反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネル
【課題】外観の秀麗なデザインを具現すると共に反射防止機能を持つ反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法、及び、反射防止用ディスプレーウインドウパネルを提供する。
【解決手段】ガラスまたはシリコーンウエハー基板上に光を照射して微細ナノパターンを形成する反射防止コア用マスターの形成段階（Ｓ１０）と、マスターに電解メッキ工程を通じて一面に等しい形態の微細ナノパターンを持つニッケルコアプレート製作段階（Ｓ２０）と、ニッケルコアプレートを下部金型コアに附着させ微細ナノパターンが形成された一面が露出する金型の準備段階（Ｓ３０）と、上部金型と下部金型との間に溶融樹脂を入れ込み急加熱及び急冷させて微細ナノパターンが形成された反射防止用ディスプレーウインドウパネルを成型する射出成型段階（Ｓ５０）と、を有する。
【解決手段】ガラスまたはシリコーンウエハー基板上に光を照射して微細ナノパターンを形成する反射防止コア用マスターの形成段階（Ｓ１０）と、マスターに電解メッキ工程を通じて一面に等しい形態の微細ナノパターンを持つニッケルコアプレート製作段階（Ｓ２０）と、ニッケルコアプレートを下部金型コアに附着させ微細ナノパターンが形成された一面が露出する金型の準備段階（Ｓ３０）と、上部金型と下部金型との間に溶融樹脂を入れ込み急加熱及び急冷させて微細ナノパターンが形成された反射防止用ディスプレーウインドウパネルを成型する射出成型段階（Ｓ５０）と、を有する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルに係り、より詳しくは、携帯電話（Ｍｏｂｉｌｅ Ｐｈｏｎｅ）、ＰＤＡフォーンやコンテンツを確認及び使うことができるすべての種類の個人用小型電子製品の透明ディスプレーウインドウパネルに適用して、該当の製品のディスプレー上で外部光または光源による高反射や内部光源の低透過によって使用者の視野角を妨害する問題と、該当のコンテンツの低い鮮明度問題とを解決するための反射防止（ＡＲ： Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）機能を具備すると同時に、高い温度を耐えることができる特殊な耐熱性フィルム（Ｆｉｌｍ）を使って、印刷後、急加熱／急冷射出時、インクの転写を通じて秀麗な外観デザインを別途の後処理なしに具現することによって、美麗な外観製品で使うことができる反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、携帯電話などのような小型電子製品のディスプレーウインドウ製品上では、図８に図示したように、外部から入射する“外部光”や “外部光源”により表面から発生する乱反射によって視野角が惚けるか、またはディスレイウインドウに入射する “入射光源”が表面から反射して相対的に透過性が低下してディスプレーウインドウ上に表示されるさまざまなコンテンツを易しく確認することができない現像が発生する。
【０００３】
このような問題点を解決するために、従来のディスプレーウインドウ製品では、製品画面の鮮明度及び視野角を確保するために反射防止膜を使って視野角及び鮮明度の問題を解決しようとした。
【０００４】
すなわち、図９に図示したように、従来の反射防止膜（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）方法の一例として、多層薄膜形成により反射防止膜を形成して製品画面の鮮明度及び視野角を確保しようとした。しかし、このような方法もお互いに違う薄膜の屈折率特性を利用するので、光の反射機能が低減するという問題点がある。
【０００５】
すなわち、図９に図示した方法は、真空環境で薄膜蒸着が成り立つスパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ） 工程が必要であり、多くの材料を形成しなければならないので、複雑な工程条件、多くの工程時間、及び高い不良率は避けることができないという問題点がある。
【０００６】
また、このような方法は、ディスプレーウインドウを製作した後、また後続工程である薄膜蒸着工程が必要であり、これによる工程時間の増大及び品質損失も避けることができない。
【０００７】
図１０は反射防止（Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）機能を具現するためのさらに他の方法を示す概略図である。
【０００８】
すなわち、図１０に図示したように、ディスプレーウインドウ上に特定パターン（図面番号未付与）を具備して反射防止機能を具現化している。しかし、このような方法は、特定パターンにより反射防止效果を発揮することができるが、光透過度がめっきり低下する現像が発生し、このような方法も、ディスプレーウインドウを製作した後、特定パターンを形成するなど複雑で多数の工程の必要な問題点がある。 特許文献１参照。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００７−２９８９９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は前記のような点に鑑みてなされたものであって、本発明の主な目的は、急加熱／急冷ＩＭＤ射出工程を通じて作られたプラスチックディスプレーウインドウパネルの射出の時、外観の秀麗なデザインを具現すると同時に、反射防止（Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）機能を持つようにする反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造した反射防止用ディスプレーウインドウパネルの提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、反射防止（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）の機能を具現するために特殊なＩＭＤ射出金型構造及び射出成型工程を提供する反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルの提供することにある。
【００１２】
本発明のさらに他の目的は、反射防止（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）の機能を具現するために高耐熱性の特殊フィルムを適用した急加熱及び急冷のＩＭＤ射出工程及び特定ナノパターン（Ｎａｎｏ−ｐａｔｔｅｒｎ）が形成されたニッケルプレート（Ｎｉｃｋｅｌ−Ｐｌａｔｅ）を使う反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルの提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的は、反射防止膜上に他の層が全然加えられない反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルの提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
