は、（例えば、樹脂の加工温度で）少なくとも部分的に可溶性であり、重合化後に実質的に無色である。ＵＶ光源に曝露後、光反応開始剤が実質的に無色であるならば、光反応開始剤が有色（例えば黄色）であってもよい。
【００８５】
好適な光反応開始剤には、モノアシルホスフィンオキシド及びビスアシルホスフィンオキシドが挙げられる。市販のモノ又はビスアシルホスフィンオキシド光反応開始剤としては、「Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ」という商標名でＢＡＳＦ（Ｃｈａｒｌｏｔｔｅ，ＮＣ）から市販されている２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（trimethylbenzoybiphenylphosphine oxide）、更に「Ｌｕｃｉｒｉｎ ＴＰＯ−Ｌ」という商標名でＢＡＳＦから市販されているエチル−２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルホスフィネート、及び「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ８１９」という商標名でＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから市販されているビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキシドが挙げられる。その他の好適な光反応開始剤としては、Ｃｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから「Ｄａｒｏｃｕｒ １１７３」の商標名で市販されている２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、並びにＣｉｂａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓから、「Ｄａｒｏｃｕｒ ４２６５」、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ６５１」「Ｉｒｇａｃｕｒｅ １８００」、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ３６９」、「Ｉｒｇａｃｕｒｅ １７００」、及び「Ｉｒｇａｃｕｒｅ ９０７」の商標名にて市販されているその他の光反応開始剤が挙げられる。
【００８６】
光反応開始剤は、約０．１重量％〜約１０重量％の濃度で使用できる。より好ましくは、光反応開始剤は約０．５〜約５重量％の濃度で使用される。５重量％を超える量は、輝度向上フィルムの黄変を引き起こす傾向の観点から一般的に不利である。その他の光反応開始剤類及び光反応開始剤も、当業者によって決定されるように、好適に用いられてもよい。
【００８７】
フッ素系界面活性剤及びシリコーン系界面活性剤のような界面活性剤は、表面張力を低減するため、濡れを改良するため、より平滑なコーティングを可能にするため、及びコーティングの欠陥を減少させるため等の目的で、重合性組成物に任意選択的に包含させることができる。
【００８８】
いくつかの実施形態では、重合性組成物は無機ナノ粒子を更に含む。
【００８９】
表面修飾（例えば、コロイド状）ナノ粒子は、物品又は光学素子の耐久性及び／又は屈折率を向上させるのに有効な量で重合化構造体中に存在することができる。いくつかの実施形態では、表面修飾無機ナノ粒子の総量は、少なくとも１０重量％、２０重量％、３０重量％又は４０重量％の量で、重合性樹脂又は光学物品中に存在することができる。重合性樹脂組成物がミクロ構造フィルムの流延及び硬化プロセスで使用するのに好適な粘度を有するため、その濃度は、典型的には７０重量％未満であり、より典型的には６０重量％未満である。
【００９０】
このような粒子の寸法は、有意な可視光線の散乱を避けるように選択される。光学又は材料特性を最適化するため及び全組成物コストを低下させるために、複数の種類の無機酸化物粒子の混合物を用いることが望ましい場合がある。表面修飾コロイド状ナノ粒子は、１ｎｍ、５ｎｍ又は１０ｎｍ超の（例えば、非会合性）一次粒径又は会合粒径を有する酸化物粒子であることができる。一次又は会合粒径は、一般的に１００ｎｍ、７５ｎｍ、又は５０ｎｍ未満である。典型的には、一次又は会合粒径は４０ｎｍ、３０ｎｍ、又は２０ｎｍ未満である。ナノ粒子は非会合性であることが好ましい。それらの測定は、透過型電子顕微鏡法（ＴＥＭ）に基づいてよい。ナノ粒子としては、例えば、アルミナ、ジルコニア、チタニア、これらの混合物、又はこれらの混合酸化物のような金属酸化物が挙げられる。表面修飾コロイドナノ粒子は、実質的に完全に凝縮可能である。
【００９１】
完全凝縮ナノ粒子（シリカを例外として）の結晶化度（単離金属酸化物粒子として測定した場合）は、典型的には５５％を超え、好ましくは６０％を超え、より好ましくは７０％を超える。例えば、結晶化度は、約８６％までの範囲内又はそれ以上にすることができる。結晶化度は、Ｘ線回折法によって割り出すことができる。凝縮結晶性（例えばジルコニア）のナノ粒子は屈折率が高いが、非晶質ナノ粒子は典型的には屈折率がより低い。
【００９２】
