光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び液晶表示装置
【課題】光学フィルム用途として、加熱加工時に、裁断性および延伸性が良好で、輝点異物の発生が抑えられ、端部の着色が低く、延伸後のヘイズ値が低い光学フィルム、該光学フィルムを使用した偏光板及び液晶表示装置、更には溶媒の乾燥及び回収に伴う製造負荷、設備負荷及び環境負荷を低減した光学フィルムの製造方法を提供。
【解決手段】セルロースエステルと下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。
【化１】
（式中Ｒ１０１およびＲ１０２はアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表し、ｎ１およびｎ２は、０または１を表す。）
【解決手段】セルロースエステルと下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。
【化１】
（式中Ｒ１０１およびＲ１０２はアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表し、ｎ１およびｎ２は、０または１を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＲＴディスプレイに代わる薄型ディスプレイとして、液晶表示装置（液晶ディスプレイ）、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイの台頭が目覚しい。これらの新世代のディスプレイには多くの光学フィルムが搭載されているが、薄型がゆえにそれら光学フィルムが持つ各種機能に対する性能向上の要求が年々厳しいものになってきている。従って、より性能向上が達せられた光学フィルムの登場が待ち望まれている。
【０００３】
一方、ノートパソコンの薄型軽量化、大型画面化、高精細化の開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置用の光学フィルムもますます薄膜化、広幅化、高品質化の要求が強くなってきている。液晶表示装置用の光学フィルムとして種々の樹脂が用いられているが、光学フィルムとしての偏光板保護フィルムには、現在、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが用いられている。その中でも、セルロースエステルを用いたセルロースエステルフィルムが圧倒的に多く使用されている。
【０００４】
しかしながら、現在のセルロースエステルフィルムの製造方法はハロゲン系の溶媒を用いた溶液流延製膜法による製造方法であるため、溶媒回収に要する費用は非常に大きい負担となっているため、セルロースエステルを溶融製膜する試みが行われている。
【０００５】
セルロースエステルは溶融時の粘度が非常に高い高分子であり、かつガラス転移温度も高いため、溶融してダイから押出し、冷却ドラムまたは冷却ベルト上にキャスティングしてもレベリングし難く、押出し後に短時間で固化するため、得られるフィルムの物性特性である平面性が溶液流延フィルムよりも低いといった大きな課題を有していることが分かっている。
【０００６】
このため、溶融時の温度を上げることで粘度を下げようとすると、セルロースエステルの熱分解による分子量低下が起こり、加工安定性の低下、偏光を用いて観察される輝点異物（以下「輝点異物」と称する場合がある）の発生といった加工安定性、性能面での課題が発生する。特に、フィルム端部をスリットする際に、裁断面が荒れる、割れるなどの故障がおこり、加工安定性が低下する問題があり、改良が求められている。
【０００７】
また、溶融時の温度を上げることにより、着色の上昇といった性能面での課題も発生し、改良が求められている。特に幅手方向の端部の着色の改良が難しいのが現状である。広幅のセルロースエステルフィルムを製膜する際、両端部に付与するナーリング加工部や、広幅原反を規定の幅にスリッティングする際に生じる端部（耳部ともいう）を返材として有効利用する際に、端部の着色が著しい場合には返材としての利用もできず、廃棄せざるを得ないため、端部の着色は特に改良が求められていた。
【０００８】
更に最近は、薄膜化、広幅化の要求に答えるため、高倍率延伸が検討されており、延伸中にフィルムが破断しやすいという問題や、ヘイズ値が上昇し、偏光版に加工したときに、コントラストが低下するという、新たな加工安定性、性能面での劣化が問題となっている。
【０００９】
一方、セルロースエステルの溶融製膜における機械強度、熱劣化、着色を改良するために、フェノール系劣化防止剤、チオエーテル系化合物、リン系化合物等を含有させる技術が開示されている（例えば、特許文献１、２参照）。
【００１０】
しかし、いずれの公知技術をもってしても加工安定性、輝点異物の発生、着色及び延伸後のヘイズ値の改良が不十分であるのが現状であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００６−２４１４２８号公報
【特許文献２】特開２００８−２５７２２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は光学フィルム用途として、加熱加工時に、裁断性および延伸性が良好で、輝点異物の発生が抑えられ、端部の着色が低く、延伸後のヘイズ値が低い光学フィルム、該光学フィルムを使用した偏光板及び液晶表示装置、更には溶媒の乾燥及び回収に伴う製造負荷、設備負荷及び環境負荷を低減した光学フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【００１４】
１．セルロースエステルと下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。
【００１５】
【化１】
【００１６】
（式中Ｒ１０１およびＲ１０２はアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表し、ｎ１およびｎ２は、０または１を表す。）
２．セルロースエステルと前記一般式（１）で表される化合物と、ホスファイト、ホスホナイト及びホスフィナイトからなる群より選ばれる少なくとも１種のリン系化合物、を含有することを特徴とする前記１項に記載の光学フィルム。
【００１７】
３．前記一般式（１）で表される化合物の添加量をａ（モル）、ホスファイト、ホスホナイト及びホスフィナイトから選ばれるリン系化合物の合計の添加量をｂ（モル）としたときに、下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする前記２項に記載の光学フィルム。
【００１８】
式（Ａ）： ０．００５≦ａ／ｂ≦０．５
４．前記１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムを溶融流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【００１９】
５．前記１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム、または前記４項に記載の光学フィルムの製造方法によって製造された光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
【００２０】
６．前記５項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明により、加熱加工時に、裁断性および延伸性が良好で、輝点異物の発生が抑えられ、端部の着色が低く、延伸後のヘイズ値が低い光学フィルム、該光学フィルムを使用した偏光板及び液晶表示装置、更には溶媒の乾燥及び回収に伴う製造負荷、設備負荷及び環境負荷を低減した光学フィルムの製造方法を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態を示す概略フローシートである。
【図２】図１の製造装置の要部拡大フローシートである。
【図３】図３（ａ）は流延ダイの要部の外観図、図３（ｂ）は流延ダイの要部の断面図である。
【図４】挟圧回転体の第１実施形態の断面図である。
【図５】挟圧回転体の第２実施形態の回転軸に垂直な平面での断面図である。
【図６】挟圧回転体の第２実施形態の回転軸を含む平面での断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２４】
（光学フィルム）
本発明において光学フィルムとは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことであり、詳しくは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等を含む。
【００２５】
本発明の光学フィルムの基材となる樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、セルロースエステル系樹脂単独、あるいは、セルロースエステル系樹脂とポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アクリル系樹脂（共重合体も含む）、オレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂等）、あるいはビニル系樹脂（ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等も含む）等の樹脂を併用したものを挙げることができる。この中で、セルロースエステル系樹脂単独、或いはセルロースエステル系樹脂にアクリル系樹脂を併用させたものが好ましい。
【００２６】
セルロースエステル系樹脂に別の種類の樹脂を併用した場合、併用する樹脂の含有量としては０．１〜９０質量％が好ましく、１〜３０質量％がより好ましい。
【００２７】
本発明に係る光学フィルムは、偏光板保護フィルム（機能性層を付与した偏光板保護フィルムを含む）、及び位相差フィルムに好ましく用いられる。
【００２８】
セルロースエステル光学フィルムの製造法は主に二つあり、その一つである溶液流延法は、セルロースエステルを溶媒に溶解した溶液を流延し、溶媒を蒸発、乾燥することによって製膜するものであり、この方法はフィルム内部に残存する溶媒を除去しなければならないため、乾燥ライン、乾燥エネルギー、及び蒸発した溶媒の回収及び再生装置等、製造ラインへの設備投資及び製造コストが膨大になっており、これらを削減することが重要な課題となっている。これに対し溶融流延法による製膜では、溶液流延としてセルロースエステルの溶液を調整するための溶媒を用いないため、前述の乾燥負荷、設備負荷が生じない。従って、本発明では溶液流延法よりも、溶融流延法で製造することが好ましい。
【００２９】
本発明者らは上記課題に対し鋭意検討の結果、溶融製膜しても、加熱加工時に、輝点異物、裁断性および延伸性が改良され、端部の着色、延伸後のヘイズ値が改善された光学フィルムが得られることが分かった。これらの効果により溶液製膜法で作製されたものと同等以上の特性を有するセルロースエステル光学フィルムを溶融製膜法でも得られることが分かった。
【００３０】
以下、本発明に用いられる各種化合物について詳述する。
【００３１】
（一般式（１）の化合物）
前記一般式（１）において、Ｒ１０１およびＲ１０２はアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表す。ｎ１およびｎ２は、０または１を表す。Ｒ１０１およびＲ１０２は同一であっても、異なっても良い。好ましくは同一である。
【００３２】
アルキル基としては、炭素数１〜２２のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基等が挙げられる。
【００３３】
さらに好ましくは、炭素数２〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数８〜１８が特に好ましい。アリール基としては、例えば炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、特にフェニル基が好ましい。シクロアルキル基としては、例えば、炭素数３〜１０のシクロアルキル基が好ましく、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等が挙げられる。特にシクロヘキシル基が好ましい。
【００３４】
Ｒ１０１およびＲ１０２が表す基は、置換基を有していてもよい。
【００３５】
置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アリル基（例えばオクチルアリル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。
【００３６】
また、前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（２）のような、互変異性体の構造をとってもよい。
【００３７】
【化２】
【００３８】
本発明の化合物の具体例としては以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３９】
【化３】
【００４０】
【化４】
【００４１】
【化５】
【００４２】
また、市販品として、ＪＰ−２０２（（１）−１；城北化学工業株式会社製）、ＪＰ−２６０（（１）−３０；城北化学工業株式会社製）、Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−８（（１）−２；ＳＣ有機化学株式会社製）、Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１２（（１）−３；ＳＣ有機化学株式会社製）、Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１８Ｄ（（１）−４；ＳＣ有機化学株式会社製）が挙げられる。
【００４３】
一般式（１）で表される化合物の添加量は、セルロースエステル１００質量部に対して、１×１０−７〜１．０質量部、好ましくは１×１０−６〜０．５質量部、さらに好ましくは１×１０−５〜０．１質量部である。
【００４４】
（セルロースエステル）
本発明に用いられるセルロースエステルは特に限定されないが、溶融製膜可能なセルロースエステルであることがより好ましい。例えば芳香族カルボン酸エステル等も用いられるが、光学特性等の得られるフィルムの特性を鑑みると、セルロースの低級脂肪酸エステルを使用するのが好ましい。本発明においてセルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が５以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースピバレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましいものとして挙げられる。炭素原子数が６以上の脂肪酸で置換されたセルロースエステルでは、溶融製膜性は良好であるものの、得られるセルロースエステルフィルムの力学特性が低く、実質的に光学フィルムとして用いることが難しいためである。力学特性と溶融製膜性の双方を両立させるために、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等のように混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【００４５】
上記セルロースエステルの中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましく用いられる。
【００４６】
次に、本発明に用いられるセルロースエステルのアシル基の置換度について説明する。
【００４７】
セルロースには、１グルコース単位の２位、３位、６位に１個ずつ、計３個の水酸基があり、総置換度とは、平均して１グルコース単位にいくつのアシル基が結合しているかを示す数値である。従って、最大の置換度は３．０である。これらアシル基は、グルコース単位の２位、３位、６位に平均的に置換していてもよいし、分布をもって置換していてもよい。
【００４８】
セルロースエステルとして好ましいセルロースの低級脂肪酸エステルは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）、（II）及び（III）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂である。なお、アセチル基の置換度と他のアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めたものである。
【００４９】
式（Ｉ） ２．４≦Ｘ＋Ｙ≦２．９
式（II） ０≦Ｘ≦２．４
式（III） ０．５≦Ｙ≦２．９
この内、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．２≦Ｘ≦２．１であり、０．６≦Ｙ≦１．４であることが好ましい。アシル基の置換度の異なるセルロースエステルをブレンドして、セルロースエステルフィルム全体として上記範囲に入っていてもよい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。
【００５０】
上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。
【００５１】
本発明に用いられるセルロースエステルは、５００００〜１５００００の数平均分子量（Ｍｎ）を有することが好ましく、５５０００〜１２００００の数平均分子量を有することが更に好ましく、６００００〜１０００００の数平均分子量を有することが最も好ましい。
【００５２】
更に、本発明に用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が１．３〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．５〜５．０であり、更に好ましくは１．７〜４．０であり、更に好ましくは２．０〜３．５のセルロースエステルが好ましく用いられる。
【００５３】
なお、Ｍｎ及びＭｗ／Ｍｎは下記の要領で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより算出した。
【００５４】
測定条件は以下の通りである。
【００５５】
溶媒 ：テトヒドロフラン
装置 ：ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）
カラム ：ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（東ソー（株）製）
カラム温度：４０℃
試料濃度 ：０．１質量％
注入量 ：１０μｌ
流量 ：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線 ：標準ポリスチレン：ＰＳ−１（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製）Ｍｗ＝２，５６０，０００〜５８０までの９サンプルによる校正曲線を使用した。
【００５６】
本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよい。木材パルプには針葉樹と広葉樹があるが、針葉樹の方がより好ましい。しかし、製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターがより好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。
【００５７】
例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることができる。
【００５８】
セルロースエステルは、例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオン酸及び／または無水酪酸を用いて常法によりアセチル基、プロピオニル基及び／またはブチル基を上記の範囲内に置換することで得られる。このようなセルロースエステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平１０−４５８０４号或いは特表平６−５０１０４０号に記載の方法を参考にして合成することができる。
【００５９】
本発明に用いられるセルロースエステルのアルカリ土類金属含有量は、１〜５０ｐｐｍの範囲であることが好ましい。５０ｐｐｍを超えるとリップ付着汚れが増加或いは熱延伸時や熱延伸後でのスリッティング部で破断しやすくなる。１ｐｐｍ未満でも破断しやすくなるがその理由はよく分かっていない。１ｐｐｍ未満にするには洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるためその点でも好ましくない。更に１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。ここでいうアルカリ土類金属とはＣａ、Ｍｇの総含有量のことであり、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）を用いて測定することができる。
【００６０】
本発明に用いられるセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で０．１〜４５ｐｐｍの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。残留硫酸含有量が４５ｐｐｍを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着物が増加するため好ましくない。また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際に破断しやすくなるため好ましくない。少ない方が好ましいが、０．１未満とするにはセルロースエステルの洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるため好ましくないだけでなく、逆に破断しやすくなることがあり好ましくない。これは洗浄回数が増えることが樹脂に影響を与えているのかもしれないがよく分かっていない。更に１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。残留硫酸含有量は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。
【００６１】
本発明に用いられるセルロースエステル中の遊離酸含有量は、１〜５００ｐｐｍであることが好ましい。５００ｐｐｍを超えるとダイリップ部の付着物が増加し、また破断しやすくなる。洗浄で１ｐｐｍ未満にすることは困難である。更に１〜１００ｐｐｍの範囲であることが好ましく、更に破断しにくくなる。特に１〜７０ｐｐｍの範囲が好ましい。遊離酸含有量はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。
【００６２】
合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、更に十分に行うことによって、残留酸含有量を上記の範囲とすることができ、溶融流延法によってフィルムを製造する際に、リップ部への付着が軽減され、平面性に優れるフィルムが得られ、寸法変化、機械強度、透明性、耐透湿性、後述するＲｔ値、Ｒｏ値が良好なフィルムを得ることができる。また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、或いは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることができ、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去することができる。更に、セルロースエステルの洗浄は、ヒンダードアミン、亜リン酸エステルといった酸化防止剤の存在下で行うことが好ましく、セルロースエステルの耐熱性、製膜安定性が向上する。
【００６３】
また、セルロースエステルの耐熱性、機械物性、光学物性等を向上させるため、セルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿させ、セルロースエステルの低分子量成分、その他不純物を除去することができる。この時、前述のセルロースエステルの洗浄同様に、酸化防止剤の存在下で行うことが好ましい。
【００６４】
更に、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマー或いは低分子化合物を添加してもよい。
【００６５】
本発明において、異物除去のために濾過をすることが好ましい。輝点異物を溶融濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶融させたものを濾過するよりも可塑剤、劣化防止剤、酸化防止剤等を添加混合したセルロースエステル組成物を濾過することが異物の除去効率が高く好ましい。もちろん、セルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解させて濾過により低減させてもよい。紫外線吸収剤、その他の添加物も適宜混合したものを濾過することができる。濾過はセルロースエステルを含む溶融物の粘度が１００００Ｐａ・ｓ以下で濾過されることが好ましく、５０００Ｐａ・ｓ以下がより好ましく、１０００Ｐａ・ｓ以下が更に好ましく、５００Ｐａ・ｓ以下であることがさらにより好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂等の弗素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく用いられ、３０μｍ以下のものがより好ましく、１０μｍ以下のものがさらにより好ましく、５μｍ以下のものが更に好ましく用いられる。これらは適宜組み合わせて使用することもできる。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。
【００６６】
別の実施態様では、原料のセルロースエステルは少なくとも一度溶媒に溶解させた後、溶媒を乾燥させたセルロースエステルを用いてもよい。その際には可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、酸化防止剤及びマット剤の少なくとも１つ以上と共に溶媒に溶解させた後、乾燥させたセルロースエステルを用いる。溶媒としては、メチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等の溶液流延法で用いられる良溶媒を用いることができ、同時にメタノール、エタノール、ブタノール等の貧溶媒を用いてもよい。溶解の過程で−２０℃以下に冷却したり、８０℃以上に加熱したりしてもよい。このようなセルロースエステルを用いると、溶融状態にした時の各添加物を均一にしやすく、光学特性を均一にできることがある。
【００６７】
本発明の光学フィルムはセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにした時の透過率が８０％以上、更に好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上であることが好ましい。
【００６８】
（可塑剤）
本発明の光学フィルムには、可塑剤を添加することが好ましい。
【００６９】
一般的に、可塑剤として知られる化合物を添加することは機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水分透過率の低減等のフィルムの改質の観点において好ましい。また、溶融流延法においては、用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりも、可塑剤の添加によりフィルム構成材料の溶融温度を低下させる目的、または同じ加熱温度においてセルロースエステルよりも可塑剤を含むフィルム構成材料の粘度が低下できる目的を含んでいる。
