印刷用凸版及びその印刷用凸版を用いた精密印刷製造物
【課題】凸版の低位部や凹部に有機発光材料のインキ液が流入しないように凸版の画線部である凸状部の頂部面はインキ液との親和性を有する層により形成し、凸版の非画線部である凸状部の頂部面より低位部及び凹部を形成する部分、即ち該凸状部を支持する支持体部分をインキ液に対して撥液性を有する層にて形成する。
【解決手段】凸状部を備えた印刷用凸版であって、該凸版の凸状部１Ａの被印刷物と接触する頂部面１Ｂは、有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層からなり、該頂部層１Ｂを支持する凸状部１Ａ又は該凸状部を含む凸状部形成材層は、前記塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層からなり、前記インキ液親和性樹脂層のインキ液濡れ接触角に対して、前記インキ撥液性層のインキ液濡れ接触角が少なくとも１０度以上大きい。
【解決手段】凸状部を備えた印刷用凸版であって、該凸版の凸状部１Ａの被印刷物と接触する頂部面１Ｂは、有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層からなり、該頂部層１Ｂを支持する凸状部１Ａ又は該凸状部を含む凸状部形成材層は、前記塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層からなり、前記インキ液親和性樹脂層のインキ液濡れ接触角に対して、前記インキ撥液性層のインキ液濡れ接触角が少なくとも１０度以上大きい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子など精密部品製造用の基板等の被印刷体に、インキ化した材料を印刷方式にてパターン印刷するために使用する印刷用凸版及びその印刷用凸版を用いて印刷された精密印刷製造物に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、有機ＥＬ素子は、二つの対向する電極基板の間に、有機発光材料からなる有機発光層を形成し、有機発光層に電流を流すことにより発光させるものであるが、効率良く発光させるには、発光層の膜厚のコントロールが重要であり、例えば膜厚１００ｎｍ程度に極めて薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには、高精細にパターニングする必要がある。
【０００３】
基板等に形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は、基板に抵抗加熱蒸着法（真空蒸着法）等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほど、パターニング精度が出難いという問題がある。
【０００４】
そこで、最近では基板等に形成する有機発光材料に高分子材料を用い、この有機発光材料を溶剤に溶かしてインキ化して塗工インキ液にした後、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたり、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）の３色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しいく、塗り分けパターニングを得意とする印刷法によるパターン印刷による薄膜形成が最も有効であると考えられる。
【０００５】
さらに、各種印刷法の中でも、有機ＥＬ素子やディスプレイでは、基板としてガラス基板を用いることが多いため、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きである。そのために、弾性を有するゴム製の印刷版を用いた印刷法や、ゴム製の印刷用ブランケットを用いたオフセット印刷法や、弾性を有するゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法等が適性な印刷法として採用することができる。実際に、これらの印刷法の試みとして、オフセット印刷による パターン印刷方法（特許文献１）、凸版印刷によるパターン印刷方法（特許文献２）などが提唱されている。
【０００６】
以下に、本発明に関連する特許文献を記載する。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８号公報
【特許文献３】特開２００１−１５５８６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、凸版印刷法、凹版印刷法、オフセット印刷法といった各印刷法に使用する印刷、塗工用の粘稠状（又はチクソトロピ−状）のインキ又は液状のインキ（インキ液）に
は、最適な粘度があることが知られており、特に液状のインキには、増粘材といった粘度調整剤を添加するのが一般的である。
【０００８】
一方、有機発光材料を印刷法により印刷して成膜する場合、有機発光材料は、水やアルコール、有機溶剤といった溶媒（必要に応じてバインダー樹脂）中に、分散もしくは溶解させることにより、印刷、塗工用のインキ液としてインキ化するものである。
【０００９】
しかしながら、一般的なインキ化可能な有機発光材料は、溶媒に対する溶解性が高い場合であっても、溶媒に対する最大固形分比が５％程度であり、これを超えると有機発光材料が固体として析出してしまい、インキ液の高粘度化は難しい。
【００１０】
特に有機発光材料をパターン成膜し、素子として駆動させる場合、その素子の耐久性は有機発光材料により成膜される膜の純度が高い方が良いとされているため、有機発光材料の膜中に残留する増粘材などは純度を低下させる要因となるため添加することができず、この理由からも有機発光材料のインキ液の高粘度化は難しい。
【００１１】
その結果、有機発光材料のインキ液を用いて凸版印刷法により印刷しようとした場合、インキ液が低粘度であるために、印刷用凸版の凸状部の頂部面に付着したインキ液が、非画線部である低位部や凹部にまで流れ込んで、そのまま残留してしまい、有機発光材料の膜パターンの印刷再現性が悪く、膜パターンの膜厚の不均一が発生したりして、印刷物を再現性良く生産することが難しい。
【００１２】
本発明の課題は、上記問題を解決するための印刷用凸版及びその印刷用凸版を用いて印刷した精密印刷製造物を提供することにあり、低粘度のインキ液を用いて印刷用凸版を用いて印刷する際における上記のような印刷再現性の低下、特に精密部品に対するパターン印刷における再現性の低下やパターン膜の不均一の発生の問題を解消することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の請求項１に係る発明は、凸状部を備えた印刷用凸版であって、該凸版の凸状部の被印刷物と接触する頂部面は、有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層からなり、該樹脂層を支持する凸状部又は該凸状部を含む凸状部形成材層は、前記塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層からなることを特徴とする印刷用凸版である。
【００１４】
本発明の請求項２に係る発明は、上記請求項１に係る印刷用凸版において、前記インキ液親和性樹脂層のインキ液濡れ接触角に対して、前記インキ撥液性層のインキ液濡れ接触角が、少なくとも１０度以上大きいことを特徴とする印刷用凸版である。
【００１５】
