ラミネーターロール
【課題】 ラミネート法において、基板上にシリコンゴムの残渣が付着しないようなラミネーターロールを提供する。
【解決手段】 第１及び第２のラミネーターロール３０，４０は、それぞれ、所定の熱源を備えた第１及び第２の回転軸３１，４１と、所定の弾性を有した第１及び第２のシリコンゴム３２，４２を備えている。さらに、第１及び第２のシリコンゴム３２，４２のそれぞれの表面には、その長手方向の全体にわたって、第１及び第２のフッ素樹脂膜７０，８０がコーティングされている。第１及び第２のフッ素樹脂膜７０，８０は、好ましくは、テトラフルオロエチレンの重合体であるポリテトラフルオロエチレンからなり、約３μｍの膜厚保を以って形成されている。
【解決手段】 第１及び第２のラミネーターロール３０，４０は、それぞれ、所定の熱源を備えた第１及び第２の回転軸３１，４１と、所定の弾性を有した第１及び第２のシリコンゴム３２，４２を備えている。さらに、第１及び第２のシリコンゴム３２，４２のそれぞれの表面には、その長手方向の全体にわたって、第１及び第２のフッ素樹脂膜７０，８０がコーティングされている。第１及び第２のフッ素樹脂膜７０，８０は、好ましくは、テトラフルオロエチレンの重合体であるポリテトラフルオロエチレンからなり、約３μｍの膜厚保を以って形成されている。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の光学的コーティングを行う装置に関し、特に、ラミネート法において用いられるラミネーターロールに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話やデジタルカメラのＥＶＦ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ Ｖｉｅｗ Ｆｉｎｄｅｒ）等に用いられる表示装置として、カラー表示に対応した液晶表示装置の需要が益々高まっている。このカラー表示は、液晶表示装置の各表示画素に所定のカラーフィルタが形成されることにより実現される。従来より、カラーフィルタを形成する方法の１つとして、ラミネート法が多用されている。次に、ラミネート法について図面を参照して説明する。
【０００３】
図２は、従来例に係るラミネート法を説明する図であり、基板１０を表面側からみた上面図である。また、図３は図１のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。図４は図１のＹ−Ｙ線に沿った断面図である。図５は、ラミネート法を経た後、図２の基板１０上に、さらに平坦化膜が積層された場合の基板１０の断面図である。
【０００４】
図２及び図３に示すように、例えばガラスからなり、液晶表示装置となるパネル領域が複数配置された基板１０の表面上に、ラミネート用フィルム２０が部分的に引き出されて載置されている。ラミネート用フィルム２０を構成する樹脂フィルム２１には、基板１０と対向する側の面に、カラーフィルタとなる有機材料２２が塗布されている。
【０００５】
ここで、ラミネート用フィルム２０は、基板１０の進行方向と直交する線に沿った幅のうち、基板１０の両端部の幅Ｂを除く幅Ａを有している。基板１０の表面における両端部の幅Ｂの領域では、カラーフィルタとなる有機材料２２の層をパターニングする際のアライメントマーク（例えば銅やアルミニウム等の金属からなる）が形成されている。そのため、この幅Ｂの領域は、上記アライメントマークを露出させるためにカラーフィルタが形成されない領域、即ち有機材料２２が転写されない領域となる。
【０００６】
そして、基板１０と、基板１０上に載置されたラミネート用フィルム２０を挟むようにして、基板１０の表面及び裏面に、それぞれ、第１及び第２のラミネーターロール１３０，１４０が当接される。第１及び第２のラミネーターロール１３０，１４０は、それぞれ、コイル等の熱源を有した第１及び第２の回転軸３１，４１と、第１及び第２の回転軸３１,４１に沿って形成され所定の弾性を有した第１及び第２のシリコンゴム３２,４２を備えている。
【０００７】
第１及び第２のラミネーターロール１３０，１４０が回転すると共に、上記熱源による所定の表面温度（約９０℃〜１４０）を以って基板１０に対して圧着されると、基板１０が所定の進行方向に移動しながら、ラミネート用フィルム２０の有機材料２２が基板１０の表面上に転写される。樹脂フィルム２１は、全ての有機材料２２の転写後に剥離されるか、もしくは有機材料２２の転写と併行して剥離される。その後、例えばフォトリソグラフィによる露光及び現像により、基板１０の表面に転写された有機材料２２がパターニングされ、カラーフィルタが形成される。このラミネート法によるカラーフィルタの形成は、必要な色の数だけ繰り返される。
