ミスト発生装置
【課題】静電霧化された液剤の飛散距離を向上させることが可能なミスト発生装置を提供する。
【解決手段】ミストＭ１を発生させて顔Ｆに噴霧するミスト発生機構１２と、液剤Ｍ２を静電霧化して顔Ｆに噴霧する液剤噴霧機構１３と、イオンを放出して、ミスト発生機構１２から発生されるミストＭ１を液剤噴霧機構１３にて静電霧化された液剤Ｍ２の電位とは逆の電位に帯電させるイオン発生機構１５とを備える。
【解決手段】ミストＭ１を発生させて顔Ｆに噴霧するミスト発生機構１２と、液剤Ｍ２を静電霧化して顔Ｆに噴霧する液剤噴霧機構１３と、イオンを放出して、ミスト発生機構１２から発生されるミストＭ１を液剤噴霧機構１３にて静電霧化された液剤Ｍ２の電位とは逆の電位に帯電させるイオン発生機構１５とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミスト発生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ミスト生成して放出するミスト発生装置は、美顔器や加湿器等に広く用いられている（例えば特許文献１参照）。ミスト発生装置において、例えば美顔器では、加熱機構等により発生させたミスト（粒径が例えば粒径が数μｍ程度）を顔面に当てることで、肌に潤いを与えたり、古い角質や汚れを落としたりすることが可能であり、美容作用や健康作用が得られるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３６１００９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ミスト発生装置において、更なる美容健康作用の向上のために、保湿剤や美白剤等の液剤を静電霧化して噴霧する装置が考えられる。このような装置では、高圧電源回路からの電圧印加にて生じるコロナ放電によって液剤が静電霧化されるようになっており、この静電霧化によって液剤は、帯電された微細なミストとなる。このような装置では、静電霧化により微細な液剤の噴霧が可能であるため、肌の角質層表面の隙間に液剤を浸透させることができ、高い美容作用や健康作用を肌に与えることが可能となるとともに、帯電した液剤の噴霧により、肌へ的確に且つ均一に塗布することが可能となっている。しかしながら、静電霧化された液剤は、静電気力で吐出されるため、飛散距離が短くなってしまい、噴霧する対象物まで到達し難いという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、静電霧化された液剤の飛散距離を向上させることが可能なミスト発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、ミストを発生させて噴霧対象物に噴霧するミスト発生機構と、液剤を静電霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構と、イオンを放出して、前記ミスト発生機構から発生されるミストを前記液剤噴霧機構にて静電霧化された液剤の電位とは逆の電位に帯電させるイオン発生機構とを備えたことを特徴とする。
【０００７】
この発明では、例えば、イオン発生機構によりマイナス（又はプラス）に帯電させたミストを噴霧対象物に噴霧して、その噴霧対象物をマイナス（又はプラス）の電位に帯電させた後、静電霧化によってプラス（又はマイナス）の電位に帯電された液剤を噴霧対象物に噴霧することにより、噴霧された液剤が噴霧対象物に電気的に引き寄せられるため、静電霧化された液剤の飛散距離を向上させることが可能となる。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のミスト発生装置において、前記噴霧対象物の帯電量を検出する検出手段と、前記検出手段にて検出された前記噴霧対象物の帯電量に基づき、前記ミスト発生機構及び前記イオン発生機構と前記液剤噴霧機構とを制御する制御部を備えたことを特徴とする。
【０００９】
この発明では、噴霧対象物の帯電量に応じてミストと液剤とを噴霧させることができるため、液剤の飛散距離の向上のための効率的な噴霧が可能となる。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のミスト発生装置において、前記制御部は、前記検出手段にて検出された前記噴霧対象物の帯電量に基づき、前記イオン発生機構にて発生される前記イオンの放出量を制御することを特徴とする。
【００１０】
この発明では、噴霧対象物を迅速に帯電させることが可能となるとともに、噴霧対象物に帯電させにくい状況下（例えば噴霧対象物がミスト発生装置から離れているとき等）での帯電不良を抑制することが可能となる。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項２又は３に記載のミスト発生装置において、前記制御部は、前記イオン発生機構により帯電された前記ミストと静電霧化された液剤とを交互に噴霧させるように、前記ミスト発生装置及び前記イオン発生機構と前記液剤噴霧機構とを制御することを特徴とする。
