ラインヘッドとその製造方法、及び画像形成装置
【課題】 ＳＬアレイの周期的な光量ムラをうち消す技術を提供するとともに、このラインヘッドを備えた画像形成装置を提供する。
【解決手段】 レンズ素子を配列してなるレンズアレイを介して被露光部に光を照射し、露光するようにしたラインヘッドである。発光をなす機能層を有し、機能層からレンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子３を、基板２上に複数配列して発光素子列３Ａを形成してなる。ラインヘッドにおけるＥＬ素子３の光出射側に、レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層９を一体に形成している。
【解決手段】 レンズ素子を配列してなるレンズアレイを介して被露光部に光を照射し、露光するようにしたラインヘッドである。発光をなす機能層を有し、機能層からレンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子３を、基板２上に複数配列して発光素子列３Ａを形成してなる。ラインヘッドにおけるＥＬ素子３の光出射側に、レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層９を一体に形成している。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置において露光手段として用いられるラインヘッドとその製造方法、及びこのラインヘッドを備えた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を利用したプリンタとして、ラインプリンタ（画像形成装置）が知られている。このラインプリンタは、被露光部となる感光体ドラムの周面上に、帯電器、ライン状のプリンタヘッド（ラインヘッド）、現像器、転写器などの装置を近接配置したものである。すなわち、帯電器によって帯電された感光体ドラムの周面上に、プリンタヘッドに設けられた発光素子の選択的な発光動作で露光を行なうことにより、静電潜像を形成し、この潜像を現像器から供給されるトナーで現像して、そのトナー像を転写器で用紙に転写するようにしたものである。
【０００３】
ところで、前記のようなプリンタヘッドの発光素子としては、一般に発光ダイオードなどが用いられている。しかし、これは数千個の発光点を精度良く配列することが極めて困難であるという課題がある。そこで、近年では、発光点を精度良く作り込める有機エレクトロルミネセンス素子（有機ＥＬ素子）を発光素子とする発光素子アレイを、露光手段として備えた画像形成装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、前述したような電子写真方式のラインプリンタでは、通常、プリンタヘッド（ラインヘッド）からの放射光を、セルフォック（登録商標）レンズアレイ（日本板硝子社の商品名；以下、セルフォック（登録商標）レンズをＳＬ、セルフォック（登録商標）レンズアレイをＳＬアレイと記す）を通過させることで感光体ドラム上に結像し、露光する方式が採られている。ＳＬアレイは、円柱状のレンズ素子であり、正立等倍像させるＳＬ素子を多数配列したことにより、広範囲の画像の結像を可能にしたものである。
【０００５】
ところで、ＳＬアレイの作る像は、１本１本のＳＬ素子の作る像が重なりあってできており、ＳＬ素子は、フットボールを半分にしたような光量分布を有している。したがって、ＳＬアレイでは、各ＳＬ素子の配列ピッチに伴ない、周期的な光量むらが生じてしまっている。
しかし、このような周期的な光量むらがあると、前記のプリンタヘッド（ラインヘッド）とＳＬアレイとを組合わせた場合に、ＳＬアレイの光量むらに起因して主走査方向の光強度の均一性が悪化し、露光精度が低下して得られるプリントの品質が損なわれてしまう。
【０００６】
このような背景のもとに、従来、特に端面発光素子とＳＬアレイとを組み合わせた場合に、ＳＬアレイの光量周期ムラをうち消すように、端面発光素子の発光層の厚みを変える技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平１１−１９８４３３号公報
【特許文献２】特開平５−３３０１３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、端面発光ではなく、ボトムエミッションタイプやトップエミッションタイプなどの、基板面から発光する一般的なＥＬ素子を備えたプリンタヘッド（ラインヘッド）については、ＳＬアレイの周期的な光量ムラをうち消すような技術が確立されておらず、したがってその提供が望まれている。
【０００８】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、一般的なＥＬ素子を備えたラインヘッドにおいて、ＳＬアレイの周期的な光量ムラをうち消す技術を提供するとともに、このラインヘッドを備えた画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のラインヘッドは、レンズ素子を配列してなるレンズアレイを介して被露光部に光を照射し、露光するようにしたラインヘッドであって、
発光をなす機能層を有し、該機能層から前記レンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子を、基板上に複数配列して発光素子列を形成してなり、
該ラインヘッドにおける前記ＥＬ素子の光出射側に、前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を一体に形成したことを特徴としている。
【００１０】
このラインヘッドによれば、レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成してなるので、レンズアレイの周期的な光量むらをうち消してこれを補正することが可能になり、したがって光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止することが可能になる。また、特に光量補正層を一体に形成してなるので、これを形成する際に発光素子列との間のアライメントをとっておくことにより、発光素子列に対する光量補正層の位置精度を良好にしておくことができ、したがってレンズアレイの周期的な光量むらの補正を良好な精度で行うことが可能になる。
【００１１】
また、前記ラインヘッドにおいては、前記基板上に前記ＥＬ素子を駆動する駆動素子が形成され、前記光量補正層は、前記駆動素子の下地側に形成されているのが好ましい。
このようにすれば、このラインヘッドを、特に駆動素子を形成するプロセス上の基板側から、ＥＬ素子で発光した光を出射するいわゆるボトムエミッション型とした場合に有効となる。また、駆動素子の下地側に形成されているので、駆動素子の形成による凹凸の影響を受けることがなく、平坦な基板面上に光量補正層を形成することが可能となることから、この光量補正層を所望するパターンに精度良く形成することが可能になる。
【００１２】
また、前記ラインヘッドにおいては、前記光量補正層は、前記ＥＬ素子においてその機能層の一方の側に設けられた透明電極の外側に、形成されているのが好ましい。また、その場合に、前記透明電極の外側にこれを覆って透明封止基板が設けられ、前記光量補正層は、前記透明封止基板に形成されているのが好ましい。
このようにすれば、このラインヘッドを、例えば透明電極を覆う透明封止基板側、ＥＬ素子で発光した光を出射するいわゆるトップエミッション型とした場合に有効となる。
また、特に光量補正層が透明封止基板に形成されていれば、発光素子列を構成するＥＬ素子の製造工程とは別に、平坦な透明封止基板上に光量補正層を形成することが可能となることから、この光量補正層を所望するパターンに精度良く、しかも条件的に制限をうけることなく自由に形成することが可能になる。なお、ここでいう透明電極とは、陽極であっても良い。この場合は、素子基板側にまず駆動素子まで形成した後に、光量補正層を形成して、その上にＩＴＯなどの透明陽極を形成することが好ましい。
【００１３】
本発明のラインヘッドの製造方法は、発光をなす機能層を有し、該機能層から正立等倍結像させるレンズ素子を配列してなるレンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子を、基板上に複数配列して発光素子列を形成し、ラインヘッドを製造する方法であって、
該ラインヘッドにおける前記ＥＬ素子の光出射側に、前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成する工程を有し、
前記光量補正層を形成する工程では、前記レンズアレイの光量むらの周期に対応して開口パターンが形成されたフィジカルマスクを、光量補正層の形成面から所定距離離し、その状態で非透光性材料を気相成膜法によって成膜することにより、前記光量補正層の形成面に前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成することを特徴としている。
【００１４】
このラインヘッドの製造方法によれば、レンズアレイの光量むらの周期に対応して開口パターンが形成されたフィジカルマスクを、光量補正層の形成面から所定距離離し、その状態で非透光性材料を気相成膜法によって成膜することにより、前記光量補正層の形成面に前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成するようにしているので、得られたラインヘッドは、光量補正層を有することによって前述したように光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止するものとなる。また、特に光量補正層を一体に形成するので、発光素子列との間のアライメントをとっておくことにより、発光素子列に対する光量補正層の位置精度を良好にしておくことができる。
【００１５】
また、前記ラインヘッドの製造方法においては、非透光性材料が金属であるのが好ましい。
このようにすれば、比較的薄い膜厚で光量補正層を形成することが可能になる。
また、前記ラインヘッドの製造方法においては、非透光性材料が絶縁材料であるのが好ましい。
このようにすれば、例えばこの光量補正層を駆動素子の下地側に形成する場合に、光量補正層が絶縁材料からなることにより、この光量補正層上に直接駆動素子を形成することが可能になる。
【００１６】
本発明の画像形成装置は、露光手段として、前記のラインヘッドか、あるいは前記の製造方法によって得られたラインヘッドを備えたことを特徴としている。
この画像形成装置によれば、前述したようにラインヘッドが、レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成してなるので、レンズアレイの周期的な光量むらをうち消してこれを補正することが可能になり、したがって光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止することが可能になる。また、ラインヘッドが光量補正層を一体に形成してなるので、これらの間のアライメントが予めなされていることにより、レンズアレイの周期的な光量むらの補正を良好な精度で行うことが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を詳しく説明する。
まず、本発明のラインヘッドについて説明する。図１は、本発明のラインヘッドの一実施形態を模式的に示す図であり、図１中符号１はラインヘッドである。このラインヘッド１は、後述する画像形成装置の露光手段として用いられるもので、図１に示すように長細い矩形の素子基板２上に、複数の有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）素子３を配列してなる発光素子列３Ａと、前記有機ＥＬ素子３を駆動させる駆動素子４からなる駆動素子群と、これら駆動素子４（駆動素子群）の駆動を制御する制御回路群５とを一体形成したものである。また、前記素子基板２上には、前記有機ＥＬ素子３を封止した状態で、接着剤によって封止基板（図示せず）が貼着されている。
【００１８】
駆動素子４には電源線７、８が接続されており、これら電源線７、８を介して電源（図示せず）から駆動素子４に電圧が印加されるようになっている。そして、これら駆動素子４（駆動素子群）、制御回路群５、電源線７、８により、駆動制御手段が構成されている。このような構成のもとに有機ＥＬ素子３は、駆動制御手段によってその発光動作が制御されるようになっている。
ここで、本実施形態のラインヘッド１は、有機ＥＬ素子３で発光した光を素子基板２側から出射する、いわゆるボトムエミッション型のもので、この素子基板２に、光量補正層を形成したものである。