本発明の請求項３に係る発明は、上記請求項１又は２に係る印刷用凸版において、前記インキ液親和性樹脂層が、少なくとも水溶性ポリマーを主成分とする樹脂からなることを特徴とする印刷用凸版である。
【００１６】
本発明の請求項４に係る発明は、上記請求項１又は３のいずれか１項に係る印刷用凸版において、前記インキ液撥液性層が、少なくともフッ素系材料を含有することを特徴とする印刷用凸版である。
【００１７】
本発明の請求項５に係る発明は、上記請求項１乃至４のいずれか１項に係る印刷用凸版を用いて、印刷方式により、インキ液化した材料が、精密部品製造用の基板等の被印刷体にパターン印刷されていることを特徴とする精密印刷製造物である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の印刷用凸版は、二層乃至複層構成の凸版印刷版であり、凸状部の周囲の低位部や凹部に、有機発光材料のインキ液が流入して付着しないように、凸版の画線部である凸状部には、インキ液との親和性を有する材料層を用いて形成されている。また、凸版の非画線部である凸状部の周囲の低位部や凹部を形成する部分や該凸状部を支持する支持体部分には、インキ液に対して撥液性を有する材料層を用いて形成されている。
【００１９】
本発明の印刷用凸版にて、有機発光材料インキ液などの低粘度のインキ液を用いて凸版印刷法（又は凸版オフセット印刷法）により印刷した場合、たとえインキ液が低粘度であっても、凸状部における頂部面以外の非画線部である低位部及び凹部が、インキ液撥液性を有する樹脂層により形成されているため、インキ供給手段にてインキ液親和性の凸状部の頂部面に付着したインキは、その頂部面から低位部及び凹部内に向かって流れ込もうとする際に、インキ液撥液性を有する樹脂層の前記低位部及び凹部内によって弾かれて流れ込むことがない。
【００２０】
本発明の印刷用凸版は、二層乃至複層構成の凸版印刷版であるために、低粘度のインキ液を用いた凸版オフセット印刷方式による印刷においては、従来のような単層構成の印刷用凸版と比較して、画像やパターンの印刷再現性を向上させることができ、印刷されたインキ膜厚の均一性が向上でき、例えば、有機発光材料等の低粘度インキ液を用いた凸版印刷方式（又は凸版オフセット印刷方式）による膜パターンの印刷や、精密部品製造用の基板等の被印刷体に対する膜パターンの印刷において再現性が良く、精密印刷製造物をパターン再現性良く生産することができる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明はこれに限るものではない。
【００２２】
図１は、本発明の一実施の形態における有機ＥＬ素子作製のための印刷用凸版Ｓの側断面図であり、１は凸版のベース基材層であり、１Ａはベース基材層１上の凸状部又は該凸状部を含む凸状部形成材層（以下単に凸状部と云う）であり、該凸状部１Ａは有機発光材料を含む塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層である。また、１Ｂは前記凸状部の頂部面であり、該頂部面１Ｂは有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層である。
【００２３】
凸状部１Ａには、使用する塗工インキ液に対する撥液性を有する材料を用いるが、フッ素原子を分子骨格に有する添加剤を加えた樹脂材料や、フッ素系エラストマーや、ポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ六フッ化ビニリデンや、それらの共重合体といったフッ素系ポリマーなどから一種類以上を選択することが望ましい。なお、上記凸状部１Ａ及び頂部面１Ｂは、必ずしも異なる材料により構成されている必要は無い。例えば、フッ素を含有しない材料とフッ素を含有する材料との混合比が異なるものなどを凸状部１Ａ及び頂部面１Ｂとして用いることができる。
【００２４】
頂部面１Ｂには、使用する塗工インキ液に対する親和性があれば良く、ニトリルゴム、シリコーンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどのゴムの他に、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの合成樹脂やそれらの共重合体、セルロースなどの天然高分子を用いることができる。
【００２５】
なかでも、水溶性ポリマーを主成分として含む材料は、塗工インキ液の成分である有機発光材料の溶液や分散液を構成している有機溶剤への耐性も高いため、これを用いることも望ましい。
【００２６】
ただし、有機発光材料を含む塗工インキ液に対する凸状部１Ａ、頂部面１Ｂの濡れ接触角θの大きさは、頂部面１Ｂに比べて凸状部１Ａの方が１０°以上大きい（インキ親和性が低い又は濡れにくい）必要がある。その濡れ接触角θの差が１０°を下回る場合、凸状部１Ａは有効な塗工インキ液に対する撥液性を示さなくなり、凹部内への塗工液の流入を防ぐことができなくなる。
【００２７】
ここで塗工インキ液としては、例えば、有機発光材料と、沸点が７０℃以上１８０℃未満の溶剤と、沸点が１８０℃以上２７０℃以下の溶剤とからなるものがある。その場合、沸点が１８０℃以上２７０℃以下の溶剤のインキに対する重量比は、５ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下が適当である。
【００２８】
沸点が１８０℃以上２７０℃以下の溶剤としては、例えば、２，３−ジメチルアニソール、２，５−ジメチルアニソール、２，６−ジメチルアニソール、トリメチルアニソール、テトラリン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、シクロヘキシルベンゼン、ｎ−アミルベンゼン、ｔｅｒｔ−アミルベンゼン、ジフェニルエーテル、ジメチルスルホキシドの中から１種、又は複数種を選択したものである。
【００２９】
有機発光材料としては、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾールなどの高分子中に低分子の蛍光色素を溶解させたものや、ポリフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリアルキルフルオレン誘導体（ＰＡＦ）等の高分子発光体が用いられる。これらの高分子有機発光材料（高分子ＥＬ素子用発光材料）は、溶剤に溶解又は安定して分散でき、インキ化することによって塗布法や印刷法により製膜することができるため、低分子発光材料を用いた有機ＥＬ素子の製造と比較して、大気圧下での製膜が可能であり、設備コストが安いという利点がある。
【００３０】
以下に、本発明の印刷用凸版Ｓの製造方法の一例を示す。
【００３１】
まず、図２（ａ）の側断面図に示すように、ベース基材１上に凸状部１Ａの形成層を積層接着する。ベース基材１には、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂や、鉄や銅といった金属を主成分とするものを用いても良い。凸状部１Ａの形成層は、押し出し成型法やプレス成型法、ラミネート法等により、ベース基材１上に作製することができる。また、スピンコート法や、ダイコート法、スリットコート法、キャストコート法、ディップコート法などのコーティング法を用いても良い。
【００３２】
また、図２（ｂ）に示すようにベース基材１と凸状部１Ａとの接着性を高めるために、両者の間に接着材や表面処理剤２を用いても接着しても良い。
【００３３】
