基板洗浄装置、および、基板洗浄方法
【課題】大型の基板であっても、洗浄品質を維持しつつ短いタクトタイムで洗浄を行う。
【解決手段】第一洗浄布１２を基板に押し付ける第一押圧子１１と、第一洗浄布１２の新しい部分を第一押圧子１１に供給する第一供給手段１３と、第一押圧子１１を基板１に対して相対的に移動させることにより第一洗浄布１２を基板に対して相対的に移動させて洗浄工程を実施する移動手段３とを備える基板洗浄装置３０であって、第一押圧子１１は、第一洗浄布１２を基板１に押し付ける第一押付部２５と、第一押付部２５の前方に液体を吐出する第一吐出口１８とを備える。
【解決手段】第一洗浄布１２を基板に押し付ける第一押圧子１１と、第一洗浄布１２の新しい部分を第一押圧子１１に供給する第一供給手段１３と、第一押圧子１１を基板１に対して相対的に移動させることにより第一洗浄布１２を基板に対して相対的に移動させて洗浄工程を実施する移動手段３とを備える基板洗浄装置３０であって、第一押圧子１１は、第一洗浄布１２を基板１に押し付ける第一押付部２５と、第一押付部２５の前方に液体を吐出する第一吐出口１８とを備える。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ、有機ＥＬ（light-emitting）ディスプレイなどに用いられるガラス基板などの各種基板の被洗浄面を洗浄する基板洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、上述したディスプレイの製造工程においては、ガラス基板の側縁部に形成された電極にドライバＩＣなどの各種部品を電気的に接続すると共に物理的に固着する工程がある。具体的には、電極が配置されているガラス基板の側縁部にテープ状の異方性導電膜（ＡＣＦ：Anisotoropic Conductive Film）を貼り付け、当該異方性導電膜を介して各種部品を取り付ける工程が行われる。
【０００３】
ここで、ガラス基板の側縁部に各種部品を取り付ける工程は、ディスプレイの製造工程全体においては後半の工程であり、前半の工程等によってガラス基板の側縁部には汚れが付着している場合がある。従って、異方性導電膜をガラス基板の側縁部に取り付ける前に、ガラス基板の側縁部を洗浄する必要がある。
【０００４】
上記ガラス基板の側縁部の表面に付着した汚れを工業的に洗浄するには、ガラス基板の側縁部の両面に洗浄布を配置し、二つの押圧子によって洗浄布を所定の力で挟み込み、押圧子を洗浄布と共に側縁部に沿って相対的に移動させて拭き取るように洗浄する方法が採用されている。
【０００５】
ところで、特許文献１に示されるような前記洗浄布を使った洗浄工程においては、二つの押圧子で基板を挟み込む前の洗浄布にアルコール等の液体をしみ込ませ、液体で濡れた洗浄布を基板に押し付けて洗浄を行う湿式洗浄が採用されている。このような湿式洗浄を採用することにより、基板の表面に傷がつきにくくなり、また、基板表面の配線を剥がす事無く洗浄することが可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−２３７６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、昨今のテレビやコンピュータ用のモニタなどにおいては、ディスプレイが大型化する傾向にある。このような製品に用いられる大型のガラス基板の側縁を前記湿式洗浄で洗浄する場合、洗浄工程の途中で洗浄布にしみ込ませた液体が蒸発し洗浄布が乾燥してしまう事がある。
【０００８】
このような場合、事前にしみ込ませる液体の量を増加させることが考えられるが、押圧子により洗浄布を基板に押し付ける際に、液体が溢れ出して基板の表面に残るため、これらの液体が乾くまで次工程に移ることができず、また、液体が乾く際に残渣が基板表面に付着して再汚染が発生することもある。これらを避けるためには、事前に適量の液体を洗浄布にしみ込ませ、洗浄布が乾いてきた時点で洗浄工程を中断し、押圧子により基板に押し付けられた状態の洗浄布を開放して再び洗浄布に液体をしみ込ませることが考えられる。
【０００９】
しかしこの方法では、洗浄工程を一時中断しなければならないため、洗浄タクトが長くなるという課題が生じる。また、基板の側縁の中間部分で洗浄工程が中断するため、洗浄工程を再開する際は、確実に洗浄することを考慮し、洗浄が中断した部分から少し戻した場所から洗浄を再開することになる。このことが更に洗浄タクトの増加につながってしまうという課題となる。
【００１０】
本願発明は、これらの課題に鑑みてなされたものであり、湿式洗浄による洗浄効果を維持しつつ、基板側縁の一端から他端に至るまで、中断することなく洗浄工程を実施することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本願発明にかかる基板洗浄装置は、基板の被洗浄面に配置される長尺帯状の第一洗浄布の一部を基板の一面に対して押し付ける第一押圧子と、前記第一洗浄布の新しい部分を前記第一押圧子に供給する第一供給手段と、前記第一洗浄布の供給方向と交差する方向に前記第一押圧子を基板に対して相対的に移動させることにより前記第一洗浄布を基板に対して相対的に移動させて洗浄工程を実施する移動手段とを備える基板洗浄装置であって、前記第一押圧子は、前記第一洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第一押付部と、前記第一押圧子の基板に対する相対移動方向において前記第一押付部の前方に液体を吐出する第一吐出口とを備え、当該基板洗浄装置はさらに、前記洗浄工程の際に前記第一吐出口から液体を吐出させる吐出手段を備えることを特徴としている。
【００１２】
これにより、洗浄工程の途中において洗浄工程を中断させることなく洗浄布を液体で濡らすことができ、大型の基板であっても側縁部の端から端まで連続して洗浄を行うことが可能となる。なお、押圧子により基板に押し付けられた状態の洗浄布であっても、押付部の進行方向の前方に液体を吐出するため、液体が巻き込まれるようにして押し付けられた洗浄布の部分にしみ込むため、大型の基板を洗浄する場合でも、洗浄布の濡れ状態が均一で高い洗浄品質を基板の端から端まで維持することが可能となる。
【００１３】
前記第一押圧子は、前記押付部の相対移動方向の側部に基板から遠ざかる方向に窪む凹部を備え、前記吐出口は、前記凹部に配置されることが好ましい。
【００１４】
これにより、押付部の近傍に液体を吐出させることができるため、押付部により基板に押し付けられた洗浄布の部分に効果的に液体をしみ込ませることが可能となる。また、凹部に吐出口が備えられているため、吐出口によって洗浄工程に悪影響が生じることを回避することが可能となる。
【００１５】
前記吐出口は、前記洗浄布の基板と接触しない面である裏面と接触する位置に配置されることが好ましい。
【００１６】
これによれば、基板に押し付けられていない洗浄布の部分に液体を直接しみ込ませることができ、毛細管現象により液体が広がって押付部により押し付けられている洗浄布の部分に容易にしみ込ませることが可能となる。
【００１７】
上記目的を達成するために、本願発明に係る基板洗浄方法は、基板の被洗浄面に配置される長尺帯状の第一洗浄布の一部を基板の一面に対して押し付ける第一押圧子と、前記第一洗浄布の新しい部分を前記第一押圧子に供給する第一供給手段と、前記第一洗浄布の供給方向と交差する方向に前記第一押圧子を基板に対して相対的に移動させることにより前記第一洗浄布を基板に対して相対的に移動させる洗浄工程を実施する基板洗浄方法であって、前記洗浄工程において、前記第一洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第一押付部の前方に設けられる第一吐出口から、吐出手段により液体を吐出する吐出工程を含むことを特徴とする。
【００１８】
これにより、洗浄工程の途中において洗浄工程を中断させることなく洗浄布を液体で濡らすことができ、大型の基板であっても側縁部の端から端まで連続して洗浄を行うことが可能となる。なお、押圧子により基板に押し付けられた状態の洗浄布であっても、押付部の進行方向の前方に液体を吐出するため、液体が巻き込まれるようにして押し付けられた洗浄布の部分にしみ込むため、大型の基板を洗浄する場合でも、洗浄布の濡れ状態が均一で高い洗浄品質を基板の端から端まで維持することが可能となる。