【０００８】
なお、本願に関連する技術文献としては、以下の特許文献が挙げられる。
【特許文献１】特開２００２−００１８２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記ラミネート法では、図４に示すように、第１のラミネーターロール１３０をラミネート用フィルム２０に圧着する際に、基板１０の表面における両端部の幅Ｂを有する領域には、ラミネーターロール１３０の第１のシリコンゴム３２が基板１０の表面に直接圧着される。そのため、上記幅Ｂの領域では、第１のシリコンゴム３２が残渣５０となって基板１０の表面上に付着していた。
【００１０】
この残渣５０は、実際には目視されにくいが、図５に示すように、後に基板１０の表面上に平坦化膜６０の材料やレジスト材料等を塗布する際に、それらの材料を基板１０の表面上に付着させないマスクとして機能してしまう。そのため、基板１０に積層される平坦化膜６０等が所定の領域に形成されなくなり、また、それらの層の平坦性が低下するなどの成膜不良が生じるという問題があった。
【００１１】
上記問題への対処としては、第１のシリコンゴム３２の残渣５０をブラッシング等により除去する方法が考えられるが、この方法では、ブラッシングにより基板１０の表面に損傷が生じるという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
そこで本発明は、上述のようなラミネート法において、基板上にシリコンゴムの残渣が付着しないようなラミネーターロールを提供する。
【００１３】
本発明のラミネーターロールは、樹脂フィルムに塗布された被転写材料を基板の表面に転写するように所定の表面温度を以って樹脂フィルムを基板に圧着する第１のラミネーターロールと、基板を挟むように第１のラミネーターロールと対向して配置され、基板の裏面に当接される第２のラミネーターロールとからなる１対のラミネーターロールであって、以下の特徴を有する。
【００１４】
即ち、第１のラミネーターロールは、所定の熱源を有した第１の回転軸と、第１の回転軸に沿って形成された第１のシリコンゴムと、第１のシリコンゴムの表面に形成された第１のフッ素樹脂膜と、を備える。ここで、第１のフッ素樹脂膜は、例えばポリテトラフルオロエチレンである。また、第１のフッ素樹脂膜は、第１のシリコンゴムの表面の全面に形成されていることが好ましい。
【００１５】
さらに上記構成において、第２のラミネーターロールは、所定の熱源を有した第２の回転軸と、第２の回転軸に沿って形成された第２のシリコンゴムと、第２のシリコンゴムの表面に形成された第２のフッ素樹脂膜と、を備えてもよい。ここで、第２のフッ素樹脂膜は、例えばポリテトラフルオロエチレンである。また、第２のフッ素樹脂膜は、第２のシリコンゴムの表面の全面に形成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、第１のラミネーターロールが基板の表面上に圧着された際に、その第１のラミネーターロールを構成する第１のシリコンゴムからなる残渣が基板上に付着しない。また、第１のラミネーターロールを基板へ圧着する際に、その圧力が基板の表面の全面に極力均等に加わるため、被転写材料が良好な状態で転写される。結果として、さらに基板の表面上に積層される層の平坦性が増すなど、その層の成膜状態が従来例に比して良好となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
次に、本発明の実施形態に係るラミネーターロールについて図面を参照して説明する。図１は、本実施形態に係るラミネーターロールを示す斜視図である。なお、図１では、図２乃至図５に示したものと同一の構成要素については同一の符号を付して説明を行うものとする。また、図１では、１対のラミネーターロール、即ち第１及び第２のラミネーターロール３０，４０を同一の図面を用いて示している。なお、これらの第１及び第２のラミネーターロール３０，４０は、図２乃至図５に示した第１及び第２のラミネーターロール１３０，１４０と同様の配置関係（基板１０に対する）を有するものとする。