次に、図３（ａ）に示すように、ベース基材１上に凸状部１Ａの層を形成した後に、該凸状部１Ａの層上に頂部面１Ｂの層を形成する。頂部面１Ｂの層は、押し出し成型やプレス成型により作製することができる。また、スピンコート法やダイコート法、スリットコート法、キャストコート法、ディップコート法などのコーティング法を用いても良い。
【００３４】
また、図３（ｂ）に示すように、ベース基材１と凸状部１Ａとの接着性を高めるために、両者の間に接着材や表面処理剤２を用い、凸状部１Ａの層と頂部面１Ｂの層との接着性を高めるために、両者の間に接着材や表面処理剤３を用いて接着しても良い。
【００３５】
このようにして積層された図３（ａ）に示す板状の積層材料ＳO の頂部面１Ｂの表面側から、該頂部面１Ｂの形成層及び凸状部１Ａの形成層を、金属性の切削刀や、レーザーアブレーション法等により削り取り、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。また、凸状部１Ａの形成層に樹脂材として感光性樹脂を用いた場合は、パターン露光及び現像といった公知の方法により図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。
【００３６】
また、図３（ｂ）に示す板状の積層材料ＳO の頂部面１Ｂの表面側から、該頂部面１Ｂの形成層及び凸状部１Ａの形成層を、金属性の切削刀や、レーザーアブレーション法等により削り取り、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成することにより、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。また、凸状部１Ａの形成層に樹脂材として感光性樹脂を用いた場合は、パターン露光及び現像といった公知の方法により、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。
【００３７】
また、上記と異なる製版方法の一例としては、まず、図４（ａ）に示すように、ベース基材１に頂部面１Ｂの層を形成して積層体Ｓ1 とする。この場合のベース基材１には、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂や、鉄や銅といった金属を主成分とするものを用いても良い。凸状部１Ａは、押し出し成型やプレス成型、ラミネート法により、ベース基材１上に凸状部１Ａの成形材料を供給して作製することができる。また、スピンコート法やダイコート法、スリットコート法、キャストコート法、ディップコート法などのコーティング法を用いても良い。また、図４（ｂ）に示すように、ベース基材１と凸状部１Ａとの接着性を高めるために両者の間に接着材や表面処理剤２を用いて積層接着しても良い。
【００３８】
次に、図５（ａ）に示すように、前記ベース基材１とは異なる保護基材４に頂部面１Ｂの層を形成して積層体Ｓ2 とする。この場合の保護基材４は、前記頂部面１Ｂの層を形成する材料に対して易剥離性を示す材料を使用するものである。例えば、この場合の保護基材４の材料として、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂が使用できる。また、前記保護基材４の材料として、前記頂部面１Ｂの層を形成する材料に対して易剥離性を示す鉄や銅といった金属を主成分とする薄板材料を用いても良い。
【００３９】
また、図５（ａ）において、保護基板４上に頂部面１Ｂを積層形成する方法としては、押し出し成型や、プレス成型、ラミネート法により作製することができる。また、スピンコート法やダイコート法、スリットコート法、キャストコート法、ディップコート法などのコーティング法を用いても良い。また、図５（ｂ）に示すように、ベース基材４と頂部面１Ｂとの易剥離性の仮接着性を得るために両者の間に易剥離剤５を用いて積層接着しても良い。
【００４０】
次に、図６に示すように、図４（ａ）若しくは図４（ｂ）に示す積層体Ｓ1 の凸状部１
Ａの形成層上に、図５（ａ）若しくは図５（ｂ）に示す積層体Ｓ2 の頂部面１Ｂの形成層を重ね合わせ、ラミネート法やプレス法によって接着もしくは圧着して積層材料ＳO を形成する。なお、積層体Ｓ1 とＳ2 との接着界面には、接着性を高めるための接着剤や表面処理剤６を用いて積層接着しても良い。
【００４１】
このようにして積層された図６に示す板状の積層材料ＳO から保護基材４を剥離して取り除いたのち、該積層材料ＳO の頂部面１Ｂの表面側から、該頂部面１Ｂの形成層及び凸状部１Ａの形成層を、金属性の切削刀や、レーザーアブレーション法等により削り取り、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。また、凸状部１Ａの形成層に樹脂材として感光性樹脂を用いた場合は、パターン露光及び現像といった公知の方法により図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。
【００４２】
本発明の印刷用凸版Ｓは、凸版印刷法（印刷用凸版を用いて印刷する印刷機）による印刷機に装着して印刷することができ、例えば、円圧式の凸版印刷機、又は円圧式の凸版オフセット印刷機などに装着して印刷することができる。
【００４３】
例えば、円圧式の凸版印刷機としては、図７に示すような印刷機がある。図示するように、インキタンク１０とインキ供給部であるインキ吐出部１２（チャンバー）と矢印方向に回転するアニロックスロール１４（金属製又は樹脂製の硬質ロール、又は適度な弾力性のある硬質ロール）と、本発明の印刷用凸版Ｓ（１枚乃至数枚、凸状部１Ａは適度な硬度又は適度な弾力性のある硬度を有する）を周面に装着可能な矢印方向に回転する版胴１８を備えている。版胴１８の下方には、水平方向（矢印方向）に反復移動する被印刷体固定定盤２０を備え、該定盤２０上には被印刷体２４が装着固定されている。
【００４４】
インキタンク１０にはインキが収容されており、インキ吐出部１２にはインキタンク１０よりインキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール１４は、インキ吐出部１２に近接し、版胴１８の印刷用凸版Ｓに接して回転するようになっている。
【００４５】
アニロックスロール１４の回転に伴い、インキ吐出部１２からアニロックスロール１４の周面に吐出したインキ１４ａは、ドクター１５などにより均一な膜厚に掻き取られ、アニロックスロール１４の周面に均一な膜厚のインキ膜として転移する。その後、版胴１８に取り付けられた印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａの頂部面１Ｂに、前記アニロックスロール１４周面のインキ１４ａが均一な膜厚にて転移する。
【００４６】
さらに、被印刷体固定定盤２０上の被印刷体２４（印刷基板）は、印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａによる凸部パターンと被印刷体２４との位相位置を調整する位置調整機構により位相位置を調整しながら図７に示すように印刷開始位置まで図面左方向に水平移動する。
【００４７】
その後に、被印刷体固定定盤２０は、被印刷体２４面に版胴１８の印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａを所定印圧にて接触させながら、版胴１８の回転速度に整合して図面右方向に水平移動し、印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａの頂部面１Ｂのインキ１４ａによる凸部パターンを被印刷体２４面に印刷する。
【００４８】
