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Fターム[4D075CA21]の内容

流動性材料の適用方法、塗布方法 (146,046) | 保護及び特殊効果 (11,570) | 電気、磁気、放射線特性 (1,150)

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【課題】機械強度が十分であり、低誘電性に優れ、シリコンウエハー及びP−TEOS等のSiO膜の両方への接着性に優れたシリカ系被膜を提供する。
【解決手段】実質的にOH基の含有量が大幅に減少されてなる高い緻密性を備えた微細孔を有するシリカ系被膜。(a)一般式(1)で表せられる化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂、(化1)R1nSiX4−n(1)(式中、R1は、H若しくはF又はB、N、Al、P、Si、Ge若しくはTiを含む基又は炭素数1〜20の有機基を示し、Xは、加水分解性基を示すし、nは0又は1の整数である)(b)下記一般式(2)で表せられるイオン性化合物並びに(化2)(R24N+)nYn−(2)(式中、R2は、水素原子又は炭素数1〜20の有機基を示し、Yは、陰イオンを示し、nは陰イオンの価数である)(c)前記(a)成分及び(b)成分を溶解可能な溶媒を含むシリカ系被膜形成用組成物。 (もっと読む)


【課題】耐トラッキング性及び高温水処理後の耐電圧性に優れ、更に曲げ加工性にも優れたプレコートアルミニウム材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】アルミニウム基材と;当該アルミニウム基材の少なくとも一方の表面に形成した化成処理皮膜と;当該化成処理皮膜の表面に形成した下塗り層と;当該下塗り層の表面に形成した上塗り層と;を含み、前記下塗り層が、エポキシ系樹脂からなるベース樹脂を含み3〜8μmの乾燥厚さを有し、前記上塗り層が、ポリフッ化ビニリデン樹脂/アクリル系樹脂の重量割合が50/50〜85/15のベース樹脂と絶縁性添加剤とを含み35〜60μmの乾燥厚さを有し、当該上塗り層の表面エネルギーが50mJ/m以下であることを特徴とするプレコートアルミニウム材ならびに、その製造方法。 (もっと読む)


【課題】液滴表面にレーザ光を直接照射することで乾燥・焼成して薄膜形成を行う、従来のインクジェット法において生じる特性劣化を低減させることを可能とする。
【解決手段】インクジェット法により基板上の所定の領域に薄膜形成にかかるインク滴Iを塗布し、そのインク滴Iが塗布された領域に対応した位置の、そのインク滴Iが塗布された面の裏面にレーザ光源213からのレーザ光Lを照射し、そのインク滴Iを加熱して焼成させる。 (もっと読む)


【課題】 加工が容易で低コスト、耐衝撃性に優れ、高硬度で、電波透過性がよく、平滑な面を形成可能で、量産性のよい複合材を提供する事。
【解決手段】 強化材と、この強化材の少なくとも一方の面に形成した母材(マトリックス)とからなる複合材において、強化材は高張力繊維を用いた布からなり、マトリックスは、耐浸透性、耐剥離性、耐衝撃性、耐摩耗性を有する合成樹脂性の塗料を、吹き付け塗装を行うことにより形成した塗装膜である複合材である。塗装膜として使用する合成樹脂性の塗料は、エフレタンである。 (もっと読む)


【課題】VOC分解機能、消臭機能及び結露防止機能を長期間に渡って発揮する建材を提供する。
【解決手段】建材処理装置100は、平板状の建材101を一定方向へ移動させる搬送手段である複数の搬送ローラ107と、搬送中の建材101に定着剤を含む高温の遠赤外線発生水HW1を噴霧するコンプレッサ108aなどを有する第一コート手段103と、定着剤を含む高温の遠赤外線発生水HW1が噴霧された建材101に遠赤外線発生物質の粉体RPを含む高温の遠赤外線発生水HW2を噴霧するコンプレッサ108bなどを有する第二コート手段104と、定着剤を含む高温の遠赤外線発生水HW1及び遠赤外線発生物質の粉体RPを含む高温の遠赤外線発生水HW2をそれぞれ形成する加熱手段113a,113bと、を備えている。 (もっと読む)