ジルコニア及びチタニアナノ粒子は、５〜５０ｎｍ、又は５〜１５ｎｍ、又は８ｎｍ〜１２ｎｍの粒径を有することができる。ジルコニアナノ粒子は、耐久性物品又は光学素子中に１０〜７０重量％、又は３０〜６０重量％の量で存在できる。本発明の組成物及び物品に使用されるジルコニアは、Ｎａｌｃｏ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．から商標名「Ｎａｌｃｏ ＯＯＳＳＯＯ８」で、及びＢｕｈｌｅｒ ＡＧ Ｕｚｗｉｌ，Ｓｗｉｔｚｅｒｌａｎｄから商標名「Ｂｕｈｌｅｒ ｚｉｒｃｏｎｉａ Ｚ−ＷＯ ｓｏｌ」で入手可能である。
【００９３】
ジルコニア粒子は、米国特許第７，２４１，４３７号に記載されているような水熱技術を使用して調製することができる。ナノ粒子は、表面修飾されている。表面修飾は、無機酸化物（例えば、ジルコニア）粒子に表面修飾剤を付着させて、表面特性を修飾することを伴う。無機粒子の表面修飾の全体的な目標は、均質な構成成分を持つ、好ましくは高輝度のフィルムに調製可能な（例えばキャスト及び硬化プロセスを使用して）低粘度を持つ樹脂を提供することである。
【００９４】
ナノ粒子は、しばしば、有機マトリックス材料との相溶性を改良するために表面修飾される。表面修飾されたナノ粒子は、しばしば、有機マトリックス材料中で非会合、非粒塊、又はこれらの組み合わせの状態である。得られるこれらの表面修飾されたナノ粒子を含有する光管理フィルム（light management films）は高い光学的透明性及び低いくもりを有する傾向がある。ジルコニアのような、高屈折率の表面修飾されたナノ粒子の添加は、輝度向上フィルムのゲインを、重合化された有機材料のみを含有するフィルムと比べて増大することができる。
【００９５】
モノカルボン酸表面処理剤は、好ましくは相溶化基を含む。モノカルボン酸は式Ａ−Ｂにより表され得、式中、Ａ基は（ジルコニア又はチタニア）ナノ粒子の表面に付着可能な（例えば、モノカルボン酸）基であり、Ｂは様々な異なる官能性を含む相溶化基である。カルボン酸基は、吸着及び／又はイオン結合の形成によって表面に付着できる。相溶化基Ｂは、一般的に、それが（例えば輝度向上）光学物品の重合性樹脂と相溶するように選択される。相溶化基Ｂは、反応性又は非反応性であることができ、極性又は非極性であることができる。
【００９６】
ジルコニア粒子に非極性の性質を付与することができる相溶化基Ｂとしては、例えば、直鎖又は分枝鎖の芳香族又は脂肪族炭化水素が挙げられる。カルボン酸官能性を有する非極性修飾剤の代表的な例には、オクタン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸、及びこれらの組み合わせが挙げられる。
【００９７】
相溶化基Ｂは、所望により、それが（例えば輝度向上）光学物品の有機マトリックスと共重合可能なように、反応性であってもよい。例えば、（メタ）アクリレート相溶化基のようなフリーラジカル重合性基は、（メタ）アクリレート官能性有機モノマーと共重合して、良好な均質の輝度向上物品を生成できる。
【００９８】
好適な表面修飾は、米国特許出願公開第２００７／０１１２０９７号及び米国特許出願第６０／８９１８１２号（２００７年２月２７日出願）に記載されている。
【００９９】
表面修飾された粒子は、種々の方法で硬化性（すなわち、重合性）樹脂組成物の中に組み込むことができる。好ましい態様においては、溶媒交換手順が利用され、樹脂を表面修飾されたゾルに添加してから水及び共溶媒（使用する場合）を蒸発により除去することにより、粒子を重合性樹脂中に分散された状態にする。蒸発工程は、例えば、蒸留、回転蒸発、又はオーブン乾燥により達成可能である。別の態様では、表面修飾された粒子を水不混和性溶媒中に抽出した後、それが望ましい場合には溶媒交換を行うことができる。あるいは、表面修飾されたナノ粒子を重合性樹脂に組み込む別の方法は、修飾粒子を乾燥して粉末にした後、粒子が分散された樹脂材料を添加することを伴う。この方法における乾燥工程は、例えば、オーブン乾燥又は噴霧乾燥のような、その系に適した従来の方法によって達成することができる。
【０１００】
このような光再利用効果の一般的測定は、光学フィルムのゲインを測定することである。本明細書で使用するとき、「相対ゲイン」は、光学フィルム（又は光学フィルムアセンブリ）をライトボックスの最上部に置いて、実施例にて記載した試験方法による測定で、ライトボックスの最上部に光学フィルムが存在しない場合に測定された軸上輝度に対する軸上輝度として定義される。本定義は、次の関係によって要約することができる。
【０１０１】
【数１】
【０１０２】
次に定義する用語については、別の定義が「特許請求の範囲」中、あるいは本明細書中のいずれかの場所で与えられない限り、これらの定義が適用されるものとする。
【０１０３】
用語「ミクロ構造」は、本明細書では米国特許第４，５７６，８５０号に定義及び説明されたように使用される。それゆえ、それは、ミクロ構造を有する物品の予め定められた所望の利用目的又は機能を叙述する又は特徴づける表面の構成を意味する。その物品の表面における突出部及びくぼみのような不連続は、中心線の上の表面輪郭により包囲された面積の合計が線の下の面積の合計と等しくなるように、ミクロ構造を通って引かれた平均中心線から輪郭が偏差すると考えられ、その線は物品の呼称面（nominal surface）（ミクロ構造を有する）に本質的に平行である。例えば、１〜３０ｃｍの表面の代表的な特性長を通って、光学又は電子顕微鏡により測定したとき、その偏位の高さは典型的には、約±０．００５〜±７５０マイクロメートルである。その平均中心線は、平面、凹面、凸面、非球面又はこれらの組み合わせであってもよい。その偏位が低いオーダー、例えば、±０．００５、±０．１、又は好ましくは、±０．