【００１９】
ラインヘッド１における有機ＥＬ素子３や駆動素子４等の構成について、図２（ａ）、（ｂ）を参照して詳述する。
素子基板２としては、図２（ａ）に示すように、発光層６０で発光した光を画素電極２３側から出射するボトムエミッション型である場合、素子基板２側から発光光を取り出す構成であるので、透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。
【００２０】
なお、発光層６０で発光した光を陰極（対向電極）５０側から出射する、いわゆるトップエミッション型である場合には、この素子基板２の対向側である封止基板側から発光光を取り出す構成となるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
本実施形態では、前述したようにボトムエミッション型が採用され、したがって素子基板２には透明なガラスが用いられるものとする。
【００２１】
素子基板２上には、後述するＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらを補正する光量補正層９が一体に形成されている。この光量補正層９は、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｗ等の耐熱性が高い金属や、窒化珪素（ＳｉＮ）等の有色の絶縁材料などからなる非透光性材料によって形成されたもので、具体的には、図３（ａ）に示すようにフィジカルマスク３５を介して前記非透光性材料が素子基板２上に成膜されたことにより、形成されたものである。
【００２２】
フィジカルマスク３５は、後述するＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらの周期に対応した開口パターン３６、すなわち、所定の幅のスリット（開口）３６ａを所定間隔に配置した開口パターン３６を有するものである。ここで、所定間隔とは、対象となるＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらの周期にほぼ一致する間隔である。
そして、このフィジカルマスク３５を素子基板２の光量補正層の形成面から所定距離離して配置し、その状態で非透光性材料をスパッタ法や蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の気相成膜法によって成膜することにより、図３（ｂ）に示すような光量補正層９を形成する。このようにして得られた光量補正層９は、図１に示した有機ＥＬ素子３からなる発光素子列３Ａの配列方向に沿って、非透光性材料からなる膜が厚い部分９ａと薄い部分（ほとんど無い部分）９ｂとが周期的に、しかもその厚さが厚い部分９ａから薄い部分（無い部分）９ｂへ、また薄い部分（無い部分）９ｂから厚い部分９ａへと連続的に変化したものとなる。
【００２３】
したがって、このように非透光性材料からなる膜の厚い部分９ａと薄い部分９ｂとからなる光量補正層９により、素子基板２は、光量補正層９における膜が厚い部分９ａでは光をあまり透過せず、よって透過率が低くなり、薄い部分９ｂでは光を多く透過し、よって透過率が高くなる。なお、厚い部分９ａと薄い部分９ｂとの間隔、すなわち透過率むらの周期は、フィジカルマスク３５におけるスリット３６ａ、３６ａ間の間隔にほぼ一致し、この透過率むらがそのまま前記ＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらの周期に一致するようになる。ただし、その位相については、後述するように前記光量むらとは逆転したものとなる。また、この光量補正層９における各部の透過率の程度については、スリット３６ａの幅や非透光性材料の種類、さらには成膜時の条件などによって調整可能である。したがって、予め実験やシミュレーションによって適宜に条件を決定しておくことにより、光量補正層９を、ＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらをうち消してこれを良好に補正するように形成することができる。
【００２４】
例えば、ＳＬアレイの光量むらが平均値に対して±５％となっている場合には、光量補正層９を出射する光の強度（発光量）が平均値に対して±５％となるように、膜が厚い部分９ａや薄い部分９ｂを形成しておくことにより、ＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらをうち消してこれを良好に補正する光量補正層９を得ることができる。
【００２５】
このような光量補正層９を形成した素子基板２上には、該光量補正層９上に、画素電極２３に接続する駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）などを含む回路部１１が形成されており、その上に有機ＥＬ素子３が設けられている。有機ＥＬ素子３は、陽極として機能する画素電極２３と、この画素電極２３からの正孔を注入／輸送する正孔輸送層７０と、有機ＥＬ物質からなる発光層６０と、陰極５０とが順に形成されたことによって構成されている。なお、本実施形態では、正孔輸送層７０と発光層６０とにより、本発明の機能層が形成されている。
【００２６】
ここで、有機ＥＬ素子３および駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）を図１（ａ）に対応した模式図で示すと、図２（ｂ）に示すようになる。図２（ｂ）において、電源線７は駆動素子４のソース／ドレイン電極に接続し、電源線８は有機ＥＬ素子３の陰極５０に接続している。
そして、このような構成のもとに有機ＥＬ素子３は、図２（ａ）に示すように、正孔輸送層７０から注入された正孔と陰極５０からの電子とが発光層６０で結合することにより、発光をなすようになっている。
【００２７】
陽極として機能する画素電極２３は、ボトムエミッション型である本実施形態では、透明導電材料によって形成され、具体的にはＩＴＯが好適に用いられている。なお、本実施形態の光量補正層は、駆動素子の下地では無く、駆動素子上の層間絶縁膜とＩＴＯ陽極間に配置しても同様の効果を生むことができる。この場合、光量補正層を画素内部にのみ形成することにより、光量補正層として導電性部材を用いることができる。
正孔輸送層７０の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層７０の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
【００２８】
発光層６０を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。なお、本実施形態では、例えば発光波長帯域が赤色に対応した発光層が採用されるが、もちろん、発光波長帯域が緑色や青色に対応した発光層を採用するようにしてもよい。この場合、用いる感光体は、その発光領域に感度を持つものを採用する。
【００２９】
発光層６０の形成材料として具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００３０】
陰極５０は、前記発光層６０を覆って形成されたもので、例えばＣａを厚さ２０ｎｍ程度に形成し、その上にＡｌを厚さ２００ｎｍ程度に形成して積層構造の電極とし、Ａｌを反射層としても機能させたものである。
また、この陰極５０上には接着層を介して封止基板（図示せず）が貼着されている。
【００３１】
また、このような有機ＥＬ素子３の下方には、前述したように回路部１１が設けられている。この回路部１１は前記光量補正層９上に形成されたものである。すなわち、光量補正層９の表面にはＳｉＯ２等の絶縁材料からなる下地保護層２８１が下地として形成され、その上にはシリコン層２４１が形成されている。このシリコン層２４１の表面には、ＳｉＯ２及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁層２８２が形成されている。
【００３２】
また、前記シリコン層２４１のうち、ゲート絶縁層２８２を挟んでゲート電極２４２と重なる領域がチャネル領域２４１ａとされている。なお、このゲート電極２４２は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層２４１を覆い、ゲート電極２４２を形成したゲート絶縁層２８２の表面には、ＳｉＯ２を主体とする第１層間絶縁層２８３が形成されている。
【００３３】
また、シリコン層２４１のうち、チャネル領域２４１ａのソース側には、低濃度ソース領域２４１ｂおよび高濃度ソース領域２４１Ｓが設けられる一方、チャネル領域２４１ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域２４１ｃおよび高濃度ドレイン領域２４１Ｄが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light Doped Drain ）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域２４１Ｓは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４３ａを介して、ソース電極２４３に接続されている。このソース電極２４３は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域２４１Ｄは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４４ａを介して、ソース電極２４３と同一層からなるドレイン電極２４４に接続されている。
【００３４】
ソース電極２４３およびドレイン電極２４４が形成された第１層間絶縁層２８３の上層には、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする平坦化膜２８４が形成されている。この平坦化膜２８４は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）やソース電極２４３、ドレイン電極２４４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。
【００３５】
そして、ＩＴＯ等からなる画素電極２３が、この平坦化膜２８４の表面上に形成されるとともに、該平坦化膜２８４に設けられたコンタクトホール２３ａを介してドレイン電極２４４に接続されている。すなわち、画素電極２３は、ドレイン電極２４４を介して、シリコン層２４１の高濃度ドレイン領域２４１Ｄに接続されている。
【００３６】
画素電極２３が形成された平坦化膜２８４の表面には、画素電極２３と、前述した無機隔壁２５とが形成されており、さらに無機隔壁２５上には、有機隔壁２２１が形成されている。そして、画素電極２３上には、無機隔壁２５に形成された前記開口２５ａと、有機隔壁２２１に形成された開口２２１ａとの内部、すなわち画素領域に、前記の正孔輸送層７０と発光層６０とが画素電極２３側からこの順で積層され、これによって機能層が形成されている。
【００３７】
このような構成のラインヘッド１を製造するには、まず、図３（ａ）に示したように素子基板２の内面側に、光量補正層９から所定距離離した状態でフィジカルマスク３５を配置し、その状態で非透光性材料、例えば前記の金属や絶縁材料をスパッタ法等の気相成膜法によって成膜する。すると、素子基板２側に飛散した非透光性材料は、特にスリット３６ａの位置に飛散したものはこれを通過して素子基板２上に堆積し、一方、スリット３６ａ、３６ａ間の位置に飛散したものはフィジカルマスク３５に遮断され、そのままこのフィジカルマスク３５上に堆積する。ここで、特にフィジカルマスク３５を光量補正層９から所定距離離しているので、スリット３６ａを通過した材料は素子基板２に堆積するまでの間で拡散し、そのまま素子基板２上に堆積する。
【００３８】
したがって、素子基板２上に堆積する非透光性材料は、特にスリット３６ａの配列方向に拡散することで、この配列方向においてスリット３６ａの中心部分では非透光性材料の濃度が高く、スリット３６ａの中心部分から離れるに連れて非透光性材料の濃度が低くなる。このようにして非透光性材料が堆積し、成膜されることにより、光量補正層９は図３（ｂ）に示したように、非透光性材料からなる膜が厚い部分９ａと薄い部分（ほとんど無い部分）９ｂとが周期的に、しかもその厚さが厚い部分から薄い部分（無い部分）へ、またはその逆へと連続的に変化したものとなる。よって、この光量補正層９は、後述するＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらをうち消し、これを補正するものとなる。
【００３９】