【００７０】
本発明において、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性が高く、より好ましい。本発明において好ましく用いられるエステル系可塑剤の原料である多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、グレセリン、ジグリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、キシリトール等を挙げることができる。特に、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンが好ましい。
【００７１】
多価アルコールエステル系の一つであるエチレングリコールエステル系の可塑剤としては、具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ４−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００７２】
多価アルコールエステル系の一つであるグリセリンエステル系の可塑剤としては、具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン４−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン３−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００７３】
その他の多価アルコールエステル系の可塑剤としては、具体的には特開２００３−１２８２３号公報の段落３０〜３３記載の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。
【００７４】
これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更に多価アルコール部も置換されていてもよく、多価アルコールの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００７５】
上記多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の中では、アルキル多価アルコールアリールエステルが好ましく、具体的には上記のエチレングリコールジベンゾエート、グリセリントリベンゾエート、ジグリセリンテトラベンゾエート、特開２００３−１２８２３号公報の段落３１記載の例示化合物１６、特開２００６−１８８６６３号公報の段落６４記載の例示化合物４８が挙げられる。
【００７６】
多価カルボン酸エステル系の一つであるジカルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、ジドデシルマロネート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート等のアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシクロヘキシルアジーペート等のアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルサクシネート、ジ４−メチルフェニルグルタレート等のアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジヘキシル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジデシルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル−１，２−シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロプロピル−１，２−シクロヘキシルジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル−１，１−シクロプロピルジカルボキシレート、ジ２−ナフチル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ−４−メチルフェニルフタレート等のアリールジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。
【００７７】
これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００７８】
多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤の添加量は、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．１〜５０質量部、好ましくは１〜３０質量部、更に好ましくは３〜１５質量部である。
【００７９】
その他の多価カルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的にはトリドデシルトリカルバレート、トリブチル−ｍｅｓｏ−ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロヘキシルトリカルバレート、トリシクロプロピル−２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート、テトラ３−メチルフェニルテトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、テトラヘキシル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、テトラブチル−１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロピル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、トリシクロヘキシル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート、ヘキサ４−メチルフェニル−１，２，３，４，５，６−シクロヘキシルヘキサカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、トリドデシルベンゼン−１，２，４−トリカルボキシレート、テトラオクチルベンゼン−１，２，４，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロペンチルベンゼン−１，３，５−トリカルボキシレート、テトラシクロヘキシルベンゼン−１，２，３，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベンゼン−１，３，５−テトラカルボキシレート、ヘキサ４−メチルフェニルベンゼン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また１置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８０】
上記多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤の中では、アルキルジカルボン酸アルキルエステルが好ましく、具体的には上記のジオクチルアジペートが挙げられる。
【００８１】
本発明に用いられるその他の可塑剤としては、燐酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。
【００８２】
燐酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等の燐酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等の燐酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等の燐酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同士が共有結合で結合していてもよい。
【００８３】
また、エチレンビス（ジメチルホスフェート）、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアルキルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、プロピレンビス（ジナフチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアリールホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、ビフェニレンビス（ジオクチルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアルキルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）、ナフチレンビス（ジトルイルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアリールホスフェート）等の燐酸エステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同士が共有結合で結合していてもよい。
【００８４】
更に燐酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、燐酸アリールエステル、アリーレンビス（ジアリールホスフェート）が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）が好ましい。
【００８５】
ポリマー可塑剤としては、具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルとの共重合体、メタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルとの共重合体、等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は１０００〜５０００００程度が好ましく、特に好ましくは、５０００〜２０００００である。１０００以下では揮発性に問題が生じ、５０００００を超えると可塑化能力が低下し、セルロースエステルフィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす。
【００８６】
これらポリマー可塑剤は１種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを２種以上併用して用いてもよい。
【００８７】
また、本発明においては、従来公知の炭水化物エステル系可塑剤も本発明の効果を損なわない範囲で併せて用いることができる。
【００８８】
可塑剤としては、多価アルコールエステル系、アクリル系ポリマーが特に好ましい。
【００８９】
可塑剤の添加量はセルロースエステル１００質量部に対して、０．１〜５０質量部が好ましく、より好ましくは１〜３０質量部、更に好ましくは３〜１５質量部である。
【００９０】
（酸化防止剤）
本発明の光学フィルムにおいて、溶融製膜時の高温環境下では、光学フィルム成形材料の熱、及び酸素による分解が促進されるため、酸化防止剤を含有することが好ましい。
【００９１】
本発明において有用な酸化防止剤としては、光学フィルム成形材料の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でもホスファイト（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスホナイト（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｔｅ）、またはホスフィナイト（ｐｈｏｓｐｈｉｎｉｔｅ）からなる群より選ばれる少なくとも１種のリン系化合物を用いることが好ましい。
【００９２】
また、フェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、イオウ系化合物、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー、ベンゾフラノン系化合物、酸補足剤等を用いることも好ましく、これらの中でも、特にフェノール系化合物、耐熱加工安定剤、が好ましい。
【００９３】
これらの化合物を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、熱や酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９４】
（リン系化合物）
本発明において用いられるホスファイト（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスホナイト（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｔｅ）、またはホスフィナイト（ｐｈｏｓｐｈｉｎｉｔｅ）からなる群より選ばれる少なくとも１種のリン系化合物について説明する。これらの化合物は、例えば、特開２００２−１３８１８８号、特開２００５−３４４０４４号段落番号００２２〜００２７、特開２００４−１８２９７９号段落番号００２３〜００３９、特開平１０−３０６１７５号、特開平１−２５４７４４号、特開平２−２７０８９２号、特開平５−２０２０７８号、特開平５−１７８８７０号、特表２００４−５０４４３５号、特表２００４−５３０７５９号、および特願２００５−３５３２２９号の明細書中に記載されている。
【００９５】
好ましいリン系化合物としては、一般式（Ｉ）から（Ｖ）のホスファイト、一般式（VI）から（XII）のホスホナイト、一般式（XIII）から（XIV）のホスフィナイトが挙げられる。
【００９６】
【化６】
【００９７】
【化７】
【００９８】
それぞれの基は互いに独立に、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ２４のアルキル（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ３０のシクロアルキル（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシ基で置換された）であり、Ｒ２は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２４のアルキル（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ３０のシクロアルキル（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシ基で置換された）であり、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキレンタイプのｎ価の基（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキリデン（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキレンもしくはＣ６〜Ｃ２４のアリーレン（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシで置換された）であり、Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ２４のアルキル（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ３０のシクロアルキル（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシ基で置換された）であり、Ｒ５は、Ｃ１〜Ｃ２４−アルキル（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ３０のシクロアルキル（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシ基で置換された）であり、Ａは、直接結合、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキリデン（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、＞ＮＨ、＞ＮＲ１、−Ｓ−、＞Ｓ（Ｏ）、＞Ｓ（Ｏ）２、−Ｏ−であり、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆであり、ｋは０から４であり、ｎは１から４であり、ｍは０から５であり、ｐは０もしくは１である。
【００９９】
このような化合物のうち特に好ましい化合物として以下の化合物が挙げられる。またこれらの化合物は２種以上併用して使用してもよい。リン系化合物の添加量は、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．０１〜１質量部、好ましくは０．０５〜０．５質量部、更に好ましくは０．１〜０．３質量部である。
【０１００】
具体的な好ましい化合物例としては下記の化合物が挙げられる。
【０１０１】
【化８】
【０１０２】
【化９】
【０１０３】
【化１０】
【０１０４】
【化１１】
【０１０５】
【化１２】
【０１０６】
【化１３】
【０１０７】
【化１４】
【０１０８】
【化１５】
【０１０９】
【化１６】
【０１１０】
【化１７】
【０１１１】
【化１８】
【０１１２】
【化１９】
【０１１３】
一般式（１）で表される化合物の添加量をａ（モル）、ホスファイト系化合物、ホスホナイト系化合物または、ホスフィナイト系化合物から選ばれるリン系化合物の合計の添加量をｂ（モル）としたときに、ａ／ｂの比率は０．００５≦ａ／ｂ≦０．５であることが好ましく、０．０５≦ａ／ｂ≦０．３がより好ましく、０．１≦ａ／ｂ≦０．２であることが最も好ましい。
【０１１４】
ａ／ｂが０．５以下であると、加工安定性が優れ、延伸後のヘイズ値を十分に抑えることができる。また、０．００５以上であると、加工安定性、輝点異物の改良効果が遺憾なく発揮される。
【０１１５】
（フェノール系化合物）
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されており、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式（ａ）で表される化合物が好ましい。
【０１１６】
【化２０】
【０１１７】
式中、Ｒ１１〜Ｒ１６は置換基を表す。置換基としては、水素原子、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
【０１１８】
また、Ｒ１１は水素原子、Ｒ１２、Ｒ１６はｔ−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。フェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン（株）から、“ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６”及び“ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０”という商品名で市販されている。
【０１１９】
（ヒンダードアミン系化合物）
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式（ｂ）で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。
【０１２０】
【化２１】
【０１２１】
式中、Ｒ２２〜Ｒ２８は置換基を表す。置換基としては前記一般式（ａ）のＲ１１〜Ｒ１６で表される置換基と同義である。Ｒ２４は水素原子、メチル基、Ｒ２７は水素原子、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５、Ｒ２６はメチル基が好ましい。
【０１２２】
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【０１２３】
また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２４】
これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【０１２５】
上記タイプのヒンダードフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン（株）から、“ＴＩＮＵＶＩＮ １４４”及び“ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０”、旭電化工業株式会社から“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。
【０１２６】
（イオウ系化合物）
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式（ｃ）で表されるイオウ系化合物が好ましい。
【０１２７】
一般式（ｃ）
Ｒ３３−Ｓ−Ｒ３４
式中、Ｒ３３及びＲ３４は置換基を表す。置換基としては前記一般式（ａ）のＲ１１〜Ｒ１６で表される置換基と同義である。
【０１２８】
イオウ系化合物の具体例としては、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【０１２９】
上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰＬ−Ｒ”及び“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰ−Ｄ”という商品名で市販されている。
【０１３０】
（耐熱加工安定剤）
耐熱加工安定剤としては、下記一般式（ｄ）で表される、アクリレート基またはメタクリレート基と、フェノール性水酸基とを同一分子内に有する化合物が好ましい。
【０１３１】
【化２２】
【０１３２】
一般式（ｄ）において、Ｒ１〜Ｒ５は、互いに同一または相異なり、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ６は水素原子またはメチル基である。
【０１３３】
耐熱加工安定剤の具体的化合物例としては、例えば、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート等が挙げられる。上記タイプの耐熱加工安定剤は、住友化学株式会社から、“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＭ”及び“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＳ”という商品名で市販されている。
【０１３４】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤は、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０１３５】
本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。
【０１３６】
また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
【０１３７】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１３８】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバ・ジャパン（株）製）、ＬＡ３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＲＵＶＡ−１００（大塚化学製）が挙げられる。
【０１３９】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１４０】
本発明においては、紫外線吸収剤は樹脂に対して０．１〜５質量％添加することが好ましく、更に０．２〜３質量％添加することが好ましく、更に０．５〜２質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。
【０１４１】
またベンゾトリアゾール構造やトリアジン構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤等の他の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【０１４２】
従来公知の紫外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学製）を単独重合させたポリマー及びＲＵＶＡ−９３と他のモノマーとを共重合させたポリマー等が挙げられる。
【０１４３】
具体的には、ＲＵＶＡ−９３とメチルメタクリレートを３：７の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−３０Ｍ、５：５の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−５０Ｍ等が挙げられる。更に、特開２００３−１１３３１７号公報に記載のポリマー等が挙げられる。
【０１４４】
（マット剤）
また、本発明の光学フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては無機化合物として、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。
【０１４５】
二酸化珪素微粒子の一次粒子平均径としては、５〜１６ｎｍが好ましく、５〜１２ｎｍがより好ましい。一次粒子の平均径が小さい方がヘイズが低く好ましい。また、見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌが好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌが更に好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１４６】
マット剤の添加量は１ｍ２当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．１０〜０．１８ｇが特に好ましい。
【０１４７】
二酸化珪素微粒子としては、例えば、日本アエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０等、日本触媒（株）製のＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ１００、ＫＥ−Ｐ１５０等が挙げられ、この中でも、ＡＥＲＯＳＩＬ２００Ｖ、Ｒ９７２Ｖが一次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。また、ＮＡＸ５０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ１００は、少量で摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１４８】
また、酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。また、ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１４９】
これら微粒子は、通常平均粒径が０．０１〜１．０μｍの二次粒子を形成させることが好ましく、０．１〜０．８μｍが更に好ましく、０．２〜０．５μｍが最も好ましい。これらの微粒子はフィルム中では、一次粒子の凝集体として存在しフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を形成させる。これらの微粒子の含有量は、セルロースエステルフィルムに対して０．００５〜０．３質量％が好ましく、０．０５〜０．２質量％が好ましく、０．１〜０．２質量％が最も好ましい。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。