０５マイクロメートルであり、その偏位がまれにしか又はほとんど発生しない物品、すなわち、表面にいかなる有意な不連続もない物品は、微細構造保有表面が本質的に「平坦」又は「平滑な」表面であるものであり、そのような物品は、眼用レンズのような、例えば精密光学素子又は精密光学インタフェースを有する素子として有用である。その偏位が低いオーダーであり頻繁に発生する物品としては、反射防止ミクロ構造を有するものが挙げられる。前述の偏位が大きく、例えば、±０．１〜±７５０マイクロメートルであり、同一又は異なり及びランダム又は規則的に隔置され又は連続している複数の実用的な不連続部を含む微細構造に寄与し得る物品は、逆反射コーナーキューブシーティング、線形フレネルレンズ、ビデオディスク及び輝度向上フィルムなどの物品である。ミクロ構造を有する表面は、その低いオーダー及び高いオーダーの両方の実用的不連続を含有できる。ミクロ構造を有する表面は、その量又は種類がその物品の予め定められた所望の利用を有意に妨害するか又は悪影響を及ぼすものでない限り、外来の又は非実用的な不連続を含有してよい。
【０１０４】
「屈折率」とは、材料（例えば、モノマー）の絶対屈折率を意味し、自由空間中の電磁放射線の速度とその材料中の電磁放射線の速度との比を意味する。屈折率は既知の方法を使用して測定でき、かつ一般に、Ａｂｂｅ屈折計又はＢａｕｓｃｈ ａｎｄ Ｌｏｍｂ Ｒｅｆｒａｃｔｏｍｅｔｅｒ（カタログ番号３３．４６．１０）（例えば、Ｆｉｓｈｅｒ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ（Ｐｉｔｔｓｂｕｒｇｈ，ＰＡ）から市販されている）を使用して可視光領域内にて測定することができる。測定された屈折率は、計器に依存してある程度変動しうることは一般的に認識されている。
【０１０５】
「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート化合物及びメタクリレート化合物の両方を意味する。
【０１０６】
用語「ナノ粒子」は、本明細書において、約１００ｎｍ未満の直径を有する粒子（一次粒子又は会合一次粒子）を意味するように定義される。
【０１０７】
「表面修飾されたコロイド状ナノ粒子」は、ナノ粒子が安定な分散を提供するように各々修飾された表面を有するナノ粒子を指す。
【０１０８】
本明細書で「安定な分散」は、周囲条件−例えば、室温（約２０〜２２℃）、大気圧、及び、過剰な電磁力がない−下で、ある時間、例えば約２４時間放置された後に、コロイド状ナノ粒子が疑集しない分散として定義される。
【０１０９】
端点による数の範囲の列挙には、その範囲内に包含される全ての数（例えば１から５には、１、１．５、２、２．７５、３、３．８０、４、及び５）が含まれる。
【０１１０】
本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用されるとき、単数形「ａ」、「ａｎ」及び「ｔｈｅ」は、その内容について別段の明確な指示がない限り、複数の指示対象を包含する。したがって、例えば「化合物」を含有する組成物の言及は、二種以上の化合物の混合物を含む。本明細書及び添付の特許請求の範囲において使用されるとき、用語「又は」は、その内容について別段の明確な指示がない限り、一般的に「及び／又は」を含む意味で用いられる。
【０１１１】
特に指示がない限り、明細書及び添付特許請求の範囲に使用される成分の量、性質の測定等を表す全ての数は、全ての例において、「約」という用語により修飾されることを理解されたい。
【０１１２】
本発明は、本明細書中に記載する特定の実施例に限定されると考えるべきではなく、更に適切に言えば添付の特許請求の範囲の中で適正に述べるものが本発明の全態様を包含すると理解されるべきである。本明細書を検討すると、様々な修正形態、等価の方法、及び本発明を適用できる非常に多くの構造が、本発明についての当業者には容易に明らかなはずである。
【実施例】
【０１１３】
試験方法
クロスハッチ付着性
試験方法ＡＳＴＭ Ｄ３３５９に従い、クロスハッチ試験及び３Ｍ ６１０セロハン（登録商標）接着テープを使用して、ベースＤＢＥＦフィルムに対するミクロ構造化樹脂層の付着性を測定した。
【０１１４】
付着性は０〜５のスケールで評価され、ここで、０は１００％コーティングが除去されたことを意味し、一方、５は０％コーティングが除去されたことを意味する（したがって、「４」は約８０％定着又は２０％除去に等価である）。
【０１１５】
表面抵抗は、ＰＲＦ−９１１コンセントリック・リング固定治具を備えたＰｒｏＳｔａｔ（Ｂｅｎｓｅｎｖｉｌｌｅ，ＩＬ）ＰＲＳ−８０１抵抗システムを使用して測定した。オームでの表面抵抗は、機器に同梱されている説明書に従って測定値に１０を乗じることによってオーム／スクエアに変換した。
【０１１６】
静電荷減衰時間は、Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｔｅｃｈ Ｓｙｓｔｅｍｓ，Ｉｎｃ．モデル４０６Ｃ静電気減衰計を用いて測定した。この計器は、サンプルを５ｋＶまで帯電させ、そして、静電荷がその初期値の１０％まで減衰するのに要する時間を測定する。いくつかの絶縁サンプルは、５ｋＶまで完全に帯電せず、これはデータ表にＷＮＣと注記されている。
【０１１７】
ブルーミング試験
