太陽熱発電用光反射フィルム及び太陽熱発電用反射装置
【課題】フィルムミラーとしての取扱性を維持しながら、太陽熱発電用光反射フィルムとして過酷な環境下で長期間用いられた場合にも、高い正反射率を長期間維持することが可能であり、軽量で柔軟性があり、製造コストを抑え大面積化・大量生産することのできる、耐光性及び耐候性に優れ、太陽熱に対して良好な正反射率を有する太陽熱発電用光反射フィルム及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【解決手段】太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用光反射フィルム。
【解決手段】太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用光反射フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽熱発電用光反射フィルム及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては、現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
【０００３】
しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、及び（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが問題となると考えられる。
【０００４】
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
【０００５】
反射装置は、太陽熱による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損したり、重いためミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
【０００６】
上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換えることが考えられてきた（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、太陽熱発電用光反射フィルム（以下、太陽熱発電用フィルムミラー、フィルムミラー、またはミラーともいう。）は、製造時に樹脂フィルムをロール搬送しながら、反射層、保護層等を蒸着工程及び塗布工程あるいはフィルム貼り合わせにより積層化して製造する。またこの時、ロール品をロール状態で保管したりする。これらの製造工程時あるいはロール品での保管状態において、一般に知られているブロッキング現象が起こる。ブロッキング現象の程度にもよるが、通常の液晶用導光フィルム、建材に使われるフィルム製品等では、ブロッキングによるフィルムのうねりは、品質に大きな影響を及ぼさないが、フィルムミラーにおいては、ブロッキング現象が原因で発生するうねりや構成層厚の不均一性があると、フィルムミラーの基本機能の光の正反射機能を損なう影響を与えることが分かった。
【０００７】
さらにフィルムミラーは、剛性を持たせるために剛性のある金属板に張って使用する。金属板に貼り付ける時にローラーにより圧着するが、ローラー部による送り出し力によりフィルムミラーに皺やたわみが発生し、正反射率が低下する課題が起こることが分かった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−５９３８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、フィルムミラー製造時あるいはロール品保管時に起こるブロッキング現象を低減することで、基本機能である正反射率の品質を安定化させながら、製造コストを抑えて大面積化・大量生産することが可能な太陽熱発電用光反射フィルムを提供することである。また、剛性を持たせるためにフィルムミラーを基材に圧着するとき、圧着貼り付け時のロール搬送が良好でないと基本性能である正反射率が低下するが、このような正反射率の低下がない太陽熱発電用光反射フィルム及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。
【００１１】
１．太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用光反射フィルム。
【００１２】
２．前記ポリシロキサンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用光反射フィルム。
【００１３】
３．前記ポリカプロラクトンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることを特徴とする前記１または２に記載の太陽熱発電用光反射フィルム。
【００１４】
４．前記１〜３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用光反射フィルムを用いた太陽熱発電用反射装置であって、前記太陽熱発電用光反射フィルムの樹脂基材を挟んで前記表面層を有する側とは反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に太陽熱発電用光反射フィルムを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、フィルムミラー製造時あるいは製造後のロール状態で起こるブロッキング現象を低減させ、基本機能である正反射率の品質を安定化させることで、製造コストを抑えて大面積化・大量生産することが可能な太陽熱発電用光反射フィルムを得ることができた。また、剛性を持たせるためにフィルムミラーを基材に圧着する際においても安定して基本性能である正反射率が得られる太陽熱発電用光反射フィルム及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を得ることができた。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明者が、上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、製造工程及びロール品保管時において、ロールのブロッキング現象は、フィルムどうしの強い密着が起こることによって発生する。フィルムどうしの強い密着が起こらないようにするためには、フィルム表面を密着が起こりにくい特性に改善することが必要であった。しかしフィルムミラーの特性上、屋外環境に曝されることから、太陽光に含まれる紫外線耐性、耐湿度、耐薬品、耐傷に優れた特性も合わせ持つ必要があり、本発明に至った。
【００１７】
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする。
【００１８】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記ポリシロキサンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることが好ましい。また、前記ポリカプロラクトンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることが好ましい。
【００１９】
本発明においては、前記金属反射層を構成する金属の主成分が銀であることが好ましく、金属反射層は、金属の蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましいが、銀含有錯体溶液をフィルム上に塗布した後、金属銀を形成することもできる。
【００２０】
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽熱発電用反射装置に好適に用いることができる。例えば、前記太陽熱発電用光反射フィルムの樹脂基材を挟んで前記表面層を有する側とは反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に太陽熱発電用光反射フィルムを貼り付けて形成される態様の太陽熱発電用反射装置であることが好ましい。
【００２１】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明する。
【００２２】
（太陽熱発電用光反射フィルムの構成概要）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする。本発明においては、表面層、金属反射層の他に、目的に応じて、接着層、金属腐食防止層、その他の各種機能層を設けてもよい。
【００２３】
（表面層）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層を有することが特徴である。
【００２４】
本発明に係る表面層を構成要素とする共重合体は、ポリジメチルシロキサン系共重合体と、ポリカプロラクトンと、ポリシロキサンとを構成要素とする組成物及び／または化合物（以下「原材料」という場合がある。）を架橋（硬化）してなるものである。
【００２５】
組成物の形態としては、第１に、ポリジメチルシロキサン系共重合体とポリカプロラクトンとポリシロキサンとがそれぞれ独立して組成物の構成成分となる場合、第２に、ポリカプロラクトンが骨格中に導入されたポリジメチルシロキサン系共重合体と、ポリシロキサンとが組成物の構成成分となる場合、第３に、ポリシロキサンが骨格中に導入されたポリジメチルシロキサン系共重合体と、ポリカプロラクトンとが組成物の構成成分となる場合、第４にポリカプロラクトン及びポリシロキサンが骨格中に導入されたポリジメチルシロキサン系共重合体が組成物の構成部分となる場合があり、それぞれの組成物は単独でまたは二種以上混合して用いることができる。
【００２６】
（Ａ）ポリジメチルシロキサン系共重合体
本発明におけるポリジメチルシロキサン系共重合体は、ポリジメチルシロキサン部分と、ビニルモノマーの重合体鎖部分とを有する共重合体であり、ブロック共重合体であってもよいし、グラフト共重合体であってもよい。
【００２７】
ポリジメチルシロキサン系ブロック共重合体の合成は、リビング重合法、高分子開始剤法または高分子連鎖移動法等によって行うことができるが、工業的には、高分子開始剤法または高分子連鎖移動法によって行うのが好ましい。
【００２８】
高分子開始剤法では、例えば、
【００２９】
【化１】
【００３０】
のごとき高分子アゾ系ラジカル重合開始剤を使用してビニルモノマーと共重合させることにより、効率よくブロック共重合体を合成することができる。また、ペルオキシモノマーと不飽和基を有するポリジメチルシロキサンとを低温で共重合させて、過酸化物基を側鎖に導入したプレポリマーを合成し、プレポリマーをビニルモノマーと共重合させる二段階の重合を行うこともできる。
【００３１】
高分子連鎖移動法では、例えば、
【００３２】
【化２】
【００３３】
のごときシリコーンオイルに、ＨＳ−ＣＨ２ＣＯＯＨや、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ等を付加してＳＨ基を有するシリコーン化合物とした後、ＳＨ基の連鎖移動を利用してシリコーン化合物とビニルモノマーとを共重合させることにより、ブロック共重合体を合成することができる。
【００３４】
一方、ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体については、例えば、
【００３５】
【化３】
【００３６】
のごときポリジメチルシロキサンのメタクリルエステル等とビニルモノマーとを共重合させることにより、容易にかつ収率良くグラフト共重合体を合成することができる。
【００３７】
ポリジメチルシロキサンとの共重合体に用いられるビニルモノマーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、オクチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、シトラコン酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジアセトンアクリルアミド等が挙げられる。また、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、アリルアルコール等のＯＨ基を有するビニルモノマーを用いることもできるし、カージュラＥとアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸等との反応物を用いることもできる。なお、上記例示は本発明を限定するものではない。このポリジメチルシロキサンの共重合体は、表面層のもろさを低減して、ロール搬送時のフィルム破断を抑制し、さらに滑り性をよくして、高いロール搬送安定性が得られる効果を示す。
【００３８】
（Ｂ）ポリカプロラクトン
本発明におけるポリカプロラクトンとしては、例えば、
【００３９】
【化４】
【００４０】
のごとき２官能ポリカプロラクトンジオール類や、
【００４１】
【化５】
【００４２】
のごとき３官能ポリカプロラクトントリオール類、その他４官能ポリカプロラクトンポリオール等を使用することができる。ポリカプロラクトンをポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に導入する場合には、ラクトン変成ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート類を使用するのが好ましく、例えば、