【発明の効果】
【００１９】
本願発明によれば、大型の基板の側縁など長い距離を洗浄する場合でも、洗浄布の濡れ状態が均一で高い洗浄品質を維持したまま洗浄工程を中断することなく完遂することが可能となる。従って、洗浄工程に必要な時間の短縮化を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】基板洗浄装置を一部を省略して模式的に側面から示す平面図である。
【図２】基板洗浄装置を模式的に上面から示す平面図である。
【図３】基板を洗浄中の押圧子近傍を示す斜視図である。
【図４】第一押圧子を示す斜視図であり、（ａ）は押圧子を上方から望む図、（ｂ）は押圧子を下方から望む図である。
【図５】第一押圧子を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
【図６】押圧子と供給管との取り付け部分を断面で模式的に示す平面図である。
【図７】第二押圧子を示す斜視図であり、（ａ）は押圧子を上方から望む図、（ｂ）は押圧子を下方から望む図である。
【図８】洗浄状態にある基板洗浄装置の押圧子近傍を示す正面図である。
【図９】吐出口の配置のバリエーションを模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本願発明にかかる基板洗浄装置３０の実施の形態を、図面に基づき説明する。
基板洗浄装置の洗浄対象である基板１は、本実施の形態の場合、液晶表示パネルを構成するガラス製の基板であって、基板の表面に配線や駆動回路が形成され、カラーフィルタ等が積層された後の基板である。基板１の被洗浄部分は、側縁部であって、被洗浄面に配線のみが設けられ、洗浄後に異方性導電膜が貼り付けられる部分である。側縁部は、側縁部に対し垂直方向に延びる配線が複数本縞状に配置されており、配線の厚みは０．７ｍｍ〜１ｍｍ程度と非常に薄いものの、配線によって僅かに凹凸（例えば、数μｍ程度）が形成されている。また、洗浄によって配線に損傷を与えることは回避すべき事項である。
【００２２】
図１は、基板洗浄装置を一部を省略して模式的に側面から示す平面図である。
図２は、基板洗浄装置を模式的に上面から示す平面図である。
【００２３】
図３は、基板を洗浄中の押圧子近傍を示す斜視図である。
これらの図に示すように、基板洗浄装置３０は、基板１の側縁の表裏両面に存在する被洗浄面を濡れた状態の第一洗浄布１２や第二洗浄布３２（後述）を押付ながら基板１に沿って移動させることによって拭くようにして被洗浄面を洗浄する装置であって、第一押圧子１１と、第一供給手段１３と、移動手段３と、吐出手段４０とを備える装置である。本実施の形態の場合、基板洗浄装置３０はさらに、第二押圧子３１と、第二供給手段３３とを備えている。
【００２４】
本実施の形態の場合、第一押圧子１１と、第一供給手段１３と、第二押圧子３１と、第二供給手段３３とは、保持手段４１に取り付けられている。この保持手段４１は、第一押圧子１１と、第一供給手段１３と、第二押圧子３１と、第二供給手段３３とをユニット化するものであり、当該ユニットを基板洗浄装置３０に対して着脱可能とするものである。
【００２５】
第一供給手段１３は、未だ洗浄に供されていない新しい第一洗浄布１２の部分を第一押圧子１１の押付面１５（後述）に供給する装置である。本実施の形態の場合、第一供給手段１３は、第一供給リール２７と、第一ガイドローラ１４と、第一回収リール１７とを備えている。
【００２６】
第一供給リール２７は、長尺帯状の第一洗浄布１２が巻き付けられる円形状の部材を備え、必要に応じて新しい第一洗浄布１２の部分を所定の長さ分供給すると共に、第一洗浄布１２を所定長さ供給した後は、それ以上第一洗浄布１２を供給しないように、固定状態となる機能を備えている。
【００２７】
第一回収リール１７は、長尺帯状の第一洗浄布１２が巻き付けられる円盤状の部材を備え、必要に応じて洗浄後の第一洗浄布１２の部分を所定の長さ分回収すると共に、第一洗浄布１２を所定長さ回収した後は、それ以上第一洗浄布１２を回収しないように、固定状態となる機能を備えている。
【００２８】
上記第一供給リール２７と第一回収リール１７とにより、第一洗浄布１２は、洗浄動作毎にピッチ送りされるものとなっており、第一洗浄布１２の新しい部分を断続的に供給するものとなっている。
【００２９】
第一ガイドローラ１４は、第一洗浄布１２が所定の経路を通過するようにガイドする部材であり、また、第一ガイドローラ１４の回転軸に対して直交する方向に移動（例えばｚ軸方向）することで、第一洗浄布１２に所定の張力を付与する機能を備えている。第一洗浄布１２に作用させる張力は、０．５〜１．８Ｎ程度である。
【００３０】
以上の様に第一供給手段１３により第一洗浄布１２が第一押圧子１１に対して配置され、かつ、第一洗浄布１２の長さ方向に所定の張力を発生させることで、柔軟性と伸縮性を併せ持つ第一洗浄布１２であれば、第一押圧子１１の形状に第一洗浄布１２を沿わせることが可能となる。
【００３１】
なお、第二供給手段３３は、第一供給手段１３と同じ構成であり、同じ機能を備えるものであり、未だ洗浄に供されていない新しい第二洗浄布３２の部分を第二押圧子３１に供給する装置である。第二供給手段３３は、第二供給リール５７と、第二ガイドローラ３４と、第二回収リール３７とを備えている。
【００３２】
第一洗浄布１２は、基板１の表面に付着した汚れを拭い取るための布帛である。本実施の形態の場合、第一洗浄布１２は、長尺帯形状となっており、若干の伸縮性を備えている。具体的には例えば幅が約１０ｍｍ、厚みが約０．２ｍｍ〜０．３ｍｍであり、リールに巻き付けられた状態で供給されている。第二洗浄布３２も第一洗浄布１２と同じものである。
【００３３】
保持手段４１にはまた押圧手段（図示せず）が取り付けられている。押圧手段は、基板１の被洗浄面に配置される第一洗浄布１２の一部を第一押圧子１１を介して基板１に押し付ける装置である。本実施の形態の場合、押圧手段は、基板１の裏面にあたる被洗浄面に配置される第二洗浄布３２の一部を第二押圧子３１を介して基板１に押し付ける機能も備えている。すなわち、押圧手段は、第一押圧子１１と第二押圧子３１とで基板１を挟むようにして相互に押し付け力を発生させている。具体的に押圧手段は、対向するように配置された第一押圧子１１と第二押圧子３１を開閉駆動し、基板１の側縁部の上下両面の被洗浄面に第一洗浄布１２と第二洗浄布３２とをそれぞれ押し付け挟持するように構成されている。なお、押圧手段の挟持力は、４〜９Ｎ程度が好適である。
【００３４】
移動手段３は、前記押圧手段により基板１の側縁を挟持した状態の第一押圧子１１と第二押圧子３１とを基板１に対し相対的に移動させる装置である。本実施の形態の場合、移動手段３は、固定される第一押圧子１１や第二押圧子３１に対し、基板１をｘ軸方向に直線的に移動させることができる装置である。移動手段３は、基板保持部８を介して基板１を高速に移動させることができるものであり、その相対移動速度は、４０ｍｍ／ｓ以上、２５０ｍｍ／ｓ以下の範囲から設定することができるものとなっている。また、基板保持部８を移動させることができる距離は、３２インチの液晶ディスプレイの一辺を全て洗浄できる距離であり、具体的には６００ｍｍ以上の距離を設定された相対移動速度で移動させることが可能となっている。また、距離の上限は、５７インチの液晶ディスプレイの長辺を全て洗浄できる距離であり、具体的には、１３００ｍｍ以下の距離を設定された相対移動速度で移動させることが可能となっている。
【００３５】
なお、本願発明において移動手段３は、「相対的に移動」の語からも明らかなように、第一押圧子１１を固定して基板１を移動させるものばかりでなく、基板１を固定して第一押圧子１１や第二押圧子３１を移動させるものでも、基板１を移動させると共に第一押圧子１１や第二押圧子３１を移動させるものでもかまわない。
【００３６】
さらに本実施の形態の場合、移動手段３は、移動テーブル９に組み込まれている。
移動テーブル９は、第一押圧子１１に対する基板１の位置を決定するための装置であり、基板保持部８と、移動手段３と、第二移動手段７とを備えている。
【００３７】
基板保持部８は、基板１を載置状態で保持すると共に、載置した基板１をＺ軸回り（θ方向）に回転させることのできる装置である。
【００３８】
第二移動手段７は、基板保持部８と移動手段３とをＹ方向に移動させることのできる装置であり、基板保持部８と移動手段３とを介して第一押圧子１１に対する基板１のｙ軸方向の位置決めを行うことができる装置である。