清浄で下地処理されていないＰＥＴシートに対して微細複製表面を配置することにより、帯電防止剤が表面に移動し他のフィルムに移転する傾向を評価した。次に、０．１６ｃｍ（１／１６”）の間隔で離して保持された０．３２ｃｍ（１／８”）のガラスシートの間にこの積層体を配置した。次に、６５℃において９５％の相対湿度で７２時間にわたってチャンバにこれらのパネルを定置した。次に、このポリエステルを脱色及び帯電防止添加剤の移転の証拠について視覚的に点検した。「Ｐ」は合格評価を又は移転が観察されなかったことを示し、一方、「ＮＰ」は残留物がＰＥＴ上に堆積したことを示す。
【０１１８】
帯電防止剤
一般的化学名称（商標名、供給元）
１．トリブチルメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から商標名「Ｌ−１９０５５」で入手可能）、
ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム（３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商標名「ＨＱ−１１５」で入手可能）、
２．Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ−（３’−ドデシルオキシ−２’−ヒドロキシプロピル）メチルアンモニウムメトサルフェート（Ｃｙｔｅｃ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓから商標名「Ｃｙａｓｔａｔ ６０９」で入手可能、
３．塩化コリンは、Ａｌｄｒｉｃｈ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．から入手した。
【０１１９】
４．Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレートＱ−塩、メトサルフェート（５０％水溶液）をＭｏｎｏｍｅｒ−Ｐｏｌｙｍｅｒ ＆ Ｄａｊａｃ Ｌａｂｓ，Ｉｎｃ、カタログ番号８５９２から購入した。
【０１２０】
表１〜３に記載の他の帯電防止剤は、先に引用した特許及び特許出願に記載のように合成した。
【０１２１】
２つの異なるべース層フィルム基材を実施例に使用した。第１基材は、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから商標名「Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）ＤＢＥＦ ＩＩ」として市販されている輝度向上フィルムと同一のベース層フィルム基材である（すなわち、下地処理されていない）多層光学フィルムであった。
【０１２２】
第２基材は、米国特許第６，３５２，７６１号の実施例１１に従って調製された多層反射性偏光光学フィルムであった。第２基材を、約２５０ｎｍの硬化プライマー厚さで米国特許出願公開第６１／０４０７３７号（２００８年３月３１日出願）に記載されているようにＣｙｍｅｌ ３２７メラミン／ホルムアルデヒド樹脂により架橋されたスルホン化ポリエステル樹脂でコーティングした。
【０１２３】
重合性樹脂は、２５重量％のフェノキシエチルアクリレート及び７５重量％のビスフェノールＡエポキシアクリレート（ＣＮ１２０）から構成され、０．５重量％のＤａｒｏｃｕｒ １１７３及び０．５重量％のＴＰＯを光反応開始剤として含有する。重合性樹脂は、琥珀色ねじ蓋式バイアル瓶中で２ｇの塩と１８ｇの樹脂とを混合し、バイアル瓶を封止し、炉内において９０℃で数分間にわたって混合物を加熱して、塩を溶解させることにより、表１〜３に示されている塩を使用して修飾される。塩化コリンを除く全ての塩が容易に溶解して、室温に冷却後、透明な修飾された樹脂を生じた。
【０１２４】
以下の手順を使用して、樹脂を各基材に適用した。
【０１２５】
１）６０℃にて１時間、液化するまで樹脂を加熱する。
【０１２６】
２）ホットプレート上にて７１℃（１６０°Ｆ）で１分間、平坦なＢＥＦ工具を加熱して、コーティングされる基材フィルムと接触させる。
【０１２７】
３）Ｃａｔｅｎａ ３５貼合せ機を７１℃（１６０°Ｆ）に加熱し、速度を８８．９ｃｍ／分（３５インチ／分）に設定する。
【０１２８】
４）樹脂のビーズラインを工具に適用する。
【０１２９】
５）ハンドローラーを使用して、工具に対して基材フィルムを静かに置き、ロールして所定の位置に貼り付ける。
【０１３０】
６）プライム化されていない大きなＰＥＴフィルム２枚の間に、工具及びフィルムサンプルを挟み込み、貼合せ機のロールを保護する。
【０１３１】
７）最高設定で貼合せ機の中にサンプルを通す。これにより、０．０１０ｍｍ（０．４ｍｉｌ）の呼び樹脂フィルム厚さを生じる。
【０１３２】
８）サンプルをＵＶ処理装置（Ｄバルブを装着し、１００％の出力及び９．１４ｍ／分（３０フィート／分）のラインスピードにて窒素パージ下で稼動する、ＵＶ Ｆｕｓｉｏｎ Ｌｉｇｈｔｈａｍｍｅｒ）に通す。
【０１３３】
９）工具から、フィルムサンプルをゆっくりと取り外す。
【０１３４】
全てのサンプルは、工具から容易に剥離した。
【０１３５】
一定温度／湿度チャンバにて一晩２１．１℃（７０°Ｆ）／５０％ ＲＨで、積層体を一晩調湿させておき、その後、表面抵抗率、静電気減衰時間及びクロスハッチ付着性の測定にかけた。結果を下記の表１〜３に示す。静電気減衰測定に関しては、サンプルは、ミクロ構造化プリズム列が試験電極に垂直又は平行に位置するように、配向させた。
【０１３６】
【表１】
【０１３７】
Ｌ−１９０５５を含有する積層体を周囲実験室雰囲気にて２２％ＲＨで一晩静置させておいた。静電荷減衰を再測定したところ、有意に変化しなかったことが判明したが、これは、この静電防止システムが低周囲湿度においてさえも良好に作動できることを示す。