【００１８】
図１に示すように、第１のラミネーターロール３０は、例えばコイル等の熱源を有した第１の回転軸３１を備えている。第１の回転軸３１の周りには、その長手方向に沿って、所定の弾性を有した第１のシリコンゴム３２が例えば数センチメートルの厚さを以って形成されている。第１のシリコンゴム３２の表面は、第１の回転軸３１の表面と平行になるようにして、平坦に形成されている。
【００１９】
そして、第１のシリコンゴム３２の表面の全面には、基板１０の表面に比して摩擦係数が小さく、かつ所定の耐熱性を有した第１のフッ素樹脂膜７０がコーティングされている。第１のフッ素樹脂膜７０は、特に限定されないが、テトラフルオロエチレンの重合体であるポリテトラフルオロエチレン（例えばデュポン社のフッ素樹脂「テフロン（デュポン社の登録商標）」）からなることが好ましい。
【００２０】
この第１のフッ素樹脂膜７０の弾性は、第１のシリコンゴム３２の弾性に比して低い。そのため、第１のフッ素樹脂膜７０は、その表面が第１のシリコンゴム３２の弾性を完全に失わないように調査された膜厚として、約１μｍ〜２０μｍの膜厚でコーティングされている。さらにいえば、第１のフッ素樹脂膜７０は約３μｍの膜厚でコーティングされていることが好ましい。
【００２１】
また、第１のフッ素樹脂膜７０は、第１のシリコンゴム３２の表面の長手方向の全体、即ち、基板１０の表面の両端部で露出する幅Ｂの領域のみならず、ラミネート用フィルム２０と接する幅Ａの領域においてもコーティングされていることが好ましい。
【００２２】
上述したように、第１のラミネーターロール３０の第１のシリコンゴムの表面が第１のフッ素樹脂膜７０に覆われているため、基板１０の表面の両端部の幅Ｂの領域に第１のシリコンゴム３２が接しても、そのシリコンゴムが残渣として基板１０の表面上に付着しない。
【００２３】
さらに、第１のフッ素樹脂膜７０が基板１０の中央部の幅Ａの領域を含めた全面に接するため、ラミネート用フィルム２０を介して第１のラミネーターロール３０を基板１０へ圧着する際に、その圧力が基板１０の表面の全面に均等に加わり易くなり、被転写材料である有機材料２２が良好な状態で基板１０の表面上に転写される。
【００２４】
結果として、上記転写された有機材料２２を含む基板１０の表面上に、さらに平坦化膜やレジスト層等が積層された場合、その平坦化膜等の平坦性が増すなど、それらの層の成膜状態が従来例に比して良好となる。
【００２５】
さらに、本実施形態では、上記構成に加えて、基板１０の裏面に当接される第２のラミネーターロール４０も、第１のラミネーターロール３０と同様の構成を有していることが好ましい。即ち、第２のラミネーターロール４０は、第１の回転軸３１と同様の第２の回転軸４１と、第１のシリコンゴム３２と同様の第２の回転軸４２とを備え、さらに、第２のシリコンゴム４２の表面に、第１のフッ素樹脂膜７０と同様の第２のフッ素樹脂膜８０がコーティングされることが好ましい。
【００２６】
これにより、第１及び第２のラミネーターロール３０，４０の圧着と回転により基板１０を所定の進行方向に移動させる際に、基板１０の表面側と裏面側における第１及び第２のラミネーターロール３０，４０との摩擦力の差異が小さくなる。即ち、第１及び第２のラミネーターロール３０，４０の回転による基板１０の移動をより安定的に行うことができる。
【００２７】
なお、上記実施形態では、ラミネート用フィルム２０の樹脂フィルム２１に塗布された被転写材料は、例えばカラーフィルタに用いられる有機材料２２としたが、本発明はこれに限定されない。即ち、被転写材料は、樹脂フィルム２１に塗布されるものであり、かつ上記ラミネート法により基板１０上に転写されるものであれば、上記以外の材料が樹脂フィルム２１に塗布されてもよい。例えば、図示しないが、液晶表示装置の基板上に積層されるブラックマトリクスや、柱剤等となる材料が、被転写材料として樹脂フィルム２１に塗布され、その材料が基板１０上に転写されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施形態に係るラミネーターロールを示す斜視図である。
【図２】従来例に係るラミネート法を説明する基板の表面側からみた上面図である。
【図３】図２のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。