【０１５０】
（溶融流延法）
従来の有機溶媒を多量に使用する溶液流延法に比較して、溶融流延法はフィルム製造時の有機溶媒使用量を、大幅に少なくすることができ、環境適性が大幅に向上したフィルムが得られる。
【０１５１】
本発明における溶融流延とは、実質的に溶媒を用いずにセルロースエステルが流動性を示す温度まで加熱溶融し、これを用いて製膜する方法であり、例えば流動性のセルロースエステルをダイスから押し出して製膜する方法である。
【０１５２】
なお溶融セルロースエステルを調製する過程の一部で溶媒を使用してもよいが、フィルム状に成形を行う溶融製膜プロセスにおいては実質的に溶媒を用いずに成形加工する。
【０１５３】
溶融流延による成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れる光学フィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。以下、溶融押し出し法を例にとり、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
【０１５４】
図１は、本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態の一例を示す概略フローシート図である。
【０１５５】
図２は、図１の製造装置の要部拡大の一例を示すフローシートである。
【０１５６】
光学フィルムの製造方法は、セルロース樹脂等の光学フィルム材料を混合した後、押出し機１を用いて、流延ダイ４から第１冷却ロール５上に溶融押し出し、第１冷却ロール５に外接させるとともに、更に、第２冷却ロール７、第３冷却ロール８の合計３本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化して光学フィルム１０とする。
【０１５７】
次いで、剥離ロール９によって剥離した光学フィルム１０を、次いで延伸装置１２により光学フィルムの両端部を把持して幅方向に延伸した後、巻き取り機１６により巻き取る。
【０１５８】
また、平面性を矯正するために溶融フィルムを第１冷却ロール５表面に挟圧する６が設けられている。このタッチロール６は表面が弾性を有し、第１冷却ロール５との間でニップを形成している。タッチロール６についての詳細は後述する。
【０１５９】
光学フィルムの製造方法において、溶融押し出しの条件は、他のポリエステル等の熱可塑性樹脂に用いられる条件と同様にして行うことができる。材料は予め乾燥させておくことが好ましい。真空または減圧乾燥機や除湿熱風乾燥機等で水分を１０００ｐｐｍ以下、好ましくは２００ｐｐｍ以下に乾燥させることが望ましい。
【０１６０】
例えば、熱風や真空または減圧下で乾燥したセルロースエステル系樹脂を押出し機１を用いて、押し出し温度２００〜３００℃程度で溶融し、リーフディスクタイプのフィルター２等で濾過し、異物を除去する。
【０１６１】
供給ホッパー（図示略）から押出し機１へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして、酸化分解等を防止することが好ましい。
【０１６２】
可塑剤等の添加剤を予め混合しない場合は、それらを押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー等の混合装置を用いることが好ましい。
【０１６３】
本発明において、セルロース樹脂と、その他必要により添加される安定化剤等の添加剤は、溶融する前に混合しておくことが好ましく、セルロース樹脂と添加剤を加熱前に混合することが更に好ましい。混合は、混合機等により行ってもよく、また、前記したようにセルロース樹脂調製過程において混合してもよい。混合機を使用する場合は、Ｖ型混合機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混合機等、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー等一般的な混合機を用いることができる。
【０１６４】
上記のように光学フィルム構成材料を混合した後に、その混合物を押出し機１を用いて直接溶融して製膜するようにしてもよいが、一旦、光学フィルム構成材料をペレット化した後、該ペレットを押出し機１で溶融して製膜するようにしてもよい。
【０１６５】
また、光学フィルム構成材料が、融点の異なる複数の材料を含む場合には、融点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、いわゆるおこし状の半溶融物を作製し、半溶融物を押出し機１に投入して製膜することも可能である。
【０１６６】
光学フィルム構成材料に熱分解しやすい材料が含まれる場合には、溶融回数を減らす目的で、ペレットを作製せずに直接製膜する方法や、上記のようなおこし状の半溶融物を作ってから製膜する方法が好ましい。
【０１６７】
押出し機１は、市場で入手可能な種々の押出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し機が好ましく、単軸押出し機でも２軸押出し機でもよい。
【０１６８】
光学フィルム構成材料からペレットを作製せずに、直接製膜を行う場合、適当な混練度が必要であるため２軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られるので、使用可能である。光学フィルム構成材料として、一旦、ペレットやおこし状の半溶融物を使用する場合は、単軸押出し機でも２軸押出し機でも使用可能である。
【０１６９】
押出し機１内及び押し出した後の冷却工程は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、あるいは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。
【０１７０】
押出し機１内の光学フィルム構成材料の溶融温度は、光学フィルム構成材料の粘度や吐出量、製造するシートの厚み等によって好ましい条件が異なるが、１５０〜３００℃が好ましく、１８０〜２８０℃がより好ましく、２００〜２６０℃が更に好ましい。押し出し時の溶融粘度は、１〜１００００Ｐａ・ｓ、好ましくは１０〜１０００Ｐａ・ｓである。また、押出し機１内での光学フィルム構成材料の滞留時間は短い方が好ましく、５分以内、好ましくは３分以内、より好ましくは２分以内である。
【０１７１】
滞留時間は、押出し機１の種類、押し出す条件にも左右されるが、材料の供給量やＬ／Ｄ、スクリュー回転数、スクリューの溝の深さ等を調整することにより短縮することが可能である。
【０１７２】
押出し機１のスクリューの形状や回転数等は、光学フィルム構成材料の粘度や吐出量等により適宜選択される。本発明において押出し機１でのせん断速度は、１／秒〜１００００／秒、好ましくは５／秒〜１０００／秒、より好ましくは１０／秒〜１００／秒である。
【０１７３】
本発明に使用できる押出し機１としては、一般的にプラスチック成形機として入手可能である。
【０１７４】
押出し機１から押し出された光学フィルム構成材料は、流延ダイ４に送られ、流延ダイ４のスリットから光学フィルム状に押し出される。流延ダイ４はシートや光学フィルムを製造するために用いられるものであれば特に限定はされない。
【０１７５】
流延ダイ４の材質としては、ハードクロム、炭化クロム、窒化クロム、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チタン、超鋼、セラミック（タングステンカーバイド、酸化アルミ、酸化クロム）等を溶射もしくはメッキし、表面加工としてバフ、＃１０００番手以降の砥石を用いるラッピング、＃１０００番手以上のダイヤモンド砥石を用いる平面切削（切削方向は樹脂の流れ方向に垂直な方向）、電解研磨、電解複合研磨等の加工を施したもの等が挙げられる。流延ダイ４のリップ部の好ましい材質は、流延ダイ４と同様である。またリップ部の表面精度は０．５Ｓ以下が好ましく、０．２Ｓ以下がより好ましい。
【０１７６】
この流延ダイ４のスリットは、そのギャップが調整可能なように構成されている。
【０１７７】
これを図３（ａ）は流延ダイの要部の一例を示す外観図、図３（ｂ）は流延ダイの要部の一例を示す断面図である。
【０１７８】
流延ダイ４のスリット３２を形成する一対のリップのうち、一方は剛性の低い変形しやすいフレキシブルリップ３３であり、他方は固定リップ３４である。
【０１７９】
そして、多数のヒートボルト３５が流延ダイ４の幅方向即ちスリット３２の長さ方向に一定ピッチで配列されている。各ヒートボルト５には、埋め込み電気ヒーター３７と冷却媒体通路とを具えたブロック３６が設けられ、各ヒートボルト３５が各ブロック３６を縦に貫通している。
【０１８０】
ヒートボルト３５の基部はダイ本体３１に固定され、先端はフレキシブルリップ３３の外面に当接している。そしてブロック３６を常時空冷しながら、埋め込み電気ヒーター３７の入力を増減してブロック３６の温度を上下させ、これによりヒートボルト３５を熱伸縮させて、フレキシブルリップ３３を変位させて光学フィルムの厚さを調整する。
【０１８１】
ダイ後流の所要箇所に厚さ計を設け、これによって検出されたウェブ厚さ情報を制御装置にフィードバックし、この厚さ情報を制御装置で設定厚み情報と比較し、同装置から来る補正制御量の信号によってヒートボルトの発熱体の電力またはオン率を制御するようにすることもできる。
【０１８２】
ヒートボルトは、好ましくは、長さ２０〜４０ｃｍ、直径７〜１４ｍｍを有し、複数、例えば数十本のヒートボルトが、好ましくはピッチ２０〜４０ｍｍで配列されている。
【０１８３】
ヒートボルトの代わりに、手動で軸方向に前後動させることによりスリットギャップを調節するボルトを主体とするギャップ調節部材を設けてもよい。
【０１８４】
ギャップ調節部材によって調節されたスリットギャップは、通常２００〜１０００μｍ、好ましくは３００〜８００μｍ、より好ましくは４００〜６００μｍである。
【０１８５】
第１〜第３冷却ロールは、肉厚が２０〜３０ｍｍ程度のシームレスな鋼管製で、表面が鏡面に仕上げられている。その内部には、冷却液を流す配管が配置されており、配管を流れる冷却液によってロール上の光学フィルムから熱を吸収できるように構成されている。
【０１８６】
一方、第１冷却ロール５に当接するタッチロール６は、表面が弾性を有し、第１冷却ロール５への押圧力によって第１冷却ロール５の表面に沿って変形し、第１ロール５との間にニップを形成する。タッチロール６は挟圧回転体ともいう。タッチロール６としては、登録特許３１９４９０４号、登録特許３４２２７９８号、特開２００２−３６３３２号、特開２００２−３６３３３号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。これらは市販されているものを用いることもできる。以下にこれらについて、更に詳細に説明する。
【０１８７】
図４は挟圧回転体の一例を示す断面図である。（タッチロール６の第１の例（以下、タッチロールＡ）の概略断面）を示す。図に示すように、タッチロールＡは、可撓性の金属スリーブ４１の内部に弾性ローラ４２を配したものである。
【０１８８】
金属スリーブ４１は厚さ０．３ｍｍのステンレス製であり、可撓性を有する。金属スリーブ４１が薄過ぎると強度が不足し、逆に厚過ぎると弾性が不足する。
【０１８９】
これらのことから、金属スリーブ４１の厚さとしては、０．１〜１．５ｍｍが好ましい。
【０１９０】
弾性ローラ４２は、軸受を介して回転自在な金属製の内筒４３の表面にゴム４４を設けてロール状としたものである。
【０１９１】
そして、タッチロールＡが第１冷却ロール５に向けて押圧されると、弾性ローラ４２が金属スリーブ４１を第１冷却ロール５に押しつけ、金属スリープ４１及び弾性ローラ４２は第１冷却ロール５の形状になじんだ形状に対応しつつ変形し、第１冷却ロールとの間にニップを形成する。金属スリーブ４１の内部で弾性ローラ４２との間に形成される空間には、冷却水４５が流される。
【０１９２】
図５は挟圧回転体の第２の例（以下、タッチロールＢ）を示す回転軸に垂直な平面での断面図である。
【０１９３】
図６は挟圧回転体の第２の例（タッチロールＢ）の回転軸を含む平面の一例を示す断面図である。
【０１９４】
図５、図６においてタッチロールＢは、可撓性を有する、シームレスなステンレス鋼管製（厚さ４ｍｍ）の外筒５１と、この外筒５１の内側に同一軸心状に配置された高剛性の金属内筒５２とから概略構成されている。
【０１９５】
外筒５１と内筒５２との間の空間５３には、冷却液５４が流される。詳しくは、タッチロールＢは、両端の回転軸５５ａ、５５ｂに外筒支持フランジ５６ａ、５６ｂが取付けられ、これら両外筒支持フランジ５６ａ、５６ｂの外周部間に薄肉金属外筒５１が取付けられている。
【０１９６】
また、一方の回転軸５５ａの軸心部に形成されて流体戻り通路５７を形成する流体排出孔５８内に、流体供給管５９が同一軸心状に配設され、この流体供給管５９が薄肉金属外筒５１内の軸心部に配置された流体軸筒６０に接続固定されている。
【０１９７】
この流体軸筒６０の両端部に内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂがそれぞれ取付けられ、これら内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂの外周部間から他端側外筒支持フランジ５６ｂにわたって約１５〜２０ｍｍ程度の肉厚を有する金属内筒５２が取付けられている。
【０１９８】
そしてこの金属内筒５２と薄肉金属外筒５１との間に、例えば１０ｍｍ程度の冷却液の流送空間５３が形成され、また金属内筒５２に両端部近傍には、流送空間５３と内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂ外側の中間通路６２ａ、６２ｂとを連通する流出口５２ａ及び流入口５２ｂがそれぞれ形成されている。
【０１９９】
また、外筒５１は、ゴム弾性に近い柔軟性と可撓性、復元性をもたせるために、弾性力学の薄肉円筒理論が適用できる範囲内で薄肉化が図られている。
【０２００】
この薄肉円筒理論で評価される可撓性は、肉厚ｔ／ロール半径ｒで表されており、ｔ／ｒが小さいほど可撓性が高まる。
【０２０１】
このタッチロールＢではｔ／ｒ≦０．０３の場合に可撓性が最適の条件となる。
【０２０２】
通常、一般的に使用されているタッチロールは、ロール径Ｒ＝２００〜５００ｍｍ（ロール半径ｒ＝Ｒ／２）、ロール有効幅Ｌ＝５００〜１６００ｍｍで、ｒ／Ｌ＜１で横長の形状である。
【０２０３】
そして図６に示すように、例えばロール径Ｒ＝３００ｍｍ、ロール有効幅Ｌ＝１２００ｍｍの場合、肉厚ｔの適正範囲は１５０×０．０３＝４．５ｍｍ以下であるが、溶融シート幅を１３００ｍｍに対して平均線圧を９８Ｎ／ｃｍで挟圧する場合、同一形状のゴムロールと比較して、外筒５１の肉厚を３ｍｍとすることで相当ばね定数も等しく、外筒５１と冷却ロールとのニップのロール回転方向のニップ幅ｋも約９ｍｍで、このゴムロールのニップ幅約１２ｍｍとほぼ近い値を示し、同じような条件下で挟圧できることが分かる。
【０２０４】
なお、このニップ幅ｋにおけるたわみ量は０．０５〜０．１ｍｍ程度である。
【０２０５】
ここで、ｔ／ｒ≦０．０３としたが、一般的なロール径Ｒ＝２００〜５００ｍｍの場合では、特に２ｍｍ≦ｔ≦５ｍｍの範囲とすると、可撓性も十分に得られ、また機械加工による薄肉化も容易に実施でき、極めて実用的な範囲となる。肉厚が２ｍｍ以下では加工時の弾性変形で高精度な加工ができない。
【０２０６】
この２ｍｍ≦ｔ≦５ｍｍの換算値は、一般的なロール径に対して０．００８≦ｔ／ｒ≦０．０５となるが、実用にあたってはｔ／ｒ≦０．０３の条件下でロール径に比例して肉厚も大きくするとよい。
【０２０７】
例えばロール径：Ｒ＝２００ではｔ＝２〜３ｍｍ、ロール径：Ｒ＝５００ではｔ＝４〜５ｍｍの範囲で選択する。
【０２０８】
このタッチロールＡ、Ｂは付勢手段により第１冷却ロールに向けて付勢される。その付勢手段の付勢力をＦ、ニップにおける光学フィルムの、第１冷却ロール５の回転軸に沿った方向の幅Ｗを除した値Ｆ／Ｗ（線圧）は、９．８〜１４７Ｎ／ｃｍに設定される。
【０２０９】
本発明において、タッチロールＡ、Ｂと第１冷却ロール５との間にニップが形成され、当該ニップを光学フィルムが通過する間に平面性を矯正することが好ましい。従って、タッチロールが剛体で構成され、第１冷却ロールとの間にニップが形成されない場合と比べて、小さい線圧で長時間かけて光学フィルムを挟圧するので、平面性をより確実に矯正することができる。
【０２１０】
即ち、線圧が９．８Ｎ／ｃｍよりも小さいと、ダイラインを十分に解消することができなくなる。逆に、線圧が１４７Ｎ／ｃｍよりも大きいと、光学フィルムがニップを通過しにくくなり、光学フィルムの厚さにかえってムラができてしまう。
【０２１１】
また、タッチロールＡ、Ｂの表面を金属で構成することにより、タッチロールの表面がゴムである場合よりもタッチロールＡ、Ｂの表面を平滑にすることができるので、平滑性の高い光学フィルムを得ることができる。なお、弾性ローラ４２の弾性体４４の材質としては、エチレンプロピレンゴム、ネオプレンゴム、シリコンゴム等を用いることができる。
【０２１２】
さて、タッチロール６によってダイラインを良好に解消するためには、タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの粘度が適切な範囲であることが重要となる。
【０２１３】
また、セルロースエステルは温度による粘度の変化が比較的大きいことが知られている。
【０２１４】
従って、タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの粘度を適切な範囲に設定するためには、タッチロール６がセルロースフィルムを挟圧するときの光学フィルムの温度を適切な範囲に設定することが重要となる。
【０２１５】
光学フィルムのガラス転移温度をＴｇとしたとき、光学フィルムがタッチロール６に挟圧される直前の光学フィルムの温度Ｔを、Ｔｇ＜Ｔ＜Ｔｇ＋１１０℃を満たすように設定することが好ましい。
【０２１６】
即ち、タッチロール６に挟圧される直前の光学フィルムの温度Ｔが上記の範囲にすると、光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの粘度を適切な範囲に設定することができ、ダイラインの矯正が可能となり、また、光学フィルム表面とロールが均一に接着し、ダイラインの矯正が可能となる。
【０２１７】
好ましくはＴｇ＋１０℃＜Ｔ＜Ｔｇ＋９０℃、更に好ましくはＴｇ＋２０℃＜Ｔ＜Ｔｇ＋７０℃である。
【０２１８】
タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの温度を適切な範囲に設定するには、流延ダイ４から押し出された溶融物が第１冷却ロール５に接触する位置から第１冷却ロール５とタッチロール６とのニップの、第１冷却ロール５の回転方向に沿った長さＬを調整すればよい。
【０２１９】
本発明において、第１ロール５、第２ロール６に好ましい材質は、炭素鋼、ステンレス鋼、樹脂、等が挙げられる。また、表面精度は高くすることが好ましく表面粗さとして０．３Ｓ以下、より好ましくは０．０１Ｓ以下とする。
【０２２０】
本発明においては、流延ダイ４の開口部（リップ）から第１ロール５までの部分を７０ｋＰａ以下に減圧させることにより、上記、ダイラインの矯正効果がより大きく発現する。好ましくは減圧は５０〜７０ｋＰａである。流延ダイ４の開口部（リップ）から第１ロール５までの部分の圧力を７０ｋＰａ以下に保つ方法としては、特に制限はないが、流延ダイ４からロール周辺を耐圧部材で覆い、減圧する等の方法がある。
【０２２１】
このとき、吸引装置は、装置自体が昇華物の付着場所にならないようヒーターで加熱する等の処置を施すことが好ましい。本発明では、吸引圧が小さ過ぎると昇華物を効果的に吸引できないため、適当な吸引圧とする必要がある。
【０２２２】
本発明において、Ｔダイ４から溶融状態のフィルム状のセルロースエステルを、第１ロール（第１冷却ロール）５、第２冷却ロール７、及び第３冷却ロール８に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸の光学フィルム１０を得る。
【０２２３】
図１に示す本発明の実施形態の一例では、第３冷却ロール８から剥離ロール９によって剥離した冷却固化された未延伸の光学フィルム１０は、ダンサーロール（光学フィルム張力調整ロール）１１を経て延伸機１２に導き、そこで光学フィルム１０を横方向（幅方向）に延伸する。この延伸により、光学フィルム中の分子が配向される。
【０２２４】
本発明において、流延ダイ４から溶融状態のフィルム状のセルロースエステル系樹脂を、第１ロール（第１冷却ロール）５、第２冷却ロール７、及び第３冷却ロール８に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸のセルロースエステル系樹脂フィルム１０を得る。
【０２２５】
図１に示す本発明の実施形態では、第３冷却ロール８から剥離ロール９によって剥離した冷却固化された未延伸のフィルム１０は、ダンサーロール（フィルム張力調整ロール）１１を経て延伸機１２に導き、そこでフィルム１０を横方向（幅方向）に延伸する。この延伸により、フィルム中の分子が配向される。
【０２２６】
フィルムを幅方向に延伸する方法は、公知のテンター等を好ましく用いることができる。特に延伸方向を幅方向とすることで、偏光フィルムとの積層がロール形態で実施できるので好ましい。幅方向に延伸することで、セルロースエステル系樹脂フィルムからなる光学フィルムの遅相軸は幅方向になる。
【０２２７】
一方、偏光フィルムの透過軸も、通常、幅方向である。偏光フィルムの透過軸と光学フィルムの遅相軸とが平行になるように積層した偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、液晶表示装置の表示コントラストを高くすることができるとともに、良好な視野角が得られるのである。
【０２２８】
フィルム構成材料のガラス転移温度Ｔｇはフィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率を異ならしめることにより制御できる。光学フィルムとして位相差フィルムを作製する場合、Ｔｇは１２０℃以上、好ましくは１３５℃以上とすることが好ましい。液晶表示装置においては、画像の表示状態において、装置自身の温度上昇、例えば光源由来の温度上昇によってフィルムの温度環境が変化する。このときフィルムの使用環境温度よりもフィルムのＴｇが低いと、延伸によってフィルム内部に固定された分子の配向状態に由来するリタデーション値及びフィルムとしての寸法形状に大きな変化を与えることとなる。フィルムのＴｇが高過ぎると、フィルム構成材料をフィルム化するとき温度が高くなるために加熱するエネルギー消費が高くなり、またフィルム化するときの材料自身の分解、それによる着色が生じることがあり、従って、Ｔｇは２５０℃以下が好ましい。
【０２２９】
また延伸工程には公知の熱固定条件、冷却、緩和処理を行ってもよく、目的とする光学フィルムに要求される特性を有するように適宜調整すればよい。
【０２３０】
位相フィルムの物性と液晶表示装置の視野角拡大のための位相フィルムの機能付与するために、上記延伸工程、熱固定処理は適宜選択して行われている。このような延伸工程、熱固定処理を含む場合、加熱加圧工程は、それらの延伸工程、熱固定処理の前に行うようにする。
【０２３１】
光学フィルムとして位相差フィルムを製造し、更に偏光板保護フィルムの機能を複合させる場合、屈折率制御を行う必要が生じるが、その屈折率制御は延伸操作により行うことが可能であり、また延伸操作が好ましい方法である。以下、その延伸方法について説明する。
【０２３２】
位相差フィルムの延伸工程において、セルロース樹脂の１方向に１．０〜２．０倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に１．０１〜２．５倍延伸することで、必要とされるリタデーションＲｏ及びＲｔを制御することができる。ここで、Ｒｏとは面内リタデーションを示し、Ｒｔとは厚み方向リタデーションを示す。
【０２３３】
リタデーションＲｏ、Ｒｔは下記式により求められる。
【０２３４】
式（ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii） Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
光学フィルムの屈折率は、アッベ屈折率計（４Ｔ）を用いて、フィルムの厚さは市販のマイクロメーターを用いて、リタデーション値は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）等を用いて、各々測定することができる。
【０２３５】
延伸は、例えばフィルムの長手方向及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅方向に対して、逐次または同時に行うことができる。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となりフィルム破断が発生してしまう場合がある。
【０２３６】
例えば溶融流延方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、ｎｚの値が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制、或いは幅方向にも延伸することで改善できる。幅方向に延伸する場合、幅方向で屈折率に分布が生じることがある。この分布は、テンター法を用いた場合に現れることがあり、フィルムを幅方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅方向の位相差の分布を少なくできる。
【０２３７】
互いに直行する２軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少できる。位相差フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。
【０２３８】
光学フィルムの膜厚変動は、±３％、更に±１％の範囲とすることが好ましい。以上のような目的において、互いに直交する２軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍に範囲で行うことが必要とされるリタデーション値を得るためにより好ましい。
【０２３９】
長手方向に偏光子の吸収軸が存在する場合、幅方向に偏光子の透過軸が一致することになる。長尺状の偏光板を得るためには、位相差フィルムは、幅方向に遅相軸を得るように延伸することが好ましい。
【０２４０】
応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、上述の構成から、幅方向に延伸することで、位相差フィルムの遅相軸が幅方向に付与することができる。この場合、表示品質の向上のためには、位相差フィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、目的とするリタデーション値を得るためには、
式 （幅方向の延伸倍率）＞（流延方向の延伸倍率）
の条件を満たすことが必要である。
【０２４１】
延伸後、フィルムの端部をスリッター１３により製品となる幅にスリットして裁ち落とした後、エンボスリング１４及びバックロール１５よりなるナール加工装置によりナール加工（エンボッシング加工）をフィルム両端部に施し、巻取り機１６によって巻き取ることにより、光学フィルム（元巻き）Ｆ中の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、変形しており、フィルム製品として使用できないので、切除されて、原料として再利用される。
【０２４２】