【００３９】
次に、第一押圧子１１について詳細に説明する。
図４は、第一押圧子を示す斜視図であり、（ａ）は押圧子を上方から望む図、（ｂ）は押圧子を下方から望む図である。
【００４０】
図５は、第一押圧子１１を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
これらの図に示すように、第一押圧子１１は、第一洗浄布１２を基板１の表面に押し付けながら基板１と相対移動することにより、洗浄工程を行う部材であって、押付面１５を表面に備える第一押付部２５と、傾斜部２６と、規制突起２２と、第一吐出口１８とを備えている。また、第一押圧子１１は、傾斜部２６と規制突起２２とに囲まれる部分に基板１から遠ざかる方向に窪む凹部２８を備えている。
【００４１】
第一押付部２５は、第一洗浄布１２を基板１に押し付ける部分である。第一押付部２５の表面に備えられる押付面１５は、基板１に押し付ける第一洗浄布１２の部分と当接する面であって、基板１の表面と平行に配置される平面である。本実施の形態の場合、押付面１５の幅（ｘ軸方向）は、５ｍｍ程度である。これは、第一洗浄布１２の幅が１０ｍｍであるため、第一洗浄布１２の幅に対応したものである。
【００４２】
傾斜部２６は、第一押圧子１１に対する洗浄布の相対移動方向のずれを抑止するための部分である。傾斜部２６の表面に備えられる傾斜面１６は、相対移動方向における押付面１５の両端縁にそれぞれ接続され、相対移動方向に沿って前記端縁から外側に向かって遠ざかるに従い徐々に基板１と遠ざかるように配置されている。第一洗浄布１２が第一押付部２５を覆い更に傾斜部２６に沿った状態で傾斜部２６を覆うことで、第一押圧子１１と第一洗浄布１２との相対移動方向のずれが抑止される。
【００４３】
規制突起２２は、第一洗浄布１２の幅方向の端部と接触して、第一洗浄布１２が第一押圧子１１から逸脱することを規制する部材であり、傾斜部２６の第一押付部２５と反対側の端縁と接続され、押付面１５を越えない程度に基板１に向かって突出し、第一洗浄布１２の第一押圧子１１に対する相対移動方向のずれを規制する。
【００４４】
第一吐出口１８は、第一洗浄布１２に浸透して洗浄に供される液体を吐出する開口であり、第一押圧子１１の基板１に対する相対移動方向において第一押付部２５の前方に配置される開口である。
【００４５】
本実施の形態の場合、第一吐出口１８は、第一押圧子１１の凹部２８に配置されている。本実施の形態の場合、第一吐出口１８は、傾斜部２６に配置されている。傾斜部２６は、第一洗浄布１２に覆われる部分であり、第一吐出口１８は、第一洗浄布１２の基板１と接触しない面である裏面と接触する位置に配置されている。さらに、第一押圧子１１は、基板１に対し、往動する場合も復動する場合もあるため、第一吐出口１８は、第一押付部２５の相対移動方向における両側に設けられている。
【００４６】
また、第一吐出口１８は、第一押圧子１１の内部を貫通して液体を挿通させる液路２０の端部に該当する部分となっている。なお、液路２０の第一吐出口１８と反対側の端部は、接続口３９となっている。
【００４７】
第二押圧子３１は、図６、図７に示すように、第一押圧子１１と同じ構造となっており、第二吐出口３８と、第二押付部５５と、傾斜部２６と、規制突起２２と、接続口３９と、凹部２８とを備えている。また、第二押圧子３１の内部には、第一押圧子１１と同様、接続口３９と第二吐出口３８とを結ぶ液路２０が設けられている。なお、各部の作用や機能は第一押圧子１１と同様であるため、説明を省略する。
【００４８】
吐出手段４０（図２参照）は、第一洗浄布１２に対して液体の洗浄剤を供給する装置である。本実施の形態の場合、吐出手段４０は、第一押圧子１１に設けられている第一吐出口１８からエタノールやイソプロピルアルコールなどの揮発性の洗浄剤としての液体を第一洗浄布１２に向けて吐出するように、液体を供給する装置である。また、吐出手段４０は、第二押圧子３１に設けられている第二吐出口３８から液体を第二洗浄布に向けて吐出する機能も併せ持っている。
【００４９】
図２および図６に示すように吐出手段４０は、第一押圧子１１や第二押圧子３１に液体を供給する供給管４２と、供給管４２の先端に設けられ、第一押圧子１１や第二押圧子３１と供給管４２とを着脱可能とする着脱部４３とを備えている。吐出手段４０は、微量の液体を吐出させることのできる一般的な装置であればよく、例えば、液体を貯留するタンクと、前記タンクに貯留されている液体をわずかな量だけ送ることのできる液体ポンプなどを備えた装置である。また、吐出手段４０は、受信した信号に基づいて液体を吐出するか否かを制御することができるものである。
【００５０】
供給管４２は、吐出手段４０と第一押圧子１１や第二押圧子の間を結ぶパイプである。本実施の形態の場合、供給管４２は、可撓性のある樹脂製の細いパイプである。これにより、第一押圧子１１や第二押圧子３１への着脱が容易に行うことができるものとなっている。
【００５１】
着脱部４３は、第一押圧子１１や第二押圧子３１と供給管４２とを着脱可能に接続する部分である。本実施の形態の場合、着脱部４３は、第一押圧子１１や第二押圧子３１に備えられる接続口３９に挿入可能な形状となっている。また、着脱部４３と接続口３９との嵌合部分には、Ｏリングなどの封止部材（図示せず）が配置されており、着脱部４３が接続口３９に接続された状態において、供給管４２から第一押圧子１１や第二押圧子３１の液路２０に流入する液体が接続部分から漏れ出すことを防止している。
【００５２】
また、着脱部４３にはセンサ１９が取り付けられている。センサ１９は、第一洗浄布１２や第二洗浄布３２に液体が含まれると変化する色調の変化（光の反射状態も含む）を検出するセンサであり、第一洗浄布１２や第二洗浄布３２が濡れている状態であるか乾いた状態であるかの少なくともいずれか一方を検出し、その旨を示す信号を送信することのできるものである。本実施の形態の場合、センサ１９は、第一押圧子１１や第二押圧子３１の規制突起に設けられた貫通孔２３を介して第一吐出口１８や第二吐出口３８近傍に配置される第一洗浄布１２や第二洗浄布３２の表面に光を当て、反射する光の強度を検出することにより第一洗浄布１２や第二洗浄布３２が濡れているか否かを検出するものとなっている。
【００５３】
センサ１９から送信される信号は、制御手段４４（図６参照）により受信される。制御手段４４は、センサ１９から受信した信号に基づき第一洗浄布１２が濡れていないと判断した場合、洗浄工程を中止するように、または、開始しないように基板洗浄装置３０を制御する装置である。
【００５４】
次に、以上の構成を備えた基板洗浄装置３０の洗浄工程を説明する。被洗浄面は、基板１の側縁部の表裏両面に存在している。
【００５５】
まず、基板１を基板搬送手段にて基板洗浄装置３０に搬入され、搬入された基板１は、移動テーブル９の基板保持部８に載置される（搬入工程）。
【００５６】
そして、第二移動手段７にてｙ軸方向の位置が決定され、基板保持部８によってｚ軸方向の位置と、θ方向の角度が決定される。また、移動手段３により、基板１の側縁部であって被洗浄面の一端が、第一押圧子１１の間に位置するように位置決めされる（位置決め工程）。
【００５７】
次に、第一供給手段１３により第一洗浄布１２を所定量送給し、第一押圧子１１の第一押付部２５と基板１の被洗浄面との間に洗浄に供されていない新しい部分を送給する。また、第二供給手段３３により第二洗浄布３２を所定量送給し、第二押圧子３１の第二押付部５５と基板１の被洗浄面との間に新しい部分を送給する。
【００５８】
次に、吐出手段４０により、第一洗浄布１２に対して第一吐出口１８から液体を吐出し、新しい第一洗浄布１２の部分に所要量の液体を含ませる。なお、第一洗浄布１２に含んだ液体の滲み（色の変化）をセンサ１９にて検出することで、第一洗浄布１２に洗浄剤を十分に含んでいることが確認される。また、吐出手段４０は、第二洗浄布３２に対しても同様に液体を吐出する。
【００５９】
ここで、制御手段４４が第一洗浄布１２および第二洗浄布３２の少なくともいずれか一方が濡れていないと判断すると、制御手段４４は、次行程に移行することを中止するように基板洗浄装置３０を制御すると共に警告を発する。
【００６０】