印刷後の前記被印刷体２４は、被印刷体固定定盤２０上から取り除かれた後、次の被印刷体２４が被印刷体固定定盤２０上に装着固定される。この動作を繰り返すことにより印刷が実施される。
【００４９】
また、円圧式の凸版オフセット印刷機としては図示しないが、シリンダー状の回転するブランケット胴と、定位置に固定配置された平坦な圧定盤とによる印刷機がある。これは
平坦な印刷用凸版Ｓを水平に載置して位置決め固定する平坦な版固定定盤と、被印刷体（印刷基板）を水平に載置して位置決め固定する平坦な被印刷体固定定盤（圧定盤）と、前記版固定定盤上に載置固定した印刷用凸版Ｓの上面を周接移動（転動）して、頂部面１Ｂにインキを付着させるインキ供給ローラーと、インキ供給ローラーが待機中に印刷用凸版Ｓの上面を周接移動（転動）して頂部面１Ｂに付着しているインキを表面ゴム製のブランケット面に転移させ、さらに転動してブランケット面に転移した前記インキを被印刷体固定定盤上に載置固定した被印刷体（印刷基板）に転写して印刷するブランケット胴を備えている。
【実施例】
【００５０】
以下に、本発明の印刷用凸版Ｓの具体的実施例について説明する。
【００５１】
＜実施例１＞
（発光層形成用塗工インキ液の調製）
高分子蛍光体（又は高分子蛍光体と結着用の高分子樹脂）をキシレンに塗工インキ液濃度が１．０重量％となるように溶解させ、発光層形成用塗工インキ液１４ａを調製した。ここで高分子蛍光体とは、ポリ（パラフェニレンビニレン）誘導体からなる発光材料を示す。
【００５２】
（被印刷基板の作製）
１５０ｍｍ角、厚さ０．４ｍｍのガラス基板上に、表面抵抗率１５ΩのＩＴＯ膜を回路パターン状に成膜した透明電極作製用基材（ジオマテック（株）製）の前記ＩＴＯ膜面に、スピンコーターを用いて正孔輸送層として、ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を１００ｎｍ膜厚で成膜した。さらに、この成膜されたＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ薄膜を、減圧下１００℃にて、１時間乾燥することにより、被印刷基板２４（印刷基板）を作製した。
【００５３】
（印刷用凸版Ｓの作製；凸状部１Ａとしてフッ素含有物を用い、頂部面１Ｂとして水溶性ポリマーを使用）
図３（ａ）に示すように、ベース基材１として、厚さ０．３ｍｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に、フッ素含有物としてポリフッ化ビニリデンを押し出し成型法により０．１ｍｍ積層して凸状部１Ａの形成層を形成し、さらに、その凸状部１Ａの形成層上に、頂部面１Ｂとして水溶性ポリマー（水溶性樹脂）を１５０℃で過熱溶融したものを、スピンコート法により０．１μｍの厚さで形成して、頂部面１Ｂの形成層を積層形成し、積層材料ＳO を作製した。
【００５４】
続いて、レーザーアブレーション法により、前記積層材料ＳO の頂部面１Ｂ及凸状部１Ａの形成面を削り取り、積層材料ＳO の表面に凸状部１Ａの形成層に達する凹状部１ＡO を形成する。これにより、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版した。
【００５５】
（印刷用凸版Ｓによる発光層形成用塗工インキ液の印刷）
まず、図１に示すような本発明の印刷用凸版Ｓを、凸版印刷法による円圧式凸版印刷機（図７参照）の版胴１８の周面に装着固定し、被印刷体２４（印刷基板）を、被印刷体固定定盤２０上に載置固定した。
【００５６】
そして、アニロックスロール１４及び版胴１８を回転させて、発光層形成用の塗工インキ液１４ａを、アニロックスロール１４（インキ供給ローラー）の周面に均一膜にて供給し、該アニロックスロール１４を介して、印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａの頂部面１Ｂにインキ液１４ａ供給した。その後、被印刷体２４（印刷基板）のＩＴＯ膜パターン形成面側に
該ＩＴＯ膜パターンに整合させて、前記頂部面１Ｂによるパターン状の塗工インキ液１４ａの印刷を行った。
【００５７】
印刷した後の被印刷基板２４（印刷基板）は、１５０℃にて５時間の環境下にて塗工インキ液１４ａを乾燥した後、該塗工インキ液１４ａによる発光層上から、カルシウム１ｎｍ、アルミニウム８０ｎｍを積層形成して、陰極用の発光層基板である有機ＥＬ素子とした。
【００５８】
＜比較例１＞
（頂部面１Ｂとして水溶性ポリマーを用いない場合）
実施例１における頂部面１Ｂとして、水溶性ポリマーを用いない以外は、上記実施例１と同様にして、積層材料ＳO を作製して印刷用凸版を作製し、該印刷用凸版による発光層形成用塗工インキ液の印刷を行って、陰極用の発光層基板である有機ＥＬ素子とした。
【００５９】
＜比較例２＞
（凸状部１Ａとしてフッ素含有物を用いない場合）
実施例１における凸状部１Ａとして、フッ素含有物を用いない以外は、上記実施例１と同様にして、積層材料ＳO を作製して印刷用凸版を作製し、該印刷用凸版による発光層形成用塗工インキ液の印刷を行って、陰極用の発光層基板である有機ＥＬ素子とした。
【００６０】
＜比較結果＞
上記実施例１により作製した有機ＥＬ素子は、ＩＴＯ膜を介して電圧をかけ、発光状態の確認を行ったところ、発光層の膜厚が均一であり、発光ムラは見られなかったが、比較例１、比較例２により作製した有機ＥＬ素子は、ＩＴＯ膜を介して電圧をかけ、発光状態の確認を行ったところ、発光層の膜厚が不均一なことによる発光ムラが見られた。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の印刷用凸版の概要側断面図。
【図２】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図３】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図４】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図５】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図６】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図７】本発明の印刷用凸版を用いて印刷するための凸版印刷機の一例を説明する側面図。
【符号の説明】
【００６２】
Ｓ…印刷用凸版
ＳO …積層材料
Ｓ1 ，Ｓ2 …積層体
１Ａ…凸状部
１ＡO …凹状部
１Ｂ…頂部面
１…ベース基材
２…接着剤
３…接着剤
４…保護基材
５…易剥離剤 ６…接着剤
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ素子など精密部品製造用の基板等の被印刷体に、インキ化した材料を印刷方式にてパターン印刷するために使用する印刷用凸版及びその印刷用凸版を用いて印刷された精密印刷製造物に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、有機ＥＬ素子は、二つの対向する電極基板の間に、有機発光材料からなる有機発光層を形成し、有機発光層に電流を流すことにより発光させるものであるが、効率良く発光させるには、発光層の膜厚のコントロールが重要であり、例えば膜厚１００ｎｍ程度に極めて薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには、高精細にパターニングする必要がある。
【０００３】