【課題】簡便な方法で、良好な強誘電体膜を所定の厚さで形成する。
【解決手段】誘電体膜を有する基板を製造する製造装置であって、複合酸化物を含む原材料体が塗布された基板を、大気圧以上の圧力に加圧した、体積比20%以上の酸素を含む雰囲気中で熱処理して結晶化させる熱処理装置を備える製造装置および製造方法を提供する。当該製造装置は、光制御デバイスとして用いられる強誘電体膜を有する基板を製造してもよい。熱処理装置は、原材料が塗布された基板を雰囲気中に保持するチャンバと、熱処理中における予め定められた期間の間、チャンバ内の雰囲気の圧力を予め定められた圧力に調整する圧力調整部と、を有してもよい。 (もっと読む)


【課題】 本発明は、ナノサイズシリカ微粒子を含むシリカ系被膜を形成するための塗布液、該塗布液を用いて低誘電率シリカ系被膜を基板上に形成する方法および該方法から得られる低誘電率シリカ系被膜に関する。
【解決手段】 少なくともアルカリ金属元素の化合物およびハロゲン族元素の化合物からなる不純物を実質的に含まない、ゼオライト結晶質のナノサイズシリカ微粒子とテトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド(TAAOH)とを含むシリカ系被膜形成用塗布液、過熱水蒸気を用いた低誘電率シリカ系被膜の形成方法およびリーク電流が少なく、しかも耐熱性と耐湿性を兼ね備えた低誘電率シリカ系被膜。 (もっと読む)


【課題】金属層との高い接着性を付与し、且つポリイミドエッチング形状を優れるものとすることができるなどの特長を有する接着性層を有するポリイミド樹脂層の製造方法を提供する。
【解決手段】次の工程、I)ポリアミド酸の溶液を塗布、乾燥して、線熱膨張係数が1〜30(×10-6/K)の低熱膨張性のポリイミド樹脂層(X)となる層を形成する工程、II)非熱可塑性ポリイミド樹脂(A)の前駆体樹脂(A')及び熱可塑性ポリイミド樹脂(B)の前駆体樹脂(B')を含み、A'/(A'+B')が0.30〜0.85である混合溶液を塗布、乾燥して、厚みが0.1〜3.0μmの範囲にある接着性層(Y)となる層を形成する工程、並びにIII)イミド化して、ポリイミド樹脂層(X)及び接着性層(Y)を形成する工程を備え、任意の順で工程I)、II)を行った後、工程III)を行うことにより接着性層を有するポリイミド樹脂積層体を製造する。 (もっと読む)


【課題】高い空隙率と密着性、耐スクラッチ性に優れる、微粒子積層薄膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】基材と、該基材上に設けられた、空隙を有する微粒子積層薄膜であって、電解質ポリマーおよび微粒子を交互に吸着させ、かつ、アルコール性シリカゾル生成物を介して、基材と微粒子及び、微粒子と微粒子の間が結合している、微粒子積層薄膜。 (もっと読む)


【課題】本発明では、発色について黄色みを帯びることが抑制された車両用光輝性部品を提供する。
【解決手段】本発明の車両用電磁波透過性塗装樹脂部品は、樹脂基体10と、樹脂基体10の少なくとも1つの面側に配置された光輝性被膜11とを含み、光輝性被膜11が、鱗片状の無機基体と、無機基体を覆い、金、パラジウム、および白金からなる群から選ばれる少なくとも1種の貴金属と銀とを含む銀系合金被膜とを含み、貴金属の含有量が、0.1〜2原子%である光輝性顔料を含む。ただし、前記銀の原子%と前記貴金属の原子%の総和を100原子%とする。 (もっと読む)


