乾燥装置及び乾燥方法
【課題】密閉処理室の密閉性を損なうことなく、乾燥力を高めた乾燥装置を提供する。
【解決手段】チャンバ２０の貫通孔２９には、処理室２１内のファン５１とチャンバ２０外の動力源に連結された動力伝達軸５３が挿通されている。圧力調整手段は、処理室２１内を常圧以上の第１の圧力状態と、常圧よりも低い第２の圧力状態とに切り替える。状態切替手段は、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間を気密に固定する気密状態と、気密を解いて動力伝達軸５３を回転可能とする回転可能状態と、を切り替える。制御手段は、処理室２１内を第１の圧力状態とし、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密を解いて、ファン５１を高速回転させて被乾燥体を高速流動気体により急速加熱する。また、処理室２１内を第２の圧力状態とし、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間を気密とすることにより、被乾燥体を真空乾燥する。
【解決手段】チャンバ２０の貫通孔２９には、処理室２１内のファン５１とチャンバ２０外の動力源に連結された動力伝達軸５３が挿通されている。圧力調整手段は、処理室２１内を常圧以上の第１の圧力状態と、常圧よりも低い第２の圧力状態とに切り替える。状態切替手段は、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間を気密に固定する気密状態と、気密を解いて動力伝達軸５３を回転可能とする回転可能状態と、を切り替える。制御手段は、処理室２１内を第１の圧力状態とし、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密を解いて、ファン５１を高速回転させて被乾燥体を高速流動気体により急速加熱する。また、処理室２１内を第２の圧力状態とし、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間を気密とすることにより、被乾燥体を真空乾燥する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、乾燥装置及び乾燥方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
密閉処理室内を真空状態にした後不活性ガスを導入し、ファンを回転させて加熱した不活性ガスを循環させて被乾燥物を加熱し、その後、密閉処理室内を真空にすることにより収容された被乾燥物を乾燥させる乾燥装置がある。
【０００３】
上述の乾燥装置には、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、密閉処理室内に設けられたファンを回転させるために、磁気継手機構が用いられている。磁気継手機構は、先端に永久磁石を有する一対の円柱状の動力伝達軸を備えている。そして、その一対の動力伝達軸は、隔壁を挟んだ状態で、密閉処理室の内側及び外側に、永久磁石の極性が互いに逆になるように配設されている。そして、磁気継手機構は、外側の動力伝達軸が回転すると、磁力により内側の動力伝達軸が回転するように構成されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００４】
また、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、密閉処理室内に設けられたファンを回転させる他の構造として、上述の乾燥装置には、オイルシール構造が用いられている。オイルシール構造では、密閉処理室に形成された貫通孔と、該貫通孔に挿通された動力伝達軸との間に、オイルシールが配設されている（例えば、特許文献２を参照）。
【０００５】
また、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、密閉処理室内に設けられたファンを回転させる他の構造として、上述の乾燥装置には、メカニカルシール構造が用いられている。メカニカルシール構造は、動力伝達軸に動力伝達軸と直角な円盤部を設け、この円盤部を、両側から、押圧部で挟むように構成されている（例えば、特許文献３）。
【０００６】
また、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、密閉処理室内に設けられたファンを回転させる他の構造として、上述の乾燥装置には、磁性流体シール構造が用いられている。磁性流体シール構造では、密閉処理室に形成された貫通孔と、該貫通孔に挿通された動力伝達軸との間に磁性流体が配設されている（例えば、特許文献４を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−２３１３３８号公報
【特許文献２】特開２０１１−１１７５５０号公報
【特許文献３】特開平７−２０８６１２号公報
【特許文献４】特開２００８−３８９８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１に記載の磁気継手機構では、外側の動力伝達軸の回転速度を所定の回転速度以上にすると、内側の動力伝達軸がその回転速度に追従できず、内側の動力伝達軸にいわゆる「すべり」が生じてしまう。そのため、上記の磁気継手機構では、内側の動力伝達軸を所定の回転速度以上に上げることができない。従って、上記の磁気継手機構では、ファンを高速に回転させることができず、密閉処理室内の気体の循環速度を上げることができず、ひいては、大きな乾燥力を得ることができない。
【０００９】
また、特許文献２に記載のオイルシール構造では、動力伝達軸が回動できるように、貫通孔と動力伝達軸との間が強固に固定されていない。そのため、密閉処理室の圧力が高真空、例えば１Ｐａ程度の場合、密閉処理室の密閉性を保つことができない。
【００１０】
また、特許文献３に記載のメカニカルシール構造では、円盤部と押圧部とが常に当接しているので、動力伝達軸の回転速度を上げると、円盤部は押圧部から大きな摩擦抵抗を受ける。そのため、動力伝達軸を所定の回転速度以上に上げることができない。従って、特許文献３に記載の構造では、ファンを高速に回転させることができず、密閉処理室内の気体の循環速度を上げることができず、ひいては、大きな乾燥力を得ることができない。
【００１１】
また、特許文献４に記載の構造では、動力伝達軸の回転速度を上げると、磁性流体が遠心力で飛散してしまう。そのため、動力伝達軸を所定の回転速度以上に上げることができない。従って、特許文献４に記載の構造では、ファンを高速で回転させることができず、密閉処理室内の気体の循環速度を上げることができず、ひいては、大きな乾燥力を得ることができない。
【００１２】
本発明は、このような問題点に着目してなされたもので、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、乾燥力を高めた乾燥装置及び乾燥方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記目的を達成するために、本発明の第１の観点に係る乾燥装置は、
被乾燥体を収容する処理室を有するチャンバと、
前記処理室内に配置されたファンと、
前記チャンバに形成された貫通孔に挿通され、前記チャンバ内で前記ファンに連結され、前記チャンバ外で動力源に連結された動力伝達軸と、
前記処理室内を常圧又はそれ以上の圧力にある第１の圧力状態と、常圧よりも低い第２の圧力状態とに切り替える圧力調整手段と、
前記チャンバと前記動力伝達軸との間を気密に固定する気密状態と、前記チャンバと前記動力伝達軸との間の気密を解いて、前記動力伝達軸を回転可能とする回転可能状態と、を切り替える状態切替手段と、
前記処理室内に配設され、前記処理室内の気体を加熱する加熱装置と、
前記圧力調整手段により前記処理室内を前記第１の圧力状態とし、前記切替手段により、前記チャンバと前記動力伝達軸との間の気密を解いて、前記動力伝達軸を回転可能とし、前記動力源により前記動力伝達軸を介してファンを回転させて被乾燥体を流動気体により加熱し、前記圧力調整手段により前記処理室内を前記第２の圧力状態とし、前記切替手段により、前記チャンバと前記動力伝達軸との間を気密とすることにより、被乾燥体を真空乾燥する制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１４】
前記状態切替手段は、前記動力伝達軸の一端と他端との間に設けられて前記動力伝達軸と共に回転する板状の回転体と、前記回転体の板面と対向する位置に形成されている非回転部と、前記動力伝達軸を挿通させていると共に前記回転体と前記非回転部との間に配設されている弾性体からなる環状部材と、前記環状部材が気密的に前記回転体と前記非回転部との間で挟圧されている挟圧状態又は前記環状部材が挟圧状態から解除されている挟圧解除状態となるように、前記回転体又は前記非回転部を前記動力伝達軸の軸方向に移動させる移動機構と、
を備えていてもよい。
【００１５】
前記非回転部は、前記チャンバに形成されていてもよい。
【００１６】
さらに、前記動力伝達軸を挿通させている円筒部材を備え、
前記非回転部は、前記円筒部材に形成されていてもよい。
【００１７】
前記円筒部材は、前記円筒部材の一部が前記チャンバの貫通孔に嵌入された状態で、前記動力伝達軸の軸方向に移動可能に配設されていてもよい。
【００１８】
前記円筒部材のうち前記チャンバの貫通孔に嵌入された部位の外周面と前記チャンバの貫通孔の内周面との間には、弾性部材が配設されていてもよい。
【００１９】
前記回転体は、中心軸線が前記動力伝達軸の中心軸線と略同一であって、前記動力伝達軸の軸方向に垂直に形成された円盤部であってもよい。
【００２０】
前記環状部材は、前記回転体の板面に形成された溝に配設されていてもよい。
【００２１】
前記環状部材は、前記非回転部に形成された溝に配設されていてもよい。
【００２２】
前記環状部材は、中心軸線が前記動力伝達軸の中心軸線と略同一に配設されていてもよい。
【００２３】
前記動力伝達軸は軟質片を有するＶリングを備え、前記Ｖリングは前記軟質片が常に前記非回転部と接するように配設されていてもよい。
【００２４】
前記非回転部は軟質片を有するＶリングを備え、前記Ｖリングは前記軟質片が常に前記回転体又は前記動力伝達軸と接するように配設されていてもよい。
【００２５】
前記圧力調整手段は、真空ポンプ又はガス供給装置であってもよい。
【００２６】
前記目的を達成するために、本発明の第２の観点に係る乾燥方法は、
処理室内に被乾燥体を載置する工程と、
前記処理室内を常圧又はそれ以上の圧力にある第１の圧力状態とする工程と、
前記チャンバと該チャンバを貫通する動力伝達軸との間の気密状態を解いて、前記チャンバの外部より前記動力伝達軸を回転して、前記動力伝達軸に連結されているファンを回して、前記処理室内の加熱された気体を流動させて被乾燥体を加熱する工程と、
前記処理室内を常圧よりも低い第２の圧力状態とする工程と、
前記チャンバと該チャンバを貫通する前記動力伝達軸との間を気密に固定し、気密状態を維持して、被乾燥体を真空乾燥する工程と、
を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、乾燥力を高めた乾燥装置及び乾燥方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る真空乾燥処理装置を模式的に示す図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部である図１のＡ部を拡大して示す図であり、（ａ）は、チャンバを処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、チャンバを処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係る真空乾燥処理装置を用いてワークを乾燥させる工程を示すグラフである。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図６】本発明の第４の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図７】本発明の第５の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図８】本発明の第６の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図であり、（ｃ）は、（ｂ）のＢ部を拡大して示す図である。
【図９】本発明の第７の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図１０】本発明の第８の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図１１】本発明の第９の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図であり、（ｃ）は（ｂ）のＣ部を拡大して示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本発明は、下記の実施形態及び図面によって限定されるものではない。本発明の要旨を変更しない範囲で、下記の実施形態及び図面に変更を加えることが出来るのはもちろんである。
【００３０】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態に係る真空乾燥処理装置について説明する。
【００３１】
図１に示すように、真空乾燥処理装置１０は、チャンバ２０と、真空装置４０と、ファンユニット５０と、制御部１００と、を備えている。尚、図１に示す真空乾燥処理装置１０の、図面上側を「上側」、図面下側を「下側」、図面左側を「左側」、図面右側を「右側」、として以下説明する。
【００３２】
チャンバ２０は、左側に密閉扉２０ａを有し、略直方体の箱状に形成されている。また、チャンバ２０の内部には、ワークＷを乾燥させるための処理室２１が形成されている。
【００３３】
処理室２１には、ワークＷを載置するためのワーク載置台２４が設けられている。処理室２１の右側壁近傍には、ファンユニット５０のファン５１が配設されている。ファン５１は、多数の羽を有する円筒部５１ａと、底部５１ｂと、を有する有底円筒状のシロッコファンである。
【００３４】
ファン５１の円筒部５１ａの外周近傍には、円筒部５１ａから吐出された気体を加熱するための、コイル状に形成されたヒータ２２が設けられている。尚、ヒータ２２は、プレート状のものであってもよい。
【００３５】
ファン５１とワーク載置台２４との間には、隔板２３が設けられている。隔板２３は、ファン５１の円筒部５１ａの外径よりやや小さな径を有する小径円筒部２３ａと、その小径円筒部２３ａより大径の大径円筒部２３ｂとを有し、軸方向の中途部に段差を有する段付円筒状に形成された部材である。隔板２３は、壁面の近傍と、その間の中間領域とを隔てる板である。
【００３６】
処理室２１では、ファン５１が回転すると、図１の破線矢印に示すように、処理室２１内の中間領域の気体は、円筒部５１ａの中心から吸い込まれ、円筒部５１ａの外周方向に吐出される。そして、ファン５１から吐出された気体は、密閉扉２０ａに対して垂直な壁面の近傍を通って、密閉扉２０ａ近傍に到達する。そして、気体はワークＷの近傍を通って、再び、ファン５１の円筒部５１ａの中心から吸い込まれる。以上のように、処理室２１内の気体は、処理室２１内を循環する。
【００３７】
チャンバ２０の上壁には、処理室２１とチャンバ２０の外部とを連通するガス導入口３１が形成されている。ガス導入口３１には導管３２が接続されている。導管３２には、ガス導入弁３３が接続されている。また、ガス導入弁３３には、ガス供給装置３４が接続されている。処理室２１とガス供給装置３４とが連通するようにガス導入弁３３を開くことにより、処理室２１は、ガス供給装置３４から窒素などの不活性ガスや乾燥空気を導入することができる。
【００３８】
また、チャンバ２０の右側壁には、処理室２１とチャンバ２０の外部とを連通する排気口３６が形成されている。排気口３６には導管３７が接続されている。導管３７には、ガス排気弁３８が接続されている。ガス排気弁３８は、外気方向にも切り替え可能な３方弁で形成されている。また、ガス排気弁３８には、真空装置４０が接続されている。
【００３９】
真空装置４０は、例えばロータリーポンプにより構成されている。尚、ガス排気弁３８と真空装置４０の間に、気体に含まれている水分を取り除くためのコールドトラップを設けてもよい。
【００４０】
処理室２１と真空装置４０とが連通するようにガス排気弁３８を開いた状態で真空装置４０を作動させると、処理室２１内の気体は、真空装置４０に吸引されて、ガス排気弁３８を通過し、真空装置４０から排気される。これにより、処理室２１内は真空状態となる。
【００４１】
また、チャンバ２０の右側壁には、処理室２１とチャンバ２０の外部とを連通する貫通孔２９が形成されている。貫通孔２９は、チャンバ２０にファンユニット５０を配設するための孔である。ファンユニット５０は、処理室２１内の気体を循環させるためのものである。ファンユニット５０は、上述した処理室２１内に配置されるファン５１と、チャンバ２０の外部に配置されるファンモータ５２と、一端がファン５１に連結され他端がファンモータ５２に連結されると共に貫通孔２９内に挿通されて右側壁と当接することなく回転する動力伝達軸５３と、から構成されている。
【００４２】
また、動力伝達軸５３を所定の位置で安定して回転させるため、チャンバ２０の外部には、動力伝達軸５３の外周と当接する軸受５９が設けられている。尚、図示していないが、動力伝達軸５３をより一層安定して回転させるため、処理室２１内にも、動力伝達軸５３の外周と当接する軸受が設けられている。
【００４３】
動力伝達軸５３の一端は、後述するように、動力伝達軸５３を貫通孔２９へ挿通するために、ファン５１の底部５１ｂに着脱可能に接続されている。また、動力伝達軸５３の他端には、回転軸の周方向にギアが形成されている。動力伝達軸５３は、ギアがファンモータ５２に設けられたギアと噛み合うように配設されている。また、動力伝達軸５３のギアとファンモータ５２のギアとの噛み合いを解除するため、ファンモータ５２は、動力伝達軸５３の軸方向に対して垂直な方向に移動可能に形成されている。