【００１２】
この発明では、噴霧対象物の帯電量は、液剤の噴霧により電気的に中和されて減少するが、イオン発生機構により帯電されたミストと液剤とを交互に噴霧させることで、液剤の飛散距離向上のために必要な噴霧対象物の帯電量を保った状態でのミスト及び液剤の噴霧が可能となる。
【発明の効果】
【００１３】
従って、上記記載の発明によれば、静電霧化された液剤の飛散距離を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態のミスト発生装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１に示すように、本実施形態のミスト発生装置は、ケース１１と、該ケース１１内に略収容されたミスト発生機構１２及び液剤噴霧機構１３と、同ケース１１内に収容された制御部１４と、イオン発生機構１５と、検出手段としての静電容量センサ１６とを備える。このミスト発生装置は、例えば美顔器として用いられるものであり、ミスト発生機構１２から発生されたミストＭ１、及び液剤噴霧機構１３にて静電霧化された液剤Ｍ２（そのミスト）を噴霧対象物としての顔Ｆに噴霧可能な装置である。
【００１６】
ケース１１には、上方（天方向）に開口したミスト用開口部１１ａと、側方（水平方向）に開口した液剤用開口部１１ｂとが形成されている。尚、ケース１１は、例えば、上方が開口した有底四角筒状のケース本体と、ケース本体の上端開口部を覆う蓋部材等からなるが、図１では、それらを一体的に模式的に図示している。また、本実施形態の液剤用開口部１１ｂは、ケース１１の側面１１ｃから側方（水平方向であって、図１中、左方向）に筒状に突出しケース１１内外を連通する筒部１１ｄの先端に形成されている。
【００１７】
ミスト発生機構１２は、着脱可能なタンク２１から水Ｗが供給される貯水槽２２と、貯水槽２２と連通管２３を介して連通され該貯水槽２２の水ＷからミストＭ１を発生させるミスト発生部２４と、ミスト発生部２４と連通されたミスト移送経路２５を介して発生したミストＭ１を吐出するためのミスト吐出口２６とを備える。
【００１８】
本実施形態のミスト発生部２４は、水Ｗを加熱してミストＭ１を発生させる加熱式のものであって、ヒータ２４ａを備えたものである。また、前記ミスト吐出口２６は、前記ミスト用開口部１１ａからケース１１の外部に突出するとともに略直角に屈曲し、その吐出開口部２６ａが前記液剤用開口部１１ｂと平行な方向（水平方向であって、図１中、左方向）を向くように設けられている。尚、ミスト吐出口２６の吐出開口部２６ａ及び液剤用開口部１１ｂは、その開口軸方向（図１中、左右方向）から見て上下方向に並設され、液剤用開口部１１ｂが吐出開口部２６ａよりも下側に配置されている。
【００１９】
液剤噴霧機構１３は、保湿剤や美白剤等の液剤Ｍ２を前記液剤用開口部１１ｂから噴霧するためのものである。詳しくは、液剤噴霧機構１３は、保湿剤や美白剤等の液剤を貯蔵するための液剤貯蔵部３１と、液剤貯蔵部３１と連通されたノズル３２と、ノズル３２に設けられたポンプ３３と、高圧電源回路３４とを備える。ポンプ３３は、液剤貯蔵部３１内の液剤をノズル３２に送り込むためのものである。ノズル３２は、その先端部３２ａが液剤用開口部１１ｂの内側に位置するように構成されている。高圧電源回路３４は、ノズル先端部３２ａに到達した液剤をコロナ放電により静電霧化するためのものである。高圧電源回路３４にて静電霧化された液剤Ｍ２は微細化されて、前記液剤用開口部１１ｂから噴霧されるようになっている。そして、その液剤Ｍ２を顔Ｆに浴びることで、肌の角質層表面の隙間に浸透させることが可能であり、高い美容作用や健康作用を得ることが可能となっている。また、本実施形態では、液剤Ｍ２は、高圧電源回路３４にて静電霧化される際に、プラスに帯電されるようになっている。
【００２０】
イオン発生機構１５は、ケース１１内に設けられた高圧電源回路４１と、電気的に接続された針状の放電針４２と、グランドに接続された対向電極４３とから構成され、高圧電源回路４１により放電針４２及び対向電極４３間にマイナスの高電圧を印加することでコロナ放電を発生させ、マイナスイオンが発生されるようになっている。尚、放電針４２及び対向電極４３は、ミスト吐出口２６の上部に設けられている。マイナスイオンは、放電針４２及び対向電極４３からミストＭ１の噴霧方向と略同方向に放出され、ミスト吐出口２６から噴霧されたミストＭ１と混合される。これにより、ミストＭ１がマイナスに帯電されるようになっている。
【００２１】
静電容量センサ１６は、噴霧対象物としての顔Ｆ表面の帯電量を非接触で検出するためのものである。静電容量センサ１６は、液剤用開口部１１ｂが形成されたケース１１の側面１１ｃに設けられるとともに、前記制御部１４と電気的に接続されている。
【００２２】
