マスク及びこれを含むマスク組立体
【課題】単位マスクに加えられる引張力によって単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制したマスク、及びこれを含むマスク組立体を提供する。
【解決手段】マスク組立体は、開口部を含むフレーム及び開口部上に位置し、一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームによって支持される１つ以上の単位マスクを含み、単位マスクは一方向に配置された複数のパターン開口部及びパターン開口部と隣接してパターン開口部と単位マスクの枠の間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第１グルーブを含む。
【解決手段】マスク組立体は、開口部を含むフレーム及び開口部上に位置し、一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームによって支持される１つ以上の単位マスクを含み、単位マスクは一方向に配置された複数のパターン開口部及びパターン開口部と隣接してパターン開口部と単位マスクの枠の間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第１グルーブを含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマスクに関し、より詳しくは複数の単位マスクを支持するフレームを含むマスク組立体に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、平板表示装置の代表的な例として、有機発光表示装置（organic light emitting display）、液晶表示装置（liquid crystal display）及びプラズマディスプレイパネル（plasma display panel）等がある。
【０００３】
このうち、有機発光表示装置を製造するためには、特定パターンを有する電極と有機発光層などを形成する必要があり、その形成法としてマスク組立体を利用した蒸着法が適用される。
【０００４】
より詳細には、有機発光表示装置は、基板に画像表現の基本単位の画素（pixel）がマトリックス状に配列され、各々の画素に赤色（Red）、緑色（Green）、青色（Blue）等の光を発光する各々の有機発光層を間において正極の第１電極と負極の第２電極が順に形成された有機発光素子が配置される構成を有する。ここで、有機発光層を形成する有機物質は、水分及び酸素などに非常に弱いので、有機発光層を形成する工程及び有機発光層を形成した後にも水分から徹底的に隔離しなければならず、通常のフォトリソグラフィ工程を利用してのパターニングでは取り扱いが難しい。従って、有機発光層及び第２電極などは、主に各パターンに対応する部分にのみ蒸着物質が貫通するためのパターン開口部が形成されているマスクを利用して形成する。
【０００５】
従来、開口部を備えたフレーム、開口部に対応して両端部がフレームに固定される帯状の複数の単位マスクを含むマスク組立体が使用されていた。
【０００６】
このような従来のマスク組立体は、単位マスクに引張力が加えられてフレームに支持されるため、単位マスクに加えられる引張力によって単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形する問題があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の実施形態は、前述した問題を解決するためのものであって、本発明の目的は、単位マスクに加えられる引張力によって、単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制したマスク、及びこれを含むマスク組立体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前述した技術的課題を達成するための本発明の第１側面は、開口部を含むフレーム、及び開口部上に位置して一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームに支持される１つ以上の単位マスクを含み、単位マスクは一方向に配置された複数のパターン開口部、及びパターン開口部と隣接してパターン開口部と単位マスクの枠の間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第１グルーブを含むマスク組立体を提供する。
【０００９】
第１グルーブは、第１グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスクの表面上で変形した幅を有してもよい。
【００１０】
第１グルーブは単位マスクの表面上で半円形状であってもよい。
【００１１】
単位マスクは、パターン開口部と隣接し、隣接するパターン開口部の間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第２グルーブをさらに含んでもよい。
【００１２】
第２グルーブは、第２グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて単位マスクの表面上で変形した幅を有してもよい。
【００１３】
第２グルーブは単位マスクの表面上で半円または円錐形状であってもよい。
【００１４】
第１グルーブは複数であり、単位マスクは隣接する第１グルーブの間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第３グルーブをさらに含んでもよい。
【００１５】
第３グルーブは多角形状であってもよい。
【００１６】
単位マスクは、一方向に配置された複数のパターン開口部のうち最外側に位置するパターン開口部と単位マスクの端部との間に位置するダミーパターンをさらに含んでもよい。
【００１７】
ダミーパターンは、ダミーパターンと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて単位マスクの表面上で変形した幅を有してもよい。
【００１８】
ダミーパターンは単位マスクを貫通してもよい。
【００１９】
ダミーパターンは単位マスクの表面に陥没形成されてもよい。
【００２０】
ダミーパターンはフレームと対応してもよい。
【００２１】
パターン開口部の形状は、帯状（stripe）またはドット状（dot）であってもよい。
【００２２】
また、本発明の第２側面は、一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームに支持される単位マスクにおいて、一方向に沿って延長された帯状の単位マスク本体部、一方向に配置された複数のパターン開口部及びパターン開口部と隣接してパターン開口部と単位マスク本体部の枠の間に位置し、単位マスク本体部の表面に陥没形成された第１グルーブを含む単位マスクを提供する。
【００２３】
第１グルーブは、第１グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有してもよい。
【００２４】
パターン開口部と隣接し、隣接するパターン開口部の間に位置し、単位マスク本体部の表面に陥没形成された第２グルーブをさらに含んでもよい。
【００２５】
第２グルーブは、第２グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有してもよい。
【００２６】
第１グルーブは複数であり、隣接する第１グルーブの間に位置し、単位マスク本体部の表面に陥没形成された第３グルーブをさらに含んでもよい。
【００２７】
一方向に配置された複数のパターン開口部のうち最外側に位置するパターン開口部と単位マスク本体部の端部との間に位置するダミーパターンをさらに含んでもよい。
【００２８】
ダミーパターンは、ダミーパターンと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有してもよい。
【００２９】
パターン開口部の形状は、帯状（stripe）またはドット状（dot）であってもよい。
【発明の効果】
【００３０】
前述した本発明の実施形態によれば、単位マスクに加えられる引張力によって、単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制できるマスク、及びこれを含むマスク組立体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体を示す分解斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体を示す平面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図４】図３のＩＶ-ＩＶ線に沿った断面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図６】本発明の第３の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図７】本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散し、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。
【図８】本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散し、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。
【図９】本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散し、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。
【図１０】本発明の第４の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図１１】本発明の第５の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図１２】図１１のＸＩＩ-ＸＩＩ線に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の多様な実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は様々に相違した形態で実現することができ、ここで説明する実施形態に限定されることはない。
【００３３】
また、多様な実施形態において、同一の構成を有する構成要素については、同一の符号を使って代表的に第１の実施形態で説明し、その他の実施形態では第１の実施形態と異なる構成についてのみ説明する。
【００３４】
本発明を明確に説明するために説明上不要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似する構成要素については同一参照符号を付与した。
【００３５】
また、図面に示された各構成の大きさ及び厚さは説明の便宜上任意に示すものであり、本発明によるマスク及びその周辺部、並びにマスク組立体が必ずしも示された通りの大きさ及び厚さを有する構成であるとは限らない。
【００３６】
図面においてから複数の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。そして、図面において、説明の便宜のために、一部の層及び領域の厚さを誇張して示した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上に」または「上部に」あるという時、これは他の部分の「直上」にある場合だけでなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。一方、ある部分が他の部分の「直上」にあるという時には中間に他の部分がないことを意味する。
【００３７】
以下、図１〜図４を参照して本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体について説明する。
【００３８】
図１は、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体を示す分解斜視図である。図２は、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体を示す平面図である。
【００３９】
図１及び図２に示すように、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体は、フレーム１００及び複数の単位マスク２００を含む。
【００４０】
フレーム１００は複数の各々の単位マスク２００の両端を固定及び支持し、単位マスク２００を露出させる開口部１１０を含む。フレーム１００は、開口部１１０を間において後述する第２支持部１３０の延長方向の第１方向（ｘ）に沿って互いに対向する一対の第１支持部１２０及び開口部１１０を間において、第１方向（ｘ）と直交する第２方向（ｙ）に沿って互いに対向する一対の第２支持部１３０をさらに含む。第２支持部１３０には溶接などの固定方法を利用して、単位マスク２００が第２方向（ｙ）に引張力が加えられた状態で単位マスク２００の両端部２００ａが支持される。
【００４１】
本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体のフレーム１００において、第１支持部１２０が四角形状のフレーム１００の短辺を構成し、第２支持部１３０がフレーム１００の長辺を構成するが、本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体のフレームにおいて、第１支持部１２０及び第２支持部１３０は実質的に同じ長さで形成される。また、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体のフレームは多角形または円形状で構成される。