【００４４】
また、動力伝達軸５３を軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、動力伝達軸５３に連結することができる。これにより、ファンモータ５２のギアとの噛み合いが解除された動力伝達軸５３とファン５１とを、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【００４５】
また、動力伝達軸５３の軸方向の中途部、すなわち、一端と他端との間には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。動力伝達軸５３は、円盤部５５がチャンバ２０の右側壁の外側近傍に位置するように、チャンバ２０の貫通孔２９に挿通されている。尚、上述のとおり、ファン５１は、動力伝達軸５３と着脱可能に接続されている。そのため、動力伝達軸５３をチャンバ２０の貫通孔２９に挿通させた後、処理室２１の内側から、ファン５１を動力伝達軸５３に接続することができる。
【００４６】
図２（ａ）に示すように、円盤部５５のチャンバ２０側の面には、チャンバ２０側から見て動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円形状の、溝５５ａが形成されている。溝５５ａには、弾性部材から形成されたＯリング５６が配設されている。
【００４７】
以上のように構成されたファン５１及び動力伝達軸５３の動作と作用について説明する。図２（ａ）に示すように、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁に圧接するまで、すなわち、Ｏリング５６が円盤部５５とチャンバ２０との間で中心軸線方向に挟圧されるまで、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、ファン５１及び動力伝達軸５３の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【００４８】
また、図２（ｂ）に示すように、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように、すなわち、Ｏリング５６が挟圧状態から解除されるように、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング５６はチャンバ２０の右側壁から離間しているので、動力伝達軸５３は、チャンバ２０から摩擦抵抗を受けることなく、回転することができる。尚、このとき、円盤部５５とチャンバ２０との間には僅かな隙間が形成されているので、処理室２１は密閉状態が解除されている。すなわち、処理室２１はチャンバ２０の外部と連通状態になっている。
【００４９】
図１に戻り、制御部１００は、コンピュータから構成され、真空乾燥処理装置１０の動作を制御する。具体的には、制御部１００は、制御部１００内の記憶部に記憶された制御プログラムにしたがって、ヒータ２２の加熱、ガス導入弁３３及びガス排気弁３８の開閉、ガス供給装置３４、真空装置４０、ファンモータ５２の作動、等を制御するための制御信号を各部に供給することにより、図示しないドライバ駆動回路等を介して真空乾燥処理装置１０の動作を制御する。
【００５０】
また、処理室２１には処理室内の圧力を計測する圧力センサ（図示せず）、及び処理室内の温度を検知する温度センサ（図示せず）が備えられている。
【００５１】
次に、以上のように構成された本実施形態に係る真空乾燥処理装置１０を用いたワークＷの乾燥方法について、図１乃至図３を用いて説明する。
【００５２】
（窒素置換工程）
まず、処理室２１にワークＷを導入する。そして、真空乾燥処理装置１０の電源を投入する。制御部１００は、処理室２１を密閉状態にするために、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁に圧接するまで、ファン５１及び動力伝達軸５３を処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。（図２（ａ）参照）。次に、制御部１００は、ガス排気弁３８を開かせ、真空装置４０を作動させる。これにより、図３の（ａ）に示すように、処理室２１は減圧される。制御部１００は、処理室２１の真空度が所定の真空度、例えば１０Ｐａに達したら、真空装置４０を停止させ、ガス排気弁３８を閉じさせる。
【００５３】
次に、制御部１００は、ガス導入弁３３を開かせ、ガス供給装置３４を作動させる。これにより、図３の（ｂ）に示すように、処理室２１に窒素ガスが供給される。制御部１００は、処理室２１の気圧が大気圧とほぼ同じか、大気圧より僅かに高くなったら、ガス供給装置３４を停止させ、ガス導入弁３３を閉じさせる。
【００５４】
（循環昇温工程）
次に、制御部１００は、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように（図２（ｂ）参照）、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。
【００５５】
その後、制御部１００は、ヒータ２２のスイッチをオンさせると共に、ファン５１を回転させるために、ファンモータ５２を作動させる。これにより、ヒータ２２により加熱させられた窒素ガスが、図１の破線矢印のように、処理室２１内を循環する。循環した気体がさらにヒータ２２より加熱させられるので、図３の（ｃ）に示すように、処理室２１の温度は上昇する。
【００５６】
尚、このとき、上述のとおり、円盤部５５に配設されたＯリング５６は、チャンバ２０と当接していない（図２（ｂ）参照）。そのため、動力伝達軸５３が回転するとき、ファンモータ５２に、摩擦抵抗による回転負荷がかからない。これにより、動力伝達軸５３に接続されたファン５１は、高速、例えば、１０００（回転／分）で回転することができる。ファン５１が高速で回転することにより、処理室２１内の窒素ガスの循環速度が大きくなる。そして、ワークＷには大きな循環速度を有する加熱された窒素ガスが衝突するので、ワークＷの加熱速度が大きくなる。尚、制御部１００は、窒素ガスが例えば２００℃に加熱されるように、ヒータ２２を制御している。
【００５７】
尚、この工程において、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させているので、処理室２１はチャンバ２０の外部と連通状態になっている。しかし、上述のとおり、処理室２１の気圧は大気圧とほぼ同じか、大気圧より僅かに高いので、チャンバ２０の外部の気体は処理室２１に進入しない。
【００５８】
（真空乾燥工程）
次に、制御部１００は、ファン５１の回転を停止させるためにファンモータ５２を停止させる。尚、処理室２１の温度を所定の高温に維持するため、ヒータ２２のスイッチはオンの状態のままとする。次に、制御部１００は、処理室２１を密閉状態にするために、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁に圧接するまで（図２（ａ）参照）、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。その後、制御部１００は、ガス排気弁３８を開かせ、真空装置４０を作動させる。これにより、図３の（ｄ）に示すように、処理室２１が減圧される。このとき、処理室２１の圧力を、例えば１．０×１０−１Ｐａまで下げる。その後、真空装置４０を停止させて、ガス排気弁３８を閉じさせる。この状態を所定の時間維持することにより、ワークＷは乾燥させられる。
【００５９】
尚、上述のとおり、処理室２１の高温の気体は、真空装置４０によって、チャンバ２０の外へ排気されるが、ヒータ２２は作動したままなので、処理室２１の温度は所定の高温に維持される。
【００６０】
（開放冷却工程）
次に、制御部１００は、ヒータ２２のスイッチをオフにして、ガス排気弁３８を外気側に切り替える。そして、制御部１００は、ガス導入弁３３を開かせ、ガス供給装置３４を作動させる。これにより、図３の（ｅ）に示すように、処理室２１に窒素ガスが供給される。尚、このとき、制御部１００は、処理室２１の気圧を大気圧とほぼ同じか、大気圧より僅かに高くなるように制御する。
【００６１】
次に、制御部１００は、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように（図２（ｂ）参照）、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。そして、制御部１００は、ファン５１を回転させるために、ファンモータ５２を作動させる。上述のとおり、ファン５１が高速で回転することにより、処理室２１内の窒素ガスの循環速度が大きくなる。そして、ワークＷには大きな循環速度を有する窒素ガスが衝突するので、ワークＷの冷却速度が大きくなる。
【００６２】
図３の（ｆ）に示すように、ワークＷの温度が室温と同等の温度まで下がったら、ワークＷを取り出す。
【００６３】
以上で、真空乾燥処理装置１０を用いたワークＷの乾燥処理は終了する。尚、上記工程のうち、窒素置換工程を省略して、循環昇温工程から開始してもよい。また、上記のワークＷの乾燥方法では、制御部１００が真空乾燥処理装置１０の動作を制御するようにしたが、上記工程のうちの一部を手動で行うようにしてもよい。
【００６４】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁に圧接するまで、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１方向に移動させるので、処理室２１を密閉状態にすることができる。
【００６５】
また、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向に移動させるので、チャンバ２０から摩擦抵抗を受けることなく動力伝達軸５３を回転させることができる。そして、ファン５１を、高速で回転させることができるので、処理室２１内の不活性ガスの循環速度を大きくすることができる。これにより、ワークＷの加熱速度を大きくすることができるので、ワークＷの乾燥時間を短縮することができる。
【００６６】
尚、上記実施形態では、動力伝達軸５３の円盤部５５が、処理室２１の外部に位置するように形成されていたが、処理室２１の内部に形成されていてもよい。
【００６７】
また、ファン５１及び動力伝達軸５３を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の軸方向へ移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【００６８】
また、本実施形態では、動力伝達軸５３とファンモータ５２とがギアにより連結されているが、動力伝達軸５３とファンモータ５２とがベルトで連結されていてもよい。また、動力伝達軸５３とファンモータ５２のローターとが、直接接続されていてもよい。また、本実施形態では、ファン５１はシロッコファンであったが、ターボファンであってもよい。
【００６９】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、本実施形態に係る真空乾燥処理装置１０は、第１実施形態の真空乾燥処理装置１０と、基本的な構成は同一であり、図１のＡ部のみが相違する。
【００７０】
図４（ａ）に示すように、第１の実施形態と同様に、動力伝達軸５３の軸方向の中途部には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。
【００７１】
また、処理室２１の密閉性を高めるため、動力伝達軸５３には、動力伝達軸５３を巻回すると共に円盤部５５のチャンバ２０側の面と当接するように、Ｖリング５７が取り付けられている。Ｖリング５７は、ニトリルゴム、ＥＰＤＭ（エチレンプロピレンゴム）、フッ素ゴムなどの表面の摩擦係数が小さな弾性材料から形成されている。Ｖリング５７は、薄板状に形成されたリップ部５７ａを有している。また、Ｖリング５７は、動力伝達軸５３と共に回転する。
【００７２】
さらに、本実施形態では、動力伝達軸５３と、チャンバ２０の貫通孔２９と間に生じた隙間を封じるための封止環６０が設けられている。
【００７３】
図４（ａ）に示すように、封止環６０は、円筒部６１と底部６２とを有する略有底円筒状に形成された部材である。円筒部６１のチャンバ２０側の端面には、チャンバ２０側から見て円形状の、溝６１ａが形成されている。溝６１ａには弾性部材からなるＯリング６５が配設されている。
【００７４】
封止環６０の底部６２には、動力伝達軸５３の直径より大きな直径の貫通孔６２ａが形成されている。また、底部６２の円盤部５５側の面には、円盤部５５側から見て円形状の、溝６２ｂが形成されている。また、溝６２ｂには弾性部材からなるＯリング６６が配設されている。
【００７５】
次に、封止環６０及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。
まず、ファン５１を取り外した動力伝達軸５３を、チャンバ２０の外部から貫通孔２９に挿通する。そして、円盤部５５がチャンバ２０の右側壁の外側近傍に位置し、Ｖリング５７のリップ部５７ａがチャンバ２０の右側壁の外面と軽く当接するように、動力伝達軸５３をチャンバ２０に配設する。
【００７６】
次に、封止環６０の貫通孔６２ａを、チャンバ２０の外部から動力伝達軸５３に挿通させて、封止環６０をチャンバ２０の右側壁の近傍に配設する。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、封止環６０及び動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。
【００７７】
また、封止環６０を動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環６０に連結することができる。これにより、封止環６０を、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【００７８】
以上のように構成された封止環６０の動作と作用について説明する。図４（ａ）に示すように、封止環６０の円筒部６１に配設されたＯリング６５が、チャンバ２０の側壁に圧接するまで、また、封止環６０の底部６２に配設されたＯリング６６が、円盤部５５に圧接するまで、封止環６０を、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環６０の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【００７９】
また、図４（ｂ）に示すように、円筒部６１に配設されたＯリング６５がチャンバ２０の側壁から離間するように、また、底部６２に配設されたＯリング６６も円盤部５５から離間するように、封止環６０を処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング６６は円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、チャンバ２０及び封止環６０から摩擦抵抗を受けることなく、回転することができる。
【００８０】
尚、本実施形態において、Ｖリング５７は動力伝達軸５３の軸方向に移動しない。また、上述のとおり、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。そのため、Ｖリング５７のリップ部５７ａは、処理室２１の気体の圧力によって、外部方向に撓むことはなく、チャンバ２０の側壁の外面に常時軽く接している。これにより、封止環６０が処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。また、Ｖリング５７は、表面の摩擦係数が小さい弾性部材から形成されているため、動力伝達軸５３は、Ｖリング５７のリップ部５７ａとチャンバ２０の右側壁とが摺接することによる抵抗をほとんど受けることなく回転することができる。
【００８１】
尚、封止環６０を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の軸方向へ移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【００８２】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、Ｖリング５７を備え、常時、Ｖリング５７のリップ部５７ａがチャンバ２０の右側壁の外面と軽く当接するようにしたので、第１の実施形態より処理室２１の密閉性を高めることができる。
【００８３】
また、本実施形態の封止環６０は、動力伝達軸５３と別部品であるので、第１の実施形態のように、ファン及び動力伝達軸を移動させる必要がなく、封止環６０のみを移動させればよい。
【００８４】
（第３の実施形態）
次に、本発明の第３の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【００８５】
図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、動力伝達軸５３の軸方向の中途部には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。また、処理室２１の密閉性を高めるため、動力伝達軸５３には、動力伝達軸５３を巻回すると共に円盤部５５のチャンバ２０側の面と当接するように、Ｖリング５７が取り付けられている。
【００８６】
図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、封止環７０は、小径円筒部７１と、大径円筒部７２と、底部７３と、小径円筒部７１と大径円筒部７２とを接続する段差部７９と、を有する有底の段付円筒状に形成された部材である。
【００８７】