【００４３】
【化６】
【００４４】
の構造式で示されるラジカル重合性ポリカプロラクトンが挙げられる。
【００４５】
このポリカプロラクトンは、ロール搬送時のフィルムのたわみ発生を抑え、表面平滑性を維持し、光正反射率の機能の低下を抑止する働きをする。さらに支持体フィルムとの密着性を高め、総じて表面層のはがれ耐性を高める。
【００４６】
（Ｃ）ポリシロキサン
本発明におけるポリシロキサンとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトキエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するシラン化合物の部分加水分解物や、有機溶媒中に無水ケイ酸の微粒子を安定に分散させたオルガノシリカゾル、またはオルガノシリカゾルにラジカル重合性を有する上記シラン化合物を付加させたもの等を使用することができる。なお、上記例示は本発明を限定するものではない。
【００４７】
ポリシロキサンは、ブロッキング現象を抑制し、表面膜層に剛直性を与え、ロール搬送時にフィルムの引っ張りたわみの発生を抑制して、正反射率性能を保持する効果が得られ、さらに汚れが付着しにくい効果が得られる。
【００４８】
本発明におけるポリジメチルシロキサン系共重合体は、通常溶液重合によって製造される。この溶液重合では、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶剤などが単独または混合溶剤として用いられ、所望により、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル等の油溶性の重合開始剤が用いられる。上記溶液重合の反応温度は、５０〜１５０℃であるのが好ましく、反応時間は、３〜１２時間であるのが好ましい。
【００４９】
ここで、上記ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格中にポリカプロラクトン及び／またはポリシロキサンを導入する場合には、ポリジメチルシロキサン系共重合体を重合する際にポリカプロラクトン及び／またはポリシロキサンを添加して共重合すればよい。なお、上記組成物を製造する場合には、各構成成分を常法により混合する。
【００５０】
本発明におけるポリジメチルシロキサン系共重合体（ポリカプロラクトン及び／またはポリシロキサンが骨格中に導入されたものを含む。）中のポリジメチルシロキサン部分の量は、１〜２５質量％であるのが好ましく、特に３〜１５質量％であるのが好ましい。このポリジメチルシロキサン部分は、表面層のもろさを低減して、滑り性を良くして、ロール搬送安定性を高める役割を果たす。該ポリジメチルシロキサン部分の量が１質量％未満ではかかる効果が十分に発揮されず、一方、該ポリジメチルシロキサン部分の量が２５質量％を超えると、表面層の汚染性が高まり、光正反射機能を損ないます。該ポリジメチルシロキサン部分の分子量は、２０００〜３００００程度であるのが好ましく、効果的に表面機能材料表面に配向し、良好な滑り性を与える分子量としては、特に７０００〜１５０００程度であるのが好ましい。
【００５１】
本発明におけるポリカプロラクトンの量は、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に導入される場合であっても、組成物中で独立して存在する場合であっても、固形分中３〜４０質量％であるのが好ましい。このポリカプロラクトンは、フィルムのたわみ発生を抑え、表面平滑性を維持し、光正反射率の機能の低下を抑止する働きをする。さらに支持体フィルムとの密着性を高め、総じて表面層のはがれ耐性を高める。該ポリカプロラクトンの量が３質量％未満では、これら効果が低下し、４５質量％を超えると、汚れ性が高まり、さらに正反射性も逆に劣化する。
【００５２】
本発明におけるポリシロキサンの量は、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に導入される場合であっても、組成物中で独立して存在する場合であっても、固形分中１０〜５０質量％であるのが好ましい。ポリシロキサンは、ブロッキング現象を抑制し、表面膜層に剛直性を与え、ロール搬送時にフィルムの引っ張りたわみの発生を抑制して、正反射率性能を保持する効果が得られ、さらに汚れが付着しにくい効果が得られる。該ポリシロキサンの量が１質量％未満ではかかる効果が十分に発揮されず、一方、該ポリシロキサンの量が５０質量％を超えると、ロール搬送性時にロールのよれが発生しやすくなり好ましくない。
【００５３】
上記原材料を硬化させることにより本発明の表面層が得られるが、このとき、上記ポリジメチルシロキサン系共重合体（ポリカプロラクトン及び／またはポリシロキサンが骨格中に導入されたものを含む。）はウレタン架橋及び／またはメラミン架橋するのが好ましい。
【００５４】
ポリジメチルシロキサン系共重合体をウレタン架橋するには、ＯＨ基を有する該ポリジメチルシロキサン系共重合体に対して、メチレンビス−４−シクロヘキシルイソシアネート、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソホロンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体等のポリイソシアネート、あるいは上記ポリイソシアネートのブロック型イソシアネート等のウレタン架橋剤を上記原材料に添加して硬化させればよく、必要に応じてジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジエチルヘキソエート等を触媒として添加してもよい。ウレタン架橋の場合には室温乾燥または焼付乾燥が可能であり、通常、室温乾燥は８時間〜１週間行われ、焼付乾燥は４０〜３００℃で５秒〜１２０分行われる。
【００５５】
一方、ポリジメチルシロキサン系共重合体をメラミン架橋するには、アルコキシメチロールメラミン等のメラミン架橋剤を上記原材料に添加して硬化させればよく、必要に応じてパラトルエンスルホン酸、トリクロロ酢酸、四塩化フタル酸等を触媒として添加してもよい。メラミン架橋の場合には、８０〜１２０℃、５秒〜６０分の焼付乾燥を行うのが好ましい。なお、上記原材料を硬化させてなる表面機能層の厚さは、１〜１００μｍ程度であるのが好ましいが、より好ましくは、５〜５０μｍである。
【００５６】
本発明において、表面層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤等の安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤等を用いることができる。特に太陽光の紫外線から樹脂、銀等の反射層を保護するために紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、特に機能層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【００５７】
〈無機酸化物〉
本発明の表面層には、無機酸化物を好ましく含有させることができる。ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることを特徴とする。
【００５８】
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素であり、平均粒径５０ｎｍ未満の粒子を使用することが好ましい。
【００５９】
（紫外線吸収剤）
本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を添加することができる。
【００６０】
紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。
【００６１】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００６２】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２ー（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００６３】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【００６４】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００６５】
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。ただし、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
【００６６】
通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【００６７】
紫外線吸収剤の使用量は、０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。２０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、０．１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
【００６８】
（樹脂基材）
本発明に係る樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、アクリレート系フィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルムが好ましく用いられる。溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００６９】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。
【００７０】
また、酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉等を練り込んだ樹脂をコーティングしたり、金属蒸着等の表面加工を施したりした樹脂フィルムも用いられる。
【００７１】
（接着層）
本発明に係る接着層は金属反射層と樹脂基材（樹脂フィルム）との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。従って、接着層は、樹脂基材（樹脂フィルム）と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【００７２】
接着層に使用するバインダーとしての樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリレート系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からアクリレート系樹、ポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００７３】
本発明においては、特にアクリレート系樹を用いることが好ましい。具体的には、ポリアクリレート、ポリ（メチルメタクリレート）（「ＰＭＭＡ」）のようなポリメタクリレート等が挙げられる。
【００７４】
接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜２μｍである。
【００７５】
接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００７６】
接着層を構成する素材としては、例えば、天然ゴム系、合成ゴム系、アクリル樹脂系及びシリコーン樹脂系、ポリオレフィン樹脂系、ポリビニルエーテル樹脂系、ウレタン樹脂系、等から選択できるが、アクリル樹脂系、ポリオレフィン系、シリコーン系樹脂が好ましく用いられる。また、水中に接着剤成分を分散させたエマルジョン系も用いることができるが、透明性、接着剤の残り低減の点から有機溶剤系が好ましく用いられる。
【００７７】
具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、アクリロニトリル、ヒドロキシエチルアクリレート、イソノニルアクリレート、ステアリルアクリレート等の単独重合体もしくは共重合体が挙げられる。またポリビニルエーテル樹脂系の具体例ではポリビニルエーテル、ポリビニルイソブチルエーテルが挙げられる。シリコーン系の具体例ではジメチルポリシロキサン、フルオロシリコーン等を利用できる。またアクリル系として王子タック株式会社製、Ｆ５Ｍ、Ｆ６Ｑ、Ｆ２Ｆの市販品も用いることができる。
【００７８】
（金属反射層）
本発明に係る金属反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。金属反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。当該金属反射層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。
【００７９】
中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする銀反射層とすることが好ましい。
【００８０】
また、金属反射層上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層をこの順に設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【００８１】