【００４２】
フレーム１００に固定される単位マスク２００は、引張力が印加された状態でフレーム１００によって支持されるが、フレーム１００は単位マスク２００に印加された引張力によって、単位マスク２００の延長方向の第２方向（ｙ）に沿って圧縮力が作用するため、単位マスク２００の圧縮力による変形が生じないように、強性が大きいステンレス鋼（stainless steel）などの金属材料で形成される。
【００４３】
単位マスク２００は第２方向（ｙ）に延長された帯状であり、第２方向（ｙ）に引張力が加えられた状態で両端部２００ａがフレーム１００によって支持される。単位マスク２００は複数であり、複数の単位マスク２００が第１方向（ｘ）に沿ってフレーム１００に配置されて支持される。
【００４４】
以下、図２〜図４を参照して本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクについて詳しく説明する。
【００４５】
図３は本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。図４は図３のＩＶ-ＩＶ線に沿った断面図である。
【００４６】
図２〜図４に示すように、単位マスク２００は、単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６０を含む。
【００４７】
単位マスク本体部２１０は第２方向（ｙ）に沿って延長された帯状であり、フレーム１００の開口部１１０上に位置し、フレーム１００によって支持されている。単位マスク本体部２１０には第２方向（ｙ）に沿って複数のパターン開口部２２０が形成されている。
【００４８】
パターン開口部２２０は、１つの単位マスク２００に第２方向（ｙ）に複数配置されている。パターン開口部２２０は１つの有機発光表示装置に対応でき、この場合、単位マスク２００を通して、単一工程で複数の有機発光表示装置を構成するパターンを有機発光表示装置が製造されるマザーボードに同時に形成できる。即ち、パターン開口部２２０は、有機発光表示装置を構成する複数のパターンの蒸着領域に対応して単位マスク２００に配置される。パターン開口部２２０は、有機発光表示装置を構成するパターンがパターン開口部２２０を通してマザーボードに形成できるように、単位マスク２００を貫通するオープンパターン形態を有する。パターン開口部２２０の形状は帯状（stripe）であり、パターン開口部２２０と隣接して第１グルーブ２３０が位置している。
【００４９】
第１グルーブ２３０は、パターン開口部２２０と単位マスク２００の枠２００ｂとの間に位置し、単位マスク２００の表面２００ｃで陥没形成されている。第１グルーブ２３０は、第２方向（ｙ）に沿って配置された複数の各々のパターン開口部２２０に対応して、第２方向（ｙ）に沿って複数が配置されており、第２方向（ｙ）の最外側に位置するパターン開口部２２０と単位マスク２００の枠２００ｂとの間で最外側に位置するパターン開口部２２０と隣接して配置されている。第１グルーブ２３０は、単位マスク２００の表面２００ｃ上で半円形状を有する。第１グルーブ２３０は半円形状を有することによって、単位マスク２００の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。第１グルーブ２３０が有する変形した幅（Ｗ）は、単位マスク２００に印加される引張力によって、第１グルーブ２３０と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形しているが、図３に示すように、単位マスク２００の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応する第１グルーブ２３０の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央の部分に対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭くなる。即ち、単位マスク２００に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち、他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する第１グルーブ２３０の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応する第１グルーブ２３０の幅（Ｗ）より広く形成される。このように、第１グルーブ２３０がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて単位マスク２００の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによって、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、第１グルーブ２３０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することによって、単位マスク２００に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００５０】
以上のように、変形した幅（Ｗ）を有する第１グルーブ２３０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００５１】
本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第１グルーブ２３０は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクの第１グルーブは、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より狭く形成される。
【００５２】
第２グルーブ２４０は、第２方向（ｙ）に沿って配置された複数のパターン開口部２２０のうち隣接するパターン開口部２２０の間でパターン開口部２２０と隣接して位置し、単位マスク２００の表面２００ｃで陥没形成されている。第２グルーブ２４０は、単位マスク２００の表面２００ｃ上で半円形状を有する。第２グルーブ２４０は、半円形状を有することによって、単位マスク２００の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。第２グルーブ２４０が有する変形する幅（Ｗ）は、単位マスク２００に印加される引張力によって第２グルーブ２４０と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形するが、図３に示すように、単位マスク２００の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央の部分に対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭くなる。即ち、単位マスク２００に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうちの他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）より広く形成される。このように、第２グルーブ２４０がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて単位マスク２００の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによって、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、第２グルーブ２４０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することにより、単位マスク２００に印加される引張力によるパターン開口部２２０の変形が抑制される。
【００５３】
以上のような変形した幅（Ｗ）を有する第２グルーブ２４０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認でき、この実験については後述する。
【００５４】
本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第２グルーブ２４０は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第２グルーブ２４０は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より狭く形成される。
【００５５】
また、本発明の第１の実施形態にかかる第２グルーブ２４０は、隣接するパターン開口部２２０の間に２つ位置するが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第２グルーブ２４０は、隣接するパターン開口部２２０の間に１つまたは３つ以上位置してもよい。
【００５６】
第３グルーブ２５０は、第２方向（ｙ）に沿って配置された複数の各々のパターン開口部２２０に対応して、第２方向（ｙ）に沿って複数が配置された第１グルーブ２３０の間に位置し、単位マスク２００の表面２００ｃに陥没形成されている。第３グルーブ２５０は、単位マスク２００の表面２００ｃ上に四角形状で形成される。第３グルーブ２５０はパターン開口部２２０に印加される引張力を分散し、第３グルーブ２５０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散するため、単位マスク２００に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００５７】
以上のような変形した幅（Ｗ）を有する第３グルーブ２５０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００５８】
本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第３グルーブ２５０は、単位マスク２００の表面上で四角形状を有するが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第３グルーブ２５０は、三角形、円形または五角形などの多角形状を有してもよい。
【００５９】
また、本発明の第１の実施形態にかかる第３グルーブ２５０は、隣接する第１グルーブ２３０の間に１つだけが位置するが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第３グルーブ２５０は、隣接する第１グルーブ２３０の間に複数位置してもよい。
【００６０】
ダミーパターン２６０は、第２方向（ｙ）に配置された複数のパターン開口部２２０のうち最外側に位置するパターン開口部２２０と単位マスク２００の端部２００ａとの間に位置し、単位マスク２００に印加される引張力によって、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させる役割を果たす。ダミーパターン２６０は、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させることによって、単位マスク２００に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することを抑制する。ダミーパターン２６０はフレーム１００と対応し、フレーム１００上に位置する。このように、ダミーパターン２６０がフレーム１００上に位置することによって、マスク組立体を利用した蒸着工程において、蒸着手段がダミーパターン２６０を通してマザーボードに蒸着されることが防止される。ダミーパターン２６０は、パターン開口部２２０のように帯状（stripe）である。
【００６１】
以上のように、ダミーパターン２６０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００６２】
このように、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００は、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させる第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０、及びダミーパターン２６０を含むことによって、単位マスク２００によって印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することを抑制する。
【００６３】
以下、図５を参照して本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
【００６４】
図５は本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【００６５】
図５に示すように、単位マスク２０２は単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６０を含む。
【００６６】