小径円筒部７１は、外径がチャンバ２０の貫通孔２９の直径より僅かに小さく形成され、内径が動力伝達軸５３の外径より僅かに大きく形成されている。また、小径円筒部７１の外周面には、周方向に溝７１ａが形成されている。溝７１ａには、弾性部材から形成されるＯリング７５が配設されている。
【００８８】
大径円筒部７２は、内径が円盤部５５の直径よりも大きく形成されている。また、大径円筒部７２は、内周面の動力伝達軸５３の軸方向の長さが、動力伝達軸５３に形成された円盤部５５の軸方向の厚さより大きく形成されている。
【００８９】
底部７３には、動力伝達軸５３の直径より僅かに大きな直径の貫通孔７３ａが形成されている。また、底部７３の大径円筒部７２側の面には、大径円筒部７２側から見て円形状の、溝７３ｂが形成されている。また、溝７３ｂにはＯリング７６が配設されている。尚、底部７３は、大径円筒部７２に、例えばねじ等を用いて着脱することができる。
【００９０】
次に、封止環７０及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。まず、封止環７０の小径円筒部７１をチャンバ２０の貫通孔２９に挿入する。そして、封止環７０を、小径円筒部７１のＯリング７５を貫通孔２９の内周面に圧接させた状態で、チャンバ２０に配設する。これにより、貫通孔２９の内周面と封止環７０の小径円筒部７１の外周面との間の気密性が保たれる。
【００９１】
次に、封止環７０の底部７３を、大径円筒部７２から外す。その後、ファン５１を取り外した動力伝達軸５３を、チャンバ２０の外部から小径円筒部７１に挿通し、円盤部５５が大径円筒部７２に収容されるように封止環７０に配設する。そして、底部７３の貫通孔７３ａを、チャンバ２０の外部から動力伝達軸５３に挿通させて、底部７３を大径円筒部７２に取り付ける。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、封止環７０及び動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。
【００９２】
尚、このとき、動力伝達軸５３に取り付けられたＶリング５７のリップ部５７ａは、封止環７０の小径円筒部７１又は段差部７９の内面と当接している。
【００９３】
また、封止環７０を動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環７０に連結することができる。これにより、封止環７０を、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【００９４】
以上のように構成された封止環７０の動作及び作用について説明する。図５（ａ）に示すように、封止環７０の底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５に圧接するまで、すなわち、Ｏリング７６が円盤部５５と封止環７０との間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環７０を、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環７０の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【００９５】
また、図５（ｂ）に示すように、封止環７０の底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５から離間するように、すなわち、Ｏリング７６が挟圧状態から解除されるように、封止環７０を処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング７６は円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、封止環７０から摩擦抵抗を受けることなく、回転することができる。
【００９６】
尚、上述のとおり、本実施形態において、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。これにより、Ｖリング５７のリップ部５７ａは、処理室２１の圧力によって外部方向に撓むことはなく、常時、封止環７０の小径円筒部７１又は段差部７９の内面と当接している。そのため、封止環７０の底部７３に配設されたＯリング７６が円盤部５５から離間するように、封止環７０が処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。また、Ｖリング５７は、表面の摩擦係数が小さい弾性部材から形成されているため、動力伝達軸５３は、Ｖリング５７のリップ部５７ａと封止環７０の小径円筒部７１又は段差部７９の内面とが摺接することによる抵抗をほとんど受けることなく回転することができる。
【００９７】
尚、封止環７０を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の軸方向へ移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【００９８】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、Ｖリング５７を備え、さらにチャンバ２０の貫通孔２９に封止環７０の一部を挿入することによりチャンバ２０と封止環７０との間の気密性が保たれているので、第１及び第２の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。
【００９９】
（第４の実施形態）
次に、本発明の第４の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、特に説明する場合を除き、同一又は対応する符号を付す。
【０１００】
本実施形態は、上述の第３の実施形態を変形した実施形態である。上述の第３の実施形態ではＶリングが動力伝達軸に配設されていたが、これに限定されるものではない。処理室２１の密閉性を高めることができるのであれば、本実施形態のように、Ｖリングが、封止環に配設されていてもよい。
【０１０１】
図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、封止環７０Ａは、小径円筒部７１と、大径円筒部７２と、底部７３と、小径円筒部７１を底部７３側に延説させた延設部７４と、小径円筒部７１と大径円筒部７２とを接続する段差部７９と、を有する有底の段付円筒状に形成された部材である。
【０１０２】
延設部７４には、延設部７４を巻回するＶリング７７が取り付けられている。上記の第３の実施形態と同様にして、動力伝達軸５３が封止環７０に取り付けられたとき、延設部７４に取り付けられたＶリング７７のリップ部７７ａは、円盤部５５と当接する。
【０１０３】
また、封止環７０Ａを動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、動力伝達軸５３に連結することができる。これにより、封止環７０Ａを、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【０１０４】
以上のように構成された封止環７０Ａの動作について説明する。図６（ａ）に示すように、封止環７０Ａの底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５に圧接するまで、すなわち、Ｏリング７６が円盤部５５と封止環７０Ａとの間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環７０Ａを、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環７０Ａの移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【０１０５】
また、図６（ｂ）に示すように、封止環７０Ａの底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５から離間するように、すなわち、Ｏリング７６が挟圧状態から解除されるように、封止環７０Ａを処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング７６が円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、封止環７０Ａから摩擦抵抗を受けることなく回転することができる。
【０１０６】
尚、上述のとおり、本実施形態において、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。これにより、Ｖリング７７のリップ部７７ａは、処理室２１の圧力によって外部方向に撓むことはなく、常時、円盤部５５と当接している。そのため、封止環７０Ａがチャンバ２０から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。
【０１０７】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、第３の実施形態と同様に、Ｖリング５７を備え、さらにチャンバ２０の貫通孔２９に封止環７０の一部を挿入することによりチャンバ２０と封止環７０との間の気密性が保たれているので、第１及び第２の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。
【０１０８】
（第５の実施形態）
次に、本発明の第５の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については同一又は対応する符号を付す。
【０１０９】
本実施形態は、上述の第４の実施形態を変形した実施形態である。
【０１１０】
本実施形態に係る真空乾燥処理装置１０の封止環７０Ａは、上述の第４の実施形態の封止環７０Ａと同一である。
【０１１１】
図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、本実施形態では、円盤状の円盤部５５の外周部分に、円筒状の立ち上げ部５５ａが形成されている。
【０１１２】
図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、立ち上げ部５５ａとＶリング７７との間に、空間Ｓ１が形成されている。そして、空間Ｓ１に所定の量のオイルを充填して、リップ部７７ａと円盤部５５との間にオイルを浸透させている。
【０１１３】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、オイルをリップ部７７ａと円盤部５５との間に浸透させているので、第４の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。また、オイルをリップ部７７ａと円盤部５５との間に浸透させることにより、リップ部７７ａと円盤部５５とが摺接するときの摩擦抵抗を減少させるので、第４の実施形態より、リップ部７７ａが摩耗することを防ぐことができる。
【０１１４】
（第６の実施形態）
次に、本発明の第６の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【０１１５】
本実施形態は、上述の第３の実施形態を変形した実施形態である。
【０１１６】
図８（ａ）及び（ｂ）に示すように、動力伝達軸５３の円盤部５５のチャンバ２０側の面には、動力伝達軸５３の中心軸線を中心とする４重の円筒部５５ａ〜５５ｄが形成されている。また、封止環７０Ｂの段差部７９の底部７３側の面には、小径円筒部７１の中心軸線を中心とする４重の円筒部７８ａ〜７８ｄが形成されている。
【０１１７】
動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられた封止環７０Ｂの小径円筒部７１に挿通されている。そして、動力伝達軸５３は、円盤部５５の円筒部５５ａ〜５５ｄが封止環７０Ｂの円筒部７８ａ〜７８ｄとそれぞれ所定の間隔を開けて相互に噛み合うように、チャンバ２０に配設されている。これにより、図８（ｃ）に示すように、封止環７０Ｂの円筒部７８ａ〜７８ｄと、円盤部５５の円筒部５５ａ〜５５ｄとの間に、迷路状のラビリンス間隙Ｓ２が形成されている。
【０１１８】
また、ラビリンス間隙Ｓ２には、オイルが注入されている。
【０１１９】
また、封止環７０Ｂを動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環７０Ｂに連結することができる。これにより、封止環７０Ｂを、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【０１２０】
以上のように構成された封止環７０Ｂの動作及び作用について説明する。図８（ａ）に示すように、封止環７０Ｂの底部７３に配設されたＯリング７６が円盤部５５に圧接するまで、すなわち、Ｏリング７６が円盤部５５と封止環７０Ｂとの間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環７０Ｂを処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環７０Ｂの移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【０１２１】
また、図８（ｂ）に示すように、封止環７０Ｂの底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５から離間するように、すなわち、Ｏリング７６が挟圧状態から解除されるように、封止環７０Ｂを処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング７６が円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、封止環７０Ｂから摩擦抵抗を受けることなく回転することができる。
【０１２２】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、円盤部５５と封止環７０Ｂとに複数の円筒部を設け、それらの円筒部が相互に噛み合うように、すなわちラビリンス構造が形成されるように円盤部５５と封止環７０Ｂとを配設したので、第３の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。また、ラビリンス間隙にオイルを注入したので、処理室２１の密閉性を一層高めることができる。
【０１２３】
（第７の実施形態）
次に、本発明の第７の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【０１２４】
図９（ａ）及び（ｂ）に示すように、動力伝達軸５３の軸方向の中途部には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。
【０１２５】
また、図９（ａ）及び（ｂ）に示すように、チャンバ２０の右側壁には、処理室２１とチャンバ２０の外部とを連通する貫通孔１２９が形成されている。貫通孔１２９のチャンバ２０の外部には、チャンバ２０の右側壁に対し垂直に延出する円筒状の延出部１２９Ａが形成されている。
【０１２６】
貫通孔１２９の内周面及び延出部１２９Ａの内周面には、周方向に溝１２９ａ〜１２９ｃが形成されている。溝１２９ａ及び１２９ｃには、後述する封止環８０の外周面と当接して封止環８０を支持する支持環１２６が配設されている。支持環１２６は、フッ化樹脂などの表面の摩擦係数が小さい樹脂から形成されている。
【０１２７】
溝１２９ｂには、弾性部材から形成されたＯリング１２７が配設されている。
【０１２８】
図９（ａ）に示すように、貫通孔１２９及び円筒状の延出部１２９Ａには、封止環８０が挿通されている。
【０１２９】
封止環８０は、円筒部８１と、円筒部８１の一端から円筒部８１の中心軸線に対して垂直に延出する環状のフランジ部８２と、を備える略円筒状に形成された部材である。円筒部８１は、外径が貫通孔１２９及び延出部１２９Ａの直径より僅かに小さく形成され、内径が動力伝達軸５３の直径より大きく形成されている。フランジ部８２は、外径が貫通孔１２９の直径より僅かに大きく形成されている。封止環８０は、フランジ部８２が処理室２１の右側壁の内側近傍に位置するように、配設されている。
【０１３０】
円筒部８１の処理室２１の内部に位置する端面には、処理室２１の内部から見て円形状の、溝８１ａが形成されている。溝８１ａには弾性部材からなるＯリング８５が配設されている。
【０１３１】
封止環８０の円筒部８１の内周面には、周方向に溝８１ｂ、８１ｃが形成されている。溝８１ｂ、８１ｃには、表面の摩擦係数が小さな弾性材料から形成されたＶリング８６、８７が配設されている。
【０１３２】
また、円筒部８１の溝８１ｂと８１ｃとの間には、円筒部８１の外周面と内周面とを径方向に連通するオイル注入用の貫通孔８１ｄが形成されている。
【０１３３】
次に、封止環８０及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。まず、処理室２１の内部から、封止環８０の円筒部８１を貫通孔１２９及び延出部１２９Ａに挿入する。そして、円筒部８１の外周面を貫通孔１２９及び延出部１２９ＡのＯリング１２７に圧接させた状態で、チャンバ２０に配設する。これにより、封止環８０の外周面と貫通孔１２９及び延出部１２９Ａの内周面との間の気密性が保たれる。
【０１３４】
次に、処理室２１の内部から、動力伝達軸５３を封止環８０の円筒部８１に挿通する。そして、円盤部５５が、円筒部８１の端面近傍に位置するように、動力伝達軸５３をチャンバ２０に配設する。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。尚、このとき、封止環８０に取り付けられたＶリング８６、８７のリップ部８６ａ、８７ａは、動力伝達軸５３の外周面と当接している。
【０１３５】
動力伝達軸５３がチャンバ２０に取り付けられた後、処理室２１の密閉性を高めるため、また、リップ部８６ａ、８７ａの摩耗を防ぐため、貫通孔８１ｄにオイルを注入して、リップ部８６ａ、８７ａと動力伝達軸５３との間にオイルを浸透させている。
【０１３６】