例えば、本発明に係る金属反射層（例えば銀反射層）の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
【００８２】
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応等がある。
【００８３】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明の太陽熱発電用光反射フィルムを製造する太陽熱発電用光反射フィルムの製造方法としては、当該金属反射層（銀反射層）を金属（銀）蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
【００８４】
金属（銀）反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【００８５】
本発明において、金属（銀）反射層は支持体に対して光線入射側にあっても、その反対側にあってもよい。
【００８６】
（その他の構成層）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、その他の構成層として、金属腐食防止層、紫外線吸収層等を設けることが好ましい。
【００８７】
（金属腐食防止層）
本発明において、金属腐食防止層は、金属反射層に隣接して設けられ、腐食防止剤を含有し、金属反射層の金属の腐食劣化を防ぐとともに、金属反射層の傷防止に寄与するものである。
【００８８】
金属腐食防止層に使用するバインダーとしての樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００８９】
イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。
【００９０】
金属腐食防止層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００９１】
金属腐食防止層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００９２】
（腐食防止剤）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムに用いられる金属反射層の腐食防止剤には、大別して、金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
【００９３】
ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００９４】
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、前記接着層が酸化防止剤を含有し、かつ前記上部隣接層が金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様であることが好ましい。
【００９５】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００９６】
〈金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【００９７】
アミン類及びその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９８】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９９】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１００】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０１】
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０２】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０３】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０４】
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０５】
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０６】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０７】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０１０８】
〈酸化防止剤〉
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムに用いられる金属反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。
【０１０９】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。
【０１１０】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【０１１１】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。
【０１１２】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【０１１３】
なお、本発明においては、上記酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。
【０１１４】
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【０１１５】
その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
【０１１６】
特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
【０１１７】
（ガスバリア層）
本発明にガスバリア層を設けることも好ましい。湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び当該樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものである。
【０１１８】
ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、好ましくは１ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるようにガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。本発明に係るガスバリア層に関しては、その形成方法において特に制約はないが、蒸着による無機膜層を形成してもよく、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び／または紫外線照射により、無機酸化物膜を形成することも好ましく用いられる。
【０１１９】
〈セラミック前駆体〉
本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物またはポリシラザンが好ましい。
【０１２０】
（太陽熱発電用光反射フィルム全体の厚さ）
本発明に係る太陽熱発電用光反射フィルム全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５〜２５０μｍが好ましく、さらに好ましくは９０〜２３０μｍ、さらに好ましくは１００〜２２０μｍである。
【０１２１】
（太陽熱発電用反射装置）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。太陽熱発電用光反射フィルム単体で太陽光集光ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで金属反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該太陽熱発電用光反射フィルムを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
【０１２２】
太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態（例えばトラフ式太陽熱発電）が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態（例えばタワー式太陽発電）も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置（ヘリオスタットのミラー構成体）に高い正反射率が求められるため、本発明の太陽熱発電用光反射フィルムが特に好適に用いられる。
【０１２３】
〈粘着層〉
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれも用いられる。
【０１２４】
例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。
【０１２５】
ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１２６】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１２７】
〈金属基材〉
本発明の太陽熱発電用反射装置を貼り合わせる金属基材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板等にすることが好ましい。
【実施例】
【０１２８】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０１２９】
実施例１
（ポリシロキサンＡの合成）
窒素ガス封入下、５００ｍｌフラスコ内にエタノール１０８部、テトラエトキシシラン３１９部、蒸留水２０部、１％塩酸１部を混合し、８５℃３時間保持した後、昇温しながらエタノールを回収し１８０℃５０分保持した。その後冷却して、ポリシロキサンＡを得た。
【０１３０】
（ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａの合成）
窒素ガス封入下、トルエン５１部及びメチルイソブチルケトン４９部を５００ｍｌフラスコ内で８０℃まで昇温した。これとは別にメタクリル酸２６部、ダイセル化学工業製、プラクセルＦＭ−５（ポリカプロラクトンメタクリルエステル）３６部、信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（片末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン）２０部、日本ヒドラジン工業（株）製、ＡＢＮ−Ｅ（アゾビス−２−メチルブチロニトリル）１部を混合撹拌した。この混合液を先のトルエン及びメチルイソブチルケトンの混合液に２時間かけて滴下し、その後８時間の反応を経て、固形分５０％のポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａを得た。
【０１３１】
（塗布液１の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａ８６部及びポリシロキサンＡ１３部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液１を調製した。
【０１３２】
（ポリシロキサンＢの合成）
窒素ガス封入下、５００ｍｌフラスコにエタノール１０８部、メチルトリメトキシシラン２６８部、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン２４部、蒸留水９９部、１％塩酸１部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．１部を混合し、ポリシロキサンを合成した。合成したポリシロキサンをメチルイソブチルケトンにより濃度５０％に調整して、ポリシロキサンＢを合成した。
【０１３３】
（ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｂの合成）
モノマー組成をメタクリル酸メチル２２部、メタクリル酸ブチル２４部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２３部、上記作製したポリシロキサンＢ９部、メタクリル酸１部及び信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（片末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン、分子量５０００）２１部に変更した以外は、ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａの合成と同様の方法で、固形分５０％のポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｂを合成した。
【０１３４】
（塗布液２の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｂ８４部及びダイセル化学工業（株）製、プラクセル４１０Ｄ、分子量１０００、ＯＨ価２２０（４官能カプロラクトンポリオール）１６部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３６部を混合し、塗布液２を調製した。
