光学装置、その製造方法、および電子機器
【課題】液滴吐出法とスピンコート法とを組み合せて、優れた表示品質を有する表示装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】この製造方法によれば、隔壁７の上面に、撥水親油層３１を形成した後、液滴吐出法を用いて、区画領域Ｐごとに、正孔注入層８１の水性溶液を塗布している。当該水性溶液は、隔壁７の上面に形成された撥水親油層３１の撥水機能によってはじかれて、区画領域Ｐごとに塗り分けられる。そして、発光層８３の溶液は、液滴吐出法よりも均一な膜圧が得られるスピンコート法を用いて、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って全面に塗布される。油性の発光層の溶液は、撥水親油層３１の親油機能によりはじかれることなく、スピンコート法により、隔壁７の上面も含めて塗布される。発光層８３が略均一な膜厚で形成されるため、輝度バラツキが抑制され、優れた表示品質を得ることができる。
【解決手段】この製造方法によれば、隔壁７の上面に、撥水親油層３１を形成した後、液滴吐出法を用いて、区画領域Ｐごとに、正孔注入層８１の水性溶液を塗布している。当該水性溶液は、隔壁７の上面に形成された撥水親油層３１の撥水機能によってはじかれて、区画領域Ｐごとに塗り分けられる。そして、発光層８３の溶液は、液滴吐出法よりも均一な膜圧が得られるスピンコート法を用いて、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って全面に塗布される。油性の発光層の溶液は、撥水親油層３１の親油機能によりはじかれることなく、スピンコート法により、隔壁７の上面も含めて塗布される。発光層８３が略均一な膜厚で形成されるため、輝度バラツキが抑制され、優れた表示品質を得ることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置、その製造方法、および当該光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を含有した溶液をインクジェット法により隔壁（バンク）に囲まれた凹部に吐出、および乾燥させて有機薄膜層を形成する、いわゆる液滴吐出法が知られている。
液滴吐出法によって発光画素を形成する場合には、隔壁で区画された１つの凹部を区画領域としたときに、各区画領域を区画する隔壁の上面に撥液性を付与していた。これは、隣り合う区画領域間における溶液の混入を防止するために行われていた。
例えば、特許文献１には、隔壁の上面に、フッ素系の撥液層を転写して、撥液性を付与する方法が開示されている。詳しくは、格子状の隔壁の上面に、撥液層が形成されたフィルムをラミネートした後、当該フィルムのみを剥離することにより、隔壁の上面に選択的に撥液層を転写形成するとしている。
【０００３】
他方、有機ＥＬ材料を含有した溶液をスピンコート法によって塗布し、有機薄膜層を形成する技術も知られている。
例えば、特許文献２には、正孔注入層や、発光層などの有機薄膜層のいずれかをスピンコート法によって成膜して、有機薄膜層を形成する方法が開示されている。
また、これらの製造方法で形成された有機薄膜層が前述した隔壁などによって区画されて複数の画素が形成されることになるが、各画素における発光輝度を均一化する観点から、当該有機薄膜層の膜厚が均一であることが求められている。
この膜厚の均一化という観点からすると、一般的に、液滴吐出法によって形成された有機薄膜層よりも、スピンコート法などのコート法を用いて成膜した有機薄膜層の方が、膜厚の均一化を図ることができるといわれており、複数の有機薄膜層におけるいくつかの層をコート法で形成することが検討されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１３９３７８号公報
【特許文献２】特開平１１−１２１１７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、液滴吐出法と、コート法とを組み合わせて、表示品質の優れた光学装置を製造することは困難であるという課題があった。例えば、コート法により、最も膜厚の均一化が要求される発光層を、特許文献１における隔壁の上面に形成されたフッ素系の撥液層を覆って成膜する場合、油性の溶液が撥液層ではじかれてしまい、塗布ムラや、充填不足が生じ、膜厚の均一化を図ることが困難であった。
また、特許文献２の記載のように、コート法を用いて正孔注入層を形成しようとしても、その材料特性から、クロストークが生じてしまい、やはり、コート法を用いることは困難であるという課題があった。詳しくは、上述の隔壁の上面に形成された撥液層を覆って正孔注入層を形成する場合、仮に、撥液層を覆って均一に成膜できたとしても、当該層の材料（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳなど）は、電気抵抗が低いため、撥液層上に形成された正孔輸送層における画素間の電気的干渉が生じてしまい、非発光部分が発光したり、非選択の隣の画素が発光したりするクロストークの原因となっていた。
つまり、複数の画素を備えた光学装置の製造方法において、効果的にコート法を活用する方法は、創案されていないという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。
【０００７】
（適用例）
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、複数の画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、画素電極、および隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域に対して、有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、正孔注入層、および隔壁を覆って、有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【０００８】
この製造方法によれば、隔壁の上面に、撥水親油層を形成した後、液滴吐出法を用いて、区画領域ごとに、正孔注入層の溶液を塗布している。
前述したように正孔注入層は、一般的に電気抵抗が低く、スピンコート法で隔壁を覆って全面塗布するとクロストークの原因となるため、区画領域ごとに塗り分け可能な液滴吐出法を用いて塗布する方が適している。
このため、正孔注入層の形成工程では、液滴吐出法を用いており、水溶性の正孔注入層の溶液は、隔壁の上面に形成された撥水親油層の撥水機能によってはじかれて、画素間に塗布されることなく、区画領域ごとに塗り分けられる。
そして、発光層の溶液は、スピンコート法などのコート法を用いて、正孔注入層、および隔壁を覆って全面に塗布される。ここで、発光層の溶液は、油性であるため、隔壁の上面に形成された撥水親油層の親油機能によりはじかれることなく、コート法により、隔壁の上面も含めて塗布することができる。
つまり、撥水親油層の機能を使い分けることによって、コート法と液滴吐出法とのうち、各有機機能層の特性に応じた最適な方法を選択した製造方法となっている。
よって、この製造方法によって製造された光学装置は、クロストークの発生が低減されるとともに、各発光画素の発光輝度も均一化されている。
従って、適用例に係る光学装置の製造方法によれば、液滴吐出法とコート法とを組み合せることにより、優れた表示品質の光学装置を製造することができる。
【０００９】
換言すれば、液滴吐出法よりも均一な成膜が可能なコート法による発光層の形成を実現したことにより、当該層の膜厚の均一性が高められ、各画素の発光輝度の均一化が図られるため、光学装置の表示品質を高めることができる。
従って、コート法を効果的に活用した光学装置の製造方法を提供することができる。
【００１０】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、複数の画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、画素電極、および隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域に対して、有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、正孔注入層、および隔壁を覆って、有機機能層としての正孔輸送層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、隔壁の上面における正孔輸送層の上に、撥水撥油層を形成する工程と、区画領域ごとに、有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【００１１】
また、コート法は、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法のいずれかであることが好ましい。
また、撥水親油層は、隔壁の上面に、撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることが好ましい。
また、撥水親油層は、アクリル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリスチレン、スチレン／アクリル共重合体、水添石油樹脂、ケトン樹脂、セルロース系樹脂のいずれかであることが好ましい。
また、正孔注入層を構成する材料は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含むとともに、材料を含有した溶液は、水性溶液であり、発光層を構成する材料を含有した溶液は、油性溶液であることが好ましい。
また、蒸着法により、発光層を覆って、有機機能層としての電子注入層を形成する工程と、蒸着法により、電子注入層を覆って、共通陰極を形成する工程とを、さらに含むことが好ましい。
また、正孔輸送層を構成する材料を含有した溶液は、油性溶液であり、撥水撥油層は、隔壁の上面に、フッ素系の撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることが好ましい。
【００１２】
有機材料を含む複数の色フィルターが形成された光学装置の製造方法であって、基板上に、複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、複数の区画領域に対して、有機材料を含有した複数の色フィルターごとの水性溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、複数の色フィルター、および隔壁を覆って、光透過性を有する保護コート層を構成する材料を含有した油性溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【００１３】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、基板上に形成された発光画素の開口部となる画素電極と、複数の画素電極を区画する隔壁と、隔壁の上面に形成された撥水親油層と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域ごとに形成された有機機能層としての正孔注入層と、正孔注入層、および隔壁を覆って形成された有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
【００１４】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、基板上に形成された発光画素の開口部となる画素電極と、複数の画素電極を区画する隔壁と、隔壁の上面に形成された撥水親油層と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域ごとに形成された有機機能層としての正孔注入層と、正孔注入層、および隔壁を覆って形成された有機機能層としての正孔輸送層と、隔壁の上面における正孔輸送層の上に形成された撥水撥油層と、区画領域ごとに形成された、有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
【００１５】
上記記載の光学装置を表示部に備えたことを特徴とする電子機器。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施形態１に係る表示装置の一態様を示す斜視図。
【図２】図１のｉ−ｉ断面における表示パネルの側断面図。
【図３】（ａ）素子基板の平面図、（ｂ）（ａ）のｊ−ｊ断面における側断面図。
【図４】表示パネルの製造工程を示すフローチャート図。
【図５】（ａ）〜（ｃ）製造工程における一態様を示す図。
【図６】（ａ），（ｂ）製造工程における一態様を示す図。
【図７】（ａ）実施形態２における素子基板の平面図、（ｂ）（ａ）のｋ−ｋ断面における側断面図。
【図８】表示パネルの製造工程を示すフローチャート図。
【図９】（ａ）〜（ｃ）製造工程における一態様を示す図。
【図１０】電子機器としての携帯電話を示す斜視図。
【図１１】変形例２に係る素子基板の平面図。
【図１２】（ａ）変形例３に係る光学装置としてのＣＦ基板の平面図、（ｂ）（ａ）のｍ−ｍ断面における側断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００１８】
（実施形態１）
「表示装置の概要」
図１は、本実施形態に係る表示装置の一態様を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態１に係る電気光学装置としての表示装置１００の概要について説明する。
【００１９】
表示装置１００は、有機ＥＬ表示装置であり、表示パネル１８、フレキシブル基板２０などから構成されている。表示パネル１８は、素子基板１と対向基板１７との間に、発光層を含む複数層の有機機能層を挟持したトップエミッション型の有機ＥＬ表示パネルであり、対向基板１７側から表示光を出射する。
表示パネル１８は、マトリックス状に配置された複数の画素からなる表示領域Ｖを備えている。図１の右上に拡大して示すように、表示領域Ｖには、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色画素が周期的に配置されており、各画素が出射する表示光によりフルカラーの画像が表示される。なお、各画素は発光画素であるが、画素と称する。また、カラー表示を行う表示パネルに限定するものではなく、トップエミッション型の有機ＥＬ表示パネルであれば良く、例えば、モノクロ表示を行う表示パネルであっても良い。
表示領域Ｖは、縦長の長方形をなしており、図１を含む各図においては、当該縦方向をＹ軸方向とし、縦方向よりも短い横方向をＸ軸方向と定義している。また、表示パネル１８の厚さ方向をＺ軸方向としている。また、Ｙ軸（＋）、（−）方向を上下方向とし、Ｘ軸（＋）、（−）方向を左右方向としている。
【００２０】