また、封止環８０を軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環８０に連結することができる。これにより、封止環８０を、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【０１３７】
以上のように構成された封止環８０の動作及び作用について説明する。図９（ａ）に示すように、封止環８０の円筒部８１に配設されたＯリング８５が円盤部５５に圧接するまで、すなわち、Ｏリング８５が円盤部５５と封止環８０との間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環８０を処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環８０の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【０１３８】
また、図９（ｂ）に示すように、円筒部８１に配設されたＯリング８５が円盤部５５から離間するように、すなわち、Ｏリング８５が挟圧状態から解除されるように、封止環８０を処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング８５が円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、封止環８０から摩擦抵抗を受けることなく回転することができる。
【０１３９】
尚、上述の通り、本実施形態において、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。これにより、Ｖリング８６、８７のリップ部８６ａ、８７ａは、処理室２１の圧力によって撓むことはなく、常時、動力伝達軸５３の外周面と当接している。そのため、円筒部８１に配設されたＯリング８５が円盤部５５から離間するように、封止環８０が処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。また、Ｖリング８６、８７は、表面の摩擦係数が小さい弾性部材から形成されているため、動力伝達軸５３は、Ｖリング８６、８７のリップ部８６ａ、８７ａと動力伝達軸５３の外周面とが摺接することによる抵抗をほとんど受けることなく回転することができる。
【０１４０】
尚、封止環８０を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の中心軸線方向へ移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【０１４１】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、チャンバ２０の貫通孔１２９に封止環８０の一部を挿入することによりチャンバ２０と封止環８０との間の気密性が保たれているので、第１及び第２の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。また、Ｖリングのリップ部と動力伝達軸５３との間にオイルを浸透させているので、処理室２１の密閉性を一層高めることができる。
【０１４２】
（第８の実施形態）
次に、本発明の第８の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【０１４３】
本実施形態は、上述の第７の実施形態を変形した実施形態である。上述の第７の実施形態ではＶリングが封止環に配設されていたが、これに限定されるものではない。処理室２１の密閉性を高めることができるのであれば、本実施形態のように、Ｖリングが動力伝達軸に配設されていてもよい。
【０１４４】
図１０（ａ）及び（ｂ）に示すように、封止環８０Ａは、円筒部８１と、円筒部８１の一端から円筒部８１の中心軸線に対して垂直に延出する環状のフランジ部８２と、円筒部８１と着脱できる環状の端部部材８３と、を有する略円筒状に形成された部材である。
【０１４５】
封止環８０Ａの円筒部８１の内周面には、周方向に段差部８１ｅが形成されている。また、円筒部８１には、円筒部８１の外周面と、内周面に形成された段差部８１ｅとを径方向に連通するオイル注入用の貫通孔８１ｄが形成されている。
【０１４６】
また、動力伝達軸５３には、動力伝達軸５３を巻回するＶリング８８、８９が取り付けられている。
【０１４７】
次に、封止環８０Ａ及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。まず、処理室２１の内部から、平板部８３を取り外した封止環８０Ａの円筒部８１を貫通孔１２９及び延出部１２９Ａに挿入する。そして、円筒部８１の外周面を貫通孔１２９及び延出部１２９ＡのＯリング１２７に圧接させた状態で、チャンバ２０に配設する。これにより、封止環８０の外周面と貫通孔１２９及び延出部１２９Ａの内周面との間の気密性が保たれる。
【０１４８】
次に、処理室２１の内部から、動力伝達軸５３を封止環８０の円筒部８１に挿通する。そして、円盤部５５が、円筒部８１の端面近傍に位置するように、動力伝達軸５３をチャンバ２０に配設する。その後、チャンバ２０の外部からＶリング８８、８９を動力伝達軸５３に挿通させる。尚、Ｖリング８８、８９は、封止環８０Ａの段差部８１ｅ内に対応する位置に配設される。その後、チャンバ２０の外部から、端部部材８３を円筒部８１に取り付ける。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。尚、このとき、動力伝達軸５３に取り付けられたＶリング８８のリップ部８８ａは段差部８１ｅに、Ｖリング８９のリップ部８９ａは端部部材８３に、それぞれ当接している。
【０１４９】
動力伝達軸５３がチャンバ２０に取り付けられた後、処理室２１の密閉性を高めるため、また、リップ部８８ａ、８９ａの摩耗を防ぐため、貫通孔８１ｄにオイルを注入して、リップ部８８ａと段差部８１ｅとの間、及び、リップ部８９ａと端部部材８３との間にオイルを浸透させている。
【０１５０】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、第７の実施形態と同様に、チャンバ２０の貫通孔１２９に封止環８０Ａの一部を挿入することによりチャンバ２０と封止環８０Ａとの間の気密性が保たれているので、第１及び第２の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。また、Ｖリングのリップ部と、封止環８０Ａの内周面に形成された段差部及び端部部材と、の間にオイルを浸透させているので、一層処理室２１の密閉性を高めることができる。
【０１５１】
（第９の実施形態）
次に、本発明の第９の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【０１５２】
図１１（ａ）及び（ｂ）に示すように、動力伝達軸５３の軸方向の中途部には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。
【０１５３】
図１１（ａ）及び（ｂ）に示すように、封止環９０は、回転部９１と、軸受部９２と、支持部９３と、を備えている。
【０１５４】
回転部９１は、略円筒状に形成されている。回転部９１には、動力伝達軸５３の直径より大きな直径の貫通孔９１ａが形成されている。さらに、貫通孔９１ａの内周面には、周方向に溝９１ｂが形成されている。溝９１ｂには、弾性部材から形成されたＯリング９５が配設されている。
【０１５５】
また、回転部９１のチャンバ２０側の面には、チャンバ２０側から見て円形状の、溝９１ｃが形成されている。溝９１ｃには、Ｏリング９６が配設されている。さらに、回転部９１のチャンバ２０側の面には、段差部９１ｄが形成されている。段差部９１ｄには、Ｖリング９７が固定されている（図１１（ｃ）参照）。また、回転部９１の外周面は、軸受部９２に固定されている。
【０１５６】
軸受部９２は、リング状に形成された内輪部９２ａと、複数のボール９２ｂと、リング状に形成された外輪部９２ｃと、から構成されている。内輪部９２ａの内周面は、回転部９１の外周面に固定されている。また、外輪部９２ｃの外周面は、支持部９３に固定されている。
【０１５７】
支持部９３は、リング状に形成されている。支持部９３は、軸受部９２を支持しており、また、軸受部９２を介して回転部９１を支持している。
【０１５８】
封止環９０は、以上のように構成されているので、支持部９３が回転しないように固定された状態で、回転部９１に回転部９１の中心軸線まわりの力が加えられると、回転部９１は、その中心軸線まわりに回転する。
【０１５９】
次に、封止環９０及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。まず、ファン５１を取り外した動力伝達軸５３を、封止環９０の貫通孔９１ａに挿通し、円盤部５５が所定の位置に位置するまで押し込む。これにより、動力伝達軸５３は、貫通孔９１ａの内周面に配設されたＯリング９５を動力伝達軸５３の外周面で押圧した状態で、封止環９０に取り付けられる。次に、封止環９０に挿通した動力伝達軸５３を、チャンバ２０の外部から貫通孔２１に挿通する。そして、封止環９０のＶリング９７のリップ部９７ａが、チャンバ２０の右側壁の外面と軽く当接するように、動力伝達軸５３及び封止環９０を、処理室２１の右側壁の近傍に配設する。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。尚、このとき、図１１（ｃ）に示すように、Ｖリング９７は、動力伝達軸５３とは僅かに離間している。
【０１６０】
上述のとおり、動力伝達軸５３は、貫通孔９１ａの内周面に配設されたＯリング９５を外周面で押圧している。そのため、動力伝達軸５３が回転すると、動力伝達軸５３の外周面とＯリング９５との間に、摩擦抵抗が発生するので、回転部９１は動力伝達軸５３と共に回転する。
【０１６１】
また、封止環９０を動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環９０に連結することができる。これにより、封止環９０を、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【０１６２】
以上のように構成された封止環９０の、動力伝達軸５３の軸方向の動作及び作用について説明する。図１１（ａ）に示すように、封止環９０のチャンバ２０側の面に配設されたＯリング９６がチャンバ２０に圧接するまで、すなわち、Ｏリング９６が封止環９０とチャンバ２０の右側壁との間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環９０を処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環９０の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【０１６３】
また、図１１（ｂ）に示すように、封止環９０に配設されたＯリング９６が、チャンバ２０と離間するように、すなわち、Ｏリング９６が挟圧状態から解除されるように、封止環９０を処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング９６はチャンバ２０から離間しているので、動力伝達軸５３は、チャンバ２０から摩擦抵抗を受けることなく回転することができる。
【０１６４】
尚、上述のとおり、本実施形態において、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。これにより、Ｖリング９７のリップ部９７ａは、処理室２１の圧力によって外部方向に撓むことはなく、常時、チャンバ２０と当接している。そのため、封止環９０のＯリング９６がチャンバ２０から離間するように、封止環９０が処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。
【０１６５】
尚、封止環９０を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の中心軸線方向に移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【０１６６】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、Ｖリング９７を備え、常時、Ｖリング９７のリップ部９７ａがチャンバ２０の右側壁の外面と軽く当接するようにしたので、第１の実施形態より処理室２１の密閉性を高めることができる。
【符号の説明】
【０１６７】
１０ 真空乾燥処理装置
２０ チャンバ
２０ａ 密閉扉
２１ 処理室
２２ ヒータ
２３ 隔板
２４ ワーク載置台
２９ 貫通孔
３１ ガス導入口
３２ 導管
３３ ガス導入弁
３４ ガス供給装置
３６ 排気口
３７ 導管
３８ ガス排気弁
４０ 真空装置
５０ ファンユニット
５１ ファン
５２ ファンモータ
５３ 動力伝達軸
５５ 円盤部
５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ 円筒部
５６ Ｏリング
５７ Ｖリング
５９ 軸受
６０ 封止環
６１ 円筒部
６２ 底部
６５ Ｏリング
６６ Ｏリング
７０ 封止環
７１ 小径円筒部
７２ 大径円筒部
７３ 底部
７４ 延設部
７５ Ｏリング
７６ Ｏリング
７７ Ｖリング
７８ａ、７８ｂ、７８ｃ、７８ｄ 円筒部
８０ 封止環
８１ 円筒部
８２ フランジ部
８５ Ｏリング
８７ Ｖリング
８８ Ｖリング
８９ Ｖリング
９０ 封止環
９１ 回転部
９２ 軸受部
９３ 固定部
９５ Ｏリング
９６ Ｏリング
９７ Ｖリング
１００ 制御部
１２０ チャンバ
１２１ 処理室
１２５ 貫通部
１２６ 支持環
１２７ Ｏリング
【技術分野】
【０００１】
本発明は、乾燥装置及び乾燥方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
密閉処理室内を真空状態にした後不活性ガスを導入し、ファンを回転させて加熱した不活性ガスを循環させて被乾燥物を加熱し、その後、密閉処理室内を真空にすることにより収容された被乾燥物を乾燥させる乾燥装置がある。
【０００３】
上述の乾燥装置には、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、密閉処理室内に設けられたファンを回転させるために、磁気継手機構が用いられている。磁気継手機構は、先端に永久磁石を有する一対の円柱状の動力伝達軸を備えている。そして、その一対の動力伝達軸は、隔壁を挟んだ状態で、密閉処理室の内側及び外側に、永久磁石の極性が互いに逆になるように配設されている。そして、磁気継手機構は、外側の動力伝達軸が回転すると、磁力により内側の動力伝達軸が回転するように構成されている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００４】
また、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、密閉処理室内に設けられたファンを回転させる他の構造として、上述の乾燥装置には、オイルシール構造が用いられている。オイルシール構造では、密閉処理室に形成された貫通孔と、該貫通孔に挿通された動力伝達軸との間に、オイルシールが配設されている（例えば、特許文献２を参照）。
【０００５】
また、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、密閉処理室内に設けられたファンを回転させる他の構造として、上述の乾燥装置には、メカニカルシール構造が用いられている。メカニカルシール構造は、動力伝達軸に動力伝達軸と直角な円盤部を設け、この円盤部を、両側から、押圧部で挟むように構成されている（例えば、特許文献３）。
【０００６】
また、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、密閉処理室内に設けられたファンを回転させる他の構造として、上述の乾燥装置には、磁性流体シール構造が用いられている。磁性流体シール構造では、密閉処理室に形成された貫通孔と、該貫通孔に挿通された動力伝達軸との間に磁性流体が配設されている（例えば、特許文献４を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−２３１３３８号公報
【特許文献２】特開２０１１−１１７５５０号公報
【特許文献３】特開平７−２０８６１２号公報
【特許文献４】特開２００８−３８９８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１に記載の磁気継手機構では、外側の動力伝達軸の回転速度を所定の回転速度以上にすると、内側の動力伝達軸がその回転速度に追従できず、内側の動力伝達軸にいわゆる「すべり」が生じてしまう。そのため、上記の磁気継手機構では、内側の動力伝達軸を所定の回転速度以上に上げることができない。従って、上記の磁気継手機構では、ファンを高速に回転させることができず、密閉処理室内の気体の循環速度を上げることができず、ひいては、大きな乾燥力を得ることができない。
【０００９】
また、特許文献２に記載のオイルシール構造では、動力伝達軸が回動できるように、貫通孔と動力伝達軸との間が強固に固定されていない。そのため、密閉処理室の圧力が高真空、例えば１Ｐａ程度の場合、密閉処理室の密閉性を保つことができない。
【００１０】
また、特許文献３に記載のメカニカルシール構造では、円盤部と押圧部とが常に当接しているので、動力伝達軸の回転速度を上げると、円盤部は押圧部から大きな摩擦抵抗を受ける。そのため、動力伝達軸を所定の回転速度以上に上げることができない。従って、特許文献３に記載の構造では、ファンを高速に回転させることができず、密閉処理室内の気体の循環速度を上げることができず、ひいては、大きな乾燥力を得ることができない。
【００１１】
また、特許文献４に記載の構造では、動力伝達軸の回転速度を上げると、磁性流体が遠心力で飛散してしまう。そのため、動力伝達軸を所定の回転速度以上に上げることができない。従って、特許文献４に記載の構造では、ファンを高速で回転させることができず、密閉処理室内の気体の循環速度を上げることができず、ひいては、大きな乾燥力を得ることができない。