第２グルーブ２４０は、第２方向（ｙ）に沿って配置された複数のパターン開口部２２０のうち隣接するパターン開口部２２０の間でパターン開口部２２０と隣接して位置し、単位マスク２０２の表面２００ｃに陥没形成されている。第２グルーブ２４０は、単位マスク２０２の表面２００ｃ上で円錐形を有している。第２グルーブ２４０は円錐形を有することによって、単位マスク２０２の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。第２グルーブ２４０が有する変形した幅（Ｗ）は、単位マスク２０２に印加される引張力によって第２グルーブ２４０と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形しているが、図５に示すように、単位マスク２０２の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が例えば四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央の部分に対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど広くなる。即ち、単位マスク２０２に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）より狭く形成される。このように、第２グルーブ２４０がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク２０２の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによって、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、第２グルーブ２４０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することによって、単位マスク２０２に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２のパターン開口部２２０及びダミーパターン２６０の形状はドット状（dot）を有する。
【００６７】
本発明の第１の実施形態及び第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク及びダミーパターンは帯状（stripe）またはドット状（dot）を有するが、これに限定されずに本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク及びダミーパターンは多様な形状を有する。
【００６８】
以上のような第１グルーブ２３０、第３グルーブ２５０、ダミーパターン２６０及び変形した幅（Ｗ）を有する第２グルーブ２４０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００６９】
このように、本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２は、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させる第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６０を含むことによって、単位マスク２０２によって印加される引張力によって、パターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００７０】
以下、図６を参照して本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
【００７１】
図６は本発明の第３の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【００７２】
図６に示すように、単位マスク２０３は単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０及びダミーパターン２６０を含む。
【００７３】
即ち、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０３は、前述した第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００、及び前述した第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２に含まれている第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０及び第３グルーブ２５０のうち第１グルーブ２３０のみを含む。また、パターン開口部２２０及びダミーパターン２６０は、第１の実施形態にて用いた帯状のものと同様である。
【００７４】
以上のような第１グルーブ２３０及びダミーパターン２６０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００７５】
このように、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０３は、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させる第１グルーブ２３０及びダミーパターン２６０を含む。このため、第３の実施形態にかかるマスク組立体でも、単位マスク２０３によって印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することを抑制できる。
【００７６】
以下、図７〜図９を参照して、前述した本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態にかかるマスク組立体各々に含まれている各々の単位マスク２００、２０２及び２０３の各々のパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた実験について説明する。
【００７７】
図７〜図９は、本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散して、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。
【００７８】
まず、図７の（ａ）は、前述した本発明の本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態各々にかかるマスク組立体各々に含まれている単位マスク２００、２０２及び２０３及び比較例１〜比較例９各々にかかる単位マスク１１〜１９を示す平面図である。図７の（ｂ）は図７の（ａ）に示された各々の単位マスクを同一引張力が印加された状態で同一フレームに支持した時、各々の単位マスクに含まれているパターン開口部の変形値を測定したグラフである。図７の（ｂ）に示されたグラフにおいて、ｘ軸は測定されたパターン開口部の変形値を示すグラフの高低差の値を示し、ｙ軸はパターン開口部の変形値を示す。
【００７９】
図７に示すように、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に含まれている各々のパターン開口部は同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々のパターン開口部の変形値が２．３μｍ〜５．４μｍの高低差の値を示すが、一方、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００のパターン開口部２２０は、引張力が単位マスク２００に印加された時、パターン開口部２２０の変形値が１．６μｍの高低差の値を示す。即ち、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００は、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に比べて、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８０】
また、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に含まれている各々のパターン開口部は、同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々のパターン開口部の変形値が２．３μｍ〜５．４μｍの高低差の値を示すが、一方、本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２のパターン開口部２２０は、引張力が単位マスク２０２に印加された時、パターン開口部２２０の変形値が１．６μｍの高低差の値を示す。即ち、本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２は、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に比べて、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８１】
また、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に含まれている各々のパターン開口部は、同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々のパターン開口部の変形値が２．３μｍ〜５．４μｍの高低差の値を示すが、一方、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０３のパターン開口部２２０は引張力が単位マスク２０３に印加された時、パターン開口部２２０の変形値が１．７μｍの高低差の値を示す。即ち、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０３は、比較例１〜比較例９の各々による単位マスク１１〜１９に比べて、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８２】
次に、図８は前述した本発明の本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかる各々のマスク組立体に含まれている単位マスク２００、２０２及び２０３及び比較例１〜比較例９の各々にかかる各々の単位マスク１１〜１９を同一引張力が印加された状態で同一なフレームに支持した時、各々の単位マスクの位置別変形値を測定したグラフである。図８に示されたグラフにおいて、ｘ軸は各々の単位マスクの位置を示し（各々の単位マスクの長さは２００ｍｍに設定した）、ｙ軸は各々の単位マスクの変形値を示す。
【００８３】
図８に示すように、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９は、同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々の単位マスクの位置別変形値が本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３の位置別変形値に比べて、さらに変形することが確認できた。
【００８４】
即ち、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３は、各単位マスクの位置別変形が比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に比べて、あまり変形しないことによって、各パターン開口部２２０に印加される引張力が分散して各パターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８５】
次に、図９は前述した本発明の本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体の各々に含まれている単位マスク２００、２０２及び２０３、及び比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９の各々を同一引張力が印加された状態で同一フレームに支持した時、各々の単位マスクに含まれているパターン開口部に印加される圧力を示す図面である。図９に示された図面は、Ｄａｓｓａｕｌｔ Ｓｙｓｔｅｍｅｓ社のＳＩＭＵＬＩＡで販売する構造、電気及び熱解析ツールであるＡＢＡＱＵＳを使って、シミュレーション（simulation）した実験を利用して導出された。図９にあっては、左上の指標に示すように、赤色（上）から青色（下）に行くほど引張力が強くなる。つまり、最上部の赤色に向かって引張力はより弱くなり（weaker）、対称的に最下部の青色に向かって引張力はより強くなる（stronger）。
【００８６】
図９に示すように、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９は、同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々の単位マスクに含まれている各パターン開口部の側辺に青色が示されることを確認できるが、一方、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３に含まれている各パターン開口部２２０の側辺には、青色が示されないことが確認できた。即ち、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３に含まれている各パターン開口部２２０は、各単位マスクに含まれているパターン開口部２２０に印加される圧力が比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９のパターン開口部に比べて小さいことが確認できた。即ち、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３に含まれている各パターン開口部２２０に印加される引張力が分散して各パターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８７】