【０１３８】
（実施例２〜６）
表２〜３に示している修飾された樹脂処方を使用して、実施例１の手順を繰り返した。ＤＢＥＦ ＩＩを基材として使用し、温度を６８℃に制御した。一定温度／湿度チャンバにて２１．１℃（７０°Ｆ）／５０％ＲＨで一晩静置した後に、積層体を静電荷減衰時間の測定にかけた。結果を表２〜３に示す。
【０１３９】
【表２】
【０１４０】
Ｌ−１９０５５は、試験された種々の塩の中で特性の最良の組み合わせと、重合性樹脂中で低濃度（＜５重量％）における最良の帯電防止性能を示す。また、この実施例で使用されたより高いプロセス温度は、ＤＢＥＦ ＩＩ基材への硬化樹脂の付着を得るために必要であった。６０℃では、樹脂付着性は乏しかった。
【０１４１】
電荷減衰とクロスハッチ付着性との好適な組み合わせを提供した他の帯電防止剤は、以下のように示される。
【０１４２】
【表３】
【０１４３】
対イオン見出し：
デブチルイミド＝−Ｎ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）２
イミド＝−Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２
メチルブチルイミド＝−Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）
ＢＥＴＩ＝−Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２
メチド＝−Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３
Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルアクリレートＱ塩、メトサルフェート（５０％水溶液）（Ｍｏｎｏｍｅｒ−Ｐｏｌｙｍｅｒ ＆ Ｄａｊａｃ Ｌａｂｓ，Ｉｎｃ、カタログ番号８５９２から購入）の１０ｇの部分を、ＨＱ１１５（ビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドリチウム、３Ｍ Ｃｏｍｐａｎｙから入手）の８０重量％水溶液６．０ｇとねじ蓋式バイアル瓶中で混合した。＆このわずかに不透明な混合物を１００ｍＬのジクロロメタンで抽出し、次に、有機層を分離し、脱イオン水の５０ｍＬの部分２つで洗浄した。溶媒を除去し、ロータリーエバポレーター上で乾燥したところ、４．２ｇの淡い琥珀色の、わずかに不透明な液体が残った。プロトン及びフッ素ＮＭＲによる生成物の分析は、それが、およそ８６．６重量％のヒドロキシエチルジエチルメチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドと、２．６重量％のヒドロキシエチルジエチルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニルイミド）と、２．２重量％のアクリル酸と、６．２重量％のメタクリル酸とから構成され、残りは未同定の不純物であることを示した。この帯電防止剤を使用して、表４の実施例１８Ａのための輝度向上フィルムを調製した。
【０１４４】
表４の実施例１９Ａは、トリエチルアンモニウムビス（ペルフルオロエタンスルホニル）イミド、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２を帯電防止剤として用い、米国特許６，３７２，８２９号の実施例１の例１に記載のように調製した。
【０１４５】
どちらの場合も、これらの帯電防止剤組成物を、前述した重合性樹脂組成物と以下の表４に示す濃度で組み合わせた。次に、この樹脂組成物を基材として「Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）ＤＢＥＦ ＩＩ」を使用して先述したように輝度向上フィルムに調製した。試験結果は以下の通りであった。
【０１４６】
【表４】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
重合化されたミクロ構造化表面を含む、輝度向上フィルムであって、前記ミクロ構造は一般式
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
を有する帯電防止剤を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含み、式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又は少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素又は炭素であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である、輝度向上フィルム。
【請求項２】
前記帯電防止剤が約０．５重量％〜約１５重量％固体の範囲の量で存在する、請求項１に記載の輝度向上フィルム。
【請求項３】
前記帯電防止剤が約３重量％〜約５重量％固体の範囲の量で存在する、請求項１に記載の輝度向上フィルム。
【請求項４】
２１．１℃（７０°Ｆ）及び５０％の相対湿度で試験されたときに電荷減衰が１．５秒未満である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項５】
２１．１℃（７０°Ｆ）及び５０％の相対湿度で試験されたときに電荷減衰が約０．５秒未満である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項６】