詳しくは後述するが、表示装置１００は、素子基板１側に略白色光を出射する複数の画素を形成し、対向基板１７側に赤緑青の各色カラーフィルターを配置することにより、ＲＧＢの各色画素を形成した、「白色発光＋カラーフィルター方式」によるトップエミッション型の有機ＥＬ表示パネルである。
従来、これらの画素における発光輝度の均一化を図るために、液滴吐出法よりも、有機薄膜層の膜厚の均一化を図ることができるコート法を用いることが検討されていたが、有効な製造方法は見当たらなかった。
これに対して、表示装置１００の製造方法によれば、後述の特徴ある構成、および方法によって、液滴吐出法とコート法とを組み合せることを実現し、優れた表示品質の光学装置を製造することができる。
【００２１】
また、表示パネル１８において、素子基板１が対向基板１７から張出した張出し領域には、フレキシブル基板２０が接続されている。なお、フレキシブル基板とは、例えば、ポリイミドフィルムの基材に鉄箔の配線などが形成された柔軟性を有するフレキシブルプリント回路基板の略称である。また、フレキシブル基板２０には、駆動用ＩＣ（Integrated Circuit）２１が実装され、その端部には、専用のコントローラーや、外部機器（いずれも図示せず）と接続するための複数の端子が形成されている。
表示パネル１８は、フレキシブル基板２０を介して、外部機器から電力や画像信号を含む制御信号の供給を受けることにより、表示領域Ｖに画像や文字などを表示する。
【００２２】
「表示パネルの概略構成」
図２は、図１のｉ−ｉ断面における側断面図である。
続いて、表示パネル１８の概略構成について説明する。
表示パネル１８は、素子基板１、素子層２、平坦化層４、反射層５、画素電極６、隔壁７、電気光学層としての有機ＥＬ層８、共通電極９、電極保護層１０、緩衝層１１、ガスバリア層１２、充填剤１３、ＣＦ層１４、対向基板１７などから構成されている。また、素子基板１と対向基板１７とに挟持された部位のことを機能層１６という。換言すれば、素子層２からＣＦ層１４までの積層構造を機能層１６という。
素子基板１は、無機ガラスから構成されている。本実施形態では、好適例として、無アルカリガラスを用いている。なお、この構成に限定するものではなく、樹脂基板を用いても良い。また、トップエミッション型であるため、光透過性が低い材料を用いても良く、例えば、金属基板を用いる構成であっても良い。
素子層２には、各画素をアクティブ駆動するための画素回路が形成されている。画素回路には、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）からなる画素を選択するための選択トランジスターや、有機ＥＬ層８に電流を流すための駆動トランジスター３などが含まれており、画素ごとに対応して形成されている。なお、画素回路は、好適例として、活性層に低温ポリシリコンを用いているが、アモルファスシリコンを活性層として用いた構成であっても良い。
【００２３】
素子層２の上層（Ｚ軸（−）方向）には、例えば、アクリル樹脂などからなる絶縁層である平坦化層４が形成されている。
平坦化層４の上層には、画素ごとに区画されて、反射層５と、画素電極６とがこの順番で積層されている。
反射層５は、例えば、アルミニウムなどの反射性を有する金属からなる反射層であり、有機ＥＬ層８から素子基板１側に向かう光を反射して、表示に寄与する光にする。
画素電極６は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や、ＺｎＯなどの透明電極から構成されており、画素ごとに素子層２の駆動トランジスター３のドレイン端子と平坦化層４を貫通するコンタクトホールにより接続されている。なお、本実施形態では、好適例として、反射層５と画素電極６との間に、ＳｉＯ2などの透明な無機絶縁層を介在させているが、この構成に限定するものではなく、反射電極として機能する構成であれば良い。例えば、反射層５を省略して、画素電極６のみをアルミニウムなどの反射性の導電材料によって形成することであっても良い。または、無機絶縁層を介在させることなく、反射層５の上に、画素電極６を直接形成することであっても良い。
【００２４】
隔壁７は、光硬化性の黒色樹脂などから構成され、平面的に各画素を格子状に区画している。なお、素子層２における駆動トランジスター３を含む画素回路は、光による誤動作を防止するために、平面的に隔壁と重なるように配置されている。
なお、図２では、好適例として有機材料からなる隔壁７（第１隔壁）によるシングルバンク構成としているが、例えば、さらに無機材料からなる低い隔壁（第２隔壁）を備えたダブルバンク構成としても良い。ダブルバンク構成の場合、隔壁７（第１隔壁）の下層に、画素電極６の周縁部を覆うＳｉＯ2などの無機材料膜からなる第２隔壁を形成し、第２隔壁から露出した部分が開口部となる。
【００２５】
また、隔壁７の上面には、本発明における特徴ある構成の一つである撥水親油層が形成されているが図２では、省略している。
複数層の有機機能層としての有機ＥＬ層８は、正孔注入層や、発光層などを含む複数の有機機能層から形成された有機ＥＬ発光層である。図２において、有機ＥＬ層８は、画素電極６、および隔壁７を覆う一層の構成となっているが、実際は、各部位を覆って形成された有機薄膜層と、隔壁７で区画された区画領域内に形成された有機薄膜層とが、混在した状態となっている。
好適例における有機ＥＬ層８は、正孔注入層と、発光層と、電子注入層とを、この順番に積層した構成となっている。または、正孔注入層と発光層との間に、正孔輸送層をさらに備えた構成であっても良い。
【００２６】
好適例における正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いる。また、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
好適例における正孔輸送層（中間層）の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、トリフェニルアミン系ポリマーを用いても良い。
【００２７】
発光層の材料としては、略白色の蛍光、または燐光を発光する発光材料を用いることが好ましい。または、有機ＥＬ層８Ｒ，８Ｇ，８Ｂごとに、赤色、緑色、青色の蛍光、または燐光を発光する発光材料を用いても良い。
好適例としては、略白色、赤色、緑色、青色に対応したポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）などを用いても良い。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
電子注入層の材料としては、仕事関数が小さい材料が好ましく、好適例では、例えば、カルシウムを用いる。
【００２８】
共通陰極としての共通電極９は、ＭｇＡｇなどの金属を、光を透過するようにごく薄く成膜した金属薄膜層であり、全画素に跨る有機ＥＬ層８を覆って形成されている。
陰極保護層としての電極保護層１０は、ＳｉＯ2や、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯｘＮｙなどの高密度で、かつ、透明性の高い材質から構成されており、共通電極９を覆って形成することにより、有機ＥＬ層８へ水分などが浸入することを防止している。
緩衝層１１は、熱硬化性のエポキシ樹脂などの透明な有機緩衝層である。
ガスバリア層１２は、電極保護層１０と同様な材質で構成されたガスバリア層であり、緩衝層１１をさらに覆って形成することにより、有機ＥＬ層８を含む内部の積層構造への水分などの浸入を防止している。
充填剤１３は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなる透明な接着層であり、ガスバリア層１２とＣＦ層１４との間の凹凸面に充填されるとともに、両者を接着する。また、表示パネル１８の周縁部から、有機ＥＬ層８を含む内部の積層構造への水分などの浸入を防ぐ機能も果たす。
【００２９】
対向基板１７は、透明な無機ガラスから構成されており、好適例として、無アルカリガラスを用いている。また、対向基板１７における有機ＥＬ層８側（Ｚ軸（＋）側）には、ＣＦ層１４が形成されている。
ＣＦ層１４には、赤色カラーフィルター１４ｒ、緑色カラーフィルター１４ｇ、青色カラーフィルター１４ｂが画素配置と同様に配置されている。詳しくは、各色のカラーフィルターは、それぞれが対応する画素電極６と重なるように配置されており、各カラーフィルター間には、ハッチングで示した遮光部が形成されている。遮光部は、平面的に隔壁７と重なるように格子状に形成されており、光学的には、ブラックマトリックスの機能を果たす。
そして、対向基板１７と素子基板１とは、対向基板１７の周縁部に形成されたシール剤１５によって接着および封止されている。シール剤１５としては、エポキシ系の接着剤や、紫外線硬化樹脂などを用いる。
【００３０】
このように構成された各画素からは、カラーフィルターの色調に対応した表示光が出射される。例えば、赤色画素の場合、有機ＥＬ層８で放射された白色光は、赤色カラーフィルター１４ｒによって赤色光が選択されて、赤色の表示光として対向基板１７から出射される。また、緑色、青色の画素においても同様である。
これにより、表示領域Ｖでは、対向基板１７から出射される複数のカラー画素からの表示光によりフルカラーの画像が表示されることになる。
【００３１】
「素子基板の詳細な構造」
図３（ａ）は素子基板１の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のｊ−ｊ断面における側断面図である。
ここでは、素子基板１の平面レイアウト、および有機ＥＬ層８を含む積層構造について、詳細に説明する。
図３（ａ）は、電極保護層１０までが形成された状態の素子基板１の平面図である。当該図に示すように、隔壁７によって格子状に区画された複数の領域の各々を区画領域（画素）Ｐとしており、各区画領域Ｐには、Ｙ軸方向に長い楕円状の画素電極６が配置されている。なお、画素電極６の平面形状は、楕円状に限定するものではなく、トラック形状や、長方形、円であっても良い。
【００３２】
図３（ｂ）は、（ａ）のｊ−ｊ断面における側断面図であり、１つの画素を長手方向（Ｙ軸方向）に沿って切断した状態を示している。
当該図に示すように、有機ＥＬ層８は、正孔注入層８１、発光層８３、電子注入層８４から構成されている。
正孔注入層８１は、液滴吐出法により、区画領域Ｐごとに形成されている。
発光層８３は、略白色光を放射する発光層であり、スピンコート法により、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って形成されている。
ここで、隔壁７の上面には、本発明における特徴ある構成の一つである撥水親油層３１が形成されている。撥水親油層３１は、水性溶液をはじいて、油性溶液になじむ機能を有している。
電子注入層８４は、真空蒸着法により、発光層８３を覆って全面に形成されている。
このように、有機ＥＬ層８は、区画領域Ｐ内に形成された正孔注入層８１と、隔壁７を含む各部を覆って形成された発光層８３、および電子注入層８４とが、混在した積層構造となっている。
また、図２で説明した通り、電子注入層８４の上には、共通電極９と電極保護層１０とが、この順番で、それぞれ全面に形成されている。
【００３３】
「表示パネルの製造方法」
図４は、表示パネルの製造工程を示すフローチャート図である。図５（ａ）〜（ｃ）は、製造工程における一態様を示す図である。図６（ａ），（ｂ）は、製造工程における一態様を示す図である。
ここでは、表示パネル１８の製造方法について、有機ＥＬ層８の工程を中心に説明する。
【００３４】
まず、ステップＳ１では、フォトリソ法、蒸着法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などの周知の製造方法を用いて、画素電極６までが作り込まれた素子基板１を形成する。換言すれば、画素電極６までが形成された素子基板１を準備する。
ステップＳ２では、フォトリソ法を用いて、格子状の隔壁７を形成する。詳しくは、前述した光硬化性の樹脂を素子基板１の全面にスピンコート法などにより塗布した後、格子状のマスクを用いて露光し、現像することによって格子状の隔壁７を形成する。なお、好適例では、黒色の光硬化性樹脂を用いている。
これにより、図３（ａ）に示すように、複数の画素電極６を１つずつに区画する隔壁７が形成される。換言すれば、表示領域Ｖを複数の区画領域Ｐに区画する隔壁７が形成される。
ステップＳ３では、画素電極６、および隔壁７を含む表示領域Ｖの露出面に親液化処理を施す。詳しくは、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行う。この処理により、画素電極６、および隔壁７を含む表示領域Ｖの露出面に水酸基が導入されて親液性が付与される。この状態が、図５（ａ）に示されている。
【００３５】
ステップＳ４では、図５（ｂ）に示すように、素子基板１上に、転写フィルム１３０を重ねた状態（準備体）とし、転写法を用いて、隔壁７の上面に撥水親油膜を形成する。
ここで、転写フィルム１３０は、基材となる樹脂フィルム上の一面に、撥水親油膜１３１を形成（塗布）したフィルム部材である。樹脂フィルムとしては、ポリオレフィン系フィルム、ポリスチレン系フィルム、ナイロン系フィルム、フッ素樹脂フィルムなどを用いることができる。また、撥水親油膜１３１としては、アクリル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリスチレン、スチレン／アクリル共重合体、水添石油樹脂、ケトン樹脂、セルロース系樹脂のいずれかを用いることができる。
本実施形態では、好適例として、樹脂フィルムとして、厚さ約２０μｍのポリエチレンテレフタレート（PET）製のフィルムを用い、当該フィルム上に、撥水親油膜１３１を約８０ｎｍの厚さで形成したものを転写フィルム１３０としている。
【００３６】
そして、当該図に示すように、隔壁７面を上にした状態の素子基板１上に、撥水親油膜１３１側を下にして転写フィルム１３０を重ねて準備体としている。
本実施形態では、好適例として、この準備体をラミネート装置でラミネートすることにより、隔壁７の上面に撥液層を選択的に形成する。なお、図５（ｂ）では、ラミネート装置における伝熱性のあるシリコンゴムなどのエラストマーから構成された加圧ローラー６１，６２のみを図示している。また、ラミネートは転写法の一種である。具体的なラミネート条件としては、加圧ローラー６１，６２の温度を約１３０℃とし、準備体の搬送速度（ラミネート速度）を０．５ｍ／ｍｉｎとした。
なお、ローラーを用いたラミネート法に限定するものではなく、隔壁７の上面に撥液層を選択的に形成することが可能な転写法であれば良い。例えば、準備体の上方から加熱した平板を押し当てて、隔壁７の上面に撥液層を選択的に形成する方法であっても良い。
これにより、図５（ｃ）に示すように、隔壁７の上面に選択的に撥水親油層３１が形成されることになる。なお、この撥水親油層３１は、撥水親油膜１３１の一部が転写されたものである。
また、隔壁７の上面とは、下底が長く、上底が短い略台形状をなした隔壁７の断面形状における上底のことを指しており、実際は、曲面を含んだ凸状となっている。
【００３７】