このような目的を達成するための本発明の、反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法は、その製造方法において、ガラスまたはシリコーンウエハー（Ｗａｆｅｒ）基板上に光を照射してエッチング工程を通じて微細ナノパターンを形成する反射防止コア用マスターの形成段階と、前記微細ナノパターンが形成された反射防止コア用マスターに電解メッキ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｐｌａｔｉｎｇ）工程を通じて一面に等しい形態の微細ナノパターンを持つニッケルコアプレートの製作段階と、前記ニッケルコアプレートを反射防止コア金型の下部金型コアの粒子コア上に附着して前記微細ナノパターンが形成された前記ニッケルコアプレートの前記一面が露出するようにする反射防止用ＩＭＤコア金型の準備段階と、前記反射防止コア金型の上部金型コアと下部金型コアとの間に高温の溶融樹脂を入れ込んで急加熱及び急冷と共に射出成型を遂行することによって、反射防止用微細ナノパターンが形成された反射防止用ディスプレーウインドウパネルが作られるＩＭＤ射出成型段階と、を有することを特徴とする。
【００１５】
ここで、前記反射防止コア用マスターの形成段階は、前記ガラスまたはシリコーンウエハー基板を準備する段階と、前記基板上にフォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）でコーティング（ｃｏａｔｉｎｇ）する段階と、前記フォトレジストにコーティングされた基板を予熱（ｐｒｅｂａｋｅ）する段階と、前記フォトレジストの上面の方へ特定デジタル信号処理を受ける光を照射する段階と、前記光の照射後に現像（ｄｅｖｅｌｏｐ）、エッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）、インプラント（ｉｍｐｌａｎｔ）工程を通じて前記基板上部に願う前記微細ナノパターンを形成する段階と、を有することを特徴とする。
【００１６】
望ましくは、前記反射防止用ＩＭＤコア金型の準備段階後には、樹脂層状にシルクスクリーンタイプまたはグラビヤ印刷タイプ（Ｇｒａｖｕｒｅ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）の印刷方法を通じてインク印刷層を形成し、その上にＵＶコーティング工程を処理して耐熱性フィルムを完成し、前記ＩＭＤ射出成型の時、前記ニッケルコアプレートが具備されて附着した前記下部金型コアと上部金型コア間に前記耐熱性フィルムを挿入させる段階をさらに遂行することを特徴とする。
【００１７】
望ましくは、前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）が具備されて附着した下部金型コアと上部金型コアとの間に前記耐熱性フィルムを入れた状態で、前記高温の溶融樹脂を入れ込んで射出成型を遂行すると同時に、耐熱性フィルムのインク転写を遂行することによって、最終射出完了した反射防止用ディスプレーウインドウパネルの一側面には前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）の微細ナノパターンにより反射防止機能が具現され、その反対面には前記耐熱性フィルムのインク転写を通じて外観デザインを具現することを特徴とする。
【００１８】
望ましくは、前記耐熱性フィルムは、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、またはポリカーボネート（ＰＣ）で製造されることを特徴とする。
【００１９】
また、上述した製造方法によって製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルが具備されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
以上説明したように、本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルによれば、携帯電話（Ｍｏｂｉｌｅ Ｐｈｏｎｅ）、ＰＤＡフォーンやコンテンツを確認及び使うことができるすべての種類の個人用小型電子製品の透明ディスプレーウインドウパネルに適用して、該当の製品のディスプレー上で外部光または光源による高反射や内部光源の低透過によって使用者の視野角を妨害する問題と該当のコンテンツの低い鮮明度問題を解決するための反射防止（ＡＲ： Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）機能を具備すると同時に、高い温度を耐えることができる特殊な耐熱性フィルム（Ｆｉｌｍ）を使って、印刷後、急加熱／急冷射出時、インクの転写を通じて秀麗な外観デザインを別途の後処理なしに具現することによって、美麗な外観製品として使うことができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法を示す手順図である。
【図２】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図３】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図４】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図５】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図６】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図７】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図８】従来のディスプレーウインドウ上に乱反射によって視野角が惚ける状態は示す概略的な模式図である。
【図９】従来の反射防止膜（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ） 方法の一例として多層薄膜形成によって反射防止膜を形成する状態を示す図面である。
【図１０】従来の反射防止（Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ） 機能を具現するためのさらに他の方法を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下本発明を添付した図面に基づいて詳細に説明する。
【００２３】
図１は本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法を示す手順図である、図２ないし図７は本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図として便宜上一緒に説明する。
【００２４】