制御部１４は、図示しない操作スイッチ等の操作に基づき、ミスト発生機構１２のヒータ２４ａに通電する制御と、液剤噴霧機構１３のポンプ３３及び高圧電源回路３４を駆動する制御と、イオン発生機構１５の高圧電源回路４１を駆動する制御とを行う。
【００２３】
例えば、前記操作スイッチにて、イオン発生機構１５により帯電されたミストＭ１と液剤Ｍ２を交互に２回ずつ噴霧するための通常コースの操作（例えば、通常コースボタンを押す）が行われると、制御部１４は、まず、ミスト発生機構１２とイオン発生機構１５とを駆動してマイナスに帯電されたミストＭ１を噴霧させ、これにより、ミストＭ１を浴びる顔Ｆがマイナスに帯電する。
【００２４】
このとき、制御部１４は、静電容量センサ１６にて検出された顔Ｆの帯電量と所定値Ｅ１とを所定のタイミングで比較し、顔Ｆの帯電量が所定値Ｅ１を満たない場合には、高圧電源回路４１の出力を上げ、イオン発生機構１５にて発生されるマイナスイオンの放出量を増大させる。これにより、迅速に顔Ｆをマイナスに帯電させることが可能となるとともに、また、顔Ｆに帯電させにくい状況下（例えば顔Ｆがミスト発生装置から若干離れているとき等）での帯電不良を抑制することが可能となっている。
【００２５】
そして、制御部１４は、顔Ｆの帯電量が予め設定された所定値Ｅ２を越えたとき、ミスト発生機構１２及びイオン発生機構１５によるミストＭ１の噴霧及びマイナスイオンの放出を停止させ、液剤噴霧機構１３にて液剤Ｍ２を噴霧させる。尚、所定値Ｅ２は、前記所定値Ｅ１以上の値に設定されている。このとき、噴霧された液剤Ｍ２は、静電霧化によりプラスに帯電しているため、マイナスに帯電された顔Ｆに電気的に引き寄せられるようになっている。これにより、静電霧化された液剤Ｍ２の飛散距離が向上するようになっている。
【００２６】
その後、顔Ｆのマイナスの帯電量は、液剤Ｍ２による電気的な中和で減少する。ここで、制御部１４は、顔Ｆのマイナスの帯電量が予め設定された所定値Ｅ３を下回ったとき、液剤噴霧機構１３による液剤Ｍ２の噴霧を停止させ、ミスト発生機構１２及びイオン発生機構１５によりマイナスに帯電されたミストＭ１を噴霧させる。尚、所定値Ｅ３は、前記所定値Ｅ２よりも小さな値である。
【００２７】
その後、制御部１４は、上記と同様の制御を行い、もう一度液剤Ｍ２を噴霧させる。そして、顔Ｆのマイナスの帯電量が所定値Ｅ３を下回ったとき、液剤噴霧機構１３による液剤Ｍ２の噴霧を停止させ、通常コースの噴霧を終了するようになっている。以上のように、イオン発生機構１５により帯電されたミストＭ１と静電霧化された液剤Ｍ２とが制御部１４の制御により交互に噴霧されるようになっているため、液剤Ｍ２の飛散距離向上のために必要な顔Ｆの帯電量を保った状態でのミストＭ１及び液剤Ｍ２の噴霧が可能となっている。
【００２８】
また、上記のようなミスト発生装置では、２種類のミスト（ミストＭ１と液剤Ｍ２）が噴霧可能であるため、水のミストＭ１によって肌の表面に潤いを与えるとともに、帯電した微細な液剤のミスト（液剤Ｍ２）によってその成分を肌へ均一に与えて、肌の内側まで届けることが可能であり、より高い美容健康作用を与えることが可能となっている。
【００２９】
（１）本実施形態では、ミスト発生機構１２から発生されるミストＭ１を液剤噴霧機構１３にて静電霧化された液剤Ｍ２の電位とは逆の電位に帯電させるイオン発生機構１５とを備える。このため、イオン発生機構１５にてマイナスに帯電させたミストＭ１を顔Ｆに噴霧して、顔Ｆをマイナスに帯電させた後、静電霧化によってプラスに帯電された液剤Ｍ２を顔Ｆに噴霧することにより、噴霧された液剤Ｍ２が顔Ｆに電気的に引き寄せられるため、静電霧化された液剤Ｍ２の飛散距離を向上させることが可能となる。
【００３０】
（２）本実施形態では、顔Ｆの帯電量を検出する静電容量センサ１６と、静電容量センサ１６にて検出された顔Ｆの帯電量に基づき、ミスト発生機構１２及びイオン発生機構１５と液剤噴霧機構１３とを制御する制御部１４を備える。このため、顔Ｆの帯電量に応じてミストＭ１と液剤Ｍ２とを噴霧させることができるため、液剤Ｍ２の飛散距離の向上のための効率的な噴霧が可能となる。
【００３１】
（３）本実施形態では、制御部１４は、静電容量センサ１６にて検出された顔Ｆの帯電量に基づき、イオン発生機構１５にて発生されるイオンの放出量を制御する（放出量を増大させる）ため、顔Ｆを迅速に帯電させることが可能となるとともに、顔Ｆに帯電させにくい状況下（例えば顔Ｆがミスト発生装置から離れているとき等）での帯電不良を抑制することが可能となる。
【００３２】
（４）本実施形態では、制御部１４は、イオン発生機構１５により帯電されたミストＭ１と静電霧化された液剤Ｍ２とを交互に噴霧させるように、ミスト発生機構１２及びイオン発生機構１５と液剤噴霧機構１３とを制御するため、液剤Ｍ２の飛散距離向上のために必要な顔Ｆの帯電量を保った状態でのミストＭ１及び液剤Ｍ２の噴霧が可能となる。
