地盤改良工法
【課題】地中固結体を造成する際に、切削、改良が不要な領域を出来る限り切削、改良しないで済む様な地盤改良工法の提供。
【解決手段】固結体を造成するべき領域の最深部までボーリング孔を削孔する工程と、削孔されたボーリング孔に噴射攪拌装置（１０）を挿入する工程を含み、
噴射攪拌装置（１０）は、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）と、２本の回転軸の各々に設けられた攪拌手段（２ａ、２ｂ）及び噴射手段（３ａ、３ｂ）とを有しており、噴射攪拌装置（１０）の攪拌手段（２ａ、２ｂ）により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置（１０）の噴射手段（３ａ、３ｂ）から改良材を包含する噴流（Ｊａ、Ｊｂ）を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程を含む。
【解決手段】固結体を造成するべき領域の最深部までボーリング孔を削孔する工程と、削孔されたボーリング孔に噴射攪拌装置（１０）を挿入する工程を含み、
噴射攪拌装置（１０）は、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）と、２本の回転軸の各々に設けられた攪拌手段（２ａ、２ｂ）及び噴射手段（３ａ、３ｂ）とを有しており、噴射攪拌装置（１０）の攪拌手段（２ａ、２ｂ）により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置（１０）の噴射手段（３ａ、３ｂ）から改良材を包含する噴流（Ｊａ、Ｊｂ）を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程を含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、地中に固結体を造成する技術に関する。より詳細には、本発明は、施工するべき地中の領域に地盤改良材や固化材を包含する噴流を噴射して、原位置土を切削すると共に、原位置土と地盤改良材や固化材とを混合、攪拌して、固結体を造成する地盤改良工法に関する。
【背景技術】
【０００２】
係る従来の地盤改良工法では、例えば、所定の深度までボーリング孔を削孔し、ボーリング孔に噴射装置を挿入し、地盤改良材や固化材を包含する噴流を噴射しつつ噴射装置を回転する。これにより、噴流によって原位置土を切削すると共に、原位置土と地盤改良材や固化材とを混合、攪拌する。そして、噴射装置を地上側に引き上げれば、原位置土と地盤改良材や固化材とが混合した後に固結して、断面円形の円柱形状の地中固結体が造成される。
連続した壁状の地中固結体を造成する場合には、図１６で示す様に、造成しようとする地中壁Ｗ（図１６では点線で示す）の長さ方向に沿って、上述した様な態様で造成される円柱状地中固結体を複数造成して、その一部を重複させれば良い。
隣接する円柱状地中固結体が重複する範囲については、地中壁Ｗにおいて必要とされる幅寸法ｔを確保する様に決定される。
【０００３】
ここで、図１６において、地中壁Ｗに要求される幅寸法ｔを確保するために、造成される円柱状地中固結体においては、点線Ｄ１、Ｄ２よりも（地中壁Ｗの）外側の領域ＬＡが存在している。
係る領域ＬＡが存在しなければ、特に重複している部分において、必要な幅寸法ｔが確保できなくなってしまうからである。
しかし、その様な領域ＬＡは、地中壁Ｗに要求される幅寸法ｔ或いは強度に対して、過剰に改良されている部分である。
換言すれば、図１６における領域ＬＡは、地中壁Ｗの造成に当たって、切削、改良することが無駄になってしまう領域である。
【０００４】
切削、改良することが無駄になってしまう領域ＬＡにおける原位置土の切削と改良を行なわないようにするため、切削、改良される断面形状を非円形にする技術も提案されている。
しかし、係る技術は非常に複雑な構成を具備する機器及び高度な制御技術を必要とする場合が多い。
そのため、図１６における領域ＬＡの様な切削、改良が不要な領域に相当する地盤については、出来る限り切削、改良を行なわない技術が求められている。
しかしながら、現時点では、その様な要請に応えることが出来る技術は提案されていない。
【０００５】
その他の従来技術として、削孔工程で高圧ジェットを噴射して、先行する削孔工程で地盤が緩んだ領域を包含する範囲を切削して、連続地中壁を造成する技術が提案されている（特許文献１参照）。
係る技術（特許文献１）は有用な技術ではあるが、上述した様な問題を解決するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１４４７２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、地中固結体を造成する際に、切削、改良が不要な領域を出来る限り切削、改良しないで済む様な地盤改良工法の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の地盤改良工法は、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）により、地盤改良するべき領域（固結体Ｋ１１・・・、Ｋ２１・・・を造成するべき領域の最深部）までボーリング孔を削孔する工程（図８）を含み、
噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）は、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）と、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）の各々に設けられた攪拌手段（攪拌翼２ａ、２ｂ；２ａ１、２ａ２、２ｂ１、２ｂ２）及び噴射手段（噴射ノズル３ａ、３ｂ；３ａ１、３ａ２、３ｂ１、３ｂ２）とを有しており、
噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の攪拌手段（攪拌翼２ａ、２ｂ）により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の噴射手段（３ａ、３ｂ；３ａ１、３ａ２、３ｂ１、３ｂ２）から改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）を包含する噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程（図１〜図４）を含み、
当該改良する工程では、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１）を長くし、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ２）を短くし、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊ１、Ｊ１Ａ）の切削距離（到達距離：ｒ３）をさらに短くすることを特徴としている（図１〜図８）。
【０００９】
ここで、「噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線方向」は、当該直線方向（図１の矢印Ｈと完全に同一の方向）ではなく、前記噴流が切削する領域が、改良された領域（地中固結体Ｋ１１・・・、Ｋ２１・・・）の必要最低厚み（連続壁の必要厚さ：ｔ）の範囲を十分にカバーする程度に、当該直線（矢印Ｈ）から傾斜している範囲を包含している。
同様に、「噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線と直交する方向」は、当該直線方向（矢印Ｈ）と完全に垂直な方向（矢印Ｖ）のみを意味する文言ではなく、前記噴流が切削する領域が、改良された領域（地中固結体Ｋ１１・・・、Ｋ２１・・・）の必要最低厚み（連続壁の必要厚さ：ｔ）の範囲を十分にカバーする程度に、前記直線（矢印Ｈ）と垂直な方向（矢印Ｖ）に対して傾斜している範囲をも包含している。
また本発明において、前記改良材を包含する噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）とは、改良材（例えば、セメントミルク）の溶液のみを包含する噴流や、改良材の溶液の噴流と高圧エアの噴流とを組み合わせている場合等を含む趣旨の文言である。
【００１０】
本発明における前記改良する工程を実施するに際して、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）における当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１）は、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）における当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ２）よりも長く、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）における当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ２）は、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）における当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ３）よりも長い。
【００１１】
また本発明において、前記噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１、ｒ２、ｒ３）を変化させるためには、前記噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の噴射圧力、噴射流量を増大して、噴流の切削距離（到達距離）を長くして、或いは、
噴射圧力、噴射流量を減少して、噴流の切削距離（到達距離）を短くするのが好ましい。
より具体的には、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）の噴射圧力、噴射流量を最も大きくして、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）の噴射圧力、噴射流量を最も小さくして、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）の噴射圧力、噴射流量を、その中間の値とするのが好ましい。
【００１２】
また本発明において、前記噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１、ｒ２、ｒ３）を変化させるためには、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の回転速度（角速度ｖ１〜ｖ３）を、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）の角速度（ｖ１）を最も遅くして、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）の角速度（ｖ３）を最も速くして、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）の角速度（ｖ２）を、その中間の速度とする（ｖ１＜ｖ２＜ｖ３）のが好ましい。
【００１３】
本発明において、噴射攪拌装置（１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂ）の各々に設けられた攪拌手段（攪拌翼２ａ１、２ａ２：２ｂ１、２ｂ２）は垂直方向に間隔を空けて一対配置されており、垂直方向に間隔を空けて一対配置された攪拌手段（攪拌翼翼２ａ１、２ａ２：２ｂ１、２ｂ２）の各々が噴射手段（噴射ノズル３ａ１、３ａ２、３ｂ１、３ｂ２）を有し、一対の攪拌手段（攪拌翼２ａ１、２ａ２：２ｂ１、２ｂ２）の各々における噴射手段（噴射ノズル３ａ１、３ａ２、３ｂ１、３ｂ２）から噴射された一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）は半径方向外方で衝突する様に設定されている（いわゆる「交差噴流」Ｊａｘ、Ｊｂｘを構成している）のが好ましい。
【００１４】
この場合、一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）に、一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が衝突する位置を回転軸（１ａ、１ｂ）の各々の半径方向における最も外方の位置として、
一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）に、一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が衝突する位置を回転軸（１ａ、１ｂ）の各々の半径方向における最も内方の位置として、
一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）に、一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が衝突する位置をその中間の位置（回転軸１ａ、１ｂの各々の半径方向について、中間の位置）とするのが好ましい。
【００１５】
また本発明の地盤改良工法において、
噴射攪拌装置（１０）により、地盤改良するべき領域（固結体Ｋ２１、Ｋ２２・・・を造成するべき領域の最深部）までボーリング孔を削孔する工程（図８）を含み、