このようにして光量補正層９を形成したら、この光量補正層９上に下地保護層２８１を形成し、さらにこの下地保護層２８１上にポリシリコン層等を形成して、このポリシリコン層等から回路部１１を形成する。
そして、この回路部１１上に、画素電極２３、機能層としての正孔輸送層７０及び発光層６０、陰極５０をこの順に形成し、さらに封止基板（図示せず）を用いて封止を行うことにより、ボトムエミッション型のラインヘッド１を得る。
【００４０】
次に、このようにして得られたラインヘッド１の使用形態について説明する。
図４は、後述する画像形成装置における、ラインヘッド１の使用形態を示す図である。図４に示すようにラインヘッド１は、本発明におけるレンズアレイとしてのＳＬアレイ３１を介して、本発明における被露光部となる感光体ドラム３２に光を照射し結像して、露光するようにしたものである。ここで、ラインヘッド１とＳＬアレイ３１とについては、これらをヘッドケース（図示せず）に組み付けて一体にしておく。その際、これらの間をアライメントしておき、後述するようにラインヘッド１によってＳＬアレイ３１の周期的な光量むらをうち消してこれを補正するようにしておく。
【００４１】
ＳＬアレイ３１は、図５（ａ）に示すような円柱状のレンズ素子（ＳＬ素子）３１ａを、図５（ｂ）に示すように多数配列したもので、前述したように周期的な光量むらを生じるようになっている。すなわち、１本１本のＳＬ素子（結像素子）３１ａは、図５（ａ）に示したようにフットボールを半分にしたような光量分布を有していることから、これを多数配列したＳＬアレイ３１は、図５（ｂ）に示したように、ＳＬ素子（結像素子）３１ａの配列ピッチに伴う周期的な光量むらを生じているのである。ここで、ＳＬアレイ３１の光量むらΔＥは、以下の式で表される。
ΔＥ＝｛（ｉｍａｘ−ｉｍｉｎ）／ｉｍｉｎ｝×１００（％）
（ｉｍａｘ、ｉｍｉｎは図５（ｂ）参照）
【００４２】
この光量むらΔＥは、隣り合うＳＬ３１ａ、３１ａ間での像の重なり度、およびＳＬアレイ３１が何列構成になっているかで異なるが、図５（ａ）中に示した数式により、その構成から光量むらのピッチを表わすことができる。また、図的には、ＳＬアレイ３１の列方向の位置に対してその透過光量は、図６（ａ）に示すような分布（むら）を有することになる。
なお、例えばＳＬアレイ３１として、日本板硝子製のＳＬアレイ２０を用いるとすれば、このＳＬアレイ３１のレンズ周期、すなわち光量むらの周期は０．５６ｍｍとなる。また、ＳＬアレイ３１が、千鳥状に２列構成として配置されている場合には、レンズ周期（光量むらの周期）は半分、すなわち０．２８ｍｍとなる。
【００４３】
したがって、このようなＳＬアレイ３１に光を照射するラインヘッド１としては、前記のレンズ周期（光量むらの周期）をうち消してこれを補正するように、前記光量補正層９における膜の厚い部分９ａ（あるいは膜の薄い部分９ｂ）の周期を、前記光量むらの周期に一致させ、かつ、その位相については前記光量むらと逆転したものとする。すなわち、図６（ｂ）に示すように、ＳＬアレイ３１が透過する（導く）光量が少ない部位に対応するヘッド位置、つまり光量補正層９の位置については、非透過性材料からなる膜厚が薄く、よって透過光量（透過率）が高くなるようにし、逆にＳＬアレイ３１が透過する（導く）光量が多い部位に対応するヘッド位置（光量補正層９の位置）については、非透過性材料からなる膜厚が厚く、よって透過光量（透過率）が低くなるようにする。これにより、ラインヘッド１からＳＬアレイ３１に向けて照射される光の強度（発光量）は、図６（ｃ）に示すように図６（ｂ）と同じ曲線となる。
【００４４】
そして、このようにラインヘッド１から照射される光の強度（発光量）が、ＳＬアレイ３１が透過する（導く）光量のむら（光量むら）をうち消すように周期的に変化させられているので、このラインヘッド１から照射され、さらに前記ＳＬアレイ３１を透過した光は、図６（ｄ）に示すように全ての結像位置において均一な光量（結像光量）となる。したがって、前記感光体ドラム３２上にてむらなく良好に結像するようになる。
【００４５】
なお、ＳＬアレイ３１として前記の日本板硝子製のＳＬアレイ２０を用い、ラインヘッド１についてはこのＳＬアレイ３１のレンズ周期（光量むらの周期）である０．５６ｍｍを補正するようにその補正周期を０．５６ｍｍとし、さらに出射する光の強度（発光量）が平均値に対し±５％となるように調整した光量補正層９を用いて、感光体ドラム３２上に露光を行い、印刷を行ったところ、その濃度ばらつきは±１％以下であった。また、比較のため、光量補正層９を形成しないラインヘッドを用いて同様に印刷を行ったところ、濃度ばらつきが±５％程度であった。したがって、本実施形態のラインヘッド１は、ＳＬアレイ３１の光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを良好に防止し、得られるプリントの品質を向上できることが分かった。
【００４６】
このように、本実施形態のラインヘッド１にあっては、ＳＬアレイ３１の光量むらを補正する光量補正層９を形成してなるので、ＳＬアレイ３１の周期的な光量むらをうち消してこれを補正することができ、これにより光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止し、得られるプリントの品質向上を図ることができる。
また、特に光量補正層９を素子基板２に直接作り込むことで、これを発光素子列３Ａ（有機ＥＬ素子３）と一体にしているので、光量補正層９を形成する際に発光素子列３Ａとの間のアライメントをとっておくことにより、発光素子列３Ａに対する光量補正層９の位置精度を良好にしておくことができる。したがって、ＳＬアレイ３１の周期的な光量むらの補正を、単にこのＳＬアレイ３１とラインヘッド１との間をアライメントしておくことだけで、良好な精度で行うことができる。
【００４７】
なお、前記実施形態では、光量補正層９上に下地保護層２８１を形成し、これの上に駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）を形成するようにしたが、特に光量補正層９を絶縁材料で形成した場合には、この光量補正層９自体が絶縁層となるので、下地保護層２８１の形成を省略して、光量補正層９上に駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）を直接形成するようにしてもよい。
【００４８】
図７は本発明のラインヘッドの他の実施形態を模式的に示す図であり、図７中符号２０はラインヘッドである。このラインヘッド２０が前記ラインヘッド１と異なるところは、発光した光の出射方式、すなわち、前記ラインヘッド１ではボトムエミッション型であったのに対し、このラインヘッド２０ではトップエミッション型を採用している点と、この出射方式（トップエミッション型）を採用したことに伴い、光量補正層９の形成位置を変えた点である。
【００４９】
図７に示したようにこのラインヘッド２０では、透明導電材料、例えばＩＴＯによって陰極５０を形成し、この陰極５０上に封止樹脂層４０を形成し、さらに必要に応じてパッシベーション膜（図示せず）を形成する。次いで、この封止樹脂層４０あるいはパッシベーション膜上に、図３（ａ）に示した方法で前記光量補正層９を形成する。このとき、封止樹脂層４０やその下地である陰極５０にダメージが与えられないよう、光量補正層９形成のための成膜法としては、特に低ダメージのイオンプレーティング法を用いるのが好ましい。その後、この光量補正層９を覆ってガラス等からなる透明の封止基板３０を貼設する。
【００５０】
このようにして得られたラインヘッド２０にあっても、使用に際しては、封止基板３０側をＳＬアレイ３１に向けてアライメントし、その状態でヘッドケース（図示せず）に組み付けてＳＬアレイ３１と一体にしておく。なお、ＳＬアレイ３１に対するラインヘッド２０のアライメントについては、前記ラインヘッド１の場合と同様に、ＳＬアレイ３１の周期的な光量むらを光量補正層９によってうち消し、これを補正できる位置に合わせすることで行う。
そして、図４に示したようにラインヘッド２０から光を照射し、ＳＬアレイ３１を介して感光体ドラム３２上に光を結像させ、露光する。
【００５１】
このように、本実施形態のラインヘッド２０にあっても、光量補正層９によってＳＬアレイ３１の周期的な光量むらをうち消し、これを補正することができ、したがって光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止し、得られるプリントの品質向上を図ることができる。
また、特に光量補正層９を素子基板２に直接作り込むことで、これを発光素子列３Ａ（有機ＥＬ素子３）と一体にしているので、前記ラインヘッド１と同様に、ＳＬアレイ３１の周期的な光量むらの補正を、単にこのＳＬアレイ３１とラインヘッド２０との間をアライメントしておくことだけで、良好な精度で行うことができる。
【００５２】
なお、前記の実施形態では、封止樹脂層４０あるいはパッシベーション膜上に光量補正層９を形成し、トップエミッション型の出射方式を実現しているが、特にトップエミッション型とする場合には、この構造に限定されることなく、例えば透明な封止基板３０の内面側に、光量補正層９を形成するようにしてもよい。
このようにすれば、発光素子列３Ａを構成するＥＬ素子３の製造工程とは別に、平坦な透明封止基板３０上に光量補正層９を形成するので、この光量補正層９を所望するパターンに精度良く、しかもＥＬ素子３等の存在による条件的な制限をうけることなく、自由に形成することができる。
【００５３】
なお、前記実施形態のラインヘッド１、２０では、発光素子列３Ａを１列の有機ＥＬ素子３で形成したが、本発明はこれに限定されることなく、例えば有機ＥＬ素子３を２列にしてこれらを千鳥状に配し、発光素子列３Ａを形成するようにしてもよい。
また、前記実施形態では、本発明のラインヘッド１に形成されるＥＬ素子として、有機ＥＬ素子を用いた例を示したが、これに代えて無機ＥＬ素子を用いてもよいのはもちろんである。
さらに、実施形態の中では、ＥＬ素子を駆動する素子として、素子基板２上にＴＦＴなどの駆動素子４を作り込んだ例を挙げたが、駆動素子４を素子基板２上に作り込まず、駆動素子４を外付けにする、具体的にはＥＬ素子基板の端子領域にドライバＩＣをＣＯＧ実装する、またはドライバＩＣを実装したフレキシブル回路基板をＥＬ素子基板に実装するようにしても良い。
【００５４】
次に、本発明のラインヘッド１が設けられる画像形成装置について説明する。図８は、本発明の画像形成装置の第１の実施形態を示す図であり、図８中符号８０は画像形成装置である。この画像形成装置８０は、本発明のラインヘッドの一例となる有機ＥＬアレイラインヘッド１０１Ｋ、１０１Ｃ、１０１Ｍ、１０１Ｙを、対応する同様な構成である４個の感光体ドラム（像担持体）４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙの露光装置にそれぞれ配置したもので、タンデム方式のものとして構成されたものである。
【００５５】
この画像形成装置８０は、駆動ローラ９１と従動ローラ９２とテンションローラ９３とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト９０を、図８中矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト９０に対して、感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
【００５６】
ここで、前記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。なお、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、図８中矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００５７】
各感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する本発明の有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
ここで、有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）との間にはＳＬアレイ（図示せず）が配設されている。有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、前述したようにこのＳＬアレイの光量むらをうち消してこれを補正するよう、光量補正層９を一体に形成したものである。
【００５８】
また、この有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００５９】