【０１３５】
（ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｃの合成）
モノマー組成をメタクリル酸メチル２４部、メタクリル酸ブチル２６部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２５部、メタクリル酸１部及び信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（片末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン、分子量５０００）２４部に変更した以外は、ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａの合成と同様の方法で、固形分５０％のポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｃを合成した。
【０１３６】
（塗布液３の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｃ８４部及びポリシロキサンＡ１２部、ダイセル化学工業（株）製、プラクセル４１０Ｄ、分子量１０００、ＯＨ価２２０（４官能カプロラクトンポリオール）１４部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３４部を混合し、塗布液３を調製した。
【０１３７】
（ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｄの合成）
窒素ガス封入下、トルエン５１部及びメチルイソブチルケトン４９部を５００ｍｌフラスコ内で８０℃まで昇温した。これとは別にメタクリル酸２６部、ダイセル化学工業製、プラクセルＦＭ−５（ポリカプロラクトンメタクリルエステル）３６部、ポリシロキサンＢ９部、信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（片末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン）２０部、日本ヒドラジン工業（株）製、ＡＢＮ−Ｅ（アゾビスー２−メチルブチロニトリル）１部を混合撹拌した。この混合液を先のトルエン及びメチルイソブチルケトンの混合液に２時間かけて滴下し、その後８時間の反応を経て、固形分５０％のポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｄを得た。
【０１３８】
（塗布液４の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｄ８６部及び武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液４を調製した。
【０１３９】
（塗布液６の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｃ１１０部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３４部を混合し、塗布液６を調製した。
【０１４０】
（塗布液７の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａ９０部及び、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液７を調製した。
【０１４１】
（塗布液８の調製）
上記作製したポリシロキサンＡ１００部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液８を調製した。
【０１４２】
（塗布液９の調製）
上記作製したポリシロキサンＡ１００部、ダイセル化学工業（株）製、プラクセル４１０Ｄ、分子量１０００、ＯＨ価２２０（４官能カプロラクトンポリオール）１４部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液９を調製した。
【０１４３】
〔フィルムミラーの作製〕
（フィルムミラー１１の作製）
重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（以下、単にアクリルフィルムともいう）の製膜時に紫外線吸収剤（、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８、ＢＡＳＦジャパン社製）をアクリルフィルムに１０質量％含有させて、５０μｍの厚さの樹脂基材（フィルムＡ）を作製した。
【０１４４】
フィルムＡ上に、表面層として、上記調製した塗布液１をドライ膜厚で１０μｍとなるように康井精機製ＣＰＣ−ＸＬ１４．５／Ｍ／Ｗを用いて、ラインスピード１５ｍ／ｍｉｎ、テンション３Ｎ／全幅、乾燥温度８５℃の条件で塗布、乾燥し、その後８０℃で１６８時間保管して、３００ｍのロール品のフィルムＢ１を作製した。
【０１４５】
（フィルムＣの作製）
フィルムＢ１の表面層とは反対側の面に、接着層として、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ６μｍの層を形成し、フィルムＣを作製した。
【０１４６】
フィルムＣの接着層上に、金属反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、フィルムＤとした。
【０１４７】
東洋インキ（株）製、ＢＰＳ−５２９６（固形分５０％）、硬化剤ＢＸＸ４７７３を１／０．００５の比率で混合して粘着液を調製した。この粘着液を厚さ２５μｍとなるようにフィルムＤの銀反射層の上に塗布し、剥離シートとする厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムとラミネート圧力２Ｍｐａで張り合わせて本発明のフィルムミラー１１とした。
【０１４８】
（フィルムミラー１２〜１４の作製）
フィルムミラー１１の作製において、塗布液１を塗布液２〜４に換えた以外は同様にしてそれぞれフィルムＢ２〜Ｂ４とした。塗布液１を塗布液２に変更した以外は同様にして、フィルムミラー１２〜１４を作製した。
【０１４９】
（フィルムミラー１５の作製）
（フィルムＢ５の作製）
フィルムミラー１１の作製において、フィルムＢ１をフィルムＡに換えた以外は同様にしてフィルムミラー１５を作製した。
【０１５０】
（フィルムミラー１６〜１９の作製）
フィルムミラー１１の作製において、フィルムＢ１の作製に使った塗布液１を塗布液６〜９に換えた以外は同様にしてそれぞれフィルムミラー１６〜１９を作製した。
【０１５１】
〔フィルムミラーの評価〕
作製したフィルムＢ１〜９、フィルムミラー１１〜１９について下記の評価を行った。
【０１５２】
（ブロッキング状態〕
フィルムＡ、フィルムＢ１〜Ｂ９について、各フィルム全長３００ｍ、幅３００ｍｍを７６ｃｍコアに巻きつけた状態でブロッキング状態を目視で観察し、下記基準で評価した。
【０１５３】
◎：ブロッキングの発生がない
○：ブロッキングが若干ある
△：ブロッキングが少しある
×：ブロッキングが多く発生している
（表面状態）
作製したフィルムミラー１１〜１９の剥離シートを剥離し、縦１．５ｍ×横４００ｍｍのアルミ基材と重ね、２本のローラーの間隙を通し、２．０Ｍｐａの圧力にて１０ｍ／ｍｉｎ．の速度で貼り付けた。
【０１５４】
アルミ基材に貼り付けたフィルムミラー表面全体を目視で観察し、１ｍ２当たりに発生した膜浮、皺の数を測定し、下記基準で評価した。
【０１５５】
○：膜浮または皺の発生がない
△：１〜２か所、膜浮または皺がある
×：３か所以上、膜浮または皺がある
（正反射率の変動）
作製したフィルムミラー１１〜１９の剥離シートを剥離し、縦１．５ｍ×横４００ｍｍのアルミ基材と重ね、２本のローラーの間隙を通し、２．０Ｍｐａの圧力にて１０ｍ／ｍｉｎ．の速度で貼り付けた。
【０１５６】
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、アルミ基材に貼り付けたフィルムミラーについて、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０〜７００ｎｍの平均反射率として測定した。各サンプル２０か所を測定し、最大値と最低値の差を測定し、下記基準で評価した。
【０１５７】
◎：正反射率の最大値と最低値の差が１％未満
○：正反射率の最大値と最低値の差が１％以上３％未満
△：正反射率の最大値と最低値の差が３％以上５％未満
×：正反射率の最大値と最低値の差が５％以上
評価の結果を表１に示す。
【０１５８】
【表１】
【０１５９】
表１から、本発明のフィルムミラー１１〜１４は、比較例のフィルムミラー１５〜１９に較べ、表面状態が良好で、正反射率の変動が少ないことが分かる。これは、本発明フィルムミラーにおいては、アルミ基材への貼り付け時に２本のローラーからの不要な応力がフィルムミラーに加わらず、表面状態を良好に保ったまま安定に貼り付けることができたためと考えられる。
【０１６０】
実施例２
〔フィルムミラーの作製〕
（フィルムミラー２１の作製）
厚さ４０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、接着層として、厚さ０．１μｍの層を形成し、さらにその上に真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成しフィルムＥとした。
【０１６１】
東洋インキ（株）製、ＬＩＳ−６０１（固形分５０％）と硬化剤ＣＲ−００１、酢酸エチルを１／０．１／１．１８の比率で混合し、さらに酢酸エチル液で塗布に最適となる粘度に希釈して接着液を調製した。
【０１６２】
得られた接着液をフィルムＥの銀反射層上に、康井精機製ＣＰＣ−ＸＬ１４．５／Ｍ／Ｗを用いて、ラインスピード１０ｍ／ｍｉｎ、テンション３Ｎ／全幅、乾燥温度６０〜８０℃の条件で塗布、乾燥し、ラミネート圧力２．０Ｍｐａで接着層の厚さが６μｍとなるようにした後、実施例１で作製したフィルムＢ１のアクリルフィルムと貼り合わせ、フィルムミラー２１を作製した。
【０１６３】
（フィルムミラー２２〜２４の作製）
フィルムミラー２１の作製において、フィルムＢ１をフィルムＢ２〜Ｂ４に変更した以外は同様にして、それぞれフィルムミラー２２〜２４を作製した。
【０１６４】
（フィルムミラー２５の作製）
フィルムミラー２１の作製において、フィルムＢ１をフィルムＡに変更した以外は同様にして、フィルムミラー２５を作製した。
【０１６５】
（フィルムミラー２６〜２９の作製）
フィルムミラー２１の作製において、フィルムＢ１をフィルムＢ６〜Ｂ９に変更した以外は同様にして、それぞれフィルムミラー２６〜２９を作製した。
【０１６６】
〔フィルムミラーの評価〕
（うねり）
フィルムＥと、フィルムＢ１〜４、フィルムＢ６〜９、フィルムＡ４を貼り合わせたフィルムミラーの表面全体の貼合不良を目視で観察し、下記基準で評価した。
【０１６７】
○：凹凸のうねりがない
△：凹凸のうねりがわずかにある
×：大きな凹凸のうねりがある、または小さな凹凸のうねりが多数ある
（剥がれ）
フィルムＥとフィルムＢを貼り合わせたフィルムミラーを、９０℃、９０％ＲＨ、１６８ｈｒの環境下に放置後、接着面の剥がれを目視で観察し、下記基準で評価した。
【０１６８】
○：剥がれがない
△：フィルムの端部の一部に僅かに剥がれがある
×：フィルムの剥がれ面積が全体の５％に達している
評価の結果を表２に示す。
【０１６９】
【表２】
【０１７０】
表２から、本発明のフィルムミラー２１〜２４は、比較例のフィルムミラー２５〜２９に較べ、貼り合わせ状態が良好で、貼り合わせの剥がれが少ないことが分かる。これは、フィルム搬送時のブロッキングが軽減され、貼り合わせ時に不要な膜内応力がなくなったためと考えている。
【０１７１】
実施例３
〔フィルムミラーの作製〕
（フィルムミラー３１の作製）
東洋インキ（株）製、ＢＰＳ−５２９６（固形分５０％）、硬化剤ＢＸＸ４７７３を１／０．００５の比率で混合して粘着液を調製した。この粘着液を厚さ２５μｍとなるように、実施例２で作製したフィルムミラー２１のポリエチレンテレフタレートフィルムの上に塗布し、剥離シートとする厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムとラミネート圧力２Ｍｐａで張り合わせて、フィルムミラー３１を作製した。
【０１７２】
（フィルムミラー３２〜３９の作製）
フィルムミラー３１の作製において、フィルムミラー２１を実施例２で作製したフィルムミラー２２〜２４に変更した以外は同様にして、それぞれフィルムミラー３２〜３４を作製した。
【０１７３】
〔フィルムミラーの評価〕
作製したフィルムミラーの剥離シートを剥離し、縦１．５ｍ×横４００ｍｍのアルミ基材と重ね、２本のローラーの間隙を通し、２．０Ｍｐａの圧力にて１０ｍ／ｍｉｎの速度で貼り付け、実施例１と同様に表面状態と正反射率を評価した。
【０１７４】
（耐湿耐光試験）
作製したフィルムミラーについて、８５℃、８５％ＲＨの条件で１０日間放置後、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、４０℃の環境下で７日間紫外線照射を行った。これらの試験を３回繰り返した後、実施例１の正反射率の変動と同様の方法により正反射率を測定した。強制劣化試験前後のフィルムミラーの正反射率の低下率を算出し、下記基準で評価した。
【０１７５】
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