【課題】オゾンの発生による誘電率の上昇を防ぎながら、常圧下でシリカ系被膜を形成することができる被膜形成方法及び被膜形成装置を提供すること。
【解決手段】本発明の被膜形成方法及び被膜形成装置は、シリカ系被膜形成用組成物に対し、加熱しながら、200nm以下の波長の光の少なくとも一部を遮断する遮断部材を通して紫外光を照射する手段を有することを特徴とする。この手段を有することで、オゾンの発生による誘電率の上昇を防ぎながら、常圧下でシリカ系被膜を形成することができる。 (もっと読む)


【課題】低誘電性、接着性に優れると共に十分な機械強度を有するシリカ系被膜を形成できるシリカ系被膜形成用組成物を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカ系被膜形成用組成物は、(a)成分:式(1);RSiX4−nで表される化合物を加水分解縮合して得られるシロキサン樹脂、(b)成分:(a)成分を溶解可能な溶媒、及び(c)成分:オニウム塩を含み、(a)成分では、Si原子1モルに対する、H、F、B、N、Al、P、Si、Ge、Ti、及びCから成る群より選ばれる少なくとも一種の原子の総含有割合が0.50モル以下であり、150℃で3分間加熱したときに得られる被膜の応力が10MPa以上であり、且つ、最終硬化により得られる被膜の比誘電率が3.0未満となる硬化特性を有する。 (もっと読む)


【課題】亀裂の発生の検出に最適な体積抵抗率を有し、現場施工が容易であり、精度よく亀裂の発生を検出することができる導電性塗料、導電性塗膜、亀裂検出用塗料及び亀裂検出用塗膜を提供する。
【解決手段】亀裂進展検出用塗膜3は、亀裂C3の進展を検出するための塗膜である。亀裂発生検出用塗膜4は、亀裂C3の発生を検出するための塗膜であり、導電性塗料を塗布して形成されており、この導電性塗料は導電顔料として銀粉及び銀被覆銅粉を含み、有機樹脂としてウレタン樹脂を含む。銀粉と銀被覆銅粉との混合比は、重量比で銀被覆銅粉1に対して銀粉0.5以上であることが好ましい。配線用塗膜5は、亀裂発生検出用塗膜4と電気的に接続される塗膜であり、亀裂発生検出用塗膜4と同一の導電性塗料を塗布して形成されている。配線用塗膜5は、例えば、橋梁の下フランジから腹板に沿って上フランジまで帯状に形成されている。 (もっと読む)


【課題】カーボンナノチューブ(CNT)等の極細炭素そのもののエミッション特性を改善することができ、エミッタとしての寿命を延ばすことができ、さらには、エミッタのエミッション特性に優れた電界電子放出素子を得ることができる極細炭素含有塗料と極細炭素膜の製造方法及び極細炭素膜並びに電界電子放出素子を提供する。
【解決手段】本発明の極細炭素含有塗料は、CNT、炭素繊維、針状炭素粒子等の極細炭素と、アルカリ金属、アルカリ土金属、遷移元素、希土類元素及び貴金属の元素群から選択される1種または2種以上の金属または金属化合物とを複合化した複合物と、有機溶媒と、有機高分子とを含有した塗料である。 (もっと読む)


【課題】金属色パターンを有するフィルムを基礎に、電波透過性を有する加飾成形体を効率良く製造する。
【解決手段】電波透過性能を有するものであって所定の金属色パターンを呈するフィルムアセンブリ10を基礎に、本フィルムアセンブリ10の金属色パターンの視認されない側である裏面側へ、本プラスチック成形体の基礎を成すベース基材部30をインジェクション成形手段等を用いて設けるベース基材部形成工程と、このように形成されたものの上記金属色パターンの視認される表面側へ、透明性のあるクリヤ層20を設けるクリヤ層形成工程と、からなる。 (もっと読む)