ここで、各有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、それぞれのアレイ方向が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の母線に沿うように設置されている。そして、各有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
【００６０】
現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００６１】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｐ上に定着され、その後、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。
【００６２】
なお、図８中の符号６３は多数枚の記録媒体Ｐが積層保持されている給紙カセット、６４は給紙カセット６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラ、６５は二次転写ローラ６６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ対、６６は中間転写ベルト９０との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、６７は二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。
【００６３】
次に、本発明に係る画像形成装置の第２の実施の形態について説明する。図９は４サイクル方式の画像形成装置の縦断側面図である。図９において、画像形成装置１６０には主要構成部材として、ロータリ構成の現像装置１６１、像担持体として機能する感光体ドラム１６５、前記ＳＬアレイ及びラインヘッド（有機ＥＬアレイラインヘッド）が設けられてなる像書込手段（露光手段）１６７、中間転写ベルト１６９、用紙搬送路１７４、定着器の加熱ローラ１７２、給紙トレイ１７８が設けられている。
【００６４】
現像装置１６１は、現像ロータリ１６１ａが軸１６１ｂを中心として矢印Ａ方向に回転するよう構成されたものである。現像ロータリ１６１ａの内部は４分割されており、それぞれイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｋ）の４色の像形成ユニットが設けられている。１６２ａ〜１６２ｄは、前記４色の各像形成ユニットに配置されており、矢印Ｂ方向に回転する現像ローラ、１６３ａ〜１６３ｄは、矢印Ｃ方向に回転するトナ−供給ローラである。また、１６４ａ〜１６４ｄはトナーを所定の厚さに規制する規制ブレードである。
【００６５】
図９中符号１６５は、前記のように像担持体として機能する感光体ドラム、１６６は一次転写部材、１６８は帯電器である。また、１６７は本発明における露光手段となる像書込手段であり、本発明のラインヘッドとＳＬアレイとを備えてなるものである。感光体ドラム１６５は、図示を省略した駆動モータ、例えばステップモータにより、現像ローラ１６２ａとは逆の方向となる矢印Ｄ方向に回転駆動されるようになっている。なお、像書込手段１６７を構成するラインヘッドは、これとレンズ素子（図示せず）や感光ドラム１６５との間で位置合わせ（光軸合わせ）がなされた状態に配設されている。
【００６６】
中間転写ベルト１６９は、駆動ローラ１７０ａと従動ローラ１７０ｂとの間に張架されたものである。駆動ローラ１７０ａは、前記感光体ドラム１６５の駆動モータに連結されたもので、中間転写ベルト１６９に動力を伝達するようになっている。すなわち、該駆動モータの駆動により、中間転写ベルト１６９の駆動ローラ１７０ａは感光体ドラム１６５とは逆の方向となる矢印Ｅ方向に回動するようになっている。
【００６７】
用紙搬送路１７４には、複数の搬送ローラと排紙ローラ対１７６などが設けられており、用紙が搬送されるようになっている。中間転写ベルト１６９に担持されている片面の画像（トナー像）が、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に転写されるようになっている。二次転写ローラ１７１は、クラッチによって中間転写ベルト１６９に離当接されるようになっており、クラッチオンで中間転写ベルト１６９に当接され、用紙に画像が転写されるようになっている。
【００６８】
前記のようにして画像が転写された用紙は、次に、定着ヒータＨを有する定着器で定着処理がなされる。定着器には、加熱ローラ１７２、加圧ローラ１７３が設けられている。定着処理後の用紙は、排紙ローラ対１７６に引き込まれて矢印Ｆ方向に進行する。この状態から排紙ローラ対１７６が逆方向に回転すると、用紙は方向を反転して両面プリント用搬送路１７５を矢印Ｇ方向に進行する。１７７は電装品ボックス、１７８は用紙を収納する給紙トレイ、１７９は給紙トレイ１７８の出口に設けられているピックアップローラである。
【００６９】
用紙搬送路において、搬送ローラを駆動する駆動モータとしては、例えば低速のブラシレスモータが用いられている。また、中間転写ベルト１６９については、色ずれ補正などが必要となるためステップモータが用いられている。これらの各モータは、図示を省略した制御手段からの信号によって制御されるようになっている。
【００７０】
図９に示した状態で、イエロー（Ｙ）の静電潜像が感光体ドラム１６５に形成され、現像ローラ１６２ａに高電圧が印加されることにより、感光体ドラム１６５にはイエローの画像が形成される。イエローの裏側および表側の画像がすべて中間転写ベルト１６９に担持されると、現像ロータリ１６１ａが矢印Ａ方向に９０度回転する。
【００７１】
中間転写ベルト１６９は１回転して感光体ドラム１６５の位置に戻る。次に、シアン（Ｃ）の２面の画像が感光体ドラム１６５に形成され、この画像が中間転写ベルト１６９に担持されているイエローの画像に重ねて担持される。以下、同様にして現像ロータリ１６１の９０度回転、中間転写ベルト１６９への画像担持後の１回転処理が繰り返される。
【００７２】
４色のカラー画像担持には中間転写ベルト１６９は４回転して、その後さらに回転位置が制御されて二次転写ローラ１７１の位置で用紙に画像を転写する。給紙トレー１７８から給紙された用紙を搬送路１７４で搬送し、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に前記カラー画像を転写する。片面に画像が転写された用紙は前記のように排紙ローラ対１７６で反転されて、搬送径路で待機している。その後、用紙は適宜のタイミングで二次転写ローラ１７１の位置に搬送されて、他面に前記カラー画像が転写される。ハウジング１８０には、排気ファン１８１が設けられている。
【００７３】
このような図８、図９に示した画像形成装置８０、１６０においては、図１に示したような本発明のラインヘッド（有機ＥＬアレイラインヘッド）が露光手段として備えられている。
したがって、これら画像形成装置８０、１６０にあっては、前述したようにＳＬアレイの光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止し、得られるプリントの品質を向上することができる。
なお、本発明のラインヘッドを備えた画像形成装置は前記実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明のラインヘッドの一実施形態を示す模式図。
【図２】（ａ）はラインヘッドの要部側断面図、（ｂ）は模式図。
【図３】（ａ）は光量補正層の形成方法説明図、（ｂ）は光量補正層の要部平面図。
【図４】ラインヘッドの使用形態を説明するための模式図。
【図５】（ａ）、（ｂ）はＳＬアレイとその光量むらの説明図。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は本発明のラインヘッドの作用を説明するためのグラフ。
【図７】本発明のラインヘッドの他の実施形態を示す要部側断面図。
【図８】本発明の画像形成装置の第１の実施形態を示す概略構成図である。
【図９】本発明の画像形成装置の第２の実施形態を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００７５】
１、２０…ラインヘッド、２…素子基板（基板）、３…有機ＥＬ素子（ＥＬ素子）、
３Ａ…発光素子列、４…駆動素子（１２３…駆動用ＴＦＴ）、９…光量補正層、
３０…封止基板、３１…ＳＬアレイ（レンズアレイ）、３１ａ…レンズ素子（ＳＬ）、
３２…感光体ドラム（被露光部）、６０…発光層、７０…正孔輸送層、
８０、１６０…画像形成装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像形成装置において露光手段として用いられるラインヘッドとその製造方法、及びこのラインヘッドを備えた画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式を利用したプリンタとして、ラインプリンタ（画像形成装置）が知られている。このラインプリンタは、被露光部となる感光体ドラムの周面上に、帯電器、ライン状のプリンタヘッド（ラインヘッド）、現像器、転写器などの装置を近接配置したものである。すなわち、帯電器によって帯電された感光体ドラムの周面上に、プリンタヘッドに設けられた発光素子の選択的な発光動作で露光を行なうことにより、静電潜像を形成し、この潜像を現像器から供給されるトナーで現像して、そのトナー像を転写器で用紙に転写するようにしたものである。
【０００３】
ところで、前記のようなプリンタヘッドの発光素子としては、一般に発光ダイオードなどが用いられている。しかし、これは数千個の発光点を精度良く配列することが極めて困難であるという課題がある。そこで、近年では、発光点を精度良く作り込める有機エレクトロルミネセンス素子（有機ＥＬ素子）を発光素子とする発光素子アレイを、露光手段として備えた画像形成装置が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
【０００４】
また、前述したような電子写真方式のラインプリンタでは、通常、プリンタヘッド（ラインヘッド）からの放射光を、セルフォック（登録商標）レンズアレイ（日本板硝子社の商品名；以下、セルフォック（登録商標）レンズをＳＬ、セルフォック（登録商標）レンズアレイをＳＬアレイと記す）を通過させることで感光体ドラム上に結像し、露光する方式が採られている。ＳＬアレイは、円柱状のレンズ素子であり、正立等倍像させるＳＬ素子を多数配列したことにより、広範囲の画像の結像を可能にしたものである。
【０００５】
ところで、ＳＬアレイの作る像は、１本１本のＳＬ素子の作る像が重なりあってできており、ＳＬ素子は、フットボールを半分にしたような光量分布を有している。したがって、ＳＬアレイでは、各ＳＬ素子の配列ピッチに伴ない、周期的な光量むらが生じてしまっている。
しかし、このような周期的な光量むらがあると、前記のプリンタヘッド（ラインヘッド）とＳＬアレイとを組合わせた場合に、ＳＬアレイの光量むらに起因して主走査方向の光強度の均一性が悪化し、露光精度が低下して得られるプリントの品質が損なわれてしまう。
【０００６】
このような背景のもとに、従来、特に端面発光素子とＳＬアレイとを組み合わせた場合に、ＳＬアレイの光量周期ムラをうち消すように、端面発光素子の発光層の厚みを変える技術が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【特許文献１】特開平１１−１９８４３３号公報
【特許文献２】特開平５−３３０１３５号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、端面発光ではなく、ボトムエミッションタイプやトップエミッションタイプなどの、基板面から発光する一般的なＥＬ素子を備えたプリンタヘッド（ラインヘッド）については、ＳＬアレイの周期的な光量ムラをうち消すような技術が確立されておらず、したがってその提供が望まれている。
【０００８】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、一般的なＥＬ素子を備えたラインヘッドにおいて、ＳＬアレイの周期的な光量ムラをうち消す技術を提供するとともに、このラインヘッドを備えた画像形成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明のラインヘッドは、レンズ素子を配列してなるレンズアレイを介して被露光部に光を照射し、露光するようにしたラインヘッドであって、
発光をなす機能層を有し、該機能層から前記レンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子を、基板上に複数配列して発光素子列を形成してなり、