図示したように、本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネル１００の製造方法は、反射防止（ＡＲ； Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）コア用マスター（ｍａｓｔｅｒ）の形成段階（Ｓ１０）と、ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）の製作段階（Ｓ２０）と、反射防止用ＩＭＤ（Ｉｎ−Ｍｏｌｄ Ｄｅｃｏｒａｔｉｏｎ）コア金型の準備段階（Ｓ３０）と、耐熱性フィルムの形成及び挿入段階（Ｓ４０）と、ＩＭＤ射出成型段階（Ｓ５０）とを有する。
【００２５】
前記反射防止（ＡＲ； Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）コア用マスター（ｍａｓｔｅｒ）の形成段階（Ｓ１０）では、ガラスまたはシリコーンＷａｆｅｒなどのような基板１０上にフォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）のような特定化学薬品を処理してその表面上に特定デジタル信号処理を受ける光１２を照射して願う微細ナノパターン１３を形成する。
【００２６】
すなわち、図２の工程図に図示したように、前記反射防止コア用マスター（図面番号未付与）の形成段階（Ｓ１０）は、ガラス（ｇｌａｓｓ）またはシリコーンＷａｆｅｒ（ｓｉｌｉｃａｏｎ ｗａｆｅｒ）などのような基板１０を準備する段階と、前記基板１０上にフォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）１１でコーティング（ｃｏａｔｉｎｇ）する段階と、前記フォトレジスト１１にコーティングされた基板１０を予熱（ｐｒｅｂａｋｅ）する段階と、前記フォトレジスト１１の上面の方へ１または０の特定デジタル信号処理を受ける光１２を照射する段階と、前記光１３の照射後に公知の現像（ｄｅｖｅｌｏｐ）、エッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）、インプラント（ｉｍｐｌａｎｔ） などの工程を通じて基板１０上部に願う微細ナノパターン１３を形成する段階とを有する。
【００２７】
ここで、反射防止コア用マスター（図面番号未付与）の大きさは制限されずに、製品の大きさによって多様なサイズで製造できる。
【００２８】
前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０の製作段階（Ｓ２０）では、図３の工程図に図示したように、微細ナノパターン１３が形成された反射防止コア用マスター（図面番号未付与）は、電解メッキ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｐｌａｔｉｎｇ） 工程（図３ 参照）を通じて一定の厚さと機械特性を持ち、反射防止コア用マスターの微細ナノパターン１３と対応される等しい形態の微細ナノパターン２１が一面に形成されるニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０を製作する。
【００２９】
このようなニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０の製作可能な厚さは多様に具現され、相応しい厚さは１〜２ｍｍである。
【００３０】
また、製作されたニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０は、射出成型での製品品質のために、Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ工程が遂行され、以後、射出成型工程に相応しいサイズを持つパンチング（Ｐｕｎｃｈｉｎｇ）加工をした後、加工完了したニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０を後述する反射防止用ＩＭＤコア金型３０に使用する。
【００３１】
前記反射防止用ＩＭＤ（Ｉｎ−Ｍｏｌｄ Ｄｅｃｏｒａｔｉｏｎ）コア金型の準備段階（Ｓ３０）では、図４に図示したように、上部金型コア３２と、その内側に粒子コア３３を持つ下部金型コア３１とで成り立ったＩＭＤ（Ｉｎ−Ｍｏｌｄ Ｄｅｃｏｒａｔｉｏｎ）コア金型３０を準備する。
【００３２】
これを更に具体的に説明すれば、金型の製作の時、前記のように製作された反射防止機能（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＡＲ） 機能）を持ったニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０を下部金型コア３１に設置された粒子コア３３上に微細ナノパターン２１部分が露出するように附着させ、前記下部金型コア３１の反対側である上部金型コア３２の内側面は高光沢面で処理して金型を製作する。
【００３３】
ここで、前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０の組立は熔接や超音波接合などの付着方法で製作する。
【００３４】
また、本発明による金型は、後述するように金型間に印刷したフィルムを挿入して成型と同時に、インク（ｉｎｋ）層を射出物に転写させる成型方式であるＩＭＤが可能な構造を有する。
【００３５】
前記耐熱性フィルムの形成及び挿入段階（Ｓ４０）では、図５に図示したように、樹脂層４１上に公知のシルクスクリーンタイプまたはグラビヤ印刷タイプ（Ｇｒａｖｕｒｅ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）などの印刷方法を通じて絵などが印刷したインク印刷層４２を形成し、その上に公知のＵＶコーティング工程を処理して耐熱性フィルム４０を完成する。
【００３６】
前記耐熱性フィルムは、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、またはポリカーボネート（ＰＣ）などで製造されたフィルムであるが、最小摂氏１２０度以上の高温を耐えることができる耐熱性材質であるならば、本発明においてその材質及び種類を限定するものではない。
【００３７】
このように完成された耐熱性フィルム４０は、後述するＩＭＤ射出成型の時、ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０が具備されて附着した下部金型コア３１と上部金型コア３２との間に挿入し、高温の溶融樹脂を入れ込んで成型と同時に転写されても、高温で損傷されないフィルム及びインクを使うことによって、ＩＭＤ射出の時、インク印刷層が射出物に転写されて所望のグラフィックを具現し、射出物が秀麗な外観を持つようになる。
【００３８】