次に、フィルムの巻き取り工程は、円筒形巻きフィルムの外周面とこれの直前の移動式搬送ロールの外周面との間の最短距離を一定に保持しながらフィルムを巻き取りロールに巻き取るものである。かつ巻取りロールの手前には、フィルムの表面電位を除去または低減する除電ブロア等の手段が設けられている。
【０２４３】
本発明に係る光学フィルムの製造に係わる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の巻き取り方法で巻き取ることができる。なお、光学フィルムの巻き取り時の初期巻き取り張力が９０．２〜３００．８Ｎ／ｍであるのが好ましい。
【０２４４】
本発明の方法におけるフィルムの巻き取り工程では、温度２０〜３０℃、湿度２０〜６０％ＲＨの環境条件にて、フィルムを巻き取ることが好ましい。このように、フィルムの巻き取り工程での温度及び湿度を規定することにより、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）の湿度変化の耐性が向上する。
【０２４５】
巻き取り工程における温度が２０℃未満であれば、シワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。フィルムの巻き取り工程における温度が３０℃を超えると、やはりシワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。
【０２４６】
また、フィルムの巻き取り工程における湿度が２０％ＲＨ未満であれば、帯電しやすく、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。フィルムの巻き取り工程における湿度が６０％ＲＨを超えると、巻品質、貼り付き故障、搬送性が劣化するので、好ましくない。
【０２４７】
光学フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度にも耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、フェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。例えば、中空プラスチックコア：ＦＲＰ製の外径６インチ（以下、インチは２．５４ｃｍを表す。）、内径５インチの巻きコアが用いられる。
【０２４８】
これらの巻きコアへの巻き数は、１００巻き以上であることが好ましく、５００巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は５ｃｍ以上であることが好ましく、フィルム基材の幅は８０ｃｍ以上であることが好ましく、１ｍ以上であることが特に好ましい。
【実施例】
【０２４９】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２５０】
実施例１
（光学フィルムＮｏ．１−１の作製）
下記の添加剤、セルロースエステルを用いて、溶融流延法により光学フィルムＮｏ．１−１を作製した。
【０２５１】
Ｃ−１ （セルロースエステル；セルロースアセテートプロピオネート；アセチル基置換度１．６、プロピオニル基置換度１．２、分子量Ｍｎ＝８．１万、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．８） １００質量部
ペンタエリスリトールテトラベンゾエート （可塑剤） ８質量部
ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０ （フェノール系化合物；ペンタエリトリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］；チバ・ジャパン社製） ０．５質量部
ＨＩＴ−６ （リン系化合物） ０．１質量部
（１）−２ （一般式（１）の化合物） ０．００５質量部
Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ−ＧＳ （熱加工安定剤；２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート；住友化学社製） ０．３質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ−９２８ （紫外線吸収剤；２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール；チバ・ジャパン社製） ２．０質量部
アエロジルＮＡＸ５０（マット剤；日本アエロジル社製） ０．２質量部
ＫＥ−Ｐ１００（マット剤；日本触媒社製） ０．０２質量部
上記の添加剤、セルロースエステルを混合し、６０℃ ５時間減圧乾燥した。このセルロースエステル組成物を、２軸式押出し機を用いて２３５℃で溶融混合、ペレット化を行い、ペレットを図１に示す製造装置に掛けてフィルム製膜した。
【０２５２】
第１冷却ロール及び第２冷却ロールはステンレス製で、表面にハードクロムメッキを施した。又、内部には温度調整用のオイルを循環させて、ロール表面温度を制御した。弾性タッチロールは内筒と外筒はステンレス製で、外筒の表面にはハードクロムメッキを施した。外筒の肉厚は２ｍｍとし、内筒と外筒との間の空間に温度調整用のオイルを循環させて弾性タッチロールの表面温度を制御した。
【０２５３】
得られたペレットを、１軸押出し機を用いてＴダイからフィルム状に表面温度１３０℃の第１冷却ロール上に溶融温度２６０℃でフィルム状に溶融押し出しドロー比２０で、キャストフィルムを得た。
【０２５４】
更に、第１冷却ロール上で弾性タッチロールで押圧した。押圧時のタッチロール側のフィルム温度は、１８０℃であった。なお、弾性タッチロールの表面温度は１３０℃、第２冷却ロールの表面温度は１００℃とした。弾性タッチロール、第１冷却ロール、第２冷却ロールの各ロールの表面温度は、ロールにフィルムが最初に接する位置から回転方向に対して９０°手前の位置のロール表面の温度を非接触温度計を用いて幅方向に１０点測定した平均値を各ロールの表面温度とした。
【０２５５】
得られたフィルムを、１６０℃加熱してロール延伸により、長手方向に１．０１倍（１％）延伸し、続いて予熱ゾーン、延伸ゾーン、保持ゾーン、冷却ゾーン（各ゾーン間には各ゾーン間の断熱を確実にするためのニュートラルゾーンも有する）を有するテンターに導入し、幅方向に１６０℃で１．０５倍（５％）延伸した後、幅方向に２％緩和しながら７０℃まで冷却し、クリップから開放後、フィルム端部のクリップ把持部をスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取った。仕上がりの光学フィルムは、幅１４３０ｍｍ、膜厚１３０μｍ、巻長は２０００ｍで、これを光学フィルムＮｏ．１とする。
【０２５６】
フィルム端部のスリットは、フィルム幅方向の両端に、フィルム表裏面にフィルムをはさむように配置された一対のロータリー式裁断刃からなり、一方は円盤状の裁断刃、他方は裁断刃を受ける溝付ボトムロールからなり、それぞれフィルムの搬送方向に回転してフィルムを連続的に断裁し巻き取った。
【０２５７】
同様に以下、本発明の化合物（１）−２、セルロースエステルＣ−１およびリン系化合物ＨＩＴ−６を、下記表１に示すように変更する以外は同様にして、本発明の光学フィルムＮｏ．１−２〜１−２３、比較の光学フィルムＮｏ．１−２４〜１−３７を作製した。
【０２５８】
なお、セルロースエステルＣ−１に代わるセルロースエステルの添加量は、セルロースエステルＣ−１と同じ質量部とし、また、一般式（１）で表される本発明の化合物およびリン系化合物の添加量は、表１に記載のように変更を行った。
【０２５９】
Ｃ−２：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．３、プロピオニル基置換度１．２、分子量Ｍｎ＝６．５万、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．０）
Ｃ−３：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．４、プロピオニル基置換度１．３、分子量Ｍｎ＝８．１万、分散度＝２．５）
Ｃ−４：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度２．１、プロピオニル基置換度０．７、分子量Ｍｎ＝９．０万、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５）
Ｃ−５：セルロースアセテートブチレート、（アセチル置換度＝１．１、ブチリル置換度＝１．８、分子量Ｍｎ＝７．８万、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．６）
【０２６０】
【化２３】
【０２６１】
【表１】
【０２６２】
表１において、光学フィルム１−２６及び１−３０（比較例）は特許文献２の実施例に近似しており、光学フィルム１−３８（比較例）は特許文献１の実施例を再現したものである。
【０２６３】
さらに、下記の添加剤、セルロースエステルを用いて、光学フィルムＮｏ．１−１と同様な方法で、比較の光学フィルム１−３８を作製した。
【０２６４】
Ｃ−１ （セルロースエステル） １００質量部
ペンタエリスリトールテトラベンゾエート ８質量部
Ａ−１ ０．１５質量部
ＨＩＴ−１ （リン系化合物） ０．３質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ−９２８（チバ・ジャパン社製） ２．０質量部
アエロジルＮＡＸ５０（日本アエロジル社製） ０．２質量部
ＫＥ−Ｐ１００（日本触媒社製） ０．０２質量部
【０２６５】
【化２４】
【０２６６】
（評価）
作製した本発明の光学フィルムＮｏ．１−１〜１−２３、比較の光学フィルムＮｏ．１−２４〜１−３８について以下の評価を行った。
【０２６７】
結果を表２に示す。
【０２６８】
（裁断性）
巻き取った光学フィルム試料をゆっくり回し、巻き終わりから長さ１ｍのところで裁断し、試料を採取した。該フィルムを目視で観察し、視認可能な切り粉の個数をカウントし、１ｍ２当たりの個数に換算して評価した。
【０２６９】
Ａ：１個未満／ｍ２
Ｂ：１個〜２個未満／ｍ２
Ｃ：２個〜５個未満／ｍ２
Ｄ：５個以上／ｍ２
（輝点異物）
巻き取った光学フィルム試料から、サンプルを切り出し、直交状態（クロスニコル）に二枚の偏光板を配置して透過光を遮断し、二枚の偏光板の間に各サンプルを置く。偏光板はガラス製保護板のものを使用した。片側から光を照射し、反対側から光学顕微鏡（５０倍）で２５ｍｍ２あたりの輝点異物（直径０．０１ｍｍ以上以上の異物）の数を１００ヶ所測定し、その平均値を求めた。
【０２７０】
Ａ：０〜３０個／ｍ２
Ｂ：３１〜５０個／ｍ２
Ｃ：５１〜８０個／ｍ２
Ｄ：８１〜１００個／ｍ２
Ｅ：１０１個以上／ｍ２
〈延伸性の評価〉
巻き取った光学フィルム試料から、１０ｃｍ×１０ｃｍに切断したフィルム試料を１０枚用意し、２軸延伸を行った。まず１００％ＭＤ延伸を行い、次いで１００％ＴＤ延伸を行った。延伸温度は１６０℃、延伸速度は１００％毎分で行った。
【０２７１】
このような延伸操作を１０枚のフィルムについて行い、破断せずに２軸延伸できたフィルムの枚数を評価した。
【０２７２】
Ａ：１０枚とも延伸できた
Ｂ：８枚以上延伸できた
Ｃ：５枚以上延伸できた
Ｄ：５枚未満しか延伸できなかった
Ｅ：１枚も延伸できなかった。
【０２７３】
（延伸後のフィルムのヘイズ値評価）
延伸後の光学フィルム試料から、３０ｍｍ×３０ｍｍのフィルム試料を１０枚切り出し、ヘイズ値を、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定し、平均値を算出した。ヘイズ値は小さい方が好ましい。
【０２７４】
Ａ：０．３未満
Ｂ：０．３以上０．５未満
Ｃ：０．５以上０．７未満
Ｄ：０．７以上。
【０２７５】
（幅手方向端部の着色評価（端部と中央部イエローインデックスＹＩ比率））
光学フィルムの製造において溶融押出し直後の光学フィルムの幅手方向両端部から３０ｍｍ四方のサンプル及びフィルム中央部から３０ｍｍ四方のサンプルを切り出し、日立ハイテクノロジーズ社製分光光度計Ｕ−３３１０を用いて、その吸収スペクトルを測定し、三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを算出した。この三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚから、ＪＩＳ−Ｋ７１０３に基づいてフィルム両端部のイエローインデックスＹｅ、及びフィルム中央部のイエローインデックスＹｃを算出し、その比率Ｙｅ／Ｙｃを求めた。なお前記イエローインデックスは切り出したサンプル内で最大となる部分の箇所を読み取った。端部と中央部のイエローインデックスの比率は各フィルムで５０点求め、その平均値から、次の評価基準で評価を行った。
【０２７６】
Ａ：Ｙｅ／Ｙｃが１．２未満（実用上非常に優れたレベルである。）
Ｂ：Ｙｅ／Ｙｃが１．２以上３．０未満（実用上問題のないレベルである。）
Ｃ：Ｙｅ／Ｙｃが３．０以上７．０未満（実用上問題発生する可能性のあるレベルである。）
Ｄ：Ｙｅ／Ｙｃが７．０以上１０．０未満（実用上問題が発生するレベルである。）
Ｅ：Ｙｅ／Ｙｃが１０．０以上（実用上問題が発生するレベルである。）
【０２７７】
【表２】
【０２７８】
表２より、本発明の化合物を使用した本発明の光学フィルムＮｏ．１−１〜１−２３は輝点異物、裁断性、延伸性が良好で、延伸後のヘイズ値が小さく、端部と中央部の着色の差が少ない光学フィルムであることがわかる。
【０２７９】
実施例２
下記の組成物を調製した。
【０２８０】
（帯電防止層塗布組成物（１））
ポリメチルメタアクリレート（重量平均分子量５５万、Ｔｇ：９０℃） ０．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ６０質量部
メチルエチルケトン １６質量部
乳酸エチル ５質量部
メタノール ８質量部
導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子） ０．５質量部
【０２８１】
【化２５】
【０２８２】
（ハードコート層塗布組成物（２））
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 ６質量部
シリコーン系界面活性剤 １質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ７５質量部
メチルエチルケトン ７５質量部
（カール防止層塗布組成物（３））
アセトン ３５質量部
酢酸エチル ４５質量部
イソプロピルアルコール ５質量部
ジアセチルセルロース ０．５質量部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル：２００Ｖ、日本アエロジル（株）製） ０．１質量部
下記に従って、機能付与した偏光板保護フィルムを作製した。
【０２８３】
（偏光板保護フィルム）
実施例１で作製した本発明の光学フィルム１−１の延伸後のセルロースエステルフィルムの片面に、カール防止層塗布組成物（３）をウェット膜厚１３μｍとなるようにグラビアコートし、乾燥温度８０±５℃にて乾燥させた。これを試料１−１Ａとする。
【０２８４】
このセルロースエステルフィルムのもう１方の面に帯電防止層塗布組成物（１）を２８℃、８２％ＲＨの環境下でウェット膜厚で７μｍとなるよう塗布し、次いで８０±５℃に設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約０．２μｍの樹脂層を設け、帯電防止層付きセルロースエステルフィルムを得た。これを試料１−１Ｂとする。
【０２８５】
更に、この帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物（２）をウェット膜厚で１３μｍとなるように塗設し、乾燥温度９０℃にて乾燥させた後、紫外線を１５０ｍＪ／ｍ２となるように照射して、乾燥膜厚で５μｍのクリアハードコート層を設けた。これを試料１−１Ｃとする。
【０２８６】
得られた本発明の光学フィルム試料１−１Ａ、試料１−１Ｂ、試料１−１Ｃはともにブラッシングを起こすこともなく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好であった。
【０２８７】
光学フィルム１−１に代えて、本発明の光学フィルム１−２〜１−２３に変更した以外は同様の方法で塗布を行った。その結果、試料１−２Ａ〜１−２３Ａ、１−２Ｂ〜１−２３Ｂ、１−２Ｃ〜１−２３Ｃの何れもブラッシングを起こすこともなく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好であった。
【０２８８】
比較として、比較の光学フィルム１−２４〜１−３８について、それぞれ上記と同様な方法で塗布を行った。
【０２８９】
カール防止層塗布組成物（３）を塗布したものをそれぞれ試料１−２４Ａ〜１−３８Ａ、更に帯電防止層塗布組成物（１）を塗布したものをそれぞれ試料１−２４Ｂ〜１−３８Ｂ、更にこの帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物（２）を塗布したものをそれぞれ試料１−２４Ｃ〜１−３８Ｃとした。
【０２９０】
その結果、高湿度環境で塗布したとき、試料１−２４Ａ〜１−３８Ａでブラッシングが起こった。また、試料１−２４Ｂ〜１−３８Ｂでは乾燥後微細な亀裂が認められることがあり、試料１−２４Ｃ〜１−３８Ｃでは乾燥後微細な亀裂が明確に認められた。
【０２９１】
（偏光板の作製と評価）
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、沃化カリウム２質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し５０℃で４倍に延伸し偏光子を作製した。
【０２９２】
実施例１で作製した本発明の光学フィルム１−１〜１−２３及び比較の光学フィルム１−２４〜１−３８の延伸後のフィルムを、それぞれ４０℃の２．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液に６０秒間浸漬し、更に水洗乾燥して表面をアルカリ処理した。
【０２９３】
前記偏光子の両面に、本発明の光学フィルム１−１〜１−２３及び比較例の光学フィルム１−２４〜１−３８のアルカリ処理面を、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として両面から貼合し、保護フィルムが形成された本発明の偏光板１−１〜１−２３及び比較の偏光板１−２４〜１−３８を作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
【０２９４】
（液晶表示装置としての特性評価）
ＶＡ型液晶表示装置である、シャープ（株）製３２型テレビＡＱ−３２ＡＤ５の偏光板を剥がし、上記で作製した各々の偏光板を液晶セルのサイズに合わせて断裁した。液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、３２型ＶＡ型カラー液晶ディスプレイを作製し、光学フィルムの偏光板としての以下の特性を評価した。結果を表３に示す。
【０２９５】
（平面性）
得られた偏光板を水平なテーブルの上で少し引っ張りながら長手方向の両端をテープでテーブルに貼り付けて、偏光板表面の平面性を下記基準で目視評価した。
【０２９６】
Ａ：表面に波打ち状のムラは全く認められない
Ｂ：表面にわずかに波打ち状のムラが認められる
Ｃ：表面に細かい波打ち状のムラが認められる
Ｄ：表面に大きな波打ち状のムラが認められる
（コントラスト）
２３℃５５％ＲＨの環境で、この液晶テレビのバックライトを点灯して３０分そのまま放置してから、コントラストを目視により以下の基準に従い評価した。
【０２９７】
Ａ：黒がしまって見え、鮮明である
Ｂ：黒がしまって見えるが、やや鮮明さが低い
Ｃ：黒のしまりがなく、鮮明さがやや低い
Ｄ：黒のしまりがなく、鮮明さが低い
【０２９８】
【表３】
【０２９９】
表３より、本発明の偏光板１−１〜１−２３は比較の偏光板１−２４〜１−３８に対して、着色、平面性に優れている保護フィルムで両面が保護されているため、非常に良好な偏光板の特性を有するという顕著に優れた効果を奏することがわかった。
【０３００】
上表より、本発明の偏光板１−１〜１−２３を用いた液晶表示装置は、比較の偏光板１−２４〜１−３８を用いた液晶表示装置に対してコントラストも高く、優れた表示性を示した。これにより、液晶ディスプレイ等の画像表示装置用の偏光板として優れていることが確認された。
【符号の説明】
【０３０１】
１ 押出し機
２ フィルター
３ スタチックミキサー
４ 流延ダイ
５ 回転支持体（第１冷却ロール）
６ 挟圧回転体（タッチロール）
７ 回転支持体（第２冷却ロール）
８ 回転支持体（第３冷却ロール）
９、１１、１３、１４、１５ 搬送ロール
１０ セルロースエステルフィルム
１６ 巻き取り機
３１ ダイ本体
３２ スリット
４１ 金属スリーブ
４２ 弾性ローラ
４３ 金属製の内筒
４４ ゴム
４５ 冷却水
５１ 外筒
５２ 内筒
５３ 空間
５４ 冷却液
５５ａ、５５ｂ 回転軸
５６ａ、５６ｂ 外筒支持フランジ
６０ 流体軸筒
６１ａ、６１ｂ 内筒支持フランジ
６２ａ、６２ｂ 中間通路
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板、及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ＣＲＴディスプレイに代わる薄型ディスプレイとして、液晶表示装置（液晶ディスプレイ）、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイの台頭が目覚しい。これらの新世代のディスプレイには多くの光学フィルムが搭載されているが、薄型がゆえにそれら光学フィルムが持つ各種機能に対する性能向上の要求が年々厳しいものになってきている。従って、より性能向上が達せられた光学フィルムの登場が待ち望まれている。
【０００３】
一方、ノートパソコンの薄型軽量化、大型画面化、高精細化の開発が進んでいる。それに伴って、液晶表示装置用の光学フィルムもますます薄膜化、広幅化、高品質化の要求が強くなってきている。液晶表示装置用の光学フィルムとして種々の樹脂が用いられているが、光学フィルムとしての偏光板保護フィルムには、現在、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが用いられている。その中でも、セルロースエステルを用いたセルロースエステルフィルムが圧倒的に多く使用されている。
【０００４】
しかしながら、現在のセルロースエステルフィルムの製造方法はハロゲン系の溶媒を用いた溶液流延製膜法による製造方法であるため、溶媒回収に要する費用は非常に大きい負担となっているため、セルロースエステルを溶融製膜する試みが行われている。
【０００５】
セルロースエステルは溶融時の粘度が非常に高い高分子であり、かつガラス転移温度も高いため、溶融してダイから押出し、冷却ドラムまたは冷却ベルト上にキャスティングしてもレベリングし難く、押出し後に短時間で固化するため、得られるフィルムの物性特性である平面性が溶液流延フィルムよりも低いといった大きな課題を有していることが分かっている。
【０００６】
このため、溶融時の温度を上げることで粘度を下げようとすると、セルロースエステルの熱分解による分子量低下が起こり、加工安定性の低下、偏光を用いて観察される輝点異物（以下「輝点異物」と称する場合がある）の発生といった加工安定性、性能面での課題が発生する。特に、フィルム端部をスリットする際に、裁断面が荒れる、割れるなどの故障がおこり、加工安定性が低下する問題があり、改良が求められている。
【０００７】
また、溶融時の温度を上げることにより、着色の上昇といった性能面での課題も発生し、改良が求められている。特に幅手方向の端部の着色の改良が難しいのが現状である。広幅のセルロースエステルフィルムを製膜する際、両端部に付与するナーリング加工部や、広幅原反を規定の幅にスリッティングする際に生じる端部（耳部ともいう）を返材として有効利用する際に、端部の着色が著しい場合には返材としての利用もできず、廃棄せざるを得ないため、端部の着色は特に改良が求められていた。
【０００８】
更に最近は、薄膜化、広幅化の要求に答えるため、高倍率延伸が検討されており、延伸中にフィルムが破断しやすいという問題や、ヘイズ値が上昇し、偏光版に加工したときに、コントラストが低下するという、新たな加工安定性、性能面での劣化が問題となっている。
【０００９】
一方、セルロースエステルの溶融製膜における機械強度、熱劣化、着色を改良するために、フェノール系劣化防止剤、チオエーテル系化合物、リン系化合物等を含有させる技術が開示されている（例えば、特許文献１、２参照）。
【００１０】
しかし、いずれの公知技術をもってしても加工安定性、輝点異物の発生、着色及び延伸後のヘイズ値の改良が不十分であるのが現状であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００６−２４１４２８号公報
【特許文献２】特開２００８−２５７２２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は光学フィルム用途として、加熱加工時に、裁断性および延伸性が良好で、輝点異物の発生が抑えられ、端部の着色が低く、延伸後のヘイズ値が低い光学フィルム、該光学フィルムを使用した偏光板及び液晶表示装置、更には溶媒の乾燥及び回収に伴う製造負荷、設備負荷及び環境負荷を低減した光学フィルムの製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記課題は以下の構成により達成される。
【００１４】
１．セルロースエステルと下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。
【００１５】
【化１】
【００１６】
（式中Ｒ１０１およびＲ１０２はアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表し、ｎ１およびｎ２は、０または１を表す。）
２．セルロースエステルと前記一般式（１）で表される化合物と、ホスファイト、ホスホナイト及びホスフィナイトからなる群より選ばれる少なくとも１種のリン系化合物、を含有することを特徴とする前記１項に記載の光学フィルム。
【００１７】
３．前記一般式（１）で表される化合物の添加量をａ（モル）、ホスファイト、ホスホナイト及びホスフィナイトから選ばれるリン系化合物の合計の添加量をｂ（モル）としたときに、下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする前記２項に記載の光学フィルム。
【００１８】
式（Ａ）： ０．００５≦ａ／ｂ≦０．５
４．前記１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムを溶融流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【００１９】
５．前記１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム、または前記４項に記載の光学フィルムの製造方法によって製造された光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
【００２０】
６．前記５項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明により、加熱加工時に、裁断性および延伸性が良好で、輝点異物の発生が抑えられ、端部の着色が低く、延伸後のヘイズ値が低い光学フィルム、該光学フィルムを使用した偏光板及び液晶表示装置、更には溶媒の乾燥及び回収に伴う製造負荷、設備負荷及び環境負荷を低減した光学フィルムの製造方法を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態を示す概略フローシートである。