ステップＳ５では、液滴吐出法（インクジェット法）を用いて、各区画領域Ｐ内に、正孔注入層８１を形成する。なお、正孔注入層８１の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
まず、溶液の塗布工程では、液滴吐出装置を用いて、区画領域Ｐごとに、正孔注入層８１を構成する材料を含有した水性溶液を吐出する。なお、インクジェット法に限定するものではなく、所定の位置に溶液を吐出可能な塗布方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサー法や、ニードルディスペンサー法などのディスペンサー法を用いても良い。
図５（ｃ）には、液滴吐出装置のノズル５１０から溶液ｄ１が吐出されて、区画領域Ｐ内に着弾し、凸状（水玉状）の溶液溜りｕ１となった状態が示されている。
ここで、溶液溜りｕ１が凸状となるのは、区画領域Ｐの底部を形成する画素電極６などが親液性を有するとともに、撥水親油層３１が水性の溶液に対して撥液性を有しているからであり、充填された溶液は、その表面張力によって水玉状の膨らみを持って区画領域Ｐに溜まることになる。
【００３８】
乾燥工程では、真空乾燥と熱処理を行う。まず、溶液が塗布された状態の素子基板１を真空チャンバーに移して、真空乾燥を行う。これにより、溶液中の溶媒の沸点が下がり、当該溶媒が低温で蒸発することになるため、溶質が析出して正孔注入層が形成される。さらに、残存する溶媒を除去するために熱処理を行う。好適例では、窒素ガス雰囲気下において、約２００℃で約１０分間の熱処理を行う。
なお、乾燥工程において、素子基板１を加熱しても良い。例えば、当該基板をホットプレート上に載せて加熱する方法や、表示領域Ｖの上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図５（ｃ）において点線で示すように、区画領域Ｐの底部に、画素電極６を覆う正孔注入層８１が形成される。
【００３９】
ステップＳ６では、スピンコート法を用いて、正孔注入層８１、および隔壁７を覆う発光層８３を形成する。なお、発光層８３の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
まず、溶液の塗布工程では、スピンコート法により、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って、発光層８３を構成する材料を含有した油性溶液を塗布する。
ここで、隔壁７の上面に形成されている撥水親油層３１は、油性溶液になじむため、発光層の溶液をはじくことなく隔壁７を覆って、スピンコート法による略均一な膜厚の発光層８３を形成することができる。なお、上記説明では、好適例としてスピンコート法を用いているが、スピンコート法に限定するものではなく、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法などのコート法を用いても良い。
また、乾燥工程は、ステップＳ５での説明と同様である。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図６（ａ）に示すように、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って、全面に発光層８３が形成される。
【００４０】
ステップＳ７では、真空蒸着法を用いて、発光層８３を覆って、カルシウムからなる電子注入層８４を形成する。
ステップＳ８では、真空蒸着法を用いて、電子注入層８４を覆って、ＭｇＡｇからなる共通電極９を形成する。
ステップＳ９では、ＣＶＤ法を用いて、共通電極９を覆って、ＳｉＯ2からなる電極保護層１０を形成する。この状態が図６（ｂ）に示されている。なお、図６（ｂ）は、図３（ｂ）と同一図面である。
【００４１】
また、ステップＳ９に続けて、スピンコート法や、ＣＶＤ法などを用いて、熱硬化性のエポキシ樹脂からなる緩衝層１１や、ＳｉＯ2からなるガスバリア層１２などを形成して、図２に示す、素子基板１が完成する。
そして、積層構造が完成した素子基板１と別途製造された対向基板１７とを充填剤１３や、シール剤１５を用いて貼り合せて、表示パネル１８が完成する。
【００４２】
「好適例における寸法」
上述した好適例による各部の寸法について、図３を用いて紹介しておく。
まず、区画領域の「長さ（Ｙ軸方向）×幅（Ｘ軸方向）」を「約３００μｍ×約１５０μｍ」とした。
また、画素電極６の長さを約２００μｍとし、幅を約１００μｍとした。
また、隔壁７の高さ（厚さ）を約３μｍとした。
また、撥水親油層３１の厚さを約８０ｎｍとした。
【００４３】
上述した通り、本実施形態に係る表示装置１００、および製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、隔壁７の上面に、撥水親油層３１を形成した後、液滴吐出法を用いて、区画領域Ｐごとに、正孔注入層８１の溶液を塗布している。
前述したように、正孔注入層８１は、一般的に電気抵抗が低く、スピンコート法を用いて、隔壁７を覆って全面塗布するとクロストークの原因となるため、区画領域ごとに塗り分け可能な液滴吐出法を用いて塗布する方が適している。
このため、正孔注入層８１の形成工程では、液滴吐出法を用いており、水溶性の正孔注入層の溶液は、隔壁７の上面に形成された撥水親油層３１の撥水機能によってはじかれて、画素間に塗布されることなく、区画領域Ｐごとに塗り分けられる。
そして、発光層の溶液は、液滴吐出法よりも均一な膜圧が得られるスピンコート法を用いて、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って全面に塗布される。ここで、発光層の溶液は、油性であるため、隔壁７の上面に形成された撥水親油層３１の親油機能によりはじかれることなく、スピンコート法により、隔壁７の上面も含めて塗布することができる。
つまり、撥水親油層３１の機能を使い分けることによって、スピンコート法と液滴吐出法とのうち、各有機機能層の特性に応じた最適な方法を選択した製造方法となっている。
よって、この製造方法によって製造された表示装置１００は、クロストークの発生が低減されるとともに、各発光画素の発光輝度も均一化されている。
従って、本実施形態に係る製造方法によれば、液滴吐出法とコート法とを組み合せることにより、優れた表示品質の表示装置１００を製造することができる。
【００４４】
換言すれば、コート法による発光層８３の形成を実現したことにより、当該層の膜厚の均一性が高められ、各画素の発光輝度の均一化が図られるため、表示装置１００の表示品質を高めることができる。
従って、コート法を効果的に活用した表示装置１００の製造方法を提供することができる。
【００４５】
（実施形態２）
図７（ａ）は、実施形態２に係る素子基板の平面図であり、図３（ａ）に対応している。図７（ｂ）は（ａ）におけるｋ−ｋ断面の断面図であり、図３（ｂ）に対応している。
以下、本発明の実施形態２に係る表示装置について説明する。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
【００４６】
本実施形態の表示装置は、実施形態１の素子基板１とは、異なる構成の素子基板１ｂを備えている。詳しくは、有機ＥＬ層８が正孔輸送層８２を加えた構成となっている点が、実施形態１の素子基板１とは異なる。また、当該構成の変更に伴い製造方法の一部も異なっている。それ以外は、実施形態１での説明と略同様である。なお、素子基板１ｂとは、本実施形態における素子基板１上に形成された複数層の積層構造体の全体を指している。
まず、図７（ａ）に示された素子基板１ｂの平面態様は、図３（ａ）の実施形態１の平面態様と同様である。
また、図７（ｂ）は図３（ａ）におけるｊ−ｊ断面と同一部分の断面図であり、当該図に示すように、実施形態２に係る有機ＥＬ層８は、正孔注入層８１、正孔輸送層８２、発光層８３、電子注入層８４から構成されている。
【００４７】
正孔注入層８１は、実施形態１と同様に、液滴吐出法により、区画領域Ｐごとに形成されている。
そして、正孔輸送層８２は、コート法により、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って形成されている。
また、発光層８３は、ＲＧＢの色光ごとの発光層が、液滴吐出法により、区画領域Ｐごとに形成されている。
ここで、隔壁７の上面には、実施形態１と同様に撥水親油層３１が形成されている。また、本実施形態では、隔壁７の上面における正孔輸送層８２上に、撥水撥油層３２がさらに形成されている点が、実施形態１と異なっている。
また、電子注入層８４は、真空蒸着法により、発光層８３、および隔壁７を覆って全面に形成されている。
このように、有機ＥＬ層８は、区画領域Ｐ内に形成された正孔注入層８１、および発光層８３と、隔壁７を含む各部を覆って形成された正孔輸送層８２、および電子注入層８４とが、混在した積層構造となっている。また、これらの積層構造以外は、実施形態１での構成と同様である。
【００４８】
「表示パネルの製造方法」
図８は、実施形態２に係る表示パネルの製造工程を示すフローチャート図であり、図４に対応している。図９（ａ）〜（ｃ）は、製造工程における一態様を示す図であり、図５，６に対応している。
ここでは、表示パネル１８の製造方法について、有機ＥＬ層８の工程を中心に説明する。なお、図４の工程と同一の工程については、重複する説明は省略する。
【００４９】
まず、ステップＳ１１の画素電極形成工程から、ステップＳ１５の正孔注入層形成工程までは、図４のステップＳ１〜ステップＳ５までの各工程と同一である。
ステップＳ１６では、スピンコート法を用いて、正孔注入層８１、および隔壁７を覆う正孔輸送層８２を形成する。なお、正孔輸送層８２の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
まず、溶液の塗布工程では、スピンコート法により、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って、正孔輸送層８２を構成する材料を含有した油性溶液を塗布する。
ここで、隔壁７の上面に形成されている撥水親油層３１は、油性溶液になじむため、正孔輸送層の溶液をはじくことなく隔壁７を覆って、スピンコート法による略均一な膜厚の正孔輸送層８２を形成することができる。なお、スピンコート法に限定するものではなく、他のコート法を用いても良いことは、実施形態１での説明と同様である。
また、乾燥工程は、実施形態１での説明と同様である。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図９（ａ）に示すように、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って、全面に正孔輸送層８２が形成される。なお、正孔輸送層８２には、均一な絶縁性が要求されるため、有機ＥＬ層８において、発光層８３に次いで、膜厚の均一性が求められている。
【００５０】
ステップＳ１７では、素子基板１上に、転写フィルムを重ねた状態とし、転写法を用いて、隔壁７の上面に撥水撥油層３２を形成する。転写フィルムは、基材となる樹脂フィルム上の一面に、撥水撥油膜を形成（塗布）したフィルム部材である。
なお、具体的には、図５（ｂ）で説明したラミネート法を用いて、図９（ｂ）に示すように、隔壁７の上面における正孔輸送層８２上に、撥水撥油層３２を形成する。転写フィルムの材質や、ラミネート条件については、実施形態１での説明と同様である。
また、撥水撥油膜としては、フッ素系化合物、またはケイ素系化合物を含有した撥液剤を用いることができる。本実施形態では、好適例として、住友スリーエム社製のノベック（登録商標）EGC-1720を用いている。
【００５１】
ステップＳ１８では、液滴吐出法（インクジェット法）を用いて、各区画領域Ｐ内に、発光層８３を形成する。なお、発光層８３の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
溶液の塗布工程では、液滴吐出装置を用いて、区画領域Ｐごとに、発光層８３を構成する材料を含有した油性溶液を吐出する。詳しくは、図７（ａ）に示すように、画素列ごとにＲＧＢの各色に対応した溶液を塗布する。なお、インクジェット法に限定するものではなく、所定の位置に溶液を吐出可能な塗布方法であれば良いことは、実施形態１での説明と同様である。
図９（ｂ）には、液滴吐出装置のノズル５２０から溶液ｄ２が吐出されて、区画領域Ｐ内に着弾し、凸状（水玉状）の溶液溜りｕ２となった状態が示されている。
ここで、溶液溜りｕ２が凸状となるのは、撥水撥油層３２が油性の溶液に対して撥液性を有しているからであり、充填された溶液は、その表面張力によって水玉状の膨らみを持って区画領域Ｐに溜まることになる。
また、乾燥工程については、実施形態１（ステップＳ５）での説明と同様である。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図９（ｂ）において点線で示すように、区画領域Ｐの底部側における正孔輸送層８２の上に、発光層８３が形成される。
【００５２】
ステップＳ１９では、真空蒸着法を用いて、発光層８３、および隔壁７を覆って、カルシウムからなる電子注入層８４を形成する。
そして、ステップＳ２０の共通電極形成工程、およびステップＳ２１の電極保護層形成工程は、図４のステップＳ８〜ステップＳ９の各工程と同一である。
また、ステップＳ２１に続けて、緩衝層１１や、ガスバリア層１２などを形成して素子基板１ｂが完成すること、および別途製造された対向基板１７を充填剤１３や、シール剤１５を用いて貼り合せて、表示パネル１８が完成することなども、実施形態での説明と同様である。
【００５３】
なお、図２において、実施形態２の素子基板１ｂを適用すると、ＲＧＢの各色を発光する画素に、さらにＲＧＢの各色カラーフィルターを被せた構成となるが、この構成によれば、高いコントラストを確保することができる。詳しくは、トップエミッション型である表示パネル１８は、対向基板１７から入射する外光が反射層５で反射された反射光によって、コントラストが低下してしまうという問題を有しているが、カラーフィルターを備えることによって、発光色以外の反射率を抑えられるため、高コントラストを確保することが可能となる。
また、表示パネル１８の形式としては、トップエミッション型に限定するものではなく、ボトムエミッション型として構成しても良い。この構成の場合、反射層５を削除し、共通電極９を反射性に優れたアルミニウムなどから構成された反射電極とすれば良い。
これによれば、素子基板１側からＲＧＢの各色の表示光を出射するボトムエミッション型の表示パネルを構成することができる。
【００５４】
上述した通り、本実施形態に係る光学装置、および製造方法によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、撥水親油層３１と、撥水撥油層３２とが有する機能を使い分けることにより、有機ＥＬ層８の中でも膜厚の均一性が求められる正孔輸送層８２を、液滴吐出法よりも均一な膜圧が得られるスピンコート法を用いて形成している。また、スピンコート法を用いて形成するとクロストークが発生する恐れがある正孔注入層８１を、区画領域Ｐごとに塗り分け可能な液滴吐出法を用いて形成している。