【図４】図２のＹ−Ｙ線に沿った断面図である。
【図５】図２の基板上に平坦化膜が積層された場合の基板の断面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１０ 基板 ２０ ラミネート用フィルム
２１ 樹脂フィルム ２２ 有機材料
３０，１３０ 第１のラミネーターロール ３１ 第１の回転軸
３２ 第１のシリコンゴム ４０，１４０ 第２のラミネーターロール
４１ 第２の回転軸 ４２ 第２のシリコンゴム
５０ 残渣 ６０ 平坦化膜
７０ 第１のフッ素樹脂膜 ８０ 第２のフッ素樹脂膜
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置の光学的コーティングを行う装置に関し、特に、ラミネート法において用いられるラミネーターロールに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、携帯電話やデジタルカメラのＥＶＦ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌ Ｖｉｅｗ Ｆｉｎｄｅｒ）等に用いられる表示装置として、カラー表示に対応した液晶表示装置の需要が益々高まっている。このカラー表示は、液晶表示装置の各表示画素に所定のカラーフィルタが形成されることにより実現される。従来より、カラーフィルタを形成する方法の１つとして、ラミネート法が多用されている。次に、ラミネート法について図面を参照して説明する。
【０００３】
図２は、従来例に係るラミネート法を説明する図であり、基板１０を表面側からみた上面図である。また、図３は図１のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。図４は図１のＹ−Ｙ線に沿った断面図である。図５は、ラミネート法を経た後、図２の基板１０上に、さらに平坦化膜が積層された場合の基板１０の断面図である。
【０００４】
図２及び図３に示すように、例えばガラスからなり、液晶表示装置となるパネル領域が複数配置された基板１０の表面上に、ラミネート用フィルム２０が部分的に引き出されて載置されている。ラミネート用フィルム２０を構成する樹脂フィルム２１には、基板１０と対向する側の面に、カラーフィルタとなる有機材料２２が塗布されている。
【０００５】
ここで、ラミネート用フィルム２０は、基板１０の進行方向と直交する線に沿った幅のうち、基板１０の両端部の幅Ｂを除く幅Ａを有している。基板１０の表面における両端部の幅Ｂの領域では、カラーフィルタとなる有機材料２２の層をパターニングする際のアライメントマーク（例えば銅やアルミニウム等の金属からなる）が形成されている。そのため、この幅Ｂの領域は、上記アライメントマークを露出させるためにカラーフィルタが形成されない領域、即ち有機材料２２が転写されない領域となる。
【０００６】
そして、基板１０と、基板１０上に載置されたラミネート用フィルム２０を挟むようにして、基板１０の表面及び裏面に、それぞれ、第１及び第２のラミネーターロール１３０，１４０が当接される。第１及び第２のラミネーターロール１３０，１４０は、それぞれ、コイル等の熱源を有した第１及び第２の回転軸３１，４１と、第１及び第２の回転軸３１,４１に沿って形成され所定の弾性を有した第１及び第２のシリコンゴム３２,４２を備えている。
【０００７】
第１及び第２のラミネーターロール１３０，１４０が回転すると共に、上記熱源による所定の表面温度（約９０℃〜１４０）を以って基板１０に対して圧着されると、基板１０が所定の進行方向に移動しながら、ラミネート用フィルム２０の有機材料２２が基板１０の表面上に転写される。樹脂フィルム２１は、全ての有機材料２２の転写後に剥離されるか、もしくは有機材料２２の転写と併行して剥離される。その後、例えばフォトリソグラフィによる露光及び現像により、基板１０の表面に転写された有機材料２２がパターニングされ、カラーフィルタが形成される。このラミネート法によるカラーフィルタの形成は、必要な色の数だけ繰り返される。
【０００８】
なお、本願に関連する技術文献としては、以下の特許文献が挙げられる。