【図２】図１の製造装置の要部拡大フローシートである。
【図３】図３（ａ）は流延ダイの要部の外観図、図３（ｂ）は流延ダイの要部の断面図である。
【図４】挟圧回転体の第１実施形態の断面図である。
【図５】挟圧回転体の第２実施形態の回転軸に垂直な平面での断面図である。
【図６】挟圧回転体の第２実施形態の回転軸を含む平面での断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下本発明を実施するための形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２４】
（光学フィルム）
本発明において光学フィルムとは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことであり、詳しくは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等を含む。
【００２５】
本発明の光学フィルムの基材となる樹脂フィルムに用いられる樹脂としては、セルロースエステル系樹脂単独、あるいは、セルロースエステル系樹脂とポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アクリル系樹脂（共重合体も含む）、オレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂等）、あるいはビニル系樹脂（ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂等も含む）等の樹脂を併用したものを挙げることができる。この中で、セルロースエステル系樹脂単独、或いはセルロースエステル系樹脂にアクリル系樹脂を併用させたものが好ましい。
【００２６】
セルロースエステル系樹脂に別の種類の樹脂を併用した場合、併用する樹脂の含有量としては０．１〜９０質量％が好ましく、１〜３０質量％がより好ましい。
【００２７】
本発明に係る光学フィルムは、偏光板保護フィルム（機能性層を付与した偏光板保護フィルムを含む）、及び位相差フィルムに好ましく用いられる。
【００２８】
セルロースエステル光学フィルムの製造法は主に二つあり、その一つである溶液流延法は、セルロースエステルを溶媒に溶解した溶液を流延し、溶媒を蒸発、乾燥することによって製膜するものであり、この方法はフィルム内部に残存する溶媒を除去しなければならないため、乾燥ライン、乾燥エネルギー、及び蒸発した溶媒の回収及び再生装置等、製造ラインへの設備投資及び製造コストが膨大になっており、これらを削減することが重要な課題となっている。これに対し溶融流延法による製膜では、溶液流延としてセルロースエステルの溶液を調整するための溶媒を用いないため、前述の乾燥負荷、設備負荷が生じない。従って、本発明では溶液流延法よりも、溶融流延法で製造することが好ましい。
【００２９】
本発明者らは上記課題に対し鋭意検討の結果、溶融製膜しても、加熱加工時に、輝点異物、裁断性および延伸性が改良され、端部の着色、延伸後のヘイズ値が改善された光学フィルムが得られることが分かった。これらの効果により溶液製膜法で作製されたものと同等以上の特性を有するセルロースエステル光学フィルムを溶融製膜法でも得られることが分かった。
【００３０】
以下、本発明に用いられる各種化合物について詳述する。
【００３１】
（一般式（１）の化合物）
前記一般式（１）において、Ｒ１０１およびＲ１０２はアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表す。ｎ１およびｎ２は、０または１を表す。Ｒ１０１およびＲ１０２は同一であっても、異なっても良い。好ましくは同一である。
【００３２】
アルキル基としては、炭素数１〜２２のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基等が挙げられる。
【００３３】
さらに好ましくは、炭素数２〜２０のアルキル基が好ましく、炭素数８〜１８が特に好ましい。アリール基としては、例えば炭素数６〜１２のアリール基が好ましく、特にフェニル基が好ましい。シクロアルキル基としては、例えば、炭素数３〜１０のシクロアルキル基が好ましく、例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等が挙げられる。特にシクロヘキシル基が好ましい。
【００３４】
Ｒ１０１およびＲ１０２が表す基は、置換基を有していてもよい。
【００３５】
置換基としては、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アリル基（例えばオクチルアリル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。
【００３６】
また、前記一般式（１）で表される化合物は、下記一般式（２）のような、互変異性体の構造をとってもよい。
【００３７】
【化２】
【００３８】
本発明の化合物の具体例としては以下のものが挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３９】
【化３】
【００４０】
【化４】
【００４１】
【化５】
【００４２】
また、市販品として、ＪＰ−２０２（（１）−１；城北化学工業株式会社製）、ＪＰ−２６０（（１）−３０；城北化学工業株式会社製）、Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−８（（１）−２；ＳＣ有機化学株式会社製）、Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１２（（１）−３；ＳＣ有機化学株式会社製）、Ｃｈｅｌｅｘ Ｈ−１８Ｄ（（１）−４；ＳＣ有機化学株式会社製）が挙げられる。
【００４３】
一般式（１）で表される化合物の添加量は、セルロースエステル１００質量部に対して、１×１０−７〜１．０質量部、好ましくは１×１０−６〜０．５質量部、さらに好ましくは１×１０−５〜０．１質量部である。
【００４４】
（セルロースエステル）
本発明に用いられるセルロースエステルは特に限定されないが、溶融製膜可能なセルロースエステルであることがより好ましい。例えば芳香族カルボン酸エステル等も用いられるが、光学特性等の得られるフィルムの特性を鑑みると、セルロースの低級脂肪酸エステルを使用するのが好ましい。本発明においてセルロースの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは炭素原子数が５以下の脂肪酸を意味し、例えばセルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート、セルロースピバレート等がセルロースの低級脂肪酸エステルの好ましいものとして挙げられる。炭素原子数が６以上の脂肪酸で置換されたセルロースエステルでは、溶融製膜性は良好であるものの、得られるセルロースエステルフィルムの力学特性が低く、実質的に光学フィルムとして用いることが難しいためである。力学特性と溶融製膜性の双方を両立させるために、セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレート等のように混合脂肪酸エステルを用いてもよい。
【００４５】
上記セルロースエステルの中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートが好ましく用いられる。
【００４６】
次に、本発明に用いられるセルロースエステルのアシル基の置換度について説明する。
【００４７】
セルロースには、１グルコース単位の２位、３位、６位に１個ずつ、計３個の水酸基があり、総置換度とは、平均して１グルコース単位にいくつのアシル基が結合しているかを示す数値である。従って、最大の置換度は３．０である。これらアシル基は、グルコース単位の２位、３位、６位に平均的に置換していてもよいし、分布をもって置換していてもよい。
【００４８】
セルロースエステルとして好ましいセルロースの低級脂肪酸エステルは、炭素原子数２〜４のアシル基を置換基として有し、アセチル基の置換度をＸとし、プロピオニル基またはブチリル基の置換度をＹとした時、下記式（Ｉ）、（II）及び（III）を同時に満たすセルロースエステルを含むセルロース樹脂である。なお、アセチル基の置換度と他のアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により求めたものである。
【００４９】
式（Ｉ） ２．４≦Ｘ＋Ｙ≦２．９
式（II） ０≦Ｘ≦２．４
式（III） ０．５≦Ｙ≦２．９
この内、特にセルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられ、中でも１．２≦Ｘ≦２．１であり、０．６≦Ｙ≦１．４であることが好ましい。アシル基の置換度の異なるセルロースエステルをブレンドして、セルロースエステルフィルム全体として上記範囲に入っていてもよい。上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。
【００５０】
上記アシル基で置換されていない部分は通常水酸基として存在しているものである。これらは公知の方法で合成することができる。
【００５１】
本発明に用いられるセルロースエステルは、５００００〜１５００００の数平均分子量（Ｍｎ）を有することが好ましく、５５０００〜１２００００の数平均分子量を有することが更に好ましく、６００００〜１０００００の数平均分子量を有することが最も好ましい。
【００５２】
更に、本発明に用いられるセルロースエステルは、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）比が１．３〜５．５のものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．５〜５．０であり、更に好ましくは１．７〜４．０であり、更に好ましくは２．０〜３．５のセルロースエステルが好ましく用いられる。
【００５３】
なお、Ｍｎ及びＭｗ／Ｍｎは下記の要領で、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより算出した。
【００５４】
測定条件は以下の通りである。
【００５５】
溶媒 ：テトヒドロフラン
装置 ：ＨＬＣ−８２２０（東ソー（株）製）
カラム ：ＴＳＫｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＭ−Ｍ（東ソー（株）製）
カラム温度：４０℃
試料濃度 ：０．１質量％
注入量 ：１０μｌ
流量 ：０．６ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線 ：標準ポリスチレン：ＰＳ−１（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ社製）Ｍｗ＝２，５６０，０００〜５８０までの９サンプルによる校正曲線を使用した。
【００５６】
本発明で用いられるセルロースエステルの原料セルロースは、木材パルプでも綿花リンターでもよい。木材パルプには針葉樹と広葉樹があるが、針葉樹の方がより好ましい。しかし、製膜の際の剥離性の点からは綿花リンターがより好ましく用いられる。これらから作られたセルロースエステルは適宜混合して、或いは単独で使用することができる。
【００５７】
例えば、綿花リンター由来セルロースエステル：木材パルプ（針葉樹）由来セルロースエステル：木材パルプ（広葉樹）由来セルロースエステルの比率が１００：０：０、９０：１０：０、８５：１５：０、５０：５０：０、２０：８０：０、１０：９０：０、０：１００：０、０：０：１００、８０：１０：１０、８５：０：１５、４０：３０：３０で用いることができる。
【００５８】
セルロースエステルは、例えば、原料セルロースの水酸基を無水酢酸、無水プロピオン酸及び／または無水酪酸を用いて常法によりアセチル基、プロピオニル基及び／またはブチル基を上記の範囲内に置換することで得られる。このようなセルロースエステルの合成方法は、特に限定はないが、例えば、特開平１０−４５８０４号或いは特表平６−５０１０４０号に記載の方法を参考にして合成することができる。
【００５９】
本発明に用いられるセルロースエステルのアルカリ土類金属含有量は、１〜５０ｐｐｍの範囲であることが好ましい。５０ｐｐｍを超えるとリップ付着汚れが増加或いは熱延伸時や熱延伸後でのスリッティング部で破断しやすくなる。１ｐｐｍ未満でも破断しやすくなるがその理由はよく分かっていない。１ｐｐｍ未満にするには洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるためその点でも好ましくない。更に１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。ここでいうアルカリ土類金属とはＣａ、Ｍｇの総含有量のことであり、Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）を用いて測定することができる。
【００６０】
本発明に用いられるセルロースエステル中の残留硫酸含有量は、硫黄元素換算で０．１〜４５ｐｐｍの範囲であることが好ましい。これらは塩の形で含有していると考えられる。残留硫酸含有量が４５ｐｐｍを超えると熱溶融時のダイリップ部の付着物が増加するため好ましくない。また、熱延伸時や熱延伸後でのスリッティングの際に破断しやすくなるため好ましくない。少ない方が好ましいが、０．１未満とするにはセルロースエステルの洗浄工程の負担が大きくなり過ぎるため好ましくないだけでなく、逆に破断しやすくなることがあり好ましくない。これは洗浄回数が増えることが樹脂に影響を与えているのかもしれないがよく分かっていない。更に１〜３０ｐｐｍの範囲が好ましい。残留硫酸含有量は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。
【００６１】
本発明に用いられるセルロースエステル中の遊離酸含有量は、１〜５００ｐｐｍであることが好ましい。５００ｐｐｍを超えるとダイリップ部の付着物が増加し、また破断しやすくなる。洗浄で１ｐｐｍ未満にすることは困難である。更に１〜１００ｐｐｍの範囲であることが好ましく、更に破断しにくくなる。特に１〜７０ｐｐｍの範囲が好ましい。遊離酸含有量はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法により測定することができる。
【００６２】
合成したセルロースエステルの洗浄を、溶液流延法に用いられる場合に比べて、更に十分に行うことによって、残留酸含有量を上記の範囲とすることができ、溶融流延法によってフィルムを製造する際に、リップ部への付着が軽減され、平面性に優れるフィルムが得られ、寸法変化、機械強度、透明性、耐透湿性、後述するＲｔ値、Ｒｏ値が良好なフィルムを得ることができる。また、セルロースエステルの洗浄は、水に加えて、メタノール、エタノールのような貧溶媒、或いは結果として貧溶媒であれば貧溶媒と良溶媒の混合溶媒を用いることができ、残留酸以外の無機物、低分子の有機不純物を除去することができる。更に、セルロースエステルの洗浄は、ヒンダードアミン、亜リン酸エステルといった酸化防止剤の存在下で行うことが好ましく、セルロースエステルの耐熱性、製膜安定性が向上する。
【００６３】
また、セルロースエステルの耐熱性、機械物性、光学物性等を向上させるため、セルロースエステルの良溶媒に溶解後、貧溶媒中に再沈殿させ、セルロースエステルの低分子量成分、その他不純物を除去することができる。この時、前述のセルロースエステルの洗浄同様に、酸化防止剤の存在下で行うことが好ましい。
【００６４】
更に、セルロースエステルの再沈殿処理の後、別のポリマー或いは低分子化合物を添加してもよい。
【００６５】
本発明において、異物除去のために濾過をすることが好ましい。輝点異物を溶融濾過によって除去する場合、セルロースエステルを単独で溶融させたものを濾過するよりも可塑剤、劣化防止剤、酸化防止剤等を添加混合したセルロースエステル組成物を濾過することが異物の除去効率が高く好ましい。もちろん、セルロースエステルの合成の際に溶媒に溶解させて濾過により低減させてもよい。紫外線吸収剤、その他の添加物も適宜混合したものを濾過することができる。濾過はセルロースエステルを含む溶融物の粘度が１００００Ｐａ・ｓ以下で濾過されることが好ましく、５０００Ｐａ・ｓ以下がより好ましく、１０００Ｐａ・ｓ以下が更に好ましく、５００Ｐａ・ｓ以下であることがさらにより好ましい。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂等の弗素樹脂等の従来公知のものが好ましく用いられるが、特にセラミックス、金属等が好ましく用いられる。絶対濾過精度としては５０μｍ以下のものが好ましく用いられ、３０μｍ以下のものがより好ましく、１０μｍ以下のものがさらにより好ましく、５μｍ以下のものが更に好ましく用いられる。これらは適宜組み合わせて使用することもできる。濾材はサーフェースタイプでもデプスタイプでも用いることができるが、デプスタイプの方が比較的目詰まりしにくく好ましく用いられる。
【００６６】
別の実施態様では、原料のセルロースエステルは少なくとも一度溶媒に溶解させた後、溶媒を乾燥させたセルロースエステルを用いてもよい。その際には可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、酸化防止剤及びマット剤の少なくとも１つ以上と共に溶媒に溶解させた後、乾燥させたセルロースエステルを用いる。溶媒としては、メチレンクロライド、酢酸メチル、ジオキソラン等の溶液流延法で用いられる良溶媒を用いることができ、同時にメタノール、エタノール、ブタノール等の貧溶媒を用いてもよい。溶解の過程で−２０℃以下に冷却したり、８０℃以上に加熱したりしてもよい。このようなセルロースエステルを用いると、溶融状態にした時の各添加物を均一にしやすく、光学特性を均一にできることがある。
【００６７】
本発明の光学フィルムはセルロースエステル以外の高分子成分を適宜混合したものでもよい。混合される高分子成分はセルロースエステルと相溶性に優れるものが好ましく、フィルムにした時の透過率が８０％以上、更に好ましくは９０％以上、更に好ましくは９２％以上であることが好ましい。
【００６８】
（可塑剤）
本発明の光学フィルムには、可塑剤を添加することが好ましい。
【００６９】
一般的に、可塑剤として知られる化合物を添加することは機械的性質向上、柔軟性を付与、耐吸水性付与、水分透過率の低減等のフィルムの改質の観点において好ましい。また、溶融流延法においては、用いるセルロースエステル単独のガラス転移温度よりも、可塑剤の添加によりフィルム構成材料の溶融温度を低下させる目的、または同じ加熱温度においてセルロースエステルよりも可塑剤を含むフィルム構成材料の粘度が低下できる目的を含んでいる。
【００７０】
本発明において、多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤はセルロースエステルと親和性が高く、より好ましい。本発明において好ましく用いられるエステル系可塑剤の原料である多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、グレセリン、ジグリセリン、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、ジトリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、キシリトール等を挙げることができる。特に、エチレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパンが好ましい。
【００７１】
多価アルコールエステル系の一つであるエチレングリコールエステル系の可塑剤としては、具体的には、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジブチレート等のエチレングリコールアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジシクロプロピルカルボキシレート、エチレングリコールジシクロヘキルカルボキシレート等のエチレングリコールシクロアルキルエステル系の可塑剤、エチレングリコールジベンゾエート、エチレングリコールジ４−メチルベンゾエート等のエチレングリコールアリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にエチレングリコール部も置換されていてもよく、エチレングリコールエステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００７２】
多価アルコールエステル系の一つであるグリセリンエステル系の可塑剤としては、具体的にはトリアセチン、トリブチリン、グリセリンジアセテートカプリレート、グリセリンオレートプロピオネート等のグリセリンアルキルエステル、グリセリントリシクロプロピルカルボキシレート、グリセリントリシクロヘキシルカルボキシレート等のグリセリンシクロアルキルエステル、グリセリントリベンゾエート、グリセリン４−メチルベンゾエート等のグリセリンアリールエステル、ジグリセリンテトラアセチレート、ジグリセリンテトラプロピオネート、ジグリセリンアセテートトリカプリレート、ジグリセリンテトララウレート、等のジグリセリンアルキルエステル、ジグリセリンテトラシクロブチルカルボキシレート、ジグリセリンテトラシクロペンチルカルボキシレート等のジグリセリンシクロアルキルエステル、ジグリセリンテトラベンゾエート、ジグリセリン３−メチルベンゾエート等のジグリセリンアリールエステル等が挙げられる。これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にグリセリン、ジグリセリン部も置換されていてもよく、グリセリンエステル、ジグリセリンエステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００７３】
その他の多価アルコールエステル系の可塑剤としては、具体的には特開２００３−１２８２３号公報の段落３０〜３３記載の多価アルコールエステル系可塑剤が挙げられる。
【００７４】
これらアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基は、同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキレート基、シクロアルキルカルボキシレート基、アリレート基のミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更に多価アルコール部も置換されていてもよく、多価アルコールの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００７５】
上記多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤の中では、アルキル多価アルコールアリールエステルが好ましく、具体的には上記のエチレングリコールジベンゾエート、グリセリントリベンゾエート、ジグリセリンテトラベンゾエート、特開２００３−１２８２３号公報の段落３１記載の例示化合物１６、特開２００６−１８８６６３号公報の段落６４記載の例示化合物４８が挙げられる。
【００７６】
多価カルボン酸エステル系の一つであるジカルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、ジドデシルマロネート、ジオクチルアジペート、ジブチルセバケート等のアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロペンチルサクシネート、ジシクロヘキシルアジーペート等のアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルサクシネート、ジ４−メチルフェニルグルタレート等のアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジヘキシル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート、ジデシルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２，３−ジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロヘキシル−１，２−シクロブタンジカルボキシレート、ジシクロプロピル−１，２−シクロヘキシルジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニル−１，１−シクロプロピルジカルボキシレート、ジ２−ナフチル−１，４−シクロヘキサンジカルボキシレート等のシクロアルキルジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤、ジエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、ジシクロプロピルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のアリールジカルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、ジフェニルフタレート、ジ−４−メチルフェニルフタレート等のアリールジカルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。
【００７７】
これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また一置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００７８】
多価アルコールと１価のカルボン酸からなるエステル系可塑剤、多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤の添加量は、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．１〜５０質量部、好ましくは１〜３０質量部、更に好ましくは３〜１５質量部である。
【００７９】
その他の多価カルボン酸エステル系の可塑剤としては、具体的にはトリドデシルトリカルバレート、トリブチル−ｍｅｓｏ−ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロヘキシルトリカルバレート、トリシクロプロピル−２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル２−ヒドロキシ−１，２，３−プロパントリカルボキシレート、テトラ３−メチルフェニルテトラヒドロフラン−２，３，４，５−テトラカルボキシレート等のアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、テトラヘキシル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、テトラブチル−１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、テトラシクロプロピル−１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボキシレート、トリシクロヘキシル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤、トリフェニル−１，３，５−シクロヘキシルトリカルボキシレート、ヘキサ４−メチルフェニル−１，２，３，４，５，６−シクロヘキシルヘキサカルボキシレート等のシクロアルキル多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤、トリドデシルベンゼン−１，２，４−トリカルボキシレート、テトラオクチルベンゼン−１，２，４，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アルキルエステル系の可塑剤、トリシクロペンチルベンゼン−１，３，５−トリカルボキシレート、テトラシクロヘキシルベンゼン−１，２，３，５−テトラカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸シクロアルキルエステル系の可塑剤トリフェニルベンゼン−１，３，５−テトラカルボキシレート、ヘキサ４−メチルフェニルベンゼン−１，２，３，４，５，６−ヘキサカルボキシレート等のアリール多価カルボン酸アリールエステル系の可塑剤が挙げられる。これらアルコキシ基、シクロアルコキシ基は、同一でもあっても異なっていてもよく、また１置換でもよく、これらの置換基は更に置換されていてもよい。アルキル基、シクロアルキル基はミックスでもよく、またこれら置換基同士が共有結合で結合していてもよい。更にフタル酸の芳香環も置換されていてよく、ダイマー、トリマー、テトラマー等の多量体でもよい。またフタル酸エステルの部分構造がポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【００８０】