評価の結果を表３に示す。
【０１７６】
【表３】
【０１７７】
表３から、本発明のフィルムミラー３１〜３４は、比較例のフィルムミラー３５〜３９に較べ、表面状態が良好で、正反射率の変動が少ないことが分かる。これは、アルミ基材への貼り付け時に２本のローラーからの不要な応力がフィルムミラーに加わらず、表面状態を良好に保ったまま安定に貼り付けることができ、耐湿熱光試験後でも良好な状態を保つことができたためと考えられる。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、太陽熱発電用光反射フィルム及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
石油、天然ガス等の化石燃料エネルギーに代わる代替エネルギーとしては、現在、石炭エネルギー、バイオマスエネルギー、核エネルギー、風力エネルギー及び太陽エネルギー等の自然エネルギーが検討されているが、化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。
【０００３】
しかしながら、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを活用する観点からは、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、及び（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが問題となると考えられる。
【０００４】
これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な反射装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
【０００５】
反射装置は、太陽熱による紫外線や熱、風雨、砂嵐等に晒されるため、従来、ガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損したり、重いためミラーを設置する架台の強度を持たせるために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
【０００６】
上記問題を解決するために、ガラス製ミラーを樹脂製反射シートに置き換えることが考えられてきた（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、太陽熱発電用光反射フィルム（以下、太陽熱発電用フィルムミラー、フィルムミラー、またはミラーともいう。）は、製造時に樹脂フィルムをロール搬送しながら、反射層、保護層等を蒸着工程及び塗布工程あるいはフィルム貼り合わせにより積層化して製造する。またこの時、ロール品をロール状態で保管したりする。これらの製造工程時あるいはロール品での保管状態において、一般に知られているブロッキング現象が起こる。ブロッキング現象の程度にもよるが、通常の液晶用導光フィルム、建材に使われるフィルム製品等では、ブロッキングによるフィルムのうねりは、品質に大きな影響を及ぼさないが、フィルムミラーにおいては、ブロッキング現象が原因で発生するうねりや構成層厚の不均一性があると、フィルムミラーの基本機能の光の正反射機能を損なう影響を与えることが分かった。
【０００７】
さらにフィルムミラーは、剛性を持たせるために剛性のある金属板に張って使用する。金属板に貼り付ける時にローラーにより圧着するが、ローラー部による送り出し力によりフィルムミラーに皺やたわみが発生し、正反射率が低下する課題が起こることが分かった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００５−５９３８２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みなされたものであり、その目的は、フィルムミラー製造時あるいはロール品保管時に起こるブロッキング現象を低減することで、基本機能である正反射率の品質を安定化させながら、製造コストを抑えて大面積化・大量生産することが可能な太陽熱発電用光反射フィルムを提供することである。また、剛性を持たせるためにフィルムミラーを基材に圧着するとき、圧着貼り付け時のロール搬送が良好でないと基本性能である正反射率が低下するが、このような正反射率の低下がない太陽熱発電用光反射フィルム及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記課題は、以下の構成により達成される。
【００１１】
１．太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用光反射フィルム。
【００１２】
２．前記ポリシロキサンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることを特徴とする前記１に記載の太陽熱発電用光反射フィルム。
【００１３】
３．前記ポリカプロラクトンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることを特徴とする前記１または２に記載の太陽熱発電用光反射フィルム。
【００１４】
４．前記１〜３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用光反射フィルムを用いた太陽熱発電用反射装置であって、前記太陽熱発電用光反射フィルムの樹脂基材を挟んで前記表面層を有する側とは反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に太陽熱発電用光反射フィルムを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、フィルムミラー製造時あるいは製造後のロール状態で起こるブロッキング現象を低減させ、基本機能である正反射率の品質を安定化させることで、製造コストを抑えて大面積化・大量生産することが可能な太陽熱発電用光反射フィルムを得ることができた。また、剛性を持たせるためにフィルムミラーを基材に圧着する際においても安定して基本性能である正反射率が得られる太陽熱発電用光反射フィルム及びそれを用いた太陽熱発電用反射装置を得ることができた。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明者が、上記課題を解決すべく鋭意検討の結果、製造工程及びロール品保管時において、ロールのブロッキング現象は、フィルムどうしの強い密着が起こることによって発生する。フィルムどうしの強い密着が起こらないようにするためには、フィルム表面を密着が起こりにくい特性に改善することが必要であった。しかしフィルムミラーの特性上、屋外環境に曝されることから、太陽光に含まれる紫外線耐性、耐湿度、耐薬品、耐傷に優れた特性も合わせ持つ必要があり、本発明に至った。
【００１７】
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする。
【００１８】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記ポリシロキサンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることが好ましい。また、前記ポリカプロラクトンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることが好ましい。
【００１９】
本発明においては、前記金属反射層を構成する金属の主成分が銀であることが好ましく、金属反射層は、金属の蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましいが、銀含有錯体溶液をフィルム上に塗布した後、金属銀を形成することもできる。
【００２０】
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽熱発電用反射装置に好適に用いることができる。例えば、前記太陽熱発電用光反射フィルムの樹脂基材を挟んで前記表面層を有する側とは反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に太陽熱発電用光反射フィルムを貼り付けて形成される態様の太陽熱発電用反射装置であることが好ましい。
【００２１】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明する。
【００２２】
（太陽熱発電用光反射フィルムの構成概要）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする。本発明においては、表面層、金属反射層の他に、目的に応じて、接着層、金属腐食防止層、その他の各種機能層を設けてもよい。
【００２３】
（表面層）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層を有することが特徴である。
【００２４】
本発明に係る表面層を構成要素とする共重合体は、ポリジメチルシロキサン系共重合体と、ポリカプロラクトンと、ポリシロキサンとを構成要素とする組成物及び／または化合物（以下「原材料」という場合がある。）を架橋（硬化）してなるものである。
【００２５】
組成物の形態としては、第１に、ポリジメチルシロキサン系共重合体とポリカプロラクトンとポリシロキサンとがそれぞれ独立して組成物の構成成分となる場合、第２に、ポリカプロラクトンが骨格中に導入されたポリジメチルシロキサン系共重合体と、ポリシロキサンとが組成物の構成成分となる場合、第３に、ポリシロキサンが骨格中に導入されたポリジメチルシロキサン系共重合体と、ポリカプロラクトンとが組成物の構成成分となる場合、第４にポリカプロラクトン及びポリシロキサンが骨格中に導入されたポリジメチルシロキサン系共重合体が組成物の構成部分となる場合があり、それぞれの組成物は単独でまたは二種以上混合して用いることができる。
【００２６】
（Ａ）ポリジメチルシロキサン系共重合体
本発明におけるポリジメチルシロキサン系共重合体は、ポリジメチルシロキサン部分と、ビニルモノマーの重合体鎖部分とを有する共重合体であり、ブロック共重合体であってもよいし、グラフト共重合体であってもよい。
【００２７】
ポリジメチルシロキサン系ブロック共重合体の合成は、リビング重合法、高分子開始剤法または高分子連鎖移動法等によって行うことができるが、工業的には、高分子開始剤法または高分子連鎖移動法によって行うのが好ましい。
【００２８】
高分子開始剤法では、例えば、
【００２９】
【化１】
【００３０】
のごとき高分子アゾ系ラジカル重合開始剤を使用してビニルモノマーと共重合させることにより、効率よくブロック共重合体を合成することができる。また、ペルオキシモノマーと不飽和基を有するポリジメチルシロキサンとを低温で共重合させて、過酸化物基を側鎖に導入したプレポリマーを合成し、プレポリマーをビニルモノマーと共重合させる二段階の重合を行うこともできる。
【００３１】
高分子連鎖移動法では、例えば、
【００３２】
【化２】
【００３３】
のごときシリコーンオイルに、ＨＳ−ＣＨ２ＣＯＯＨや、ＨＳ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＯＯＨ等を付加してＳＨ基を有するシリコーン化合物とした後、ＳＨ基の連鎖移動を利用してシリコーン化合物とビニルモノマーとを共重合させることにより、ブロック共重合体を合成することができる。
【００３４】
一方、ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体については、例えば、
【００３５】
【化３】
【００３６】
のごときポリジメチルシロキサンのメタクリルエステル等とビニルモノマーとを共重合させることにより、容易にかつ収率良くグラフト共重合体を合成することができる。
【００３７】
ポリジメチルシロキサンとの共重合体に用いられるビニルモノマーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、オクチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ−ブチルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ｎ−プロピルビニルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、スチレン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン、グリシジルアクリレート、グリシジルメタクリレート、アリルグリシジルエーテル、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マレイン酸、シトラコン酸、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジアセトンアクリルアミド等が挙げられる。また、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、アリルアルコール等のＯＨ基を有するビニルモノマーを用いることもできるし、カージュラＥとアクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸等との反応物を用いることもできる。なお、上記例示は本発明を限定するものではない。このポリジメチルシロキサンの共重合体は、表面層のもろさを低減して、ロール搬送時のフィルム破断を抑制し、さらに滑り性をよくして、高いロール搬送安定性が得られる効果を示す。