次に、押圧手段（図示せず）にて第一押圧子１１と第二押圧子３１とを基板１の方向にそれぞれ押し付ける。この状態において、図８に示すように、第一洗浄布１２は幅方向（ｘ軸方向）で第一押付部２５を跨いだ状態となっている。また、第一洗浄布１２を介して第一押圧子１１が基板１の側縁部を挟持した状態となり、第一押圧子１１の第一押付部２５にて第一洗浄布１２が基板１の被洗浄面に押し付けられた状態となる。第二洗浄布３２も同様である（押付工程）。
【００６１】
次に、第一押圧子１１と第二押圧子３１とにより第一洗浄布１２と第二洗浄布３２とが基板１の被洗浄面の表裏に押し付けられている状態で、移動手段３を作動させ第一押圧子１１および第二押圧子３１と基板１とを相対的に移動させる。本実施の形態の場合移動手段３は、固定状態の第一押圧子１１および第二押圧子３１に対し基板１を移動させる。移動は、位置決め工程で位置決めされた一端部からから他端部に向けて開始される。これにより、基板１の被洗浄面を洗浄する（洗浄工程）。
【００６２】
次に、前記洗浄工程開始から所定時間、または、基板１と第一押圧子１１との相対移動距離が所定距離となった時点で、前記洗浄工程と並行して、吐出手段４０により、第一洗浄布１２に対して第一吐出口１８から液体を吐出する。同様に、吐出手段４０により第二洗浄布３２に対して第二吐出口３８から液体を吐出する（継ぎ足し工程）。なお、所定時間や所定距離は、予め定められている。これらの時間または距離は、洗浄工程において第一洗浄布１２や第二洗浄布３２が乾いて洗浄品質に影響が出る時間や距離よりも短い時間や距離に設定されている。
【００６３】
第一押圧子１１と第二押圧子３１とが被洗浄面の他端に到達すると、押圧手段は、第一押圧子１１による押圧を解除し、移動テーブル９にて基板１を第一押圧子１１から離間させる（離間工程）。
【００６４】
次に、後続工程であるＡＣＦ貼付装置に向けて基板１を搬出する（搬出工程）。
一方、搬出工程と共に、前記搬入工程が実施され、以降の工程が繰り返される。
【００６５】
以上の実施形態によれば、第一洗浄布１２や第二洗浄布３２は、洗浄工程の途中で液体が供給されるため、洗浄品質に影響が出るほど乾くことがない。従って、基板１の被洗浄面の相対移動方向の長さが長い場合（例えば６５０ｍｍ以上）でも、第一押圧子１１や第二押圧子３１の押付状態を解除することなく１度の相対移動（すなわち往動）により被洗浄面の汚れを除去することが可能となる。
【００６６】
これは、第一押付部２５や第二押付部５５の相対移動方向の直前に液体を吐出するため、液体が第一押圧子１１や第二押圧子３１と基板１との間に巻き込まれ、第一洗浄布１２や第二洗浄布３２が圧縮された状態でも充分に液体がしみ込むためだと考えられる。さらに、この液体の巻き込み効果は、傾斜部２６の存在により増強されると考えられる。
【００６７】
なお、本願発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、本明細書において記載した構成要素を任意に組み合わせて実現される別の実施の形態を本願発明の一例としてもよい。また、上記実施の形態に対して本願発明の主旨、すなわち、特許請求の範囲に記載される文言が示す意味を逸脱しない範囲で当業者が思いつく各種変形を施して得られる変形例も本願発明に含まれる。例えば図９（ａ）に示すように、第一洗浄布１２とは接触しない位置に第一吐出口１８を設けてもかまわない。また、図９（ｂ）に示すように、第一押圧子１１の近傍に第一吐出口１８を備えたパイプを配置するものでもかまわない。
【００６８】
また、「平行」や「平面」などの文言は、本願発明の趣旨を逸脱しない程度の誤差を許容する意味で使用している。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本願発明にかかる基板洗浄装置は、駆動回路などが形成されたディスプレイ用のガラス基板の端縁を洗浄する工程に適用可能であり、特に、３２インチ以上の大型のディスプレイ用ガラスの洗浄、あるいは、ディスプレイ用基板を高速洗浄する場合に適している。
【符号の説明】
【００７０】
１ 基板
３ 移動手段
７ 第二移動手段
８ 基板保持部
９ 移動テーブル
１１ 第一押圧子
１２ 第一洗浄布
１３ 第一供給手段
１４ 第一ガイドローラ
１５ 押付面
１６ 傾斜面
１７ 第一回収リール
１８ 第一吐出口
１９ センサ
２０ 液路
２２ 規制突起
２３ 貫通孔
２５ 第一押付部
２６ 傾斜部
２７ 第一供給リール
２８ 凹部
３０ 基板洗浄装置
３１ 第二押圧子
３２ 第二洗浄布
３３ 第二供給手段
３４ 第二ガイドローラ
３７ 第二回収リール
３８ 第二吐出口
３９ 接続口
４０ 吐出手段
４１ 保持手段
４２ 供給管
４３ 着脱部
４４ 制御手段
５５ 第二押付部
５７ 第二供給リール
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ、有機ＥＬ（light-emitting）ディスプレイなどに用いられるガラス基板などの各種基板の被洗浄面を洗浄する基板洗浄装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、上述したディスプレイの製造工程においては、ガラス基板の側縁部に形成された電極にドライバＩＣなどの各種部品を電気的に接続すると共に物理的に固着する工程がある。具体的には、電極が配置されているガラス基板の側縁部にテープ状の異方性導電膜（ＡＣＦ：Anisotoropic Conductive Film）を貼り付け、当該異方性導電膜を介して各種部品を取り付ける工程が行われる。
【０００３】
ここで、ガラス基板の側縁部に各種部品を取り付ける工程は、ディスプレイの製造工程全体においては後半の工程であり、前半の工程等によってガラス基板の側縁部には汚れが付着している場合がある。従って、異方性導電膜をガラス基板の側縁部に取り付ける前に、ガラス基板の側縁部を洗浄する必要がある。
【０００４】
上記ガラス基板の側縁部の表面に付着した汚れを工業的に洗浄するには、ガラス基板の側縁部の両面に洗浄布を配置し、二つの押圧子によって洗浄布を所定の力で挟み込み、押圧子を洗浄布と共に側縁部に沿って相対的に移動させて拭き取るように洗浄する方法が採用されている。
【０００５】
ところで、特許文献１に示されるような前記洗浄布を使った洗浄工程においては、二つの押圧子で基板を挟み込む前の洗浄布にアルコール等の液体をしみ込ませ、液体で濡れた洗浄布を基板に押し付けて洗浄を行う湿式洗浄が採用されている。このような湿式洗浄を採用することにより、基板の表面に傷がつきにくくなり、また、基板表面の配線を剥がす事無く洗浄することが可能となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−２３７６９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところが、昨今のテレビやコンピュータ用のモニタなどにおいては、ディスプレイが大型化する傾向にある。このような製品に用いられる大型のガラス基板の側縁を前記湿式洗浄で洗浄する場合、洗浄工程の途中で洗浄布にしみ込ませた液体が蒸発し洗浄布が乾燥してしまう事がある。
【０００８】
このような場合、事前にしみ込ませる液体の量を増加させることが考えられるが、押圧子により洗浄布を基板に押し付ける際に、液体が溢れ出して基板の表面に残るため、これらの液体が乾くまで次工程に移ることができず、また、液体が乾く際に残渣が基板表面に付着して再汚染が発生することもある。これらを避けるためには、事前に適量の液体を洗浄布にしみ込ませ、洗浄布が乾いてきた時点で洗浄工程を中断し、押圧子により基板に押し付けられた状態の洗浄布を開放して再び洗浄布に液体をしみ込ませることが考えられる。
【０００９】
しかしこの方法では、洗浄工程を一時中断しなければならないため、洗浄タクトが長くなるという課題が生じる。また、基板の側縁の中間部分で洗浄工程が中断するため、洗浄工程を再開する際は、確実に洗浄することを考慮し、洗浄が中断した部分から少し戻した場所から洗浄を再開することになる。このことが更に洗浄タクトの増加につながってしまうという課題となる。
【００１０】