前記ミクロ構造が、前記ミクロ構造とは異なる組成を有するベースフィルム層に配置される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項７】
前記ベースフィルム層がプライマーを更に含む、請求項６に記載の輝度向上フィルム。
【請求項８】
前記ベースフィルム層がポリエステルを含む、請求項６又は７に記載の輝度向上フィルム。
【請求項９】
前記ベースフィルム層が偏光フィルムである、請求項８に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１０】
前記プライマーがスルホン化ポリエステルを含む、請求項８又は９に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１１】
前記ミクロ構造が、前記ベースフィルム層に対して少なくとも９０％のクロスハッチ付着性を呈する、請求項６〜１０のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１２】
Ｒの炭素原子の合計が少なくとも５である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１３】
ｘが４であり、Ｒの炭素原子の合計が少なくとも７である、請求項１２に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１４】
少なくとも１つのＲｆがＣＦ３である、請求項１２又は１３に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１５】
少なくとも１つのＲがメチルであり、他のＲ基が少なくとも２つの炭素原子を含む、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１６】
前記帯電防止剤が、（Ｃ２Ｈ５）３Ｎ（ＣＨ３）＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ４Ｈ９）３Ｎ（ＣＨ３）＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１５に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１７】
ｘが３であり、各Ｒが少なくとも２つの炭素原子を含む、請求項１２に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１８】
前記帯電防止剤が、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）２、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１７に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１９】
ｘが４であり、Ｒの炭素原子の合計が少なくとも８である、請求項１２に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２０】
前記帯電防止剤が、（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ２Ｈ５）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋ −Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３、（Ｃ６Ｈ１３）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２、（Ｃ１２Ｈ２５）（ＣＨ３）３Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１９に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２１】
Ｊが窒素である、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２２】
Ｊがリンであり、ｘが４である、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２３】
Ｒが少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含む、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２４】
重合性樹脂組成物が少なくとも１つのカルボン酸を更に含む、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２５】
重合性樹脂が少なくとも１つのモノカルボン酸を含む、請求項２４に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２６】
前記モノカルボン酸が、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２５に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２７】
少なくとも２つの芳香環を含むジ（メタ）アクリレートモノマーを少なくとも１つと、反応性希釈剤と、一般式
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