つまり、撥水親油層３１と、撥水撥油層３２とを効果的に使い分けることにより、コート法と液滴吐出法とのうち、各有機機能層の特性に応じた最適な方法を選択した製造方法となっている。
よって、この製造方法によって製造された表示装置は、クロストークの発生が低減されるとともに、各発光画素の発光輝度も均一化されている。
従って、本実施形態に係る製造方法によれば、液滴吐出法とコート法とを組み合せることにより、優れた表示品質の表示装置を製造することができる。
【００５５】
（電子機器）
図１０は、上述の表示装置を搭載した携帯電話を示す斜視図である。
上述した表示装置１００は、例えば、電子機器としての携帯電話２００に搭載して用いることができる。
携帯電話２００は、本体部３５０と、当該本体部に対して開閉自在に設けられた表示部３７０とを備えるとともに、実施形態１に係る表示装置１００を内蔵している。詳しくは、表示装置１００は、表示部３７０に組み込まれており、表示パネル１８が表示画面となっている。また、本体部３５０には、複数の操作ボタンを有する操作部３６５が設けられている。
つまり、携帯電話２００は、優れた表示品質の表示装置１００を搭載している。従って、鮮明な表示画面を備えた携帯電話２００を提供することができる。
なお、表示パネル１８の素子基板には、実施形態２に係る素子基板１ｂを用いても良く、この場合であっても、同様な作用効果を得ることができる。
【００５６】
また、携帯電話の態様は、図１０に示した折畳み式に限定するものではなく、表示パネルを備えた携帯電話であれば良い。
例えば、本体部３５０に対して表示部３７０が折畳み、および旋回可能に設けられた携帯電話であっても良い。または、一体型の携帯電話や、一体型の本体部に操作部が収納されているスライド式の携帯電話であっても良い。
また、電子機器としては、携帯電話に限定するものではなく、液晶パネルを備えた電子機器であれば良い。
例えば、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、モバイルコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、高品位の表示を得ることができる。
【００５７】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。
【００５８】
（変形例１）
図３（ｂ）、および図７（ｂ）を用いて説明する。
上記各実施形態では、有機ＥＬ層８の積層構造を正孔注入層８１、発光層８３、電子注入層８４からなる３層構造、または正孔注入層８１、正孔輸送層８２、発光層８３、電子注入層８４からなる４層構造として説明したが、この構成に限定するものではない。
例えば、正孔注入層と、発光層とからなる２層構成であっても良いし、発光層と、電子注入層との間に、さらに正孔阻害層を設けた構成であっても良い。
これらの構成であっても、各有機機能層の特性に応じて、撥水親油層の機能、または撥水撥油層との組み合せによる機能を効果的に使い分けることにより、コート法と液滴吐出法とのうち、最適な方法を選択した製造方法を実現することができる。
また、この製造方法であっても、上記各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
【００５９】
（変形例２）
図１１は、変形例２に係る素子基板の平面図であり、図３（ａ）に対応している。
上記各実施形態では、隔壁７によって、１つの画素電極６ごとに、１つの区画領域Ｐが形成されるものとして説明したが、この構成に限定するものではない。例えば、図１１に示すように、複数の画素電極６に対して、１つの区画領域Ｐが形成される隔壁７７構成であっても良い。
変形例２の素子基板５１は、実施形態１の隔壁７（図３）とは異なる隔壁７７を備えている。詳しくは、Ｙ軸方向に隣り合う２つの画素電極６に対して、１つの区画領域Ｐ（共通バンク）が形成される隔壁７７構成となっている。このため、区画領域Ｐの縦方向（Ｙ軸方向）の長さが、図３の区画領域Ｐに比べて長くなっている。この点以外は、実施形態１での説明と同様である。
【００６０】
この構成であっても、上記各実施形態における製造方法を適用可能であることから、上記各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
なお、２つの画素電極６に対して１つの区画領域Ｐが形成される構成に限定するものではなく、３つ以上の画素電極６に対して１つの区画領域Ｐが形成されることであっても良い。または、表示領域Ｖの周縁部では複数の画素電極６に対して１つの区画領域Ｐを形成し、中央部では１つの画素電極６に対して１つの区画領域Ｐを形成するというように、変化させても良い。これらの構成であっても、上記各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
【００６１】
（変形例３）
図１２（ａ）は、変形例３に係る光学装置としてのＣＦ基板の平面図であり、図３（ａ）に対応している。図１２（ｂ）は、（ａ）におけるｍ−ｍ断面の側断面図であり、図３（ｂ）に対応している。
上記各実施形態では、有機ＥＬパネルである表示パネル１８を用いて説明したが、光学装置としてのＣＦ基板１１５に適用することであっても良い。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
変形例３に係るＣＦ基板１１５は、液晶パネルや、トップエミッション型の有機ＥＬパネルに用いられるカラーフィルターが形成された基板である。このため、画素電極６や、素子層２（図２）などは、形成されていない。
【００６２】
ＣＦ基板１１５は、透明基板１１１、色フィルター層１８１、隔壁７、保護コート層１８５などから構成されている。
透明基板１１１は、透明性を有する無機、または有機基板である。
隔壁７は、ＣＦ基板１１５が組み込まれる液晶パネルの平面的な画素配置に対応して、各区画領域Ｐをマトリックス状に区画するように、格子状に形成されている。
色フィルター層１８１は、図１２（ａ）に示すように、ＲＧＢの各色の色フィルターが、区画領域Ｐ列ごとに周期的に繰り返す、縦ストライプに形成されている。
保護コート層１８５は、色フィルター層１８１、および隔壁７を覆って、全面に形成された透明樹脂からなる保護コート層である。
【００６３】
このＣＦ基板１１５の製造にも、実施形態１の製造方法の一部を適用することが可能である。以下、図４のフローチャートと比較しながら説明する。
詳しくは、まず、透明基板１１１上に、格子状の隔壁７を形成した後、図４のステップＳ３と同様に、透明基板１１１、および隔壁７の露出面に、親液化処理を施す。
次に、ステップＳ４と同様に、隔壁７の上面に、撥水親油層３１を形成する。
そして、ステップＳ５と同様に、区画領域Ｐごとに、各色の色フィルター層ごとの水性溶液を液滴吐出法により塗布し、乾燥する。
最後に、色フィルター層１８１、および隔壁７を覆って、光透過性を有する保護コート層１８５を構成する材料を含有した油性溶液をスピンコート法により塗布する。なお、スピンコート法に限定するものではなく、他のコート法を用いても良いことは、実施形態１での説明と同様である。
【００６４】
このように、撥水親油層３１の機能を効果的に活用することによって、水性溶液を用いる色フィルター層を液滴吐出法により各区画領域Ｐに塗り分けるとともに、油性溶液を用いる保護コート層をコート法により、全面に塗布することができる。
特に、従来、図１２（ｂ）の撥水親油層３１を、撥油性も有する撥水撥油層で構成する方法が一般的であったが、この構成の場合、保護コート層１８５を形成する前に、撥水撥油層を除去する必要があった。これに対して、変形例３の製造方法によれば、撥水親油層３１を除去することなく、保護コート層１８５を形成することが可能であるため、製造効率が良い。
従って、製造効率に優れたＣＦ基板１１５の製造方法を提供することができる。
【符号の説明】
【００６５】
１，５１…基板としての素子基板、６…画素電極、７，７７…隔壁、８…複数層の有機機能層としての有機ＥＬ層、９…共通陰極としての共通電極、１８…表示パネル、３１…撥水親油層、３２…撥水撥油層、８１…正孔注入層、８２…正孔輸送層、８３…発光層、８４…電子注入層、１００…光学装置としての表示装置、１１１…透明基板、１１５…光学装置としてのＣＦ基板、１８１…色フィルターとしての色フィルター層、１８５…保護コート層、２００…電子機器としての携帯電話、ｄ１，ｄ２…液滴、ｕ１，ｕ２…溶液溜り、Ｐ…区画領域、Ｖ…表示領域。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学装置、その製造方法、および当該光学装置を備えた電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機ＥＬ（Electro Luminescence）材料を含有した溶液をインクジェット法により隔壁（バンク）に囲まれた凹部に吐出、および乾燥させて有機薄膜層を形成する、いわゆる液滴吐出法が知られている。
液滴吐出法によって発光画素を形成する場合には、隔壁で区画された１つの凹部を区画領域としたときに、各区画領域を区画する隔壁の上面に撥液性を付与していた。これは、隣り合う区画領域間における溶液の混入を防止するために行われていた。
例えば、特許文献１には、隔壁の上面に、フッ素系の撥液層を転写して、撥液性を付与する方法が開示されている。詳しくは、格子状の隔壁の上面に、撥液層が形成されたフィルムをラミネートした後、当該フィルムのみを剥離することにより、隔壁の上面に選択的に撥液層を転写形成するとしている。
【０００３】
他方、有機ＥＬ材料を含有した溶液をスピンコート法によって塗布し、有機薄膜層を形成する技術も知られている。
例えば、特許文献２には、正孔注入層や、発光層などの有機薄膜層のいずれかをスピンコート法によって成膜して、有機薄膜層を形成する方法が開示されている。
また、これらの製造方法で形成された有機薄膜層が前述した隔壁などによって区画されて複数の画素が形成されることになるが、各画素における発光輝度を均一化する観点から、当該有機薄膜層の膜厚が均一であることが求められている。
この膜厚の均一化という観点からすると、一般的に、液滴吐出法によって形成された有機薄膜層よりも、スピンコート法などのコート法を用いて成膜した有機薄膜層の方が、膜厚の均一化を図ることができるといわれており、複数の有機薄膜層におけるいくつかの層をコート法で形成することが検討されていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１３９３７８号公報
【特許文献２】特開平１１−１２１１７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、液滴吐出法と、コート法とを組み合わせて、表示品質の優れた光学装置を製造することは困難であるという課題があった。例えば、コート法により、最も膜厚の均一化が要求される発光層を、特許文献１における隔壁の上面に形成されたフッ素系の撥液層を覆って成膜する場合、油性の溶液が撥液層ではじかれてしまい、塗布ムラや、充填不足が生じ、膜厚の均一化を図ることが困難であった。
また、特許文献２の記載のように、コート法を用いて正孔注入層を形成しようとしても、その材料特性から、クロストークが生じてしまい、やはり、コート法を用いることは困難であるという課題があった。詳しくは、上述の隔壁の上面に形成された撥液層を覆って正孔注入層を形成する場合、仮に、撥液層を覆って均一に成膜できたとしても、当該層の材料（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳなど）は、電気抵抗が低いため、撥液層上に形成された正孔輸送層における画素間の電気的干渉が生じてしまい、非発光部分が発光したり、非選択の隣の画素が発光したりするクロストークの原因となっていた。
つまり、複数の画素を備えた光学装置の製造方法において、効果的にコート法を活用する方法は、創案されていないという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、上記課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の適用例又は形態として実現することが可能である。
【０００７】
（適用例）
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、複数の画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、画素電極、および隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域に対して、有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、正孔注入層、および隔壁を覆って、有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【０００８】
この製造方法によれば、隔壁の上面に、撥水親油層を形成した後、液滴吐出法を用いて、区画領域ごとに、正孔注入層の溶液を塗布している。
前述したように正孔注入層は、一般的に電気抵抗が低く、スピンコート法で隔壁を覆って全面塗布するとクロストークの原因となるため、区画領域ごとに塗り分け可能な液滴吐出法を用いて塗布する方が適している。
このため、正孔注入層の形成工程では、液滴吐出法を用いており、水溶性の正孔注入層の溶液は、隔壁の上面に形成された撥水親油層の撥水機能によってはじかれて、画素間に塗布されることなく、区画領域ごとに塗り分けられる。
そして、発光層の溶液は、スピンコート法などのコート法を用いて、正孔注入層、および隔壁を覆って全面に塗布される。ここで、発光層の溶液は、油性であるため、隔壁の上面に形成された撥水親油層の親油機能によりはじかれることなく、コート法により、隔壁の上面も含めて塗布することができる。
つまり、撥水親油層の機能を使い分けることによって、コート法と液滴吐出法とのうち、各有機機能層の特性に応じた最適な方法を選択した製造方法となっている。
よって、この製造方法によって製造された光学装置は、クロストークの発生が低減されるとともに、各発光画素の発光輝度も均一化されている。
従って、適用例に係る光学装置の製造方法によれば、液滴吐出法とコート法とを組み合せることにより、優れた表示品質の光学装置を製造することができる。
【０００９】
換言すれば、液滴吐出法よりも均一な成膜が可能なコート法による発光層の形成を実現したことにより、当該層の膜厚の均一性が高められ、各画素の発光輝度の均一化が図られるため、光学装置の表示品質を高めることができる。
従って、コート法を効果的に活用した光学装置の製造方法を提供することができる。