該ラインヘッドにおける前記ＥＬ素子の光出射側に、前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を一体に形成したことを特徴としている。
【００１０】
このラインヘッドによれば、レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成してなるので、レンズアレイの周期的な光量むらをうち消してこれを補正することが可能になり、したがって光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止することが可能になる。また、特に光量補正層を一体に形成してなるので、これを形成する際に発光素子列との間のアライメントをとっておくことにより、発光素子列に対する光量補正層の位置精度を良好にしておくことができ、したがってレンズアレイの周期的な光量むらの補正を良好な精度で行うことが可能になる。
【００１１】
また、前記ラインヘッドにおいては、前記基板上に前記ＥＬ素子を駆動する駆動素子が形成され、前記光量補正層は、前記駆動素子の下地側に形成されているのが好ましい。
このようにすれば、このラインヘッドを、特に駆動素子を形成するプロセス上の基板側から、ＥＬ素子で発光した光を出射するいわゆるボトムエミッション型とした場合に有効となる。また、駆動素子の下地側に形成されているので、駆動素子の形成による凹凸の影響を受けることがなく、平坦な基板面上に光量補正層を形成することが可能となることから、この光量補正層を所望するパターンに精度良く形成することが可能になる。
【００１２】
また、前記ラインヘッドにおいては、前記光量補正層は、前記ＥＬ素子においてその機能層の一方の側に設けられた透明電極の外側に、形成されているのが好ましい。また、その場合に、前記透明電極の外側にこれを覆って透明封止基板が設けられ、前記光量補正層は、前記透明封止基板に形成されているのが好ましい。
このようにすれば、このラインヘッドを、例えば透明電極を覆う透明封止基板側、ＥＬ素子で発光した光を出射するいわゆるトップエミッション型とした場合に有効となる。
また、特に光量補正層が透明封止基板に形成されていれば、発光素子列を構成するＥＬ素子の製造工程とは別に、平坦な透明封止基板上に光量補正層を形成することが可能となることから、この光量補正層を所望するパターンに精度良く、しかも条件的に制限をうけることなく自由に形成することが可能になる。なお、ここでいう透明電極とは、陽極であっても良い。この場合は、素子基板側にまず駆動素子まで形成した後に、光量補正層を形成して、その上にＩＴＯなどの透明陽極を形成することが好ましい。
【００１３】
本発明のラインヘッドの製造方法は、発光をなす機能層を有し、該機能層から正立等倍結像させるレンズ素子を配列してなるレンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子を、基板上に複数配列して発光素子列を形成し、ラインヘッドを製造する方法であって、
該ラインヘッドにおける前記ＥＬ素子の光出射側に、前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成する工程を有し、
前記光量補正層を形成する工程では、前記レンズアレイの光量むらの周期に対応して開口パターンが形成されたフィジカルマスクを、光量補正層の形成面から所定距離離し、その状態で非透光性材料を気相成膜法によって成膜することにより、前記光量補正層の形成面に前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成することを特徴としている。
【００１４】
このラインヘッドの製造方法によれば、レンズアレイの光量むらの周期に対応して開口パターンが形成されたフィジカルマスクを、光量補正層の形成面から所定距離離し、その状態で非透光性材料を気相成膜法によって成膜することにより、前記光量補正層の形成面に前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成するようにしているので、得られたラインヘッドは、光量補正層を有することによって前述したように光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止するものとなる。また、特に光量補正層を一体に形成するので、発光素子列との間のアライメントをとっておくことにより、発光素子列に対する光量補正層の位置精度を良好にしておくことができる。
【００１５】
また、前記ラインヘッドの製造方法においては、非透光性材料が金属であるのが好ましい。
このようにすれば、比較的薄い膜厚で光量補正層を形成することが可能になる。
また、前記ラインヘッドの製造方法においては、非透光性材料が絶縁材料であるのが好ましい。
このようにすれば、例えばこの光量補正層を駆動素子の下地側に形成する場合に、光量補正層が絶縁材料からなることにより、この光量補正層上に直接駆動素子を形成することが可能になる。
【００１６】
本発明の画像形成装置は、露光手段として、前記のラインヘッドか、あるいは前記の製造方法によって得られたラインヘッドを備えたことを特徴としている。
この画像形成装置によれば、前述したようにラインヘッドが、レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成してなるので、レンズアレイの周期的な光量むらをうち消してこれを補正することが可能になり、したがって光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止することが可能になる。また、ラインヘッドが光量補正層を一体に形成してなるので、これらの間のアライメントが予めなされていることにより、レンズアレイの周期的な光量むらの補正を良好な精度で行うことが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
以下、本発明を詳しく説明する。
まず、本発明のラインヘッドについて説明する。図１は、本発明のラインヘッドの一実施形態を模式的に示す図であり、図１中符号１はラインヘッドである。このラインヘッド１は、後述する画像形成装置の露光手段として用いられるもので、図１に示すように長細い矩形の素子基板２上に、複数の有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）素子３を配列してなる発光素子列３Ａと、前記有機ＥＬ素子３を駆動させる駆動素子４からなる駆動素子群と、これら駆動素子４（駆動素子群）の駆動を制御する制御回路群５とを一体形成したものである。また、前記素子基板２上には、前記有機ＥＬ素子３を封止した状態で、接着剤によって封止基板（図示せず）が貼着されている。
【００１８】
駆動素子４には電源線７、８が接続されており、これら電源線７、８を介して電源（図示せず）から駆動素子４に電圧が印加されるようになっている。そして、これら駆動素子４（駆動素子群）、制御回路群５、電源線７、８により、駆動制御手段が構成されている。このような構成のもとに有機ＥＬ素子３は、駆動制御手段によってその発光動作が制御されるようになっている。
ここで、本実施形態のラインヘッド１は、有機ＥＬ素子３で発光した光を素子基板２側から出射する、いわゆるボトムエミッション型のもので、この素子基板２に、光量補正層を形成したものである。
【００１９】
ラインヘッド１における有機ＥＬ素子３や駆動素子４等の構成について、図２（ａ）、（ｂ）を参照して詳述する。
素子基板２としては、図２（ａ）に示すように、発光層６０で発光した光を画素電極２３側から出射するボトムエミッション型である場合、素子基板２側から発光光を取り出す構成であるので、透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラス、石英、樹脂（プラスチック、プラスチックフィルム）等が挙げられ、特にガラス基板が好適に用いられる。
【００２０】
なお、発光層６０で発光した光を陰極（対向電極）５０側から出射する、いわゆるトップエミッション型である場合には、この素子基板２の対向側である封止基板側から発光光を取り出す構成となるので、透明基板及び不透明基板のいずれも用いることができる。不透明基板としては、例えば、アルミナ等のセラミックス、ステンレススチール等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したものの他に、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などが挙げられる。
本実施形態では、前述したようにボトムエミッション型が採用され、したがって素子基板２には透明なガラスが用いられるものとする。
【００２１】
素子基板２上には、後述するＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらを補正する光量補正層９が一体に形成されている。この光量補正層９は、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｍｏ、Ｗ等の耐熱性が高い金属や、窒化珪素（ＳｉＮ）等の有色の絶縁材料などからなる非透光性材料によって形成されたもので、具体的には、図３（ａ）に示すようにフィジカルマスク３５を介して前記非透光性材料が素子基板２上に成膜されたことにより、形成されたものである。
【００２２】
フィジカルマスク３５は、後述するＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらの周期に対応した開口パターン３６、すなわち、所定の幅のスリット（開口）３６ａを所定間隔に配置した開口パターン３６を有するものである。ここで、所定間隔とは、対象となるＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらの周期にほぼ一致する間隔である。
そして、このフィジカルマスク３５を素子基板２の光量補正層の形成面から所定距離離して配置し、その状態で非透光性材料をスパッタ法や蒸着法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法等の気相成膜法によって成膜することにより、図３（ｂ）に示すような光量補正層９を形成する。このようにして得られた光量補正層９は、図１に示した有機ＥＬ素子３からなる発光素子列３Ａの配列方向に沿って、非透光性材料からなる膜が厚い部分９ａと薄い部分（ほとんど無い部分）９ｂとが周期的に、しかもその厚さが厚い部分９ａから薄い部分（無い部分）９ｂへ、また薄い部分（無い部分）９ｂから厚い部分９ａへと連続的に変化したものとなる。
【００２３】
したがって、このように非透光性材料からなる膜の厚い部分９ａと薄い部分９ｂとからなる光量補正層９により、素子基板２は、光量補正層９における膜が厚い部分９ａでは光をあまり透過せず、よって透過率が低くなり、薄い部分９ｂでは光を多く透過し、よって透過率が高くなる。なお、厚い部分９ａと薄い部分９ｂとの間隔、すなわち透過率むらの周期は、フィジカルマスク３５におけるスリット３６ａ、３６ａ間の間隔にほぼ一致し、この透過率むらがそのまま前記ＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらの周期に一致するようになる。ただし、その位相については、後述するように前記光量むらとは逆転したものとなる。また、この光量補正層９における各部の透過率の程度については、スリット３６ａの幅や非透光性材料の種類、さらには成膜時の条件などによって調整可能である。したがって、予め実験やシミュレーションによって適宜に条件を決定しておくことにより、光量補正層９を、ＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらをうち消してこれを良好に補正するように形成することができる。
【００２４】
例えば、ＳＬアレイの光量むらが平均値に対して±５％となっている場合には、光量補正層９を出射する光の強度（発光量）が平均値に対して±５％となるように、膜が厚い部分９ａや薄い部分９ｂを形成しておくことにより、ＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらをうち消してこれを良好に補正する光量補正層９を得ることができる。
【００２５】
このような光量補正層９を形成した素子基板２上には、該光量補正層９上に、画素電極２３に接続する駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）などを含む回路部１１が形成されており、その上に有機ＥＬ素子３が設けられている。有機ＥＬ素子３は、陽極として機能する画素電極２３と、この画素電極２３からの正孔を注入／輸送する正孔輸送層７０と、有機ＥＬ物質からなる発光層６０と、陰極５０とが順に形成されたことによって構成されている。なお、本実施形態では、正孔輸送層７０と発光層６０とにより、本発明の機能層が形成されている。