【００３８】
（Ｂ）ポリカプロラクトン
本発明におけるポリカプロラクトンとしては、例えば、
【００３９】
【化４】
【００４０】
のごとき２官能ポリカプロラクトンジオール類や、
【００４１】
【化５】
【００４２】
のごとき３官能ポリカプロラクトントリオール類、その他４官能ポリカプロラクトンポリオール等を使用することができる。ポリカプロラクトンをポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に導入する場合には、ラクトン変成ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート類を使用するのが好ましく、例えば、
【００４３】
【化６】
【００４４】
の構造式で示されるラジカル重合性ポリカプロラクトンが挙げられる。
【００４５】
このポリカプロラクトンは、ロール搬送時のフィルムのたわみ発生を抑え、表面平滑性を維持し、光正反射率の機能の低下を抑止する働きをする。さらに支持体フィルムとの密着性を高め、総じて表面層のはがれ耐性を高める。
【００４６】
（Ｃ）ポリシロキサン
本発明におけるポリシロキサンとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトキエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン等の加水分解性シリル基を有するシラン化合物の部分加水分解物や、有機溶媒中に無水ケイ酸の微粒子を安定に分散させたオルガノシリカゾル、またはオルガノシリカゾルにラジカル重合性を有する上記シラン化合物を付加させたもの等を使用することができる。なお、上記例示は本発明を限定するものではない。
【００４７】
ポリシロキサンは、ブロッキング現象を抑制し、表面膜層に剛直性を与え、ロール搬送時にフィルムの引っ張りたわみの発生を抑制して、正反射率性能を保持する効果が得られ、さらに汚れが付着しにくい効果が得られる。
【００４８】
本発明におけるポリジメチルシロキサン系共重合体は、通常溶液重合によって製造される。この溶液重合では、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソブチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール等のアルコール系溶剤などが単独または混合溶剤として用いられ、所望により、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリル等の油溶性の重合開始剤が用いられる。上記溶液重合の反応温度は、５０〜１５０℃であるのが好ましく、反応時間は、３〜１２時間であるのが好ましい。
【００４９】
ここで、上記ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格中にポリカプロラクトン及び／またはポリシロキサンを導入する場合には、ポリジメチルシロキサン系共重合体を重合する際にポリカプロラクトン及び／またはポリシロキサンを添加して共重合すればよい。なお、上記組成物を製造する場合には、各構成成分を常法により混合する。
【００５０】
本発明におけるポリジメチルシロキサン系共重合体（ポリカプロラクトン及び／またはポリシロキサンが骨格中に導入されたものを含む。）中のポリジメチルシロキサン部分の量は、１〜２５質量％であるのが好ましく、特に３〜１５質量％であるのが好ましい。このポリジメチルシロキサン部分は、表面層のもろさを低減して、滑り性を良くして、ロール搬送安定性を高める役割を果たす。該ポリジメチルシロキサン部分の量が１質量％未満ではかかる効果が十分に発揮されず、一方、該ポリジメチルシロキサン部分の量が２５質量％を超えると、表面層の汚染性が高まり、光正反射機能を損ないます。該ポリジメチルシロキサン部分の分子量は、２０００〜３００００程度であるのが好ましく、効果的に表面機能材料表面に配向し、良好な滑り性を与える分子量としては、特に７０００〜１５０００程度であるのが好ましい。
【００５１】
本発明におけるポリカプロラクトンの量は、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に導入される場合であっても、組成物中で独立して存在する場合であっても、固形分中３〜４０質量％であるのが好ましい。このポリカプロラクトンは、フィルムのたわみ発生を抑え、表面平滑性を維持し、光正反射率の機能の低下を抑止する働きをする。さらに支持体フィルムとの密着性を高め、総じて表面層のはがれ耐性を高める。該ポリカプロラクトンの量が３質量％未満では、これら効果が低下し、４５質量％を超えると、汚れ性が高まり、さらに正反射性も逆に劣化する。
【００５２】
本発明におけるポリシロキサンの量は、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に導入される場合であっても、組成物中で独立して存在する場合であっても、固形分中１０〜５０質量％であるのが好ましい。ポリシロキサンは、ブロッキング現象を抑制し、表面膜層に剛直性を与え、ロール搬送時にフィルムの引っ張りたわみの発生を抑制して、正反射率性能を保持する効果が得られ、さらに汚れが付着しにくい効果が得られる。該ポリシロキサンの量が１質量％未満ではかかる効果が十分に発揮されず、一方、該ポリシロキサンの量が５０質量％を超えると、ロール搬送性時にロールのよれが発生しやすくなり好ましくない。
【００５３】
上記原材料を硬化させることにより本発明の表面層が得られるが、このとき、上記ポリジメチルシロキサン系共重合体（ポリカプロラクトン及び／またはポリシロキサンが骨格中に導入されたものを含む。）はウレタン架橋及び／またはメラミン架橋するのが好ましい。
【００５４】
ポリジメチルシロキサン系共重合体をウレタン架橋するには、ＯＨ基を有する該ポリジメチルシロキサン系共重合体に対して、メチレンビス−４−シクロヘキシルイソシアネート、トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、ヘキサメチレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、イソホロンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体、トリレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのイソシアヌレート体、イソホロンジイソシアネートのイソシアヌレート体、ヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット体等のポリイソシアネート、あるいは上記ポリイソシアネートのブロック型イソシアネート等のウレタン架橋剤を上記原材料に添加して硬化させればよく、必要に応じてジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジエチルヘキソエート等を触媒として添加してもよい。ウレタン架橋の場合には室温乾燥または焼付乾燥が可能であり、通常、室温乾燥は８時間〜１週間行われ、焼付乾燥は４０〜３００℃で５秒〜１２０分行われる。
【００５５】
一方、ポリジメチルシロキサン系共重合体をメラミン架橋するには、アルコキシメチロールメラミン等のメラミン架橋剤を上記原材料に添加して硬化させればよく、必要に応じてパラトルエンスルホン酸、トリクロロ酢酸、四塩化フタル酸等を触媒として添加してもよい。メラミン架橋の場合には、８０〜１２０℃、５秒〜６０分の焼付乾燥を行うのが好ましい。なお、上記原材料を硬化させてなる表面機能層の厚さは、１〜１００μｍ程度であるのが好ましいが、より好ましくは、５〜５０μｍである。
【００５６】
本発明において、表面層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤等の安定剤、界面活性剤、レベリング剤及び帯電防止剤等を用いることができる。特に太陽光の紫外線から樹脂、銀等の反射層を保護するために紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。レベリング剤は、特に機能層を塗工する際、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサンポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【００５７】
〈無機酸化物〉
本発明の表面層には、無機酸化物を好ましく含有させることができる。ケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であることを特徴とする。
【００５８】
例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは、酸化ケイ素であり、平均粒径５０ｎｍ未満の粒子を使用することが好ましい。
【００５９】
（紫外線吸収剤）
本発明においては、太陽光や紫外線による劣化防止の目的で、紫外線吸収剤を添加することができる。
【００６０】
紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系等が挙げられる。
【００６１】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００６２】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２ー（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
【００６３】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【００６４】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００６５】
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤等との併用で効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤等も併用することができる。ただし、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。
【００６６】
通常の紫外線防止剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【００６７】
紫外線吸収剤の使用量は、０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。２０質量％よりも多いと密着性が悪くなり、０．１質量％より少ないと耐候性改良効果が小さい。
【００６８】
（樹脂基材）
本発明に係る樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、アクリレート系フィルム、シクロオレフィン系樹脂フィルムが好ましく用いられる。溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【００６９】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜３００μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。
【００７０】
また、酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉等を練り込んだ樹脂をコーティングしたり、金属蒸着等の表面加工を施したりした樹脂フィルムも用いられる。
【００７１】
（接着層）
本発明に係る接着層は金属反射層と樹脂基材（樹脂フィルム）との接着性を高める機能があるものであれば特に限定はないが、樹脂からなることが好ましい。従って、接着層は、樹脂基材（樹脂フィルム）と金属反射層とを密着する密着性、金属反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、及び金属反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【００７２】
接着層に使用するバインダーとしての樹脂は、上記の密着性、耐熱性、及び平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、ポリエステル系樹脂、アクリレート系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、塩化ビニル系樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からアクリレート系樹、ポリエステル系樹脂とメラミン系樹脂の混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００７３】
本発明においては、特にアクリレート系樹を用いることが好ましい。具体的には、ポリアクリレート、ポリ（メチルメタクリレート）（「ＰＭＭＡ」）のようなポリメタクリレート等が挙げられる。
【００７４】
接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、０．０１〜５μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜２μｍである。
【００７５】