【００１０】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、基板上に、発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、複数の画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、画素電極、および隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域に対して、有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、正孔注入層、および隔壁を覆って、有機機能層としての正孔輸送層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、隔壁の上面における正孔輸送層の上に、撥水撥油層を形成する工程と、区画領域ごとに、有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【００１１】
また、コート法は、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法のいずれかであることが好ましい。
また、撥水親油層は、隔壁の上面に、撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることが好ましい。
また、撥水親油層は、アクリル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリスチレン、スチレン／アクリル共重合体、水添石油樹脂、ケトン樹脂、セルロース系樹脂のいずれかであることが好ましい。
また、正孔注入層を構成する材料は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含むとともに、材料を含有した溶液は、水性溶液であり、発光層を構成する材料を含有した溶液は、油性溶液であることが好ましい。
また、蒸着法により、発光層を覆って、有機機能層としての電子注入層を形成する工程と、蒸着法により、電子注入層を覆って、共通陰極を形成する工程とを、さらに含むことが好ましい。
また、正孔輸送層を構成する材料を含有した溶液は、油性溶液であり、撥水撥油層は、隔壁の上面に、フッ素系の撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることが好ましい。
【００１２】
有機材料を含む複数の色フィルターが形成された光学装置の製造方法であって、基板上に、複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、複数の区画領域に対して、有機材料を含有した複数の色フィルターごとの水性溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、複数の色フィルター、および隔壁を覆って、光透過性を有する保護コート層を構成する材料を含有した油性溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【００１３】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、基板上に形成された発光画素の開口部となる画素電極と、複数の画素電極を区画する隔壁と、隔壁の上面に形成された撥水親油層と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域ごとに形成された有機機能層としての正孔注入層と、正孔注入層、および隔壁を覆って形成された有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
【００１４】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、基板上に形成された発光画素の開口部となる画素電極と、複数の画素電極を区画する隔壁と、隔壁の上面に形成された撥水親油層と、隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、区画領域ごとに形成された有機機能層としての正孔注入層と、正孔注入層、および隔壁を覆って形成された有機機能層としての正孔輸送層と、隔壁の上面における正孔輸送層の上に形成された撥水撥油層と、区画領域ごとに形成された、有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
【００１５】
上記記載の光学装置を表示部に備えたことを特徴とする電子機器。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】実施形態１に係る表示装置の一態様を示す斜視図。
【図２】図１のｉ−ｉ断面における表示パネルの側断面図。
【図３】（ａ）素子基板の平面図、（ｂ）（ａ）のｊ−ｊ断面における側断面図。
【図４】表示パネルの製造工程を示すフローチャート図。
【図５】（ａ）〜（ｃ）製造工程における一態様を示す図。
【図６】（ａ），（ｂ）製造工程における一態様を示す図。
【図７】（ａ）実施形態２における素子基板の平面図、（ｂ）（ａ）のｋ−ｋ断面における側断面図。
【図８】表示パネルの製造工程を示すフローチャート図。
【図９】（ａ）〜（ｃ）製造工程における一態様を示す図。
【図１０】電子機器としての携帯電話を示す斜視図。
【図１１】変形例２に係る素子基板の平面図。
【図１２】（ａ）変形例３に係る光学装置としてのＣＦ基板の平面図、（ｂ）（ａ）のｍ−ｍ断面における側断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下の各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならしめてある。
【００１８】
（実施形態１）
「表示装置の概要」
図１は、本実施形態に係る表示装置の一態様を示す斜視図である。
まず、本発明の実施形態１に係る電気光学装置としての表示装置１００の概要について説明する。
【００１９】
表示装置１００は、有機ＥＬ表示装置であり、表示パネル１８、フレキシブル基板２０などから構成されている。表示パネル１８は、素子基板１と対向基板１７との間に、発光層を含む複数層の有機機能層を挟持したトップエミッション型の有機ＥＬ表示パネルであり、対向基板１７側から表示光を出射する。
表示パネル１８は、マトリックス状に配置された複数の画素からなる表示領域Ｖを備えている。図１の右上に拡大して示すように、表示領域Ｖには、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各色画素が周期的に配置されており、各画素が出射する表示光によりフルカラーの画像が表示される。なお、各画素は発光画素であるが、画素と称する。また、カラー表示を行う表示パネルに限定するものではなく、トップエミッション型の有機ＥＬ表示パネルであれば良く、例えば、モノクロ表示を行う表示パネルであっても良い。
表示領域Ｖは、縦長の長方形をなしており、図１を含む各図においては、当該縦方向をＹ軸方向とし、縦方向よりも短い横方向をＸ軸方向と定義している。また、表示パネル１８の厚さ方向をＺ軸方向としている。また、Ｙ軸（＋）、（−）方向を上下方向とし、Ｘ軸（＋）、（−）方向を左右方向としている。
【００２０】
詳しくは後述するが、表示装置１００は、素子基板１側に略白色光を出射する複数の画素を形成し、対向基板１７側に赤緑青の各色カラーフィルターを配置することにより、ＲＧＢの各色画素を形成した、「白色発光＋カラーフィルター方式」によるトップエミッション型の有機ＥＬ表示パネルである。
従来、これらの画素における発光輝度の均一化を図るために、液滴吐出法よりも、有機薄膜層の膜厚の均一化を図ることができるコート法を用いることが検討されていたが、有効な製造方法は見当たらなかった。
これに対して、表示装置１００の製造方法によれば、後述の特徴ある構成、および方法によって、液滴吐出法とコート法とを組み合せることを実現し、優れた表示品質の光学装置を製造することができる。
【００２１】
また、表示パネル１８において、素子基板１が対向基板１７から張出した張出し領域には、フレキシブル基板２０が接続されている。なお、フレキシブル基板とは、例えば、ポリイミドフィルムの基材に鉄箔の配線などが形成された柔軟性を有するフレキシブルプリント回路基板の略称である。また、フレキシブル基板２０には、駆動用ＩＣ（Integrated Circuit）２１が実装され、その端部には、専用のコントローラーや、外部機器（いずれも図示せず）と接続するための複数の端子が形成されている。
表示パネル１８は、フレキシブル基板２０を介して、外部機器から電力や画像信号を含む制御信号の供給を受けることにより、表示領域Ｖに画像や文字などを表示する。
【００２２】
「表示パネルの概略構成」
図２は、図１のｉ−ｉ断面における側断面図である。
続いて、表示パネル１８の概略構成について説明する。
表示パネル１８は、素子基板１、素子層２、平坦化層４、反射層５、画素電極６、隔壁７、電気光学層としての有機ＥＬ層８、共通電極９、電極保護層１０、緩衝層１１、ガスバリア層１２、充填剤１３、ＣＦ層１４、対向基板１７などから構成されている。また、素子基板１と対向基板１７とに挟持された部位のことを機能層１６という。換言すれば、素子層２からＣＦ層１４までの積層構造を機能層１６という。
素子基板１は、無機ガラスから構成されている。本実施形態では、好適例として、無アルカリガラスを用いている。なお、この構成に限定するものではなく、樹脂基板を用いても良い。また、トップエミッション型であるため、光透過性が低い材料を用いても良く、例えば、金属基板を用いる構成であっても良い。
素子層２には、各画素をアクティブ駆動するための画素回路が形成されている。画素回路には、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）からなる画素を選択するための選択トランジスターや、有機ＥＬ層８に電流を流すための駆動トランジスター３などが含まれており、画素ごとに対応して形成されている。なお、画素回路は、好適例として、活性層に低温ポリシリコンを用いているが、アモルファスシリコンを活性層として用いた構成であっても良い。
【００２３】
素子層２の上層（Ｚ軸（−）方向）には、例えば、アクリル樹脂などからなる絶縁層である平坦化層４が形成されている。
平坦化層４の上層には、画素ごとに区画されて、反射層５と、画素電極６とがこの順番で積層されている。
反射層５は、例えば、アルミニウムなどの反射性を有する金属からなる反射層であり、有機ＥＬ層８から素子基板１側に向かう光を反射して、表示に寄与する光にする。
画素電極６は、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）や、ＺｎＯなどの透明電極から構成されており、画素ごとに素子層２の駆動トランジスター３のドレイン端子と平坦化層４を貫通するコンタクトホールにより接続されている。なお、本実施形態では、好適例として、反射層５と画素電極６との間に、ＳｉＯ2などの透明な無機絶縁層を介在させているが、この構成に限定するものではなく、反射電極として機能する構成であれば良い。例えば、反射層５を省略して、画素電極６のみをアルミニウムなどの反射性の導電材料によって形成することであっても良い。または、無機絶縁層を介在させることなく、反射層５の上に、画素電極６を直接形成することであっても良い。
【００２４】
隔壁７は、光硬化性の黒色樹脂などから構成され、平面的に各画素を格子状に区画している。なお、素子層２における駆動トランジスター３を含む画素回路は、光による誤動作を防止するために、平面的に隔壁と重なるように配置されている。
なお、図２では、好適例として有機材料からなる隔壁７（第１隔壁）によるシングルバンク構成としているが、例えば、さらに無機材料からなる低い隔壁（第２隔壁）を備えたダブルバンク構成としても良い。ダブルバンク構成の場合、隔壁７（第１隔壁）の下層に、画素電極６の周縁部を覆うＳｉＯ2などの無機材料膜からなる第２隔壁を形成し、第２隔壁から露出した部分が開口部となる。
【００２５】
また、隔壁７の上面には、本発明における特徴ある構成の一つである撥水親油層が形成されているが図２では、省略している。
複数層の有機機能層としての有機ＥＬ層８は、正孔注入層や、発光層などを含む複数の有機機能層から形成された有機ＥＬ発光層である。図２において、有機ＥＬ層８は、画素電極６、および隔壁７を覆う一層の構成となっているが、実際は、各部位を覆って形成された有機薄膜層と、隔壁７で区画された区画領域内に形成された有機薄膜層とが、混在した状態となっている。
好適例における有機ＥＬ層８は、正孔注入層と、発光層と、電子注入層とを、この順番に積層した構成となっている。または、正孔注入層と発光層との間に、正孔輸送層をさらに備えた構成であっても良い。
【００２６】
好適例における正孔注入層の材料としては、例えば、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）等のポリチオフェン誘導体にドーパントとしてのポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）を加えた混合物（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を用いる。また、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体を用いてもよい。
好適例における正孔輸送層（中間層）の材料としては、例えば、正孔輸送性が良好なポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、トリフェニルアミン系ポリマーを用いても良い。
【００２７】
発光層の材料としては、略白色の蛍光、または燐光を発光する発光材料を用いることが好ましい。または、有機ＥＬ層８Ｒ，８Ｇ，８Ｂごとに、赤色、緑色、青色の蛍光、または燐光を発光する発光材料を用いても良い。
好適例としては、略白色、赤色、緑色、青色に対応したポリオレフィン系ポリマー蛍光材料を用いる。または、ポリフルオレン誘導体（ＰＦ）、ポリパラフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリフェニレン誘導体（ＰＰ）、ポリパラフェニレン誘導体（ＰＰＰ）、ポリビニルカルバゾール（ＰＶＫ）等のポリチオフェニレン誘導体、ポリメチルフェニレンシラン（ＰＭＰＳ）などを用いても良い。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素等の高分子材料や、ルブレン、ペリレン、９，１０−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン６、キナクドリン等低分子材料をドープしてもよい。
電子注入層の材料としては、仕事関数が小さい材料が好ましく、好適例では、例えば、カルシウムを用いる。
【００２８】
共通陰極としての共通電極９は、ＭｇＡｇなどの金属を、光を透過するようにごく薄く成膜した金属薄膜層であり、全画素に跨る有機ＥＬ層８を覆って形成されている。
