説明

変換ユニット、変換モジュール、光通信インタフェース用装置および光通信装置

【課題】BWを使用せず、良好な高周波特性を実現するとともに、受光部における光信号の強度の低下を防止することができる変換ユニットを得る。
【解決手段】光信号を受光する受光部51を有し、光信号を電気信号に変換して出力するPD5と、電気信号を増幅するTIA6と、TIA6と電気的に接続されるハンダ付けパッド24とが、基板2に実装された変換ユニットであって、受光部51と基板2の実装面とが互いに対向し、受光部51と対応する位置に光信号が通過するビア28が設けられ、PD5とTIA6との間、およびTIA6とハンダ付けパッド24との間の電気信号経路が、基板2の実装面のパターンのみで形成されているものである。

【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【0001】
この発明は、光信号を電気信号に、または電気信号を光信号に変換する変換ユニット、並びにこの変換ユニットを用いた変換モジュール、光通信インタフェース用装置および光通信装置に関する。
【背景技術】
【0002】
図4は、光通信装置の光/電気変換モジュールにおける一般的な受信用の光/電気変換ユニットの構造を示す断面図である。図4において、この光/電気変換ユニットは、金属製の筐体1と、素子が実装されて筐体1内に配置された基板2と、筐体1の外部から基板2上の素子に光信号(図中の破線矢印参照)を伝送する光ファイバ3(Optical Fiber、以下「OF3」と略称する)と、基板2とOF3との間に設けられ、OF3の先端に設けられた反射面31で反射した光信号を集光するマイクロレンズ4(Micro Lens、以下「ML4」と略称する)とを備えている。
【0003】
基板2には、OF3からの光信号を受光して、受光強度に応じた電気信号を出力するフォトダイオード5(Photo−Diode、以下「PD5」と略称する)と、PD5からの電気信号を増幅するトランスインピーダンスアンプ6(Transimpedance Amplifier、以下「TIA6」と略称する)とが実装されている。
PD5とTIA6との間、およびTIA6と基板2の信号配線21との間は、それぞれボンディングワイヤ71、72(Bonding Wire、以下「BW71、72」と略称する)により互いに電気的に接続されている。
【0004】
PD5は、OF3からの光信号を受光する受光部51と、BW71を接続するためのBW用パッド52とを有している。ここで、基板2の実装面とPD5の受光面(受光部51)とは、互いに同じ方向を向いている。
TIA6は、BW71、72をそれぞれ接続するためのBW用パッド61、62を有している。
【0005】
また、基板2は、電気信号を伝送する上記信号配線21と、信号配線21の端部に形成された、BW72を接続するためのBW用パッド22と、信号配線21に対するGNDプレーン23とを有している。このとき、基板を多層構造とし、信号配線21とともに、基板2に設けられたビア(Via)を用いて、PD5やTIA6の電気信号経路を構成してもよい(例えば、特許文献1〜5参照)。また、PD5およびTIA6は、透明な封止材によって封止されてもよい(たとえば、特許文献1、5参照)。
【0006】
なお、一般的には、信号用のBW71、72にそれぞれ隣接して、GND用のBWが配置されるが、図4では省略している。また、PD5やTIA6には、信号用のBW用パッド52、61、62の他に、電源用のパッドやGND用のパッドも形成されるが、図4では省略している。
【0007】
続いて、図4に示した光/電気変換ユニットの動作について説明する。
まず、OF3を伝送された光信号は、反射面31で反射され、ML4で集光されて、PD5の受光部51に受光される。PD5では、受光された光信号の受光強度に応じて電圧が変化する電気信号が発生される。発生された電気信号は、BW用パッド52、BW71およびBW用パッド61を介してTIA6に出力される。TIA6では、PD5からの電気信号が増幅され、増幅された電気信号は、BW用パッド62、BW72およびBW用パッド22を介して基板2の信号配線21に出力される。
【0008】
このとき、2箇所のBW71、72は、大きなインダクタンスを有しているので、電気信号の周波数が高くなるほど、通過損失が大きくなる。その結果、電気信号の波形は、鈍った形状となる。そこで、BW用パッド22、52、61、62の寄生容量とBW71、72のインダクタンスとを組み合わせて、並列容量と直列インダクタンスとからなる低周波通過フィルタ(Low Pass Filter、以下「LPF」と称する)を構成することが考えられる。
【0009】
このように、BW用パッド22、52、61、62とBW71、72とでLPFを構成することにより、ある周波数までは、電気信号を低損失で通過させることができる。また、通過帯域内の高周波側の通過特性を高め、通過特性にピークを持たせたLPFを構成することもできる。
【0010】