以上のような実験を通して、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体の各単位マスク２００、２０２及び２０３のパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることを確認した。
【００８８】
以下、図１０を参照して本発明の第４の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
【００８９】
図１０は本発明の第４の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【００９０】
図１０に示すように、単位マスク２０４は単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６４を含む。
【００９１】
ダミーパターン２６４は、ダミーパターン２６４と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク２０４の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有する。ダミーパターン２６４は、最外郭パターン開口部２２０と単位マスク２０４の端部２００ａとの間に位置し、単位マスク２０４を貫通して形成されている。ダミーパターン２６４は、単位マスク２０４の表面２００ｃ上で楕円形状を有している。ダミーパターン２６４は楕円形状を有することによって、単位マスク２０４の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。ダミーパターン２６４が有する変形した幅（Ｗ）は、単位マスク２０４に印加される引張力によってのダミーパターン２６４と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形するが、図１０に示すように、単位マスク２０４の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応するダミーパターン２６４の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央の部分に対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭く形成される。即ち、単位マスク２０４に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応するダミーパターン２６４の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応するダミーパターン２６４の幅（Ｗ）より広く形成される。このように、ダミーパターン２６４がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて単位マスク２０４の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、ダミーパターン２６４によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することによって、単位マスク２０４に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００９２】
本発明の第４の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスク２０４のダミーパターン２６４は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分と比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクのダミーパターンは、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅が一辺２２１の他の部分に対応する幅より狭く形成される。
【００９３】
以下、図１１及び図１２を参照して本発明の第５の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
【００９４】
図１１は本発明の第５の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。図１２は図１１のＸＩＩ-ＸＩＩ線に沿った断面図である。
【００９５】
図１１及び図１２に示すように、単位マスク２０５は、単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６５を含む。
【００９６】
ダミーパターン２６５は、ダミーパターン２６５と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク２０５の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有する。ダミーパターン２６５は、最外郭パターン開口部２２０と単位マスク２０５の端部２００ａとの間に位置し、単位マスク２０５の表面に陥没形成されている。ダミーパターン２６５は、単位マスク２０５の表面２００ｃ上で楕円形状を有している。ダミーパターン２６５は、楕円形状を有することによって、単位マスク２０５の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。ダミーパターン２６５が有する変形した幅（Ｗ）は、単位マスク２０５に印加される引張力によって、ダミーパターン２６５と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形しているが、図１１に示すように、単位マスク２０５の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応するダミーパターン２６５の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央部分と対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭く形成される。即ち、単位マスク２０５に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分と対応するダミーパターン２６５の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応するダミーパターン２６５の幅（Ｗ）より広く形成される。このように、ダミーパターン２６５がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて単位マスク２０５の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによって、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、ダミーパターン２６５によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することによって、単位マスク２０５に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００９７】
本発明の第４の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０５のダミーパターン２６５は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクのダミーパターンは、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅が一辺２２１の他の部分に対応する幅より狭く形成される。
【００９８】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されず、添付の特許請求の範囲の概念と範囲を逸脱しない限り、多様な修正及び変形が可能であることを本発明が属する技術分野に従事する者は容易に理解できる。
【符号の説明】
【００９９】
１００ フレーム
１１０ 開口部
１２０、１３０ 支持部
２００、２０２、２０３、２０４、２０５ 単位マスク
２１０ 単位マスク本体部
２２０ パターン開口部
２３０、２４０、２５０ グルーブ
２６０、２６４、２６５ ダミーパターン
【技術分野】
【０００１】
本発明はマスクに関し、より詳しくは複数の単位マスクを支持するフレームを含むマスク組立体に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、平板表示装置の代表的な例として、有機発光表示装置（organic light emitting display）、液晶表示装置（liquid crystal display）及びプラズマディスプレイパネル（plasma display panel）等がある。
【０００３】
このうち、有機発光表示装置を製造するためには、特定パターンを有する電極と有機発光層などを形成する必要があり、その形成法としてマスク組立体を利用した蒸着法が適用される。
【０００４】
より詳細には、有機発光表示装置は、基板に画像表現の基本単位の画素（pixel）がマトリックス状に配列され、各々の画素に赤色（Red）、緑色（Green）、青色（Blue）等の光を発光する各々の有機発光層を間において正極の第１電極と負極の第２電極が順に形成された有機発光素子が配置される構成を有する。ここで、有機発光層を形成する有機物質は、水分及び酸素などに非常に弱いので、有機発光層を形成する工程及び有機発光層を形成した後にも水分から徹底的に隔離しなければならず、通常のフォトリソグラフィ工程を利用してのパターニングでは取り扱いが難しい。従って、有機発光層及び第２電極などは、主に各パターンに対応する部分にのみ蒸着物質が貫通するためのパターン開口部が形成されているマスクを利用して形成する。
【０００５】
従来、開口部を備えたフレーム、開口部に対応して両端部がフレームに固定される帯状の複数の単位マスクを含むマスク組立体が使用されていた。
【０００６】
このような従来のマスク組立体は、単位マスクに引張力が加えられてフレームに支持されるため、単位マスクに加えられる引張力によって単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形する問題があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の実施形態は、前述した問題を解決するためのものであって、本発明の目的は、単位マスクに加えられる引張力によって、単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制したマスク、及びこれを含むマスク組立体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前述した技術的課題を達成するための本発明の第１側面は、開口部を含むフレーム、及び開口部上に位置して一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームに支持される１つ以上の単位マスクを含み、単位マスクは一方向に配置された複数のパターン開口部、及びパターン開口部と隣接してパターン開口部と単位マスクの枠の間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第１グルーブを含むマスク組立体を提供する。
【０００９】
第１グルーブは、第１グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスクの表面上で変形した幅を有してもよい。
【００１０】
第１グルーブは単位マスクの表面上で半円形状であってもよい。
【００１１】
単位マスクは、パターン開口部と隣接し、隣接するパターン開口部の間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第２グルーブをさらに含んでもよい。
【００１２】
第２グルーブは、第２グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて単位マスクの表面上で変形した幅を有してもよい。
【００１３】
第２グルーブは単位マスクの表面上で半円または円錐形状であってもよい。
【００１４】
第１グルーブは複数であり、単位マスクは隣接する第１グルーブの間に位置し、単位マスクの表面に陥没形成された第３グルーブをさらに含んでもよい。
【００１５】
第３グルーブは多角形状であってもよい。
【００１６】
単位マスクは、一方向に配置された複数のパターン開口部のうち最外側に位置するパターン開口部と単位マスクの端部との間に位置するダミーパターンをさらに含んでもよい。
【００１７】
ダミーパターンは、ダミーパターンと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて単位マスクの表面上で変形した幅を有してもよい。
【００１８】
ダミーパターンは単位マスクを貫通してもよい。
【００１９】
ダミーパターンは単位マスクの表面に陥没形成されてもよい。
【００２０】
ダミーパターンはフレームと対応してもよい。
【００２１】
パターン開口部の形状は、帯状（stripe）またはドット状（dot）であってもよい。
【００２２】
また、本発明の第２側面は、一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームに支持される単位マスクにおいて、一方向に沿って延長された帯状の単位マスク本体部、一方向に配置された複数のパターン開口部及びパターン開口部と隣接してパターン開口部と単位マスク本体部の枠の間に位置し、単位マスク本体部の表面に陥没形成された第１グルーブを含む単位マスクを提供する。
【００２３】