【００３３】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、通常コースの操作により、ミストＭ１と液剤Ｍ２とを交互に２回ずつ噴霧するように構成したが、特にこれに限定されるものではなく、それぞれ１回ずつ、又は交互に３回以上ずつ噴霧するようにしてもよい。
【００３４】
・上記実施形態では、制御部１４は、静電容量センサ１６にて検出された顔Ｆの帯電量に基づきミストＭ１の噴霧と液剤Ｍ２の噴霧とを切り替えるように制御したが、特にこれに限定されるものではなく、他の条件に基づいて切り替えるように制御してもよい。例えば、マイナスに帯電されたミストＭ１（又は液剤Ｍ２）の噴霧開始からの経過時間を計測するタイマーを設け、その経過時間が予め設定された時間を超えたときに、ミストＭ１の噴霧から液剤Ｍ２の噴霧に切り替える（又は液剤Ｍ２の噴霧からミストＭ１の噴霧に切り替える）ように制御してもよい。
【００３５】
・上記実施形態では、液剤Ｍ２が静電霧化によりプラスに帯電され、ミストＭ１がイオン発生機構１５によりマイナスに帯電されるように構成されたが、反対に液剤Ｍ２が静電霧化によりマイナスに帯電され、ミストＭ１がイオン発生機構１５によりプラスに帯電されるように構成してもよい。
【００３６】
・上記実施形態では、ミスト吐出口２６（吐出開口部２６ａ）及び液剤用開口部１１ｂは、ミスト吐出口２６の開口軸方向から見て上下方向に並設されたが、ミスト吐出口２６及び液剤用開口部１１ｂの配置位置は、上記実施形態のものに限定されるものではなく、例えば、幅方向（図１における紙面直交方向）に並設してもよく、また、ミスト吐出口２６の開口軸方向から見て斜め方向に並設してもよい。また、上記実施形態では、液剤用開口部１１ｂは、吐出開口部２６ａよりも下側に配置されたが、反対に吐出開口部２６ａを液剤用開口部１１ｂの下側に配置してもよい。
【００３７】
・上記実施形態では、検出手段に静電容量センサ１６を用いたが、顔Ｆの帯電量を検出可能なもの他のセンサを用いてもよい。
・上記実施形態では、噴霧対象物を顔Ｆとしたが、これ以外に例えば、人体の顔Ｆ以外の部位でもよい。
【００３８】
・上記実施形態では、ミスト発生機構１２のミスト発生部２４に加熱式のものを用いたが、これ以外に例えば、液体を超音波にて霧化させる超音波式のものや、霧吹き等の原理で知られるベンチュリー効果を用いたものとしてもよい。
【００３９】
・上記実施形態では、イオン発生機構１５は、コロナ放電を利用してマイナスイオンを発生させているが、こうした構成に限らず、高速回転させたプロペラなどにより液体を拡散させて水分子が破砕される、所謂水破砕式のマイナスイオンの発生方法を採用してもよい。この他、電子放射式などを用いてマイナスイオンを発生させる方法を採用してもよい。
【００４０】
・上記実施形態において、制御部１４は、所定のスイッチ操作（例えば、イオンミスト噴霧コースの操作）に基づき、液剤Ｍ２を噴霧させずにイオン発生機構１５によりマイナスに帯電されたミストＭ１のみを噴霧させるように制御してもよい。また、例えば、ミスト噴霧コースの押下に基づき、イオン発生機構１５からマイナスイオンを放出しない状態でミストＭ１のみを噴霧させるように制御してもよい。
【符号の説明】
【００４１】
Ｆ…噴霧対象物としての顔、Ｍ１…ミスト、Ｍ２…液剤、１２…ミスト発生機構、１３…液剤噴霧機構、１４…制御部、１５…イオン発生機構、１６…検出手段としての静電容量センサ。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミスト発生装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、ミスト生成して放出するミスト発生装置は、美顔器や加湿器等に広く用いられている（例えば特許文献１参照）。ミスト発生装置において、例えば美顔器では、加熱機構等により発生させたミスト（粒径が例えば粒径が数μｍ程度）を顔面に当てることで、肌に潤いを与えたり、古い角質や汚れを落としたりすることが可能であり、美容作用や健康作用が得られるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−３６１００９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ミスト発生装置において、更なる美容健康作用の向上のために、保湿剤や美白剤等の液剤を静電霧化して噴霧する装置が考えられる。このような装置では、高圧電源回路からの電圧印加にて生じるコロナ放電によって液剤が静電霧化されるようになっており、この静電霧化によって液剤は、帯電された微細なミストとなる。このような装置では、静電霧化により微細な液剤の噴霧が可能であるため、肌の角質層表面の隙間に液剤を浸透させることができ、高い美容作用や健康作用を肌に与えることが可能となるとともに、帯電した液剤の噴霧により、肌へ的確に且つ均一に塗布することが可能となっている。