陰極保護層としての電極保護層１０は、ＳｉＯ2や、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯｘＮｙなどの高密度で、かつ、透明性の高い材質から構成されており、共通電極９を覆って形成することにより、有機ＥＬ層８へ水分などが浸入することを防止している。
緩衝層１１は、熱硬化性のエポキシ樹脂などの透明な有機緩衝層である。
ガスバリア層１２は、電極保護層１０と同様な材質で構成されたガスバリア層であり、緩衝層１１をさらに覆って形成することにより、有機ＥＬ層８を含む内部の積層構造への水分などの浸入を防止している。
充填剤１３は、例えば、熱硬化性のエポキシ樹脂などからなる透明な接着層であり、ガスバリア層１２とＣＦ層１４との間の凹凸面に充填されるとともに、両者を接着する。また、表示パネル１８の周縁部から、有機ＥＬ層８を含む内部の積層構造への水分などの浸入を防ぐ機能も果たす。
【００２９】
対向基板１７は、透明な無機ガラスから構成されており、好適例として、無アルカリガラスを用いている。また、対向基板１７における有機ＥＬ層８側（Ｚ軸（＋）側）には、ＣＦ層１４が形成されている。
ＣＦ層１４には、赤色カラーフィルター１４ｒ、緑色カラーフィルター１４ｇ、青色カラーフィルター１４ｂが画素配置と同様に配置されている。詳しくは、各色のカラーフィルターは、それぞれが対応する画素電極６と重なるように配置されており、各カラーフィルター間には、ハッチングで示した遮光部が形成されている。遮光部は、平面的に隔壁７と重なるように格子状に形成されており、光学的には、ブラックマトリックスの機能を果たす。
そして、対向基板１７と素子基板１とは、対向基板１７の周縁部に形成されたシール剤１５によって接着および封止されている。シール剤１５としては、エポキシ系の接着剤や、紫外線硬化樹脂などを用いる。
【００３０】
このように構成された各画素からは、カラーフィルターの色調に対応した表示光が出射される。例えば、赤色画素の場合、有機ＥＬ層８で放射された白色光は、赤色カラーフィルター１４ｒによって赤色光が選択されて、赤色の表示光として対向基板１７から出射される。また、緑色、青色の画素においても同様である。
これにより、表示領域Ｖでは、対向基板１７から出射される複数のカラー画素からの表示光によりフルカラーの画像が表示されることになる。
【００３１】
「素子基板の詳細な構造」
図３（ａ）は素子基板１の平面図であり、（ｂ）は（ａ）のｊ−ｊ断面における側断面図である。
ここでは、素子基板１の平面レイアウト、および有機ＥＬ層８を含む積層構造について、詳細に説明する。
図３（ａ）は、電極保護層１０までが形成された状態の素子基板１の平面図である。当該図に示すように、隔壁７によって格子状に区画された複数の領域の各々を区画領域（画素）Ｐとしており、各区画領域Ｐには、Ｙ軸方向に長い楕円状の画素電極６が配置されている。なお、画素電極６の平面形状は、楕円状に限定するものではなく、トラック形状や、長方形、円であっても良い。
【００３２】
図３（ｂ）は、（ａ）のｊ−ｊ断面における側断面図であり、１つの画素を長手方向（Ｙ軸方向）に沿って切断した状態を示している。
当該図に示すように、有機ＥＬ層８は、正孔注入層８１、発光層８３、電子注入層８４から構成されている。
正孔注入層８１は、液滴吐出法により、区画領域Ｐごとに形成されている。
発光層８３は、略白色光を放射する発光層であり、スピンコート法により、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って形成されている。
ここで、隔壁７の上面には、本発明における特徴ある構成の一つである撥水親油層３１が形成されている。撥水親油層３１は、水性溶液をはじいて、油性溶液になじむ機能を有している。
電子注入層８４は、真空蒸着法により、発光層８３を覆って全面に形成されている。
このように、有機ＥＬ層８は、区画領域Ｐ内に形成された正孔注入層８１と、隔壁７を含む各部を覆って形成された発光層８３、および電子注入層８４とが、混在した積層構造となっている。
また、図２で説明した通り、電子注入層８４の上には、共通電極９と電極保護層１０とが、この順番で、それぞれ全面に形成されている。
【００３３】
「表示パネルの製造方法」
図４は、表示パネルの製造工程を示すフローチャート図である。図５（ａ）〜（ｃ）は、製造工程における一態様を示す図である。図６（ａ），（ｂ）は、製造工程における一態様を示す図である。
ここでは、表示パネル１８の製造方法について、有機ＥＬ層８の工程を中心に説明する。
【００３４】
まず、ステップＳ１では、フォトリソ法、蒸着法、ＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）法などの周知の製造方法を用いて、画素電極６までが作り込まれた素子基板１を形成する。換言すれば、画素電極６までが形成された素子基板１を準備する。
ステップＳ２では、フォトリソ法を用いて、格子状の隔壁７を形成する。詳しくは、前述した光硬化性の樹脂を素子基板１の全面にスピンコート法などにより塗布した後、格子状のマスクを用いて露光し、現像することによって格子状の隔壁７を形成する。なお、好適例では、黒色の光硬化性樹脂を用いている。
これにより、図３（ａ）に示すように、複数の画素電極６を１つずつに区画する隔壁７が形成される。換言すれば、表示領域Ｖを複数の区画領域Ｐに区画する隔壁７が形成される。
ステップＳ３では、画素電極６、および隔壁７を含む表示領域Ｖの露出面に親液化処理を施す。詳しくは、大気雰囲気中で酸素を処理ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラズマ処理）を行う。この処理により、画素電極６、および隔壁７を含む表示領域Ｖの露出面に水酸基が導入されて親液性が付与される。この状態が、図５（ａ）に示されている。
【００３５】
ステップＳ４では、図５（ｂ）に示すように、素子基板１上に、転写フィルム１３０を重ねた状態（準備体）とし、転写法を用いて、隔壁７の上面に撥水親油膜を形成する。
ここで、転写フィルム１３０は、基材となる樹脂フィルム上の一面に、撥水親油膜１３１を形成（塗布）したフィルム部材である。樹脂フィルムとしては、ポリオレフィン系フィルム、ポリスチレン系フィルム、ナイロン系フィルム、フッ素樹脂フィルムなどを用いることができる。また、撥水親油膜１３１としては、アクリル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリスチレン、スチレン／アクリル共重合体、水添石油樹脂、ケトン樹脂、セルロース系樹脂のいずれかを用いることができる。
本実施形態では、好適例として、樹脂フィルムとして、厚さ約２０μｍのポリエチレンテレフタレート（PET）製のフィルムを用い、当該フィルム上に、撥水親油膜１３１を約８０ｎｍの厚さで形成したものを転写フィルム１３０としている。
【００３６】
そして、当該図に示すように、隔壁７面を上にした状態の素子基板１上に、撥水親油膜１３１側を下にして転写フィルム１３０を重ねて準備体としている。
本実施形態では、好適例として、この準備体をラミネート装置でラミネートすることにより、隔壁７の上面に撥液層を選択的に形成する。なお、図５（ｂ）では、ラミネート装置における伝熱性のあるシリコンゴムなどのエラストマーから構成された加圧ローラー６１，６２のみを図示している。また、ラミネートは転写法の一種である。具体的なラミネート条件としては、加圧ローラー６１，６２の温度を約１３０℃とし、準備体の搬送速度（ラミネート速度）を０．５ｍ／ｍｉｎとした。
なお、ローラーを用いたラミネート法に限定するものではなく、隔壁７の上面に撥液層を選択的に形成することが可能な転写法であれば良い。例えば、準備体の上方から加熱した平板を押し当てて、隔壁７の上面に撥液層を選択的に形成する方法であっても良い。
これにより、図５（ｃ）に示すように、隔壁７の上面に選択的に撥水親油層３１が形成されることになる。なお、この撥水親油層３１は、撥水親油膜１３１の一部が転写されたものである。
また、隔壁７の上面とは、下底が長く、上底が短い略台形状をなした隔壁７の断面形状における上底のことを指しており、実際は、曲面を含んだ凸状となっている。
【００３７】
ステップＳ５では、液滴吐出法（インクジェット法）を用いて、各区画領域Ｐ内に、正孔注入層８１を形成する。なお、正孔注入層８１の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
まず、溶液の塗布工程では、液滴吐出装置を用いて、区画領域Ｐごとに、正孔注入層８１を構成する材料を含有した水性溶液を吐出する。なお、インクジェット法に限定するものではなく、所定の位置に溶液を吐出可能な塗布方法であれば良い。例えば、ジェットディスペンサー法や、ニードルディスペンサー法などのディスペンサー法を用いても良い。
図５（ｃ）には、液滴吐出装置のノズル５１０から溶液ｄ１が吐出されて、区画領域Ｐ内に着弾し、凸状（水玉状）の溶液溜りｕ１となった状態が示されている。
ここで、溶液溜りｕ１が凸状となるのは、区画領域Ｐの底部を形成する画素電極６などが親液性を有するとともに、撥水親油層３１が水性の溶液に対して撥液性を有しているからであり、充填された溶液は、その表面張力によって水玉状の膨らみを持って区画領域Ｐに溜まることになる。
【００３８】
乾燥工程では、真空乾燥と熱処理を行う。まず、溶液が塗布された状態の素子基板１を真空チャンバーに移して、真空乾燥を行う。これにより、溶液中の溶媒の沸点が下がり、当該溶媒が低温で蒸発することになるため、溶質が析出して正孔注入層が形成される。さらに、残存する溶媒を除去するために熱処理を行う。好適例では、窒素ガス雰囲気下において、約２００℃で約１０分間の熱処理を行う。
なお、乾燥工程において、素子基板１を加熱しても良い。例えば、当該基板をホットプレート上に載せて加熱する方法や、表示領域Ｖの上方から赤外線ランプを照射する方法などを採用することができる。また、これらの方法を組み合せても良い。このような方法によれば、より効率的に乾燥を行うことができる。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図５（ｃ）において点線で示すように、区画領域Ｐの底部に、画素電極６を覆う正孔注入層８１が形成される。
【００３９】
ステップＳ６では、スピンコート法を用いて、正孔注入層８１、および隔壁７を覆う発光層８３を形成する。なお、発光層８３の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
まず、溶液の塗布工程では、スピンコート法により、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って、発光層８３を構成する材料を含有した油性溶液を塗布する。
ここで、隔壁７の上面に形成されている撥水親油層３１は、油性溶液になじむため、発光層の溶液をはじくことなく隔壁７を覆って、スピンコート法による略均一な膜厚の発光層８３を形成することができる。なお、上記説明では、好適例としてスピンコート法を用いているが、スピンコート法に限定するものではなく、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法などのコート法を用いても良い。
また、乾燥工程は、ステップＳ５での説明と同様である。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図６（ａ）に示すように、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って、全面に発光層８３が形成される。
【００４０】
ステップＳ７では、真空蒸着法を用いて、発光層８３を覆って、カルシウムからなる電子注入層８４を形成する。
ステップＳ８では、真空蒸着法を用いて、電子注入層８４を覆って、ＭｇＡｇからなる共通電極９を形成する。
ステップＳ９では、ＣＶＤ法を用いて、共通電極９を覆って、ＳｉＯ2からなる電極保護層１０を形成する。この状態が図６（ｂ）に示されている。なお、図６（ｂ）は、図３（ｂ）と同一図面である。
【００４１】
また、ステップＳ９に続けて、スピンコート法や、ＣＶＤ法などを用いて、熱硬化性のエポキシ樹脂からなる緩衝層１１や、ＳｉＯ2からなるガスバリア層１２などを形成して、図２に示す、素子基板１が完成する。
そして、積層構造が完成した素子基板１と別途製造された対向基板１７とを充填剤１３や、シール剤１５を用いて貼り合せて、表示パネル１８が完成する。
【００４２】
「好適例における寸法」
上述した好適例による各部の寸法について、図３を用いて紹介しておく。
まず、区画領域の「長さ（Ｙ軸方向）×幅（Ｘ軸方向）」を「約３００μｍ×約１５０μｍ」とした。
また、画素電極６の長さを約２００μｍとし、幅を約１００μｍとした。
また、隔壁７の高さ（厚さ）を約３μｍとした。
また、撥水親油層３１の厚さを約８０ｎｍとした。
【００４３】
上述した通り、本実施形態に係る表示装置１００、および製造方法によれば、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、隔壁７の上面に、撥水親油層３１を形成した後、液滴吐出法を用いて、区画領域Ｐごとに、正孔注入層８１の溶液を塗布している。
前述したように、正孔注入層８１は、一般的に電気抵抗が低く、スピンコート法を用いて、隔壁７を覆って全面塗布するとクロストークの原因となるため、区画領域ごとに塗り分け可能な液滴吐出法を用いて塗布する方が適している。
このため、正孔注入層８１の形成工程では、液滴吐出法を用いており、水溶性の正孔注入層の溶液は、隔壁７の上面に形成された撥水親油層３１の撥水機能によってはじかれて、画素間に塗布されることなく、区画領域Ｐごとに塗り分けられる。
そして、発光層の溶液は、液滴吐出法よりも均一な膜圧が得られるスピンコート法を用いて、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って全面に塗布される。ここで、発光層の溶液は、油性であるため、隔壁７の上面に形成された撥水親油層３１の親油機能によりはじかれることなく、スピンコート法により、隔壁７の上面も含めて塗布することができる。
つまり、撥水親油層３１の機能を使い分けることによって、スピンコート法と液滴吐出法とのうち、各有機機能層の特性に応じた最適な方法を選択した製造方法となっている。
よって、この製造方法によって製造された表示装置１００は、クロストークの発生が低減されるとともに、各発光画素の発光輝度も均一化されている。
従って、本実施形態に係る製造方法によれば、液滴吐出法とコート法とを組み合せることにより、優れた表示品質の表示装置１００を製造することができる。
【００４４】
換言すれば、コート法による発光層８３の形成を実現したことにより、当該層の膜厚の均一性が高められ、各画素の発光輝度の均一化が図られるため、表示装置１００の表示品質を高めることができる。
従って、コート法を効果的に活用した表示装置１００の製造方法を提供することができる。
【００４５】
（実施形態２）
図７（ａ）は、実施形態２に係る素子基板の平面図であり、図３（ａ）に対応している。図７（ｂ）は（ａ）におけるｋ−ｋ断面の断面図であり、図３（ｂ）に対応している。