上記多価カルボン酸と１価のアルコールからなるエステル系可塑剤の中では、アルキルジカルボン酸アルキルエステルが好ましく、具体的には上記のジオクチルアジペートが挙げられる。
【００８１】
本発明に用いられるその他の可塑剤としては、燐酸エステル系可塑剤、炭水化物エステル系可塑剤、ポリマー可塑剤等が挙げられる。
【００８２】
燐酸エステル系の可塑剤としては、具体的には、トリアセチルホスフェート、トリブチルホスフェート等の燐酸アルキルエステル、トリシクロベンチルホスフェート、シクロヘキシルホスフェート等の燐酸シクロアルキルエステル、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリナフチルホスフェート、トリキシリルオスフェート、トリスオルト−ビフェニルホスフェート等の燐酸アリールエステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同士が共有結合で結合していてもよい。
【００８３】
また、エチレンビス（ジメチルホスフェート）、ブチレンビス（ジエチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアルキルホスフェート）、エチレンビス（ジフェニルホスフェート）、プロピレンビス（ジナフチルホスフェート）等のアルキレンビス（ジアリールホスフェート）、フェニレンビス（ジブチルホスフェート）、ビフェニレンビス（ジオクチルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアルキルホスフェート）、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）、ナフチレンビス（ジトルイルホスフェート）等のアリーレンビス（ジアリールホスフェート）等の燐酸エステルが挙げられる。これらの置換基は同一でもあっても異なっていてもよく、更に置換されていてもよい。またアルキル基、シクロアルキル基、アリール基のミックスでもよく、また置換基同士が共有結合で結合していてもよい。
【００８４】
更に燐酸エステルの部分構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にペンダントされていてもよく、また酸化防止剤、酸掃去剤、紫外線吸収剤等の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。上記化合物の中では、燐酸アリールエステル、アリーレンビス（ジアリールホスフェート）が好ましく、具体的にはトリフェニルホスフェート、フェニレンビス（ジフェニルホスフェート）が好ましい。
【００８５】
ポリマー可塑剤としては、具体的には、脂肪族炭化水素系ポリマー、脂環式炭化水素系ポリマー、ポリアクリル酸エチル、ポリメタクリル酸メチル、メタクリル酸メチルとメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルとの共重合体、メタクリル酸メチルとアクリル酸メチルとメタクリル酸−２−ヒドロキシエチルとの共重合体、等のアクリル系ポリマー、ポリビニルイソブチルエーテル、ポリＮ−ビニルピロリドン等のビニル系ポリマー、ポリスチレン、ポリ４−ヒドロキシスチレン等のスチレン系ポリマー、ポリブチレンサクシネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド等のポリエーテル、ポリアミド、ポリウレタン、ポリウレア等が挙げられる。数平均分子量は１０００〜５０００００程度が好ましく、特に好ましくは、５０００〜２０００００である。１０００以下では揮発性に問題が生じ、５０００００を超えると可塑化能力が低下し、セルロースエステルフィルムの機械的性質に悪影響を及ぼす。
【００８６】
これらポリマー可塑剤は１種の繰り返し単位からなる単独重合体でも、複数の繰り返し構造体を有する共重合体でもよい。また、上記ポリマーを２種以上併用して用いてもよい。
【００８７】
また、本発明においては、従来公知の炭水化物エステル系可塑剤も本発明の効果を損なわない範囲で併せて用いることができる。
【００８８】
可塑剤としては、多価アルコールエステル系、アクリル系ポリマーが特に好ましい。
【００８９】
可塑剤の添加量はセルロースエステル１００質量部に対して、０．１〜５０質量部が好ましく、より好ましくは１〜３０質量部、更に好ましくは３〜１５質量部である。
【００９０】
（酸化防止剤）
本発明の光学フィルムにおいて、溶融製膜時の高温環境下では、光学フィルム成形材料の熱、及び酸素による分解が促進されるため、酸化防止剤を含有することが好ましい。
【００９１】
本発明において有用な酸化防止剤としては、光学フィルム成形材料の劣化を抑制する化合物であれば制限なく用いることができるが、中でもホスファイト（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスホナイト（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｔｅ）、またはホスフィナイト（ｐｈｏｓｐｈｉｎｉｔｅ）からなる群より選ばれる少なくとも１種のリン系化合物を用いることが好ましい。
【００９２】
また、フェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、イオウ系化合物、耐熱加工安定剤、酸素スカベンジャー、ベンゾフラノン系化合物、酸補足剤等を用いることも好ましく、これらの中でも、特にフェノール系化合物、耐熱加工安定剤、が好ましい。
【００９３】
これらの化合物を配合することにより、透明性、耐熱性等を低下させることなく、熱や酸化劣化等による成形体の着色や強度低下を防止できる。これらの酸化防止剤は、それぞれ単独で、或いは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９４】
（リン系化合物）
本発明において用いられるホスファイト（ｐｈｏｓｐｈｉｔｅ）、ホスホナイト（ｐｈｏｓｐｈｏｎｉｔｅ）、またはホスフィナイト（ｐｈｏｓｐｈｉｎｉｔｅ）からなる群より選ばれる少なくとも１種のリン系化合物について説明する。これらの化合物は、例えば、特開２００２−１３８１８８号、特開２００５−３４４０４４号段落番号００２２〜００２７、特開２００４−１８２９７９号段落番号００２３〜００３９、特開平１０−３０６１７５号、特開平１−２５４７４４号、特開平２−２７０８９２号、特開平５−２０２０７８号、特開平５−１７８８７０号、特表２００４−５０４４３５号、特表２００４−５３０７５９号、および特願２００５−３５３２２９号の明細書中に記載されている。
【００９５】
好ましいリン系化合物としては、一般式（Ｉ）から（Ｖ）のホスファイト、一般式（VI）から（XII）のホスホナイト、一般式（XIII）から（XIV）のホスフィナイトが挙げられる。
【００９６】
【化６】
【００９７】
【化７】
【００９８】
それぞれの基は互いに独立に、Ｒ１は、Ｃ１〜Ｃ２４のアルキル（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ３０のシクロアルキル（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシ基で置換された）であり、Ｒ２は、Ｈ、Ｃ１〜Ｃ２４のアルキル（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ３０のシクロアルキル（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシ基で置換された）であり、Ｒ３は、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキレンタイプのｎ価の基（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキリデン（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキレンもしくはＣ６〜Ｃ２４のアリーレン（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシで置換された）であり、Ｒ４は、Ｃ１〜Ｃ２４のアルキル（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ３０のシクロアルキル（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシ基で置換された）であり、Ｒ５は、Ｃ１〜Ｃ２４−アルキル（直鎖もしくは分岐、ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ５〜Ｃ３０のシクロアルキル（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキルアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール、Ｃ６〜Ｃ２４のアリールもしくはヘテロアリール（Ｃ１〜Ｃ１８のアルキル（直鎖もしくは分岐）、Ｃ５〜Ｃ１２のシクロアルキルもしくはＣ１〜Ｃ１８のアルコキシ基で置換された）であり、Ａは、直接結合、Ｃ１〜Ｃ３０のアルキリデン（ヘテロ原子、Ｎ、Ｏ、Ｐ、Ｓが含まれてもよい）、＞ＮＨ、＞ＮＲ１、−Ｓ−、＞Ｓ（Ｏ）、＞Ｓ（Ｏ）２、−Ｏ−であり、Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｆであり、ｋは０から４であり、ｎは１から４であり、ｍは０から５であり、ｐは０もしくは１である。
【００９９】
このような化合物のうち特に好ましい化合物として以下の化合物が挙げられる。またこれらの化合物は２種以上併用して使用してもよい。リン系化合物の添加量は、セルロースエステル１００質量部に対して、通常０．０１〜１質量部、好ましくは０．０５〜０．５質量部、更に好ましくは０．１〜０．３質量部である。
【０１００】
具体的な好ましい化合物例としては下記の化合物が挙げられる。
【０１０１】
【化８】
【０１０２】
【化９】
【０１０３】
【化１０】
【０１０４】
【化１１】
【０１０５】
【化１２】
【０１０６】
【化１３】
【０１０７】
【化１４】
【０１０８】
【化１５】
【０１０９】
【化１６】
【０１１０】
【化１７】
【０１１１】
【化１８】
【０１１２】
【化１９】
【０１１３】
一般式（１）で表される化合物の添加量をａ（モル）、ホスファイト系化合物、ホスホナイト系化合物または、ホスフィナイト系化合物から選ばれるリン系化合物の合計の添加量をｂ（モル）としたときに、ａ／ｂの比率は０．００５≦ａ／ｂ≦０．５であることが好ましく、０．０５≦ａ／ｂ≦０．３がより好ましく、０．１≦ａ／ｂ≦０．２であることが最も好ましい。
【０１１４】
ａ／ｂが０．５以下であると、加工安定性が優れ、延伸後のヘイズ値を十分に抑えることができる。また、０．００５以上であると、加工安定性、輝点異物の改良効果が遺憾なく発揮される。
【０１１５】
（フェノール系化合物）
フェノール系化合物は既知の化合物であり、例えば、米国特許第４，８３９，４０５号明細書の第１２〜１４欄に記載されており、２，６−ジアルキルフェノール誘導体化合物が含まれる。このような化合物のうち好ましい化合物として、下記一般式（ａ）で表される化合物が好ましい。
【０１１６】
【化２０】
【０１１７】
式中、Ｒ１１〜Ｒ１６は置換基を表す。置換基としては、水素原子、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子等）、アルキル基（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シアノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリールチオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチルスルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えばメチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基（メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、ニトロソ基、アミンオキシド基（例えばピリジン−オキシド基）、イミド基（例えばフタルイミド基等）、ジスルフィド基（例えばベンゼンジスルフィド基、ベンゾチアゾリル−２−ジスルフィド基等）、カルボキシル基、スルホ基、ヘテロ環基（例えば、ピロール基、ピロリジル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等）等が挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。
【０１１８】
また、Ｒ１１は水素原子、Ｒ１２、Ｒ１６はｔ−ブチル基であるフェノール系化合物が好ましい。フェノール系化合物の具体例としては、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、ｎ−オクタデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−アセテート、ｎ−オクタデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ｎ−ヘキシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ｎ−ドデシル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルベンゾエート、ネオ−ドデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ドデシルβ（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、エチルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）イソブチレート、オクタデシルα−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（ｎ−オクチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンゾエート、２−（２−ヒドロキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ジエチルグリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート、２−（ｎ−オクタデシルチオ）エチル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ステアルアミドＮ，Ｎ−ビス−［エチレン−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ｎ−ブチルイミノＮ，Ｎ−ビス−［エチレン３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（２−ステアロイルオキシエチルチオ）エチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，２−プロピレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ネオペンチルグリコールビス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、エチレングリコールビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、グリセリン−ｌ−ｎ−オクタデカノエート−２，３−ビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルアセテート）、ペンタエリスリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，１，１−トリメチロールエタン−トリス−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ソルビトールヘキサ−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２−ヒドロキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ステアロイルオキシエチル７−（３−メチル−５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ヘプタノエート、１，６−ｎ−ヘキサンジオール−ビス［（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリトリトール−テトラキス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）が含まれる。上記タイプのフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン（株）から、“ＩＲＧＡＮＯＸ １０７６”及び“ＩＲＧＡＮＯＸ １０１０”という商品名で市販されている。
【０１１９】
（ヒンダードアミン系化合物）
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式（ｂ）で表されるヒンダードアミン系化合物が好ましい。
【０１２０】
【化２１】
【０１２１】
式中、Ｒ２２〜Ｒ２８は置換基を表す。置換基としては前記一般式（ａ）のＲ１１〜Ｒ１６で表される置換基と同義である。Ｒ２４は水素原子、メチル基、Ｒ２７は水素原子、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５、Ｒ２６はメチル基が好ましい。
【０１２２】
ヒンダードアミン系化合物の具体例としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）スクシネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−ベンジルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（Ｎ−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１−アクロイル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）２，２−ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）デカンジオエート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−１−［２−（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ）エチル］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−メチル−２−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）プロピオンアミド、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート等が挙げられる。
【０１２３】
また、高分子タイプの化合物でもよく、具体例としては、Ｎ，Ｎ′，Ｎ″，Ｎ″′−テトラキス−［４，６−ビス−〔ブチル−（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ〕−トリアジン−２−イル］−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミン、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，６−ヘキサメチレンジアミンとＮ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、１，６−ヘキサンジアミン−Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）とモルフォリン−２，４，６−トリクロロ−１，３，５−トリアジンとの重縮合物、ポリ［（６−モルフォリノ−ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕−ヘキサメチレン〔（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ〕］等の、ピペリジン環がトリアジン骨格を介して複数結合した高分子量ＨＡＬＳ；コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノールと３，９−ビス（２−ヒドロキシ−１，１−ジメチルエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンとの混合エステル化物等の、ピペリジン環がエステル結合を介して結合した化合物等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１２４】
これらの中でも、ジブチルアミンと１，３，５−トリアジンとＮ，Ｎ′−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミンとの重縮合物、ポリ〔｛（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝〕、コハク酸ジメチルと４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジンエタノールとの重合物等で、数平均分子量（Ｍｎ）が２，０００〜５，０００のものが好ましい。
【０１２５】
上記タイプのヒンダードフェノール化合物は、例えば、チバ・ジャパン（株）から、“ＴＩＮＵＶＩＮ １４４”及び“ＴＩＮＵＶＩＮ ７７０”、旭電化工業株式会社から“ＡＤＫ ＳＴＡＢ ＬＡ−５２”という商品名で市販されている。
【０１２６】
（イオウ系化合物）
本発明において有用な酸化防止剤の一つとして、下記一般式（ｃ）で表されるイオウ系化合物が好ましい。
【０１２７】
一般式（ｃ）
Ｒ３３−Ｓ−Ｒ３４
式中、Ｒ３３及びＲ３４は置換基を表す。置換基としては前記一般式（ａ）のＲ１１〜Ｒ１６で表される置換基と同義である。
【０１２８】
イオウ系化合物の具体例としては、ジラウリル３，３−チオジプロピオネート、ジミリスチル３，３′−チオジプロピピオネート、ジステアリル３，３−チオジプロピオネート、ラウリルステアリル３，３−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス（β−ラウリル−チオ−プロピオネート）、３，９−ビス（２−ドデシルチオエチル）−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられる。
【０１２９】
上記タイプのイオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から、“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰＬ−Ｒ”及び“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＴＰ−Ｄ”という商品名で市販されている。
【０１３０】
（耐熱加工安定剤）
耐熱加工安定剤としては、下記一般式（ｄ）で表される、アクリレート基またはメタクリレート基と、フェノール性水酸基とを同一分子内に有する化合物が好ましい。
【０１３１】
【化２２】
【０１３２】
一般式（ｄ）において、Ｒ１〜Ｒ５は、互いに同一または相異なり、水素原子または炭素数１〜１０のアルキル基であり、Ｒ６は水素原子またはメチル基である。
【０１３３】
耐熱加工安定剤の具体的化合物例としては、例えば、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート等が挙げられる。上記タイプの耐熱加工安定剤は、住友化学株式会社から、“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＭ”及び“Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ ＧＳ”という商品名で市販されている。
【０１３４】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤は、偏光子や表示装置の紫外線に対する劣化防止の観点から、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れており、かつ液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましい。
【０１３５】
本発明に用いられる紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、トリアジン系化合物等を挙げることができるが、ベンゾフェノン系化合物や着色の少ないベンゾトリアゾール系化合物、トリアジン系化合物が好ましい。
【０１３６】
また、特開平１０−１８２６２１号、同８−３３７５７４号公報記載の紫外線吸収剤、特開平６−１４８４３０号、特開２００３−１１３３１７号公報記載の高分子紫外線吸収剤を用いてもよい。
【０１３７】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（２−オクチルオキシカルボニルエチル）−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物等を挙げることができるが、これらに限定されない。
【０１３８】
また、市販品として、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９００、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）９２８、チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）３６０（いずれもチバ・ジャパン（株）製）、ＬＡ３１（（株）ＡＤＥＫＡ製）、ＲＵＶＡ−１００（大塚化学製）が挙げられる。
【０１３９】
ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１４０】
本発明においては、紫外線吸収剤は樹脂に対して０．１〜５質量％添加することが好ましく、更に０．２〜３質量％添加することが好ましく、更に０．５〜２質量％添加することが好ましい。これらは２種以上を併用してもよい。
【０１４１】