前記ＩＭＤ射出成型段階（Ｓ５０）では、図４に図示したニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０が具備されて附着した下部金型コア３１と上部金型コア３２との間の空間に耐熱性フィルム４０を入れた状態で、高温の溶融樹脂を入れ込んで成型と同時に転写されるようにして、一側面（１０１： ディスプレー面）にはニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０の微細ナノパターン２１により反射防止機能が具現され、その反対面１０２には前記耐熱性フィルム４０のインク転写を通じて願うグラフィックなどにより美麗な外観デザインを具現し、本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネル１００を完成する （図６ 参照）。
【００３９】
ここで、上述したように、高温で損傷されないフィルム及びインクを使うことによって、ＩＭＤ射出の時、最小１２０度から最大１８０度までの高温の射出工程下でも作業が可能になる。
【００４０】
一方、一度の射出後、高温の金型温度を冷却させるために急冷システムが適用されなければならないし、冷却した金型温度を上昇させるために急加熱システムが適用されて継続的な射出金型工程を適用でき、このような連続的な急加熱及び急冷は、公知された高周波などの方法により必要な部分に局所的に適切な時間制御（サイクルタイム改善）が可能であり、このようなシステムによる射出金型は、公知された技術であるので、これ以上の詳細な説明は略する。
【００４１】
図７は上述した製造工程を通じて製造されたディスプレーウインドウパネル１００の一側面（１０１： ディスプレー面）に形成されて反射を最小化して透過を高めることができるナノパターンの写真を示す。
【００４２】
図７に図示したように、複数個のナノパターンの形象は、トップ（ｔｏｐ）部分とボト（ｂｏｔｔｏｍ）部分の模様が相互に同じでなく、検査結果として、そのトップ部分は ５０〜２００ｎｍの大きさを持ち、その深み（ｄｅｐｔｈ）は１００〜３００ｎｍを持つこと、及び、卓越な反射防止效果及び高い透過率を有することが明らかになった。
【００４３】
以上では本発明を実施例によって詳細に説明したが、本発明は実施例に限定されない。本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものは技術的範囲内において容易に変更することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明は、反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造される反射防止用ディスプレーウインドウパネルの分野に適用できる。
【符号の説明】
【００４５】
１０ ガラスまたはシリコーンＷａｆｅｒなどのような基板
１１ フォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）
１２ 光
１３、２１ 微細ナノパターン
２０ ニッケルコアプレート
３０ ＩＭＤ（Ｉｎ−Ｍｏｌｄ Ｄｅｃｏｒａｔｉｏｎ）コア金型
３１ 下部金型コア
３２ 上部金型コア
３３ 粒子コア
４０ 耐熱性フィルム
４１ 樹脂層
４２ インク印刷層
１００ 本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネル
１０１ ディスプレー面
１０２ 反対面（外観デザイン面）
【技術分野】
【０００１】
本発明は反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルに係り、より詳しくは、携帯電話（Ｍｏｂｉｌｅ Ｐｈｏｎｅ）、ＰＤＡフォーンやコンテンツを確認及び使うことができるすべての種類の個人用小型電子製品の透明ディスプレーウインドウパネルに適用して、該当の製品のディスプレー上で外部光または光源による高反射や内部光源の低透過によって使用者の視野角を妨害する問題と、該当のコンテンツの低い鮮明度問題とを解決するための反射防止（ＡＲ： Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）機能を具備すると同時に、高い温度を耐えることができる特殊な耐熱性フィルム（Ｆｉｌｍ）を使って、印刷後、急加熱／急冷射出時、インクの転写を通じて秀麗な外観デザインを別途の後処理なしに具現することによって、美麗な外観製品で使うことができる反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
一般的に、携帯電話などのような小型電子製品のディスプレーウインドウ製品上では、図８に図示したように、外部から入射する“外部光”や “外部光源”により表面から発生する乱反射によって視野角が惚けるか、またはディスレイウインドウに入射する “入射光源”が表面から反射して相対的に透過性が低下してディスプレーウインドウ上に表示されるさまざまなコンテンツを易しく確認することができない現像が発生する。
【０００３】
このような問題点を解決するために、従来のディスプレーウインドウ製品では、製品画面の鮮明度及び視野角を確保するために反射防止膜を使って視野角及び鮮明度の問題を解決しようとした。
【０００４】
すなわち、図９に図示したように、従来の反射防止膜（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）方法の一例として、多層薄膜形成により反射防止膜を形成して製品画面の鮮明度及び視野角を確保しようとした。しかし、このような方法もお互いに違う薄膜の屈折率特性を利用するので、光の反射機能が低減するという問題点がある。
【０００５】
すなわち、図９に図示した方法は、真空環境で薄膜蒸着が成り立つスパッタリング（ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ） 工程が必要であり、多くの材料を形成しなければならないので、複雑な工程条件、多くの工程時間、及び高い不良率は避けることができないという問題点がある。
【０００６】
また、このような方法は、ディスプレーウインドウを製作した後、また後続工程である薄膜蒸着工程が必要であり、これによる工程時間の増大及び品質損失も避けることができない。
【０００７】
図１０は反射防止（Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）機能を具現するためのさらに他の方法を示す概略図である。
【０００８】
すなわち、図１０に図示したように、ディスプレーウインドウ上に特定パターン（図面番号未付与）を具備して反射防止機能を具現化している。しかし、このような方法は、特定パターンにより反射防止效果を発揮することができるが、光透過度がめっきり低下する現像が発生し、このような方法も、ディスプレーウインドウを製作した後、特定パターンを形成するなど複雑で多数の工程の必要な問題点がある。 特許文献１参照。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２００７−２９８９９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は前記のような点に鑑みてなされたものであって、本発明の主な目的は、急加熱／急冷ＩＭＤ射出工程を通じて作られたプラスチックディスプレーウインドウパネルの射出の時、外観の秀麗なデザインを具現すると同時に、反射防止（Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）機能を持つようにする反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造した反射防止用ディスプレーウインドウパネルの提供することにある。