基板等に形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は、基板に抵抗加熱蒸着法（真空蒸着法）等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほど、パターニング精度が出難いという問題がある。
【０００４】
そこで、最近では基板等に形成する有機発光材料に高分子材料を用い、この有機発光材料を溶剤に溶かしてインキ化して塗工インキ液にした後、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたり、レッド（Ｒ）、グリーン（Ｇ）、ブルー（Ｂ）の３色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しいく、塗り分けパターニングを得意とする印刷法によるパターン印刷による薄膜形成が最も有効であると考えられる。
【０００５】
さらに、各種印刷法の中でも、有機ＥＬ素子やディスプレイでは、基板としてガラス基板を用いることが多いため、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きである。そのために、弾性を有するゴム製の印刷版を用いた印刷法や、ゴム製の印刷用ブランケットを用いたオフセット印刷法や、弾性を有するゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法等が適性な印刷法として採用することができる。実際に、これらの印刷法の試みとして、オフセット印刷による パターン印刷方法（特許文献１）、凸版印刷によるパターン印刷方法（特許文献２）などが提唱されている。
【０００６】
以下に、本発明に関連する特許文献を記載する。
【特許文献１】特開２００１−９３６６８号公報
【特許文献２】特開２００１−１５５８５８号公報
【特許文献３】特開２００１−１５５８６１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、凸版印刷法、凹版印刷法、オフセット印刷法といった各印刷法に使用する印刷、塗工用の粘稠状（又はチクソトロピ−状）のインキ又は液状のインキ（インキ液）に
は、最適な粘度があることが知られており、特に液状のインキには、増粘材といった粘度調整剤を添加するのが一般的である。
【０００８】
一方、有機発光材料を印刷法により印刷して成膜する場合、有機発光材料は、水やアルコール、有機溶剤といった溶媒（必要に応じてバインダー樹脂）中に、分散もしくは溶解させることにより、印刷、塗工用のインキ液としてインキ化するものである。
【０００９】
しかしながら、一般的なインキ化可能な有機発光材料は、溶媒に対する溶解性が高い場合であっても、溶媒に対する最大固形分比が５％程度であり、これを超えると有機発光材料が固体として析出してしまい、インキ液の高粘度化は難しい。
【００１０】
特に有機発光材料をパターン成膜し、素子として駆動させる場合、その素子の耐久性は有機発光材料により成膜される膜の純度が高い方が良いとされているため、有機発光材料の膜中に残留する増粘材などは純度を低下させる要因となるため添加することができず、この理由からも有機発光材料のインキ液の高粘度化は難しい。
【００１１】
その結果、有機発光材料のインキ液を用いて凸版印刷法により印刷しようとした場合、インキ液が低粘度であるために、印刷用凸版の凸状部の頂部面に付着したインキ液が、非画線部である低位部や凹部にまで流れ込んで、そのまま残留してしまい、有機発光材料の膜パターンの印刷再現性が悪く、膜パターンの膜厚の不均一が発生したりして、印刷物を再現性良く生産することが難しい。
【００１２】
本発明の課題は、上記問題を解決するための印刷用凸版及びその印刷用凸版を用いて印刷した精密印刷製造物を提供することにあり、低粘度のインキ液を用いて印刷用凸版を用いて印刷する際における上記のような印刷再現性の低下、特に精密部品に対するパターン印刷における再現性の低下やパターン膜の不均一の発生の問題を解消することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の請求項１に係る発明は、凸状部を備えた印刷用凸版であって、該凸版の凸状部の被印刷物と接触する頂部面は、有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層からなり、該樹脂層を支持する凸状部又は該凸状部を含む凸状部形成材層は、前記塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層からなることを特徴とする印刷用凸版である。
【００１４】
本発明の請求項２に係る発明は、上記請求項１に係る印刷用凸版において、前記インキ液親和性樹脂層のインキ液濡れ接触角に対して、前記インキ撥液性層のインキ液濡れ接触角が、少なくとも１０度以上大きいことを特徴とする印刷用凸版である。
【００１５】
本発明の請求項３に係る発明は、上記請求項１又は２に係る印刷用凸版において、前記インキ液親和性樹脂層が、少なくとも水溶性ポリマーを主成分とする樹脂からなることを特徴とする印刷用凸版である。
【００１６】
本発明の請求項４に係る発明は、上記請求項１又は３のいずれか１項に係る印刷用凸版において、前記インキ液撥液性層が、少なくともフッ素系材料を含有することを特徴とする印刷用凸版である。
【００１７】
本発明の請求項５に係る発明は、上記請求項１乃至４のいずれか１項に係る印刷用凸版を用いて、印刷方式により、インキ液化した材料が、精密部品製造用の基板等の被印刷体にパターン印刷されていることを特徴とする精密印刷製造物である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の印刷用凸版は、二層乃至複層構成の凸版印刷版であり、凸状部の周囲の低位部や凹部に、有機発光材料のインキ液が流入して付着しないように、凸版の画線部である凸状部には、インキ液との親和性を有する材料層を用いて形成されている。また、凸版の非画線部である凸状部の周囲の低位部や凹部を形成する部分や該凸状部を支持する支持体部分には、インキ液に対して撥液性を有する材料層を用いて形成されている。
【００１９】
本発明の印刷用凸版にて、有機発光材料インキ液などの低粘度のインキ液を用いて凸版印刷法（又は凸版オフセット印刷法）により印刷した場合、たとえインキ液が低粘度であっても、凸状部における頂部面以外の非画線部である低位部及び凹部が、インキ液撥液性を有する樹脂層により形成されているため、インキ供給手段にてインキ液親和性の凸状部の頂部面に付着したインキは、その頂部面から低位部及び凹部内に向かって流れ込もうとする際に、インキ液撥液性を有する樹脂層の前記低位部及び凹部内によって弾かれて流れ込むことがない。
【００２０】
本発明の印刷用凸版は、二層乃至複層構成の凸版印刷版であるために、低粘度のインキ液を用いた凸版オフセット印刷方式による印刷においては、従来のような単層構成の印刷用凸版と比較して、画像やパターンの印刷再現性を向上させることができ、印刷されたインキ膜厚の均一性が向上でき、例えば、有機発光材料等の低粘度インキ液を用いた凸版印刷方式（又は凸版オフセット印刷方式）による膜パターンの印刷や、精密部品製造用の基板等の被印刷体に対する膜パターンの印刷において再現性が良く、精密印刷製造物をパターン再現性良く生産することができる効果がある。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明はこれに限るものではない。
【００２２】