【特許文献１】特開２００２−００１８２０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記ラミネート法では、図４に示すように、第１のラミネーターロール１３０をラミネート用フィルム２０に圧着する際に、基板１０の表面における両端部の幅Ｂを有する領域には、ラミネーターロール１３０の第１のシリコンゴム３２が基板１０の表面に直接圧着される。そのため、上記幅Ｂの領域では、第１のシリコンゴム３２が残渣５０となって基板１０の表面上に付着していた。
【００１０】
この残渣５０は、実際には目視されにくいが、図５に示すように、後に基板１０の表面上に平坦化膜６０の材料やレジスト材料等を塗布する際に、それらの材料を基板１０の表面上に付着させないマスクとして機能してしまう。そのため、基板１０に積層される平坦化膜６０等が所定の領域に形成されなくなり、また、それらの層の平坦性が低下するなどの成膜不良が生じるという問題があった。
【００１１】
上記問題への対処としては、第１のシリコンゴム３２の残渣５０をブラッシング等により除去する方法が考えられるが、この方法では、ブラッシングにより基板１０の表面に損傷が生じるという問題があった。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
そこで本発明は、上述のようなラミネート法において、基板上にシリコンゴムの残渣が付着しないようなラミネーターロールを提供する。
【００１３】
本発明のラミネーターロールは、樹脂フィルムに塗布された被転写材料を基板の表面に転写するように所定の表面温度を以って樹脂フィルムを基板に圧着する第１のラミネーターロールと、基板を挟むように第１のラミネーターロールと対向して配置され、基板の裏面に当接される第２のラミネーターロールとからなる１対のラミネーターロールであって、以下の特徴を有する。
【００１４】
即ち、第１のラミネーターロールは、所定の熱源を有した第１の回転軸と、第１の回転軸に沿って形成された第１のシリコンゴムと、第１のシリコンゴムの表面に形成された第１のフッ素樹脂膜と、を備える。ここで、第１のフッ素樹脂膜は、例えばポリテトラフルオロエチレンである。また、第１のフッ素樹脂膜は、第１のシリコンゴムの表面の全面に形成されていることが好ましい。
【００１５】
さらに上記構成において、第２のラミネーターロールは、所定の熱源を有した第２の回転軸と、第２の回転軸に沿って形成された第２のシリコンゴムと、第２のシリコンゴムの表面に形成された第２のフッ素樹脂膜と、を備えてもよい。ここで、第２のフッ素樹脂膜は、例えばポリテトラフルオロエチレンである。また、第２のフッ素樹脂膜は、第２のシリコンゴムの表面の全面に形成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、第１のラミネーターロールが基板の表面上に圧着された際に、その第１のラミネーターロールを構成する第１のシリコンゴムからなる残渣が基板上に付着しない。また、第１のラミネーターロールを基板へ圧着する際に、その圧力が基板の表面の全面に極力均等に加わるため、被転写材料が良好な状態で転写される。結果として、さらに基板の表面上に積層される層の平坦性が増すなど、その層の成膜状態が従来例に比して良好となる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００１７】
次に、本発明の実施形態に係るラミネーターロールについて図面を参照して説明する。図１は、本実施形態に係るラミネーターロールを示す斜視図である。なお、図１では、図２乃至図５に示したものと同一の構成要素については同一の符号を付して説明を行うものとする。また、図１では、１対のラミネーターロール、即ち第１及び第２のラミネーターロール３０，４０を同一の図面を用いて示している。なお、これらの第１及び第２のラミネーターロール３０，４０は、図２乃至図５に示した第１及び第２のラミネーターロール１３０，１４０と同様の配置関係（基板１０に対する）を有するものとする。
【００１８】
図１に示すように、第１のラミネーターロール３０は、例えばコイル等の熱源を有した第１の回転軸３１を備えている。第１の回転軸３１の周りには、その長手方向に沿って、所定の弾性を有した第１のシリコンゴム３２が例えば数センチメートルの厚さを以って形成されている。第１のシリコンゴム３２の表面は、第１の回転軸３１の表面と平行になるようにして、平坦に形成されている。
【００１９】