接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、ブレードコーター、ロールコーター、エアナイフコーター、スクリーンコーター、バーコーター、カーテンコーター等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００７６】
接着層を構成する素材としては、例えば、天然ゴム系、合成ゴム系、アクリル樹脂系及びシリコーン樹脂系、ポリオレフィン樹脂系、ポリビニルエーテル樹脂系、ウレタン樹脂系、等から選択できるが、アクリル樹脂系、ポリオレフィン系、シリコーン系樹脂が好ましく用いられる。また、水中に接着剤成分を分散させたエマルジョン系も用いることができるが、透明性、接着剤の残り低減の点から有機溶剤系が好ましく用いられる。
【００７７】
具体的には、アクリル酸メチル、アクリル酸、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、アクリロニトリル、ヒドロキシエチルアクリレート、イソノニルアクリレート、ステアリルアクリレート等の単独重合体もしくは共重合体が挙げられる。またポリビニルエーテル樹脂系の具体例ではポリビニルエーテル、ポリビニルイソブチルエーテルが挙げられる。シリコーン系の具体例ではジメチルポリシロキサン、フルオロシリコーン等を利用できる。またアクリル系として王子タック株式会社製、Ｆ５Ｍ、Ｆ６Ｑ、Ｆ２Ｆの市販品も用いることができる。
【００７８】
（金属反射層）
本発明に係る金属反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。金属反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。当該金属反射層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。
【００７９】
中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を二層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする銀反射層とすることが好ましい。
【００８０】
また、金属反射層上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層をこの順に設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【００８１】
例えば、本発明に係る金属反射層（例えば銀反射層）の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。
【００８２】
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応等がある。
【００８３】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロールツーロール方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明の太陽熱発電用光反射フィルムを製造する太陽熱発電用光反射フィルムの製造方法としては、当該金属反射層（銀反射層）を金属（銀）蒸着によって形成する工程を有する態様の製造方法であることが好ましい。
【００８４】
金属（銀）反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【００８５】
本発明において、金属（銀）反射層は支持体に対して光線入射側にあっても、その反対側にあってもよい。
【００８６】
（その他の構成層）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、その他の構成層として、金属腐食防止層、紫外線吸収層等を設けることが好ましい。
【００８７】
（金属腐食防止層）
本発明において、金属腐食防止層は、金属反射層に隣接して設けられ、腐食防止剤を含有し、金属反射層の金属の腐食劣化を防ぐとともに、金属反射層の傷防止に寄与するものである。
【００８８】
金属腐食防止層に使用するバインダーとしての樹脂は、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂が使用でき、耐候性の点からポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００８９】
イソシアネートは、ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系、ＸＤＩ（キシレンジイソシアネート）系、ＭＤＩ（メチレンジイソシアネート）系、ＨＭＤＩ（ヘキサメチレンジイソシアネート）系等の従来から使用されてきた各種イソシアネートが使用可能であるが、耐候性の点から、ＸＤＩ系、ＭＤＩ系、ＨＭＤＩ系のイソシアネートを使用するのが好ましい。
【００９０】
金属腐食防止層の厚さは、密着性、耐候性等の観点から、０．０１〜３μｍが好ましく、より好ましくは０．１〜１μｍである。
【００９１】
金属腐食防止層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００９２】
（腐食防止剤）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムに用いられる金属反射層の腐食防止剤には、大別して、金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止剤が好ましく用いられる。
【００９３】
ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ Ｚ０１０３−２００４参照）。
【００９４】
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、前記接着層が酸化防止剤を含有し、かつ前記上部隣接層が金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤を含有している態様であることが好ましい。
【００９５】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００９６】
〈金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤〉
金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系の少なくとも一種またはこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【００９７】
アミン類及びその誘導体としては、エチルアミン、ラウリルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、ｏ−トルイジン、ジフェニルアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、２Ｎ−ジメチルエタノールアミン、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、アセトアミド、アクリルアミド、ベンズアミド、ｐ−エトキシクリソイジン、ジシクロヘキシルアンモニウムナイトライト、ジシクロヘキシルアンモニウムサリシレート、モノエタノールアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムベンゾエート、ジイソプロピルアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンカーバメイト、ニトロナフタレンアンモニウムナイトライト、シクロヘキシルアミンベンゾエート、ジシクロヘキシルアンモニウムシクロヘキサンカルボキシレート、シクロヘキシルアミンシクロヘキサンカルボキシレート、ジシクロヘキシルアンモニウムアクリレート、シクロヘキシルアミンアクリレート等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９８】
ピロール環を有する物としては、Ｎ−ブチル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−２，５ジメチルピロール、Ｎ−フェニル−３−ホルミル−２，５−ジメチルピロール，Ｎ−フェニル−３，４−ジホルミル−２，５−ジメチルピロール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【００９９】
トリアゾール環を有する化合物としては、１，２，３−トリアゾール、１，２，４−トリアゾール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、３−ヒドロキシ−１，２，４−トリアゾール、３−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、４−メチル−１，２，３−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール、４，５，６，７−テトラハイドロトリアゾール、３−アミノ−１，２，４−トリアゾール、３−アミノ−５−メチル−１，２，４−トリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ３’５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１００】
ピラゾール環を有する化合物としては、ピラゾール、ピラゾリン、ピラゾロン、ピラゾリジン、ピラゾリドン、３，５−ジメチルピラゾール、３−メチル−５−ヒドロキシピラゾール、４−アミノピラゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０１】
チアゾール環を有する化合物としては、チアゾール、チアゾリン、チアゾロン、チアゾリジン、チアゾリドン、イソチアゾール、ベンゾチアゾール、２−Ｎ，Ｎ−ジエチルチオベンゾチアゾール、Ｐ−ジメチルアミノベンザルロダニン、２−メルカプトベンゾチアゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０２】
イミダゾール環を有する化合物としては、イミダゾール、ヒスチジン、２−ヘプタデシルイミダゾール、２−メチルイミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、２−ウンデシルイミダゾール、１−ベンジル−２−メチルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−フェニルイミダゾール、１−シアノエチル−２−エチル−４−メチルイミダゾール、１−シアノエチル−２−ウンデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−５−ヒドロメチルイミダゾール、２−フェニル−４，５ジヒドロキシメチルイミダゾール、４−フォルミルイミダゾール、２−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−フォルミルイミダゾール、４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−エチル−４−メチル−５−フォルミルイミダゾール、２−フェニル−４−メチル−４−フォルミルイミダゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０３】
インダゾール環を有する化合物としては、４−クロロインダゾール、４−ニトロインダゾール、５−ニトロインダゾール、４−クロロ−５−ニトロインダゾール等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０４】
銅キレート化合物類としては、アセチルアセトン銅、エチレンジアミン銅、フタロシアニン銅、エチレンジアミンテトラアセテート銅、ヒドロキシキノリン銅等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０５】
チオ尿素類としては、チオ尿素、グアニルチオ尿素等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０６】
メルカプト基を有する化合物としては、すでに上記に記載した材料も加えれば、メルカプト酢酸、チオフェノール、１，２−エタンジオール、３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、１−メチル−３−メルカプト−１，２，４−トリアゾール、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾイミダゾール、グリコールジメルカプトアセテート、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等、あるいはこれらの混合物が挙げられる。
【０１０７】
ナフタレン系としては、チオナリド等が挙げられる。
【０１０８】
〈酸化防止剤〉
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムに用いられる金属反射層の腐食防止剤としては、酸化防止剤を用いることもできる。
【０１０９】
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤及びホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。