噴射攪拌装置（１０）は、２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）と、２本の回転軸の各々に設けられた攪拌手段（攪拌翼）及び噴射手段（噴射ノズル）とを有しており、
噴射攪拌装置（１０）の攪拌手段（攪拌翼）により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置（１０）の噴射手段（噴射ノズル）から改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）を包含する噴流を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程（図９〜図１４）を含み、
当該改良する工程では、噴流が噴射攪拌装置（１０）の２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線（矢印Ｈ）から（約４５°）傾斜した方向であって、且つ、２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）から離隔する方向に噴射される場合（例えば、図１０で領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂを改良している場合、図１４で領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂを改良している場合）には、当該噴流の切削距離（到達距離）を長く設定し、
噴流が噴射攪拌装置（１０）の２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図１２における領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂを改良している場合）には、当該噴流の切削距離（到達距離）を短く設定し、
噴流が上記２種類の領域（図１０の領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂ、図１４の領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂ、図１２の領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂ）の間の領域（領域Ｅ１１ａ、Ｅ１２ａ、Ｅ１４ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ｂ、Ｅ１４ｂ）に噴射される場合（図９、図１１、図１３）には、当該噴流の切削距離（到達距離）は、上記２種類の領域（図１０の領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂ、図１４の領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂ、図１２の領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂ）における噴流の切削距離（到達距離）の中間の値となる様に設定することを特徴としている（図９〜図１５）。
【発明の効果】
【００１６】
上述する構成を具備する本発明によれば、地中固結体（Ｋ１１・・・、Ｋ２１・・・）を造成して地盤改良を行なうに際して、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１）を長くし、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ２）を短くしている。
そのため、改良された領域の水平断面形状は円形から長方形状に近い形状となり、切削、改良が不要な領域について、原位置土を切削して改良してしまう面積が減少する。
その結果、改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）の使用量が減少し、無駄な作業（すなわち、不要な領域の改良）が省略されるので、作業効率が向上して、施工コストを節約することが出来る。
【００１７】
ここで、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）には、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）の噴射手段同士が最も近接しているため、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）は、噴射後、直ちに同一箇所に到達し、同一領域を重複して改良してしまう可能性が極めて高い。
そのため、係る場合（図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）には、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ３）をさらに短くして、重複して改良してしまう範囲を、出来る限り小さくしている。
【００１８】
また、本発明によれば、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）から２本の噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射するため、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）が半回転すれば、長方形状に近い形状の領域が改良される。
そのため、改良に時間が掛かり過ぎてしまうことは無く、従来の円柱状地中固結体を造成する場合と同様に、効率的な地盤改良が可能である。
ここで、地盤が硬く、噴流による切削が困難な場合であっても、噴流による切削を繰り返すことにより、地盤を上述した形状に切削し、改良することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態における最初の工程を平面的に示す工程図である。
【図２】図１に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図３】図２に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図４】図３に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図５】第１実施形態で連続壁を造成する態様を平面的に示す図である。
【図６】第１実施形態における施工手順を示すフローチャートである。
【図７】第１実施形態を施工順に示した図である。
【図８】第１実施形態で用いられる噴射攪拌装置を示す図である。
【図９】第２実施形態における最初の工程を平面的に示す工程図である。
【図１０】図９に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１１】図１０に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１２】図１１に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１３】図１２に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１４】図１３に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１５】第２実施形態で連続壁を造成する態様を平面的に示す図である。
【図１６】従来技術の問題点を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。
図１〜図８は、第１実施形態を示している。
第１実施形態は、本発明の原理を説明するものである。
【００２１】
図１〜図５において、矢印Ｈは、噴射攪拌装置における２本の回転軸の中心点Ｃａ、Ｃｂを結んだ直線の方向を示しており、且つ、中心点Ｃａ、Ｃｂから離れる方向（半径方向外方）を示している。ここで、当該噴射攪拌装置は、図１〜図５では図示を省略している。
符号Ｖで示す矢印は、一点鎖線Ｈと直交する方向を示す方向を示している。
図１において、横方向寸法Ｌａｂは、回転軸１ａ、１ｂの中心間距離を示している。そして矢印Ｖ方向の寸法ｔ（図１〜図５における上下方向の寸法ｔ）は、地中固結体の必要最低厚みを示している。
【００２２】
第1実施形態では、図1で示す工程を施工する以前の段階で、図示しない噴射攪拌装置（以下、「攪拌装置」と記載する）を、施工現場で配置する。
そして、地表部から地中に向かって２本のボーリング孔を削孔する。
２本のボーリング孔が、改良するべき領域の最深部に到達したならば、深度の確認を行なった後、図１の工程を開始する。
【００２３】
図1で示す工程では、前記攪拌装置１０に設けた噴射ノズル（例えば、図８のノズル３ａ、３ｂ）から、改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）の噴流を噴射する。
図１〜図４では噴流の図示を省略している。
第１実施形態及び第２実施形態の説明に際して、一方の噴射ノズル（例えば、図８のノズル３ａ）から噴射された噴流を「Ｊａ」と記載し、他方の噴射ノズル（例えば、図８のノズル３ｂ）から噴射された噴流を「Ｊｂ」と記載する。
噴流Ｊａ、Ｊｂは、例えば、改良材の噴流とエアの高圧噴流とを組み合わせている。ただし、改良材のみで噴流を構成することも可能である。
【００２４】
図１において、符号２０は、回転軸に設けられた攪拌翼（図１〜図５では図示せず）によって機械攪拌される領域を示し、符号３０は、噴流によって切削、攪拌される領域（改良される領域）を示している。図１〜図４において、機械攪拌される領域２０には、噴流によって切削、攪拌される領域（改良される領域）３０のハッチング（比較的間隔が狭い右上がりのハッチング）とは異なるハッチング（比較的間隔が広い左上がりのハッチング）が付されている。
図１において、点Ｃａは回転軸１ａの中心であり、点Ｃｂは回転軸１ｂの中心である。換言すれば、図１〜図４において、回転軸を示す符号１ａ、１ｂは図示されていないが、中心Ｃａ、Ｃｂは図示されている。従って、図１〜図４の説明において、「回転軸１ａ」なる文言は、点Ｃａを中心とする回転軸を意味しており、「回転軸１ｂ」なる文言は、点Ｃｂを中心とする回転軸を意味している。
【００２５】
図１で示す工程において、改良される領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂでは、噴流が、矢印Ｈで示す方向に噴射される。
ここで、「矢印Ｈ」は、噴射攪拌装置１０の２本の回転軸１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂを結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂから離隔する方向（半径方向外方）である。
ただし、噴流が噴射される方向（矢印Ｈで示す方向）は、矢印Ｈと完全に同一の方向のみを意味するものではない。噴射された噴流が切削する領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂが、改良体（連続壁Ｗ１：地中固結体Ｋ１１〜Ｋ１３）の必要最低厚み（連続壁の必要厚さ）ｔの範囲を十分にカバーする程度に、矢印Ｈから傾斜している範囲（方向）を包含している。
【００２６】
図１において、噴流により切削された領域は、ハッチングを処した領域Ｅ１ａ、領域Ｅ１ｂである。
領域Ｅ１ａ及び領域Ｅ１ｂを改良する場合の、回転軸及び／又は攪拌翼の回転速度はｖ１であり、噴流Ｊａ、Ｊｂの到達距離はｒ１である。
ここで、扇状の領域Ｅ１ａ及び領域Ｅ１ｂの半径方向寸法ｒ１は、噴流Ｊａ、Ｊｂの切削距離であり、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、流量は一定であれば、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）により決定する。
すなわち、回転軸１ａ、１ｂの回転速度が遅ければ、地盤中の単一箇所が長い時間に亘って噴流によって切削されることになるので、噴流の切削距離は長くなる。一方、回転軸１ａ、１ｂの回転速度が早ければ、地盤中の単一箇所が噴流によって切削される時間が短くなるので、当該噴流による切削距離は短くなる。
【００２７】
また、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、流量が変動しても、噴流Ｊａ、Ｊｂの切削距離が変動する。
すなわち、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、噴射流量が増大すれば、噴流Ｊａ、Ｊｂによって地盤が切削される距離は長くなる。一方、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、噴射流量が減少すれば、噴流Ｊａ、Ｊｂによって地盤が切削される距離は短くなる。
【００２８】
図１で示す工程で、領域Ｅ１ａ及び領域Ｅ１ｂの改良を行なった後、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）をｖ２に変化（変動）して、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂの改良を行なう（図２）。
ここで、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）ｖ１、ｖ２は ｖ１＜ｖ２ である。回転速度ｖ２はｖ１よりも速いので、図２の工程における噴流が地盤中の単一箇所を切削する時間は短くなり、図２の工程における噴流の切削距離ｒ２は、図１の段階における噴流の切削距離ｒ１よりも短くなる。