図１は、本発明の一実施の形態における有機ＥＬ素子作製のための印刷用凸版Ｓの側断面図であり、１は凸版のベース基材層であり、１Ａはベース基材層１上の凸状部又は該凸状部を含む凸状部形成材層（以下単に凸状部と云う）であり、該凸状部１Ａは有機発光材料を含む塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層である。また、１Ｂは前記凸状部の頂部面であり、該頂部面１Ｂは有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層である。
【００２３】
凸状部１Ａには、使用する塗工インキ液に対する撥液性を有する材料を用いるが、フッ素原子を分子骨格に有する添加剤を加えた樹脂材料や、フッ素系エラストマーや、ポリ四フッ化エチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリ六フッ化ビニリデンや、それらの共重合体といったフッ素系ポリマーなどから一種類以上を選択することが望ましい。なお、上記凸状部１Ａ及び頂部面１Ｂは、必ずしも異なる材料により構成されている必要は無い。例えば、フッ素を含有しない材料とフッ素を含有する材料との混合比が異なるものなどを凸状部１Ａ及び頂部面１Ｂとして用いることができる。
【００２４】
頂部面１Ｂには、使用する塗工インキ液に対する親和性があれば良く、ニトリルゴム、シリコーンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどのゴムの他に、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの合成樹脂やそれらの共重合体、セルロースなどの天然高分子を用いることができる。
【００２５】
なかでも、水溶性ポリマーを主成分として含む材料は、塗工インキ液の成分である有機発光材料の溶液や分散液を構成している有機溶剤への耐性も高いため、これを用いることも望ましい。
【００２６】
ただし、有機発光材料を含む塗工インキ液に対する凸状部１Ａ、頂部面１Ｂの濡れ接触角θの大きさは、頂部面１Ｂに比べて凸状部１Ａの方が１０°以上大きい（インキ親和性が低い又は濡れにくい）必要がある。その濡れ接触角θの差が１０°を下回る場合、凸状部１Ａは有効な塗工インキ液に対する撥液性を示さなくなり、凹部内への塗工液の流入を防ぐことができなくなる。
【００２７】
ここで塗工インキ液としては、例えば、有機発光材料と、沸点が７０℃以上１８０℃未満の溶剤と、沸点が１８０℃以上２７０℃以下の溶剤とからなるものがある。その場合、沸点が１８０℃以上２７０℃以下の溶剤のインキに対する重量比は、５ｗｔ％以上３０ｗｔ％以下が適当である。
【００２８】
沸点が１８０℃以上２７０℃以下の溶剤としては、例えば、２，３−ジメチルアニソール、２，５−ジメチルアニソール、２，６−ジメチルアニソール、トリメチルアニソール、テトラリン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、シクロヘキシルベンゼン、ｎ−アミルベンゼン、ｔｅｒｔ−アミルベンゼン、ジフェニルエーテル、ジメチルスルホキシドの中から１種、又は複数種を選択したものである。
【００２９】
有機発光材料としては、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾールなどの高分子中に低分子の蛍光色素を溶解させたものや、ポリフェニレンビニレン誘導体（ＰＰＶ）、ポリアルキルフルオレン誘導体（ＰＡＦ）等の高分子発光体が用いられる。これらの高分子有機発光材料（高分子ＥＬ素子用発光材料）は、溶剤に溶解又は安定して分散でき、インキ化することによって塗布法や印刷法により製膜することができるため、低分子発光材料を用いた有機ＥＬ素子の製造と比較して、大気圧下での製膜が可能であり、設備コストが安いという利点がある。
【００３０】
以下に、本発明の印刷用凸版Ｓの製造方法の一例を示す。
【００３１】
まず、図２（ａ）の側断面図に示すように、ベース基材１上に凸状部１Ａの形成層を積層接着する。ベース基材１には、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂や、鉄や銅といった金属を主成分とするものを用いても良い。凸状部１Ａの形成層は、押し出し成型法やプレス成型法、ラミネート法等により、ベース基材１上に作製することができる。また、スピンコート法や、ダイコート法、スリットコート法、キャストコート法、ディップコート法などのコーティング法を用いても良い。
【００３２】
また、図２（ｂ）に示すようにベース基材１と凸状部１Ａとの接着性を高めるために、両者の間に接着材や表面処理剤２を用いても接着しても良い。
【００３３】
次に、図３（ａ）に示すように、ベース基材１上に凸状部１Ａの層を形成した後に、該凸状部１Ａの層上に頂部面１Ｂの層を形成する。頂部面１Ｂの層は、押し出し成型やプレス成型により作製することができる。また、スピンコート法やダイコート法、スリットコート法、キャストコート法、ディップコート法などのコーティング法を用いても良い。
【００３４】
また、図３（ｂ）に示すように、ベース基材１と凸状部１Ａとの接着性を高めるために、両者の間に接着材や表面処理剤２を用い、凸状部１Ａの層と頂部面１Ｂの層との接着性を高めるために、両者の間に接着材や表面処理剤３を用いて接着しても良い。
【００３５】
このようにして積層された図３（ａ）に示す板状の積層材料ＳO の頂部面１Ｂの表面側から、該頂部面１Ｂの形成層及び凸状部１Ａの形成層を、金属性の切削刀や、レーザーアブレーション法等により削り取り、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。また、凸状部１Ａの形成層に樹脂材として感光性樹脂を用いた場合は、パターン露光及び現像といった公知の方法により図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。
【００３６】
また、図３（ｂ）に示す板状の積層材料ＳO の頂部面１Ｂの表面側から、該頂部面１Ｂの形成層及び凸状部１Ａの形成層を、金属性の切削刀や、レーザーアブレーション法等により削り取り、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成することにより、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。また、凸状部１Ａの形成層に樹脂材として感光性樹脂を用いた場合は、パターン露光及び現像といった公知の方法により、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。
【００３７】
また、上記と異なる製版方法の一例としては、まず、図４（ａ）に示すように、ベース基材１に頂部面１Ｂの層を形成して積層体Ｓ1 とする。この場合のベース基材１には、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂や、鉄や銅といった金属を主成分とするものを用いても良い。凸状部１Ａは、押し出し成型やプレス成型、ラミネート法により、ベース基材１上に凸状部１Ａの成形材料を供給して作製することができる。また、スピンコート法やダイコート法、スリットコート法、キャストコート法、ディップコート法などのコーティング法を用いても良い。また、図４（ｂ）に示すように、ベース基材１と凸状部１Ａとの接着性を高めるために両者の間に接着材や表面処理剤２を用いて積層接着しても良い。
【００３８】