しかしながら、静電霧化された液剤は、静電気力で吐出されるため、飛散距離が短くなってしまい、噴霧する対象物まで到達し難いという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記課題を解決するためになされたものであって、その目的は、静電霧化された液剤の飛散距離を向上させることが可能なミスト発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、請求項１に記載の発明は、ミストを発生させて噴霧対象物に噴霧するミスト発生機構と、液剤を静電霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構と、イオンを放出して、前記ミスト発生機構から発生されるミストを前記液剤噴霧機構にて静電霧化された液剤の電位とは逆の電位に帯電させるイオン発生機構とを備えたことを特徴とする。
【０００７】
この発明では、例えば、イオン発生機構によりマイナス（又はプラス）に帯電させたミストを噴霧対象物に噴霧して、その噴霧対象物をマイナス（又はプラス）の電位に帯電させた後、静電霧化によってプラス（又はマイナス）の電位に帯電された液剤を噴霧対象物に噴霧することにより、噴霧された液剤が噴霧対象物に電気的に引き寄せられるため、静電霧化された液剤の飛散距離を向上させることが可能となる。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載のミスト発生装置において、前記噴霧対象物の帯電量を検出する検出手段と、前記検出手段にて検出された前記噴霧対象物の帯電量に基づき、前記ミスト発生機構及び前記イオン発生機構と前記液剤噴霧機構とを制御する制御部を備えたことを特徴とする。
【０００９】
この発明では、噴霧対象物の帯電量に応じてミストと液剤とを噴霧させることができるため、液剤の飛散距離の向上のための効率的な噴霧が可能となる。
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載のミスト発生装置において、前記制御部は、前記検出手段にて検出された前記噴霧対象物の帯電量に基づき、前記イオン発生機構にて発生される前記イオンの放出量を制御することを特徴とする。
【００１０】
この発明では、噴霧対象物を迅速に帯電させることが可能となるとともに、噴霧対象物に帯電させにくい状況下（例えば噴霧対象物がミスト発生装置から離れているとき等）での帯電不良を抑制することが可能となる。
【００１１】
請求項４に記載の発明は、請求項２又は３に記載のミスト発生装置において、前記制御部は、前記イオン発生機構により帯電された前記ミストと静電霧化された液剤とを交互に噴霧させるように、前記ミスト発生装置及び前記イオン発生機構と前記液剤噴霧機構とを制御することを特徴とする。
【００１２】
この発明では、噴霧対象物の帯電量は、液剤の噴霧により電気的に中和されて減少するが、イオン発生機構により帯電されたミストと液剤とを交互に噴霧させることで、液剤の飛散距離向上のために必要な噴霧対象物の帯電量を保った状態でのミスト及び液剤の噴霧が可能となる。
【発明の効果】
【００１３】
従って、上記記載の発明によれば、静電霧化された液剤の飛散距離を向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態のミスト発生装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。
図１に示すように、本実施形態のミスト発生装置は、ケース１１と、該ケース１１内に略収容されたミスト発生機構１２及び液剤噴霧機構１３と、同ケース１１内に収容された制御部１４と、イオン発生機構１５と、検出手段としての静電容量センサ１６とを備える。このミスト発生装置は、例えば美顔器として用いられるものであり、ミスト発生機構１２から発生されたミストＭ１、及び液剤噴霧機構１３にて静電霧化された液剤Ｍ２（そのミスト）を噴霧対象物としての顔Ｆに噴霧可能な装置である。
【００１６】
ケース１１には、上方（天方向）に開口したミスト用開口部１１ａと、側方（水平方向）に開口した液剤用開口部１１ｂとが形成されている。尚、ケース１１は、例えば、上方が開口した有底四角筒状のケース本体と、ケース本体の上端開口部を覆う蓋部材等からなるが、図１では、それらを一体的に模式的に図示している。また、本実施形態の液剤用開口部１１ｂは、ケース１１の側面１１ｃから側方（水平方向であって、図１中、左方向）に筒状に突出しケース１１内外を連通する筒部１１ｄの先端に形成されている。
【００１７】
ミスト発生機構１２は、着脱可能なタンク２１から水Ｗが供給される貯水槽２２と、貯水槽２２と連通管２３を介して連通され該貯水槽２２の水ＷからミストＭ１を発生させるミスト発生部２４と、ミスト発生部２４と連通されたミスト移送経路２５を介して発生したミストＭ１を吐出するためのミスト吐出口２６とを備える。
【００１８】