そして、第１のシリコンゴム３２の表面の全面には、基板１０の表面に比して摩擦係数が小さく、かつ所定の耐熱性を有した第１のフッ素樹脂膜７０がコーティングされている。第１のフッ素樹脂膜７０は、特に限定されないが、テトラフルオロエチレンの重合体であるポリテトラフルオロエチレン（例えばデュポン社のフッ素樹脂「テフロン（デュポン社の登録商標）」）からなることが好ましい。
【００２０】
この第１のフッ素樹脂膜７０の弾性は、第１のシリコンゴム３２の弾性に比して低い。そのため、第１のフッ素樹脂膜７０は、その表面が第１のシリコンゴム３２の弾性を完全に失わないように調査された膜厚として、約１μｍ〜２０μｍの膜厚でコーティングされている。さらにいえば、第１のフッ素樹脂膜７０は約３μｍの膜厚でコーティングされていることが好ましい。
【００２１】
また、第１のフッ素樹脂膜７０は、第１のシリコンゴム３２の表面の長手方向の全体、即ち、基板１０の表面の両端部で露出する幅Ｂの領域のみならず、ラミネート用フィルム２０と接する幅Ａの領域においてもコーティングされていることが好ましい。
【００２２】
上述したように、第１のラミネーターロール３０の第１のシリコンゴムの表面が第１のフッ素樹脂膜７０に覆われているため、基板１０の表面の両端部の幅Ｂの領域に第１のシリコンゴム３２が接しても、そのシリコンゴムが残渣として基板１０の表面上に付着しない。
【００２３】
さらに、第１のフッ素樹脂膜７０が基板１０の中央部の幅Ａの領域を含めた全面に接するため、ラミネート用フィルム２０を介して第１のラミネーターロール３０を基板１０へ圧着する際に、その圧力が基板１０の表面の全面に均等に加わり易くなり、被転写材料である有機材料２２が良好な状態で基板１０の表面上に転写される。
【００２４】
結果として、上記転写された有機材料２２を含む基板１０の表面上に、さらに平坦化膜やレジスト層等が積層された場合、その平坦化膜等の平坦性が増すなど、それらの層の成膜状態が従来例に比して良好となる。
【００２５】
さらに、本実施形態では、上記構成に加えて、基板１０の裏面に当接される第２のラミネーターロール４０も、第１のラミネーターロール３０と同様の構成を有していることが好ましい。即ち、第２のラミネーターロール４０は、第１の回転軸３１と同様の第２の回転軸４１と、第１のシリコンゴム３２と同様の第２の回転軸４２とを備え、さらに、第２のシリコンゴム４２の表面に、第１のフッ素樹脂膜７０と同様の第２のフッ素樹脂膜８０がコーティングされることが好ましい。
【００２６】
これにより、第１及び第２のラミネーターロール３０，４０の圧着と回転により基板１０を所定の進行方向に移動させる際に、基板１０の表面側と裏面側における第１及び第２のラミネーターロール３０，４０との摩擦力の差異が小さくなる。即ち、第１及び第２のラミネーターロール３０，４０の回転による基板１０の移動をより安定的に行うことができる。
【００２７】
なお、上記実施形態では、ラミネート用フィルム２０の樹脂フィルム２１に塗布された被転写材料は、例えばカラーフィルタに用いられる有機材料２２としたが、本発明はこれに限定されない。即ち、被転写材料は、樹脂フィルム２１に塗布されるものであり、かつ上記ラミネート法により基板１０上に転写されるものであれば、上記以外の材料が樹脂フィルム２１に塗布されてもよい。例えば、図示しないが、液晶表示装置の基板上に積層されるブラックマトリクスや、柱剤等となる材料が、被転写材料として樹脂フィルム２１に塗布され、その材料が基板１０上に転写されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の実施形態に係るラミネーターロールを示す斜視図である。
【図２】従来例に係るラミネート法を説明する基板の表面側からみた上面図である。
【図３】図２のＸ−Ｘ線に沿った断面図である。
【図４】図２のＹ−Ｙ線に沿った断面図である。
【図５】図２の基板上に平坦化膜が積層された場合の基板の断面図である。
【符号の説明】
【００２９】
１０ 基板 ２０ ラミネート用フィルム
２１ 樹脂フィルム ２２ 有機材料
３０，１３０ 第１のラミネーターロール ３１ 第１の回転軸
３２ 第１のシリコンゴム ４０，１４０ 第２のラミネーターロール
４１ 第２の回転軸 ４２ 第２のシリコンゴム
５０ 残渣 ６０ 平坦化膜
７０ 第１のフッ素樹脂膜 ８０ 第２のフッ素樹脂膜