【００２９】
領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂの改良を行なう際に、噴流が噴射させる方向は、矢印Ｖで示されている。
「矢印Ｖ」は、噴射攪拌装置１０の２本の回転軸１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂを結ぶ矢印Ｖと直交する方向である。
ただし、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂの改良を行なう際に、噴流が噴射させる方向（矢印Ｖで示す方向）は、矢印Ｖと完全に同一の方向のみを意味するものではない。噴射された噴流が切削する領域Ｅ２ａ、領域Ｅ２ｂが、改良体（連続壁Ｗ１：地中固結体Ｋ１１〜Ｋ１３）の必要最低厚み（連続壁の必要厚さ）ｔの範囲を十分にカバーする程度に、矢印Ｖから傾斜している範囲（方向）を包含している。
【００３０】
図２の工程において、噴流の切削距離ｒ２が図１における切削距離ｒ１のままであると、改良領域が、図１〜図４において破線で示す領域３０まで拡大する。その結果、改良が不要な箇所（無駄な箇所：幅寸法ｔの領域よりも外側の箇所）まで改良されてしまうことになり、改良が不要な箇所（無駄な箇所）を改良する分だけ、改良材の消費量が増大する。
これに対して、図２の工程では、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂにおける噴流の切削距離（到達距離）ｒ２は、図１における噴流の切削領域（到達距離）ｒ１よりも短い。そのため、改良が不要な箇所（無駄な箇所）で使用される改良材の量が減少し、環境を悪化する恐れも減少する。
【００３１】
領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂの改良を行なった後、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）をｖ３として、領域Ｅ３ａ及び領域Ｅ３ｂの改良を行なう（図３）。
ここで、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）ｖ１、ｖ２、ｖ３の大小関係は、 ｖ１＜ｖ２＜ｖ３ である。
上述した様に、回転速度が速いほど、噴流の切削距離は短くなる。そのため、図３の工程における噴流が地盤中の単一箇所を切削する時間は短くなり、図３の段階における噴流の切削距離ｒ３は、 ｒ１＞ｒ２＞ｒ３ となる。
図３の工程では、回転軸１ａ、１ｂの一方から噴射される噴流は、他方の回転軸側に向かって噴射され、双方の回転軸から噴流により地盤が切削される。すなわち、回転軸１ａ、１ｂ間の領域を切削すれば足りるため、長い距離に亘って地盤を削孔する必要がない。
そのため、図３の工程における噴流が地盤中の単一箇所を切削する距離ｒ３は、ズ１、図２の工程に比較して、短く設定されている。以って、改良材の噴射量及びそれに伴うコストを節約することが出来る。
【００３２】
図３の工程で、噴流が噴射される方向は、噴射攪拌装置１０の２本の回転軸１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂを結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸１ａ、１ｂに向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）である。
ただし、噴流が噴射される方向（矢印Ｈで示す方向）は、矢印Ｈと完全に同一の方向のみを意味するものではない。矢印Ｈから傾斜した方向も包含する。
具体的には、回転軸１ａから噴射される噴流については、図１における領域Ｅ１ａを切削した噴流の噴射方向と、回転軸１ａの中心点Ｃａについて、点対象となる方向も包含している。そして、回転軸１ｂから噴射される噴流については、図１における領域Ｅ１ｂを切削した噴流の噴射方向と、回転軸１ｂの中心点Ｃｂについて、点対象となる方向も包含している。
【００３３】
領域Ｅ３ａ及び領域Ｅ３ｂの改良を行なった後、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）をｖ２に戻して、領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂの改良を行なう（図４）。
領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂは、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂに対して、矢印Ｈに対して、線対称の形状である。
そして、図４の工程において、領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂを改良する際に、噴射される噴流の方向は、図２で説明した方向に対して、矢印Ｈに線対称の方向である。
回転軸１ａ、１ｂの回転速度ｖ４は、図２における回転速度ｖ２と等しい。そのため、噴流の切削距離ｒ４も、図２における噴流の切削距離ｒ２に等しい。
図４の工程でも、領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂにおける噴流の切削距離（到達距離）ｒ４は、図１における噴流の切削領域（到達距離）ｒ１よりも短く、そのため、改良が不要な箇所（無駄な箇所）で使用される改良材の量が減少する。
なお、図４の例では、領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂは、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂと部分的に重なり合う領域Ｍ（２箇所）を有している。
【００３４】
図１〜図４で示す工程により、領域Ｅ１ａ〜Ｅ４ａ、Ｅ１ｂ〜Ｅ４ｂの改良が完了したならば、噴射装置１０を、改良するべき地盤の性質や施工条件によりケース・バイ・ケースで予め決定される所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を、垂直方向について延伸する。
所定深度分だけ引き上げたならば、図１〜図４で説明した工程を順次繰り返す。
【００３５】
所定の領域について、垂直方向に必要な範囲だけ地盤を改良したならば（図５の領域Ｋ１１）、造成するべき連続壁の他の部分（例えば、図５の領域Ｋ１２）について、図１〜図４で説明した工程を順次繰り返し、所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を垂直方向について延伸する。
さらに、改良された部分の中間の領域（図５の領域Ｋ１３）についても、図１〜図４で説明した工程を順次繰り返して、所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を垂直方向について延伸する。
これにより、連続壁Ｗ１を築造する。
【００３６】
図６〜図８を参照して、第１実施形態をさらに説明する。
図７及び図８を参照して、第１実施形態で用いられる機器を説明する。
図７の（ａ）において、第１実施形態で用いられるベースマシン１００が示されている。
ベースマシン１００は、垂直部材１１０を有している。垂直部材１１０の上端部からは、ケーブル１２０（支持部材）によって、噴射攪拌装置１０が垂下支持されている。
噴射攪拌装置１０は、駆動装置７、２本の回転軸１ａ、１ｂ（図７において、回転軸１ｂは回転軸１ａに重なっている）、攪拌翼２ａ、２ｂを備えている。
【００３７】
さらに、図８を参照して、噴射攪拌装置１０の構成について説明する。
図８において、噴射攪拌装置１０の回転軸１ａ、１ｂの先端近傍には、攪拌翼２ａ、２ｂが配置されている。
攪拌翼２ａ、２ｂ各々の先端には、噴射ノズル３ａ、３ｂが設けられており、噴射ノズル３ａ、３ｂからは噴流Ｊａ、Ｊｂ（超高圧ジェット）が水平方向に噴射される。
２本の回転軸１ａ、１ｂの攪拌翼２ａ、２ｂの上方には、オーガスクリュー４ａ、４ｂが形成されている。このオーガスクリュー４ａ、４ｂは、攪拌翼２ａ、２ｂによって切削、攪拌された地盤を、排土Ｇｘとして地表Ｇｆ側に移動させる昨日を有している（図８の（８ａ）参照）。
なお、図８（８ａ）において、符号５で示す部材は干渉バンドであり、２本の回転軸１ａ、１ｂが衝突しない様にするための部材である。
【００３８】
図８の（８ｂ）においても、符号２０は、攪拌翼２ａ、２ｂにより地盤Ｇが攪拌された領域（機械攪拌部）を示し、符号３０は、噴流（超高圧ジェット）Ｊａ、Ｊｂによって切削、攪拌された領域（超高圧ジェット攪拌部）を示している。
機械攪拌部２０及び超高圧ジェット攪拌部３０は、超高圧ジェットに含まれる改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）により、改良される（例えば、固結して、地中固結体となる）。
図１〜図５を参照して上述した様に、第１実施形態で改良された領域の水平断面形状は、図８の（８ｂ）で示す様な形状ではなく、図５の領域Ｋ１１〜Ｋ１３の様な形状となる。換言すれば、図８の（８ｂ）は、第１実施形態で用いられる機器の説明のためのみに用いられる水平断面図である。
【００３９】
改良された領域の水平断面形状は、図示の実施形態では、
機械攪拌部２０の直径Ｄ２０が １．０ｍ≦Ｄ２０≦１．６ｍ、
超高圧ジェット攪拌部の幅Ｄ３０が、 １．６ｍ≦Ｄ３０、
２軸の中心間距離Ｌａｂが ０．８ｍ≦Ｌａｂ≦２．２ｍ、
となっている（図８（８ｂ）参照）。
【００４０】
以下、図６及び図７を参照して、第１実施形態における施工手順を説明する。
図６のステップＳ１（施工機の位置決め）において、先ず、ベースマシン（施工機）１００を施工領域の上方の所定位置に設置する（図７（ａ）参照）。
【００４１】
図６の第２ステップＳ２（嵌入・排土）では、ベースマシン１００の噴射攪拌装置１０を下降させつつ、回転軸１ａ、１ｂ先端の攪拌翼２ａ、２ｂを回転させ、地中に攪拌翼２ａ、２ｂを嵌入しながら削孔する。
図６のステップＳ３では、噴射攪拌装置１０が所定の深度、すなわち、改良するべき領域の（例えば）最深部に到達したか否かを判断する（図７（ｃ）参照）。
【００４２】
図６のステップＳ４（引抜き・噴射攪拌）では、噴射攪拌装置１０の図示しない噴射ノズルから、超高圧の噴流（改良材のジェット、或いは、改良材及び高圧エアのジェット）を噴射しつつ、攪拌装置１０を回転する（図７（ｄ）参照）。
回転軸２ａ、２ｂの回転速度（角速度）ｖ１〜ｖ３及び切削距離（到達距離）ｒ１〜ｒ３は、図１〜図４で説明したと同様に、噴流が噴射される領域によって異なっている。
ここで、回転軸２ａ、２ｂの回転速度（角速度）ｖ１〜ｖ３に代えて、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、噴射流量を変動することにより、噴流の切削距離を変動しても良い。図１〜図４において、噴流の噴射圧力、流量が増大すれば、切削距離ｒ１、ｒ２、ｒ３が長くなり、噴射圧力、噴射流量が減少すれば、切削距離ｒ１、ｒ２、ｒ３は短くなる。
【００４３】
図６のステップＳ５では、図１〜図４で示す工程により、領域Ｅ１ａ〜Ｅ４ａ、Ｅ１ｂ〜Ｅ４ｂの改良が完了したか否かを判断する。領域Ｅ１ａ〜Ｅ４ａ、Ｅ１ｂ〜Ｅ４ｂの改良が完了していない場合には、ステップＳ４、ステップＳ５を繰り返す（ステップＳ５がＮｏのループ）。
領域Ｅ１ａ〜Ｅ４ａ、Ｅ１ｂ〜Ｅ４ｂの改良が完了したならば（ステップＳ５が、Ｙｅｓ）、噴射攪拌装置１０を所定量だけ引き上げる（ステップＳ６）。ステップＳ６における噴射攪拌装置１０の引き上げ量（所定量）は、改良するべき地盤の性質や施工条件によりケース・バイ・ケースで予め決定される。
【００４４】
噴射攪拌装置１０を所定量だけ引き上げたならば、垂直方向について、改良するべき領域が全て改良されたか否かを判断する（ステップＳ７）。
垂直方向について、改良するべき領域が全て改良されていなければ（ステップＳ７でＮｏ）、ステップＳ４に戻り、図９〜図１２で説明した工程を順次繰り返す（ステップＳ７がＮｏのループ）。
垂直方向について、改良するべき領域が全て改良されれば（ステップＳ７でＹｅｓ）、ベースマシン（施工機）１００を設置した箇所の改良は完了する。すなわち、深度方向の所定の領域について、図１〜図４で示す様に、地盤が改良される。
【００４５】
第１実施形態によれば、図１〜図４で示すように、攪拌装置１０からの噴流Ｊａ、Ｊｂが、上述した様に噴射され、矢印Ｈについて線対称となる様に噴射されるため、攪拌装置１０が半回転すれば、長方形状に近い形状の領域が改良される。
そのため、投入する材料の消費量及び施工のためのエネルギーを削減すると共に、改良時間も短縮できて、効率的な地盤改良が可能となる。
ここで、地盤が硬く、噴流による切削が困難な場合であっても、噴流による切削を繰り返すことにより、地盤を上述した形状に切削し、改良することが出来る。
【００４６】
次に、図９〜図１５を参照して、本発明の第２実施形態について説明する。
ここで、図９〜図１５において、図１〜図８で示すのと同様な部材や領域については、同様な符号が付されている。
図１〜図８の第１実施形態は、特に図１〜図４で示すように、改良される区画を４区間に分けて、噴射攪拌装置１０の回転速度（角速度）、或いは、噴射圧力、噴射流量を変化させている。
それに対して、図９〜図１５の第２実施形態では、図９〜図１４で示すように、改良される区画を６区画に分けて、噴射攪拌装置１０の回転速度（角速度）、或いは、噴射圧力、噴射流量を変化させている。
【００４７】