【００１１】
本発明の他の目的は、反射防止（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）の機能を具現するために特殊なＩＭＤ射出金型構造及び射出成型工程を提供する反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルの提供することにある。
【００１２】
本発明のさらに他の目的は、反射防止（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）の機能を具現するために高耐熱性の特殊フィルムを適用した急加熱及び急冷のＩＭＤ射出工程及び特定ナノパターン（Ｎａｎｏ−ｐａｔｔｅｒｎ）が形成されたニッケルプレート（Ｎｉｃｋｅｌ−Ｐｌａｔｅ）を使う反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルの提供することにある。
【００１３】
本発明のさらに他の目的は、反射防止膜上に他の層が全然加えられない反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルの提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
このような目的を達成するための本発明の、反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法は、その製造方法において、ガラスまたはシリコーンウエハー（Ｗａｆｅｒ）基板上に光を照射してエッチング工程を通じて微細ナノパターンを形成する反射防止コア用マスターの形成段階と、前記微細ナノパターンが形成された反射防止コア用マスターに電解メッキ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｐｌａｔｉｎｇ）工程を通じて一面に等しい形態の微細ナノパターンを持つニッケルコアプレートの製作段階と、前記ニッケルコアプレートを反射防止コア金型の下部金型コアの粒子コア上に附着して前記微細ナノパターンが形成された前記ニッケルコアプレートの前記一面が露出するようにする反射防止用ＩＭＤコア金型の準備段階と、前記反射防止コア金型の上部金型コアと下部金型コアとの間に高温の溶融樹脂を入れ込んで急加熱及び急冷と共に射出成型を遂行することによって、反射防止用微細ナノパターンが形成された反射防止用ディスプレーウインドウパネルが作られるＩＭＤ射出成型段階と、を有することを特徴とする。
【００１５】
ここで、前記反射防止コア用マスターの形成段階は、前記ガラスまたはシリコーンウエハー基板を準備する段階と、前記基板上にフォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）でコーティング（ｃｏａｔｉｎｇ）する段階と、前記フォトレジストにコーティングされた基板を予熱（ｐｒｅｂａｋｅ）する段階と、前記フォトレジストの上面の方へ特定デジタル信号処理を受ける光を照射する段階と、前記光の照射後に現像（ｄｅｖｅｌｏｐ）、エッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）、インプラント（ｉｍｐｌａｎｔ）工程を通じて前記基板上部に願う前記微細ナノパターンを形成する段階と、を有することを特徴とする。
【００１６】
望ましくは、前記反射防止用ＩＭＤコア金型の準備段階後には、樹脂層状にシルクスクリーンタイプまたはグラビヤ印刷タイプ（Ｇｒａｖｕｒｅ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）の印刷方法を通じてインク印刷層を形成し、その上にＵＶコーティング工程を処理して耐熱性フィルムを完成し、前記ＩＭＤ射出成型の時、前記ニッケルコアプレートが具備されて附着した前記下部金型コアと上部金型コア間に前記耐熱性フィルムを挿入させる段階をさらに遂行することを特徴とする。
【００１７】
望ましくは、前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）が具備されて附着した下部金型コアと上部金型コアとの間に前記耐熱性フィルムを入れた状態で、前記高温の溶融樹脂を入れ込んで射出成型を遂行すると同時に、耐熱性フィルムのインク転写を遂行することによって、最終射出完了した反射防止用ディスプレーウインドウパネルの一側面には前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）の微細ナノパターンにより反射防止機能が具現され、その反対面には前記耐熱性フィルムのインク転写を通じて外観デザインを具現することを特徴とする。
【００１８】
望ましくは、前記耐熱性フィルムは、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、またはポリカーボネート（ＰＣ）で製造されることを特徴とする。
【００１９】
また、上述した製造方法によって製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルが具備されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００２０】
以上説明したように、本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネルによれば、携帯電話（Ｍｏｂｉｌｅ Ｐｈｏｎｅ）、ＰＤＡフォーンやコンテンツを確認及び使うことができるすべての種類の個人用小型電子製品の透明ディスプレーウインドウパネルに適用して、該当の製品のディスプレー上で外部光または光源による高反射や内部光源の低透過によって使用者の視野角を妨害する問題と該当のコンテンツの低い鮮明度問題を解決するための反射防止（ＡＲ： Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）機能を具備すると同時に、高い温度を耐えることができる特殊な耐熱性フィルム（Ｆｉｌｍ）を使って、印刷後、急加熱／急冷射出時、インクの転写を通じて秀麗な外観デザインを別途の後処理なしに具現することによって、美麗な外観製品として使うことができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法を示す手順図である。