【００２６】
ここで、有機ＥＬ素子３および駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）を図１（ａ）に対応した模式図で示すと、図２（ｂ）に示すようになる。図２（ｂ）において、電源線７は駆動素子４のソース／ドレイン電極に接続し、電源線８は有機ＥＬ素子３の陰極５０に接続している。
そして、このような構成のもとに有機ＥＬ素子３は、図２（ａ）に示すように、正孔輸送層７０から注入された正孔と陰極５０からの電子とが発光層６０で結合することにより、発光をなすようになっている。
【００２７】
陽極として機能する画素電極２３は、ボトムエミッション型である本実施形態では、透明導電材料によって形成され、具体的にはＩＴＯが好適に用いられている。なお、本実施形態の光量補正層は、駆動素子の下地では無く、駆動素子上の層間絶縁膜とＩＴＯ陽極間に配置しても同様の効果を生むことができる。この場合、光量補正層を画素内部にのみ形成することにより、光量補正層として導電性部材を用いることができる。
正孔輸送層７０の形成材料としては、特に３，４−ポリエチレンジオシチオフェン／ポリスチレンスルフォン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）の分散液、すなわち、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に３，４−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させた分散液が好適に用いられる。
なお、正孔輸送層７０の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどが使用可能である。
【００２８】
発光層６０を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。なお、本実施形態では、例えば発光波長帯域が赤色に対応した発光層が採用されるが、もちろん、発光波長帯域が緑色や青色に対応した発光層を採用するようにしてもよい。この場合、用いる感光体は、その発光領域に感度を持つものを採用する。
【００２９】
発光層６０の形成材料として具体的には、（ポリ）フルオレン誘導体（ＰＦ）、（ポリ）パラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン（ＰＭＰＳ）などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。
【００３０】
陰極５０は、前記発光層６０を覆って形成されたもので、例えばＣａを厚さ２０ｎｍ程度に形成し、その上にＡｌを厚さ２００ｎｍ程度に形成して積層構造の電極とし、Ａｌを反射層としても機能させたものである。
また、この陰極５０上には接着層を介して封止基板（図示せず）が貼着されている。
【００３１】
また、このような有機ＥＬ素子３の下方には、前述したように回路部１１が設けられている。この回路部１１は前記光量補正層９上に形成されたものである。すなわち、光量補正層９の表面にはＳｉＯ２等の絶縁材料からなる下地保護層２８１が下地として形成され、その上にはシリコン層２４１が形成されている。このシリコン層２４１の表面には、ＳｉＯ２及び／又はＳｉＮを主体とするゲート絶縁層２８２が形成されている。
【００３２】
また、前記シリコン層２４１のうち、ゲート絶縁層２８２を挟んでゲート電極２４２と重なる領域がチャネル領域２４１ａとされている。なお、このゲート電極２４２は、図示しない走査線の一部である。一方、シリコン層２４１を覆い、ゲート電極２４２を形成したゲート絶縁層２８２の表面には、ＳｉＯ２を主体とする第１層間絶縁層２８３が形成されている。
【００３３】
また、シリコン層２４１のうち、チャネル領域２４１ａのソース側には、低濃度ソース領域２４１ｂおよび高濃度ソース領域２４１Ｓが設けられる一方、チャネル領域２４１ａのドレイン側には低濃度ドレイン領域２４１ｃおよび高濃度ドレイン領域２４１Ｄが設けられて、いわゆるＬＤＤ（Light Doped Drain ）構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域２４１Ｓは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４３ａを介して、ソース電極２４３に接続されている。このソース電極２４３は、電源線（図示せず）の一部として構成されている。一方、高濃度ドレイン領域２４１Ｄは、ゲート絶縁層２８２と第１層間絶縁層２８３とにわたって開孔するコンタクトホール２４４ａを介して、ソース電極２４３と同一層からなるドレイン電極２４４に接続されている。
【００３４】
ソース電極２４３およびドレイン電極２４４が形成された第１層間絶縁層２８３の上層には、例えばアクリル系の樹脂成分を主体とする平坦化膜２８４が形成されている。この平坦化膜２８４は、アクリル系やポリイミド系等の、耐熱性絶縁性樹脂などによって形成されたもので、駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）やソース電極２４３、ドレイン電極２４４などによる表面の凹凸をなくすために形成された公知のものである。
【００３５】
そして、ＩＴＯ等からなる画素電極２３が、この平坦化膜２８４の表面上に形成されるとともに、該平坦化膜２８４に設けられたコンタクトホール２３ａを介してドレイン電極２４４に接続されている。すなわち、画素電極２３は、ドレイン電極２４４を介して、シリコン層２４１の高濃度ドレイン領域２４１Ｄに接続されている。
【００３６】
画素電極２３が形成された平坦化膜２８４の表面には、画素電極２３と、前述した無機隔壁２５とが形成されており、さらに無機隔壁２５上には、有機隔壁２２１が形成されている。そして、画素電極２３上には、無機隔壁２５に形成された前記開口２５ａと、有機隔壁２２１に形成された開口２２１ａとの内部、すなわち画素領域に、前記の正孔輸送層７０と発光層６０とが画素電極２３側からこの順で積層され、これによって機能層が形成されている。
【００３７】
このような構成のラインヘッド１を製造するには、まず、図３（ａ）に示したように素子基板２の内面側に、光量補正層９から所定距離離した状態でフィジカルマスク３５を配置し、その状態で非透光性材料、例えば前記の金属や絶縁材料をスパッタ法等の気相成膜法によって成膜する。すると、素子基板２側に飛散した非透光性材料は、特にスリット３６ａの位置に飛散したものはこれを通過して素子基板２上に堆積し、一方、スリット３６ａ、３６ａ間の位置に飛散したものはフィジカルマスク３５に遮断され、そのままこのフィジカルマスク３５上に堆積する。ここで、特にフィジカルマスク３５を光量補正層９から所定距離離しているので、スリット３６ａを通過した材料は素子基板２に堆積するまでの間で拡散し、そのまま素子基板２上に堆積する。
【００３８】
したがって、素子基板２上に堆積する非透光性材料は、特にスリット３６ａの配列方向に拡散することで、この配列方向においてスリット３６ａの中心部分では非透光性材料の濃度が高く、スリット３６ａの中心部分から離れるに連れて非透光性材料の濃度が低くなる。このようにして非透光性材料が堆積し、成膜されることにより、光量補正層９は図３（ｂ）に示したように、非透光性材料からなる膜が厚い部分９ａと薄い部分（ほとんど無い部分）９ｂとが周期的に、しかもその厚さが厚い部分から薄い部分（無い部分）へ、またはその逆へと連続的に変化したものとなる。よって、この光量補正層９は、後述するＳＬアレイ（レンズアレイ）の光量むらをうち消し、これを補正するものとなる。
【００３９】
このようにして光量補正層９を形成したら、この光量補正層９上に下地保護層２８１を形成し、さらにこの下地保護層２８１上にポリシリコン層等を形成して、このポリシリコン層等から回路部１１を形成する。
そして、この回路部１１上に、画素電極２３、機能層としての正孔輸送層７０及び発光層６０、陰極５０をこの順に形成し、さらに封止基板（図示せず）を用いて封止を行うことにより、ボトムエミッション型のラインヘッド１を得る。
【００４０】
次に、このようにして得られたラインヘッド１の使用形態について説明する。
図４は、後述する画像形成装置における、ラインヘッド１の使用形態を示す図である。図４に示すようにラインヘッド１は、本発明におけるレンズアレイとしてのＳＬアレイ３１を介して、本発明における被露光部となる感光体ドラム３２に光を照射し結像して、露光するようにしたものである。ここで、ラインヘッド１とＳＬアレイ３１とについては、これらをヘッドケース（図示せず）に組み付けて一体にしておく。その際、これらの間をアライメントしておき、後述するようにラインヘッド１によってＳＬアレイ３１の周期的な光量むらをうち消してこれを補正するようにしておく。
【００４１】
ＳＬアレイ３１は、図５（ａ）に示すような円柱状のレンズ素子（ＳＬ素子）３１ａを、図５（ｂ）に示すように多数配列したもので、前述したように周期的な光量むらを生じるようになっている。すなわち、１本１本のＳＬ素子（結像素子）３１ａは、図５（ａ）に示したようにフットボールを半分にしたような光量分布を有していることから、これを多数配列したＳＬアレイ３１は、図５（ｂ）に示したように、ＳＬ素子（結像素子）３１ａの配列ピッチに伴う周期的な光量むらを生じているのである。ここで、ＳＬアレイ３１の光量むらΔＥは、以下の式で表される。
ΔＥ＝｛（ｉｍａｘ−ｉｍｉｎ）／ｉｍｉｎ｝×１００（％）
（ｉｍａｘ、ｉｍｉｎは図５（ｂ）参照）
【００４２】
この光量むらΔＥは、隣り合うＳＬ３１ａ、３１ａ間での像の重なり度、およびＳＬアレイ３１が何列構成になっているかで異なるが、図５（ａ）中に示した数式により、その構成から光量むらのピッチを表わすことができる。また、図的には、ＳＬアレイ３１の列方向の位置に対してその透過光量は、図６（ａ）に示すような分布（むら）を有することになる。
なお、例えばＳＬアレイ３１として、日本板硝子製のＳＬアレイ２０を用いるとすれば、このＳＬアレイ３１のレンズ周期、すなわち光量むらの周期は０．５６ｍｍとなる。また、ＳＬアレイ３１が、千鳥状に２列構成として配置されている場合には、レンズ周期（光量むらの周期）は半分、すなわち０．２８ｍｍとなる。
【００４３】
したがって、このようなＳＬアレイ３１に光を照射するラインヘッド１としては、前記のレンズ周期（光量むらの周期）をうち消してこれを補正するように、前記光量補正層９における膜の厚い部分９ａ（あるいは膜の薄い部分９ｂ）の周期を、前記光量むらの周期に一致させ、かつ、その位相については前記光量むらと逆転したものとする。すなわち、図６（ｂ）に示すように、ＳＬアレイ３１が透過する（導く）光量が少ない部位に対応するヘッド位置、つまり光量補正層９の位置については、非透過性材料からなる膜厚が薄く、よって透過光量（透過率）が高くなるようにし、逆にＳＬアレイ３１が透過する（導く）光量が多い部位に対応するヘッド位置（光量補正層９の位置）については、非透過性材料からなる膜厚が厚く、よって透過光量（透過率）が低くなるようにする。これにより、ラインヘッド１からＳＬアレイ３１に向けて照射される光の強度（発光量）は、図６（ｃ）に示すように図６（ｂ）と同じ曲線となる。
【００４４】
そして、このようにラインヘッド１から照射される光の強度（発光量）が、ＳＬアレイ３１が透過する（導く）光量のむら（光量むら）をうち消すように周期的に変化させられているので、このラインヘッド１から照射され、さらに前記ＳＬアレイ３１を透過した光は、図６（ｄ）に示すように全ての結像位置において均一な光量（結像光量）となる。したがって、前記感光体ドラム３２上にてむらなく良好に結像するようになる。
【００４５】
なお、ＳＬアレイ３１として前記の日本板硝子製のＳＬアレイ２０を用い、ラインヘッド１についてはこのＳＬアレイ３１のレンズ周期（光量むらの周期）である０．５６ｍｍを補正するようにその補正周期を０．５６ｍｍとし、さらに出射する光の強度（発光量）が平均値に対し±５％となるように調整した光量補正層９を用いて、感光体ドラム３２上に露光を行い、印刷を行ったところ、その濃度ばらつきは±１％以下であった。また、比較のため、光量補正層９を形成しないラインヘッドを用いて同様に印刷を行ったところ、濃度ばらつきが±５％程度であった。したがって、本実施形態のラインヘッド１は、ＳＬアレイ３１の光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを良好に防止し、得られるプリントの品質を向上できることが分かった。