しかしながら、この場合、通過帯域よりも高い周波数では、単にインダクタンスがあるときよりも、電気信号の通過損失が大きくなる。そのため、この光/電気変換ユニットの基本周波数が、この通過帯域を超えている場合には、電気信号が全く伝送されなくなる。 また、上記特許文献1〜5に記載されているように、基板を多層構造とし、信号配線21とともに、基板2に設けられたビアを用いて、PD5やTIA6の電気信号経路を構成した場合には、電気信号経路において、高周波特性が制限されることがある。
【0011】
そこで、上記の問題を解決するために、図5に示されるような、BW71、72(図4参照)を使用せず、受光面と電気信号経路とが同一面に形成された光/電気変換ユニットが提案されている。図5において、この光/電気変換ユニットは、図4に示した光/電気変換ユニットと同様に、筐体1と、PD5およびTIA6が実装された基板2と、光信号(図中の破線矢印参照)を伝送するOF3と、光信号を集光するML4とを備えている。以下、図4に示した光/電気変換ユニットと異なる構成について説明する。
【0012】
PD5は、OF3からの光信号を受光する受光部51と、信号用のハンダ付けパッド53とを有している。ここで、基板2の実装面とPD5の受光面(受光部51)とは、互いに対向している(例えば、特許文献2、6参照)。
TIA6は、信号用のハンダ付けパッド63、64を有している。
【0013】
また、基板2は、電気信号を伝送する信号配線21と、信号配線21に対するGNDプレーン23と、信号配線21の端部に形成された、ハンダ付けパッド64と電気的に接続するためのハンダ付けパッド24と、PD5とTIA6との間の信号配線25と、信号配線25の両端に形成された、ハンダ付けパッド53、63とそれぞれ電気的に接続するためのハンダ付けパッド26、27とを有している。
【0014】
続いて、図5に示した光/電気変換ユニットの動作について説明する。
まず、OF3を伝送された光信号は、反射面31で反射され、ML4で集光されて、裏面側からPD5に入射し、PD5の内部を通過して受光部51に受光される。PD5では、受光された光信号の受光強度に応じて電圧が変化する電気信号が発生される。
【0015】
発生された電気信号は、ハンダ付けパッド53、26、信号配線25およびハンダ付けパッド27、63を介してTIA6に出力される。TIA6では、PD5からの電気信号が増幅され、増幅された電気信号は、ハンダ付けパッド64、24を介して基板2の信号配線21に出力される。
【0016】
図5に示した光/電気変換ユニットでは、図4に示した光/電気変換ユニットと比較して、BW71、72を使用しないので、通過帯域の上限を高くすることができる。また、図4に示した光/電気変換ユニットでは、BW用パッド22、52、61、62とBW71、72とでLPFを構成していたが、図5に示した光/電気変換ユニットにおいても、信号配線21、25の幅の全部または一部を調整することにより、同様のLPFを構成することができる。
【0017】
しかしながら、図5に示した光/電気変換ユニットでは、OF3を伝送された光信号が、PD5の内部を通過して受光部51に受光されるので、PD5の内部を通過中に光信号が減衰や散乱を起こし、受光部51における光信号の強度が低下する。
また、上記特許文献1、5に記載されているように、PD5が透明な封止材によって封止されている場合には、受光部51における光信号の強度がさらに低下する。
【0018】
そこで、上記の問題を解決するために、基板の実装面とPDの受光面(受光部)とを互いに対向して配置するとともに、受光部と対応する基板上の位置に通光路を設け、通光路を挟んで受光部の反対側にOFを配置した光/電気変換ユニットが提案されている(例えば、特許文献7参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【0019】
【特許文献1】特開2004−193433号公報
【特許文献2】特開2001−345456号公報
【特許文献3】特開平5−129637号公報
【特許文献4】特開2002−231974号公報
【特許文献5】特開2004−4426号公報
【特許文献6】特開平5−93827号公報
【特許文献7】特開2003−185891号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【0020】
しかしながら、従来技術には、以下のような課題がある。
特許文献7に示された光/電気変換ユニットでは、受光面と電気信号経路とが同一面に形成されておらず、PDとTIAとの間、およびTIAと基板の信号配線との間は、それぞれBWにより互いに電気的に接続されている。
そのため、図4に示した光/電気変換ユニットと同様に、電気信号の周波数が高くなるほど、通過損失が大きくなり、光/電気変換ユニットの基本周波数が、通過帯域を超えている場合には、電気信号が全く伝送されなくなるという問題がある。