第１グルーブは、第１グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有してもよい。
【００２４】
パターン開口部と隣接し、隣接するパターン開口部の間に位置し、単位マスク本体部の表面に陥没形成された第２グルーブをさらに含んでもよい。
【００２５】
第２グルーブは、第２グルーブと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有してもよい。
【００２６】
第１グルーブは複数であり、隣接する第１グルーブの間に位置し、単位マスク本体部の表面に陥没形成された第３グルーブをさらに含んでもよい。
【００２７】
一方向に配置された複数のパターン開口部のうち最外側に位置するパターン開口部と単位マスク本体部の端部との間に位置するダミーパターンをさらに含んでもよい。
【００２８】
ダミーパターンは、ダミーパターンと隣接するパターン開口部に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有してもよい。
【００２９】
パターン開口部の形状は、帯状（stripe）またはドット状（dot）であってもよい。
【発明の効果】
【００３０】
前述した本発明の実施形態によれば、単位マスクに加えられる引張力によって、単位マスクに形成されたパターン開口部の形状が変形することを抑制できるマスク、及びこれを含むマスク組立体が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体を示す分解斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体を示す平面図である。
【図３】本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図４】図３のＩＶ-ＩＶ線に沿った断面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図６】本発明の第３の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図７】本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散し、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。
【図８】本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散し、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。
【図９】本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散し、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。
【図１０】本発明の第４の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図１１】本発明の第５の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【図１２】図１１のＸＩＩ-ＸＩＩ線に沿った断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下、添付図面を参照しながら、本発明の多様な実施形態について本発明が属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳細に説明する。本発明は様々に相違した形態で実現することができ、ここで説明する実施形態に限定されることはない。
【００３３】
また、多様な実施形態において、同一の構成を有する構成要素については、同一の符号を使って代表的に第１の実施形態で説明し、その他の実施形態では第１の実施形態と異なる構成についてのみ説明する。
【００３４】
本発明を明確に説明するために説明上不要な部分は省略し、明細書全体にわたって同一または類似する構成要素については同一参照符号を付与した。
【００３５】
また、図面に示された各構成の大きさ及び厚さは説明の便宜上任意に示すものであり、本発明によるマスク及びその周辺部、並びにマスク組立体が必ずしも示された通りの大きさ及び厚さを有する構成であるとは限らない。
【００３６】
図面においてから複数の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示した。そして、図面において、説明の便宜のために、一部の層及び領域の厚さを誇張して示した。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上に」または「上部に」あるという時、これは他の部分の「直上」にある場合だけでなく、その中間にさらに他の部分がある場合も含む。一方、ある部分が他の部分の「直上」にあるという時には中間に他の部分がないことを意味する。
【００３７】
以下、図１〜図４を参照して本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体について説明する。
【００３８】
図１は、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体を示す分解斜視図である。図２は、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体を示す平面図である。
【００３９】
図１及び図２に示すように、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体は、フレーム１００及び複数の単位マスク２００を含む。
【００４０】
フレーム１００は複数の各々の単位マスク２００の両端を固定及び支持し、単位マスク２００を露出させる開口部１１０を含む。フレーム１００は、開口部１１０を間において後述する第２支持部１３０の延長方向の第１方向（ｘ）に沿って互いに対向する一対の第１支持部１２０及び開口部１１０を間において、第１方向（ｘ）と直交する第２方向（ｙ）に沿って互いに対向する一対の第２支持部１３０をさらに含む。第２支持部１３０には溶接などの固定方法を利用して、単位マスク２００が第２方向（ｙ）に引張力が加えられた状態で単位マスク２００の両端部２００ａが支持される。
【００４１】
本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体のフレーム１００において、第１支持部１２０が四角形状のフレーム１００の短辺を構成し、第２支持部１３０がフレーム１００の長辺を構成するが、本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体のフレームにおいて、第１支持部１２０及び第２支持部１３０は実質的に同じ長さで形成される。また、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体のフレームは多角形または円形状で構成される。
【００４２】
フレーム１００に固定される単位マスク２００は、引張力が印加された状態でフレーム１００によって支持されるが、フレーム１００は単位マスク２００に印加された引張力によって、単位マスク２００の延長方向の第２方向（ｙ）に沿って圧縮力が作用するため、単位マスク２００の圧縮力による変形が生じないように、強性が大きいステンレス鋼（stainless steel）などの金属材料で形成される。
【００４３】
単位マスク２００は第２方向（ｙ）に延長された帯状であり、第２方向（ｙ）に引張力が加えられた状態で両端部２００ａがフレーム１００によって支持される。単位マスク２００は複数であり、複数の単位マスク２００が第１方向（ｘ）に沿ってフレーム１００に配置されて支持される。
【００４４】
以下、図２〜図４を参照して本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクについて詳しく説明する。
【００４５】
図３は本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。図４は図３のＩＶ-ＩＶ線に沿った断面図である。
【００４６】
図２〜図４に示すように、単位マスク２００は、単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６０を含む。
【００４７】
単位マスク本体部２１０は第２方向（ｙ）に沿って延長された帯状であり、フレーム１００の開口部１１０上に位置し、フレーム１００によって支持されている。単位マスク本体部２１０には第２方向（ｙ）に沿って複数のパターン開口部２２０が形成されている。
【００４８】
パターン開口部２２０は、１つの単位マスク２００に第２方向（ｙ）に複数配置されている。パターン開口部２２０は１つの有機発光表示装置に対応でき、この場合、単位マスク２００を通して、単一工程で複数の有機発光表示装置を構成するパターンを有機発光表示装置が製造されるマザーボードに同時に形成できる。即ち、パターン開口部２２０は、有機発光表示装置を構成する複数のパターンの蒸着領域に対応して単位マスク２００に配置される。パターン開口部２２０は、有機発光表示装置を構成するパターンがパターン開口部２２０を通してマザーボードに形成できるように、単位マスク２００を貫通するオープンパターン形態を有する。パターン開口部２２０の形状は帯状（stripe）であり、パターン開口部２２０と隣接して第１グルーブ２３０が位置している。
【００４９】
第１グルーブ２３０は、パターン開口部２２０と単位マスク２００の枠２００ｂとの間に位置し、単位マスク２００の表面２００ｃで陥没形成されている。第１グルーブ２３０は、第２方向（ｙ）に沿って配置された複数の各々のパターン開口部２２０に対応して、第２方向（ｙ）に沿って複数が配置されており、第２方向（ｙ）の最外側に位置するパターン開口部２２０と単位マスク２００の枠２００ｂとの間で最外側に位置するパターン開口部２２０と隣接して配置されている。第１グルーブ２３０は、単位マスク２００の表面２００ｃ上で半円形状を有する。第１グルーブ２３０は半円形状を有することによって、単位マスク２００の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。第１グルーブ２３０が有する変形した幅（Ｗ）は、単位マスク２００に印加される引張力によって、第１グルーブ２３０と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形しているが、図３に示すように、単位マスク２００の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応する第１グルーブ２３０の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央の部分に対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭くなる。即ち、単位マスク２００に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち、他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する第１グルーブ２３０の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応する第１グルーブ２３０の幅（Ｗ）より広く形成される。このように、第１グルーブ２３０がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて単位マスク２００の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによって、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、第１グルーブ２３０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することによって、単位マスク２００に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００５０】
以上のように、変形した幅（Ｗ）を有する第１グルーブ２３０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００５１】
本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第１グルーブ２３０は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクの第１グルーブは、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より狭く形成される。
【００５２】