次に、図５（ａ）に示すように、前記ベース基材１とは異なる保護基材４に頂部面１Ｂの層を形成して積層体Ｓ2 とする。この場合の保護基材４は、前記頂部面１Ｂの層を形成する材料に対して易剥離性を示す材料を使用するものである。例えば、この場合の保護基材４の材料として、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの公知の合成樹脂が使用できる。また、前記保護基材４の材料として、前記頂部面１Ｂの層を形成する材料に対して易剥離性を示す鉄や銅といった金属を主成分とする薄板材料を用いても良い。
【００３９】
また、図５（ａ）において、保護基板４上に頂部面１Ｂを積層形成する方法としては、押し出し成型や、プレス成型、ラミネート法により作製することができる。また、スピンコート法やダイコート法、スリットコート法、キャストコート法、ディップコート法などのコーティング法を用いても良い。また、図５（ｂ）に示すように、ベース基材４と頂部面１Ｂとの易剥離性の仮接着性を得るために両者の間に易剥離剤５を用いて積層接着しても良い。
【００４０】
次に、図６に示すように、図４（ａ）若しくは図４（ｂ）に示す積層体Ｓ1 の凸状部１
Ａの形成層上に、図５（ａ）若しくは図５（ｂ）に示す積層体Ｓ2 の頂部面１Ｂの形成層を重ね合わせ、ラミネート法やプレス法によって接着もしくは圧着して積層材料ＳO を形成する。なお、積層体Ｓ1 とＳ2 との接着界面には、接着性を高めるための接着剤や表面処理剤６を用いて積層接着しても良い。
【００４１】
このようにして積層された図６に示す板状の積層材料ＳO から保護基材４を剥離して取り除いたのち、該積層材料ＳO の頂部面１Ｂの表面側から、該頂部面１Ｂの形成層及び凸状部１Ａの形成層を、金属性の切削刀や、レーザーアブレーション法等により削り取り、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。また、凸状部１Ａの形成層に樹脂材として感光性樹脂を用いた場合は、パターン露光及び現像といった公知の方法により図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版することができる。
【００４２】
本発明の印刷用凸版Ｓは、凸版印刷法（印刷用凸版を用いて印刷する印刷機）による印刷機に装着して印刷することができ、例えば、円圧式の凸版印刷機、又は円圧式の凸版オフセット印刷機などに装着して印刷することができる。
【００４３】
例えば、円圧式の凸版印刷機としては、図７に示すような印刷機がある。図示するように、インキタンク１０とインキ供給部であるインキ吐出部１２（チャンバー）と矢印方向に回転するアニロックスロール１４（金属製又は樹脂製の硬質ロール、又は適度な弾力性のある硬質ロール）と、本発明の印刷用凸版Ｓ（１枚乃至数枚、凸状部１Ａは適度な硬度又は適度な弾力性のある硬度を有する）を周面に装着可能な矢印方向に回転する版胴１８を備えている。版胴１８の下方には、水平方向（矢印方向）に反復移動する被印刷体固定定盤２０を備え、該定盤２０上には被印刷体２４が装着固定されている。
【００４４】
インキタンク１０にはインキが収容されており、インキ吐出部１２にはインキタンク１０よりインキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール１４は、インキ吐出部１２に近接し、版胴１８の印刷用凸版Ｓに接して回転するようになっている。
【００４５】
アニロックスロール１４の回転に伴い、インキ吐出部１２からアニロックスロール１４の周面に吐出したインキ１４ａは、ドクター１５などにより均一な膜厚に掻き取られ、アニロックスロール１４の周面に均一な膜厚のインキ膜として転移する。その後、版胴１８に取り付けられた印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａの頂部面１Ｂに、前記アニロックスロール１４周面のインキ１４ａが均一な膜厚にて転移する。
【００４６】
さらに、被印刷体固定定盤２０上の被印刷体２４（印刷基板）は、印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａによる凸部パターンと被印刷体２４との位相位置を調整する位置調整機構により位相位置を調整しながら図７に示すように印刷開始位置まで図面左方向に水平移動する。
【００４７】
その後に、被印刷体固定定盤２０は、被印刷体２４面に版胴１８の印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａを所定印圧にて接触させながら、版胴１８の回転速度に整合して図面右方向に水平移動し、印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａの頂部面１Ｂのインキ１４ａによる凸部パターンを被印刷体２４面に印刷する。
【００４８】
印刷後の前記被印刷体２４は、被印刷体固定定盤２０上から取り除かれた後、次の被印刷体２４が被印刷体固定定盤２０上に装着固定される。この動作を繰り返すことにより印刷が実施される。
【００４９】
また、円圧式の凸版オフセット印刷機としては図示しないが、シリンダー状の回転するブランケット胴と、定位置に固定配置された平坦な圧定盤とによる印刷機がある。これは
平坦な印刷用凸版Ｓを水平に載置して位置決め固定する平坦な版固定定盤と、被印刷体（印刷基板）を水平に載置して位置決め固定する平坦な被印刷体固定定盤（圧定盤）と、前記版固定定盤上に載置固定した印刷用凸版Ｓの上面を周接移動（転動）して、頂部面１Ｂにインキを付着させるインキ供給ローラーと、インキ供給ローラーが待機中に印刷用凸版Ｓの上面を周接移動（転動）して頂部面１Ｂに付着しているインキを表面ゴム製のブランケット面に転移させ、さらに転動してブランケット面に転移した前記インキを被印刷体固定定盤上に載置固定した被印刷体（印刷基板）に転写して印刷するブランケット胴を備えている。
【実施例】
【００５０】
以下に、本発明の印刷用凸版Ｓの具体的実施例について説明する。
【００５１】
＜実施例１＞
（発光層形成用塗工インキ液の調製）
高分子蛍光体（又は高分子蛍光体と結着用の高分子樹脂）をキシレンに塗工インキ液濃度が１．０重量％となるように溶解させ、発光層形成用塗工インキ液１４ａを調製した。ここで高分子蛍光体とは、ポリ（パラフェニレンビニレン）誘導体からなる発光材料を示す。
【００５２】
（被印刷基板の作製）
１５０ｍｍ角、厚さ０．４ｍｍのガラス基板上に、表面抵抗率１５ΩのＩＴＯ膜を回路パターン状に成膜した透明電極作製用基材（ジオマテック（株）製）の前記ＩＴＯ膜面に、スピンコーターを用いて正孔輸送層として、ポリ（３，４）エチレンジオキシチオフェン／ポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）を１００ｎｍ膜厚で成膜した。さらに、この成膜されたＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ薄膜を、減圧下１００℃にて、１時間乾燥することにより、被印刷基板２４（印刷基板）を作製した。
【００５３】
（印刷用凸版Ｓの作製；凸状部１Ａとしてフッ素含有物を用い、頂部面１Ｂとして水溶性ポリマーを使用）
図３（ａ）に示すように、ベース基材１として、厚さ０．３ｍｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）基材上に、フッ素含有物としてポリフッ化ビニリデンを押し出し成型法により０．１ｍｍ積層して凸状部１Ａの形成層を形成し、さらに、その凸状部１Ａの形成層上に、頂部面１Ｂとして水溶性ポリマー（水溶性樹脂）を１５０℃で過熱溶融したものを、スピンコート法により０．１μｍの厚さで形成して、頂部面１Ｂの形成層を積層形成し、積層材料ＳO を作製した。