【図２】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図３】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図４】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図５】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図６】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図７】本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図等である。
【図８】従来のディスプレーウインドウ上に乱反射によって視野角が惚ける状態は示す概略的な模式図である。
【図９】従来の反射防止膜（ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ） 方法の一例として多層薄膜形成によって反射防止膜を形成する状態を示す図面である。
【図１０】従来の反射防止（Ａｎｔｉ−ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ） 機能を具現するためのさらに他の方法を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下本発明を添付した図面に基づいて詳細に説明する。
【００２３】
図１は本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法を示す手順図である、図２ないし図７は本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造工程図として便宜上一緒に説明する。
【００２４】
図示したように、本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネル１００の製造方法は、反射防止（ＡＲ； Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）コア用マスター（ｍａｓｔｅｒ）の形成段階（Ｓ１０）と、ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）の製作段階（Ｓ２０）と、反射防止用ＩＭＤ（Ｉｎ−Ｍｏｌｄ Ｄｅｃｏｒａｔｉｏｎ）コア金型の準備段階（Ｓ３０）と、耐熱性フィルムの形成及び挿入段階（Ｓ４０）と、ＩＭＤ射出成型段階（Ｓ５０）とを有する。
【００２５】
前記反射防止（ＡＲ； Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ）コア用マスター（ｍａｓｔｅｒ）の形成段階（Ｓ１０）では、ガラスまたはシリコーンＷａｆｅｒなどのような基板１０上にフォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）のような特定化学薬品を処理してその表面上に特定デジタル信号処理を受ける光１２を照射して願う微細ナノパターン１３を形成する。
【００２６】
すなわち、図２の工程図に図示したように、前記反射防止コア用マスター（図面番号未付与）の形成段階（Ｓ１０）は、ガラス（ｇｌａｓｓ）またはシリコーンＷａｆｅｒ（ｓｉｌｉｃａｏｎ ｗａｆｅｒ）などのような基板１０を準備する段階と、前記基板１０上にフォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）１１でコーティング（ｃｏａｔｉｎｇ）する段階と、前記フォトレジスト１１にコーティングされた基板１０を予熱（ｐｒｅｂａｋｅ）する段階と、前記フォトレジスト１１の上面の方へ１または０の特定デジタル信号処理を受ける光１２を照射する段階と、前記光１３の照射後に公知の現像（ｄｅｖｅｌｏｐ）、エッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）、インプラント（ｉｍｐｌａｎｔ） などの工程を通じて基板１０上部に願う微細ナノパターン１３を形成する段階とを有する。
【００２７】
ここで、反射防止コア用マスター（図面番号未付与）の大きさは制限されずに、製品の大きさによって多様なサイズで製造できる。
【００２８】
前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０の製作段階（Ｓ２０）では、図３の工程図に図示したように、微細ナノパターン１３が形成された反射防止コア用マスター（図面番号未付与）は、電解メッキ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｐｌａｔｉｎｇ） 工程（図３ 参照）を通じて一定の厚さと機械特性を持ち、反射防止コア用マスターの微細ナノパターン１３と対応される等しい形態の微細ナノパターン２１が一面に形成されるニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０を製作する。
【００２９】
このようなニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０の製作可能な厚さは多様に具現され、相応しい厚さは１〜２ｍｍである。
【００３０】
また、製作されたニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０は、射出成型での製品品質のために、Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ工程が遂行され、以後、射出成型工程に相応しいサイズを持つパンチング（Ｐｕｎｃｈｉｎｇ）加工をした後、加工完了したニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０を後述する反射防止用ＩＭＤコア金型３０に使用する。
【００３１】
前記反射防止用ＩＭＤ（Ｉｎ−Ｍｏｌｄ Ｄｅｃｏｒａｔｉｏｎ）コア金型の準備段階（Ｓ３０）では、図４に図示したように、上部金型コア３２と、その内側に粒子コア３３を持つ下部金型コア３１とで成り立ったＩＭＤ（Ｉｎ−Ｍｏｌｄ Ｄｅｃｏｒａｔｉｏｎ）コア金型３０を準備する。
【００３２】
これを更に具体的に説明すれば、金型の製作の時、前記のように製作された反射防止機能（Ａｎｔｉ−Ｒｅｆｌｅｃｔｉｏｎ（ＡＲ） 機能）を持ったニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０を下部金型コア３１に設置された粒子コア３３上に微細ナノパターン２１部分が露出するように附着させ、前記下部金型コア３１の反対側である上部金型コア３２の内側面は高光沢面で処理して金型を製作する。
【００３３】
ここで、前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０の組立は熔接や超音波接合などの付着方法で製作する。
【００３４】
また、本発明による金型は、後述するように金型間に印刷したフィルムを挿入して成型と同時に、インク（ｉｎｋ）層を射出物に転写させる成型方式であるＩＭＤが可能な構造を有する。
【００３５】
前記耐熱性フィルムの形成及び挿入段階（Ｓ４０）では、図５に図示したように、樹脂層４１上に公知のシルクスクリーンタイプまたはグラビヤ印刷タイプ（Ｇｒａｖｕｒｅ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）などの印刷方法を通じて絵などが印刷したインク印刷層４２を形成し、その上に公知のＵＶコーティング工程を処理して耐熱性フィルム４０を完成する。