本実施形態のミスト発生部２４は、水Ｗを加熱してミストＭ１を発生させる加熱式のものであって、ヒータ２４ａを備えたものである。また、前記ミスト吐出口２６は、前記ミスト用開口部１１ａからケース１１の外部に突出するとともに略直角に屈曲し、その吐出開口部２６ａが前記液剤用開口部１１ｂと平行な方向（水平方向であって、図１中、左方向）を向くように設けられている。尚、ミスト吐出口２６の吐出開口部２６ａ及び液剤用開口部１１ｂは、その開口軸方向（図１中、左右方向）から見て上下方向に並設され、液剤用開口部１１ｂが吐出開口部２６ａよりも下側に配置されている。
【００１９】
液剤噴霧機構１３は、保湿剤や美白剤等の液剤Ｍ２を前記液剤用開口部１１ｂから噴霧するためのものである。詳しくは、液剤噴霧機構１３は、保湿剤や美白剤等の液剤を貯蔵するための液剤貯蔵部３１と、液剤貯蔵部３１と連通されたノズル３２と、ノズル３２に設けられたポンプ３３と、高圧電源回路３４とを備える。ポンプ３３は、液剤貯蔵部３１内の液剤をノズル３２に送り込むためのものである。ノズル３２は、その先端部３２ａが液剤用開口部１１ｂの内側に位置するように構成されている。高圧電源回路３４は、ノズル先端部３２ａに到達した液剤をコロナ放電により静電霧化するためのものである。高圧電源回路３４にて静電霧化された液剤Ｍ２は微細化されて、前記液剤用開口部１１ｂから噴霧されるようになっている。そして、その液剤Ｍ２を顔Ｆに浴びることで、肌の角質層表面の隙間に浸透させることが可能であり、高い美容作用や健康作用を得ることが可能となっている。また、本実施形態では、液剤Ｍ２は、高圧電源回路３４にて静電霧化される際に、プラスに帯電されるようになっている。
【００２０】
イオン発生機構１５は、ケース１１内に設けられた高圧電源回路４１と、電気的に接続された針状の放電針４２と、グランドに接続された対向電極４３とから構成され、高圧電源回路４１により放電針４２及び対向電極４３間にマイナスの高電圧を印加することでコロナ放電を発生させ、マイナスイオンが発生されるようになっている。尚、放電針４２及び対向電極４３は、ミスト吐出口２６の上部に設けられている。マイナスイオンは、放電針４２及び対向電極４３からミストＭ１の噴霧方向と略同方向に放出され、ミスト吐出口２６から噴霧されたミストＭ１と混合される。これにより、ミストＭ１がマイナスに帯電されるようになっている。
【００２１】
静電容量センサ１６は、噴霧対象物としての顔Ｆ表面の帯電量を非接触で検出するためのものである。静電容量センサ１６は、液剤用開口部１１ｂが形成されたケース１１の側面１１ｃに設けられるとともに、前記制御部１４と電気的に接続されている。
【００２２】
制御部１４は、図示しない操作スイッチ等の操作に基づき、ミスト発生機構１２のヒータ２４ａに通電する制御と、液剤噴霧機構１３のポンプ３３及び高圧電源回路３４を駆動する制御と、イオン発生機構１５の高圧電源回路４１を駆動する制御とを行う。
【００２３】
例えば、前記操作スイッチにて、イオン発生機構１５により帯電されたミストＭ１と液剤Ｍ２を交互に２回ずつ噴霧するための通常コースの操作（例えば、通常コースボタンを押す）が行われると、制御部１４は、まず、ミスト発生機構１２とイオン発生機構１５とを駆動してマイナスに帯電されたミストＭ１を噴霧させ、これにより、ミストＭ１を浴びる顔Ｆがマイナスに帯電する。
【００２４】
このとき、制御部１４は、静電容量センサ１６にて検出された顔Ｆの帯電量と所定値Ｅ１とを所定のタイミングで比較し、顔Ｆの帯電量が所定値Ｅ１を満たない場合には、高圧電源回路４１の出力を上げ、イオン発生機構１５にて発生されるマイナスイオンの放出量を増大させる。これにより、迅速に顔Ｆをマイナスに帯電させることが可能となるとともに、また、顔Ｆに帯電させにくい状況下（例えば顔Ｆがミスト発生装置から若干離れているとき等）での帯電不良を抑制することが可能となっている。
【００２５】
そして、制御部１４は、顔Ｆの帯電量が予め設定された所定値Ｅ２を越えたとき、ミスト発生機構１２及びイオン発生機構１５によるミストＭ１の噴霧及びマイナスイオンの放出を停止させ、液剤噴霧機構１３にて液剤Ｍ２を噴霧させる。尚、所定値Ｅ２は、前記所定値Ｅ１以上の値に設定されている。このとき、噴霧された液剤Ｍ２は、静電霧化によりプラスに帯電しているため、マイナスに帯電された顔Ｆに電気的に引き寄せられるようになっている。これにより、静電霧化された液剤Ｍ２の飛散距離が向上するようになっている。
【００２６】
その後、顔Ｆのマイナスの帯電量は、液剤Ｍ２による電気的な中和で減少する。ここで、制御部１４は、顔Ｆのマイナスの帯電量が予め設定された所定値Ｅ３を下回ったとき、液剤噴霧機構１３による液剤Ｍ２の噴霧を停止させ、ミスト発生機構１２及びイオン発生機構１５によりマイナスに帯電されたミストＭ１を噴霧させる。尚、所定値Ｅ３は、前記所定値Ｅ２よりも小さな値である。
【００２７】