第２グルーブ２４０は、第２方向（ｙ）に沿って配置された複数のパターン開口部２２０のうち隣接するパターン開口部２２０の間でパターン開口部２２０と隣接して位置し、単位マスク２００の表面２００ｃで陥没形成されている。第２グルーブ２４０は、単位マスク２００の表面２００ｃ上で半円形状を有する。第２グルーブ２４０は、半円形状を有することによって、単位マスク２００の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。第２グルーブ２４０が有する変形する幅（Ｗ）は、単位マスク２００に印加される引張力によって第２グルーブ２４０と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形するが、図３に示すように、単位マスク２００の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央の部分に対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭くなる。即ち、単位マスク２００に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうちの他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）より広く形成される。このように、第２グルーブ２４０がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて単位マスク２００の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによって、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、第２グルーブ２４０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することにより、単位マスク２００に印加される引張力によるパターン開口部２２０の変形が抑制される。
【００５３】
以上のような変形した幅（Ｗ）を有する第２グルーブ２４０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認でき、この実験については後述する。
【００５４】
本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第２グルーブ２４０は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第２グルーブ２４０は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より狭く形成される。
【００５５】
また、本発明の第１の実施形態にかかる第２グルーブ２４０は、隣接するパターン開口部２２０の間に２つ位置するが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第２グルーブ２４０は、隣接するパターン開口部２２０の間に１つまたは３つ以上位置してもよい。
【００５６】
第３グルーブ２５０は、第２方向（ｙ）に沿って配置された複数の各々のパターン開口部２２０に対応して、第２方向（ｙ）に沿って複数が配置された第１グルーブ２３０の間に位置し、単位マスク２００の表面２００ｃに陥没形成されている。第３グルーブ２５０は、単位マスク２００の表面２００ｃ上に四角形状で形成される。第３グルーブ２５０はパターン開口部２２０に印加される引張力を分散し、第３グルーブ２５０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散するため、単位マスク２００に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００５７】
以上のような変形した幅（Ｗ）を有する第３グルーブ２５０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００５８】
本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第３グルーブ２５０は、単位マスク２００の表面上で四角形状を有するが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第３グルーブ２５０は、三角形、円形または五角形などの多角形状を有してもよい。
【００５９】
また、本発明の第１の実施形態にかかる第３グルーブ２５０は、隣接する第１グルーブ２３０の間に１つだけが位置するが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００の第３グルーブ２５０は、隣接する第１グルーブ２３０の間に複数位置してもよい。
【００６０】
ダミーパターン２６０は、第２方向（ｙ）に配置された複数のパターン開口部２２０のうち最外側に位置するパターン開口部２２０と単位マスク２００の端部２００ａとの間に位置し、単位マスク２００に印加される引張力によって、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させる役割を果たす。ダミーパターン２６０は、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させることによって、単位マスク２００に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することを抑制する。ダミーパターン２６０はフレーム１００と対応し、フレーム１００上に位置する。このように、ダミーパターン２６０がフレーム１００上に位置することによって、マスク組立体を利用した蒸着工程において、蒸着手段がダミーパターン２６０を通してマザーボードに蒸着されることが防止される。ダミーパターン２６０は、パターン開口部２２０のように帯状（stripe）である。
【００６１】
以上のように、ダミーパターン２６０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００６２】
このように、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００は、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させる第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０、及びダミーパターン２６０を含むことによって、単位マスク２００によって印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することを抑制する。
【００６３】
以下、図５を参照して本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
【００６４】
図５は本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【００６５】
図５に示すように、単位マスク２０２は単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６０を含む。
【００６６】
第２グルーブ２４０は、第２方向（ｙ）に沿って配置された複数のパターン開口部２２０のうち隣接するパターン開口部２２０の間でパターン開口部２２０と隣接して位置し、単位マスク２０２の表面２００ｃに陥没形成されている。第２グルーブ２４０は、単位マスク２０２の表面２００ｃ上で円錐形を有している。第２グルーブ２４０は円錐形を有することによって、単位マスク２０２の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。第２グルーブ２４０が有する変形した幅（Ｗ）は、単位マスク２０２に印加される引張力によって第２グルーブ２４０と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形しているが、図５に示すように、単位マスク２０２の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が例えば四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央の部分に対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど広くなる。即ち、単位マスク２０２に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応する第２グルーブ２４０の幅（Ｗ）より狭く形成される。このように、第２グルーブ２４０がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク２０２の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによって、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、第２グルーブ２４０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することによって、単位マスク２０２に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２のパターン開口部２２０及びダミーパターン２６０の形状はドット状（dot）を有する。
【００６７】
本発明の第１の実施形態及び第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク及びダミーパターンは帯状（stripe）またはドット状（dot）を有するが、これに限定されずに本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク及びダミーパターンは多様な形状を有する。
【００６８】
以上のような第１グルーブ２３０、第３グルーブ２５０、ダミーパターン２６０及び変形した幅（Ｗ）を有する第２グルーブ２４０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００６９】
このように、本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２は、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させる第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６０を含むことによって、単位マスク２０２によって印加される引張力によって、パターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００７０】
以下、図６を参照して本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
【００７１】
図６は本発明の第３の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【００７２】
図６に示すように、単位マスク２０３は単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０及びダミーパターン２６０を含む。
【００７３】
即ち、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０３は、前述した第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００、及び前述した第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２に含まれている第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０及び第３グルーブ２５０のうち第１グルーブ２３０のみを含む。また、パターン開口部２２０及びダミーパターン２６０は、第１の実施形態にて用いた帯状のものと同様である。
【００７４】
以上のような第１グルーブ２３０及びダミーパターン２６０によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが実験を通して確認できた。この実験については後述する。
【００７５】
このように、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０３は、パターン開口部２２０に印加される引張力を分散させる第１グルーブ２３０及びダミーパターン２６０を含む。このため、第３の実施形態にかかるマスク組立体でも、単位マスク２０３によって印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することを抑制できる。
【００７６】
以下、図７〜図９を参照して、前述した本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態にかかるマスク組立体各々に含まれている各々の単位マスク２００、２０２及び２０３の各々のパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた実験について説明する。
【００７７】
図７〜図９は、本発明の各実施形態にかかる各マスク組立体に含まれている各単位マスクのパターン開口部に印加される引張力が分散して、パターン開口部の変形が抑制されることが確認できた実験を説明するための図面である。
【００７８】
まず、図７の（ａ）は、前述した本発明の本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態各々にかかるマスク組立体各々に含まれている単位マスク２００、２０２及び２０３及び比較例１〜比較例９各々にかかる単位マスク１１〜１９を示す平面図である。図７の（ｂ）は図７の（ａ）に示された各々の単位マスクを同一引張力が印加された状態で同一フレームに支持した時、各々の単位マスクに含まれているパターン開口部の変形値を測定したグラフである。図７の（ｂ）に示されたグラフにおいて、ｘ軸は測定されたパターン開口部の変形値を示すグラフの高低差の値を示し、ｙ軸はパターン開口部の変形値を示す。
【００７９】
