【課題】反射防止フィルムにあっては、製造コストの低い反射防止フィルムが求められており、さらに、反射防止性能や干渉ムラのない光学特性に優れた反射防止フィルムが求められており、さらに、ディスプレイ表面に設けられるため高い耐擦傷性が求められており、さらに、ほこり付着防止のため帯電防止機能を備える反射防止フィルムが求められている。本発明にあっては、製造コストが低く、また、優れた光学特性及び優れた耐擦傷性及び帯電防止機能を備える反射防止フィルムを提供することを課題とする。
【解決手段】透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムであって、前記偏在層は、少なくとも透明基材側から中間層、ハードコート層、導電性材料を含む帯電防止層、レベリング材料を含むレベリング層の順に偏在して積層されることを特徴とする反射防止フィルムとした。

【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一方の面に偏在層と低屈折率層をこの順で積層した反射防止フィルムの製造方法であって、
前記透明基材の少なくとも一方の面に、電離放射線硬化型材料と導電性材料とレベリング材料と溶剤を含む偏在層形成塗液を塗布し、偏在層の塗膜を形成する塗布工程と、
前記偏在層の塗膜を一次乾燥と、二次乾燥を施す乾燥工程と、
前記偏在層の塗膜に電離放射線を照射し、偏在層を形成する硬膜工程と、
低屈折率層形成材料と溶剤を含む低屈折率層形成塗液を塗布し、低屈折率層の塗膜を形成する塗布工程と、
前記低屈折率層の塗膜を乾燥する乾燥工程と、
前記低屈折率層を形成する硬膜工程を順に備え、かつ、
前記偏在層の前記透明基材側には、前記透明基材成分と前記偏在層の電離放射線硬化型材料成分が混在した中間層が形成され、かつ、
前記偏在層の低屈折率層側表面には前記電離放射線硬化型材料とレベリング材料を含み、導電性材料が含まれていないレベリング層が形成され、かつ、
偏在層表面における鉛筆硬度がＨ以上であり、かつ、
前記反射防止フィルムの低屈折率層表面における表面抵抗値が１×１０^５Ω／ｃｍ^２以上１×１０^１２Ω／ｃｍ^２以下の範囲内である
ことを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記偏在層形成塗液に含まれる全溶媒のうち３０ｗｔ％以上の溶媒が透明基材を溶解または膨潤させる溶媒であり、かつ、
前記偏在層形成塗液中に溶媒が２５ｗｔ％以上８５ｗｔ％以下の範囲内の割合で含まれる
ことを特徴とする請求項１に記載の反射防止フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記偏在層の塗膜を乾燥する乾燥工程が、
乾燥温度１５℃以上３０℃以下の範囲内でおこなわれる一次乾燥と、乾燥温度４０℃以上１５０℃以下の範囲内でおこなわれる二次乾燥の二段階の連続する乾燥を含む
ことを特徴とする請求項１または請求項２に記載の反射防止フィルムの製造方法。

【図１】

【図２】

【公開番号】特開２０１２−７３６３０（Ｐ２０１２−７３６３０Ａ）
【公開日】平成２４年４月１２日（２０１２．４．１２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２４７５５７（Ｐ２０１１−２４７５５７）
【出願日】平成２３年１１月１１日（２０１１．１１．１１）
【分割の表示】特願２０１１−５０１０５６（Ｐ２０１１−５０１０５６）の分割
【原出願日】平成２２年１０月１４日（２０１０．１０．１４）
【出願人】（０００００３１９３）凸版印刷株式会社 (10,630)
【Ｆターム（参考）】