またベンゾトリアゾール構造やトリアジン構造が、ポリマーの一部、或いは規則的にポリマーへペンダントされていてもよく、可塑剤、酸化防止剤、酸掃去剤等の他の添加剤の分子構造の一部に導入されていてもよい。
【０１４２】
従来公知の紫外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学製）を単独重合させたポリマー及びＲＵＶＡ−９３と他のモノマーとを共重合させたポリマー等が挙げられる。
【０１４３】
具体的には、ＲＵＶＡ−９３とメチルメタクリレートを３：７の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−３０Ｍ、５：５の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−５０Ｍ等が挙げられる。更に、特開２００３−１１３３１７号公報に記載のポリマー等が挙げられる。
【０１４４】
（マット剤）
また、本発明の光学フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては無機化合物として、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。
【０１４５】
二酸化珪素微粒子の一次粒子平均径としては、５〜１６ｎｍが好ましく、５〜１２ｎｍがより好ましい。一次粒子の平均径が小さい方がヘイズが低く好ましい。また、見かけ比重は９０〜２００ｇ／Ｌが好ましく、１００〜２００ｇ／Ｌが更に好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１４６】
マット剤の添加量は１ｍ２当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．１０〜０．１８ｇが特に好ましい。
【０１４７】
二酸化珪素微粒子としては、例えば、日本アエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０等、日本触媒（株）製のＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ１００、ＫＥ−Ｐ１５０等が挙げられ、この中でも、ＡＥＲＯＳＩＬ２００Ｖ、Ｒ９７２Ｖが一次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／Ｌ以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましい。また、ＮＡＸ５０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ１００は、少量で摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１４８】
また、酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。また、ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１４９】
これら微粒子は、通常平均粒径が０．０１〜１．０μｍの二次粒子を形成させることが好ましく、０．１〜０．８μｍが更に好ましく、０．２〜０．５μｍが最も好ましい。これらの微粒子はフィルム中では、一次粒子の凝集体として存在しフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を形成させる。これらの微粒子の含有量は、セルロースエステルフィルムに対して０．００５〜０．３質量％が好ましく、０．０５〜０．２質量％が好ましく、０．１〜０．２質量％が最も好ましい。これらの微粒子は２種以上併用してもよい。
【０１５０】
（溶融流延法）
従来の有機溶媒を多量に使用する溶液流延法に比較して、溶融流延法はフィルム製造時の有機溶媒使用量を、大幅に少なくすることができ、環境適性が大幅に向上したフィルムが得られる。
【０１５１】
本発明における溶融流延とは、実質的に溶媒を用いずにセルロースエステルが流動性を示す温度まで加熱溶融し、これを用いて製膜する方法であり、例えば流動性のセルロースエステルをダイスから押し出して製膜する方法である。
【０１５２】
なお溶融セルロースエステルを調製する過程の一部で溶媒を使用してもよいが、フィルム状に成形を行う溶融製膜プロセスにおいては実質的に溶媒を用いずに成形加工する。
【０１５３】
溶融流延による成形法は、更に詳細には、溶融押出成形法、プレス成形法、インフレーション法、射出成形法、ブロー成形法、延伸成形法等に分類できる。これらの中で、機械的強度及び表面精度等に優れる光学フィルムを得るためには、溶融押し出し法が優れている。以下、溶融押し出し法を例にとり、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
【０１５４】
図１は、本発明の光学フィルムの製造方法を実施する装置の１つの実施形態の一例を示す概略フローシート図である。
【０１５５】
図２は、図１の製造装置の要部拡大の一例を示すフローシートである。
【０１５６】
光学フィルムの製造方法は、セルロース樹脂等の光学フィルム材料を混合した後、押出し機１を用いて、流延ダイ４から第１冷却ロール５上に溶融押し出し、第１冷却ロール５に外接させるとともに、更に、第２冷却ロール７、第３冷却ロール８の合計３本の冷却ロールに順に外接させて、冷却固化して光学フィルム１０とする。
【０１５７】
次いで、剥離ロール９によって剥離した光学フィルム１０を、次いで延伸装置１２により光学フィルムの両端部を把持して幅方向に延伸した後、巻き取り機１６により巻き取る。
【０１５８】
また、平面性を矯正するために溶融フィルムを第１冷却ロール５表面に挟圧する６が設けられている。このタッチロール６は表面が弾性を有し、第１冷却ロール５との間でニップを形成している。タッチロール６についての詳細は後述する。
【０１５９】
光学フィルムの製造方法において、溶融押し出しの条件は、他のポリエステル等の熱可塑性樹脂に用いられる条件と同様にして行うことができる。材料は予め乾燥させておくことが好ましい。真空または減圧乾燥機や除湿熱風乾燥機等で水分を１０００ｐｐｍ以下、好ましくは２００ｐｐｍ以下に乾燥させることが望ましい。
【０１６０】
例えば、熱風や真空または減圧下で乾燥したセルロースエステル系樹脂を押出し機１を用いて、押し出し温度２００〜３００℃程度で溶融し、リーフディスクタイプのフィルター２等で濾過し、異物を除去する。
【０１６１】
供給ホッパー（図示略）から押出し機１へ導入する際は、真空下または減圧下や不活性ガス雰囲気下にして、酸化分解等を防止することが好ましい。
【０１６２】
可塑剤等の添加剤を予め混合しない場合は、それらを押出し機の途中で練り込んでもよい。均一に添加するために、スタチックミキサー等の混合装置を用いることが好ましい。
【０１６３】
本発明において、セルロース樹脂と、その他必要により添加される安定化剤等の添加剤は、溶融する前に混合しておくことが好ましく、セルロース樹脂と添加剤を加熱前に混合することが更に好ましい。混合は、混合機等により行ってもよく、また、前記したようにセルロース樹脂調製過程において混合してもよい。混合機を使用する場合は、Ｖ型混合機、円錐スクリュー型混合機、水平円筒型混合機等、ヘンシェルミキサー、リボンミキサー等一般的な混合機を用いることができる。
【０１６４】
上記のように光学フィルム構成材料を混合した後に、その混合物を押出し機１を用いて直接溶融して製膜するようにしてもよいが、一旦、光学フィルム構成材料をペレット化した後、該ペレットを押出し機１で溶融して製膜するようにしてもよい。
【０１６５】
また、光学フィルム構成材料が、融点の異なる複数の材料を含む場合には、融点の低い材料のみが溶融する温度で一旦、いわゆるおこし状の半溶融物を作製し、半溶融物を押出し機１に投入して製膜することも可能である。
【０１６６】
光学フィルム構成材料に熱分解しやすい材料が含まれる場合には、溶融回数を減らす目的で、ペレットを作製せずに直接製膜する方法や、上記のようなおこし状の半溶融物を作ってから製膜する方法が好ましい。
【０１６７】
押出し機１は、市場で入手可能な種々の押出し機を使用可能であるが、溶融混練押出し機が好ましく、単軸押出し機でも２軸押出し機でもよい。
【０１６８】
光学フィルム構成材料からペレットを作製せずに、直接製膜を行う場合、適当な混練度が必要であるため２軸押出し機を用いることが好ましいが、単軸押出し機でも、スクリューの形状をマドック型、ユニメルト、ダルメージ等の混練型のスクリューに変更することにより、適度の混練が得られるので、使用可能である。光学フィルム構成材料として、一旦、ペレットやおこし状の半溶融物を使用する場合は、単軸押出し機でも２軸押出し機でも使用可能である。
【０１６９】
押出し機１内及び押し出した後の冷却工程は、窒素ガス等の不活性ガスで置換するか、あるいは減圧することにより、酸素の濃度を下げることが好ましい。
【０１７０】
押出し機１内の光学フィルム構成材料の溶融温度は、光学フィルム構成材料の粘度や吐出量、製造するシートの厚み等によって好ましい条件が異なるが、１５０〜３００℃が好ましく、１８０〜２８０℃がより好ましく、２００〜２６０℃が更に好ましい。押し出し時の溶融粘度は、１〜１００００Ｐａ・ｓ、好ましくは１０〜１０００Ｐａ・ｓである。また、押出し機１内での光学フィルム構成材料の滞留時間は短い方が好ましく、５分以内、好ましくは３分以内、より好ましくは２分以内である。
【０１７１】
滞留時間は、押出し機１の種類、押し出す条件にも左右されるが、材料の供給量やＬ／Ｄ、スクリュー回転数、スクリューの溝の深さ等を調整することにより短縮することが可能である。
【０１７２】
押出し機１のスクリューの形状や回転数等は、光学フィルム構成材料の粘度や吐出量等により適宜選択される。本発明において押出し機１でのせん断速度は、１／秒〜１００００／秒、好ましくは５／秒〜１０００／秒、より好ましくは１０／秒〜１００／秒である。
【０１７３】
本発明に使用できる押出し機１としては、一般的にプラスチック成形機として入手可能である。
【０１７４】
押出し機１から押し出された光学フィルム構成材料は、流延ダイ４に送られ、流延ダイ４のスリットから光学フィルム状に押し出される。流延ダイ４はシートや光学フィルムを製造するために用いられるものであれば特に限定はされない。
【０１７５】
流延ダイ４の材質としては、ハードクロム、炭化クロム、窒化クロム、炭化チタン、炭窒化チタン、窒化チタン、超鋼、セラミック（タングステンカーバイド、酸化アルミ、酸化クロム）等を溶射もしくはメッキし、表面加工としてバフ、＃１０００番手以降の砥石を用いるラッピング、＃１０００番手以上のダイヤモンド砥石を用いる平面切削（切削方向は樹脂の流れ方向に垂直な方向）、電解研磨、電解複合研磨等の加工を施したもの等が挙げられる。流延ダイ４のリップ部の好ましい材質は、流延ダイ４と同様である。またリップ部の表面精度は０．５Ｓ以下が好ましく、０．２Ｓ以下がより好ましい。
【０１７６】
この流延ダイ４のスリットは、そのギャップが調整可能なように構成されている。
【０１７７】
これを図３（ａ）は流延ダイの要部の一例を示す外観図、図３（ｂ）は流延ダイの要部の一例を示す断面図である。
【０１７８】
流延ダイ４のスリット３２を形成する一対のリップのうち、一方は剛性の低い変形しやすいフレキシブルリップ３３であり、他方は固定リップ３４である。
【０１７９】
そして、多数のヒートボルト３５が流延ダイ４の幅方向即ちスリット３２の長さ方向に一定ピッチで配列されている。各ヒートボルト５には、埋め込み電気ヒーター３７と冷却媒体通路とを具えたブロック３６が設けられ、各ヒートボルト３５が各ブロック３６を縦に貫通している。
【０１８０】
ヒートボルト３５の基部はダイ本体３１に固定され、先端はフレキシブルリップ３３の外面に当接している。そしてブロック３６を常時空冷しながら、埋め込み電気ヒーター３７の入力を増減してブロック３６の温度を上下させ、これによりヒートボルト３５を熱伸縮させて、フレキシブルリップ３３を変位させて光学フィルムの厚さを調整する。
【０１８１】
ダイ後流の所要箇所に厚さ計を設け、これによって検出されたウェブ厚さ情報を制御装置にフィードバックし、この厚さ情報を制御装置で設定厚み情報と比較し、同装置から来る補正制御量の信号によってヒートボルトの発熱体の電力またはオン率を制御するようにすることもできる。
【０１８２】
ヒートボルトは、好ましくは、長さ２０〜４０ｃｍ、直径７〜１４ｍｍを有し、複数、例えば数十本のヒートボルトが、好ましくはピッチ２０〜４０ｍｍで配列されている。
【０１８３】
ヒートボルトの代わりに、手動で軸方向に前後動させることによりスリットギャップを調節するボルトを主体とするギャップ調節部材を設けてもよい。
【０１８４】
ギャップ調節部材によって調節されたスリットギャップは、通常２００〜１０００μｍ、好ましくは３００〜８００μｍ、より好ましくは４００〜６００μｍである。
【０１８５】
第１〜第３冷却ロールは、肉厚が２０〜３０ｍｍ程度のシームレスな鋼管製で、表面が鏡面に仕上げられている。その内部には、冷却液を流す配管が配置されており、配管を流れる冷却液によってロール上の光学フィルムから熱を吸収できるように構成されている。
【０１８６】
一方、第１冷却ロール５に当接するタッチロール６は、表面が弾性を有し、第１冷却ロール５への押圧力によって第１冷却ロール５の表面に沿って変形し、第１ロール５との間にニップを形成する。タッチロール６は挟圧回転体ともいう。タッチロール６としては、登録特許３１９４９０４号、登録特許３４２２７９８号、特開２００２−３６３３２号、特開２００２−３６３３３号などで開示されているタッチロールを好ましく用いることができる。これらは市販されているものを用いることもできる。以下にこれらについて、更に詳細に説明する。
【０１８７】
図４は挟圧回転体の一例を示す断面図である。（タッチロール６の第１の例（以下、タッチロールＡ）の概略断面）を示す。図に示すように、タッチロールＡは、可撓性の金属スリーブ４１の内部に弾性ローラ４２を配したものである。
【０１８８】
金属スリーブ４１は厚さ０．３ｍｍのステンレス製であり、可撓性を有する。金属スリーブ４１が薄過ぎると強度が不足し、逆に厚過ぎると弾性が不足する。
【０１８９】
これらのことから、金属スリーブ４１の厚さとしては、０．１〜１．５ｍｍが好ましい。
【０１９０】
弾性ローラ４２は、軸受を介して回転自在な金属製の内筒４３の表面にゴム４４を設けてロール状としたものである。
【０１９１】
そして、タッチロールＡが第１冷却ロール５に向けて押圧されると、弾性ローラ４２が金属スリーブ４１を第１冷却ロール５に押しつけ、金属スリープ４１及び弾性ローラ４２は第１冷却ロール５の形状になじんだ形状に対応しつつ変形し、第１冷却ロールとの間にニップを形成する。金属スリーブ４１の内部で弾性ローラ４２との間に形成される空間には、冷却水４５が流される。
【０１９２】
図５は挟圧回転体の第２の例（以下、タッチロールＢ）を示す回転軸に垂直な平面での断面図である。
【０１９３】
図６は挟圧回転体の第２の例（タッチロールＢ）の回転軸を含む平面の一例を示す断面図である。
【０１９４】
図５、図６においてタッチロールＢは、可撓性を有する、シームレスなステンレス鋼管製（厚さ４ｍｍ）の外筒５１と、この外筒５１の内側に同一軸心状に配置された高剛性の金属内筒５２とから概略構成されている。
【０１９５】
外筒５１と内筒５２との間の空間５３には、冷却液５４が流される。詳しくは、タッチロールＢは、両端の回転軸５５ａ、５５ｂに外筒支持フランジ５６ａ、５６ｂが取付けられ、これら両外筒支持フランジ５６ａ、５６ｂの外周部間に薄肉金属外筒５１が取付けられている。
【０１９６】
また、一方の回転軸５５ａの軸心部に形成されて流体戻り通路５７を形成する流体排出孔５８内に、流体供給管５９が同一軸心状に配設され、この流体供給管５９が薄肉金属外筒５１内の軸心部に配置された流体軸筒６０に接続固定されている。
【０１９７】
この流体軸筒６０の両端部に内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂがそれぞれ取付けられ、これら内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂの外周部間から他端側外筒支持フランジ５６ｂにわたって約１５〜２０ｍｍ程度の肉厚を有する金属内筒５２が取付けられている。
【０１９８】
そしてこの金属内筒５２と薄肉金属外筒５１との間に、例えば１０ｍｍ程度の冷却液の流送空間５３が形成され、また金属内筒５２に両端部近傍には、流送空間５３と内筒支持フランジ６１ａ、６１ｂ外側の中間通路６２ａ、６２ｂとを連通する流出口５２ａ及び流入口５２ｂがそれぞれ形成されている。
【０１９９】
また、外筒５１は、ゴム弾性に近い柔軟性と可撓性、復元性をもたせるために、弾性力学の薄肉円筒理論が適用できる範囲内で薄肉化が図られている。
【０２００】
この薄肉円筒理論で評価される可撓性は、肉厚ｔ／ロール半径ｒで表されており、ｔ／ｒが小さいほど可撓性が高まる。
【０２０１】
このタッチロールＢではｔ／ｒ≦０．０３の場合に可撓性が最適の条件となる。
【０２０２】
通常、一般的に使用されているタッチロールは、ロール径Ｒ＝２００〜５００ｍｍ（ロール半径ｒ＝Ｒ／２）、ロール有効幅Ｌ＝５００〜１６００ｍｍで、ｒ／Ｌ＜１で横長の形状である。
【０２０３】
そして図６に示すように、例えばロール径Ｒ＝３００ｍｍ、ロール有効幅Ｌ＝１２００ｍｍの場合、肉厚ｔの適正範囲は１５０×０．０３＝４．５ｍｍ以下であるが、溶融シート幅を１３００ｍｍに対して平均線圧を９８Ｎ／ｃｍで挟圧する場合、同一形状のゴムロールと比較して、外筒５１の肉厚を３ｍｍとすることで相当ばね定数も等しく、外筒５１と冷却ロールとのニップのロール回転方向のニップ幅ｋも約９ｍｍで、このゴムロールのニップ幅約１２ｍｍとほぼ近い値を示し、同じような条件下で挟圧できることが分かる。
【０２０４】
なお、このニップ幅ｋにおけるたわみ量は０．０５〜０．１ｍｍ程度である。
【０２０５】
ここで、ｔ／ｒ≦０．０３としたが、一般的なロール径Ｒ＝２００〜５００ｍｍの場合では、特に２ｍｍ≦ｔ≦５ｍｍの範囲とすると、可撓性も十分に得られ、また機械加工による薄肉化も容易に実施でき、極めて実用的な範囲となる。肉厚が２ｍｍ以下では加工時の弾性変形で高精度な加工ができない。
【０２０６】
この２ｍｍ≦ｔ≦５ｍｍの換算値は、一般的なロール径に対して０．００８≦ｔ／ｒ≦０．０５となるが、実用にあたってはｔ／ｒ≦０．０３の条件下でロール径に比例して肉厚も大きくするとよい。
【０２０７】
例えばロール径：Ｒ＝２００ではｔ＝２〜３ｍｍ、ロール径：Ｒ＝５００ではｔ＝４〜５ｍｍの範囲で選択する。
【０２０８】
このタッチロールＡ、Ｂは付勢手段により第１冷却ロールに向けて付勢される。その付勢手段の付勢力をＦ、ニップにおける光学フィルムの、第１冷却ロール５の回転軸に沿った方向の幅Ｗを除した値Ｆ／Ｗ（線圧）は、９．８〜１４７Ｎ／ｃｍに設定される。
【０２０９】
本発明において、タッチロールＡ、Ｂと第１冷却ロール５との間にニップが形成され、当該ニップを光学フィルムが通過する間に平面性を矯正することが好ましい。従って、タッチロールが剛体で構成され、第１冷却ロールとの間にニップが形成されない場合と比べて、小さい線圧で長時間かけて光学フィルムを挟圧するので、平面性をより確実に矯正することができる。
【０２１０】
即ち、線圧が９．８Ｎ／ｃｍよりも小さいと、ダイラインを十分に解消することができなくなる。逆に、線圧が１４７Ｎ／ｃｍよりも大きいと、光学フィルムがニップを通過しにくくなり、光学フィルムの厚さにかえってムラができてしまう。
【０２１１】
また、タッチロールＡ、Ｂの表面を金属で構成することにより、タッチロールの表面がゴムである場合よりもタッチロールＡ、Ｂの表面を平滑にすることができるので、平滑性の高い光学フィルムを得ることができる。なお、弾性ローラ４２の弾性体４４の材質としては、エチレンプロピレンゴム、ネオプレンゴム、シリコンゴム等を用いることができる。
【０２１２】
さて、タッチロール６によってダイラインを良好に解消するためには、タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの粘度が適切な範囲であることが重要となる。
【０２１３】
また、セルロースエステルは温度による粘度の変化が比較的大きいことが知られている。
【０２１４】
従って、タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの粘度を適切な範囲に設定するためには、タッチロール６がセルロースフィルムを挟圧するときの光学フィルムの温度を適切な範囲に設定することが重要となる。
【０２１５】
光学フィルムのガラス転移温度をＴｇとしたとき、光学フィルムがタッチロール６に挟圧される直前の光学フィルムの温度Ｔを、Ｔｇ＜Ｔ＜Ｔｇ＋１１０℃を満たすように設定することが好ましい。
【０２１６】
即ち、タッチロール６に挟圧される直前の光学フィルムの温度Ｔが上記の範囲にすると、光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの粘度を適切な範囲に設定することができ、ダイラインの矯正が可能となり、また、光学フィルム表面とロールが均一に接着し、ダイラインの矯正が可能となる。
【０２１７】
好ましくはＴｇ＋１０℃＜Ｔ＜Ｔｇ＋９０℃、更に好ましくはＴｇ＋２０℃＜Ｔ＜Ｔｇ＋７０℃である。
【０２１８】
タッチロール６が光学フィルムを挟圧するときの光学フィルムの温度を適切な範囲に設定するには、流延ダイ４から押し出された溶融物が第１冷却ロール５に接触する位置から第１冷却ロール５とタッチロール６とのニップの、第１冷却ロール５の回転方向に沿った長さＬを調整すればよい。
【０２１９】
本発明において、第１ロール５、第２ロール６に好ましい材質は、炭素鋼、ステンレス鋼、樹脂、等が挙げられる。また、表面精度は高くすることが好ましく表面粗さとして０．３Ｓ以下、より好ましくは０．０１Ｓ以下とする。
【０２２０】
本発明においては、流延ダイ４の開口部（リップ）から第１ロール５までの部分を７０ｋＰａ以下に減圧させることにより、上記、ダイラインの矯正効果がより大きく発現する。好ましくは減圧は５０〜７０ｋＰａである。流延ダイ４の開口部（リップ）から第１ロール５までの部分の圧力を７０ｋＰａ以下に保つ方法としては、特に制限はないが、流延ダイ４からロール周辺を耐圧部材で覆い、減圧する等の方法がある。
【０２２１】
このとき、吸引装置は、装置自体が昇華物の付着場所にならないようヒーターで加熱する等の処置を施すことが好ましい。本発明では、吸引圧が小さ過ぎると昇華物を効果的に吸引できないため、適当な吸引圧とする必要がある。
【０２２２】
本発明において、Ｔダイ４から溶融状態のフィルム状のセルロースエステルを、第１ロール（第１冷却ロール）５、第２冷却ロール７、及び第３冷却ロール８に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸の光学フィルム１０を得る。
【０２２３】
図１に示す本発明の実施形態の一例では、第３冷却ロール８から剥離ロール９によって剥離した冷却固化された未延伸の光学フィルム１０は、ダンサーロール（光学フィルム張力調整ロール）１１を経て延伸機１２に導き、そこで光学フィルム１０を横方向（幅方向）に延伸する。この延伸により、光学フィルム中の分子が配向される。
【０２２４】
本発明において、流延ダイ４から溶融状態のフィルム状のセルロースエステル系樹脂を、第１ロール（第１冷却ロール）５、第２冷却ロール７、及び第３冷却ロール８に順次密着させて搬送しながら冷却固化させ、未延伸のセルロースエステル系樹脂フィルム１０を得る。
【０２２５】
図１に示す本発明の実施形態では、第３冷却ロール８から剥離ロール９によって剥離した冷却固化された未延伸のフィルム１０は、ダンサーロール（フィルム張力調整ロール）１１を経て延伸機１２に導き、そこでフィルム１０を横方向（幅方向）に延伸する。この延伸により、フィルム中の分子が配向される。
【０２２６】
フィルムを幅方向に延伸する方法は、公知のテンター等を好ましく用いることができる。特に延伸方向を幅方向とすることで、偏光フィルムとの積層がロール形態で実施できるので好ましい。幅方向に延伸することで、セルロースエステル系樹脂フィルムからなる光学フィルムの遅相軸は幅方向になる。
【０２２７】
一方、偏光フィルムの透過軸も、通常、幅方向である。偏光フィルムの透過軸と光学フィルムの遅相軸とが平行になるように積層した偏光板を液晶表示装置に組み込むことで、液晶表示装置の表示コントラストを高くすることができるとともに、良好な視野角が得られるのである。
【０２２８】
フィルム構成材料のガラス転移温度Ｔｇはフィルムを構成する材料種及び構成する材料の比率を異ならしめることにより制御できる。光学フィルムとして位相差フィルムを作製する場合、Ｔｇは１２０℃以上、好ましくは１３５℃以上とすることが好ましい。液晶表示装置においては、画像の表示状態において、装置自身の温度上昇、例えば光源由来の温度上昇によってフィルムの温度環境が変化する。このときフィルムの使用環境温度よりもフィルムのＴｇが低いと、延伸によってフィルム内部に固定された分子の配向状態に由来するリタデーション値及びフィルムとしての寸法形状に大きな変化を与えることとなる。フィルムのＴｇが高過ぎると、フィルム構成材料をフィルム化するとき温度が高くなるために加熱するエネルギー消費が高くなり、またフィルム化するときの材料自身の分解、それによる着色が生じることがあり、従って、Ｔｇは２５０℃以下が好ましい。
【０２２９】
また延伸工程には公知の熱固定条件、冷却、緩和処理を行ってもよく、目的とする光学フィルムに要求される特性を有するように適宜調整すればよい。
【０２３０】
位相フィルムの物性と液晶表示装置の視野角拡大のための位相フィルムの機能付与するために、上記延伸工程、熱固定処理は適宜選択して行われている。このような延伸工程、熱固定処理を含む場合、加熱加圧工程は、それらの延伸工程、熱固定処理の前に行うようにする。
【０２３１】
光学フィルムとして位相差フィルムを製造し、更に偏光板保護フィルムの機能を複合させる場合、屈折率制御を行う必要が生じるが、その屈折率制御は延伸操作により行うことが可能であり、また延伸操作が好ましい方法である。以下、その延伸方法について説明する。
【０２３２】
位相差フィルムの延伸工程において、セルロース樹脂の１方向に１．０〜２．０倍及びフィルム面内にそれと直交する方向に１．０１〜２．５倍延伸することで、必要とされるリタデーションＲｏ及びＲｔを制御することができる。ここで、Ｒｏとは面内リタデーションを示し、Ｒｔとは厚み方向リタデーションを示す。
【０２３３】
リタデーションＲｏ、Ｒｔは下記式により求められる。
【０２３４】
式（ｉ） Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
式（ii） Ｒｔ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
（式中、ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率（屈折率は２３℃、５５％ＲＨの環境下、波長５９０ｎｍで測定）、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
光学フィルムの屈折率は、アッベ屈折率計（４Ｔ）を用いて、フィルムの厚さは市販のマイクロメーターを用いて、リタデーション値は、自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）等を用いて、各々測定することができる。
【０２３５】
延伸は、例えばフィルムの長手方向及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅方向に対して、逐次または同時に行うことができる。このとき少なくとも１方向に対しての延伸倍率が小さ過ぎると十分な位相差が得られず、大き過ぎると延伸が困難となりフィルム破断が発生してしまう場合がある。
【０２３６】