【００１２】
本発明は、このような問題点に着目してなされたもので、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、乾燥力を高めた乾燥装置及び乾燥方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
前記目的を達成するために、本発明の第１の観点に係る乾燥装置は、
被乾燥体を収容する処理室を有するチャンバと、
前記処理室内に配置されたファンと、
前記チャンバに形成された貫通孔に挿通され、前記チャンバ内で前記ファンに連結され、前記チャンバ外で動力源に連結された動力伝達軸と、
前記処理室内を常圧又はそれ以上の圧力にある第１の圧力状態と、常圧よりも低い第２の圧力状態とに切り替える圧力調整手段と、
前記チャンバと前記動力伝達軸との間を気密に固定する気密状態と、前記チャンバと前記動力伝達軸との間の気密を解いて、前記動力伝達軸を回転可能とする回転可能状態と、を切り替える状態切替手段と、
前記処理室内に配設され、前記処理室内の気体を加熱する加熱装置と、
前記圧力調整手段により前記処理室内を前記第１の圧力状態とし、前記切替手段により、前記チャンバと前記動力伝達軸との間の気密を解いて、前記動力伝達軸を回転可能とし、前記動力源により前記動力伝達軸を介してファンを回転させて被乾燥体を流動気体により加熱し、前記圧力調整手段により前記処理室内を前記第２の圧力状態とし、前記切替手段により、前記チャンバと前記動力伝達軸との間を気密とすることにより、被乾燥体を真空乾燥する制御手段と、
を備えることを特徴とする。
【００１４】
前記状態切替手段は、前記動力伝達軸の一端と他端との間に設けられて前記動力伝達軸と共に回転する板状の回転体と、前記回転体の板面と対向する位置に形成されている非回転部と、前記動力伝達軸を挿通させていると共に前記回転体と前記非回転部との間に配設されている弾性体からなる環状部材と、前記環状部材が気密的に前記回転体と前記非回転部との間で挟圧されている挟圧状態又は前記環状部材が挟圧状態から解除されている挟圧解除状態となるように、前記回転体又は前記非回転部を前記動力伝達軸の軸方向に移動させる移動機構と、
を備えていてもよい。
【００１５】
前記非回転部は、前記チャンバに形成されていてもよい。
【００１６】
さらに、前記動力伝達軸を挿通させている円筒部材を備え、
前記非回転部は、前記円筒部材に形成されていてもよい。
【００１７】
前記円筒部材は、前記円筒部材の一部が前記チャンバの貫通孔に嵌入された状態で、前記動力伝達軸の軸方向に移動可能に配設されていてもよい。
【００１８】
前記円筒部材のうち前記チャンバの貫通孔に嵌入された部位の外周面と前記チャンバの貫通孔の内周面との間には、弾性部材が配設されていてもよい。
【００１９】
前記回転体は、中心軸線が前記動力伝達軸の中心軸線と略同一であって、前記動力伝達軸の軸方向に垂直に形成された円盤部であってもよい。
【００２０】
前記環状部材は、前記回転体の板面に形成された溝に配設されていてもよい。
【００２１】
前記環状部材は、前記非回転部に形成された溝に配設されていてもよい。
【００２２】
前記環状部材は、中心軸線が前記動力伝達軸の中心軸線と略同一に配設されていてもよい。
【００２３】
前記動力伝達軸は軟質片を有するＶリングを備え、前記Ｖリングは前記軟質片が常に前記非回転部と接するように配設されていてもよい。
【００２４】
前記非回転部は軟質片を有するＶリングを備え、前記Ｖリングは前記軟質片が常に前記回転体又は前記動力伝達軸と接するように配設されていてもよい。
【００２５】
前記圧力調整手段は、真空ポンプ又はガス供給装置であってもよい。
【００２６】
前記目的を達成するために、本発明の第２の観点に係る乾燥方法は、
処理室内に被乾燥体を載置する工程と、
前記処理室内を常圧又はそれ以上の圧力にある第１の圧力状態とする工程と、
前記チャンバと該チャンバを貫通する動力伝達軸との間の気密状態を解いて、前記チャンバの外部より前記動力伝達軸を回転して、前記動力伝達軸に連結されているファンを回して、前記処理室内の加熱された気体を流動させて被乾燥体を加熱する工程と、
前記処理室内を常圧よりも低い第２の圧力状態とする工程と、
前記チャンバと該チャンバを貫通する前記動力伝達軸との間を気密に固定し、気密状態を維持して、被乾燥体を真空乾燥する工程と、
を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２７】
本発明によれば、密閉処理室の密閉性を損なうことなく、乾燥力を高めた乾燥装置及び乾燥方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る真空乾燥処理装置を模式的に示す図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部である図１のＡ部を拡大して示す図であり、（ａ）は、チャンバを処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、チャンバを処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係る真空乾燥処理装置を用いてワークを乾燥させる工程を示すグラフである。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図５】本発明の第３の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図６】本発明の第４の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図７】本発明の第５の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図８】本発明の第６の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図であり、（ｃ）は、（ｂ）のＢ部を拡大して示す図である。
【図９】本発明の第７の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図１０】本発明の第８の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図である。
【図１１】本発明の第９の実施形態に係る真空乾燥処理装置の要部を示す図であり、（ａ）は、封止環を処理室側に移動させた状態を示す図であり、（ｂ）は、封止環を処理室とは反対側に移動させた状態を示す図であり、（ｃ）は（ｂ）のＣ部を拡大して示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の実施形態について図面を参照して説明する。なお、本発明は、下記の実施形態及び図面によって限定されるものではない。本発明の要旨を変更しない範囲で、下記の実施形態及び図面に変更を加えることが出来るのはもちろんである。
【００３０】
（第１の実施形態）
本発明の第１の実施形態に係る真空乾燥処理装置について説明する。
【００３１】
図１に示すように、真空乾燥処理装置１０は、チャンバ２０と、真空装置４０と、ファンユニット５０と、制御部１００と、を備えている。尚、図１に示す真空乾燥処理装置１０の、図面上側を「上側」、図面下側を「下側」、図面左側を「左側」、図面右側を「右側」、として以下説明する。
【００３２】
チャンバ２０は、左側に密閉扉２０ａを有し、略直方体の箱状に形成されている。また、チャンバ２０の内部には、ワークＷを乾燥させるための処理室２１が形成されている。
【００３３】
処理室２１には、ワークＷを載置するためのワーク載置台２４が設けられている。処理室２１の右側壁近傍には、ファンユニット５０のファン５１が配設されている。ファン５１は、多数の羽を有する円筒部５１ａと、底部５１ｂと、を有する有底円筒状のシロッコファンである。
【００３４】
ファン５１の円筒部５１ａの外周近傍には、円筒部５１ａから吐出された気体を加熱するための、コイル状に形成されたヒータ２２が設けられている。尚、ヒータ２２は、プレート状のものであってもよい。
【００３５】
ファン５１とワーク載置台２４との間には、隔板２３が設けられている。隔板２３は、ファン５１の円筒部５１ａの外径よりやや小さな径を有する小径円筒部２３ａと、その小径円筒部２３ａより大径の大径円筒部２３ｂとを有し、軸方向の中途部に段差を有する段付円筒状に形成された部材である。隔板２３は、壁面の近傍と、その間の中間領域とを隔てる板である。
【００３６】
処理室２１では、ファン５１が回転すると、図１の破線矢印に示すように、処理室２１内の中間領域の気体は、円筒部５１ａの中心から吸い込まれ、円筒部５１ａの外周方向に吐出される。そして、ファン５１から吐出された気体は、密閉扉２０ａに対して垂直な壁面の近傍を通って、密閉扉２０ａ近傍に到達する。そして、気体はワークＷの近傍を通って、再び、ファン５１の円筒部５１ａの中心から吸い込まれる。以上のように、処理室２１内の気体は、処理室２１内を循環する。
【００３７】
チャンバ２０の上壁には、処理室２１とチャンバ２０の外部とを連通するガス導入口３１が形成されている。ガス導入口３１には導管３２が接続されている。導管３２には、ガス導入弁３３が接続されている。また、ガス導入弁３３には、ガス供給装置３４が接続されている。処理室２１とガス供給装置３４とが連通するようにガス導入弁３３を開くことにより、処理室２１は、ガス供給装置３４から窒素などの不活性ガスや乾燥空気を導入することができる。
【００３８】
また、チャンバ２０の右側壁には、処理室２１とチャンバ２０の外部とを連通する排気口３６が形成されている。排気口３６には導管３７が接続されている。導管３７には、ガス排気弁３８が接続されている。ガス排気弁３８は、外気方向にも切り替え可能な３方弁で形成されている。また、ガス排気弁３８には、真空装置４０が接続されている。
【００３９】
真空装置４０は、例えばロータリーポンプにより構成されている。尚、ガス排気弁３８と真空装置４０の間に、気体に含まれている水分を取り除くためのコールドトラップを設けてもよい。
【００４０】
処理室２１と真空装置４０とが連通するようにガス排気弁３８を開いた状態で真空装置４０を作動させると、処理室２１内の気体は、真空装置４０に吸引されて、ガス排気弁３８を通過し、真空装置４０から排気される。これにより、処理室２１内は真空状態となる。
【００４１】
また、チャンバ２０の右側壁には、処理室２１とチャンバ２０の外部とを連通する貫通孔２９が形成されている。貫通孔２９は、チャンバ２０にファンユニット５０を配設するための孔である。ファンユニット５０は、処理室２１内の気体を循環させるためのものである。ファンユニット５０は、上述した処理室２１内に配置されるファン５１と、チャンバ２０の外部に配置されるファンモータ５２と、一端がファン５１に連結され他端がファンモータ５２に連結されると共に貫通孔２９内に挿通されて右側壁と当接することなく回転する動力伝達軸５３と、から構成されている。
【００４２】
また、動力伝達軸５３を所定の位置で安定して回転させるため、チャンバ２０の外部には、動力伝達軸５３の外周と当接する軸受５９が設けられている。尚、図示していないが、動力伝達軸５３をより一層安定して回転させるため、処理室２１内にも、動力伝達軸５３の外周と当接する軸受が設けられている。
【００４３】
動力伝達軸５３の一端は、後述するように、動力伝達軸５３を貫通孔２９へ挿通するために、ファン５１の底部５１ｂに着脱可能に接続されている。また、動力伝達軸５３の他端には、回転軸の周方向にギアが形成されている。動力伝達軸５３は、ギアがファンモータ５２に設けられたギアと噛み合うように配設されている。また、動力伝達軸５３のギアとファンモータ５２のギアとの噛み合いを解除するため、ファンモータ５２は、動力伝達軸５３の軸方向に対して垂直な方向に移動可能に形成されている。
【００４４】
また、動力伝達軸５３を軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、動力伝達軸５３に連結することができる。これにより、ファンモータ５２のギアとの噛み合いが解除された動力伝達軸５３とファン５１とを、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【００４５】
また、動力伝達軸５３の軸方向の中途部、すなわち、一端と他端との間には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。動力伝達軸５３は、円盤部５５がチャンバ２０の右側壁の外側近傍に位置するように、チャンバ２０の貫通孔２９に挿通されている。尚、上述のとおり、ファン５１は、動力伝達軸５３と着脱可能に接続されている。そのため、動力伝達軸５３をチャンバ２０の貫通孔２９に挿通させた後、処理室２１の内側から、ファン５１を動力伝達軸５３に接続することができる。
【００４６】
図２（ａ）に示すように、円盤部５５のチャンバ２０側の面には、チャンバ２０側から見て動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円形状の、溝５５ａが形成されている。溝５５ａには、弾性部材から形成されたＯリング５６が配設されている。
【００４７】
以上のように構成されたファン５１及び動力伝達軸５３の動作と作用について説明する。図２（ａ）に示すように、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁に圧接するまで、すなわち、Ｏリング５６が円盤部５５とチャンバ２０との間で中心軸線方向に挟圧されるまで、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、ファン５１及び動力伝達軸５３の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【００４８】
また、図２（ｂ）に示すように、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように、すなわち、Ｏリング５６が挟圧状態から解除されるように、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング５６はチャンバ２０の右側壁から離間しているので、動力伝達軸５３は、チャンバ２０から摩擦抵抗を受けることなく、回転することができる。尚、このとき、円盤部５５とチャンバ２０との間には僅かな隙間が形成されているので、処理室２１は密閉状態が解除されている。すなわち、処理室２１はチャンバ２０の外部と連通状態になっている。
【００４９】
図１に戻り、制御部１００は、コンピュータから構成され、真空乾燥処理装置１０の動作を制御する。具体的には、制御部１００は、制御部１００内の記憶部に記憶された制御プログラムにしたがって、ヒータ２２の加熱、ガス導入弁３３及びガス排気弁３８の開閉、ガス供給装置３４、真空装置４０、ファンモータ５２の作動、等を制御するための制御信号を各部に供給することにより、図示しないドライバ駆動回路等を介して真空乾燥処理装置１０の動作を制御する。
【００５０】
また、処理室２１には処理室内の圧力を計測する圧力センサ（図示せず）、及び処理室内の温度を検知する温度センサ（図示せず）が備えられている。
【００５１】
次に、以上のように構成された本実施形態に係る真空乾燥処理装置１０を用いたワークＷの乾燥方法について、図１乃至図３を用いて説明する。
【００５２】
（窒素置換工程）
まず、処理室２１にワークＷを導入する。そして、真空乾燥処理装置１０の電源を投入する。制御部１００は、処理室２１を密閉状態にするために、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁に圧接するまで、ファン５１及び動力伝達軸５３を処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。（図２（ａ）参照）。次に、制御部１００は、ガス排気弁３８を開かせ、真空装置４０を作動させる。これにより、図３の（ａ）に示すように、処理室２１は減圧される。制御部１００は、処理室２１の真空度が所定の真空度、例えば１０Ｐａに達したら、真空装置４０を停止させ、ガス排気弁３８を閉じさせる。
【００５３】
次に、制御部１００は、ガス導入弁３３を開かせ、ガス供給装置３４を作動させる。これにより、図３の（ｂ）に示すように、処理室２１に窒素ガスが供給される。制御部１００は、処理室２１の気圧が大気圧とほぼ同じか、大気圧より僅かに高くなったら、ガス供給装置３４を停止させ、ガス導入弁３３を閉じさせる。
【００５４】
（循環昇温工程）
次に、制御部１００は、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように（図２（ｂ）参照）、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。
【００５５】
その後、制御部１００は、ヒータ２２のスイッチをオンさせると共に、ファン５１を回転させるために、ファンモータ５２を作動させる。これにより、ヒータ２２により加熱させられた窒素ガスが、図１の破線矢印のように、処理室２１内を循環する。循環した気体がさらにヒータ２２より加熱させられるので、図３の（ｃ）に示すように、処理室２１の温度は上昇する。
【００５６】
尚、このとき、上述のとおり、円盤部５５に配設されたＯリング５６は、チャンバ２０と当接していない（図２（ｂ）参照）。そのため、動力伝達軸５３が回転するとき、ファンモータ５２に、摩擦抵抗による回転負荷がかからない。これにより、動力伝達軸５３に接続されたファン５１は、高速、例えば、１０００（回転／分）で回転することができる。ファン５１が高速で回転することにより、処理室２１内の窒素ガスの循環速度が大きくなる。そして、ワークＷには大きな循環速度を有する加熱された窒素ガスが衝突するので、ワークＷの加熱速度が大きくなる。尚、制御部１００は、窒素ガスが例えば２００℃に加熱されるように、ヒータ２２を制御している。
【００５７】