【００５４】
続いて、レーザーアブレーション法により、前記積層材料ＳO の頂部面１Ｂ及凸状部１Ａの形成面を削り取り、積層材料ＳO の表面に凸状部１Ａの形成層に達する凹状部１ＡO を形成する。これにより、図１に示すような頂部面１Ｂを備えた凸状部１Ａを形成して、本発明の印刷用凸版Ｓを製版した。
【００５５】
（印刷用凸版Ｓによる発光層形成用塗工インキ液の印刷）
まず、図１に示すような本発明の印刷用凸版Ｓを、凸版印刷法による円圧式凸版印刷機（図７参照）の版胴１８の周面に装着固定し、被印刷体２４（印刷基板）を、被印刷体固定定盤２０上に載置固定した。
【００５６】
そして、アニロックスロール１４及び版胴１８を回転させて、発光層形成用の塗工インキ液１４ａを、アニロックスロール１４（インキ供給ローラー）の周面に均一膜にて供給し、該アニロックスロール１４を介して、印刷用凸版Ｓの凸状部１Ａの頂部面１Ｂにインキ液１４ａ供給した。その後、被印刷体２４（印刷基板）のＩＴＯ膜パターン形成面側に
該ＩＴＯ膜パターンに整合させて、前記頂部面１Ｂによるパターン状の塗工インキ液１４ａの印刷を行った。
【００５７】
印刷した後の被印刷基板２４（印刷基板）は、１５０℃にて５時間の環境下にて塗工インキ液１４ａを乾燥した後、該塗工インキ液１４ａによる発光層上から、カルシウム１ｎｍ、アルミニウム８０ｎｍを積層形成して、陰極用の発光層基板である有機ＥＬ素子とした。
【００５８】
＜比較例１＞
（頂部面１Ｂとして水溶性ポリマーを用いない場合）
実施例１における頂部面１Ｂとして、水溶性ポリマーを用いない以外は、上記実施例１と同様にして、積層材料ＳO を作製して印刷用凸版を作製し、該印刷用凸版による発光層形成用塗工インキ液の印刷を行って、陰極用の発光層基板である有機ＥＬ素子とした。
【００５９】
＜比較例２＞
（凸状部１Ａとしてフッ素含有物を用いない場合）
実施例１における凸状部１Ａとして、フッ素含有物を用いない以外は、上記実施例１と同様にして、積層材料ＳO を作製して印刷用凸版を作製し、該印刷用凸版による発光層形成用塗工インキ液の印刷を行って、陰極用の発光層基板である有機ＥＬ素子とした。
【００６０】
＜比較結果＞
上記実施例１により作製した有機ＥＬ素子は、ＩＴＯ膜を介して電圧をかけ、発光状態の確認を行ったところ、発光層の膜厚が均一であり、発光ムラは見られなかったが、比較例１、比較例２により作製した有機ＥＬ素子は、ＩＴＯ膜を介して電圧をかけ、発光状態の確認を行ったところ、発光層の膜厚が不均一なことによる発光ムラが見られた。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】本発明の印刷用凸版の概要側断面図。
【図２】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図３】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図４】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図５】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図６】（ａ）は本発明の印刷用凸版の作製における積層材料の作製工程の一例を説明する概要側断面図、（ｂ）はその作製工程の他の例を説明する概要側断面図。
【図７】本発明の印刷用凸版を用いて印刷するための凸版印刷機の一例を説明する側面図。
【符号の説明】
【００６２】
Ｓ…印刷用凸版
ＳO …積層材料
Ｓ1 ，Ｓ2 …積層体
１Ａ…凸状部
１ＡO …凹状部
１Ｂ…頂部面
１…ベース基材
２…接着剤
３…接着剤
４…保護基材
５…易剥離剤 ６…接着剤
【特許請求の範囲】
【請求項１】
凸状部を備えた印刷用凸版であって、該凸版の凸状部の被印刷物と接触する頂部面は、有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層からなり、該樹脂層を支持する凸状部又は該凸状部を含む凸状部形成材層は、前記塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層からなることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項２】
請求項１記載の印刷用凸版において、前記インキ液親和性樹脂層のインキ液濡れ接触角に対して、前記インキ撥液性層のインキ液濡れ接触角が、少なくとも１０度以上大きいことを特徴とする印刷用凸版。
【請求項３】
請求項１又は２記載の印刷用凸版において、前記インキ液親和性樹脂層が、少なくとも水溶性ポリマーを主成分とする樹脂からなることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項４】
請求項１又は３のいずれか１項記載の印刷用凸版において、前記インキ液撥液性層が、少なくともフッ素系材料を含有することを特徴とする印刷用凸版。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項記載の印刷用凸版を用いて、印刷方式により、インキ液化した材料が、精密部品製造用の基板等の被印刷体にパターン印刷されていることを特徴とする精密印刷製造物。
【請求項１】
凸状部を備えた印刷用凸版であって、該凸版の凸状部の被印刷物と接触する頂部面は、有機発光材料を含む塗工インキ液に対して親和性を有するインキ液親和性樹脂層からなり、該樹脂層を支持する凸状部又は該凸状部を含む凸状部形成材層は、前記塗工インキ液に対して撥液性を有するインキ撥液性層からなることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項２】
請求項１記載の印刷用凸版において、前記インキ液親和性樹脂層のインキ液濡れ接触角に対して、前記インキ撥液性層のインキ液濡れ接触角が、少なくとも１０度以上大きいことを特徴とする印刷用凸版。
【請求項３】
請求項１又は２記載の印刷用凸版において、前記インキ液親和性樹脂層が、少なくとも水溶性ポリマーを主成分とする樹脂からなることを特徴とする印刷用凸版。
【請求項４】
請求項１又は３のいずれか１項記載の印刷用凸版において、前記インキ液撥液性層が、少なくともフッ素系材料を含有することを特徴とする印刷用凸版。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項記載の印刷用凸版を用いて、印刷方式により、インキ液化した材料が、精密部品製造用の基板等の被印刷体にパターン印刷されていることを特徴とする精密印刷製造物。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２００７−９０５９６（Ｐ２００７−９０５９６Ａ）
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００５−２８１２９９（Ｐ２００５−２８１２９９）
【出願日】平成１７年９月２８日（２００５．９．２８）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成１９年４月１２日（２００７．４．１２）
【国際特許分類】
【出願日】平成１７年９月２８日（２００５．９．２８）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】
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