（式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又は少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素原子又は炭素原子であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である）を有する帯電防止剤と、を含む重合性樹脂。
【請求項２８】
重合化されたミクロ構造化表面を含む、ミクロ構造化フィルム物品であって、前記ミクロ構造は一般式
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
（式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又はヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素原子又は炭素原子であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である）を有する帯電防止剤を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含む、ミクロ構造化フィルム物品。
【請求項１】
重合化されたミクロ構造化表面を含む、輝度向上フィルムであって、前記ミクロ構造は一般式
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
を有する帯電防止剤を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含み、式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又は少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素又は炭素であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である、輝度向上フィルム。
【請求項２】
前記帯電防止剤が約０．５重量％〜約１５重量％固体の範囲の量で存在する、請求項１に記載の輝度向上フィルム。
【請求項３】
前記帯電防止剤が約３重量％〜約５重量％固体の範囲の量で存在する、請求項１に記載の輝度向上フィルム。
【請求項４】
２１．１℃（７０°Ｆ）及び５０％の相対湿度で試験されたときに電荷減衰が１．５秒未満である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項５】
２１．１℃（７０°Ｆ）及び５０％の相対湿度で試験されたときに電荷減衰が約０．５秒未満である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項６】
前記ミクロ構造が、前記ミクロ構造とは異なる組成を有するベースフィルム層に配置される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項７】
前記ベースフィルム層がプライマーを更に含む、請求項６に記載の輝度向上フィルム。
【請求項８】
前記ベースフィルム層がポリエステルを含む、請求項６又は７に記載の輝度向上フィルム。
【請求項９】
前記ベースフィルム層が偏光フィルムである、請求項８に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１０】
前記プライマーがスルホン化ポリエステルを含む、請求項８又は９に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１１】
前記ミクロ構造が、前記ベースフィルム層に対して少なくとも９０％のクロスハッチ付着性を呈する、請求項６〜１０のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１２】
Ｒの炭素原子の合計が少なくとも５である、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１３】
ｘが４であり、Ｒの炭素原子の合計が少なくとも７である、請求項１２に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１４】
少なくとも１つのＲｆがＣＦ３である、請求項１２又は１３に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１５】
少なくとも１つのＲがメチルであり、他のＲ基が少なくとも２つの炭素原子を含む、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１６】
前記帯電防止剤が、（Ｃ２Ｈ５）３Ｎ（ＣＨ３）＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ４Ｈ９）３Ｎ（ＣＨ３）＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１５に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１７】
ｘが３であり、各Ｒが少なくとも２つの炭素原子を含む、請求項１２に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１８】