その後、制御部１４は、上記と同様の制御を行い、もう一度液剤Ｍ２を噴霧させる。そして、顔Ｆのマイナスの帯電量が所定値Ｅ３を下回ったとき、液剤噴霧機構１３による液剤Ｍ２の噴霧を停止させ、通常コースの噴霧を終了するようになっている。以上のように、イオン発生機構１５により帯電されたミストＭ１と静電霧化された液剤Ｍ２とが制御部１４の制御により交互に噴霧されるようになっているため、液剤Ｍ２の飛散距離向上のために必要な顔Ｆの帯電量を保った状態でのミストＭ１及び液剤Ｍ２の噴霧が可能となっている。
【００２８】
また、上記のようなミスト発生装置では、２種類のミスト（ミストＭ１と液剤Ｍ２）が噴霧可能であるため、水のミストＭ１によって肌の表面に潤いを与えるとともに、帯電した微細な液剤のミスト（液剤Ｍ２）によってその成分を肌へ均一に与えて、肌の内側まで届けることが可能であり、より高い美容健康作用を与えることが可能となっている。
【００２９】
（１）本実施形態では、ミスト発生機構１２から発生されるミストＭ１を液剤噴霧機構１３にて静電霧化された液剤Ｍ２の電位とは逆の電位に帯電させるイオン発生機構１５とを備える。このため、イオン発生機構１５にてマイナスに帯電させたミストＭ１を顔Ｆに噴霧して、顔Ｆをマイナスに帯電させた後、静電霧化によってプラスに帯電された液剤Ｍ２を顔Ｆに噴霧することにより、噴霧された液剤Ｍ２が顔Ｆに電気的に引き寄せられるため、静電霧化された液剤Ｍ２の飛散距離を向上させることが可能となる。
【００３０】
（２）本実施形態では、顔Ｆの帯電量を検出する静電容量センサ１６と、静電容量センサ１６にて検出された顔Ｆの帯電量に基づき、ミスト発生機構１２及びイオン発生機構１５と液剤噴霧機構１３とを制御する制御部１４を備える。このため、顔Ｆの帯電量に応じてミストＭ１と液剤Ｍ２とを噴霧させることができるため、液剤Ｍ２の飛散距離の向上のための効率的な噴霧が可能となる。
【００３１】
（３）本実施形態では、制御部１４は、静電容量センサ１６にて検出された顔Ｆの帯電量に基づき、イオン発生機構１５にて発生されるイオンの放出量を制御する（放出量を増大させる）ため、顔Ｆを迅速に帯電させることが可能となるとともに、顔Ｆに帯電させにくい状況下（例えば顔Ｆがミスト発生装置から離れているとき等）での帯電不良を抑制することが可能となる。
【００３２】
（４）本実施形態では、制御部１４は、イオン発生機構１５により帯電されたミストＭ１と静電霧化された液剤Ｍ２とを交互に噴霧させるように、ミスト発生機構１２及びイオン発生機構１５と液剤噴霧機構１３とを制御するため、液剤Ｍ２の飛散距離向上のために必要な顔Ｆの帯電量を保った状態でのミストＭ１及び液剤Ｍ２の噴霧が可能となる。
【００３３】
尚、本発明の実施形態は、以下のように変更してもよい。
・上記実施形態では、通常コースの操作により、ミストＭ１と液剤Ｍ２とを交互に２回ずつ噴霧するように構成したが、特にこれに限定されるものではなく、それぞれ１回ずつ、又は交互に３回以上ずつ噴霧するようにしてもよい。
【００３４】
・上記実施形態では、制御部１４は、静電容量センサ１６にて検出された顔Ｆの帯電量に基づきミストＭ１の噴霧と液剤Ｍ２の噴霧とを切り替えるように制御したが、特にこれに限定されるものではなく、他の条件に基づいて切り替えるように制御してもよい。例えば、マイナスに帯電されたミストＭ１（又は液剤Ｍ２）の噴霧開始からの経過時間を計測するタイマーを設け、その経過時間が予め設定された時間を超えたときに、ミストＭ１の噴霧から液剤Ｍ２の噴霧に切り替える（又は液剤Ｍ２の噴霧からミストＭ１の噴霧に切り替える）ように制御してもよい。
【００３５】
・上記実施形態では、液剤Ｍ２が静電霧化によりプラスに帯電され、ミストＭ１がイオン発生機構１５によりマイナスに帯電されるように構成されたが、反対に液剤Ｍ２が静電霧化によりマイナスに帯電され、ミストＭ１がイオン発生機構１５によりプラスに帯電されるように構成してもよい。
【００３６】
・上記実施形態では、ミスト吐出口２６（吐出開口部２６ａ）及び液剤用開口部１１ｂは、ミスト吐出口２６の開口軸方向から見て上下方向に並設されたが、ミスト吐出口２６及び液剤用開口部１１ｂの配置位置は、上記実施形態のものに限定されるものではなく、例えば、幅方向（図１における紙面直交方向）に並設してもよく、また、ミスト吐出口２６の開口軸方向から見て斜め方向に並設してもよい。また、上記実施形態では、液剤用開口部１１ｂは、吐出開口部２６ａよりも下側に配置されたが、反対に吐出開口部２６ａを液剤用開口部１１ｂの下側に配置してもよい。
【００３７】
・上記実施形態では、検出手段に静電容量センサ１６を用いたが、顔Ｆの帯電量を検出可能なもの他のセンサを用いてもよい。
・上記実施形態では、噴霧対象物を顔Ｆとしたが、これ以外に例えば、人体の顔Ｆ以外の部位でもよい。
【００３８】
・上記実施形態では、ミスト発生機構１２のミスト発生部２４に加熱式のものを用いたが、これ以外に例えば、液体を超音波にて霧化させる超音波式のものや、霧吹き等の原理で知られるベンチュリー効果を用いたものとしてもよい。
【００３９】