図９で示す工程では、噴射攪拌装置１０（図９〜図１４では明示せず）から噴射される噴流は、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）の方向で、他の回転軸の反対側の方向（矢印Ｈ方向）に噴射されており、第１実施形態における図１で示す工程と概略同様である。
図９において、噴流により改良される領域は、それぞれ符号Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂで示されている。ここで、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂの範囲は、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂに比較して、若干、狭く設定されている。
なお、図９〜図１５の第２実施形態では、噴射攪拌装置１０が回転する方向（図９では矢印Ｖ１１方向）は反時計方向であり、図１〜図８の第１実施形態とは逆方向に図示されている。ただし、噴射攪拌装置１０が回転する方向は、図１〜図８の第１実施形態と同じ時計方向であっても良い。
【００４８】
図９に続く工程が図１０で示されている。図１０で示す工程では、噴流は、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、概略４５°傾斜した角度の方向（矢印Ｈから傾斜している範囲）に噴射されている。そして、図１０において地盤改良される領域（矢印Ｈから傾斜している範囲の地盤改良領域）は、符号Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂで示されている。
領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角は、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角よりも小さく設定されている。
また、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、図９で示す工程で地盤改良させれた領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）よりも長い。すなわち、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度よりも遅い。
【００４９】
図１０の工程に続き、図１１で示す工程が行なわれる。
図１１で示す工程では、噴流は、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）と垂直な方向（図１１の矢印Ｖ方向）に噴射される。より詳細には、直線Ｈ（矢印Ｈ）と垂直な方向（矢印Ｖ方向）に対して、傾斜した方向（矢印Ｈと垂直な方向に対して傾斜している範囲）に噴射されている。
図１１において、噴流により改良される領域は、符号Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂで示されている。
【００５０】
領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角に概略等しい。
そして、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、図９で示す工程で地盤改良させれた領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）と等しい。換言すれば、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度と等しい。
【００５１】
図１１で示す工程に続き、図１２の工程が行なわれる。
図１２で示す工程では、噴射攪拌装置１０から噴射される噴流は、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線の方向で反対側の回転軸に向かう方向（矢印Ｈとは逆方向）へ噴射されており、第１実施形態における図３で示す工程と概略同様である。
図１２において、噴流により改良される領域は、それぞれ符号Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂで示されている。
領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、図９、図１１における地盤改良された領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）と等しい。換言すれば、領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度よりも速い。
【００５２】
図１２の工程の後、図１３で示す工程が行なわれる。
図１３で示す工程では、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、図１１の工程で地盤改良された領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂと、線対称に位置する領域Ｅ１４ａ、Ｅ１４ｂを地盤改良している。換言すれば、領域Ｅ１４ａ、Ｅ１４ｂを地盤改良する噴流の噴射方向は、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂを地盤改良する噴流の噴射方向と、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、線対称な方向である。
そして、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角は、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角に等しく、領域Ｅ１４ａ、Ｅ１４ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）と等しい。換言すれば、領域Ｅ１４ａ、Ｅ１４ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度と等しい。
【００５３】
図１３の工程に続き、図１４で示す工程が実行される。
図１４の工程では、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、図１０の工程で地盤改良された領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂと、線対称に位置する領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂを地盤改良している。換言すれば、領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂを地盤改良する噴流の噴射方向は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂを地盤改良する噴流の噴射方向と、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、線対称な方向である。
そして、領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角に等しく、領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）と等しい。換言すれば、領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度と等しい。
【００５４】
図９〜図１４で示す工程により、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１２ａ、Ｅ１２ａ、Ｅ１３ａ、Ｅ１４ａ、Ｅ１４１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１１２ｂ、Ｅ１２ｂ、Ｅ１３ｂ、Ｅ１４ｂ、Ｅ１４１ｂの改良が完了したならば、第１実施形態と同様に、噴射攪拌装置１０を、改良するべき地盤の性質や施工条件によりケース・バイ・ケースで予め決定される所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を、垂直方向について延伸する。
所定深度分だけ引き上げたならば、図９〜図１４で説明した工程を順次繰り返す。
【００５５】
所定の領域について、垂直方向に必要な範囲だけ地盤を改良したならば（図１５の領域Ｋ２１）、造成するべき連続壁の他の部分（例えば、図１５の領域Ｋ２２）について、図９〜図１４で説明した工程を順次繰り返し、所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を垂直方向について延伸する。
そして、改良された部分の中間の領域（例えば、図１５の領域Ｋ２３）についても、図９〜図１４で説明した工程を順次繰り返して、所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を垂直方向について延伸する。
これにより、連続壁Ｗ２を築造する。
【００５６】
上述した様に、図９〜図１４においても、改良される区画毎に、噴射攪拌装置１０の回転速度（角速度）を変化させることに代えて、噴射圧力、噴射流量を変化させることが可能である。噴流の噴射圧力、流量が増大すれば、噴流到達距離が長くなり、噴射圧力、噴射流量が減少すれば、噴流到達距離は短くなる。
【００５７】
第２実施形態では、第１実施形態と同様に、攪拌装置１０が半回転すれば、長方形状に近い形状の領域が改良される。そのため、投入する材料の消費量及び施工のためのエネルギーを削減すると共に、改良時間も短縮できて、効率的な地盤改良が可能となる。
ここで、地盤が硬く、噴流による切削が困難な場合であっても、噴流による切削を繰り返すことにより、地盤を上述した形状に切削し、改良することが出来る。
これに加えて第２実施形態では、地盤改良をするべき領域を、さらに細かく分割（第１実施形態の４区画から６区画に区画数を増加）しているので、連続壁（地中固結体）の必要最低厚み（矢印Ｖ方向の寸法）ｔを超える領域を改良してしまう割合がさらに減少して、投入する材料の消費量及び施工のためのエネルギーがより削減され、地盤改良の効率がさらに向上する。
第２実施形態における上述した以外の構成及び作用効果については、図１〜図８の第１実施形態と同様である。
【００５８】
図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記述ではない。
例えば、第１実施形態では、噴射攪拌装置１０、１０Ａは時計方向に回転して改良材等を噴射しているが、反時計方向に回転させても良い。一方、第２実施形態では、噴射攪拌装置１０を時計方向に回転させても良い。
【符号の説明】
【００５９】
１ａ、１ｂ・・・回転軸
２ａ、２ｂ・・・攪拌翼
３ａ、３ｂ・・・噴射手段／噴射ノズル
１０、１０Ａ・・・二軸式機械攪拌装置／攪拌装置
２０・・・機械攪拌部
３０・・・超高圧ジェット攪拌部
１００・・・ベースマシン／三点支持式杭打ち機
【技術分野】
【０００１】
本発明は、地中に固結体を造成する技術に関する。より詳細には、本発明は、施工するべき地中の領域に地盤改良材や固化材を包含する噴流を噴射して、原位置土を切削すると共に、原位置土と地盤改良材や固化材とを混合、攪拌して、固結体を造成する地盤改良工法に関する。
【背景技術】
【０００２】
係る従来の地盤改良工法では、例えば、所定の深度までボーリング孔を削孔し、ボーリング孔に噴射装置を挿入し、地盤改良材や固化材を包含する噴流を噴射しつつ噴射装置を回転する。これにより、噴流によって原位置土を切削すると共に、原位置土と地盤改良材や固化材とを混合、攪拌する。そして、噴射装置を地上側に引き上げれば、原位置土と地盤改良材や固化材とが混合した後に固結して、断面円形の円柱形状の地中固結体が造成される。
連続した壁状の地中固結体を造成する場合には、図１６で示す様に、造成しようとする地中壁Ｗ（図１６では点線で示す）の長さ方向に沿って、上述した様な態様で造成される円柱状地中固結体を複数造成して、その一部を重複させれば良い。
隣接する円柱状地中固結体が重複する範囲については、地中壁Ｗにおいて必要とされる幅寸法ｔを確保する様に決定される。
【０００３】
ここで、図１６において、地中壁Ｗに要求される幅寸法ｔを確保するために、造成される円柱状地中固結体においては、点線Ｄ１、Ｄ２よりも（地中壁Ｗの）外側の領域ＬＡが存在している。
係る領域ＬＡが存在しなければ、特に重複している部分において、必要な幅寸法ｔが確保できなくなってしまうからである。
しかし、その様な領域ＬＡは、地中壁Ｗに要求される幅寸法ｔ或いは強度に対して、過剰に改良されている部分である。
換言すれば、図１６における領域ＬＡは、地中壁Ｗの造成に当たって、切削、改良することが無駄になってしまう領域である。
【０００４】
切削、改良することが無駄になってしまう領域ＬＡにおける原位置土の切削と改良を行なわないようにするため、切削、改良される断面形状を非円形にする技術も提案されている。
しかし、係る技術は非常に複雑な構成を具備する機器及び高度な制御技術を必要とする場合が多い。
そのため、図１６における領域ＬＡの様な切削、改良が不要な領域に相当する地盤については、出来る限り切削、改良を行なわない技術が求められている。
しかしながら、現時点では、その様な要請に応えることが出来る技術は提案されていない。
【０００５】
その他の従来技術として、削孔工程で高圧ジェットを噴射して、先行する削孔工程で地盤が緩んだ領域を包含する範囲を切削して、連続地中壁を造成する技術が提案されている（特許文献１参照）。