【0021】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたものであり、BWを使用せず、良好な高周波特性を実現するとともに、受光部における光信号の強度の低下を防止することができる光/電気変換ユニット、並びにこの光/電気変換ユニットを用いた光/電気変換モジュール、光通信インタフェース用装置および光通信装置を得ることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【0022】
この発明に係る光/電気変換機能を有する変換ユニットは、光信号を受光する受光部を有し、光信号を電気信号に変換して出力する受光ICと、電気信号を増幅する増幅用ICと、増幅用ICと電気的に接続される端子とが、基板に実装された変換ユニットであって、受光部と基板の実装面とが互いに対向し、受光部と対応する位置に光信号が通過する開口部が設けられ、受光ICと増幅用ICとの間、および増幅用ICと端子との間の電気信号経路が、基板の実装面のパターンのみで形成されているものである。
【0023】
また、この発明に係る電気/光変換機能を有する変換ユニットは、光信号を発生する発光部を有し、電気信号を光信号に変換して出力する発光ICと、発光ICと電気的に接続される端子とが、基板に実装された変換ユニットであって、発光部と基板の実装面とが互いに対向し、発光部と対応する位置に光信号が通過する開口部が設けられ、発光ICと端子との間の電気信号経路が、基板の実装面のパターンのみで形成されているものである。
【0024】
また、この発明に係る光/電気変換機能および電気/光変換機能を有する変換ユニットは、第1光信号を受光する受光部を有し、第1光信号を第1電気信号に変換して出力する受光ICと、第1電気信号を増幅する増幅用ICと、増幅用ICと電気的に接続される第1端子と、第2光信号を発生する発光部を有し、第2電気信号を第2光信号に変換して出力する発光ICと、発光ICと電気的に接続される第2端子とが、基板に実装された変換ユニットであって、受光部と基板の実装面とが互いに対向し、受光部と対応する位置に第1光信号が通過する開口部が設けられ、受光ICと増幅用ICとの間、および増幅用ICと第1端子との間の電気信号経路が、基板の実装面のパターンのみで形成され、発光部と基板の実装面とが互いに対向し、発光部と対応する位置に第2光信号が通過する開口部が設けられ、発光ICと第2端子との間の電気信号経路が、基板の実装面のパターンのみで形成されているものである。
【発明の効果】
【0025】
この発明に係る変換ユニットによれば、受光部と基板の実装面とが互いに対向し、受光部と対応する位置に光信号が通過する開口部が設けられ、受光ICと増幅用ICとの間、および増幅用ICと端子との間の電気信号経路が、基板の実装面のパターンのみで形成され、また、発光部と基板の実装面とが互いに対向し、発光部と対応する位置に光信号が通過する開口部が設けられ、発光ICと端子との間の電気信号経路が、基板の実装面のパターンのみで形成されている。
そのため、BWを使用せず、良好な高周波特性を実現するとともに、受光部および発光部における光信号の強度の低下を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【0026】
【図1】この発明の実施の形態1に係る光/電気変換ユニットの構造を示す断面図である。
【図2】この発明の実施の形態2に係る光/電気変換ユニットの構造を示す断面図である。
【図3】この発明の実施の形態3に係る光/電気変換ユニットの構造を示す断面図である。
【図4】光通信装置の光/電気変換モジュールにおける一般的な受信用の光/電気変換ユニットの構造を示す断面図である。
【図5】光通信装置の光/電気変換モジュールにおける一般的な受信用の光/電気変換ユニットの構造を示す別の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【0027】
以下、この発明の変換ユニットの好適な実施の形態につき図面を用いて説明するが、各図において同一、または相当する部分については、同一符号を付して説明する。
なお、この発明の変換ユニットは、変換モジュール、光通信インタフェース用装置および光通信装置を構成する部品として用いられる。
【0028】
実施の形態1.
図1は、この発明の実施の形態1に係る光/電気変換ユニットの構造を示す断面図である。なお、図1では、図5に示した光/電気変換ユニットのうち、筐体1を除いた、基板2、OF3、ML4、PD5およびTIA6のみについて示している。
【0029】
図1において、この光/電気変換ユニットは、PD5およびTIA6が実装されるとともに、ビア(Via)28が形成された基板2と、PD5に光信号(図中の破線矢印参照)を伝送するOF3と、基板2とOF3との間に設けられ、OF3を伝送された光信号を集光するML4とを備えている。
【0030】
ここで、PD5およびTIA6は、図5に示した光/電気変換ユニットと同様に、ハンダ付けパッド53、63、64が設けられた面を基板2に向けて実装されている。すなわち、PD5とTIA6との間、およびTIA6とハンダ付けパッド24との間の電気信号経路が、基板2の実装面のパターンのみで形成されている。また、基板2の実装面とPD5の受光面(受光部51)とは、互いに対向している。