尚、この工程において、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させているので、処理室２１はチャンバ２０の外部と連通状態になっている。しかし、上述のとおり、処理室２１の気圧は大気圧とほぼ同じか、大気圧より僅かに高いので、チャンバ２０の外部の気体は処理室２１に進入しない。
【００５８】
（真空乾燥工程）
次に、制御部１００は、ファン５１の回転を停止させるためにファンモータ５２を停止させる。尚、処理室２１の温度を所定の高温に維持するため、ヒータ２２のスイッチはオンの状態のままとする。次に、制御部１００は、処理室２１を密閉状態にするために、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁に圧接するまで（図２（ａ）参照）、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。その後、制御部１００は、ガス排気弁３８を開かせ、真空装置４０を作動させる。これにより、図３の（ｄ）に示すように、処理室２１が減圧される。このとき、処理室２１の圧力を、例えば１．０×１０−１Ｐａまで下げる。その後、真空装置４０を停止させて、ガス排気弁３８を閉じさせる。この状態を所定の時間維持することにより、ワークＷは乾燥させられる。
【００５９】
尚、上述のとおり、処理室２１の高温の気体は、真空装置４０によって、チャンバ２０の外へ排気されるが、ヒータ２２は作動したままなので、処理室２１の温度は所定の高温に維持される。
【００６０】
（開放冷却工程）
次に、制御部１００は、ヒータ２２のスイッチをオフにして、ガス排気弁３８を外気側に切り替える。そして、制御部１００は、ガス導入弁３３を開かせ、ガス供給装置３４を作動させる。これにより、図３の（ｅ）に示すように、処理室２１に窒素ガスが供給される。尚、このとき、制御部１００は、処理室２１の気圧を大気圧とほぼ同じか、大気圧より僅かに高くなるように制御する。
【００６１】
次に、制御部１００は、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように（図２（ｂ）参照）、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。そして、制御部１００は、ファン５１を回転させるために、ファンモータ５２を作動させる。上述のとおり、ファン５１が高速で回転することにより、処理室２１内の窒素ガスの循環速度が大きくなる。そして、ワークＷには大きな循環速度を有する窒素ガスが衝突するので、ワークＷの冷却速度が大きくなる。
【００６２】
図３の（ｆ）に示すように、ワークＷの温度が室温と同等の温度まで下がったら、ワークＷを取り出す。
【００６３】
以上で、真空乾燥処理装置１０を用いたワークＷの乾燥処理は終了する。尚、上記工程のうち、窒素置換工程を省略して、循環昇温工程から開始してもよい。また、上記のワークＷの乾燥方法では、制御部１００が真空乾燥処理装置１０の動作を制御するようにしたが、上記工程のうちの一部を手動で行うようにしてもよい。
【００６４】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁に圧接するまで、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１方向に移動させるので、処理室２１を密閉状態にすることができる。
【００６５】
また、円盤部５５に配設されたＯリング５６がチャンバ２０の右側壁から離間するように、ファン５１及び動力伝達軸５３を、処理室２１から離間する方向に移動させるので、チャンバ２０から摩擦抵抗を受けることなく動力伝達軸５３を回転させることができる。そして、ファン５１を、高速で回転させることができるので、処理室２１内の不活性ガスの循環速度を大きくすることができる。これにより、ワークＷの加熱速度を大きくすることができるので、ワークＷの乾燥時間を短縮することができる。
【００６６】
尚、上記実施形態では、動力伝達軸５３の円盤部５５が、処理室２１の外部に位置するように形成されていたが、処理室２１の内部に形成されていてもよい。
【００６７】
また、ファン５１及び動力伝達軸５３を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の軸方向へ移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【００６８】
また、本実施形態では、動力伝達軸５３とファンモータ５２とがギアにより連結されているが、動力伝達軸５３とファンモータ５２とがベルトで連結されていてもよい。また、動力伝達軸５３とファンモータ５２のローターとが、直接接続されていてもよい。また、本実施形態では、ファン５１はシロッコファンであったが、ターボファンであってもよい。
【００６９】
（第２の実施形態）
次に、本発明の第２の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、本実施形態に係る真空乾燥処理装置１０は、第１実施形態の真空乾燥処理装置１０と、基本的な構成は同一であり、図１のＡ部のみが相違する。
【００７０】
図４（ａ）に示すように、第１の実施形態と同様に、動力伝達軸５３の軸方向の中途部には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。
【００７１】
また、処理室２１の密閉性を高めるため、動力伝達軸５３には、動力伝達軸５３を巻回すると共に円盤部５５のチャンバ２０側の面と当接するように、Ｖリング５７が取り付けられている。Ｖリング５７は、ニトリルゴム、ＥＰＤＭ（エチレンプロピレンゴム）、フッ素ゴムなどの表面の摩擦係数が小さな弾性材料から形成されている。Ｖリング５７は、薄板状に形成されたリップ部５７ａを有している。また、Ｖリング５７は、動力伝達軸５３と共に回転する。
【００７２】
さらに、本実施形態では、動力伝達軸５３と、チャンバ２０の貫通孔２９と間に生じた隙間を封じるための封止環６０が設けられている。
【００７３】
図４（ａ）に示すように、封止環６０は、円筒部６１と底部６２とを有する略有底円筒状に形成された部材である。円筒部６１のチャンバ２０側の端面には、チャンバ２０側から見て円形状の、溝６１ａが形成されている。溝６１ａには弾性部材からなるＯリング６５が配設されている。
【００７４】
封止環６０の底部６２には、動力伝達軸５３の直径より大きな直径の貫通孔６２ａが形成されている。また、底部６２の円盤部５５側の面には、円盤部５５側から見て円形状の、溝６２ｂが形成されている。また、溝６２ｂには弾性部材からなるＯリング６６が配設されている。
【００７５】
次に、封止環６０及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。
まず、ファン５１を取り外した動力伝達軸５３を、チャンバ２０の外部から貫通孔２９に挿通する。そして、円盤部５５がチャンバ２０の右側壁の外側近傍に位置し、Ｖリング５７のリップ部５７ａがチャンバ２０の右側壁の外面と軽く当接するように、動力伝達軸５３をチャンバ２０に配設する。
【００７６】
次に、封止環６０の貫通孔６２ａを、チャンバ２０の外部から動力伝達軸５３に挿通させて、封止環６０をチャンバ２０の右側壁の近傍に配設する。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、封止環６０及び動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。
【００７７】
また、封止環６０を動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環６０に連結することができる。これにより、封止環６０を、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【００７８】
以上のように構成された封止環６０の動作と作用について説明する。図４（ａ）に示すように、封止環６０の円筒部６１に配設されたＯリング６５が、チャンバ２０の側壁に圧接するまで、また、封止環６０の底部６２に配設されたＯリング６６が、円盤部５５に圧接するまで、封止環６０を、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環６０の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【００７９】
また、図４（ｂ）に示すように、円筒部６１に配設されたＯリング６５がチャンバ２０の側壁から離間するように、また、底部６２に配設されたＯリング６６も円盤部５５から離間するように、封止環６０を処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング６６は円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、チャンバ２０及び封止環６０から摩擦抵抗を受けることなく、回転することができる。
【００８０】
尚、本実施形態において、Ｖリング５７は動力伝達軸５３の軸方向に移動しない。また、上述のとおり、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。そのため、Ｖリング５７のリップ部５７ａは、処理室２１の気体の圧力によって、外部方向に撓むことはなく、チャンバ２０の側壁の外面に常時軽く接している。これにより、封止環６０が処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。また、Ｖリング５７は、表面の摩擦係数が小さい弾性部材から形成されているため、動力伝達軸５３は、Ｖリング５７のリップ部５７ａとチャンバ２０の右側壁とが摺接することによる抵抗をほとんど受けることなく回転することができる。
【００８１】
尚、封止環６０を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の軸方向へ移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【００８２】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、Ｖリング５７を備え、常時、Ｖリング５７のリップ部５７ａがチャンバ２０の右側壁の外面と軽く当接するようにしたので、第１の実施形態より処理室２１の密閉性を高めることができる。
【００８３】
また、本実施形態の封止環６０は、動力伝達軸５３と別部品であるので、第１の実施形態のように、ファン及び動力伝達軸を移動させる必要がなく、封止環６０のみを移動させればよい。
【００８４】
（第３の実施形態）
次に、本発明の第３の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【００８５】
図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、動力伝達軸５３の軸方向の中途部には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。また、処理室２１の密閉性を高めるため、動力伝達軸５３には、動力伝達軸５３を巻回すると共に円盤部５５のチャンバ２０側の面と当接するように、Ｖリング５７が取り付けられている。
【００８６】
図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、封止環７０は、小径円筒部７１と、大径円筒部７２と、底部７３と、小径円筒部７１と大径円筒部７２とを接続する段差部７９と、を有する有底の段付円筒状に形成された部材である。
【００８７】
小径円筒部７１は、外径がチャンバ２０の貫通孔２９の直径より僅かに小さく形成され、内径が動力伝達軸５３の外径より僅かに大きく形成されている。また、小径円筒部７１の外周面には、周方向に溝７１ａが形成されている。溝７１ａには、弾性部材から形成されるＯリング７５が配設されている。
【００８８】
大径円筒部７２は、内径が円盤部５５の直径よりも大きく形成されている。また、大径円筒部７２は、内周面の動力伝達軸５３の軸方向の長さが、動力伝達軸５３に形成された円盤部５５の軸方向の厚さより大きく形成されている。
【００８９】
底部７３には、動力伝達軸５３の直径より僅かに大きな直径の貫通孔７３ａが形成されている。また、底部７３の大径円筒部７２側の面には、大径円筒部７２側から見て円形状の、溝７３ｂが形成されている。また、溝７３ｂにはＯリング７６が配設されている。尚、底部７３は、大径円筒部７２に、例えばねじ等を用いて着脱することができる。
【００９０】
次に、封止環７０及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。まず、封止環７０の小径円筒部７１をチャンバ２０の貫通孔２９に挿入する。そして、封止環７０を、小径円筒部７１のＯリング７５を貫通孔２９の内周面に圧接させた状態で、チャンバ２０に配設する。これにより、貫通孔２９の内周面と封止環７０の小径円筒部７１の外周面との間の気密性が保たれる。
【００９１】
次に、封止環７０の底部７３を、大径円筒部７２から外す。その後、ファン５１を取り外した動力伝達軸５３を、チャンバ２０の外部から小径円筒部７１に挿通し、円盤部５５が大径円筒部７２に収容されるように封止環７０に配設する。そして、底部７３の貫通孔７３ａを、チャンバ２０の外部から動力伝達軸５３に挿通させて、底部７３を大径円筒部７２に取り付ける。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、封止環７０及び動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。
【００９２】
尚、このとき、動力伝達軸５３に取り付けられたＶリング５７のリップ部５７ａは、封止環７０の小径円筒部７１又は段差部７９の内面と当接している。
【００９３】
また、封止環７０を動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環７０に連結することができる。これにより、封止環７０を、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【００９４】
以上のように構成された封止環７０の動作及び作用について説明する。図５（ａ）に示すように、封止環７０の底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５に圧接するまで、すなわち、Ｏリング７６が円盤部５５と封止環７０との間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環７０を、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環７０の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【００９５】
また、図５（ｂ）に示すように、封止環７０の底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５から離間するように、すなわち、Ｏリング７６が挟圧状態から解除されるように、封止環７０を処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング７６は円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、封止環７０から摩擦抵抗を受けることなく、回転することができる。
【００９６】
尚、上述のとおり、本実施形態において、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。これにより、Ｖリング５７のリップ部５７ａは、処理室２１の圧力によって外部方向に撓むことはなく、常時、封止環７０の小径円筒部７１又は段差部７９の内面と当接している。そのため、封止環７０の底部７３に配設されたＯリング７６が円盤部５５から離間するように、封止環７０が処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。また、Ｖリング５７は、表面の摩擦係数が小さい弾性部材から形成されているため、動力伝達軸５３は、Ｖリング５７のリップ部５７ａと封止環７０の小径円筒部７１又は段差部７９の内面とが摺接することによる抵抗をほとんど受けることなく回転することができる。
【００９７】
尚、封止環７０を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の軸方向へ移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【００９８】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、Ｖリング５７を備え、さらにチャンバ２０の貫通孔２９に封止環７０の一部を挿入することによりチャンバ２０と封止環７０との間の気密性が保たれているので、第１及び第２の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。
【００９９】
（第４の実施形態）
次に、本発明の第４の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、特に説明する場合を除き、同一又は対応する符号を付す。
【０１００】
本実施形態は、上述の第３の実施形態を変形した実施形態である。上述の第３の実施形態ではＶリングが動力伝達軸に配設されていたが、これに限定されるものではない。処理室２１の密閉性を高めることができるのであれば、本実施形態のように、Ｖリングが、封止環に配設されていてもよい。
【０１０１】
図６（ａ）及び（ｂ）に示すように、封止環７０Ａは、小径円筒部７１と、大径円筒部７２と、底部７３と、小径円筒部７１を底部７３側に延説させた延設部７４と、小径円筒部７１と大径円筒部７２とを接続する段差部７９と、を有する有底の段付円筒状に形成された部材である。
【０１０２】
延設部７４には、延設部７４を巻回するＶリング７７が取り付けられている。上記の第３の実施形態と同様にして、動力伝達軸５３が封止環７０に取り付けられたとき、延設部７４に取り付けられたＶリング７７のリップ部７７ａは、円盤部５５と当接する。