係る技術（特許文献１）は有用な技術ではあるが、上述した様な問題を解決するものではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−１４４７２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は上述した従来技術の問題点に鑑みて提案されたものであり、地中固結体を造成する際に、切削、改良が不要な領域を出来る限り切削、改良しないで済む様な地盤改良工法の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の地盤改良工法は、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）により、地盤改良するべき領域（固結体Ｋ１１・・・、Ｋ２１・・・を造成するべき領域の最深部）までボーリング孔を削孔する工程（図８）を含み、
噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）は、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）と、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）の各々に設けられた攪拌手段（攪拌翼２ａ、２ｂ；２ａ１、２ａ２、２ｂ１、２ｂ２）及び噴射手段（噴射ノズル３ａ、３ｂ；３ａ１、３ａ２、３ｂ１、３ｂ２）とを有しており、
噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の攪拌手段（攪拌翼２ａ、２ｂ）により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の噴射手段（３ａ、３ｂ；３ａ１、３ａ２、３ｂ１、３ｂ２）から改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）を包含する噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程（図１〜図４）を含み、
当該改良する工程では、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１）を長くし、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ２）を短くし、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊ１、Ｊ１Ａ）の切削距離（到達距離：ｒ３）をさらに短くすることを特徴としている（図１〜図８）。
【０００９】
ここで、「噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線方向」は、当該直線方向（図１の矢印Ｈと完全に同一の方向）ではなく、前記噴流が切削する領域が、改良された領域（地中固結体Ｋ１１・・・、Ｋ２１・・・）の必要最低厚み（連続壁の必要厚さ：ｔ）の範囲を十分にカバーする程度に、当該直線（矢印Ｈ）から傾斜している範囲を包含している。
同様に、「噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線と直交する方向」は、当該直線方向（矢印Ｈ）と完全に垂直な方向（矢印Ｖ）のみを意味する文言ではなく、前記噴流が切削する領域が、改良された領域（地中固結体Ｋ１１・・・、Ｋ２１・・・）の必要最低厚み（連続壁の必要厚さ：ｔ）の範囲を十分にカバーする程度に、前記直線（矢印Ｈ）と垂直な方向（矢印Ｖ）に対して傾斜している範囲をも包含している。
また本発明において、前記改良材を包含する噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）とは、改良材（例えば、セメントミルク）の溶液のみを包含する噴流や、改良材の溶液の噴流と高圧エアの噴流とを組み合わせている場合等を含む趣旨の文言である。
【００１０】
本発明における前記改良する工程を実施するに際して、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）における当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１）は、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）における当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ２）よりも長く、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）における当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ２）は、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）における当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ３）よりも長い。
【００１１】
また本発明において、前記噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１、ｒ２、ｒ３）を変化させるためには、前記噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の噴射圧力、噴射流量を増大して、噴流の切削距離（到達距離）を長くして、或いは、
噴射圧力、噴射流量を減少して、噴流の切削距離（到達距離）を短くするのが好ましい。
より具体的には、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）の噴射圧力、噴射流量を最も大きくして、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）の噴射圧力、噴射流量を最も小さくして、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）の噴射圧力、噴射流量を、その中間の値とするのが好ましい。
【００１２】
また本発明において、前記噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１、ｒ２、ｒ３）を変化させるためには、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の回転速度（角速度ｖ１〜ｖ３）を、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）の角速度（ｖ１）を最も遅くして、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）の角速度（ｖ３）を最も速くして、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）の角速度（ｖ２）を、その中間の速度とする（ｖ１＜ｖ２＜ｖ３）のが好ましい。
【００１３】
本発明において、噴射攪拌装置（１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂ）の各々に設けられた攪拌手段（攪拌翼２ａ１、２ａ２：２ｂ１、２ｂ２）は垂直方向に間隔を空けて一対配置されており、垂直方向に間隔を空けて一対配置された攪拌手段（攪拌翼翼２ａ１、２ａ２：２ｂ１、２ｂ２）の各々が噴射手段（噴射ノズル３ａ１、３ａ２、３ｂ１、３ｂ２）を有し、一対の攪拌手段（攪拌翼２ａ１、２ａ２：２ｂ１、２ｂ２）の各々における噴射手段（噴射ノズル３ａ１、３ａ２、３ｂ１、３ｂ２）から噴射された一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）は半径方向外方で衝突する様に設定されている（いわゆる「交差噴流」Ｊａｘ、Ｊｂｘを構成している）のが好ましい。
【００１４】
この場合、一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）に、一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が衝突する位置を回転軸（１ａ、１ｂ）の各々の半径方向における最も外方の位置として、
一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）に、一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が衝突する位置を回転軸（１ａ、１ｂ）の各々の半径方向における最も内方の位置として、
一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）に、一対の噴流（Ｊａ１、Ｊａ２：Ｊｂ１、Ｊｂ２）が衝突する位置をその中間の位置（回転軸１ａ、１ｂの各々の半径方向について、中間の位置）とするのが好ましい。
【００１５】
また本発明の地盤改良工法において、
噴射攪拌装置（１０）により、地盤改良するべき領域（固結体Ｋ２１、Ｋ２２・・・を造成するべき領域の最深部）までボーリング孔を削孔する工程（図８）を含み、
噴射攪拌装置（１０）は、２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）と、２本の回転軸の各々に設けられた攪拌手段（攪拌翼）及び噴射手段（噴射ノズル）とを有しており、
噴射攪拌装置（１０）の攪拌手段（攪拌翼）により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置（１０）の噴射手段（噴射ノズル）から改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）を包含する噴流を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程（図９〜図１４）を含み、
当該改良する工程では、噴流が噴射攪拌装置（１０）の２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線（矢印Ｈ）から（約４５°）傾斜した方向であって、且つ、２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）から離隔する方向に噴射される場合（例えば、図１０で領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂを改良している場合、図１４で領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂを改良している場合）には、当該噴流の切削距離（到達距離）を長く設定し、
噴流が噴射攪拌装置（１０）の２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（回転軸の中心Ｃａ、Ｃｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図１２における領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂを改良している場合）には、当該噴流の切削距離（到達距離）を短く設定し、
噴流が上記２種類の領域（図１０の領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂ、図１４の領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂ、図１２の領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂ）の間の領域（領域Ｅ１１ａ、Ｅ１２ａ、Ｅ１４ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ｂ、Ｅ１４ｂ）に噴射される場合（図９、図１１、図１３）には、当該噴流の切削距離（到達距離）は、上記２種類の領域（図１０の領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂ、図１４の領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂ、図１２の領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂ）における噴流の切削距離（到達距離）の中間の値となる様に設定することを特徴としている（図９〜図１５）。
【発明の効果】
【００１６】
上述する構成を具備する本発明によれば、地中固結体（Ｋ１１・・・、Ｋ２１・・・）を造成して地盤改良を行なうに際して、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）から離隔する方向（矢印Ｈ方向：半径方向外方）に噴射される場合（例えば、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ１）を長くし、
噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線と直交する方向（矢印Ｖ方向）に噴射される場合（例えば、図２、図４における領域Ｅ２ａ、Ｅ２ｂ、Ｅ４ａ、Ｅ４ｂを改良している場合）には、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ２）を短くしている。
そのため、改良された領域の水平断面形状は円形から長方形状に近い形状となり、切削、改良が不要な領域について、原位置土を切削して改良してしまう面積が減少する。