【課題】 比誘電率が3.0以下と小さく、しかもヤング弾性率が3.0 GPa以上の被膜強度を有する低誘電率非晶質シリカ系被膜を基板上に安定的に形成する方法に関する。
【解決手段】 (a)テトラアルキルアンモニウムハイドロオキサイド(TAAOH)の存在下で加水分解して得られる有機ケイ素化合物の加水分解物を含む液状組成物を基板上に塗布する工程、(b)前記基板を装置内に収納し、該基板上に形成された被膜を25〜340℃の温度条件下で乾燥する工程、(c)前記装置内に水蒸気を導入し、前記被膜を105〜450℃の温度条件下で加熱して加熱処理する工程、および(d)前記装置内に窒素ガスを導入して、前記被膜を350〜450℃の温度条件下で焼成する工程を含む各工程で少なくとも処理することを特徴とする低誘電率非晶質シリカ系被膜の形成方法。 (もっと読む)


【課題】従来の電子放出源に比べ、微細炭素繊維が均一に分散されており、その製造も容易な電子放出源を提供することを主たる課題とする。
【解決手段】少なくとも、外径15〜100nmの炭素繊維から構成される3次元ネットワーク状を呈しており、前記炭素繊維が複数延出する態様で、当該炭素繊維を互いに結合する粒状部を有しており、かつ、当該粒状部は前記炭素繊維の成長過程において形成されてなるものである炭素繊維構造体と、バインダー樹脂と、からなる炭素繊維構造体分散液を形成し、前記炭素繊維構造体分散溶液を基板上に塗布し、固化することにより電子放出源とする。 (もっと読む)


【課題】ABO型ペロブスカイト構造をもつ誘電体薄膜を製造するにあたって、誘電率が高くかつリーク電流の少ない誘電体薄膜が得られる製造装置を提供すること。
【課題を解決する手段】
前記構造の結晶構造を有する薄膜の前駆体を含む塗布液を基板に塗布する塗布ユニットと焼成の前処理である加熱処理を行う加熱ユニットと基板を塗布ユニットから加熱ユニットまで搬送する基板搬送手段と前記塗布ユニット、加熱ユニット及び基板搬送手段がその中に配置される筐体と搬送領域に気流を形成するための気流形成手段と気流形成手段に取り込まれる気体中のCO2をアルカリ成分により中和除去する中和処理部とを備えるように塗布膜形成装置を構成して搬送領域のCO2濃度を抑えながらこの搬送領域における基板の搬送を行い塗布膜中の化合物とCO2との反応を抑え、膜中におけるリーク電流を誘発するパスの形成を抑える。
(もっと読む)


【課題】 アルカリ金属成分を蒸発させることなく、高い緻密度で、優れた圧電特性を有するニオブ酸カリウムナトリウム系圧電薄膜を製造する方法を提供することにある。
【解決手段】 アルカリ金属が蒸発しない基板温度、例えば800℃以下の基板温度とした基板3上に、エアロゾルデポジション法により組成式(KxNayLiz)NbO3(0≦x≦1、0≦y≦1、0≦z≦1、x+y+z=1)で表されるニオブ系酸化物の微粒子を吹き付けることにより、圧電定数d31の絶対値が100pm/V以上であり、緻密度が80%以上である圧電薄膜4を形成する。 (もっと読む)


【課題】 AD法を用いて、高温プロセスを経ることなく結晶性の良い膜を作製できるセラミックス膜の製造方法等を提供する。
【解決手段】 この製造方法は、エアロゾルを利用したセラミックス膜の製造方法であって、非結晶性の成分を含有するセラミックス原料粉をガスに分散させることによってエアロゾルを生成する工程(a)と、工程(a)において生成されたエアロゾルを基板が配置されたチャンバ内に供給して、上記セラミックス原料粉を基板に堆積させることにより膜を形成する工程(b)とを含む。 (もっと読む)


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