【0031】
基板2に形成されたビア28は、PD5が実装された状態で、基板2の実装面の反対側から、PD5の受光部51が見通せる位置、すなわち受光部51と対応する位置に、あらかじめ設けられている。ビア28は、基板2の両面にわたる開口孔であり、一般的に円錐台の形状を有している。なお、図1は断面図なので、ビア28は台形の形状で示されている。
【0032】
また、OF3およびML4は、基板2の実装面とは反対側の面であって、OF3を伝送された光信号がML4で集光された後、ビア28を通過する位置に、ビア28を挟んで受光部51と対向するように配置されている。なお、その他の構成は、図5に示した光/電気変換ユニットと同様なので、説明を省略する。
【0033】
以上の構成により、PD5とTIA6との間、およびTIA6とハンダ付けパッド24との間の電気信号経路にBWを用いることなく、かつ光信号がPD5の内部を通過することのない実装構造を実現することができる。また、電気信号経路を基板2の片面(実装面のパターン)のみで形成することにより、BWやビアによる電気信号の劣化を防止することができる。
【0034】
以上のように、実施の形態1によれば、受光部と基板の実装面とが互いに対向し、受光部と対応する基板の位置に光信号が通過するビアが形成され、受光ICと増幅用ICとの間、および増幅用ICと端子との間の電気信号経路が、基板の実装面のパターンのみで形成されている。
そのため、BWを使用せず、良好な高周波特性を実現するとともに、受光部における光信号の強度の低下および電気信号の減衰を防止することができる。
【0035】
なお、図1に示した構造をとることにより、OF3およびML4の光軸が、ビア28の中心からずれた場合であっても、受光部51からはずれた光信号の一部は、ビア28の壁面で反射し、受光部51に到達する。そのため、光軸の位置ずれに対する性能劣化を低減することができる。
【0036】
実施の形態2.
上記実施の形態1では、基板2に、単に円錐台の形状を有するビア28を形成した例を示したが、この実施の形態2では、ビア28の内壁に導体メッキ29を施した場合の例について説明する。
【0037】
図2は、この発明の実施の形態2に係る光/電気変換ユニットの構造を示す断面図である。図2において、受光部51と対向して基板2に形成されたビア28の内壁には、導体メッキ29が施されている。なお、その他の構成は、図1に示した光/電気変換ユニットと同様なので、説明を省略する。
【0038】
以上の構成により、基板2の材料が光信号を反射しにくい材質であっても、OF3およびML4の光軸が、ビア28の中心からずれた場合において、ビア28の壁面での光信号の反射を容易にすることができる。そのため、受光部51における光信号の強度の低下および電気信号の減衰を防止することができる。
【0039】
実施の形態3.
上記実施の形態1、2では、基板2に形成されたビア28の外部にML4を配置した例を示したが、この実施の形態3では、ビア28の内部にML4を組み込んだ場合の例について説明する。
【0040】
図3は、この発明の実施の形態3に係る光/電気変換ユニットの構造を示す断面図である。図3において、受光部51と対向して基板2に形成されたビア28の内部には、ML4が組み込まれている。また、OF3の反射面31は、ML4の位置に対応して設けられている。なお、その他の構成は、図1に示した光/電気変換ユニットと同様なので、説明を省略する。
【0041】
以上の構成により、PD5の受光部51と光学系部品(OF3およびML4)との光軸を容易に一致させることができる。また、受光部51における光信号の強度の低下および電気信号の減衰を防止することができる。
【0042】
なお、上記実施の形態3では、ビア28の内壁に導体メッキ29が施されていない例を示したが、導体メッキ29が施されている場合であっても、同様の効果を得ることができる。
【0043】
また、上記実施の形態1〜3では、PD5およびTIA6が基板2に実装された受信用の光/電気変換ユニットを例に挙げて説明したが、これに限定されず、電気信号を光信号に変換して出力するレーザダイオード(Laser−Diode)が基板に実装された送信用の電気/光変換ユニットや、PD5およびTIA6とレーザダイオードとが基板に実装された送受信用の光/電気変換機能および電気/光変換機能を有する変換ユニットであってもよい。
【符号の説明】
【0044】
1 筐体、2 基板、3 光ファイバ、4 マイクロレンズ、5 フォトダイオード、6 トランスインピーダンスアンプ、21 信号配線、22 BW用パッド、23 GNDプレーン、24 ハンダ付けパッド、25 信号配線、26 ハンダ付けパッド、27 ハンダ付けパッド、28 ビア、29 導体メッキ、31 反射面、51 受光部、52 BW用パッド、53 ハンダ付けパッド、61 BW用パッド、62 BW用パッド、63 ハンダ付けパッド、64 ハンダ付けパッド、71 ボンディングワイヤ。