その結果、改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）の使用量が減少し、無駄な作業（すなわち、不要な領域の改良）が省略されるので、作業効率が向上して、施工コストを節約することが出来る。
【００１７】
ここで、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）の２本の回転軸（１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂ）を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）に向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）に噴射される場合（例えば、図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）には、２本の回転軸（１ａ、１ｂ）の噴射手段同士が最も近接しているため、当該噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）は、噴射後、直ちに同一箇所に到達し、同一領域を重複して改良してしまう可能性が極めて高い。
そのため、係る場合（図３における領域Ｅ３ａ、Ｅ３ｂを改良している場合）には、噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）の切削距離（到達距離：ｒ３）をさらに短くして、重複して改良してしまう範囲を、出来る限り小さくしている。
【００１８】
また、本発明によれば、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）から２本の噴流（Ｊａ、Ｊｂ；Ｊａｘ、Ｊｂｘ）が噴射するため、噴射攪拌装置（１０、１０Ａ）が半回転すれば、長方形状に近い形状の領域が改良される。
そのため、改良に時間が掛かり過ぎてしまうことは無く、従来の円柱状地中固結体を造成する場合と同様に、効率的な地盤改良が可能である。
ここで、地盤が硬く、噴流による切削が困難な場合であっても、噴流による切削を繰り返すことにより、地盤を上述した形状に切削し、改良することが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の第１実施形態における最初の工程を平面的に示す工程図である。
【図２】図１に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図３】図２に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図４】図３に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図５】第１実施形態で連続壁を造成する態様を平面的に示す図である。
【図６】第１実施形態における施工手順を示すフローチャートである。
【図７】第１実施形態を施工順に示した図である。
【図８】第１実施形態で用いられる噴射攪拌装置を示す図である。
【図９】第２実施形態における最初の工程を平面的に示す工程図である。
【図１０】図９に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１１】図１０に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１２】図１１に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１３】図１２に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１４】図１３に続く工程を平面的に示す工程図である。
【図１５】第２実施形態で連続壁を造成する態様を平面的に示す図である。
【図１６】従来技術の問題点を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、添付図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。
図１〜図８は、第１実施形態を示している。
第１実施形態は、本発明の原理を説明するものである。
【００２１】
図１〜図５において、矢印Ｈは、噴射攪拌装置における２本の回転軸の中心点Ｃａ、Ｃｂを結んだ直線の方向を示しており、且つ、中心点Ｃａ、Ｃｂから離れる方向（半径方向外方）を示している。ここで、当該噴射攪拌装置は、図１〜図５では図示を省略している。
符号Ｖで示す矢印は、一点鎖線Ｈと直交する方向を示す方向を示している。
図１において、横方向寸法Ｌａｂは、回転軸１ａ、１ｂの中心間距離を示している。そして矢印Ｖ方向の寸法ｔ（図１〜図５における上下方向の寸法ｔ）は、地中固結体の必要最低厚みを示している。
【００２２】
第1実施形態では、図1で示す工程を施工する以前の段階で、図示しない噴射攪拌装置（以下、「攪拌装置」と記載する）を、施工現場で配置する。
そして、地表部から地中に向かって２本のボーリング孔を削孔する。
２本のボーリング孔が、改良するべき領域の最深部に到達したならば、深度の確認を行なった後、図１の工程を開始する。
【００２３】
図1で示す工程では、前記攪拌装置１０に設けた噴射ノズル（例えば、図８のノズル３ａ、３ｂ）から、改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）の噴流を噴射する。
図１〜図４では噴流の図示を省略している。
第１実施形態及び第２実施形態の説明に際して、一方の噴射ノズル（例えば、図８のノズル３ａ）から噴射された噴流を「Ｊａ」と記載し、他方の噴射ノズル（例えば、図８のノズル３ｂ）から噴射された噴流を「Ｊｂ」と記載する。
噴流Ｊａ、Ｊｂは、例えば、改良材の噴流とエアの高圧噴流とを組み合わせている。ただし、改良材のみで噴流を構成することも可能である。
【００２４】
図１において、符号２０は、回転軸に設けられた攪拌翼（図１〜図５では図示せず）によって機械攪拌される領域を示し、符号３０は、噴流によって切削、攪拌される領域（改良される領域）を示している。図１〜図４において、機械攪拌される領域２０には、噴流によって切削、攪拌される領域（改良される領域）３０のハッチング（比較的間隔が狭い右上がりのハッチング）とは異なるハッチング（比較的間隔が広い左上がりのハッチング）が付されている。
図１において、点Ｃａは回転軸１ａの中心であり、点Ｃｂは回転軸１ｂの中心である。換言すれば、図１〜図４において、回転軸を示す符号１ａ、１ｂは図示されていないが、中心Ｃａ、Ｃｂは図示されている。従って、図１〜図４の説明において、「回転軸１ａ」なる文言は、点Ｃａを中心とする回転軸を意味しており、「回転軸１ｂ」なる文言は、点Ｃｂを中心とする回転軸を意味している。
【００２５】
図１で示す工程において、改良される領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂでは、噴流が、矢印Ｈで示す方向に噴射される。
ここで、「矢印Ｈ」は、噴射攪拌装置１０の２本の回転軸１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂを結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂから離隔する方向（半径方向外方）である。
ただし、噴流が噴射される方向（矢印Ｈで示す方向）は、矢印Ｈと完全に同一の方向のみを意味するものではない。噴射された噴流が切削する領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂが、改良体（連続壁Ｗ１：地中固結体Ｋ１１〜Ｋ１３）の必要最低厚み（連続壁の必要厚さ）ｔの範囲を十分にカバーする程度に、矢印Ｈから傾斜している範囲（方向）を包含している。
【００２６】
図１において、噴流により切削された領域は、ハッチングを処した領域Ｅ１ａ、領域Ｅ１ｂである。
領域Ｅ１ａ及び領域Ｅ１ｂを改良する場合の、回転軸及び／又は攪拌翼の回転速度はｖ１であり、噴流Ｊａ、Ｊｂの到達距離はｒ１である。
ここで、扇状の領域Ｅ１ａ及び領域Ｅ１ｂの半径方向寸法ｒ１は、噴流Ｊａ、Ｊｂの切削距離であり、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、流量は一定であれば、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）により決定する。
すなわち、回転軸１ａ、１ｂの回転速度が遅ければ、地盤中の単一箇所が長い時間に亘って噴流によって切削されることになるので、噴流の切削距離は長くなる。一方、回転軸１ａ、１ｂの回転速度が早ければ、地盤中の単一箇所が噴流によって切削される時間が短くなるので、当該噴流による切削距離は短くなる。
【００２７】
また、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、流量が変動しても、噴流Ｊａ、Ｊｂの切削距離が変動する。
すなわち、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、噴射流量が増大すれば、噴流Ｊａ、Ｊｂによって地盤が切削される距離は長くなる。一方、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、噴射流量が減少すれば、噴流Ｊａ、Ｊｂによって地盤が切削される距離は短くなる。
【００２８】
図１で示す工程で、領域Ｅ１ａ及び領域Ｅ１ｂの改良を行なった後、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）をｖ２に変化（変動）して、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂの改良を行なう（図２）。
ここで、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）ｖ１、ｖ２は ｖ１＜ｖ２ である。回転速度ｖ２はｖ１よりも速いので、図２の工程における噴流が地盤中の単一箇所を切削する時間は短くなり、図２の工程における噴流の切削距離ｒ２は、図１の段階における噴流の切削距離ｒ１よりも短くなる。
【００２９】
領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂの改良を行なう際に、噴流が噴射させる方向は、矢印Ｖで示されている。
「矢印Ｖ」は、噴射攪拌装置１０の２本の回転軸１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂを結ぶ矢印Ｖと直交する方向である。
ただし、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂの改良を行なう際に、噴流が噴射させる方向（矢印Ｖで示す方向）は、矢印Ｖと完全に同一の方向のみを意味するものではない。噴射された噴流が切削する領域Ｅ２ａ、領域Ｅ２ｂが、改良体（連続壁Ｗ１：地中固結体Ｋ１１〜Ｋ１３）の必要最低厚み（連続壁の必要厚さ）ｔの範囲を十分にカバーする程度に、矢印Ｖから傾斜している範囲（方向）を包含している。
【００３０】
図２の工程において、噴流の切削距離ｒ２が図１における切削距離ｒ１のままであると、改良領域が、図１〜図４において破線で示す領域３０まで拡大する。その結果、改良が不要な箇所（無駄な箇所：幅寸法ｔの領域よりも外側の箇所）まで改良されてしまうことになり、改良が不要な箇所（無駄な箇所）を改良する分だけ、改良材の消費量が増大する。
これに対して、図２の工程では、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂにおける噴流の切削距離（到達距離）ｒ２は、図１における噴流の切削領域（到達距離）ｒ１よりも短い。そのため、改良が不要な箇所（無駄な箇所）で使用される改良材の量が減少し、環境を悪化する恐れも減少する。
【００３１】
領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂの改良を行なった後、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）をｖ３として、領域Ｅ３ａ及び領域Ｅ３ｂの改良を行なう（図３）。
ここで、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）ｖ１、ｖ２、ｖ３の大小関係は、 ｖ１＜ｖ２＜ｖ３ である。
上述した様に、回転速度が速いほど、噴流の切削距離は短くなる。そのため、図３の工程における噴流が地盤中の単一箇所を切削する時間は短くなり、図３の段階における噴流の切削距離ｒ３は、 ｒ１＞ｒ２＞ｒ３ となる。
図３の工程では、回転軸１ａ、１ｂの一方から噴射される噴流は、他方の回転軸側に向かって噴射され、双方の回転軸から噴流により地盤が切削される。すなわち、回転軸１ａ、１ｂ間の領域を切削すれば足りるため、長い距離に亘って地盤を削孔する必要がない。
そのため、図３の工程における噴流が地盤中の単一箇所を切削する距離ｒ３は、ズ１、図２の工程に比較して、短く設定されている。以って、改良材の噴射量及びそれに伴うコストを節約することが出来る。
【００３２】
図３の工程で、噴流が噴射される方向は、噴射攪拌装置１０の２本の回転軸１ａ、１ｂの中心Ｃａ、Ｃｂを結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸１ａ、１ｂに向かう方向（矢印Ｈ方向の逆方向：半径方向内方）である。