【０１０３】
また、封止環７０Ａを動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、動力伝達軸５３に連結することができる。これにより、封止環７０Ａを、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【０１０４】
以上のように構成された封止環７０Ａの動作について説明する。図６（ａ）に示すように、封止環７０Ａの底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５に圧接するまで、すなわち、Ｏリング７６が円盤部５５と封止環７０Ａとの間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環７０Ａを、処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環７０Ａの移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【０１０５】
また、図６（ｂ）に示すように、封止環７０Ａの底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５から離間するように、すなわち、Ｏリング７６が挟圧状態から解除されるように、封止環７０Ａを処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング７６が円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、封止環７０Ａから摩擦抵抗を受けることなく回転することができる。
【０１０６】
尚、上述のとおり、本実施形態において、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。これにより、Ｖリング７７のリップ部７７ａは、処理室２１の圧力によって外部方向に撓むことはなく、常時、円盤部５５と当接している。そのため、封止環７０Ａがチャンバ２０から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。
【０１０７】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、第３の実施形態と同様に、Ｖリング５７を備え、さらにチャンバ２０の貫通孔２９に封止環７０の一部を挿入することによりチャンバ２０と封止環７０との間の気密性が保たれているので、第１及び第２の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。
【０１０８】
（第５の実施形態）
次に、本発明の第５の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については同一又は対応する符号を付す。
【０１０９】
本実施形態は、上述の第４の実施形態を変形した実施形態である。
【０１１０】
本実施形態に係る真空乾燥処理装置１０の封止環７０Ａは、上述の第４の実施形態の封止環７０Ａと同一である。
【０１１１】
図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、本実施形態では、円盤状の円盤部５５の外周部分に、円筒状の立ち上げ部５５ａが形成されている。
【０１１２】
図７（ａ）及び（ｂ）に示すように、立ち上げ部５５ａとＶリング７７との間に、空間Ｓ１が形成されている。そして、空間Ｓ１に所定の量のオイルを充填して、リップ部７７ａと円盤部５５との間にオイルを浸透させている。
【０１１３】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、オイルをリップ部７７ａと円盤部５５との間に浸透させているので、第４の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。また、オイルをリップ部７７ａと円盤部５５との間に浸透させることにより、リップ部７７ａと円盤部５５とが摺接するときの摩擦抵抗を減少させるので、第４の実施形態より、リップ部７７ａが摩耗することを防ぐことができる。
【０１１４】
（第６の実施形態）
次に、本発明の第６の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【０１１５】
本実施形態は、上述の第３の実施形態を変形した実施形態である。
【０１１６】
図８（ａ）及び（ｂ）に示すように、動力伝達軸５３の円盤部５５のチャンバ２０側の面には、動力伝達軸５３の中心軸線を中心とする４重の円筒部５５ａ〜５５ｄが形成されている。また、封止環７０Ｂの段差部７９の底部７３側の面には、小径円筒部７１の中心軸線を中心とする４重の円筒部７８ａ〜７８ｄが形成されている。
【０１１７】
動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられた封止環７０Ｂの小径円筒部７１に挿通されている。そして、動力伝達軸５３は、円盤部５５の円筒部５５ａ〜５５ｄが封止環７０Ｂの円筒部７８ａ〜７８ｄとそれぞれ所定の間隔を開けて相互に噛み合うように、チャンバ２０に配設されている。これにより、図８（ｃ）に示すように、封止環７０Ｂの円筒部７８ａ〜７８ｄと、円盤部５５の円筒部５５ａ〜５５ｄとの間に、迷路状のラビリンス間隙Ｓ２が形成されている。
【０１１８】
また、ラビリンス間隙Ｓ２には、オイルが注入されている。
【０１１９】
また、封止環７０Ｂを動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環７０Ｂに連結することができる。これにより、封止環７０Ｂを、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【０１２０】
以上のように構成された封止環７０Ｂの動作及び作用について説明する。図８（ａ）に示すように、封止環７０Ｂの底部７３に配設されたＯリング７６が円盤部５５に圧接するまで、すなわち、Ｏリング７６が円盤部５５と封止環７０Ｂとの間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環７０Ｂを処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環７０Ｂの移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【０１２１】
また、図８（ｂ）に示すように、封止環７０Ｂの底部７３に配設されたＯリング７６が、円盤部５５から離間するように、すなわち、Ｏリング７６が挟圧状態から解除されるように、封止環７０Ｂを処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング７６が円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、封止環７０Ｂから摩擦抵抗を受けることなく回転することができる。
【０１２２】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、円盤部５５と封止環７０Ｂとに複数の円筒部を設け、それらの円筒部が相互に噛み合うように、すなわちラビリンス構造が形成されるように円盤部５５と封止環７０Ｂとを配設したので、第３の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。また、ラビリンス間隙にオイルを注入したので、処理室２１の密閉性を一層高めることができる。
【０１２３】
（第７の実施形態）
次に、本発明の第７の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【０１２４】
図９（ａ）及び（ｂ）に示すように、動力伝達軸５３の軸方向の中途部には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。
【０１２５】
また、図９（ａ）及び（ｂ）に示すように、チャンバ２０の右側壁には、処理室２１とチャンバ２０の外部とを連通する貫通孔１２９が形成されている。貫通孔１２９のチャンバ２０の外部には、チャンバ２０の右側壁に対し垂直に延出する円筒状の延出部１２９Ａが形成されている。
【０１２６】
貫通孔１２９の内周面及び延出部１２９Ａの内周面には、周方向に溝１２９ａ〜１２９ｃが形成されている。溝１２９ａ及び１２９ｃには、後述する封止環８０の外周面と当接して封止環８０を支持する支持環１２６が配設されている。支持環１２６は、フッ化樹脂などの表面の摩擦係数が小さい樹脂から形成されている。
【０１２７】
溝１２９ｂには、弾性部材から形成されたＯリング１２７が配設されている。
【０１２８】
図９（ａ）に示すように、貫通孔１２９及び円筒状の延出部１２９Ａには、封止環８０が挿通されている。
【０１２９】
封止環８０は、円筒部８１と、円筒部８１の一端から円筒部８１の中心軸線に対して垂直に延出する環状のフランジ部８２と、を備える略円筒状に形成された部材である。円筒部８１は、外径が貫通孔１２９及び延出部１２９Ａの直径より僅かに小さく形成され、内径が動力伝達軸５３の直径より大きく形成されている。フランジ部８２は、外径が貫通孔１２９の直径より僅かに大きく形成されている。封止環８０は、フランジ部８２が処理室２１の右側壁の内側近傍に位置するように、配設されている。
【０１３０】
円筒部８１の処理室２１の内部に位置する端面には、処理室２１の内部から見て円形状の、溝８１ａが形成されている。溝８１ａには弾性部材からなるＯリング８５が配設されている。
【０１３１】
封止環８０の円筒部８１の内周面には、周方向に溝８１ｂ、８１ｃが形成されている。溝８１ｂ、８１ｃには、表面の摩擦係数が小さな弾性材料から形成されたＶリング８６、８７が配設されている。
【０１３２】
また、円筒部８１の溝８１ｂと８１ｃとの間には、円筒部８１の外周面と内周面とを径方向に連通するオイル注入用の貫通孔８１ｄが形成されている。
【０１３３】
次に、封止環８０及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。まず、処理室２１の内部から、封止環８０の円筒部８１を貫通孔１２９及び延出部１２９Ａに挿入する。そして、円筒部８１の外周面を貫通孔１２９及び延出部１２９ＡのＯリング１２７に圧接させた状態で、チャンバ２０に配設する。これにより、封止環８０の外周面と貫通孔１２９及び延出部１２９Ａの内周面との間の気密性が保たれる。
【０１３４】
次に、処理室２１の内部から、動力伝達軸５３を封止環８０の円筒部８１に挿通する。そして、円盤部５５が、円筒部８１の端面近傍に位置するように、動力伝達軸５３をチャンバ２０に配設する。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。尚、このとき、封止環８０に取り付けられたＶリング８６、８７のリップ部８６ａ、８７ａは、動力伝達軸５３の外周面と当接している。
【０１３５】
動力伝達軸５３がチャンバ２０に取り付けられた後、処理室２１の密閉性を高めるため、また、リップ部８６ａ、８７ａの摩耗を防ぐため、貫通孔８１ｄにオイルを注入して、リップ部８６ａ、８７ａと動力伝達軸５３との間にオイルを浸透させている。
【０１３６】
また、封止環８０を軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環８０に連結することができる。これにより、封止環８０を、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【０１３７】
以上のように構成された封止環８０の動作及び作用について説明する。図９（ａ）に示すように、封止環８０の円筒部８１に配設されたＯリング８５が円盤部５５に圧接するまで、すなわち、Ｏリング８５が円盤部５５と封止環８０との間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環８０を処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環８０の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【０１３８】
また、図９（ｂ）に示すように、円筒部８１に配設されたＯリング８５が円盤部５５から離間するように、すなわち、Ｏリング８５が挟圧状態から解除されるように、封止環８０を処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング８５が円盤部５５から離間しているので、動力伝達軸５３は、封止環８０から摩擦抵抗を受けることなく回転することができる。
【０１３９】
尚、上述の通り、本実施形態において、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。これにより、Ｖリング８６、８７のリップ部８６ａ、８７ａは、処理室２１の圧力によって撓むことはなく、常時、動力伝達軸５３の外周面と当接している。そのため、円筒部８１に配設されたＯリング８５が円盤部５５から離間するように、封止環８０が処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。また、Ｖリング８６、８７は、表面の摩擦係数が小さい弾性部材から形成されているため、動力伝達軸５３は、Ｖリング８６、８７のリップ部８６ａ、８７ａと動力伝達軸５３の外周面とが摺接することによる抵抗をほとんど受けることなく回転することができる。
【０１４０】
尚、封止環８０を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の中心軸線方向へ移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【０１４１】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、チャンバ２０の貫通孔１２９に封止環８０の一部を挿入することによりチャンバ２０と封止環８０との間の気密性が保たれているので、第１及び第２の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。また、Ｖリングのリップ部と動力伝達軸５３との間にオイルを浸透させているので、処理室２１の密閉性を一層高めることができる。
【０１４２】
（第８の実施形態）
次に、本発明の第８の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【０１４３】
本実施形態は、上述の第７の実施形態を変形した実施形態である。上述の第７の実施形態ではＶリングが封止環に配設されていたが、これに限定されるものではない。処理室２１の密閉性を高めることができるのであれば、本実施形態のように、Ｖリングが動力伝達軸に配設されていてもよい。
【０１４４】
図１０（ａ）及び（ｂ）に示すように、封止環８０Ａは、円筒部８１と、円筒部８１の一端から円筒部８１の中心軸線に対して垂直に延出する環状のフランジ部８２と、円筒部８１と着脱できる環状の端部部材８３と、を有する略円筒状に形成された部材である。
【０１４５】
封止環８０Ａの円筒部８１の内周面には、周方向に段差部８１ｅが形成されている。また、円筒部８１には、円筒部８１の外周面と、内周面に形成された段差部８１ｅとを径方向に連通するオイル注入用の貫通孔８１ｄが形成されている。
【０１４６】
また、動力伝達軸５３には、動力伝達軸５３を巻回するＶリング８８、８９が取り付けられている。
【０１４７】
次に、封止環８０Ａ及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。まず、処理室２１の内部から、平板部８３を取り外した封止環８０Ａの円筒部８１を貫通孔１２９及び延出部１２９Ａに挿入する。そして、円筒部８１の外周面を貫通孔１２９及び延出部１２９ＡのＯリング１２７に圧接させた状態で、チャンバ２０に配設する。これにより、封止環８０の外周面と貫通孔１２９及び延出部１２９Ａの内周面との間の気密性が保たれる。
【０１４８】
次に、処理室２１の内部から、動力伝達軸５３を封止環８０の円筒部８１に挿通する。そして、円盤部５５が、円筒部８１の端面近傍に位置するように、動力伝達軸５３をチャンバ２０に配設する。その後、チャンバ２０の外部からＶリング８８、８９を動力伝達軸５３に挿通させる。尚、Ｖリング８８、８９は、封止環８０Ａの段差部８１ｅ内に対応する位置に配設される。その後、チャンバ２０の外部から、端部部材８３を円筒部８１に取り付ける。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。尚、このとき、動力伝達軸５３に取り付けられたＶリング８８のリップ部８８ａは段差部８１ｅに、Ｖリング８９のリップ部８９ａは端部部材８３に、それぞれ当接している。
【０１４９】
動力伝達軸５３がチャンバ２０に取り付けられた後、処理室２１の密閉性を高めるため、また、リップ部８８ａ、８９ａの摩耗を防ぐため、貫通孔８１ｄにオイルを注入して、リップ部８８ａと段差部８１ｅとの間、及び、リップ部８９ａと端部部材８３との間にオイルを浸透させている。
【０１５０】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、第７の実施形態と同様に、チャンバ２０の貫通孔１２９に封止環８０Ａの一部を挿入することによりチャンバ２０と封止環８０Ａとの間の気密性が保たれているので、第１及び第２の実施形態より、処理室２１の密閉性を高めることができる。また、Ｖリングのリップ部と、封止環８０Ａの内周面に形成された段差部及び端部部材と、の間にオイルを浸透させているので、一層処理室２１の密閉性を高めることができる。
【０１５１】
（第９の実施形態）
次に、本発明の第９の実施形態に係る真空乾燥処理装置１０について説明する。尚、上記の実施形態の真空乾燥処理装置１０と共通する構成については、同一又は対応する符号を付す。
【０１５２】