図７に示すように、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に含まれている各々のパターン開口部は同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々のパターン開口部の変形値が２．３μｍ〜５．４μｍの高低差の値を示すが、一方、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００のパターン開口部２２０は、引張力が単位マスク２００に印加された時、パターン開口部２２０の変形値が１．６μｍの高低差の値を示す。即ち、本発明の第１の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２００は、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に比べて、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８０】
また、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に含まれている各々のパターン開口部は、同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々のパターン開口部の変形値が２．３μｍ〜５．４μｍの高低差の値を示すが、一方、本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２のパターン開口部２２０は、引張力が単位マスク２０２に印加された時、パターン開口部２２０の変形値が１．６μｍの高低差の値を示す。即ち、本発明の第２の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０２は、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に比べて、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８１】
また、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に含まれている各々のパターン開口部は、同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々のパターン開口部の変形値が２．３μｍ〜５．４μｍの高低差の値を示すが、一方、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０３のパターン開口部２２０は引張力が単位マスク２０３に印加された時、パターン開口部２２０の変形値が１．７μｍの高低差の値を示す。即ち、本発明の第３の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０３は、比較例１〜比較例９の各々による単位マスク１１〜１９に比べて、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８２】
次に、図８は前述した本発明の本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかる各々のマスク組立体に含まれている単位マスク２００、２０２及び２０３及び比較例１〜比較例９の各々にかかる各々の単位マスク１１〜１９を同一引張力が印加された状態で同一なフレームに支持した時、各々の単位マスクの位置別変形値を測定したグラフである。図８に示されたグラフにおいて、ｘ軸は各々の単位マスクの位置を示し（各々の単位マスクの長さは２００ｍｍに設定した）、ｙ軸は各々の単位マスクの変形値を示す。
【００８３】
図８に示すように、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９は、同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々の単位マスクの位置別変形値が本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３の位置別変形値に比べて、さらに変形することが確認できた。
【００８４】
即ち、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３は、各単位マスクの位置別変形が比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９に比べて、あまり変形しないことによって、各パターン開口部２２０に印加される引張力が分散して各パターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８５】
次に、図９は前述した本発明の本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体の各々に含まれている単位マスク２００、２０２及び２０３、及び比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９の各々を同一引張力が印加された状態で同一フレームに支持した時、各々の単位マスクに含まれているパターン開口部に印加される圧力を示す図面である。図９に示された図面は、Ｄａｓｓａｕｌｔ Ｓｙｓｔｅｍｅｓ社のＳＩＭＵＬＩＡで販売する構造、電気及び熱解析ツールであるＡＢＡＱＵＳを使って、シミュレーション（simulation）した実験を利用して導出された。図９にあっては、左上の指標に示すように、赤色（上）から青色（下）に行くほど引張力が強くなる。つまり、最上部の赤色に向かって引張力はより弱くなり（weaker）、対称的に最下部の青色に向かって引張力はより強くなる（stronger）。
【００８６】
図９に示すように、比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９は、同一引張力が各単位マスク１１〜１９に印加された時、各々の単位マスクに含まれている各パターン開口部の側辺に青色が示されることを確認できるが、一方、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３に含まれている各パターン開口部２２０の側辺には、青色が示されないことが確認できた。即ち、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３に含まれている各パターン開口部２２０は、各単位マスクに含まれているパターン開口部２２０に印加される圧力が比較例１〜比較例９の各々にかかる単位マスク１１〜１９のパターン開口部に比べて小さいことが確認できた。即ち、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体に含まれている各単位マスク２００、２０２及び２０３に含まれている各パターン開口部２２０に印加される引張力が分散して各パターン開口部２２０の変形が抑制されることが確認できた。
【００８７】
以上のような実験を通して、本発明の第１の実施形態、第２の実施形態及び第３の実施形態の各々にかかるマスク組立体の各単位マスク２００、２０２及び２０３のパターン開口部２２０に印加される引張力が分散してパターン開口部２２０の変形が抑制されることを確認した。
【００８８】
以下、図１０を参照して本発明の第４の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
【００８９】
図１０は本発明の第４の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。
【００９０】
図１０に示すように、単位マスク２０４は単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６４を含む。
【００９１】
ダミーパターン２６４は、ダミーパターン２６４と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク２０４の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有する。ダミーパターン２６４は、最外郭パターン開口部２２０と単位マスク２０４の端部２００ａとの間に位置し、単位マスク２０４を貫通して形成されている。ダミーパターン２６４は、単位マスク２０４の表面２００ｃ上で楕円形状を有している。ダミーパターン２６４は楕円形状を有することによって、単位マスク２０４の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。ダミーパターン２６４が有する変形した幅（Ｗ）は、単位マスク２０４に印加される引張力によってのダミーパターン２６４と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形するが、図１０に示すように、単位マスク２０４の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応するダミーパターン２６４の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央の部分に対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭く形成される。即ち、単位マスク２０４に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応するダミーパターン２６４の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応するダミーパターン２６４の幅（Ｗ）より広く形成される。このように、ダミーパターン２６４がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて単位マスク２０４の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、ダミーパターン２６４によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することによって、単位マスク２０４に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００９２】
本発明の第４の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスク２０４のダミーパターン２６４は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分と比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるプローブ組立体に含まれている単位マスクのダミーパターンは、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅が一辺２２１の他の部分に対応する幅より狭く形成される。
【００９３】
以下、図１１及び図１２を参照して本発明の第５の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを説明する。
【００９４】
図１１は本発明の第５の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクを示す平面図である。図１２は図１１のＸＩＩ-ＸＩＩ線に沿った断面図である。
【００９５】
図１１及び図１２に示すように、単位マスク２０５は、単位マスク本体部２１０、パターン開口部２２０、第１グルーブ２３０、第２グルーブ２４０、第３グルーブ２５０及びダミーパターン２６５を含む。
【００９６】
ダミーパターン２６５は、ダミーパターン２６５と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて、単位マスク２０５の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有する。ダミーパターン２６５は、最外郭パターン開口部２２０と単位マスク２０５の端部２００ａとの間に位置し、単位マスク２０５の表面に陥没形成されている。ダミーパターン２６５は、単位マスク２０５の表面２００ｃ上で楕円形状を有している。ダミーパターン２６５は、楕円形状を有することによって、単位マスク２０５の表面２００ｃ上で変形する幅（Ｗ）を有する。ダミーパターン２６５が有する変形した幅（Ｗ）は、単位マスク２０５に印加される引張力によって、ダミーパターン２６５と隣接するパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて変形しているが、図１１に示すように、単位マスク２０５の表面２００ｃ上でパターン開口部２２０が四角形状を有する場合、パターン開口部２２０の一辺２２１と対応するダミーパターン２６５の幅（Ｗ）は、パターン開口部２２０の一辺２２１の中央部分と対応する部分からパターン開口部２２０の一辺２２１の外郭の部分に対応する部分へ行くほど狭く形成される。即ち、単位マスク２０５に印加された引張力によって、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分と対応するダミーパターン２６５の幅（Ｗ）は、前記パターン開口部２２０の他の部分に対応するダミーパターン２６５の幅（Ｗ）より広く形成される。このように、ダミーパターン２６５がパターン開口部２２０に印加される引張力の強さに応じて単位マスク２０５の表面２００ｃ上で変形した幅（Ｗ）を有することによって、パターン開口部２２０に印加される引張力が分散する。さらに、ダミーパターン２６５によってパターン開口部２２０に印加される引張力が分散することによって、単位マスク２０５に印加される引張力によってパターン開口部２２０が変形することが抑制される。
【００９７】