本願発明は、これらの課題に鑑みてなされたものであり、湿式洗浄による洗浄効果を維持しつつ、基板側縁の一端から他端に至るまで、中断することなく洗浄工程を実施することができる基板洗浄装置、基板洗浄方法の提供を目的としている。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記目的を達成するために、本願発明にかかる基板洗浄装置は、基板の被洗浄面に配置される長尺帯状の第一洗浄布の一部を基板の一面に対して押し付ける第一押圧子と、前記第一洗浄布の新しい部分を前記第一押圧子に供給する第一供給手段と、前記第一洗浄布の供給方向と交差する方向に前記第一押圧子を基板に対して相対的に移動させることにより前記第一洗浄布を基板に対して相対的に移動させて洗浄工程を実施する移動手段とを備える基板洗浄装置であって、前記第一押圧子は、前記第一洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第一押付部と、前記第一押圧子の基板に対する相対移動方向において前記第一押付部の前方に液体を吐出する第一吐出口とを備え、当該基板洗浄装置はさらに、前記洗浄工程の際に前記第一吐出口から液体を吐出させる吐出手段を備えることを特徴としている。
【００１２】
これにより、洗浄工程の途中において洗浄工程を中断させることなく洗浄布を液体で濡らすことができ、大型の基板であっても側縁部の端から端まで連続して洗浄を行うことが可能となる。なお、押圧子により基板に押し付けられた状態の洗浄布であっても、押付部の進行方向の前方に液体を吐出するため、液体が巻き込まれるようにして押し付けられた洗浄布の部分にしみ込むため、大型の基板を洗浄する場合でも、洗浄布の濡れ状態が均一で高い洗浄品質を基板の端から端まで維持することが可能となる。
【００１３】
前記第一押圧子は、前記押付部の相対移動方向の側部に基板から遠ざかる方向に窪む凹部を備え、前記吐出口は、前記凹部に配置されることが好ましい。
【００１４】
これにより、押付部の近傍に液体を吐出させることができるため、押付部により基板に押し付けられた洗浄布の部分に効果的に液体をしみ込ませることが可能となる。また、凹部に吐出口が備えられているため、吐出口によって洗浄工程に悪影響が生じることを回避することが可能となる。
【００１５】
前記吐出口は、前記洗浄布の基板と接触しない面である裏面と接触する位置に配置されることが好ましい。
【００１６】
これによれば、基板に押し付けられていない洗浄布の部分に液体を直接しみ込ませることができ、毛細管現象により液体が広がって押付部により押し付けられている洗浄布の部分に容易にしみ込ませることが可能となる。
【００１７】
上記目的を達成するために、本願発明に係る基板洗浄方法は、基板の被洗浄面に配置される長尺帯状の第一洗浄布の一部を基板の一面に対して押し付ける第一押圧子と、前記第一洗浄布の新しい部分を前記第一押圧子に供給する第一供給手段と、前記第一洗浄布の供給方向と交差する方向に前記第一押圧子を基板に対して相対的に移動させることにより前記第一洗浄布を基板に対して相対的に移動させる洗浄工程を実施する基板洗浄方法であって、前記洗浄工程において、前記第一洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第一押付部の前方に設けられる第一吐出口から、吐出手段により液体を吐出する吐出工程を含むことを特徴とする。
【００１８】
これにより、洗浄工程の途中において洗浄工程を中断させることなく洗浄布を液体で濡らすことができ、大型の基板であっても側縁部の端から端まで連続して洗浄を行うことが可能となる。なお、押圧子により基板に押し付けられた状態の洗浄布であっても、押付部の進行方向の前方に液体を吐出するため、液体が巻き込まれるようにして押し付けられた洗浄布の部分にしみ込むため、大型の基板を洗浄する場合でも、洗浄布の濡れ状態が均一で高い洗浄品質を基板の端から端まで維持することが可能となる。
【発明の効果】
【００１９】
本願発明によれば、大型の基板の側縁など長い距離を洗浄する場合でも、洗浄布の濡れ状態が均一で高い洗浄品質を維持したまま洗浄工程を中断することなく完遂することが可能となる。従って、洗浄工程に必要な時間の短縮化を図ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】基板洗浄装置を一部を省略して模式的に側面から示す平面図である。
【図２】基板洗浄装置を模式的に上面から示す平面図である。
【図３】基板を洗浄中の押圧子近傍を示す斜視図である。
【図４】第一押圧子を示す斜視図であり、（ａ）は押圧子を上方から望む図、（ｂ）は押圧子を下方から望む図である。
【図５】第一押圧子を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
【図６】押圧子と供給管との取り付け部分を断面で模式的に示す平面図である。
【図７】第二押圧子を示す斜視図であり、（ａ）は押圧子を上方から望む図、（ｂ）は押圧子を下方から望む図である。
【図８】洗浄状態にある基板洗浄装置の押圧子近傍を示す正面図である。
【図９】吐出口の配置のバリエーションを模式的に示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本願発明にかかる基板洗浄装置３０の実施の形態を、図面に基づき説明する。
基板洗浄装置の洗浄対象である基板１は、本実施の形態の場合、液晶表示パネルを構成するガラス製の基板であって、基板の表面に配線や駆動回路が形成され、カラーフィルタ等が積層された後の基板である。基板１の被洗浄部分は、側縁部であって、被洗浄面に配線のみが設けられ、洗浄後に異方性導電膜が貼り付けられる部分である。側縁部は、側縁部に対し垂直方向に延びる配線が複数本縞状に配置されており、配線の厚みは０．７ｍｍ〜１ｍｍ程度と非常に薄いものの、配線によって僅かに凹凸（例えば、数μｍ程度）が形成されている。また、洗浄によって配線に損傷を与えることは回避すべき事項である。
【００２２】
図１は、基板洗浄装置を一部を省略して模式的に側面から示す平面図である。
図２は、基板洗浄装置を模式的に上面から示す平面図である。
【００２３】
図３は、基板を洗浄中の押圧子近傍を示す斜視図である。
これらの図に示すように、基板洗浄装置３０は、基板１の側縁の表裏両面に存在する被洗浄面を濡れた状態の第一洗浄布１２や第二洗浄布３２（後述）を押付ながら基板１に沿って移動させることによって拭くようにして被洗浄面を洗浄する装置であって、第一押圧子１１と、第一供給手段１３と、移動手段３と、吐出手段４０とを備える装置である。本実施の形態の場合、基板洗浄装置３０はさらに、第二押圧子３１と、第二供給手段３３とを備えている。
【００２４】
本実施の形態の場合、第一押圧子１１と、第一供給手段１３と、第二押圧子３１と、第二供給手段３３とは、保持手段４１に取り付けられている。この保持手段４１は、第一押圧子１１と、第一供給手段１３と、第二押圧子３１と、第二供給手段３３とをユニット化するものであり、当該ユニットを基板洗浄装置３０に対して着脱可能とするものである。
【００２５】
第一供給手段１３は、未だ洗浄に供されていない新しい第一洗浄布１２の部分を第一押圧子１１の押付面１５（後述）に供給する装置である。本実施の形態の場合、第一供給手段１３は、第一供給リール２７と、第一ガイドローラ１４と、第一回収リール１７とを備えている。
【００２６】
第一供給リール２７は、長尺帯状の第一洗浄布１２が巻き付けられる円形状の部材を備え、必要に応じて新しい第一洗浄布１２の部分を所定の長さ分供給すると共に、第一洗浄布１２を所定長さ供給した後は、それ以上第一洗浄布１２を供給しないように、固定状態となる機能を備えている。
【００２７】
第一回収リール１７は、長尺帯状の第一洗浄布１２が巻き付けられる円盤状の部材を備え、必要に応じて洗浄後の第一洗浄布１２の部分を所定の長さ分回収すると共に、第一洗浄布１２を所定長さ回収した後は、それ以上第一洗浄布１２を回収しないように、固定状態となる機能を備えている。
【００２８】
上記第一供給リール２７と第一回収リール１７とにより、第一洗浄布１２は、洗浄動作毎にピッチ送りされるものとなっており、第一洗浄布１２の新しい部分を断続的に供給するものとなっている。
【００２９】
第一ガイドローラ１４は、第一洗浄布１２が所定の経路を通過するようにガイドする部材であり、また、第一ガイドローラ１４の回転軸に対して直交する方向に移動（例えばｚ軸方向）することで、第一洗浄布１２に所定の張力を付与する機能を備えている。第一洗浄布１２に作用させる張力は、０．５〜１．８Ｎ程度である。
【００３０】