【特許請求の範囲】
【請求項1】
光信号を受光する受光部を有し、前記光信号を電気信号に変換して出力する受光ICと、前記電気信号を増幅する増幅用ICと、前記増幅用ICと電気的に接続される端子とが、基板に実装された光/電気変換機能を有する変換ユニットであって、
前記受光部と前記基板の実装面とが互いに対向し、
前記受光部と対応する位置に前記光信号が通過する開口部が設けられ、
前記受光ICと前記増幅用ICとの間、および前記増幅用ICと前記端子との間の電気信号経路が、前記基板の実装面のパターンのみで形成されている
ことを特徴とする変換ユニット。
【請求項2】
光信号を発生する発光部を有し、電気信号を前記光信号に変換して出力する発光ICと、前記発光ICと電気的に接続される端子とが、基板に実装された電気/光変換機能を有する変換ユニットであって、
前記発光部と前記基板の実装面とが互いに対向し、
前記発光部と対応する位置に前記光信号が通過する開口部が設けられ、
前記発光ICと前記端子との間の電気信号経路が、前記基板の実装面のパターンのみで形成されている
ことを特徴とする変換ユニット。
【請求項3】
第1光信号を受光する受光部を有し、前記第1光信号を第1電気信号に変換して出力する受光ICと、前記第1電気信号を増幅する増幅用ICと、前記増幅用ICと電気的に接続される第1端子と、第2光信号を発生する発光部を有し、第2電気信号を前記第2光信号に変換して出力する発光ICと、前記発光ICと電気的に接続される第2端子とが、基板に実装された光/電気変換機能および電気/光変換機能を有する変換ユニットであって、
前記受光部と前記基板の実装面とが互いに対向し、
前記受光部と対応する位置に前記第1光信号が通過する開口部が設けられ、
前記受光ICと前記増幅用ICとの間、および前記増幅用ICと前記第1端子との間の電気信号経路が、前記基板の実装面のパターンのみで形成され、
前記発光部と前記基板の実装面とが互いに対向し、
前記発光部と対応する位置に前記第2光信号が通過する開口部が設けられ、
前記発光ICと前記第2端子との間の電気信号経路が、前記基板の実装面のパターンのみで形成されている
ことを特徴とする変換ユニット。
【請求項4】
前記開口部は、前記基板に形成されたビアであることを特徴とする請求項1から請求項3までの何れか1項に記載の変換ユニット。
【請求項5】
前記ビアの内壁がメッキされていることを特徴とする請求項4に記載の変換ユニット。
【請求項6】
前記開口部に、光信号を集光するマイクロレンズが組み込まれていることを特徴とする請求項1から請求項5までの何れか1項に記載の変換ユニット。
【請求項7】
請求項1から請求項6までの何れか1項に記載の変換ユニットを組み込んだ変換モジュール。
【請求項8】
請求項7に記載の変換モジュールを実装した光通信インタフェース用装置。
【請求項9】
請求項8に記載の光通信インタフェース用装置を用いた光通信装置。

【図1】
image rotate

【図2】
image rotate

【図3】
image rotate

【図4】
image rotate

【図5】
image rotate


【公開番号】特開2012−23077(P2012−23077A)
【公開日】平成24年2月2日(2012.2.2)
【国際特許分類】
【出願番号】特願2010−157643(P2010−157643)
【出願日】平成22年7月12日(2010.7.12)
【出願人】(000006013)三菱電機株式会社 (33,312)
【Fターム(参考)】