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂フィルムに塗布された被転写材料を基板の表面に転写するように所定の表面温度を以って前記樹脂フィルムを前記基板に圧着する第１のラミネーターロールと、前記基板を挟むように前記第１のラミネーターロールと対向して配置され、前記基板の裏面に当接される第２のラミネーターロールとからなる１対のラミネーターロールであって、
前記第１のラミネーターロールは、所定の熱源を有した第１の回転軸と、前記第１の回転軸に沿って形成された第１のシリコンゴムと、前記第１のシリコンゴムの表面に形成された第１のフッ素樹脂膜と、を備えることを特徴とするラミネーターロール。
【請求項２】
前記第１のフッ素樹脂膜は、ポリテトラフルオロエチレンであることを特徴とする請求項１記載のラミネーターロール。
【請求項３】
前記第１のフッ素樹脂膜は、前記第１のシリコンゴムの表面の全面に形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のラミネーターロール。
【請求項４】
前記第２のラミネーターロールは、所定の熱源を有した第２の回転軸と、前記第２の回転軸に沿って形成された第２のシリコンゴムと、前記第２のシリコンゴムの表面に形成された第２のフッ素樹脂膜と、を備えることを特徴とする請求項１、２、３のいずれかに記載のラミネーターロール。
【請求項５】
前記第２のフッ素樹脂膜は、ポリテトラフルオロエチレンであることを特徴とする請求項４記載のラミネーターロール。
【請求項６】
前記第２のフッ素樹脂膜は、前記第２のシリコンゴムの表面の全面に形成されていることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のラミネーターロール。
【請求項１】
樹脂フィルムに塗布された被転写材料を基板の表面に転写するように所定の表面温度を以って前記樹脂フィルムを前記基板に圧着する第１のラミネーターロールと、前記基板を挟むように前記第１のラミネーターロールと対向して配置され、前記基板の裏面に当接される第２のラミネーターロールとからなる１対のラミネーターロールであって、
前記第１のラミネーターロールは、所定の熱源を有した第１の回転軸と、前記第１の回転軸に沿って形成された第１のシリコンゴムと、前記第１のシリコンゴムの表面に形成された第１のフッ素樹脂膜と、を備えることを特徴とするラミネーターロール。
【請求項２】
前記第１のフッ素樹脂膜は、ポリテトラフルオロエチレンであることを特徴とする請求項１記載のラミネーターロール。
【請求項３】
前記第１のフッ素樹脂膜は、前記第１のシリコンゴムの表面の全面に形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のラミネーターロール。
【請求項４】
前記第２のラミネーターロールは、所定の熱源を有した第２の回転軸と、前記第２の回転軸に沿って形成された第２のシリコンゴムと、前記第２のシリコンゴムの表面に形成された第２のフッ素樹脂膜と、を備えることを特徴とする請求項１、２、３のいずれかに記載のラミネーターロール。
【請求項５】
前記第２のフッ素樹脂膜は、ポリテトラフルオロエチレンであることを特徴とする請求項４記載のラミネーターロール。
【請求項６】
前記第２のフッ素樹脂膜は、前記第２のシリコンゴムの表面の全面に形成されていることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載のラミネーターロール。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【公開番号】特開２００７−５７０５６（Ｐ２００７−５７０５６Ａ）
【公開日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２４５４７６（Ｐ２００５−２４５４７６）
【出願日】平成１７年８月２６日（２００５．８．２６）
【出願人】（３０４０５３８５４）三洋エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年３月８日（２００７．３．８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年８月２６日（２００５．８．２６）
【出願人】（３０４０５３８５４）三洋エプソンイメージングデバイス株式会社 (2,386)
【Ｆターム（参考）】
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