ただし、噴流が噴射される方向（矢印Ｈで示す方向）は、矢印Ｈと完全に同一の方向のみを意味するものではない。矢印Ｈから傾斜した方向も包含する。
具体的には、回転軸１ａから噴射される噴流については、図１における領域Ｅ１ａを切削した噴流の噴射方向と、回転軸１ａの中心点Ｃａについて、点対象となる方向も包含している。そして、回転軸１ｂから噴射される噴流については、図１における領域Ｅ１ｂを切削した噴流の噴射方向と、回転軸１ｂの中心点Ｃｂについて、点対象となる方向も包含している。
【００３３】
領域Ｅ３ａ及び領域Ｅ３ｂの改良を行なった後、回転軸１ａ、１ｂの回転速度（角速度）をｖ２に戻して、領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂの改良を行なう（図４）。
領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂは、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂに対して、矢印Ｈに対して、線対称の形状である。
そして、図４の工程において、領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂを改良する際に、噴射される噴流の方向は、図２で説明した方向に対して、矢印Ｈに線対称の方向である。
回転軸１ａ、１ｂの回転速度ｖ４は、図２における回転速度ｖ２と等しい。そのため、噴流の切削距離ｒ４も、図２における噴流の切削距離ｒ２に等しい。
図４の工程でも、領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂにおける噴流の切削距離（到達距離）ｒ４は、図１における噴流の切削領域（到達距離）ｒ１よりも短く、そのため、改良が不要な箇所（無駄な箇所）で使用される改良材の量が減少する。
なお、図４の例では、領域Ｅ４ａ及び領域Ｅ４ｂは、領域Ｅ２ａ及び領域Ｅ２ｂと部分的に重なり合う領域Ｍ（２箇所）を有している。
【００３４】
図１〜図４で示す工程により、領域Ｅ１ａ〜Ｅ４ａ、Ｅ１ｂ〜Ｅ４ｂの改良が完了したならば、噴射装置１０を、改良するべき地盤の性質や施工条件によりケース・バイ・ケースで予め決定される所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を、垂直方向について延伸する。
所定深度分だけ引き上げたならば、図１〜図４で説明した工程を順次繰り返す。
【００３５】
所定の領域について、垂直方向に必要な範囲だけ地盤を改良したならば（図５の領域Ｋ１１）、造成するべき連続壁の他の部分（例えば、図５の領域Ｋ１２）について、図１〜図４で説明した工程を順次繰り返し、所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を垂直方向について延伸する。
さらに、改良された部分の中間の領域（図５の領域Ｋ１３）についても、図１〜図４で説明した工程を順次繰り返して、所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を垂直方向について延伸する。
これにより、連続壁Ｗ１を築造する。
【００３６】
図６〜図８を参照して、第１実施形態をさらに説明する。
図７及び図８を参照して、第１実施形態で用いられる機器を説明する。
図７の（ａ）において、第１実施形態で用いられるベースマシン１００が示されている。
ベースマシン１００は、垂直部材１１０を有している。垂直部材１１０の上端部からは、ケーブル１２０（支持部材）によって、噴射攪拌装置１０が垂下支持されている。
噴射攪拌装置１０は、駆動装置７、２本の回転軸１ａ、１ｂ（図７において、回転軸１ｂは回転軸１ａに重なっている）、攪拌翼２ａ、２ｂを備えている。
【００３７】
さらに、図８を参照して、噴射攪拌装置１０の構成について説明する。
図８において、噴射攪拌装置１０の回転軸１ａ、１ｂの先端近傍には、攪拌翼２ａ、２ｂが配置されている。
攪拌翼２ａ、２ｂ各々の先端には、噴射ノズル３ａ、３ｂが設けられており、噴射ノズル３ａ、３ｂからは噴流Ｊａ、Ｊｂ（超高圧ジェット）が水平方向に噴射される。
２本の回転軸１ａ、１ｂの攪拌翼２ａ、２ｂの上方には、オーガスクリュー４ａ、４ｂが形成されている。このオーガスクリュー４ａ、４ｂは、攪拌翼２ａ、２ｂによって切削、攪拌された地盤を、排土Ｇｘとして地表Ｇｆ側に移動させる昨日を有している（図８の（８ａ）参照）。
なお、図８（８ａ）において、符号５で示す部材は干渉バンドであり、２本の回転軸１ａ、１ｂが衝突しない様にするための部材である。
【００３８】
図８の（８ｂ）においても、符号２０は、攪拌翼２ａ、２ｂにより地盤Ｇが攪拌された領域（機械攪拌部）を示し、符号３０は、噴流（超高圧ジェット）Ｊａ、Ｊｂによって切削、攪拌された領域（超高圧ジェット攪拌部）を示している。
機械攪拌部２０及び超高圧ジェット攪拌部３０は、超高圧ジェットに含まれる改良材（固化材、硬化材、注入材、地盤改良材）により、改良される（例えば、固結して、地中固結体となる）。
図１〜図５を参照して上述した様に、第１実施形態で改良された領域の水平断面形状は、図８の（８ｂ）で示す様な形状ではなく、図５の領域Ｋ１１〜Ｋ１３の様な形状となる。換言すれば、図８の（８ｂ）は、第１実施形態で用いられる機器の説明のためのみに用いられる水平断面図である。
【００３９】
改良された領域の水平断面形状は、図示の実施形態では、
機械攪拌部２０の直径Ｄ２０が １．０ｍ≦Ｄ２０≦１．６ｍ、
超高圧ジェット攪拌部の幅Ｄ３０が、 １．６ｍ≦Ｄ３０、
２軸の中心間距離Ｌａｂが ０．８ｍ≦Ｌａｂ≦２．２ｍ、
となっている（図８（８ｂ）参照）。
【００４０】
以下、図６及び図７を参照して、第１実施形態における施工手順を説明する。
図６のステップＳ１（施工機の位置決め）において、先ず、ベースマシン（施工機）１００を施工領域の上方の所定位置に設置する（図７（ａ）参照）。
【００４１】
図６の第２ステップＳ２（嵌入・排土）では、ベースマシン１００の噴射攪拌装置１０を下降させつつ、回転軸１ａ、１ｂ先端の攪拌翼２ａ、２ｂを回転させ、地中に攪拌翼２ａ、２ｂを嵌入しながら削孔する。
図６のステップＳ３では、噴射攪拌装置１０が所定の深度、すなわち、改良するべき領域の（例えば）最深部に到達したか否かを判断する（図７（ｃ）参照）。
【００４２】
図６のステップＳ４（引抜き・噴射攪拌）では、噴射攪拌装置１０の図示しない噴射ノズルから、超高圧の噴流（改良材のジェット、或いは、改良材及び高圧エアのジェット）を噴射しつつ、攪拌装置１０を回転する（図７（ｄ）参照）。
回転軸２ａ、２ｂの回転速度（角速度）ｖ１〜ｖ３及び切削距離（到達距離）ｒ１〜ｒ３は、図１〜図４で説明したと同様に、噴流が噴射される領域によって異なっている。
ここで、回転軸２ａ、２ｂの回転速度（角速度）ｖ１〜ｖ３に代えて、噴流Ｊａ、Ｊｂの噴射圧力、噴射流量を変動することにより、噴流の切削距離を変動しても良い。図１〜図４において、噴流の噴射圧力、流量が増大すれば、切削距離ｒ１、ｒ２、ｒ３が長くなり、噴射圧力、噴射流量が減少すれば、切削距離ｒ１、ｒ２、ｒ３は短くなる。
【００４３】
図６のステップＳ５では、図１〜図４で示す工程により、領域Ｅ１ａ〜Ｅ４ａ、Ｅ１ｂ〜Ｅ４ｂの改良が完了したか否かを判断する。領域Ｅ１ａ〜Ｅ４ａ、Ｅ１ｂ〜Ｅ４ｂの改良が完了していない場合には、ステップＳ４、ステップＳ５を繰り返す（ステップＳ５がＮｏのループ）。
領域Ｅ１ａ〜Ｅ４ａ、Ｅ１ｂ〜Ｅ４ｂの改良が完了したならば（ステップＳ５が、Ｙｅｓ）、噴射攪拌装置１０を所定量だけ引き上げる（ステップＳ６）。ステップＳ６における噴射攪拌装置１０の引き上げ量（所定量）は、改良するべき地盤の性質や施工条件によりケース・バイ・ケースで予め決定される。
【００４４】
噴射攪拌装置１０を所定量だけ引き上げたならば、垂直方向について、改良するべき領域が全て改良されたか否かを判断する（ステップＳ７）。
垂直方向について、改良するべき領域が全て改良されていなければ（ステップＳ７でＮｏ）、ステップＳ４に戻り、図９〜図１２で説明した工程を順次繰り返す（ステップＳ７がＮｏのループ）。
垂直方向について、改良するべき領域が全て改良されれば（ステップＳ７でＹｅｓ）、ベースマシン（施工機）１００を設置した箇所の改良は完了する。すなわち、深度方向の所定の領域について、図１〜図４で示す様に、地盤が改良される。
【００４５】
第１実施形態によれば、図１〜図４で示すように、攪拌装置１０からの噴流Ｊａ、Ｊｂが、上述した様に噴射され、矢印Ｈについて線対称となる様に噴射されるため、攪拌装置１０が半回転すれば、長方形状に近い形状の領域が改良される。
そのため、投入する材料の消費量及び施工のためのエネルギーを削減すると共に、改良時間も短縮できて、効率的な地盤改良が可能となる。
ここで、地盤が硬く、噴流による切削が困難な場合であっても、噴流による切削を繰り返すことにより、地盤を上述した形状に切削し、改良することが出来る。
【００４６】
次に、図９〜図１５を参照して、本発明の第２実施形態について説明する。
ここで、図９〜図１５において、図１〜図８で示すのと同様な部材や領域については、同様な符号が付されている。
図１〜図８の第１実施形態は、特に図１〜図４で示すように、改良される区画を４区間に分けて、噴射攪拌装置１０の回転速度（角速度）、或いは、噴射圧力、噴射流量を変化させている。
それに対して、図９〜図１５の第２実施形態では、図９〜図１４で示すように、改良される区画を６区画に分けて、噴射攪拌装置１０の回転速度（角速度）、或いは、噴射圧力、噴射流量を変化させている。
【００４７】
図９で示す工程では、噴射攪拌装置１０（図９〜図１４では明示せず）から噴射される噴流は、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）の方向で、他の回転軸の反対側の方向（矢印Ｈ方向）に噴射されており、第１実施形態における図１で示す工程と概略同様である。
図９において、噴流により改良される領域は、それぞれ符号Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂで示されている。ここで、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂの範囲は、図１における領域Ｅ１ａ、Ｅ１ｂに比較して、若干、狭く設定されている。
なお、図９〜図１５の第２実施形態では、噴射攪拌装置１０が回転する方向（図９では矢印Ｖ１１方向）は反時計方向であり、図１〜図８の第１実施形態とは逆方向に図示されている。ただし、噴射攪拌装置１０が回転する方向は、図１〜図８の第１実施形態と同じ時計方向であっても良い。
【００４８】
図９に続く工程が図１０で示されている。図１０で示す工程では、噴流は、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、概略４５°傾斜した角度の方向（矢印Ｈから傾斜している範囲）に噴射されている。そして、図１０において地盤改良される領域（矢印Ｈから傾斜している範囲の地盤改良領域）は、符号Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂで示されている。
領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角は、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角よりも小さく設定されている。
また、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、図９で示す工程で地盤改良させれた領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）よりも長い。すなわち、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度よりも遅い。
【００４９】
図１０の工程に続き、図１１で示す工程が行なわれる。
図１１で示す工程では、噴流は、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）と垂直な方向（図１１の矢印Ｖ方向）に噴射される。より詳細には、直線Ｈ（矢印Ｈ）と垂直な方向（矢印Ｖ方向）に対して、傾斜した方向（矢印Ｈと垂直な方向に対して傾斜している範囲）に噴射されている。
図１１において、噴流により改良される領域は、符号Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂで示されている。
【００５０】
領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角に概略等しい。
そして、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、図９で示す工程で地盤改良させれた領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）と等しい。換言すれば、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度と等しい。
【００５１】
図１１で示す工程に続き、図１２の工程が行なわれる。
図１２で示す工程では、噴射攪拌装置１０から噴射される噴流は、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線の方向で反対側の回転軸に向かう方向（矢印Ｈとは逆方向）へ噴射されており、第１実施形態における図３で示す工程と概略同様である。
図１２において、噴流により改良される領域は、それぞれ符号Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂで示されている。