以上の様に第一供給手段１３により第一洗浄布１２が第一押圧子１１に対して配置され、かつ、第一洗浄布１２の長さ方向に所定の張力を発生させることで、柔軟性と伸縮性を併せ持つ第一洗浄布１２であれば、第一押圧子１１の形状に第一洗浄布１２を沿わせることが可能となる。
【００３１】
なお、第二供給手段３３は、第一供給手段１３と同じ構成であり、同じ機能を備えるものであり、未だ洗浄に供されていない新しい第二洗浄布３２の部分を第二押圧子３１に供給する装置である。第二供給手段３３は、第二供給リール５７と、第二ガイドローラ３４と、第二回収リール３７とを備えている。
【００３２】
第一洗浄布１２は、基板１の表面に付着した汚れを拭い取るための布帛である。本実施の形態の場合、第一洗浄布１２は、長尺帯形状となっており、若干の伸縮性を備えている。具体的には例えば幅が約１０ｍｍ、厚みが約０．２ｍｍ〜０．３ｍｍであり、リールに巻き付けられた状態で供給されている。第二洗浄布３２も第一洗浄布１２と同じものである。
【００３３】
保持手段４１にはまた押圧手段（図示せず）が取り付けられている。押圧手段は、基板１の被洗浄面に配置される第一洗浄布１２の一部を第一押圧子１１を介して基板１に押し付ける装置である。本実施の形態の場合、押圧手段は、基板１の裏面にあたる被洗浄面に配置される第二洗浄布３２の一部を第二押圧子３１を介して基板１に押し付ける機能も備えている。すなわち、押圧手段は、第一押圧子１１と第二押圧子３１とで基板１を挟むようにして相互に押し付け力を発生させている。具体的に押圧手段は、対向するように配置された第一押圧子１１と第二押圧子３１を開閉駆動し、基板１の側縁部の上下両面の被洗浄面に第一洗浄布１２と第二洗浄布３２とをそれぞれ押し付け挟持するように構成されている。なお、押圧手段の挟持力は、４〜９Ｎ程度が好適である。
【００３４】
移動手段３は、前記押圧手段により基板１の側縁を挟持した状態の第一押圧子１１と第二押圧子３１とを基板１に対し相対的に移動させる装置である。本実施の形態の場合、移動手段３は、固定される第一押圧子１１や第二押圧子３１に対し、基板１をｘ軸方向に直線的に移動させることができる装置である。移動手段３は、基板保持部８を介して基板１を高速に移動させることができるものであり、その相対移動速度は、４０ｍｍ／ｓ以上、２５０ｍｍ／ｓ以下の範囲から設定することができるものとなっている。また、基板保持部８を移動させることができる距離は、３２インチの液晶ディスプレイの一辺を全て洗浄できる距離であり、具体的には６００ｍｍ以上の距離を設定された相対移動速度で移動させることが可能となっている。また、距離の上限は、５７インチの液晶ディスプレイの長辺を全て洗浄できる距離であり、具体的には、１３００ｍｍ以下の距離を設定された相対移動速度で移動させることが可能となっている。
【００３５】
なお、本願発明において移動手段３は、「相対的に移動」の語からも明らかなように、第一押圧子１１を固定して基板１を移動させるものばかりでなく、基板１を固定して第一押圧子１１や第二押圧子３１を移動させるものでも、基板１を移動させると共に第一押圧子１１や第二押圧子３１を移動させるものでもかまわない。
【００３６】
さらに本実施の形態の場合、移動手段３は、移動テーブル９に組み込まれている。
移動テーブル９は、第一押圧子１１に対する基板１の位置を決定するための装置であり、基板保持部８と、移動手段３と、第二移動手段７とを備えている。
【００３７】
基板保持部８は、基板１を載置状態で保持すると共に、載置した基板１をＺ軸回り（θ方向）に回転させることのできる装置である。
【００３８】
第二移動手段７は、基板保持部８と移動手段３とをＹ方向に移動させることのできる装置であり、基板保持部８と移動手段３とを介して第一押圧子１１に対する基板１のｙ軸方向の位置決めを行うことができる装置である。
【００３９】
次に、第一押圧子１１について詳細に説明する。
図４は、第一押圧子を示す斜視図であり、（ａ）は押圧子を上方から望む図、（ｂ）は押圧子を下方から望む図である。
【００４０】
図５は、第一押圧子１１を示す図であり、（ａ）は正面図、（ｂ）は側面図である。
これらの図に示すように、第一押圧子１１は、第一洗浄布１２を基板１の表面に押し付けながら基板１と相対移動することにより、洗浄工程を行う部材であって、押付面１５を表面に備える第一押付部２５と、傾斜部２６と、規制突起２２と、第一吐出口１８とを備えている。また、第一押圧子１１は、傾斜部２６と規制突起２２とに囲まれる部分に基板１から遠ざかる方向に窪む凹部２８を備えている。
【００４１】
第一押付部２５は、第一洗浄布１２を基板１に押し付ける部分である。第一押付部２５の表面に備えられる押付面１５は、基板１に押し付ける第一洗浄布１２の部分と当接する面であって、基板１の表面と平行に配置される平面である。本実施の形態の場合、押付面１５の幅（ｘ軸方向）は、５ｍｍ程度である。これは、第一洗浄布１２の幅が１０ｍｍであるため、第一洗浄布１２の幅に対応したものである。
【００４２】
傾斜部２６は、第一押圧子１１に対する洗浄布の相対移動方向のずれを抑止するための部分である。傾斜部２６の表面に備えられる傾斜面１６は、相対移動方向における押付面１５の両端縁にそれぞれ接続され、相対移動方向に沿って前記端縁から外側に向かって遠ざかるに従い徐々に基板１と遠ざかるように配置されている。第一洗浄布１２が第一押付部２５を覆い更に傾斜部２６に沿った状態で傾斜部２６を覆うことで、第一押圧子１１と第一洗浄布１２との相対移動方向のずれが抑止される。
【００４３】
規制突起２２は、第一洗浄布１２の幅方向の端部と接触して、第一洗浄布１２が第一押圧子１１から逸脱することを規制する部材であり、傾斜部２６の第一押付部２５と反対側の端縁と接続され、押付面１５を越えない程度に基板１に向かって突出し、第一洗浄布１２の第一押圧子１１に対する相対移動方向のずれを規制する。
【００４４】
第一吐出口１８は、第一洗浄布１２に浸透して洗浄に供される液体を吐出する開口であり、第一押圧子１１の基板１に対する相対移動方向において第一押付部２５の前方に配置される開口である。
【００４５】
本実施の形態の場合、第一吐出口１８は、第一押圧子１１の凹部２８に配置されている。本実施の形態の場合、第一吐出口１８は、傾斜部２６に配置されている。傾斜部２６は、第一洗浄布１２に覆われる部分であり、第一吐出口１８は、第一洗浄布１２の基板１と接触しない面である裏面と接触する位置に配置されている。さらに、第一押圧子１１は、基板１に対し、往動する場合も復動する場合もあるため、第一吐出口１８は、第一押付部２５の相対移動方向における両側に設けられている。
【００４６】
また、第一吐出口１８は、第一押圧子１１の内部を貫通して液体を挿通させる液路２０の端部に該当する部分となっている。なお、液路２０の第一吐出口１８と反対側の端部は、接続口３９となっている。
【００４７】
第二押圧子３１は、図６、図７に示すように、第一押圧子１１と同じ構造となっており、第二吐出口３８と、第二押付部５５と、傾斜部２６と、規制突起２２と、接続口３９と、凹部２８とを備えている。また、第二押圧子３１の内部には、第一押圧子１１と同様、接続口３９と第二吐出口３８とを結ぶ液路２０が設けられている。なお、各部の作用や機能は第一押圧子１１と同様であるため、説明を省略する。
【００４８】
吐出手段４０（図２参照）は、第一洗浄布１２に対して液体の洗浄剤を供給する装置である。本実施の形態の場合、吐出手段４０は、第一押圧子１１に設けられている第一吐出口１８からエタノールやイソプロピルアルコールなどの揮発性の洗浄剤としての液体を第一洗浄布１２に向けて吐出するように、液体を供給する装置である。また、吐出手段４０は、第二押圧子３１に設けられている第二吐出口３８から液体を第二洗浄布に向けて吐出する機能も併せ持っている。
【００４９】
図２および図６に示すように吐出手段４０は、第一押圧子１１や第二押圧子３１に液体を供給する供給管４２と、供給管４２の先端に設けられ、第一押圧子１１や第二押圧子３１と供給管４２とを着脱可能とする着脱部４３とを備えている。吐出手段４０は、微量の液体を吐出させることのできる一般的な装置であればよく、例えば、液体を貯留するタンクと、前記タンクに貯留されている液体をわずかな量だけ送ることのできる液体ポンプなどを備えた装置である。また、吐出手段４０は、受信した信号に基づいて液体を吐出するか否かを制御することができるものである。