・上記実施形態では、イオン発生機構１５は、コロナ放電を利用してマイナスイオンを発生させているが、こうした構成に限らず、高速回転させたプロペラなどにより液体を拡散させて水分子が破砕される、所謂水破砕式のマイナスイオンの発生方法を採用してもよい。この他、電子放射式などを用いてマイナスイオンを発生させる方法を採用してもよい。
【００４０】
・上記実施形態において、制御部１４は、所定のスイッチ操作（例えば、イオンミスト噴霧コースの操作）に基づき、液剤Ｍ２を噴霧させずにイオン発生機構１５によりマイナスに帯電されたミストＭ１のみを噴霧させるように制御してもよい。また、例えば、ミスト噴霧コースの押下に基づき、イオン発生機構１５からマイナスイオンを放出しない状態でミストＭ１のみを噴霧させるように制御してもよい。
【符号の説明】
【００４１】
Ｆ…噴霧対象物としての顔、Ｍ１…ミスト、Ｍ２…液剤、１２…ミスト発生機構、１３…液剤噴霧機構、１４…制御部、１５…イオン発生機構、１６…検出手段としての静電容量センサ。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミストを発生させて噴霧対象物に噴霧するミスト発生機構と、
液剤を静電霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構と、
イオンを放出して、前記ミスト発生機構から発生されるミストを前記液剤噴霧機構にて静電霧化された液剤の電位とは逆の電位に帯電させるイオン発生機構と
を備えたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の帯電量を検出する検出手段と、
前記検出手段にて検出された前記噴霧対象物の帯電量に基づき、前記ミスト発生機構及び前記イオン発生機構と前記液剤噴霧機構とを制御する制御部を備えたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項３】
請求項２に記載のミスト発生装置において、
前記制御部は、前記検出手段にて検出された前記噴霧対象物の帯電量に基づき、前記イオン発生機構にて発生される前記イオンの放出量を制御することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載のミスト発生装置において、
前記制御部は、前記イオン発生機構により帯電された前記ミストと静電霧化された液剤とを交互に噴霧させるように、前記ミスト発生装置及び前記イオン発生機構と前記液剤噴霧機構とを制御することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項１】
ミストを発生させて噴霧対象物に噴霧するミスト発生機構と、
液剤を静電霧化して前記噴霧対象物に噴霧する液剤噴霧機構と、
イオンを放出して、前記ミスト発生機構から発生されるミストを前記液剤噴霧機構にて静電霧化された液剤の電位とは逆の電位に帯電させるイオン発生機構と
を備えたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項２】
請求項１に記載のミスト発生装置において、
前記噴霧対象物の帯電量を検出する検出手段と、
前記検出手段にて検出された前記噴霧対象物の帯電量に基づき、前記ミスト発生機構及び前記イオン発生機構と前記液剤噴霧機構とを制御する制御部を備えたことを特徴とするミスト発生装置。
【請求項３】
請求項２に記載のミスト発生装置において、
前記制御部は、前記検出手段にて検出された前記噴霧対象物の帯電量に基づき、前記イオン発生機構にて発生される前記イオンの放出量を制御することを特徴とするミスト発生装置。
【請求項４】
請求項２又は３に記載のミスト発生装置において、
前記制御部は、前記イオン発生機構により帯電された前記ミストと静電霧化された液剤とを交互に噴霧させるように、前記ミスト発生装置及び前記イオン発生機構と前記液剤噴霧機構とを制御することを特徴とするミスト発生装置。
【図１】
【公開番号】特開２０１０−１７２８７５（Ｐ２０１０−１７２８７５Ａ）
【公開日】平成２２年８月１２日（２０１０．８．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２１５７９（Ｐ２００９−２１５７９）
【出願日】平成２１年２月２日（２００９．２．２）
【出願人】（０００００５８３２）パナソニック電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年８月１２日（２０１０．８．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年２月２日（２００９．２．２）
【出願人】（０００００５８３２）パナソニック電工株式会社 (17,916)
【Ｆターム（参考）】
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