例えば溶融流延方向に延伸した場合、幅方向の収縮が大き過ぎると、ｎｚの値が大きくなり過ぎてしまう。この場合、フィルムの幅収縮を抑制、或いは幅方向にも延伸することで改善できる。幅方向に延伸する場合、幅方向で屈折率に分布が生じることがある。この分布は、テンター法を用いた場合に現れることがあり、フィルムを幅方向に延伸したことで、フィルム中央部に収縮力が発生し、端部は固定されていることにより生じる現象で、いわゆるボーイング現象と呼ばれるものと考えられる。この場合でも、流延方向に延伸することで、ボーイング現象を抑制でき、幅方向の位相差の分布を少なくできる。
【０２３７】
互いに直行する２軸方向に延伸することにより、得られるフィルムの膜厚変動が減少できる。位相差フィルムの膜厚変動が大き過ぎると位相差のムラとなり、液晶ディスプレイに用いたとき着色等のムラが問題となることがある。
【０２３８】
光学フィルムの膜厚変動は、±３％、更に±１％の範囲とすることが好ましい。以上のような目的において、互いに直交する２軸方向に延伸する方法は有効であり、互いに直交する２軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に１．０〜２．０倍、幅方向に１．０１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に１．０１〜１．５倍、幅方向に１．０５〜２．０倍に範囲で行うことが必要とされるリタデーション値を得るためにより好ましい。
【０２３９】
長手方向に偏光子の吸収軸が存在する場合、幅方向に偏光子の透過軸が一致することになる。長尺状の偏光板を得るためには、位相差フィルムは、幅方向に遅相軸を得るように延伸することが好ましい。
【０２４０】
応力に対して、正の複屈折を得るセルロースエステルを用いる場合、上述の構成から、幅方向に延伸することで、位相差フィルムの遅相軸が幅方向に付与することができる。この場合、表示品質の向上のためには、位相差フィルムの遅相軸が、幅方向にあるほうが好ましく、目的とするリタデーション値を得るためには、
式 （幅方向の延伸倍率）＞（流延方向の延伸倍率）
の条件を満たすことが必要である。
【０２４１】
延伸後、フィルムの端部をスリッター１３により製品となる幅にスリットして裁ち落とした後、エンボスリング１４及びバックロール１５よりなるナール加工装置によりナール加工（エンボッシング加工）をフィルム両端部に施し、巻取り機１６によって巻き取ることにより、光学フィルム（元巻き）Ｆ中の貼り付きや、すり傷の発生を防止する。ナール加工の方法は、凸凹のパターンを側面に有する金属リングを加熱や加圧により加工することができる。なお、フィルム両端部のクリップの把持部分は通常、変形しており、フィルム製品として使用できないので、切除されて、原料として再利用される。
【０２４２】
次に、フィルムの巻き取り工程は、円筒形巻きフィルムの外周面とこれの直前の移動式搬送ロールの外周面との間の最短距離を一定に保持しながらフィルムを巻き取りロールに巻き取るものである。かつ巻取りロールの手前には、フィルムの表面電位を除去または低減する除電ブロア等の手段が設けられている。
【０２４３】
本発明に係る光学フィルムの製造に係わる巻き取り機は一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等の巻き取り方法で巻き取ることができる。なお、光学フィルムの巻き取り時の初期巻き取り張力が９０．２〜３００．８Ｎ／ｍであるのが好ましい。
【０２４４】
本発明の方法におけるフィルムの巻き取り工程では、温度２０〜３０℃、湿度２０〜６０％ＲＨの環境条件にて、フィルムを巻き取ることが好ましい。このように、フィルムの巻き取り工程での温度及び湿度を規定することにより、厚み方向リタデーション（Ｒｔ）の湿度変化の耐性が向上する。
【０２４５】
巻き取り工程における温度が２０℃未満であれば、シワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。フィルムの巻き取り工程における温度が３０℃を超えると、やはりシワが発生し、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。
【０２４６】
また、フィルムの巻き取り工程における湿度が２０％ＲＨ未満であれば、帯電しやすく、フィルム巻品質劣化のため実用に耐えないので、好ましくない。フィルムの巻き取り工程における湿度が６０％ＲＨを超えると、巻品質、貼り付き故障、搬送性が劣化するので、好ましくない。
【０２４７】
光学フィルムをロール状に巻き取る際の、巻きコアとしては、円筒上のコアであれは、どのような材質のものであってもよいが、好ましくは中空プラスチックコアであり、プラスチック材料としては加熱処理温度にも耐える耐熱性プラスチックであればどのようなものであってもよく、フェノール樹脂、キシレン樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂が挙げられる。またガラス繊維等の充填材により強化した熱硬化性樹脂が好ましい。例えば、中空プラスチックコア：ＦＲＰ製の外径６インチ（以下、インチは２．５４ｃｍを表す。）、内径５インチの巻きコアが用いられる。
【０２４８】
これらの巻きコアへの巻き数は、１００巻き以上であることが好ましく、５００巻き以上であることが更に好ましく、巻き厚は５ｃｍ以上であることが好ましく、フィルム基材の幅は８０ｃｍ以上であることが好ましく、１ｍ以上であることが特に好ましい。
【実施例】
【０２４９】
以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２５０】
実施例１
（光学フィルムＮｏ．１−１の作製）
下記の添加剤、セルロースエステルを用いて、溶融流延法により光学フィルムＮｏ．１−１を作製した。
【０２５１】
Ｃ−１ （セルロースエステル；セルロースアセテートプロピオネート；アセチル基置換度１．６、プロピオニル基置換度１．２、分子量Ｍｎ＝８．１万、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．８） １００質量部
ペンタエリスリトールテトラベンゾエート （可塑剤） ８質量部
ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０ （フェノール系化合物；ペンタエリトリトール−テトラキス−［３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４′−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］；チバ・ジャパン社製） ０．５質量部
ＨＩＴ−６ （リン系化合物） ０．１質量部
（１）−２ （一般式（１）の化合物） ０．００５質量部
Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ−ＧＳ （熱加工安定剤；２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート；住友化学社製） ０．３質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ−９２８ （紫外線吸収剤；２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール；チバ・ジャパン社製） ２．０質量部
アエロジルＮＡＸ５０（マット剤；日本アエロジル社製） ０．２質量部
ＫＥ−Ｐ１００（マット剤；日本触媒社製） ０．０２質量部
上記の添加剤、セルロースエステルを混合し、６０℃ ５時間減圧乾燥した。このセルロースエステル組成物を、２軸式押出し機を用いて２３５℃で溶融混合、ペレット化を行い、ペレットを図１に示す製造装置に掛けてフィルム製膜した。
【０２５２】
第１冷却ロール及び第２冷却ロールはステンレス製で、表面にハードクロムメッキを施した。又、内部には温度調整用のオイルを循環させて、ロール表面温度を制御した。弾性タッチロールは内筒と外筒はステンレス製で、外筒の表面にはハードクロムメッキを施した。外筒の肉厚は２ｍｍとし、内筒と外筒との間の空間に温度調整用のオイルを循環させて弾性タッチロールの表面温度を制御した。
【０２５３】
得られたペレットを、１軸押出し機を用いてＴダイからフィルム状に表面温度１３０℃の第１冷却ロール上に溶融温度２６０℃でフィルム状に溶融押し出しドロー比２０で、キャストフィルムを得た。
【０２５４】
更に、第１冷却ロール上で弾性タッチロールで押圧した。押圧時のタッチロール側のフィルム温度は、１８０℃であった。なお、弾性タッチロールの表面温度は１３０℃、第２冷却ロールの表面温度は１００℃とした。弾性タッチロール、第１冷却ロール、第２冷却ロールの各ロールの表面温度は、ロールにフィルムが最初に接する位置から回転方向に対して９０°手前の位置のロール表面の温度を非接触温度計を用いて幅方向に１０点測定した平均値を各ロールの表面温度とした。
【０２５５】
得られたフィルムを、１６０℃加熱してロール延伸により、長手方向に１．０１倍（１％）延伸し、続いて予熱ゾーン、延伸ゾーン、保持ゾーン、冷却ゾーン（各ゾーン間には各ゾーン間の断熱を確実にするためのニュートラルゾーンも有する）を有するテンターに導入し、幅方向に１６０℃で１．０５倍（５％）延伸した後、幅方向に２％緩和しながら７０℃まで冷却し、クリップから開放後、フィルム端部のクリップ把持部をスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施し、巻芯に巻き取った。仕上がりの光学フィルムは、幅１４３０ｍｍ、膜厚１３０μｍ、巻長は２０００ｍで、これを光学フィルムＮｏ．１とする。
【０２５６】
フィルム端部のスリットは、フィルム幅方向の両端に、フィルム表裏面にフィルムをはさむように配置された一対のロータリー式裁断刃からなり、一方は円盤状の裁断刃、他方は裁断刃を受ける溝付ボトムロールからなり、それぞれフィルムの搬送方向に回転してフィルムを連続的に断裁し巻き取った。
【０２５７】
同様に以下、本発明の化合物（１）−２、セルロースエステルＣ−１およびリン系化合物ＨＩＴ−６を、下記表１に示すように変更する以外は同様にして、本発明の光学フィルムＮｏ．１−２〜１−２３、比較の光学フィルムＮｏ．１−２４〜１−３７を作製した。
【０２５８】
なお、セルロースエステルＣ−１に代わるセルロースエステルの添加量は、セルロースエステルＣ−１と同じ質量部とし、また、一般式（１）で表される本発明の化合物およびリン系化合物の添加量は、表１に記載のように変更を行った。
【０２５９】
Ｃ−２：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．３、プロピオニル基置換度１．２、分子量Ｍｎ＝６．５万、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．０）
Ｃ−３：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度１．４、プロピオニル基置換度１．３、分子量Ｍｎ＝８．１万、分散度＝２．５）
Ｃ−４：セルロースアセテートプロピオネート（アセチル基置換度２．１、プロピオニル基置換度０．７、分子量Ｍｎ＝９．０万、Ｍｗ／Ｍｎ＝２．５）
Ｃ−５：セルロースアセテートブチレート、（アセチル置換度＝１．１、ブチリル置換度＝１．８、分子量Ｍｎ＝７．８万、Ｍｗ／Ｍｎ＝３．６）
【０２６０】
【化２３】
【０２６１】
【表１】
【０２６２】
表１において、光学フィルム１−２６及び１−３０（比較例）は特許文献２の実施例に近似しており、光学フィルム１−３８（比較例）は特許文献１の実施例を再現したものである。
【０２６３】
さらに、下記の添加剤、セルロースエステルを用いて、光学フィルムＮｏ．１−１と同様な方法で、比較の光学フィルム１−３８を作製した。
【０２６４】
Ｃ−１ （セルロースエステル） １００質量部
ペンタエリスリトールテトラベンゾエート ８質量部
Ａ−１ ０．１５質量部
ＨＩＴ−１ （リン系化合物） ０．３質量部
Ｔｉｎｕｖｉｎ−９２８（チバ・ジャパン社製） ２．０質量部
アエロジルＮＡＸ５０（日本アエロジル社製） ０．２質量部
ＫＥ−Ｐ１００（日本触媒社製） ０．０２質量部
【０２６５】
【化２４】
【０２６６】
（評価）
作製した本発明の光学フィルムＮｏ．１−１〜１−２３、比較の光学フィルムＮｏ．１−２４〜１−３８について以下の評価を行った。
【０２６７】
結果を表２に示す。
【０２６８】
（裁断性）
巻き取った光学フィルム試料をゆっくり回し、巻き終わりから長さ１ｍのところで裁断し、試料を採取した。該フィルムを目視で観察し、視認可能な切り粉の個数をカウントし、１ｍ２当たりの個数に換算して評価した。
【０２６９】
Ａ：１個未満／ｍ２
Ｂ：１個〜２個未満／ｍ２
Ｃ：２個〜５個未満／ｍ２
Ｄ：５個以上／ｍ２
（輝点異物）
巻き取った光学フィルム試料から、サンプルを切り出し、直交状態（クロスニコル）に二枚の偏光板を配置して透過光を遮断し、二枚の偏光板の間に各サンプルを置く。偏光板はガラス製保護板のものを使用した。片側から光を照射し、反対側から光学顕微鏡（５０倍）で２５ｍｍ２あたりの輝点異物（直径０．０１ｍｍ以上以上の異物）の数を１００ヶ所測定し、その平均値を求めた。
【０２７０】
Ａ：０〜３０個／ｍ２
Ｂ：３１〜５０個／ｍ２
Ｃ：５１〜８０個／ｍ２
Ｄ：８１〜１００個／ｍ２
Ｅ：１０１個以上／ｍ２
〈延伸性の評価〉
巻き取った光学フィルム試料から、１０ｃｍ×１０ｃｍに切断したフィルム試料を１０枚用意し、２軸延伸を行った。まず１００％ＭＤ延伸を行い、次いで１００％ＴＤ延伸を行った。延伸温度は１６０℃、延伸速度は１００％毎分で行った。
【０２７１】
このような延伸操作を１０枚のフィルムについて行い、破断せずに２軸延伸できたフィルムの枚数を評価した。
【０２７２】
Ａ：１０枚とも延伸できた
Ｂ：８枚以上延伸できた
Ｃ：５枚以上延伸できた
Ｄ：５枚未満しか延伸できなかった
Ｅ：１枚も延伸できなかった。
【０２７３】
（延伸後のフィルムのヘイズ値評価）
延伸後の光学フィルム試料から、３０ｍｍ×３０ｍｍのフィルム試料を１０枚切り出し、ヘイズ値を、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定し、平均値を算出した。ヘイズ値は小さい方が好ましい。
【０２７４】
Ａ：０．３未満
Ｂ：０．３以上０．５未満
Ｃ：０．５以上０．７未満
Ｄ：０．７以上。
【０２７５】
（幅手方向端部の着色評価（端部と中央部イエローインデックスＹＩ比率））
光学フィルムの製造において溶融押出し直後の光学フィルムの幅手方向両端部から３０ｍｍ四方のサンプル及びフィルム中央部から３０ｍｍ四方のサンプルを切り出し、日立ハイテクノロジーズ社製分光光度計Ｕ−３３１０を用いて、その吸収スペクトルを測定し、三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚを算出した。この三刺激値Ｘ、Ｙ、Ｚから、ＪＩＳ−Ｋ７１０３に基づいてフィルム両端部のイエローインデックスＹｅ、及びフィルム中央部のイエローインデックスＹｃを算出し、その比率Ｙｅ／Ｙｃを求めた。なお前記イエローインデックスは切り出したサンプル内で最大となる部分の箇所を読み取った。端部と中央部のイエローインデックスの比率は各フィルムで５０点求め、その平均値から、次の評価基準で評価を行った。
【０２７６】
Ａ：Ｙｅ／Ｙｃが１．２未満（実用上非常に優れたレベルである。）
Ｂ：Ｙｅ／Ｙｃが１．２以上３．０未満（実用上問題のないレベルである。）
Ｃ：Ｙｅ／Ｙｃが３．０以上７．０未満（実用上問題発生する可能性のあるレベルである。）
Ｄ：Ｙｅ／Ｙｃが７．０以上１０．０未満（実用上問題が発生するレベルである。）
Ｅ：Ｙｅ／Ｙｃが１０．０以上（実用上問題が発生するレベルである。）
【０２７７】
【表２】
【０２７８】
表２より、本発明の化合物を使用した本発明の光学フィルムＮｏ．１−１〜１−２３は輝点異物、裁断性、延伸性が良好で、延伸後のヘイズ値が小さく、端部と中央部の着色の差が少ない光学フィルムであることがわかる。
【０２７９】
実施例２
下記の組成物を調製した。
【０２８０】
（帯電防止層塗布組成物（１））
ポリメチルメタアクリレート（重量平均分子量５５万、Ｔｇ：９０℃） ０．５質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ６０質量部
メチルエチルケトン １６質量部
乳酸エチル ５質量部
メタノール ８質量部
導電性ポリマー樹脂Ｐ−１（０．１〜０．３μｍ粒子） ０．５質量部
【０２８１】
【化２５】
【０２８２】
（ハードコート層塗布組成物（２））
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート単量体 ６０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２量体 ２０質量部
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３量体以上の成分 ２０質量部
ジエトキシベンゾフェノン光反応開始剤 ６質量部
シリコーン系界面活性剤 １質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル ７５質量部
メチルエチルケトン ７５質量部
（カール防止層塗布組成物（３））
アセトン ３５質量部
酢酸エチル ４５質量部
イソプロピルアルコール ５質量部
ジアセチルセルロース ０．５質量部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液（アエロジル：２００Ｖ、日本アエロジル（株）製） ０．１質量部
下記に従って、機能付与した偏光板保護フィルムを作製した。
【０２８３】
（偏光板保護フィルム）
実施例１で作製した本発明の光学フィルム１−１の延伸後のセルロースエステルフィルムの片面に、カール防止層塗布組成物（３）をウェット膜厚１３μｍとなるようにグラビアコートし、乾燥温度８０±５℃にて乾燥させた。これを試料１−１Ａとする。
【０２８４】
このセルロースエステルフィルムのもう１方の面に帯電防止層塗布組成物（１）を２８℃、８２％ＲＨの環境下でウェット膜厚で７μｍとなるよう塗布し、次いで８０±５℃に設定された乾燥部で乾燥して乾燥膜厚で約０．２μｍの樹脂層を設け、帯電防止層付きセルロースエステルフィルムを得た。これを試料１−１Ｂとする。
【０２８５】
更に、この帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物（２）をウェット膜厚で１３μｍとなるように塗設し、乾燥温度９０℃にて乾燥させた後、紫外線を１５０ｍＪ／ｍ２となるように照射して、乾燥膜厚で５μｍのクリアハードコート層を設けた。これを試料１−１Ｃとする。
【０２８６】
得られた本発明の光学フィルム試料１−１Ａ、試料１−１Ｂ、試料１−１Ｃはともにブラッシングを起こすこともなく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好であった。
【０２８７】
光学フィルム１−１に代えて、本発明の光学フィルム１−２〜１−２３に変更した以外は同様の方法で塗布を行った。その結果、試料１−２Ａ〜１−２３Ａ、１−２Ｂ〜１−２３Ｂ、１−２Ｃ〜１−２３Ｃの何れもブラッシングを起こすこともなく、乾燥後の亀裂の発生も認められず、塗布性は良好であった。
【０２８８】
比較として、比較の光学フィルム１−２４〜１−３８について、それぞれ上記と同様な方法で塗布を行った。
【０２８９】
カール防止層塗布組成物（３）を塗布したものをそれぞれ試料１−２４Ａ〜１−３８Ａ、更に帯電防止層塗布組成物（１）を塗布したものをそれぞれ試料１−２４Ｂ〜１−３８Ｂ、更にこの帯電防止層の上にハードコート層塗布組成物（２）を塗布したものをそれぞれ試料１−２４Ｃ〜１−３８Ｃとした。
【０２９０】
その結果、高湿度環境で塗布したとき、試料１−２４Ａ〜１−３８Ａでブラッシングが起こった。また、試料１−２４Ｂ〜１−３８Ｂでは乾燥後微細な亀裂が認められることがあり、試料１−２４Ｃ〜１−３８Ｃでは乾燥後微細な亀裂が明確に認められた。
【０２９１】
（偏光板の作製と評価）
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを沃素１質量部、沃化カリウム２質量部、ホウ酸４質量部を含む水溶液に浸漬し５０℃で４倍に延伸し偏光子を作製した。
【０２９２】
実施例１で作製した本発明の光学フィルム１−１〜１−２３及び比較の光学フィルム１−２４〜１−３８の延伸後のフィルムを、それぞれ４０℃の２．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化ナトリウム水溶液に６０秒間浸漬し、更に水洗乾燥して表面をアルカリ処理した。
【０２９３】
前記偏光子の両面に、本発明の光学フィルム１−１〜１−２３及び比較例の光学フィルム１−２４〜１−３８のアルカリ処理面を、完全鹸化型ポリビニルアルコール５％水溶液を接着剤として両面から貼合し、保護フィルムが形成された本発明の偏光板１−１〜１−２３及び比較の偏光板１−２４〜１−３８を作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
【０２９４】
（液晶表示装置としての特性評価）
ＶＡ型液晶表示装置である、シャープ（株）製３２型テレビＡＱ−３２ＡＤ５の偏光板を剥がし、上記で作製した各々の偏光板を液晶セルのサイズに合わせて断裁した。液晶セルを挟むようにして、前記作製した偏光板２枚を偏光板の偏光軸が元と変わらないように互いに直交するように貼り付け、３２型ＶＡ型カラー液晶ディスプレイを作製し、光学フィルムの偏光板としての以下の特性を評価した。結果を表３に示す。
【０２９５】
（平面性）
得られた偏光板を水平なテーブルの上で少し引っ張りながら長手方向の両端をテープでテーブルに貼り付けて、偏光板表面の平面性を下記基準で目視評価した。
【０２９６】
Ａ：表面に波打ち状のムラは全く認められない
Ｂ：表面にわずかに波打ち状のムラが認められる
Ｃ：表面に細かい波打ち状のムラが認められる
Ｄ：表面に大きな波打ち状のムラが認められる
（コントラスト）
２３℃５５％ＲＨの環境で、この液晶テレビのバックライトを点灯して３０分そのまま放置してから、コントラストを目視により以下の基準に従い評価した。
【０２９７】
Ａ：黒がしまって見え、鮮明である
Ｂ：黒がしまって見えるが、やや鮮明さが低い
Ｃ：黒のしまりがなく、鮮明さがやや低い
Ｄ：黒のしまりがなく、鮮明さが低い
【０２９８】
【表３】
【０２９９】
表３より、本発明の偏光板１−１〜１−２３は比較の偏光板１−２４〜１−３８に対して、着色、平面性に優れている保護フィルムで両面が保護されているため、非常に良好な偏光板の特性を有するという顕著に優れた効果を奏することがわかった。
【０３００】
上表より、本発明の偏光板１−１〜１−２３を用いた液晶表示装置は、比較の偏光板１−２４〜１−３８を用いた液晶表示装置に対してコントラストも高く、優れた表示性を示した。これにより、液晶ディスプレイ等の画像表示装置用の偏光板として優れていることが確認された。
【符号の説明】
【０３０１】
１ 押出し機
２ フィルター
３ スタチックミキサー
４ 流延ダイ
５ 回転支持体（第１冷却ロール）
６ 挟圧回転体（タッチロール）
７ 回転支持体（第２冷却ロール）
８ 回転支持体（第３冷却ロール）
９、１１、１３、１４、１５ 搬送ロール
１０ セルロースエステルフィルム
１６ 巻き取り機
３１ ダイ本体
３２ スリット
４１ 金属スリーブ
４２ 弾性ローラ
４３ 金属製の内筒
４４ ゴム
４５ 冷却水
５１ 外筒
５２ 内筒
５３ 空間
５４ 冷却液
５５ａ、５５ｂ 回転軸
５６ａ、５６ｂ 外筒支持フランジ
６０ 流体軸筒
６１ａ、６１ｂ 内筒支持フランジ
６２ａ、６２ｂ 中間通路
【特許請求の範囲】
【請求項１】
セルロースエステルと下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。
【化１】
（式中Ｒ１０１およびＲ１０２はアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表し、ｎ１およびｎ２は、０または１を表す。）
【請求項２】
セルロースエステルと前記一般式（１）で表される化合物と、ホスファイト、ホスホナイト及びホスフィナイトからなる群より選ばれる少なくとも１種のリン系化合物、を含有することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記一般式（１）で表される化合物の添加量をａ（モル）、ホスファイト、ホスホナイト及びホスフィナイトから選ばれるリン系化合物の合計の添加量をｂ（モル）としたときに、下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする請求項２に記載の光学フィルム。
式（Ａ）： ０．００５≦ａ／ｂ≦０．５
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムを溶融流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム、または請求項４に記載の光学フィルムの製造方法によって製造された光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
【請求項６】
請求項５に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１】
セルロースエステルと下記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする光学フィルム。
【化１】
（式中Ｒ１０１およびＲ１０２はアルキル基、シクロアルキル基、またはアリール基を表し、ｎ１およびｎ２は、０または１を表す。）
【請求項２】
セルロースエステルと前記一般式（１）で表される化合物と、ホスファイト、ホスホナイト及びホスフィナイトからなる群より選ばれる少なくとも１種のリン系化合物、を含有することを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記一般式（１）で表される化合物の添加量をａ（モル）、ホスファイト、ホスホナイト及びホスフィナイトから選ばれるリン系化合物の合計の添加量をｂ（モル）としたときに、下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする請求項２に記載の光学フィルム。
式（Ａ）： ０．００５≦ａ／ｂ≦０．５
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルムを溶融流延法により製造することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム、または請求項４に記載の光学フィルムの製造方法によって製造された光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
【請求項６】
請求項５に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に用いることを特徴とする液晶表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【公開番号】特開２０１０−２４８３６１（Ｐ２０１０−２４８３６１Ａ）
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−９８７６６（Ｐ２００９−９８７６６）
【出願日】平成２１年４月１５日（２００９．４．１５）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年１１月４日（２０１０．１１．４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年４月１５日（２００９．４．１５）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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