前記帯電防止剤が、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）２、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）（ＳＯ２Ｃ４Ｆ９）、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３、（Ｃ２Ｈ５）３ＮＨ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１７に記載の輝度向上フィルム。
【請求項１９】
ｘが４であり、Ｒの炭素原子の合計が少なくとも８である、請求項１２に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２０】
前記帯電防止剤が、（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ２Ｈ５）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２ＣＦ３）２、（Ｃ４Ｈ９）４Ｎ＋ −Ｃ（ＳＯ２ＣＦ３）３、（Ｃ６Ｈ１３）４Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２、（Ｃ１２Ｈ２５）（ＣＨ３）３Ｎ＋ −Ｎ（ＳＯ２Ｃ２Ｆ５）２及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項１９に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２１】
Ｊが窒素である、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２２】
Ｊがリンであり、ｘが４である、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２３】
Ｒが少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含む、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２４】
重合性樹脂組成物が少なくとも１つのカルボン酸を更に含む、請求項１〜２３のいずれか一項に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２５】
重合性樹脂が少なくとも１つのモノカルボン酸を含む、請求項２４に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２６】
前記モノカルボン酸が、アクリル酸、メタクリル酸及びこれらの混合物からなる群から選択される、請求項２５に記載の輝度向上フィルム。
【請求項２７】
少なくとも２つの芳香環を含むジ（メタ）アクリレートモノマーを少なくとも１つと、反応性希釈剤と、一般式
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
（式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又は少なくとも１つのヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素原子又は炭素原子であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である）を有する帯電防止剤と、を含む重合性樹脂。
【請求項２８】
重合化されたミクロ構造化表面を含む、ミクロ構造化フィルム物品であって、前記ミクロ構造は一般式
ＲｘＪＨ４−ｘ＋ −Ａ［ＳＯ２Ｒｆ］ｍ
（式中、
ｘは３〜４の範囲であり、
Ｒは独立してカテナリー酸素原子又はヒドロキシル末端基を含むか又は含まないＣ１〜Ｃ１２アルキル基であり、
Ｊは窒素又はリンであり、
Ａは窒素原子又は炭素原子であり、
Ｒｆは独立してフッ素化Ｃ１〜Ｃ４アルキル基であり、
ｍは２〜３の範囲である）を有する帯電防止剤を含む重合性樹脂組成物の反応生成物を含む、ミクロ構造化フィルム物品。
【公表番号】特表２０１１−５２６３０７（Ｐ２０１１−５２６３０７Ａ）
【公表日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５１２５０１（Ｐ２０１１−５１２５０１）
【出願日】平成２１年５月１１日（２００９．５．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０４３４０１
【国際公開番号】ＷＯ２００９／１４８７６５
【国際公開日】平成２１年１２月１０日（２００９．１２．１０）
【出願人】（５０５００５０４９）スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー (2,080)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年５月１１日（２００９．５．１１）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＵＳ２００９／０４３４０１
【国際公開番号】ＷＯ２００９／１４８７６５
【国際公開日】平成２１年１２月１０日（２００９．１２．１０）
【出願人】（５０５００５０４９）スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー (2,080)
【Ｆターム（参考）】
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