領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、図９、図１１における地盤改良された領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）と等しい。換言すれば、領域Ｅ１３ａ、Ｅ１３ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度よりも速い。
【００５２】
図１２の工程の後、図１３で示す工程が行なわれる。
図１３で示す工程では、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、図１１の工程で地盤改良された領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂと、線対称に位置する領域Ｅ１４ａ、Ｅ１４ｂを地盤改良している。換言すれば、領域Ｅ１４ａ、Ｅ１４ｂを地盤改良する噴流の噴射方向は、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂを地盤改良する噴流の噴射方向と、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、線対称な方向である。
そして、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角は、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角に等しく、領域Ｅ１４ａ、Ｅ１４ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）と等しい。換言すれば、領域Ｅ１４ａ、Ｅ１４ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１２ａ、Ｅ１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度と等しい。
【００５３】
図１３の工程に続き、図１４で示す工程が実行される。
図１４の工程では、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、図１０の工程で地盤改良された領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂと、線対称に位置する領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂを地盤改良している。換言すれば、領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂを地盤改良する噴流の噴射方向は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂを地盤改良する噴流の噴射方向と、回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂとを結んだ直線（矢印Ｈ）に対して、線対称な方向である。
そして、領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂにおける中心角に等しく、領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂの回転軸１ａの中心Ｃａと回転軸１ｂの中心Ｃｂからの距離（半径方向距離：噴流到達距離）と等しい。換言すれば、領域Ｅ１４１ａ、Ｅ１４１ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度は、領域Ｅ１１２ａ、Ｅ１１２ｂを地盤改良している場合における噴流（或いは、噴射攪拌装置１０）の回転速度と等しい。
【００５４】
図９〜図１４で示す工程により、領域Ｅ１１ａ、Ｅ１１２ａ、Ｅ１２ａ、Ｅ１３ａ、Ｅ１４ａ、Ｅ１４１ａ、Ｅ１１ｂ、Ｅ１１２ｂ、Ｅ１２ｂ、Ｅ１３ｂ、Ｅ１４ｂ、Ｅ１４１ｂの改良が完了したならば、第１実施形態と同様に、噴射攪拌装置１０を、改良するべき地盤の性質や施工条件によりケース・バイ・ケースで予め決定される所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を、垂直方向について延伸する。
所定深度分だけ引き上げたならば、図９〜図１４で説明した工程を順次繰り返す。
【００５５】
所定の領域について、垂直方向に必要な範囲だけ地盤を改良したならば（図１５の領域Ｋ２１）、造成するべき連続壁の他の部分（例えば、図１５の領域Ｋ２２）について、図９〜図１４で説明した工程を順次繰り返し、所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を垂直方向について延伸する。
そして、改良された部分の中間の領域（例えば、図１５の領域Ｋ２３）についても、図９〜図１４で説明した工程を順次繰り返して、所定深度分だけ引き上げて、改良された領域を垂直方向について延伸する。
これにより、連続壁Ｗ２を築造する。
【００５６】
上述した様に、図９〜図１４においても、改良される区画毎に、噴射攪拌装置１０の回転速度（角速度）を変化させることに代えて、噴射圧力、噴射流量を変化させることが可能である。噴流の噴射圧力、流量が増大すれば、噴流到達距離が長くなり、噴射圧力、噴射流量が減少すれば、噴流到達距離は短くなる。
【００５７】
第２実施形態では、第１実施形態と同様に、攪拌装置１０が半回転すれば、長方形状に近い形状の領域が改良される。そのため、投入する材料の消費量及び施工のためのエネルギーを削減すると共に、改良時間も短縮できて、効率的な地盤改良が可能となる。
ここで、地盤が硬く、噴流による切削が困難な場合であっても、噴流による切削を繰り返すことにより、地盤を上述した形状に切削し、改良することが出来る。
これに加えて第２実施形態では、地盤改良をするべき領域を、さらに細かく分割（第１実施形態の４区画から６区画に区画数を増加）しているので、連続壁（地中固結体）の必要最低厚み（矢印Ｖ方向の寸法）ｔを超える領域を改良してしまう割合がさらに減少して、投入する材料の消費量及び施工のためのエネルギーがより削減され、地盤改良の効率がさらに向上する。
第２実施形態における上述した以外の構成及び作用効果については、図１〜図８の第１実施形態と同様である。
【００５８】
図示の実施形態はあくまでも例示であり、本発明の技術的範囲を限定する趣旨の記述ではない。
例えば、第１実施形態では、噴射攪拌装置１０、１０Ａは時計方向に回転して改良材等を噴射しているが、反時計方向に回転させても良い。一方、第２実施形態では、噴射攪拌装置１０を時計方向に回転させても良い。
【符号の説明】
【００５９】
１ａ、１ｂ・・・回転軸
２ａ、２ｂ・・・攪拌翼
３ａ、３ｂ・・・噴射手段／噴射ノズル
１０、１０Ａ・・・二軸式機械攪拌装置／攪拌装置
２０・・・機械攪拌部
３０・・・超高圧ジェット攪拌部
１００・・・ベースマシン／三点支持式杭打ち機
【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴射攪拌装置により、地盤改良するべき領域までボーリング孔を削孔する工程を含み、
噴射攪拌装置は、２本の回転軸と、２本の回転軸の各々に設けられた攪拌手段及び噴射手段を有しており、
噴射攪拌装置の攪拌手段により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置の噴射手段から改良材を包含する噴流を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程を含み、
当該改良する工程では、噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸から離隔する方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離を長くし、
噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線と直交する方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離を短くし、
噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸に向かう方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離をさらに短くすることを特徴とする地盤改良工法。
【請求項２】
噴射攪拌装置により、地盤改良するべき領域までボーリング孔を削孔する工程を含み、
噴射攪拌装置は、２本の回転軸と、２本の回転軸の各々に設けられた攪拌手段及び噴射手段とを有しており、
噴射攪拌装置の攪拌手段により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置の噴射手段から改良材を包含する噴流を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程を含み、
当該改良する工程では、噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線から傾斜した方向であって、且つ、２本の回転軸から離隔する方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離を長く設定し、
噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸に向かう方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離を短く設定し、
噴流が上記２種類の領域の間の領域に噴射される場合には、当該噴流の切削距離は、上記２種類の領域における噴流の切削距離の中間の値となる様に設定することを特徴とする地盤改良工法。
【請求項１】
噴射攪拌装置により、地盤改良するべき領域までボーリング孔を削孔する工程を含み、
噴射攪拌装置は、２本の回転軸と、２本の回転軸の各々に設けられた攪拌手段及び噴射手段を有しており、
噴射攪拌装置の攪拌手段により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置の噴射手段から改良材を包含する噴流を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程を含み、
当該改良する工程では、噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸から離隔する方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離を長くし、
噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線と直交する方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離を短くし、
噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸に向かう方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離をさらに短くすることを特徴とする地盤改良工法。
【請求項２】
噴射攪拌装置により、地盤改良するべき領域までボーリング孔を削孔する工程を含み、
噴射攪拌装置は、２本の回転軸と、２本の回転軸の各々に設けられた攪拌手段及び噴射手段とを有しており、
噴射攪拌装置の攪拌手段により原位置土を攪拌しつつ、噴射攪拌装置の噴射手段から改良材を包含する噴流を噴射して原位置土を切削し、以って、改良材と原位置土を混合、攪拌することにより改良する工程を含み、
当該改良する工程では、噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線から傾斜した方向であって、且つ、２本の回転軸から離隔する方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離を長く設定し、
噴流が噴射攪拌装置の２本の回転軸を結ぶ直線方向であって、且つ、２本の回転軸に向かう方向に噴射される場合には、当該噴流の切削距離を短く設定し、
噴流が上記２種類の領域の間の領域に噴射される場合には、当該噴流の切削距離は、上記２種類の領域における噴流の切削距離の中間の値となる様に設定することを特徴とする地盤改良工法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【公開番号】特開２０１２−１０７４６３（Ｐ２０１２−１０７４６３Ａ）
【公開日】平成２４年６月７日（２０１２．６．７）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−２５８５４８（Ｐ２０１０−２５８５４８）
【出願日】平成２２年１１月１９日（２０１０．１１．１９）
【出願人】（３９０００２２３３）ケミカルグラウト株式会社 (79)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年６月７日（２０１２．６．７）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１１月１９日（２０１０．１１．１９）
【出願人】（３９０００２２３３）ケミカルグラウト株式会社 (79)
【Ｆターム（参考）】
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