以下、本発明の実施形態２に係る表示装置について説明する。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
【００４６】
本実施形態の表示装置は、実施形態１の素子基板１とは、異なる構成の素子基板１ｂを備えている。詳しくは、有機ＥＬ層８が正孔輸送層８２を加えた構成となっている点が、実施形態１の素子基板１とは異なる。また、当該構成の変更に伴い製造方法の一部も異なっている。それ以外は、実施形態１での説明と略同様である。なお、素子基板１ｂとは、本実施形態における素子基板１上に形成された複数層の積層構造体の全体を指している。
まず、図７（ａ）に示された素子基板１ｂの平面態様は、図３（ａ）の実施形態１の平面態様と同様である。
また、図７（ｂ）は図３（ａ）におけるｊ−ｊ断面と同一部分の断面図であり、当該図に示すように、実施形態２に係る有機ＥＬ層８は、正孔注入層８１、正孔輸送層８２、発光層８３、電子注入層８４から構成されている。
【００４７】
正孔注入層８１は、実施形態１と同様に、液滴吐出法により、区画領域Ｐごとに形成されている。
そして、正孔輸送層８２は、コート法により、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って形成されている。
また、発光層８３は、ＲＧＢの色光ごとの発光層が、液滴吐出法により、区画領域Ｐごとに形成されている。
ここで、隔壁７の上面には、実施形態１と同様に撥水親油層３１が形成されている。また、本実施形態では、隔壁７の上面における正孔輸送層８２上に、撥水撥油層３２がさらに形成されている点が、実施形態１と異なっている。
また、電子注入層８４は、真空蒸着法により、発光層８３、および隔壁７を覆って全面に形成されている。
このように、有機ＥＬ層８は、区画領域Ｐ内に形成された正孔注入層８１、および発光層８３と、隔壁７を含む各部を覆って形成された正孔輸送層８２、および電子注入層８４とが、混在した積層構造となっている。また、これらの積層構造以外は、実施形態１での構成と同様である。
【００４８】
「表示パネルの製造方法」
図８は、実施形態２に係る表示パネルの製造工程を示すフローチャート図であり、図４に対応している。図９（ａ）〜（ｃ）は、製造工程における一態様を示す図であり、図５，６に対応している。
ここでは、表示パネル１８の製造方法について、有機ＥＬ層８の工程を中心に説明する。なお、図４の工程と同一の工程については、重複する説明は省略する。
【００４９】
まず、ステップＳ１１の画素電極形成工程から、ステップＳ１５の正孔注入層形成工程までは、図４のステップＳ１〜ステップＳ５までの各工程と同一である。
ステップＳ１６では、スピンコート法を用いて、正孔注入層８１、および隔壁７を覆う正孔輸送層８２を形成する。なお、正孔輸送層８２の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
まず、溶液の塗布工程では、スピンコート法により、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って、正孔輸送層８２を構成する材料を含有した油性溶液を塗布する。
ここで、隔壁７の上面に形成されている撥水親油層３１は、油性溶液になじむため、正孔輸送層の溶液をはじくことなく隔壁７を覆って、スピンコート法による略均一な膜厚の正孔輸送層８２を形成することができる。なお、スピンコート法に限定するものではなく、他のコート法を用いても良いことは、実施形態１での説明と同様である。
また、乾燥工程は、実施形態１での説明と同様である。詳しくは、真空乾燥と熱処理を行う。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図９（ａ）に示すように、正孔注入層８１、および隔壁７を覆って、全面に正孔輸送層８２が形成される。なお、正孔輸送層８２には、均一な絶縁性が要求されるため、有機ＥＬ層８において、発光層８３に次いで、膜厚の均一性が求められている。
【００５０】
ステップＳ１７では、素子基板１上に、転写フィルムを重ねた状態とし、転写法を用いて、隔壁７の上面に撥水撥油層３２を形成する。転写フィルムは、基材となる樹脂フィルム上の一面に、撥水撥油膜を形成（塗布）したフィルム部材である。
なお、具体的には、図５（ｂ）で説明したラミネート法を用いて、図９（ｂ）に示すように、隔壁７の上面における正孔輸送層８２上に、撥水撥油層３２を形成する。転写フィルムの材質や、ラミネート条件については、実施形態１での説明と同様である。
また、撥水撥油膜としては、フッ素系化合物、またはケイ素系化合物を含有した撥液剤を用いることができる。本実施形態では、好適例として、住友スリーエム社製のノベック（登録商標）EGC-1720を用いている。
【００５１】
ステップＳ１８では、液滴吐出法（インクジェット法）を用いて、各区画領域Ｐ内に、発光層８３を形成する。なお、発光層８３の形成工程は、溶液の塗布工程と、乾燥工程とを含んでいる。
溶液の塗布工程では、液滴吐出装置を用いて、区画領域Ｐごとに、発光層８３を構成する材料を含有した油性溶液を吐出する。詳しくは、図７（ａ）に示すように、画素列ごとにＲＧＢの各色に対応した溶液を塗布する。なお、インクジェット法に限定するものではなく、所定の位置に溶液を吐出可能な塗布方法であれば良いことは、実施形態１での説明と同様である。
図９（ｂ）には、液滴吐出装置のノズル５２０から溶液ｄ２が吐出されて、区画領域Ｐ内に着弾し、凸状（水玉状）の溶液溜りｕ２となった状態が示されている。
ここで、溶液溜りｕ２が凸状となるのは、撥水撥油層３２が油性の溶液に対して撥液性を有しているからであり、充填された溶液は、その表面張力によって水玉状の膨らみを持って区画領域Ｐに溜まることになる。
また、乾燥工程については、実施形態１（ステップＳ５）での説明と同様である。
乾燥工程が終了すると、溶液中の溶媒が飛ばされて、図９（ｂ）において点線で示すように、区画領域Ｐの底部側における正孔輸送層８２の上に、発光層８３が形成される。
【００５２】
ステップＳ１９では、真空蒸着法を用いて、発光層８３、および隔壁７を覆って、カルシウムからなる電子注入層８４を形成する。
そして、ステップＳ２０の共通電極形成工程、およびステップＳ２１の電極保護層形成工程は、図４のステップＳ８〜ステップＳ９の各工程と同一である。
また、ステップＳ２１に続けて、緩衝層１１や、ガスバリア層１２などを形成して素子基板１ｂが完成すること、および別途製造された対向基板１７を充填剤１３や、シール剤１５を用いて貼り合せて、表示パネル１８が完成することなども、実施形態での説明と同様である。
【００５３】
なお、図２において、実施形態２の素子基板１ｂを適用すると、ＲＧＢの各色を発光する画素に、さらにＲＧＢの各色カラーフィルターを被せた構成となるが、この構成によれば、高いコントラストを確保することができる。詳しくは、トップエミッション型である表示パネル１８は、対向基板１７から入射する外光が反射層５で反射された反射光によって、コントラストが低下してしまうという問題を有しているが、カラーフィルターを備えることによって、発光色以外の反射率を抑えられるため、高コントラストを確保することが可能となる。
また、表示パネル１８の形式としては、トップエミッション型に限定するものではなく、ボトムエミッション型として構成しても良い。この構成の場合、反射層５を削除し、共通電極９を反射性に優れたアルミニウムなどから構成された反射電極とすれば良い。
これによれば、素子基板１側からＲＧＢの各色の表示光を出射するボトムエミッション型の表示パネルを構成することができる。
【００５４】
上述した通り、本実施形態に係る光学装置、および製造方法によれば、実施形態１の効果に加えて、以下の効果を得ることができる。
この製造方法によれば、撥水親油層３１と、撥水撥油層３２とが有する機能を使い分けることにより、有機ＥＬ層８の中でも膜厚の均一性が求められる正孔輸送層８２を、液滴吐出法よりも均一な膜圧が得られるスピンコート法を用いて形成している。また、スピンコート法を用いて形成するとクロストークが発生する恐れがある正孔注入層８１を、区画領域Ｐごとに塗り分け可能な液滴吐出法を用いて形成している。
つまり、撥水親油層３１と、撥水撥油層３２とを効果的に使い分けることにより、コート法と液滴吐出法とのうち、各有機機能層の特性に応じた最適な方法を選択した製造方法となっている。
よって、この製造方法によって製造された表示装置は、クロストークの発生が低減されるとともに、各発光画素の発光輝度も均一化されている。
従って、本実施形態に係る製造方法によれば、液滴吐出法とコート法とを組み合せることにより、優れた表示品質の表示装置を製造することができる。
【００５５】
（電子機器）
図１０は、上述の表示装置を搭載した携帯電話を示す斜視図である。
上述した表示装置１００は、例えば、電子機器としての携帯電話２００に搭載して用いることができる。
携帯電話２００は、本体部３５０と、当該本体部に対して開閉自在に設けられた表示部３７０とを備えるとともに、実施形態１に係る表示装置１００を内蔵している。詳しくは、表示装置１００は、表示部３７０に組み込まれており、表示パネル１８が表示画面となっている。また、本体部３５０には、複数の操作ボタンを有する操作部３６５が設けられている。
つまり、携帯電話２００は、優れた表示品質の表示装置１００を搭載している。従って、鮮明な表示画面を備えた携帯電話２００を提供することができる。
なお、表示パネル１８の素子基板には、実施形態２に係る素子基板１ｂを用いても良く、この場合であっても、同様な作用効果を得ることができる。
【００５６】
また、携帯電話の態様は、図１０に示した折畳み式に限定するものではなく、表示パネルを備えた携帯電話であれば良い。
例えば、本体部３５０に対して表示部３７０が折畳み、および旋回可能に設けられた携帯電話であっても良い。または、一体型の携帯電話や、一体型の本体部に操作部が収納されているスライド式の携帯電話であっても良い。
また、電子機器としては、携帯電話に限定するものではなく、液晶パネルを備えた電子機器であれば良い。
例えば、カーナビゲーションシステム用の表示装置や、ＰＤＡ（Personal Digital Assistants）、モバイルコンピューター、デジタルカメラ、デジタルビデオカメラ、車載機器、オーディオ機器などの各種電子機器に用いることができる。
これらの電子機器によれば、高品位の表示を得ることができる。
【００５７】
なお、本発明は上述した実施形態に限定されず、上述した実施形態に種々の変更や改良などを加えることが可能である。変形例を以下に述べる。
【００５８】
（変形例１）
図３（ｂ）、および図７（ｂ）を用いて説明する。
上記各実施形態では、有機ＥＬ層８の積層構造を正孔注入層８１、発光層８３、電子注入層８４からなる３層構造、または正孔注入層８１、正孔輸送層８２、発光層８３、電子注入層８４からなる４層構造として説明したが、この構成に限定するものではない。
例えば、正孔注入層と、発光層とからなる２層構成であっても良いし、発光層と、電子注入層との間に、さらに正孔阻害層を設けた構成であっても良い。
これらの構成であっても、各有機機能層の特性に応じて、撥水親油層の機能、または撥水撥油層との組み合せによる機能を効果的に使い分けることにより、コート法と液滴吐出法とのうち、最適な方法を選択した製造方法を実現することができる。
また、この製造方法であっても、上記各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
【００５９】
（変形例２）
図１１は、変形例２に係る素子基板の平面図であり、図３（ａ）に対応している。
上記各実施形態では、隔壁７によって、１つの画素電極６ごとに、１つの区画領域Ｐが形成されるものとして説明したが、この構成に限定するものではない。例えば、図１１に示すように、複数の画素電極６に対して、１つの区画領域Ｐが形成される隔壁７７構成であっても良い。
変形例２の素子基板５１は、実施形態１の隔壁７（図３）とは異なる隔壁７７を備えている。詳しくは、Ｙ軸方向に隣り合う２つの画素電極６に対して、１つの区画領域Ｐ（共通バンク）が形成される隔壁７７構成となっている。このため、区画領域Ｐの縦方向（Ｙ軸方向）の長さが、図３の区画領域Ｐに比べて長くなっている。この点以外は、実施形態１での説明と同様である。
【００６０】
この構成であっても、上記各実施形態における製造方法を適用可能であることから、上記各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
なお、２つの画素電極６に対して１つの区画領域Ｐが形成される構成に限定するものではなく、３つ以上の画素電極６に対して１つの区画領域Ｐが形成されることであっても良い。または、表示領域Ｖの周縁部では複数の画素電極６に対して１つの区画領域Ｐを形成し、中央部では１つの画素電極６に対して１つの区画領域Ｐを形成するというように、変化させても良い。これらの構成であっても、上記各実施形態と同様な作用効果を得ることができる。
【００６１】
（変形例３）
図１２（ａ）は、変形例３に係る光学装置としてのＣＦ基板の平面図であり、図３（ａ）に対応している。図１２（ｂ）は、（ａ）におけるｍ−ｍ断面の側断面図であり、図３（ｂ）に対応している。
上記各実施形態では、有機ＥＬパネルである表示パネル１８を用いて説明したが、光学装置としてのＣＦ基板１１５に適用することであっても良い。なお、実施形態１と同一の構成部位については、同一の番号を附し、重複する説明は省略する。
変形例３に係るＣＦ基板１１５は、液晶パネルや、トップエミッション型の有機ＥＬパネルに用いられるカラーフィルターが形成された基板である。このため、画素電極６や、素子層２（図２）などは、形成されていない。
【００６２】
ＣＦ基板１１５は、透明基板１１１、色フィルター層１８１、隔壁７、保護コート層１８５などから構成されている。
透明基板１１１は、透明性を有する無機、または有機基板である。
隔壁７は、ＣＦ基板１１５が組み込まれる液晶パネルの平面的な画素配置に対応して、各区画領域Ｐをマトリックス状に区画するように、格子状に形成されている。
色フィルター層１８１は、図１２（ａ）に示すように、ＲＧＢの各色の色フィルターが、区画領域Ｐ列ごとに周期的に繰り返す、縦ストライプに形成されている。
保護コート層１８５は、色フィルター層１８１、および隔壁７を覆って、全面に形成された透明樹脂からなる保護コート層である。
【００６３】
このＣＦ基板１１５の製造にも、実施形態１の製造方法の一部を適用することが可能である。以下、図４のフローチャートと比較しながら説明する。
詳しくは、まず、透明基板１１１上に、格子状の隔壁７を形成した後、図４のステップＳ３と同様に、透明基板１１１、および隔壁７の露出面に、親液化処理を施す。
次に、ステップＳ４と同様に、隔壁７の上面に、撥水親油層３１を形成する。
そして、ステップＳ５と同様に、区画領域Ｐごとに、各色の色フィルター層ごとの水性溶液を液滴吐出法により塗布し、乾燥する。
最後に、色フィルター層１８１、および隔壁７を覆って、光透過性を有する保護コート層１８５を構成する材料を含有した油性溶液をスピンコート法により塗布する。なお、スピンコート法に限定するものではなく、他のコート法を用いても良いことは、実施形態１での説明と同様である。