【００３６】
前記耐熱性フィルムは、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、またはポリカーボネート（ＰＣ）などで製造されたフィルムであるが、最小摂氏１２０度以上の高温を耐えることができる耐熱性材質であるならば、本発明においてその材質及び種類を限定するものではない。
【００３７】
このように完成された耐熱性フィルム４０は、後述するＩＭＤ射出成型の時、ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０が具備されて附着した下部金型コア３１と上部金型コア３２との間に挿入し、高温の溶融樹脂を入れ込んで成型と同時に転写されても、高温で損傷されないフィルム及びインクを使うことによって、ＩＭＤ射出の時、インク印刷層が射出物に転写されて所望のグラフィックを具現し、射出物が秀麗な外観を持つようになる。
【００３８】
前記ＩＭＤ射出成型段階（Ｓ５０）では、図４に図示したニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０が具備されて附着した下部金型コア３１と上部金型コア３２との間の空間に耐熱性フィルム４０を入れた状態で、高温の溶融樹脂を入れ込んで成型と同時に転写されるようにして、一側面（１０１： ディスプレー面）にはニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）２０の微細ナノパターン２１により反射防止機能が具現され、その反対面１０２には前記耐熱性フィルム４０のインク転写を通じて願うグラフィックなどにより美麗な外観デザインを具現し、本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネル１００を完成する （図６ 参照）。
【００３９】
ここで、上述したように、高温で損傷されないフィルム及びインクを使うことによって、ＩＭＤ射出の時、最小１２０度から最大１８０度までの高温の射出工程下でも作業が可能になる。
【００４０】
一方、一度の射出後、高温の金型温度を冷却させるために急冷システムが適用されなければならないし、冷却した金型温度を上昇させるために急加熱システムが適用されて継続的な射出金型工程を適用でき、このような連続的な急加熱及び急冷は、公知された高周波などの方法により必要な部分に局所的に適切な時間制御（サイクルタイム改善）が可能であり、このようなシステムによる射出金型は、公知された技術であるので、これ以上の詳細な説明は略する。
【００４１】
図７は上述した製造工程を通じて製造されたディスプレーウインドウパネル１００の一側面（１０１： ディスプレー面）に形成されて反射を最小化して透過を高めることができるナノパターンの写真を示す。
【００４２】
図７に図示したように、複数個のナノパターンの形象は、トップ（ｔｏｐ）部分とボト（ｂｏｔｔｏｍ）部分の模様が相互に同じでなく、検査結果として、そのトップ部分は ５０〜２００ｎｍの大きさを持ち、その深み（ｄｅｐｔｈ）は１００〜３００ｎｍを持つこと、及び、卓越な反射防止效果及び高い透過率を有することが明らかになった。
【００４３】
以上では本発明を実施例によって詳細に説明したが、本発明は実施例に限定されない。本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものは技術的範囲内において容易に変更することができる。
【産業上の利用可能性】
【００４４】
本発明は、反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法及びこれにより製造される反射防止用ディスプレーウインドウパネルの分野に適用できる。
【符号の説明】
【００４５】
１０ ガラスまたはシリコーンＷａｆｅｒなどのような基板
１１ フォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）
１２ 光
１３、２１ 微細ナノパターン
２０ ニッケルコアプレート
３０ ＩＭＤ（Ｉｎ−Ｍｏｌｄ Ｄｅｃｏｒａｔｉｏｎ）コア金型
３１ 下部金型コア
３２ 上部金型コア
３３ 粒子コア
４０ 耐熱性フィルム
４１ 樹脂層
４２ インク印刷層
１００ 本発明による反射防止用ディスプレーウインドウパネル
１０１ ディスプレー面
１０２ 反対面（外観デザイン面）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法において、
ガラスまたはシリコーンウエハー（Ｗａｆｅｒ）基板上に光を照射してエッチング工程を通じて微細ナノパターンを形成する反射防止コア用マスターの形成段階と、
前記微細ナノパターンが形成された反射防止コア用マスターに電解メッキ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｐｌａｔｉｎｇ）工程を通じて一面に等しい形態の微細ナノパターンを持つニッケルコアプレートの製作段階と、
前記ニッケルコアプレートを反射防止コア金型の下部金型コアの粒子コア上に附着させ、前記微細ナノパターンが形成された前記ニッケルコアプレートの前記一面が露出するようにする反射防止用ＩＭＤコア金型の準備段階と、
前記反射防止コア金型の上部金型コアと下部金型コアとの間に高温の溶融樹脂を入れ込んで急加熱及び急冷と共に射出成型を遂行することによって、反射防止用微細ナノパターンが形成された反射防止用ディスプレーウインドウパネルが作られるＩＭＤ射出成型段階と、
を有することを特徴とする反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項２】
前記反射防止コア用マスターの形成段階は、
前記ガラスまたはシリコーンウエハー基板を準備する段階と、
前記基板上にフォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）でコーティング（ｃｏａｔｉｎｇ）する段階と、
前記フォトレジストにコーティングされた基板を予熱（ｐｒｅｂａｋｅ）する段階と、
前記フォトレジストの上面の方へ特定デジタル信号処理を受ける光を照射する段階と、
前記光の照射後に現像（ｄｅｖｅｌｏｐ）、エッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）、インプラント（ｉｍｐｌａｎｔ）工程を通じて前記基板上部に願う前記微細ナノパターンを形成する段階と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項３】
前記反射防止用ＩＭＤコア金型の準備段階後には、樹脂層状にシルクスクリーンタイプまたはグラビヤ印刷タイプ（Ｇｒａｖｕｒｅ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）の印刷方法を通じてインク印刷層を形成し、その上にＵＶコーティング工程を処理して耐熱性フィルムを完成し、前記ＩＭＤ射出成型の時、前記ニッケルコアプレートが具備されて附着した前記下部金型コアと上部金型コア間に前記耐熱性フィルムを挿入させる段階をさらに遂行することを特徴とする請求項１に記載の反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項４】