【００４６】
このように、本実施形態のラインヘッド１にあっては、ＳＬアレイ３１の光量むらを補正する光量補正層９を形成してなるので、ＳＬアレイ３１の周期的な光量むらをうち消してこれを補正することができ、これにより光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止し、得られるプリントの品質向上を図ることができる。
また、特に光量補正層９を素子基板２に直接作り込むことで、これを発光素子列３Ａ（有機ＥＬ素子３）と一体にしているので、光量補正層９を形成する際に発光素子列３Ａとの間のアライメントをとっておくことにより、発光素子列３Ａに対する光量補正層９の位置精度を良好にしておくことができる。したがって、ＳＬアレイ３１の周期的な光量むらの補正を、単にこのＳＬアレイ３１とラインヘッド１との間をアライメントしておくことだけで、良好な精度で行うことができる。
【００４７】
なお、前記実施形態では、光量補正層９上に下地保護層２８１を形成し、これの上に駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）を形成するようにしたが、特に光量補正層９を絶縁材料で形成した場合には、この光量補正層９自体が絶縁層となるので、下地保護層２８１の形成を省略して、光量補正層９上に駆動用ＴＦＴ１２３（駆動素子４）を直接形成するようにしてもよい。
【００４８】
図７は本発明のラインヘッドの他の実施形態を模式的に示す図であり、図７中符号２０はラインヘッドである。このラインヘッド２０が前記ラインヘッド１と異なるところは、発光した光の出射方式、すなわち、前記ラインヘッド１ではボトムエミッション型であったのに対し、このラインヘッド２０ではトップエミッション型を採用している点と、この出射方式（トップエミッション型）を採用したことに伴い、光量補正層９の形成位置を変えた点である。
【００４９】
図７に示したようにこのラインヘッド２０では、透明導電材料、例えばＩＴＯによって陰極５０を形成し、この陰極５０上に封止樹脂層４０を形成し、さらに必要に応じてパッシベーション膜（図示せず）を形成する。次いで、この封止樹脂層４０あるいはパッシベーション膜上に、図３（ａ）に示した方法で前記光量補正層９を形成する。このとき、封止樹脂層４０やその下地である陰極５０にダメージが与えられないよう、光量補正層９形成のための成膜法としては、特に低ダメージのイオンプレーティング法を用いるのが好ましい。その後、この光量補正層９を覆ってガラス等からなる透明の封止基板３０を貼設する。
【００５０】
このようにして得られたラインヘッド２０にあっても、使用に際しては、封止基板３０側をＳＬアレイ３１に向けてアライメントし、その状態でヘッドケース（図示せず）に組み付けてＳＬアレイ３１と一体にしておく。なお、ＳＬアレイ３１に対するラインヘッド２０のアライメントについては、前記ラインヘッド１の場合と同様に、ＳＬアレイ３１の周期的な光量むらを光量補正層９によってうち消し、これを補正できる位置に合わせすることで行う。
そして、図４に示したようにラインヘッド２０から光を照射し、ＳＬアレイ３１を介して感光体ドラム３２上に光を結像させ、露光する。
【００５１】
このように、本実施形態のラインヘッド２０にあっても、光量補正層９によってＳＬアレイ３１の周期的な光量むらをうち消し、これを補正することができ、したがって光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止し、得られるプリントの品質向上を図ることができる。
また、特に光量補正層９を素子基板２に直接作り込むことで、これを発光素子列３Ａ（有機ＥＬ素子３）と一体にしているので、前記ラインヘッド１と同様に、ＳＬアレイ３１の周期的な光量むらの補正を、単にこのＳＬアレイ３１とラインヘッド２０との間をアライメントしておくことだけで、良好な精度で行うことができる。
【００５２】
なお、前記の実施形態では、封止樹脂層４０あるいはパッシベーション膜上に光量補正層９を形成し、トップエミッション型の出射方式を実現しているが、特にトップエミッション型とする場合には、この構造に限定されることなく、例えば透明な封止基板３０の内面側に、光量補正層９を形成するようにしてもよい。
このようにすれば、発光素子列３Ａを構成するＥＬ素子３の製造工程とは別に、平坦な透明封止基板３０上に光量補正層９を形成するので、この光量補正層９を所望するパターンに精度良く、しかもＥＬ素子３等の存在による条件的な制限をうけることなく、自由に形成することができる。
【００５３】
なお、前記実施形態のラインヘッド１、２０では、発光素子列３Ａを１列の有機ＥＬ素子３で形成したが、本発明はこれに限定されることなく、例えば有機ＥＬ素子３を２列にしてこれらを千鳥状に配し、発光素子列３Ａを形成するようにしてもよい。
また、前記実施形態では、本発明のラインヘッド１に形成されるＥＬ素子として、有機ＥＬ素子を用いた例を示したが、これに代えて無機ＥＬ素子を用いてもよいのはもちろんである。
さらに、実施形態の中では、ＥＬ素子を駆動する素子として、素子基板２上にＴＦＴなどの駆動素子４を作り込んだ例を挙げたが、駆動素子４を素子基板２上に作り込まず、駆動素子４を外付けにする、具体的にはＥＬ素子基板の端子領域にドライバＩＣをＣＯＧ実装する、またはドライバＩＣを実装したフレキシブル回路基板をＥＬ素子基板に実装するようにしても良い。
【００５４】
次に、本発明のラインヘッド１が設けられる画像形成装置について説明する。図８は、本発明の画像形成装置の第１の実施形態を示す図であり、図８中符号８０は画像形成装置である。この画像形成装置８０は、本発明のラインヘッドの一例となる有機ＥＬアレイラインヘッド１０１Ｋ、１０１Ｃ、１０１Ｍ、１０１Ｙを、対応する同様な構成である４個の感光体ドラム（像担持体）４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙの露光装置にそれぞれ配置したもので、タンデム方式のものとして構成されたものである。
【００５５】
この画像形成装置８０は、駆動ローラ９１と従動ローラ９２とテンションローラ９３とを備え、これら各ローラに中間転写ベルト９０を、図８中矢印方向（反時計方向）に循環駆動するよう張架したものである。この中間転写ベルト９０に対して、感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙが所定間隔で配置されている。これら感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、その外周面が像担持体としての感光層となっている。
【００５６】
ここで、前記符号中のＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙは、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエローを意味し、それぞれ黒、シアン、マゼンタ、イエロー用の感光体であることを示している。なお、これら符号（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の意味は、他の部材についても同様である。感光体ドラム４１Ｋ、４１Ｃ、４１Ｍ、４１Ｙは、中間転写ベルト９０の駆動と同期して、図８中矢印方向（時計方向）に回転駆動するようになっている。
【００５７】
各感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の周囲には、それぞれ感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の外周面を一様に帯電させる帯電手段（コロナ帯電器）４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この帯電手段４２（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）によって一様に帯電させられた外周面を感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の回転に同期して順次ライン走査する本発明の有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
ここで、有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）との間にはＳＬアレイ（図示せず）が配設されている。有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、前述したようにこのＳＬアレイの光量むらをうち消してこれを補正するよう、光量補正層９を一体に形成したものである。
【００５８】
また、この有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で形成された静電潜像に現像剤であるトナーを付与して可視像（トナー像）とする現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、この現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）で現像されたトナー像を一次転写対象である中間転写ベルト９０に順次転写する転写手段としての一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）と、転写された後に感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニング装置４６（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）とが設けられている。
【００５９】
ここで、各有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、それぞれのアレイ方向が感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の母線に沿うように設置されている。そして、各有機ＥＬアレイラインヘッド１０１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の発光エネルギーピーク波長と、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の感度ピーク波長とが略一致するように設定されている。
【００６０】
現像装置４４（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）は、例えば、現像剤として非磁性一成分トナーを用いるもので、その一成分現像剤を例えば供給ローラで現像ローラへ搬送し、現像ローラ表面に付着した現像剤の膜厚を規制ブレードで規制し、その現像ローラを感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に接触させあるいは押圧せしめることにより、感光体ドラム４１（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）の電位レベルに応じて現像剤を付着させ、トナー像として現像するものである。
【００６１】
このような４色の単色トナー像形成ステーションにより形成された黒、シアン、マゼンタ、イエローの各トナー像は、一次転写ローラ４５（Ｋ、Ｃ、Ｍ、Ｙ）に印加される一次転写バイアスによって中間転写ベルト９０上に順次一次転写される。そして、中間転写ベルト９０上で順次重ね合わされてフルカラーとなったトナー像は、二次転写ローラ６６において用紙等の記録媒体Ｐに二次転写され、さらに定着部である定着ローラ対６１を通ることで記録媒体Ｐ上に定着され、その後、排紙ローラ対６２によって装置上部に形成された排紙トレイ６８上に排出される。
【００６２】
なお、図８中の符号６３は多数枚の記録媒体Ｐが積層保持されている給紙カセット、６４は給紙カセット６３から記録媒体Ｐを一枚ずつ給送するピックアップローラ、６５は二次転写ローラ６６の二次転写部への記録媒体Ｐの供給タイミングを規定するゲートローラ対、６６は中間転写ベルト９０との間で二次転写部を形成する二次転写手段としての二次転写ローラ、６７は二次転写後に中間転写ベルト９０の表面に残留しているトナーを除去するクリーニング手段としてのクリーニングブレードである。
【００６３】
次に、本発明に係る画像形成装置の第２の実施の形態について説明する。図９は４サイクル方式の画像形成装置の縦断側面図である。図９において、画像形成装置１６０には主要構成部材として、ロータリ構成の現像装置１６１、像担持体として機能する感光体ドラム１６５、前記ＳＬアレイ及びラインヘッド（有機ＥＬアレイラインヘッド）が設けられてなる像書込手段（露光手段）１６７、中間転写ベルト１６９、用紙搬送路１７４、定着器の加熱ローラ１７２、給紙トレイ１７８が設けられている。