図１１（ａ）及び（ｂ）に示すように、動力伝達軸５３の軸方向の中途部には、動力伝達軸５３と共通の中心軸線を有する円盤状の円盤部５５が形成されている。
【０１５３】
図１１（ａ）及び（ｂ）に示すように、封止環９０は、回転部９１と、軸受部９２と、支持部９３と、を備えている。
【０１５４】
回転部９１は、略円筒状に形成されている。回転部９１には、動力伝達軸５３の直径より大きな直径の貫通孔９１ａが形成されている。さらに、貫通孔９１ａの内周面には、周方向に溝９１ｂが形成されている。溝９１ｂには、弾性部材から形成されたＯリング９５が配設されている。
【０１５５】
また、回転部９１のチャンバ２０側の面には、チャンバ２０側から見て円形状の、溝９１ｃが形成されている。溝９１ｃには、Ｏリング９６が配設されている。さらに、回転部９１のチャンバ２０側の面には、段差部９１ｄが形成されている。段差部９１ｄには、Ｖリング９７が固定されている（図１１（ｃ）参照）。また、回転部９１の外周面は、軸受部９２に固定されている。
【０１５６】
軸受部９２は、リング状に形成された内輪部９２ａと、複数のボール９２ｂと、リング状に形成された外輪部９２ｃと、から構成されている。内輪部９２ａの内周面は、回転部９１の外周面に固定されている。また、外輪部９２ｃの外周面は、支持部９３に固定されている。
【０１５７】
支持部９３は、リング状に形成されている。支持部９３は、軸受部９２を支持しており、また、軸受部９２を介して回転部９１を支持している。
【０１５８】
封止環９０は、以上のように構成されているので、支持部９３が回転しないように固定された状態で、回転部９１に回転部９１の中心軸線まわりの力が加えられると、回転部９１は、その中心軸線まわりに回転する。
【０１５９】
次に、封止環９０及び動力伝達軸５３のチャンバ２０への取付方法について説明する。まず、ファン５１を取り外した動力伝達軸５３を、封止環９０の貫通孔９１ａに挿通し、円盤部５５が所定の位置に位置するまで押し込む。これにより、動力伝達軸５３は、貫通孔９１ａの内周面に配設されたＯリング９５を動力伝達軸５３の外周面で押圧した状態で、封止環９０に取り付けられる。次に、封止環９０に挿通した動力伝達軸５３を、チャンバ２０の外部から貫通孔２１に挿通する。そして、封止環９０のＶリング９７のリップ部９７ａが、チャンバ２０の右側壁の外面と軽く当接するように、動力伝達軸５３及び封止環９０を、処理室２１の右側壁の近傍に配設する。その後、動力伝達軸５３の処理室２１内に位置する端部にファン５１を連結し、チャンバ２０の外部に位置する端部にファンモータ５２を連結する。以上で、動力伝達軸５３は、チャンバ２０に取り付けられる。尚、このとき、図１１（ｃ）に示すように、Ｖリング９７は、動力伝達軸５３とは僅かに離間している。
【０１６０】
上述のとおり、動力伝達軸５３は、貫通孔９１ａの内周面に配設されたＯリング９５を外周面で押圧している。そのため、動力伝達軸５３が回転すると、動力伝達軸５３の外周面とＯリング９５との間に、摩擦抵抗が発生するので、回転部９１は動力伝達軸５３と共に回転する。
【０１６１】
また、封止環９０を動力伝達軸５３の軸方向に移動させるため、チャンバ２０の外部には、例えばリニアガイドのようなスライド機構（図示せず）が配設されている。スライド機構は、封止環９０に連結することができる。これにより、封止環９０を、動力伝達軸５３の軸方向に移動させることができる。
【０１６２】
以上のように構成された封止環９０の、動力伝達軸５３の軸方向の動作及び作用について説明する。図１１（ａ）に示すように、封止環９０のチャンバ２０側の面に配設されたＯリング９６がチャンバ２０に圧接するまで、すなわち、Ｏリング９６が封止環９０とチャンバ２０の右側壁との間で中心軸線方向に挟圧されるまで、封止環９０を処理室２１方向（図１の左側）に移動させる。これにより、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間が気密に固定され、処理室２１は密閉状態となる。尚、封止環９０の移動には、例えばリニアモータ（図示せず）などの駆動手段を用いることができる。
【０１６３】
また、図１１（ｂ）に示すように、封止環９０に配設されたＯリング９６が、チャンバ２０と離間するように、すなわち、Ｏリング９６が挟圧状態から解除されるように、封止環９０を処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動させる。このとき、チャンバ２０と動力伝達軸５３との間の気密が解かれると共に、Ｏリング９６はチャンバ２０から離間しているので、動力伝達軸５３は、チャンバ２０から摩擦抵抗を受けることなく回転することができる。
【０１６４】
尚、上述のとおり、本実施形態において、処理室２１の最大圧力は、大気圧とほぼ同等である。これにより、Ｖリング９７のリップ部９７ａは、処理室２１の圧力によって外部方向に撓むことはなく、常時、チャンバ２０と当接している。そのため、封止環９０のＯリング９６がチャンバ２０から離間するように、封止環９０が処理室２１から離間する方向（図１の右側）に移動しても、処理室２１の密閉性は、ほぼ維持されている。
【０１６５】
尚、封止環９０を、上述のリニアモータや回転式モータなどの駆動手段を用いて動力伝達軸５３の中心軸線方向に移動させてもよいし、レバーなどを設けて手動で移動させてもよい。
【０１６６】
以上説明したように、本実施形態の真空乾燥処理装置１０によれば、Ｖリング９７を備え、常時、Ｖリング９７のリップ部９７ａがチャンバ２０の右側壁の外面と軽く当接するようにしたので、第１の実施形態より処理室２１の密閉性を高めることができる。
【符号の説明】
【０１６７】
１０ 真空乾燥処理装置
２０ チャンバ
２０ａ 密閉扉
２１ 処理室
２２ ヒータ
２３ 隔板
２４ ワーク載置台
２９ 貫通孔
３１ ガス導入口
３２ 導管
３３ ガス導入弁
３４ ガス供給装置
３６ 排気口
３７ 導管
３８ ガス排気弁
４０ 真空装置
５０ ファンユニット
５１ ファン
５２ ファンモータ
５３ 動力伝達軸
５５ 円盤部
５５ａ、５５ｂ、５５ｃ、５５ｄ 円筒部
５６ Ｏリング
５７ Ｖリング
５９ 軸受
６０ 封止環
６１ 円筒部
６２ 底部
６５ Ｏリング
６６ Ｏリング
７０ 封止環
７１ 小径円筒部
７２ 大径円筒部
７３ 底部
７４ 延設部
７５ Ｏリング
７６ Ｏリング
７７ Ｖリング
７８ａ、７８ｂ、７８ｃ、７８ｄ 円筒部
８０ 封止環
８１ 円筒部
８２ フランジ部
８５ Ｏリング
８７ Ｖリング
８８ Ｖリング
８９ Ｖリング
９０ 封止環
９１ 回転部
９２ 軸受部
９３ 固定部
９５ Ｏリング
９６ Ｏリング
９７ Ｖリング
１００ 制御部
１２０ チャンバ
１２１ 処理室
１２５ 貫通部
１２６ 支持環
１２７ Ｏリング
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被乾燥体を収容する処理室を有するチャンバと、
前記処理室内に配置されたファンと、
前記チャンバに形成された貫通孔に挿通され、前記チャンバ内で前記ファンに連結され、前記チャンバ外で動力源に連結された動力伝達軸と、
前記処理室内を常圧又はそれ以上の圧力にある第１の圧力状態と、常圧よりも低い第２の圧力状態とに切り替える圧力調整手段と、
前記チャンバと前記動力伝達軸との間を気密に固定する気密状態と、前記チャンバと前記動力伝達軸との間の気密を解いて、前記動力伝達軸を回転可能とする回転可能状態と、を切り替える状態切替手段と、
前記処理室内に配設され、前記処理室内の気体を加熱する加熱装置と、
前記圧力調整手段により前記処理室内を前記第１の圧力状態とし、前記切替手段により、前記チャンバと前記動力伝達軸との間の気密を解いて、前記動力伝達軸を回転可能とし、前記動力源により前記動力伝達軸を介してファンを回転させて被乾燥体を流動気体により加熱し、前記圧力調整手段により前記処理室内を前記第２の圧力状態とし、前記切替手段により、前記チャンバと前記動力伝達軸との間を気密とすることにより、被乾燥体を真空乾燥する制御手段と、
を備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項２】
前記状態切替手段は、前記動力伝達軸の一端と他端との間に設けられて前記動力伝達軸と共に回転する板状の回転体と、前記回転体の板面と対向する位置に形成されている非回転部と、前記動力伝達軸を挿通させていると共に前記回転体と前記非回転部との間に配設されている弾性体からなる環状部材と、前記環状部材が気密的に前記回転体と前記非回転部との間で挟圧されている挟圧状態又は前記環状部材が挟圧状態から解除されている挟圧解除状態となるように、前記回転体又は前記非回転部を前記動力伝達軸の軸方向に移動させる移動機構と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の乾燥装置。
【請求項３】
前記非回転部は、前記チャンバに形成されていることを特徴とする請求項２に記載の乾燥装置。
【請求項４】
さらに、前記動力伝達軸を挿通させている円筒部材を備え、
前記非回転部は、前記円筒部材に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の乾燥装置。
【請求項５】
前記円筒部材は、前記円筒部材の一部が前記チャンバの貫通孔に嵌入された状態で、前記動力伝達軸の軸方向に移動可能に配設されていることを特徴とする請求項４に記載の乾燥装置。
【請求項６】
前記円筒部材のうち前記チャンバの貫通孔に嵌入された部位の外周面と前記チャンバの貫通孔の内周面との間には、弾性部材が配設されていることを特徴とする請求項５に記載の乾燥装置。
【請求項７】
前記回転体は、中心軸線が前記動力伝達軸の中心軸線と略同一であって、前記動力伝達軸の軸方向に垂直に形成された円盤部であることを特徴とする請求項２乃至６の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項８】
前記環状部材は、前記回転体の板面に形成された溝に配設されていることを特徴とする請求項２乃至７の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項９】
前記環状部材は、前記非回転部に形成された溝に配設されていることを特徴とする請求項２乃至７の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１０】
前記環状部材は、中心軸線が前記動力伝達軸の中心軸線と略同一に配設されていることを特徴とする請求項２乃至９の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１１】
前記動力伝達軸は軟質片を有するＶリングを備え、前記Ｖリングは前記軟質片が常に前記非回転部と接するように配設されていることを特徴とする請求項２乃至１０の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１２】
前記非回転部は軟質片を有するＶリングを備え、前記Ｖリングは前記軟質片が常に前記回転体又は前記動力伝達軸と接するように配設されていることを特徴とする請求項２乃至１０の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１３】
前記圧力調整手段は、真空ポンプ又はガス供給装置であることを特徴とする請求項１乃至１２の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１４】
処理室内に被乾燥体を載置する工程と、
前記処理室内を常圧又はそれ以上の圧力にある第１の圧力状態とする工程と、
前記チャンバと該チャンバを貫通する動力伝達軸との間の気密状態を解いて、前記チャンバの外部より前記動力伝達軸を回転して、前記動力伝達軸に連結されているファンを回して、前記処理室内の加熱された気体を流動させて被乾燥体を加熱する工程と、
前記処理室内を常圧よりも低い第２の圧力状態とする工程と、
前記チャンバと該チャンバを貫通する前記動力伝達軸との間を気密に固定し、気密状態を維持して、被乾燥体を真空乾燥する工程と、
を備えることを特徴とする乾燥方法。
【請求項１】
被乾燥体を収容する処理室を有するチャンバと、
前記処理室内に配置されたファンと、
前記チャンバに形成された貫通孔に挿通され、前記チャンバ内で前記ファンに連結され、前記チャンバ外で動力源に連結された動力伝達軸と、
前記処理室内を常圧又はそれ以上の圧力にある第１の圧力状態と、常圧よりも低い第２の圧力状態とに切り替える圧力調整手段と、
前記チャンバと前記動力伝達軸との間を気密に固定する気密状態と、前記チャンバと前記動力伝達軸との間の気密を解いて、前記動力伝達軸を回転可能とする回転可能状態と、を切り替える状態切替手段と、
前記処理室内に配設され、前記処理室内の気体を加熱する加熱装置と、
前記圧力調整手段により前記処理室内を前記第１の圧力状態とし、前記切替手段により、前記チャンバと前記動力伝達軸との間の気密を解いて、前記動力伝達軸を回転可能とし、前記動力源により前記動力伝達軸を介してファンを回転させて被乾燥体を流動気体により加熱し、前記圧力調整手段により前記処理室内を前記第２の圧力状態とし、前記切替手段により、前記チャンバと前記動力伝達軸との間を気密とすることにより、被乾燥体を真空乾燥する制御手段と、
を備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項２】
前記状態切替手段は、前記動力伝達軸の一端と他端との間に設けられて前記動力伝達軸と共に回転する板状の回転体と、前記回転体の板面と対向する位置に形成されている非回転部と、前記動力伝達軸を挿通させていると共に前記回転体と前記非回転部との間に配設されている弾性体からなる環状部材と、前記環状部材が気密的に前記回転体と前記非回転部との間で挟圧されている挟圧状態又は前記環状部材が挟圧状態から解除されている挟圧解除状態となるように、前記回転体又は前記非回転部を前記動力伝達軸の軸方向に移動させる移動機構と、
を備えることを特徴とする請求項１に記載の乾燥装置。
【請求項３】
前記非回転部は、前記チャンバに形成されていることを特徴とする請求項２に記載の乾燥装置。
【請求項４】
さらに、前記動力伝達軸を挿通させている円筒部材を備え、
前記非回転部は、前記円筒部材に形成されていることを特徴とする請求項２に記載の乾燥装置。
【請求項５】
前記円筒部材は、前記円筒部材の一部が前記チャンバの貫通孔に嵌入された状態で、前記動力伝達軸の軸方向に移動可能に配設されていることを特徴とする請求項４に記載の乾燥装置。
【請求項６】
前記円筒部材のうち前記チャンバの貫通孔に嵌入された部位の外周面と前記チャンバの貫通孔の内周面との間には、弾性部材が配設されていることを特徴とする請求項５に記載の乾燥装置。
【請求項７】
前記回転体は、中心軸線が前記動力伝達軸の中心軸線と略同一であって、前記動力伝達軸の軸方向に垂直に形成された円盤部であることを特徴とする請求項２乃至６の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項８】
前記環状部材は、前記回転体の板面に形成された溝に配設されていることを特徴とする請求項２乃至７の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項９】
前記環状部材は、前記非回転部に形成された溝に配設されていることを特徴とする請求項２乃至７の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１０】
前記環状部材は、中心軸線が前記動力伝達軸の中心軸線と略同一に配設されていることを特徴とする請求項２乃至９の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１１】
前記動力伝達軸は軟質片を有するＶリングを備え、前記Ｖリングは前記軟質片が常に前記非回転部と接するように配設されていることを特徴とする請求項２乃至１０の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１２】
前記非回転部は軟質片を有するＶリングを備え、前記Ｖリングは前記軟質片が常に前記回転体又は前記動力伝達軸と接するように配設されていることを特徴とする請求項２乃至１０の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１３】
前記圧力調整手段は、真空ポンプ又はガス供給装置であることを特徴とする請求項１乃至１２の何れか１項に記載の乾燥装置。
【請求項１４】
処理室内に被乾燥体を載置する工程と、
前記処理室内を常圧又はそれ以上の圧力にある第１の圧力状態とする工程と、
前記チャンバと該チャンバを貫通する動力伝達軸との間の気密状態を解いて、前記チャンバの外部より前記動力伝達軸を回転して、前記動力伝達軸に連結されているファンを回して、前記処理室内の加熱された気体を流動させて被乾燥体を加熱する工程と、
前記処理室内を常圧よりも低い第２の圧力状態とする工程と、
前記チャンバと該チャンバを貫通する前記動力伝達軸との間を気密に固定し、気密状態を維持して、被乾燥体を真空乾燥する工程と、
を備えることを特徴とする乾燥方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公開番号】特開２０１３−５３８２５（Ｐ２０１３−５３８２５Ａ）
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−１９３４０６（Ｐ２０１１−１９３４０６）
【出願日】平成２３年９月５日（２０１１．９．５）
【出願人】（５９３１３９６９５）株式会社協真エンジニアリング (14)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年３月２１日（２０１３．３．２１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年９月５日（２０１１．９．５）
【出願人】（５９３１３９６９５）株式会社協真エンジニアリング (14)
【Ｆターム（参考）】
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