【００５０】
供給管４２は、吐出手段４０と第一押圧子１１や第二押圧子の間を結ぶパイプである。本実施の形態の場合、供給管４２は、可撓性のある樹脂製の細いパイプである。これにより、第一押圧子１１や第二押圧子３１への着脱が容易に行うことができるものとなっている。
【００５１】
着脱部４３は、第一押圧子１１や第二押圧子３１と供給管４２とを着脱可能に接続する部分である。本実施の形態の場合、着脱部４３は、第一押圧子１１や第二押圧子３１に備えられる接続口３９に挿入可能な形状となっている。また、着脱部４３と接続口３９との嵌合部分には、Ｏリングなどの封止部材（図示せず）が配置されており、着脱部４３が接続口３９に接続された状態において、供給管４２から第一押圧子１１や第二押圧子３１の液路２０に流入する液体が接続部分から漏れ出すことを防止している。
【００５２】
また、着脱部４３にはセンサ１９が取り付けられている。センサ１９は、第一洗浄布１２や第二洗浄布３２に液体が含まれると変化する色調の変化（光の反射状態も含む）を検出するセンサであり、第一洗浄布１２や第二洗浄布３２が濡れている状態であるか乾いた状態であるかの少なくともいずれか一方を検出し、その旨を示す信号を送信することのできるものである。本実施の形態の場合、センサ１９は、第一押圧子１１や第二押圧子３１の規制突起に設けられた貫通孔２３を介して第一吐出口１８や第二吐出口３８近傍に配置される第一洗浄布１２や第二洗浄布３２の表面に光を当て、反射する光の強度を検出することにより第一洗浄布１２や第二洗浄布３２が濡れているか否かを検出するものとなっている。
【００５３】
センサ１９から送信される信号は、制御手段４４（図６参照）により受信される。制御手段４４は、センサ１９から受信した信号に基づき第一洗浄布１２が濡れていないと判断した場合、洗浄工程を中止するように、または、開始しないように基板洗浄装置３０を制御する装置である。
【００５４】
次に、以上の構成を備えた基板洗浄装置３０の洗浄工程を説明する。被洗浄面は、基板１の側縁部の表裏両面に存在している。
【００５５】
まず、基板１を基板搬送手段にて基板洗浄装置３０に搬入され、搬入された基板１は、移動テーブル９の基板保持部８に載置される（搬入工程）。
【００５６】
そして、第二移動手段７にてｙ軸方向の位置が決定され、基板保持部８によってｚ軸方向の位置と、θ方向の角度が決定される。また、移動手段３により、基板１の側縁部であって被洗浄面の一端が、第一押圧子１１の間に位置するように位置決めされる（位置決め工程）。
【００５７】
次に、第一供給手段１３により第一洗浄布１２を所定量送給し、第一押圧子１１の第一押付部２５と基板１の被洗浄面との間に洗浄に供されていない新しい部分を送給する。また、第二供給手段３３により第二洗浄布３２を所定量送給し、第二押圧子３１の第二押付部５５と基板１の被洗浄面との間に新しい部分を送給する。
【００５８】
次に、吐出手段４０により、第一洗浄布１２に対して第一吐出口１８から液体を吐出し、新しい第一洗浄布１２の部分に所要量の液体を含ませる。なお、第一洗浄布１２に含んだ液体の滲み（色の変化）をセンサ１９にて検出することで、第一洗浄布１２に洗浄剤を十分に含んでいることが確認される。また、吐出手段４０は、第二洗浄布３２に対しても同様に液体を吐出する。
【００５９】
ここで、制御手段４４が第一洗浄布１２および第二洗浄布３２の少なくともいずれか一方が濡れていないと判断すると、制御手段４４は、次行程に移行することを中止するように基板洗浄装置３０を制御すると共に警告を発する。
【００６０】
次に、押圧手段（図示せず）にて第一押圧子１１と第二押圧子３１とを基板１の方向にそれぞれ押し付ける。この状態において、図８に示すように、第一洗浄布１２は幅方向（ｘ軸方向）で第一押付部２５を跨いだ状態となっている。また、第一洗浄布１２を介して第一押圧子１１が基板１の側縁部を挟持した状態となり、第一押圧子１１の第一押付部２５にて第一洗浄布１２が基板１の被洗浄面に押し付けられた状態となる。第二洗浄布３２も同様である（押付工程）。
【００６１】
次に、第一押圧子１１と第二押圧子３１とにより第一洗浄布１２と第二洗浄布３２とが基板１の被洗浄面の表裏に押し付けられている状態で、移動手段３を作動させ第一押圧子１１および第二押圧子３１と基板１とを相対的に移動させる。本実施の形態の場合移動手段３は、固定状態の第一押圧子１１および第二押圧子３１に対し基板１を移動させる。移動は、位置決め工程で位置決めされた一端部からから他端部に向けて開始される。これにより、基板１の被洗浄面を洗浄する（洗浄工程）。
【００６２】
次に、前記洗浄工程開始から所定時間、または、基板１と第一押圧子１１との相対移動距離が所定距離となった時点で、前記洗浄工程と並行して、吐出手段４０により、第一洗浄布１２に対して第一吐出口１８から液体を吐出する。同様に、吐出手段４０により第二洗浄布３２に対して第二吐出口３８から液体を吐出する（継ぎ足し工程）。なお、所定時間や所定距離は、予め定められている。これらの時間または距離は、洗浄工程において第一洗浄布１２や第二洗浄布３２が乾いて洗浄品質に影響が出る時間や距離よりも短い時間や距離に設定されている。
【００６３】
第一押圧子１１と第二押圧子３１とが被洗浄面の他端に到達すると、押圧手段は、第一押圧子１１による押圧を解除し、移動テーブル９にて基板１を第一押圧子１１から離間させる（離間工程）。
【００６４】
次に、後続工程であるＡＣＦ貼付装置に向けて基板１を搬出する（搬出工程）。
一方、搬出工程と共に、前記搬入工程が実施され、以降の工程が繰り返される。
【００６５】
以上の実施形態によれば、第一洗浄布１２や第二洗浄布３２は、洗浄工程の途中で液体が供給されるため、洗浄品質に影響が出るほど乾くことがない。従って、基板１の被洗浄面の相対移動方向の長さが長い場合（例えば６５０ｍｍ以上）でも、第一押圧子１１や第二押圧子３１の押付状態を解除することなく１度の相対移動（すなわち往動）により被洗浄面の汚れを除去することが可能となる。
【００６６】
これは、第一押付部２５や第二押付部５５の相対移動方向の直前に液体を吐出するため、液体が第一押圧子１１や第二押圧子３１と基板１との間に巻き込まれ、第一洗浄布１２や第二洗浄布３２が圧縮された状態でも充分に液体がしみ込むためだと考えられる。さらに、この液体の巻き込み効果は、傾斜部２６の存在により増強されると考えられる。
【００６７】
なお、本願発明は、上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、本明細書において記載した構成要素を任意に組み合わせて実現される別の実施の形態を本願発明の一例としてもよい。また、上記実施の形態に対して本願発明の主旨、すなわち、特許請求の範囲に記載される文言が示す意味を逸脱しない範囲で当業者が思いつく各種変形を施して得られる変形例も本願発明に含まれる。例えば図９（ａ）に示すように、第一洗浄布１２とは接触しない位置に第一吐出口１８を設けてもかまわない。また、図９（ｂ）に示すように、第一押圧子１１の近傍に第一吐出口１８を備えたパイプを配置するものでもかまわない。
【００６８】
また、「平行」や「平面」などの文言は、本願発明の趣旨を逸脱しない程度の誤差を許容する意味で使用している。
【産業上の利用可能性】
【００６９】
本願発明にかかる基板洗浄装置は、駆動回路などが形成されたディスプレイ用のガラス基板の端縁を洗浄する工程に適用可能であり、特に、３２インチ以上の大型のディスプレイ用ガラスの洗浄、あるいは、ディスプレイ用基板を高速洗浄する場合に適している。
【符号の説明】
【００７０】
１ 基板
３ 移動手段
７ 第二移動手段
８ 基板保持部
９ 移動テーブル
１１ 第一押圧子
１２ 第一洗浄布
１３ 第一供給手段
１４ 第一ガイドローラ
１５ 押付面
１６ 傾斜面
１７ 第一回収リール
１８ 第一吐出口
１９ センサ
２０ 液路
２２ 規制突起
２３ 貫通孔
２５ 第一押付部
２６ 傾斜部
２７ 第一供給リール
２８ 凹部
３０ 基板洗浄装置
３１ 第二押圧子
３２ 第二洗浄布
３３ 第二供給手段
３４ 第二ガイドローラ
３７ 第二回収リール
３８ 第二吐出口
３９ 接続口
４０ 吐出手段
４１ 保持手段
４２ 供給管
４３ 着脱部
４４ 制御手段
５５ 第二押付部
５７ 第二供給リール