前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）が具備されて附着した下部金型コアと上部金型コアとの間に前記耐熱性フィルムを入れた状態で、前記高温の溶融樹脂を入れ込んで射出成型を遂行すると同時に、耐熱性フィルムのインク転写を遂行することによって、最終射出完了した反射防止用ディスプレーウインドウパネルの一側面には前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）の微細ナノパターンにより反射防止機能が具現され、その反対面には前記耐熱性 フィルムのインク転写を通じて外観デザインを具現することを特徴とする請求項３に記載の反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項５】
前記耐熱性フィルムは、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、またはポリカーボネート（ＰＣ）で製造されたことを特徴とする請求項４に記載の反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項による製造方法によって製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネル。
【請求項１】
反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法において、
ガラスまたはシリコーンウエハー（Ｗａｆｅｒ）基板上に光を照射してエッチング工程を通じて微細ナノパターンを形成する反射防止コア用マスターの形成段階と、
前記微細ナノパターンが形成された反射防止コア用マスターに電解メッキ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−ｐｌａｔｉｎｇ）工程を通じて一面に等しい形態の微細ナノパターンを持つニッケルコアプレートの製作段階と、
前記ニッケルコアプレートを反射防止コア金型の下部金型コアの粒子コア上に附着させ、前記微細ナノパターンが形成された前記ニッケルコアプレートの前記一面が露出するようにする反射防止用ＩＭＤコア金型の準備段階と、
前記反射防止コア金型の上部金型コアと下部金型コアとの間に高温の溶融樹脂を入れ込んで急加熱及び急冷と共に射出成型を遂行することによって、反射防止用微細ナノパターンが形成された反射防止用ディスプレーウインドウパネルが作られるＩＭＤ射出成型段階と、
を有することを特徴とする反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項２】
前記反射防止コア用マスターの形成段階は、
前記ガラスまたはシリコーンウエハー基板を準備する段階と、
前記基板上にフォトレジスト（ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）でコーティング（ｃｏａｔｉｎｇ）する段階と、
前記フォトレジストにコーティングされた基板を予熱（ｐｒｅｂａｋｅ）する段階と、
前記フォトレジストの上面の方へ特定デジタル信号処理を受ける光を照射する段階と、
前記光の照射後に現像（ｄｅｖｅｌｏｐ）、エッチング（ｅｔｃｈｉｎｇ）、インプラント（ｉｍｐｌａｎｔ）工程を通じて前記基板上部に願う前記微細ナノパターンを形成する段階と、
を有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項３】
前記反射防止用ＩＭＤコア金型の準備段階後には、樹脂層状にシルクスクリーンタイプまたはグラビヤ印刷タイプ（Ｇｒａｖｕｒｅ ｐｒｉｎｔｉｎｇ）の印刷方法を通じてインク印刷層を形成し、その上にＵＶコーティング工程を処理して耐熱性フィルムを完成し、前記ＩＭＤ射出成型の時、前記ニッケルコアプレートが具備されて附着した前記下部金型コアと上部金型コア間に前記耐熱性フィルムを挿入させる段階をさらに遂行することを特徴とする請求項１に記載の反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項４】
前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）が具備されて附着した下部金型コアと上部金型コアとの間に前記耐熱性フィルムを入れた状態で、前記高温の溶融樹脂を入れ込んで射出成型を遂行すると同時に、耐熱性フィルムのインク転写を遂行することによって、最終射出完了した反射防止用ディスプレーウインドウパネルの一側面には前記ニッケルコアプレート（ｎｉｃｋｅｌ ｃｏｒｅ ｐｌａｔｅ）の微細ナノパターンにより反射防止機能が具現され、その反対面には前記耐熱性 フィルムのインク転写を通じて外観デザインを具現することを特徴とする請求項３に記載の反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項５】
前記耐熱性フィルムは、ポリプロピレン（ｐｏｌｙｐｒｏｐｙｌｅｎｅ）、ポリエステル（ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、またはポリカーボネート（ＰＣ）で製造されたことを特徴とする請求項４に記載の反射防止用ディスプレーウインドウパネルの製造方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項による製造方法によって製造された反射防止用ディスプレーウインドウパネル。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【公開番号】特開２０１２−１４１３８（Ｐ２０１２−１４１３８Ａ）
【公開日】平成２４年１月１９日（２０１２．１．１９）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２５２８４２（Ｐ２０１０−２５２８４２）
【出願日】平成２２年１１月１１日（２０１０．１１．１１）
【出願人】（５１０２０２１３４）ウジョン アンド ハンダン株式会社 (1)
【出願人】（５１０２９９４００）ジャパン レーザ コーポレーション (1)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年１月１９日（２０１２．１．１９）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月１１日（２０１０．１１．１１）
【出願人】（５１０２０２１３４）ウジョン アンド ハンダン株式会社 (1)
【出願人】（５１０２９９４００）ジャパン レーザ コーポレーション (1)
【Ｆターム（参考）】
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