本発明の第４の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスク２０５のダミーパターン２６５は、パターン開口部２２０が一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅（Ｗ）が一辺２２１の他の部分に対応する幅（Ｗ）より広く形成されるが、本発明の他の実施形態にかかるマスク組立体に含まれている単位マスクのダミーパターンは、パターン開口部２２０の一辺２２１の全体部分のうち他の部分に比べて引張力がより強く印加される一部分に対応する幅が一辺２２１の他の部分に対応する幅より狭く形成される。
【００９８】
以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されず、添付の特許請求の範囲の概念と範囲を逸脱しない限り、多様な修正及び変形が可能であることを本発明が属する技術分野に従事する者は容易に理解できる。
【符号の説明】
【００９９】
１００ フレーム
１１０ 開口部
１２０、１３０ 支持部
２００、２０２、２０３、２０４、２０５ 単位マスク
２１０ 単位マスク本体部
２２０ パターン開口部
２３０、２４０、２５０ グルーブ
２６０、２６４、２６５ ダミーパターン
【特許請求の範囲】
【請求項１】
開口部を含むフレームと、
前記開口部上に位置し、一方向に引張力が加えられた状態で両端部が前記フレームに支持される１つ以上の単位マスクを含み、
前記単位マスクは、
前記一方向に配置された複数のパターン開口部と、
前記パターン開口部と隣接して前記パターン開口部と前記単位マスクの枠との間に位置し、前記単位マスクの表面に陥没形成された第１グルーブを含むことを特徴とする、マスク組立体。
【請求項２】
前記第１グルーブは、前記第１グルーブと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスクの表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項１に記載のマスク組立体。
【請求項３】
前記第１グルーブは、前記単位マスクの表面上で半円形状であることを特徴とする、請求項２に記載のマスク組立体。
【請求項４】
前記単位マスクは、前記パターン開口部と隣接し、隣接する前記パターン開口部の間に位置し、前記単位マスクの表面に陥没形成された第２グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項２に記載のマスク組立体。
【請求項５】
前記第２グルーブは、前記第２グルーブと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて、前記単位マスクの表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項４に記載のマスク組立体。
【請求項６】
前記第２グルーブは、前記単位マスクの表面上で半円または円錐形状であることを特徴とする、請求項５に記載のマスク組立体。
【請求項７】
前記第１グルーブは複数であり、
前記単位マスクは隣接する前記第１グルーブの間に位置し、前記単位マスクの表面に陥没形成された第３グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項４に記載のマスク組立体。
【請求項８】
前記第３グルーブは、多角形状であることを特徴とする、請求項７に記載のマスク組立体。
【請求項９】
前記単位マスクは、前記一方向に配置された前記複数のパターン開口部のうち最外側に位置するパターン開口部と前記単位マスクの前記端部との間に位置するダミーパターンをさらに含むことを特徴とする、請求項４に記載のマスク組立体。
【請求項１０】
前記ダミーパターンは、前記ダミーパターンと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスクの表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項９に記載のマスク組立体。
【請求項１１】
前記ダミーパターンは、前記単位マスクを貫通することを特徴とする、請求項９に記載のマスク組立体。
【請求項１２】
前記ダミーパターンは、前記単位マスクの表面に陥没形成されたことを特徴とする、請求項９に記載のマスク組立体。
【請求項１３】
前記ダミーパターンは、前記フレームと対応することを特徴とする、請求項９に記載のマスク組立体。
【請求項１４】
前記パターン開口部の形状は、帯状またはドット状であることを特徴とする、請求項１〜１３のうちのいずれか１つに記載のマスク組立体。
【請求項１５】
一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームに支持される単位マスクにおいて、
前記一方向に沿って延長された帯状の単位マスク本体部と、
前記一方向に配置された複数のパターン開口部と、
前記パターン開口部と隣接して前記パターン開口部と前記単位マスク本体部の枠との間に位置し、前記単位マスク本体部の表面に陥没形成された第１グルーブを含むことを特徴とする、単位マスク。
【請求項１６】
前記第１グルーブは、前記第１グルーブと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項１５に記載の単位マスク。
【請求項１７】
前記パターン開口部と隣接し、隣接する前記パターン開口部の間に位置し、前記単位マスク本体部の表面に陥没形成された第２グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項１６に記載の単位マスク。
【請求項１８】
前記第２グルーブは、前記第２グルーブと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項１７に記載の単位マスク。
【請求項１９】
前記第１グルーブは複数であり、
隣接する前記第１グルーブの間に位置し、前記単位マスク本体部の表面に陥没形成された第３グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項１８に記載の単位マスク。
【請求項２０】
前記一方向に配置された前記複数のパターン開口部のうち、最外側に位置するパターン開口部と前記単位マスク本体部の端部との間に位置するダミーパターンをさらに含むことを特徴とする、請求項１９に記載の単位マスク。
【請求項２１】
前記ダミーパターンは、前記ダミーパターンと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項２０に記載の単位マスク。
【請求項２２】
前記パターン開口部の形状は、帯状またはドット状であることを特徴とする、請求項１５〜２１のうちのいずれか１つに記載の単位マスク。
【請求項１】
開口部を含むフレームと、
前記開口部上に位置し、一方向に引張力が加えられた状態で両端部が前記フレームに支持される１つ以上の単位マスクを含み、
前記単位マスクは、
前記一方向に配置された複数のパターン開口部と、
前記パターン開口部と隣接して前記パターン開口部と前記単位マスクの枠との間に位置し、前記単位マスクの表面に陥没形成された第１グルーブを含むことを特徴とする、マスク組立体。
【請求項２】
前記第１グルーブは、前記第１グルーブと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスクの表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項１に記載のマスク組立体。
【請求項３】
前記第１グルーブは、前記単位マスクの表面上で半円形状であることを特徴とする、請求項２に記載のマスク組立体。
【請求項４】
前記単位マスクは、前記パターン開口部と隣接し、隣接する前記パターン開口部の間に位置し、前記単位マスクの表面に陥没形成された第２グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項２に記載のマスク組立体。
【請求項５】
前記第２グルーブは、前記第２グルーブと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて、前記単位マスクの表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項４に記載のマスク組立体。
【請求項６】
前記第２グルーブは、前記単位マスクの表面上で半円または円錐形状であることを特徴とする、請求項５に記載のマスク組立体。
【請求項７】
前記第１グルーブは複数であり、
前記単位マスクは隣接する前記第１グルーブの間に位置し、前記単位マスクの表面に陥没形成された第３グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項４に記載のマスク組立体。
【請求項８】
前記第３グルーブは、多角形状であることを特徴とする、請求項７に記載のマスク組立体。
【請求項９】
前記単位マスクは、前記一方向に配置された前記複数のパターン開口部のうち最外側に位置するパターン開口部と前記単位マスクの前記端部との間に位置するダミーパターンをさらに含むことを特徴とする、請求項４に記載のマスク組立体。
【請求項１０】
前記ダミーパターンは、前記ダミーパターンと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスクの表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項９に記載のマスク組立体。
【請求項１１】
前記ダミーパターンは、前記単位マスクを貫通することを特徴とする、請求項９に記載のマスク組立体。
【請求項１２】
前記ダミーパターンは、前記単位マスクの表面に陥没形成されたことを特徴とする、請求項９に記載のマスク組立体。
【請求項１３】
前記ダミーパターンは、前記フレームと対応することを特徴とする、請求項９に記載のマスク組立体。
【請求項１４】
前記パターン開口部の形状は、帯状またはドット状であることを特徴とする、請求項１〜１３のうちのいずれか１つに記載のマスク組立体。
【請求項１５】
一方向に引張力が加えられた状態で両端部がフレームに支持される単位マスクにおいて、
前記一方向に沿って延長された帯状の単位マスク本体部と、
前記一方向に配置された複数のパターン開口部と、
前記パターン開口部と隣接して前記パターン開口部と前記単位マスク本体部の枠との間に位置し、前記単位マスク本体部の表面に陥没形成された第１グルーブを含むことを特徴とする、単位マスク。
【請求項１６】
前記第１グルーブは、前記第１グルーブと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項１５に記載の単位マスク。
【請求項１７】
前記パターン開口部と隣接し、隣接する前記パターン開口部の間に位置し、前記単位マスク本体部の表面に陥没形成された第２グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項１６に記載の単位マスク。
【請求項１８】
前記第２グルーブは、前記第２グルーブと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項１７に記載の単位マスク。
【請求項１９】
前記第１グルーブは複数であり、
隣接する前記第１グルーブの間に位置し、前記単位マスク本体部の表面に陥没形成された第３グルーブをさらに含むことを特徴とする、請求項１８に記載の単位マスク。
【請求項２０】
前記一方向に配置された前記複数のパターン開口部のうち、最外側に位置するパターン開口部と前記単位マスク本体部の端部との間に位置するダミーパターンをさらに含むことを特徴とする、請求項１９に記載の単位マスク。
【請求項２１】
前記ダミーパターンは、前記ダミーパターンと隣接する前記パターン開口部に印加される前記引張力の強さに応じて前記単位マスク本体部の表面上で変形した幅を有することを特徴とする、請求項２０に記載の単位マスク。
【請求項２２】
前記パターン開口部の形状は、帯状またはドット状であることを特徴とする、請求項１５〜２１のうちのいずれか１つに記載の単位マスク。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−１９５９６０（Ｐ２０１１−１９５９６０Ａ）
【公開日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５１０９６（Ｐ２０１１−５１０９６）
【出願日】平成２３年３月９日（２０１１．３．９）
【出願人】（３０８０４０３５１）三星モバイルディスプレイ株式會社 (764)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｍｏｂｉｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】Ｓａｎ ＃２４ Ｎｏｎｇｓｅｏ−Ｄｏｎｇ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ ４４６−７１１ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ ＫＯＲＥＡ
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年１０月６日（２０１１．１０．６）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年３月９日（２０１１．３．９）
【出願人】（３０８０４０３５１）三星モバイルディスプレイ株式會社 (764)
【氏名又は名称原語表記】Ｓａｍｓｕｎｇ Ｍｏｂｉｌｅ Ｄｉｓｐｌａｙ Ｃｏ．， Ｌｔｄ．
【住所又は居所原語表記】Ｓａｎ ＃２４ Ｎｏｎｇｓｅｏ−Ｄｏｎｇ，Ｇｉｈｅｕｎｇ−Ｇｕ，Ｙｏｎｇｉｎ−Ｃｉｔｙ，Ｇｙｅｏｎｇｇｉ−Ｄｏ ４４６−７１１ Ｒｅｐｕｂｌｉｃ ｏｆ ＫＯＲＥＡ
【Ｆターム（参考）】
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