【００６４】
このように、撥水親油層３１の機能を効果的に活用することによって、水性溶液を用いる色フィルター層を液滴吐出法により各区画領域Ｐに塗り分けるとともに、油性溶液を用いる保護コート層をコート法により、全面に塗布することができる。
特に、従来、図１２（ｂ）の撥水親油層３１を、撥油性も有する撥水撥油層で構成する方法が一般的であったが、この構成の場合、保護コート層１８５を形成する前に、撥水撥油層を除去する必要があった。これに対して、変形例３の製造方法によれば、撥水親油層３１を除去することなく、保護コート層１８５を形成することが可能であるため、製造効率が良い。
従って、製造効率に優れたＣＦ基板１１５の製造方法を提供することができる。
【符号の説明】
【００６５】
１，５１…基板としての素子基板、６…画素電極、７，７７…隔壁、８…複数層の有機機能層としての有機ＥＬ層、９…共通陰極としての共通電極、１８…表示パネル、３１…撥水親油層、３２…撥水撥油層、８１…正孔注入層、８２…正孔輸送層、８３…発光層、８４…電子注入層、１００…光学装置としての表示装置、１１１…透明基板、１１５…光学装置としてのＣＦ基板、１８１…色フィルターとしての色フィルター層、１８５…保護コート層、２００…電子機器としての携帯電話、ｄ１，ｄ２…液滴、ｕ１，ｕ２…溶液溜り、Ｐ…区画領域、Ｖ…表示領域。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、
前記画素電極、および前記隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、
前記隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域に対して、前記有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って、前記有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項２】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、
前記画素電極、および前記隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、
前記隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域に対して、前記有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って、前記有機機能層としての正孔輸送層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、
前記隔壁の上面における前記正孔輸送層の上に、撥水撥油層を形成する工程と、
前記区画領域ごとに、前記有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記コート法は、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法のいずれかであることを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記撥水親油層は、前記隔壁の上面に、前記撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、前記フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記撥水親油層は、アクリル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリスチレン、スチレン／アクリル共重合体、水添石油樹脂、ケトン樹脂、セルロース系樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記正孔注入層を構成する材料は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含むとともに、前記材料を含有した前記溶液は、水性溶液であり、
前記発光層を構成する材料を含有した前記溶液は、油性溶液であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項７】
蒸着法により、前記発光層を覆って、前記有機機能層としての電子注入層を形成する工程と、
蒸着法により、前記電子注入層を覆って、共通陰極を形成する工程とを、さらに含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記正孔輸送層を構成する材料を含有した前記溶液は、油性溶液であり、
前記撥水撥油層は、前記隔壁の上面に、フッ素系の前記撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、前記フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることを特徴とする請求項２〜７のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項９】
有機材料を含む複数の色フィルターが形成された光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、
前記隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、複数の前記区画領域に対して、前記有機材料を含有した前記複数の色フィルターごとの水性溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、
前記複数の色フィルター、および前記隔壁を覆って、光透過性を有する保護コート層を構成する材料を含有した油性溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項１０】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、
基板上に形成された前記発光画素の開口部となる画素電極と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁と、
前記隔壁の上面に形成された撥水親油層と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域ごとに形成された前記有機機能層としての正孔注入層と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って形成された前記有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
【請求項１１】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、
基板上に形成された前記発光画素の開口部となる画素電極と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁と、
前記隔壁の上面に形成された撥水親油層と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域ごとに形成された前記有機機能層としての正孔注入層と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って形成された前記有機機能層としての正孔輸送層と、
前記隔壁の上面における前記正孔輸送層の上に形成された撥水撥油層と、
前記区画領域ごとに形成された、前記有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載の光学装置を表示部に備えたことを特徴とする電子機器。
【請求項１】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、
前記画素電極、および前記隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、
前記隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域に対して、前記有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って、前記有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項２】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記発光画素の開口部となる画素電極を形成する工程と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁を形成する工程と、
前記画素電極、および前記隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、
前記隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域に対して、前記有機機能層としての正孔注入層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って、前記有機機能層としての正孔輸送層を構成する材料を含有した溶液をコート法により塗布する工程と、
前記隔壁の上面における前記正孔輸送層の上に、撥水撥油層を形成する工程と、
前記区画領域ごとに、前記有機機能層としての発光層を構成する材料を含有した溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項３】
前記コート法は、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法、ディップコート法、フローコート法のいずれかであることを特徴とする請求項１または２に記載の光学装置の製造方法。
【請求項４】
前記撥水親油層は、前記隔壁の上面に、前記撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、前記フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項５】
前記撥水親油層は、アクリル樹脂、アクリルポリオール樹脂、ポリスチレン、スチレン／アクリル共重合体、水添石油樹脂、ケトン樹脂、セルロース系樹脂のいずれかであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項６】
前記正孔注入層を構成する材料は、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを含むとともに、前記材料を含有した前記溶液は、水性溶液であり、
前記発光層を構成する材料を含有した前記溶液は、油性溶液であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項７】
蒸着法により、前記発光層を覆って、前記有機機能層としての電子注入層を形成する工程と、
蒸着法により、前記電子注入層を覆って、共通陰極を形成する工程とを、さらに含むことを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項８】
前記正孔輸送層を構成する材料を含有した前記溶液は、油性溶液であり、
前記撥水撥油層は、前記隔壁の上面に、フッ素系の前記撥水親油層が形成されたフィルムをラミネートした後、前記フィルムを剥離することにより、転写形成されたものであることを特徴とする請求項２〜７のいずれか一項に記載の光学装置の製造方法。
【請求項９】
有機材料を含む複数の色フィルターが形成された光学装置の製造方法であって、
基板上に、前記複数の色フィルターを区画する隔壁を形成する工程と、
前記隔壁を含む露出部分に親液化処理を施す工程と、
前記隔壁の上面に、撥水親油層を形成する工程と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、複数の前記区画領域に対して、前記有機材料を含有した前記複数の色フィルターごとの水性溶液を液滴吐出法により塗布する工程と、
前記複数の色フィルター、および前記隔壁を覆って、光透過性を有する保護コート層を構成する材料を含有した油性溶液をコート法により塗布する工程と、を含むことを特徴とする光学装置の製造方法。
【請求項１０】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、
基板上に形成された前記発光画素の開口部となる画素電極と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁と、
前記隔壁の上面に形成された撥水親油層と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域ごとに形成された前記有機機能層としての正孔注入層と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って形成された前記有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
【請求項１１】
複数層の有機機能層を有する発光画素を複数備えた光学装置であって、
基板上に形成された前記発光画素の開口部となる画素電極と、
複数の前記画素電極を区画する隔壁と、
前記隔壁の上面に形成された撥水親油層と、
前記隔壁によって区画された複数の領域の各々を区画領域としたときに、前記区画領域ごとに形成された前記有機機能層としての正孔注入層と、
前記正孔注入層、および前記隔壁を覆って形成された前記有機機能層としての正孔輸送層と、
前記隔壁の上面における前記正孔輸送層の上に形成された撥水撥油層と、
前記区画領域ごとに形成された、前記有機機能層としての発光層と、を少なくとも有することを特徴とする光学装置。
【請求項１２】
請求項１０または１１に記載の光学装置を表示部に備えたことを特徴とする電子機器。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【公開番号】特開２０１１−９６３７５（Ｐ２０１１−９６３７５Ａ）
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２４６２１６（Ｐ２００９−２４６２１６）
【出願日】平成２１年１０月２７日（２００９．１０．２７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年５月１２日（２０１１．５．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１０月２７日（２００９．１０．２７）
【出願人】（０００００２３６９）セイコーエプソン株式会社 (51,324)
【Ｆターム（参考）】
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