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の被洗浄面に配置される長尺帯状の第一洗浄布の一部を基板の一面に対して押し付ける第一押圧子と、
前記第一洗浄布の新しい部分を前記第一押圧子に供給する第一供給手段と、
前記第一洗浄布の供給方向と交差する方向に前記第一押圧子を基板に対して相対的に移動させることにより前記第一洗浄布を基板に対して相対的に移動させて洗浄工程を実施する移動手段と
を備える基板洗浄装置であって、
前記第一押圧子は、
前記第一洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第一押付部と、
前記第一押圧子の基板に対する相対移動方向において前記第一押付部の前方に液体を吐出する第一吐出口とを備え、
当該基板洗浄装置はさらに、
前記洗浄工程の際に前記第一吐出口から液体を吐出させる吐出手段を備える
基板洗浄装置。
【請求項２】
さらに、
長尺帯状の第二洗浄布の一部を基板の他面に対して押し付け、前記第一押圧子とともに基板を挟む第二押圧子と、
前記第二洗浄布の新しい部分を前記第二押圧子に供給する第二供給手段とを備え、
前記移動手段は、前記第一押圧子と前記第二押圧子とにより基板を挟んだ状態で、前記第一押圧子と前記第二押圧子とを基板に対して相対的に移動させるものであり、
前記第二押圧子は、
前記第二洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第二押付部と、
前記第二押圧子の基板に対する相対移動方向において前記第二押付部の前方に液体を吐出する第二吐出口とを備え、
前記吐出手段は、
前記洗浄工程の際に前記第二吐出口からも液体を吐出させるものである
請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記第一押圧子は、
前記第一押付部の相対移動方向の側部に基板から遠ざかる方向に窪む凹部を備え、
前記第一吐出口は、前記凹部に配置される
請求項１または請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記第一吐出口は、前記第一洗浄布の基板と接触しない面である裏面と接触する位置に配置される
請求項３に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
さらに、
前記第一洗浄布が前記第一吐出口から吐出される液体によって濡れている、または、濡れていない状態を検出するセンサと、
前記センサから受信した信号に基づき第一洗浄布が濡れていないと判断した場合、前記洗浄工程を中止するように、または、開始しないように制御する制御手段と
を備える請求項１または請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
さらに、
前記第一供給手段と前記第一押圧子とを保持し、当該基板洗浄装置に対して着脱可能な保持手段を備え、
前記吐出手段は、
前記第一押圧子に液体を供給する供給管と、
前記供給管の先端に設けられ、前記第一押圧子と前記供給管とを着脱可能とする着脱部と
を備える
請求項１または請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
基板の被洗浄面に配置される長尺帯状の第一洗浄布の一部を基板の一面に対して押し付ける第一押圧子と、前記第一洗浄布の新しい部分を前記第一押圧子に供給する第一供給手段と、前記第一洗浄布の供給方向と交差する方向に前記第一押圧子を基板に対して相対的に移動させることにより前記第一洗浄布を基板に対して相対的に移動させる洗浄工程を実施する基板洗浄方法であって、
前記洗浄工程において、
前記第一洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第一押付部の前方に設けられる第一吐出口から、吐出手段により液体を吐出する吐出工程を含む
基板洗浄方法。
【請求項１】
基板の被洗浄面に配置される長尺帯状の第一洗浄布の一部を基板の一面に対して押し付ける第一押圧子と、
前記第一洗浄布の新しい部分を前記第一押圧子に供給する第一供給手段と、
前記第一洗浄布の供給方向と交差する方向に前記第一押圧子を基板に対して相対的に移動させることにより前記第一洗浄布を基板に対して相対的に移動させて洗浄工程を実施する移動手段と
を備える基板洗浄装置であって、
前記第一押圧子は、
前記第一洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第一押付部と、
前記第一押圧子の基板に対する相対移動方向において前記第一押付部の前方に液体を吐出する第一吐出口とを備え、
当該基板洗浄装置はさらに、
前記洗浄工程の際に前記第一吐出口から液体を吐出させる吐出手段を備える
基板洗浄装置。
【請求項２】
さらに、
長尺帯状の第二洗浄布の一部を基板の他面に対して押し付け、前記第一押圧子とともに基板を挟む第二押圧子と、
前記第二洗浄布の新しい部分を前記第二押圧子に供給する第二供給手段とを備え、
前記移動手段は、前記第一押圧子と前記第二押圧子とにより基板を挟んだ状態で、前記第一押圧子と前記第二押圧子とを基板に対して相対的に移動させるものであり、
前記第二押圧子は、
前記第二洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第二押付部と、
前記第二押圧子の基板に対する相対移動方向において前記第二押付部の前方に液体を吐出する第二吐出口とを備え、
前記吐出手段は、
前記洗浄工程の際に前記第二吐出口からも液体を吐出させるものである
請求項１に記載の基板洗浄装置。
【請求項３】
前記第一押圧子は、
前記第一押付部の相対移動方向の側部に基板から遠ざかる方向に窪む凹部を備え、
前記第一吐出口は、前記凹部に配置される
請求項１または請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項４】
前記第一吐出口は、前記第一洗浄布の基板と接触しない面である裏面と接触する位置に配置される
請求項３に記載の基板洗浄装置。
【請求項５】
さらに、
前記第一洗浄布が前記第一吐出口から吐出される液体によって濡れている、または、濡れていない状態を検出するセンサと、
前記センサから受信した信号に基づき第一洗浄布が濡れていないと判断した場合、前記洗浄工程を中止するように、または、開始しないように制御する制御手段と
を備える請求項１または請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項６】
さらに、
前記第一供給手段と前記第一押圧子とを保持し、当該基板洗浄装置に対して着脱可能な保持手段を備え、
前記吐出手段は、
前記第一押圧子に液体を供給する供給管と、
前記供給管の先端に設けられ、前記第一押圧子と前記供給管とを着脱可能とする着脱部と
を備える
請求項１または請求項２に記載の基板洗浄装置。
【請求項７】
基板の被洗浄面に配置される長尺帯状の第一洗浄布の一部を基板の一面に対して押し付ける第一押圧子と、前記第一洗浄布の新しい部分を前記第一押圧子に供給する第一供給手段と、前記第一洗浄布の供給方向と交差する方向に前記第一押圧子を基板に対して相対的に移動させることにより前記第一洗浄布を基板に対して相対的に移動させる洗浄工程を実施する基板洗浄方法であって、
前記洗浄工程において、
前記第一洗浄布を基板に押し付ける面である押付面を表面に有する第一押付部の前方に設けられる第一吐出口から、吐出手段により液体を吐出する吐出工程を含む
基板洗浄方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２０１１−１６７６２１（Ｐ２０１１−１６７６２１Ａ）
【公開日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−３３００３（Ｐ２０１０−３３００３）
【出願日】平成２２年２月１７日（２０１０．２．１７）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月１日（２０１１．９．１）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年２月１７日（２０１０．２．１７）
【出願人】（０００００５８２１）パナソニック株式会社 (73,050)
【Ｆターム（参考）】
[ Back to top ]