【００６４】
現像装置１６１は、現像ロータリ１６１ａが軸１６１ｂを中心として矢印Ａ方向に回転するよう構成されたものである。現像ロータリ１６１ａの内部は４分割されており、それぞれイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｋ）の４色の像形成ユニットが設けられている。１６２ａ〜１６２ｄは、前記４色の各像形成ユニットに配置されており、矢印Ｂ方向に回転する現像ローラ、１６３ａ〜１６３ｄは、矢印Ｃ方向に回転するトナ−供給ローラである。また、１６４ａ〜１６４ｄはトナーを所定の厚さに規制する規制ブレードである。
【００６５】
図９中符号１６５は、前記のように像担持体として機能する感光体ドラム、１６６は一次転写部材、１６８は帯電器である。また、１６７は本発明における露光手段となる像書込手段であり、本発明のラインヘッドとＳＬアレイとを備えてなるものである。感光体ドラム１６５は、図示を省略した駆動モータ、例えばステップモータにより、現像ローラ１６２ａとは逆の方向となる矢印Ｄ方向に回転駆動されるようになっている。なお、像書込手段１６７を構成するラインヘッドは、これとレンズ素子（図示せず）や感光ドラム１６５との間で位置合わせ（光軸合わせ）がなされた状態に配設されている。
【００６６】
中間転写ベルト１６９は、駆動ローラ１７０ａと従動ローラ１７０ｂとの間に張架されたものである。駆動ローラ１７０ａは、前記感光体ドラム１６５の駆動モータに連結されたもので、中間転写ベルト１６９に動力を伝達するようになっている。すなわち、該駆動モータの駆動により、中間転写ベルト１６９の駆動ローラ１７０ａは感光体ドラム１６５とは逆の方向となる矢印Ｅ方向に回動するようになっている。
【００６７】
用紙搬送路１７４には、複数の搬送ローラと排紙ローラ対１７６などが設けられており、用紙が搬送されるようになっている。中間転写ベルト１６９に担持されている片面の画像（トナー像）が、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に転写されるようになっている。二次転写ローラ１７１は、クラッチによって中間転写ベルト１６９に離当接されるようになっており、クラッチオンで中間転写ベルト１６９に当接され、用紙に画像が転写されるようになっている。
【００６８】
前記のようにして画像が転写された用紙は、次に、定着ヒータＨを有する定着器で定着処理がなされる。定着器には、加熱ローラ１７２、加圧ローラ１７３が設けられている。定着処理後の用紙は、排紙ローラ対１７６に引き込まれて矢印Ｆ方向に進行する。この状態から排紙ローラ対１７６が逆方向に回転すると、用紙は方向を反転して両面プリント用搬送路１７５を矢印Ｇ方向に進行する。１７７は電装品ボックス、１７８は用紙を収納する給紙トレイ、１７９は給紙トレイ１７８の出口に設けられているピックアップローラである。
【００６９】
用紙搬送路において、搬送ローラを駆動する駆動モータとしては、例えば低速のブラシレスモータが用いられている。また、中間転写ベルト１６９については、色ずれ補正などが必要となるためステップモータが用いられている。これらの各モータは、図示を省略した制御手段からの信号によって制御されるようになっている。
【００７０】
図９に示した状態で、イエロー（Ｙ）の静電潜像が感光体ドラム１６５に形成され、現像ローラ１６２ａに高電圧が印加されることにより、感光体ドラム１６５にはイエローの画像が形成される。イエローの裏側および表側の画像がすべて中間転写ベルト１６９に担持されると、現像ロータリ１６１ａが矢印Ａ方向に９０度回転する。
【００７１】
中間転写ベルト１６９は１回転して感光体ドラム１６５の位置に戻る。次に、シアン（Ｃ）の２面の画像が感光体ドラム１６５に形成され、この画像が中間転写ベルト１６９に担持されているイエローの画像に重ねて担持される。以下、同様にして現像ロータリ１６１の９０度回転、中間転写ベルト１６９への画像担持後の１回転処理が繰り返される。
【００７２】
４色のカラー画像担持には中間転写ベルト１６９は４回転して、その後さらに回転位置が制御されて二次転写ローラ１７１の位置で用紙に画像を転写する。給紙トレー１７８から給紙された用紙を搬送路１７４で搬送し、二次転写ローラ１７１の位置で用紙の片面に前記カラー画像を転写する。片面に画像が転写された用紙は前記のように排紙ローラ対１７６で反転されて、搬送径路で待機している。その後、用紙は適宜のタイミングで二次転写ローラ１７１の位置に搬送されて、他面に前記カラー画像が転写される。ハウジング１８０には、排気ファン１８１が設けられている。
【００７３】
このような図８、図９に示した画像形成装置８０、１６０においては、図１に示したような本発明のラインヘッド（有機ＥＬアレイラインヘッド）が露光手段として備えられている。
したがって、これら画像形成装置８０、１６０にあっては、前述したようにＳＬアレイの光量むらに起因する露光むら、さらに印刷むらを防止し、得られるプリントの品質を向上することができる。
なお、本発明のラインヘッドを備えた画像形成装置は前記実施形態に限定されることなく、種々の変形が可能である。
【図面の簡単な説明】
【００７４】
【図１】本発明のラインヘッドの一実施形態を示す模式図。
【図２】（ａ）はラインヘッドの要部側断面図、（ｂ）は模式図。
【図３】（ａ）は光量補正層の形成方法説明図、（ｂ）は光量補正層の要部平面図。
【図４】ラインヘッドの使用形態を説明するための模式図。
【図５】（ａ）、（ｂ）はＳＬアレイとその光量むらの説明図。
【図６】（ａ）〜（ｄ）は本発明のラインヘッドの作用を説明するためのグラフ。
【図７】本発明のラインヘッドの他の実施形態を示す要部側断面図。
【図８】本発明の画像形成装置の第１の実施形態を示す概略構成図である。
【図９】本発明の画像形成装置の第２の実施形態を示す概略構成図である。
【符号の説明】
【００７５】
１、２０…ラインヘッド、２…素子基板（基板）、３…有機ＥＬ素子（ＥＬ素子）、
３Ａ…発光素子列、４…駆動素子（１２３…駆動用ＴＦＴ）、９…光量補正層、
３０…封止基板、３１…ＳＬアレイ（レンズアレイ）、３１ａ…レンズ素子（ＳＬ）、
３２…感光体ドラム（被露光部）、６０…発光層、７０…正孔輸送層、
８０、１６０…画像形成装置
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レンズ素子を配列してなるレンズアレイを介して被露光部に光を照射し、露光するようにしたラインヘッドであって、
発光をなす機能層を有し、該機能層から前記レンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子を、基板上に複数配列して発光素子列を形成してなり、
該ラインヘッドにおける前記ＥＬ素子の光出射側に、前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を一体に形成したことを特徴とするラインヘッド。
【請求項２】
前記基板上に前記ＥＬ素子を駆動する駆動素子が形成され、
前記光量補正層は、前記駆動素子の下地側に形成されていることを特徴とする請求項１記載のラインヘッド。
【請求項３】
前記光量補正層は、前記ＥＬ素子においてその機能層の一方の側に設けられた透明電極の外側に、形成されていることを特徴とする請求項１記載のラインヘッド。
【請求項４】
前記透明電極の外側にこれを覆って透明封止基板が設けられ、前記光量補正層は、前記透明封止基板に形成されていることを特徴とする請求項３記載のラインヘッド。
【請求項５】
発光をなす機能層を有し、該機能層からレンズ素子を配列してなるレンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子を、基板上に複数配列して発光素子列を形成し、ラインヘッドを製造する方法であって、
該ラインヘッドにおける前記ＥＬ素子の光出射側に、前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成する工程を有し、
前記光量補正層を形成する工程では、前記レンズアレイの光量むらの周期に対応して開口パターンが形成されたフィジカルマスクを、光量補正層の形成面から所定距離離し、その状態で非透光性材料を気相成膜法によって成膜することにより、前記光量補正層の形成面に前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成することを特徴とするラインヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記非透光性材料が金属であることを特徴とする請求項５記載のラインヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記非透光性材料が絶縁材料であることを特徴とする請求項５記載のラインヘッドの製造方法。
【請求項８】
露光手段として、請求項１〜４のいずれか一項に記載のラインヘッドか、あるいは請求項５〜７のいずれか一項に記載の製造方法によって得られたラインヘッドを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【請求項１】
レンズ素子を配列してなるレンズアレイを介して被露光部に光を照射し、露光するようにしたラインヘッドであって、
発光をなす機能層を有し、該機能層から前記レンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子を、基板上に複数配列して発光素子列を形成してなり、
該ラインヘッドにおける前記ＥＬ素子の光出射側に、前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を一体に形成したことを特徴とするラインヘッド。
【請求項２】
前記基板上に前記ＥＬ素子を駆動する駆動素子が形成され、
前記光量補正層は、前記駆動素子の下地側に形成されていることを特徴とする請求項１記載のラインヘッド。
【請求項３】
前記光量補正層は、前記ＥＬ素子においてその機能層の一方の側に設けられた透明電極の外側に、形成されていることを特徴とする請求項１記載のラインヘッド。
【請求項４】
前記透明電極の外側にこれを覆って透明封止基板が設けられ、前記光量補正層は、前記透明封止基板に形成されていることを特徴とする請求項３記載のラインヘッド。
【請求項５】
発光をなす機能層を有し、該機能層からレンズ素子を配列してなるレンズアレイに向けて光を出射するようにしたＥＬ素子を、基板上に複数配列して発光素子列を形成し、ラインヘッドを製造する方法であって、
該ラインヘッドにおける前記ＥＬ素子の光出射側に、前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成する工程を有し、
前記光量補正層を形成する工程では、前記レンズアレイの光量むらの周期に対応して開口パターンが形成されたフィジカルマスクを、光量補正層の形成面から所定距離離し、その状態で非透光性材料を気相成膜法によって成膜することにより、前記光量補正層の形成面に前記レンズアレイの光量むらを補正する光量補正層を形成することを特徴とするラインヘッドの製造方法。
【請求項６】
前記非透光性材料が金属であることを特徴とする請求項５記載のラインヘッドの製造方法。
【請求項７】
前記非透光性材料が絶縁材料であることを特徴とする請求項５記載のラインヘッドの製造方法。
【請求項８】
露光手段として、請求項１〜４のいずれか一項に記載のラインヘッドか、あるいは請求項５〜７のいずれか一項に記載の製造方法によって得られたラインヘッドを備えたことを特徴とする画像形成装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００６−５１６２２（Ｐ２００６−５１６２２Ａ）
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００４−２３３０６８（Ｐ２００４−２３３０６８）
【出願日】平成１６年８月１０日（２００４．８．１０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１８年２月２３日（２００６．２．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成１６年８月１０日（２００４．８．１０）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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