【０１１０】
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、４，４’−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンジル）−Ｓ−トリアジン−２，４，６−（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）トリオン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリエチレングリコールビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネー〕、３，９−ビス［１，１−ジ−メチル−２−〔β−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−２，４，８，１０−テトラオキオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン等が挙げられる。特に、フェノール系酸化防止剤としては、分子量が５５０以上のものが好ましい。
【０１１１】
チオール系酸化防止剤としては、例えば、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等を挙げられる。
【０１１２】
ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス−（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）４，４’−ビフェニレン−ジホスホナイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト等が挙げられる。
【０１１３】
なお、本発明においては、上記酸化防止剤と下記の光安定剤を併用することもできる。
【０１１４】
ヒンダードアミン系の光安定剤としては、例えば、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、１−メチル−８−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、１−［２−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕エチル］−４−〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ〕−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ベンゾイルオキシ−２，２、６，６−テトラメチルピペリジン、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタン−テトラカルボキシレート、トリエチレンジアミン、８−アセチル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］デカン−２，４−ジオン等が挙げられる。
【０１１５】
その他ニッケル系紫外線安定剤として、〔２，２’−チオビス（４−ｔ−オクチルフェノレート）〕−２−エチルヘキシルアミンニッケル（II）、ニッケルコンプレックス−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル・リン酸モノエチレート、ニッケル・ジブチル−ジチオカーバメート等も使用することが可能である。
【０１１６】
特にヒンダードアミン系の光安定剤としては、３級のアミンのみを含有するヒンダードアミン系の光安定剤が好ましく、具体的には、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロネート、または１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジノール／トリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物が好ましい。
【０１１７】
（ガスバリア層）
本発明にガスバリア層を設けることも好ましい。湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び当該樹脂基材で保護される各種機能素子等の劣化を防止するためのものである。
【０１１８】
ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、好ましくは１ｇ／ｍ２・ｄａｙ／μｍ以下となるようにガスバリア層の防湿性を調整することが好ましい。本発明に係るガスバリア層に関しては、その形成方法において特に制約はないが、蒸着による無機膜層を形成してもよく、無機酸化物膜のセラミック前駆体を塗布した後に、塗布膜を加熱及び／または紫外線照射により、無機酸化物膜を形成することも好ましく用いられる。
【０１１９】
〈セラミック前駆体〉
本発明に係るガスバリア層は、加熱により無機酸化物膜を形成するセラミック前駆体を塗布した後に、一般的な加熱方法が適用して形成することできるが、局所的加熱により形成することが好ましい。当該セラミック前駆体は、ゾル状の有機金属化合物またはポリシラザンが好ましい。
【０１２０】
（太陽熱発電用光反射フィルム全体の厚さ）
本発明に係る太陽熱発電用光反射フィルム全体の厚さは、ミラーがたわみ防止、正反射率、取り扱い性等の観点から、７５〜２５０μｍが好ましく、さらに好ましくは９０〜２３０μｍ、さらに好ましくは１００〜２２０μｍである。
【０１２１】
（太陽熱発電用反射装置）
本発明の太陽熱発電用光反射フィルムは、太陽光を集光する目的において、好ましく使用できる。太陽熱発電用光反射フィルム単体で太陽光集光ミラーとして用いることもできるが、より好ましくは、樹脂基材を挟んで金属反射層を有する側と反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、他基材上に、特に金属基材上に、当該太陽熱発電用光反射フィルムを貼り付けて太陽熱発電用反射装置として用いることである。
【０１２２】
太陽熱発電用反射装置として用いる場合、反射装置の形状を樋状（半円筒状）として、半円の中心部分に内部に流体を有する筒状部材を設け、筒状部材に太陽光を集光させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する形態（例えばトラフ式太陽熱発電）が一形態として挙げられる。また、平板状の反射装置を複数個所に設置し、それぞれの反射装置で反射された太陽光を一枚の反射鏡（中央反射鏡）に集光させて、反射鏡により反射して得られた熱エネルギーを発電部で変換することで発電する形態（例えばタワー式太陽発電）も一形態として挙げられる。特に後者の形態においては、用いられる反射装置（ヘリオスタットのミラー構成体）に高い正反射率が求められるため、本発明の太陽熱発電用光反射フィルムが特に好適に用いられる。
【０１２３】
〈粘着層〉
粘着層としては、特に制限されず、例えばドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれも用いられる。
【０１２４】
例えばポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。
【０１２５】
ラミネート方法は特に制限されず、例えばロール式で連続的に行うのが経済性及び生産性の点から好ましい。
【０１２６】
粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜５０μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１２７】
〈金属基材〉
本発明の太陽熱発電用反射装置を貼り合わせる金属基材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板等熱伝導率の高い金属材料を用いることができる。本発明においては、特に耐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板等にすることが好ましい。
【実施例】
【０１２８】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０１２９】
実施例１
（ポリシロキサンＡの合成）
窒素ガス封入下、５００ｍｌフラスコ内にエタノール１０８部、テトラエトキシシラン３１９部、蒸留水２０部、１％塩酸１部を混合し、８５℃３時間保持した後、昇温しながらエタノールを回収し１８０℃５０分保持した。その後冷却して、ポリシロキサンＡを得た。
【０１３０】
（ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａの合成）
窒素ガス封入下、トルエン５１部及びメチルイソブチルケトン４９部を５００ｍｌフラスコ内で８０℃まで昇温した。これとは別にメタクリル酸２６部、ダイセル化学工業製、プラクセルＦＭ−５（ポリカプロラクトンメタクリルエステル）３６部、信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（片末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン）２０部、日本ヒドラジン工業（株）製、ＡＢＮ−Ｅ（アゾビス−２−メチルブチロニトリル）１部を混合撹拌した。この混合液を先のトルエン及びメチルイソブチルケトンの混合液に２時間かけて滴下し、その後８時間の反応を経て、固形分５０％のポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａを得た。
【０１３１】
（塗布液１の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａ８６部及びポリシロキサンＡ１３部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液１を調製した。
【０１３２】
（ポリシロキサンＢの合成）
窒素ガス封入下、５００ｍｌフラスコにエタノール１０８部、メチルトリメトキシシラン２６８部、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン２４部、蒸留水９９部、１％塩酸１部、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．１部を混合し、ポリシロキサンを合成した。合成したポリシロキサンをメチルイソブチルケトンにより濃度５０％に調整して、ポリシロキサンＢを合成した。
【０１３３】
（ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｂの合成）
モノマー組成をメタクリル酸メチル２２部、メタクリル酸ブチル２４部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２３部、上記作製したポリシロキサンＢ９部、メタクリル酸１部及び信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（片末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン、分子量５０００）２１部に変更した以外は、ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａの合成と同様の方法で、固形分５０％のポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｂを合成した。
【０１３４】
（塗布液２の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｂ８４部及びダイセル化学工業（株）製、プラクセル４１０Ｄ、分子量１０００、ＯＨ価２２０（４官能カプロラクトンポリオール）１６部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３６部を混合し、塗布液２を調製した。
【０１３５】
（ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｃの合成）
モノマー組成をメタクリル酸メチル２４部、メタクリル酸ブチル２６部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート２５部、メタクリル酸１部及び信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（片末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン、分子量５０００）２４部に変更した以外は、ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａの合成と同様の方法で、固形分５０％のポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｃを合成した。
【０１３６】
（塗布液３の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｃ８４部及びポリシロキサンＡ１２部、ダイセル化学工業（株）製、プラクセル４１０Ｄ、分子量１０００、ＯＨ価２２０（４官能カプロラクトンポリオール）１４部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３４部を混合し、塗布液３を調製した。
【０１３７】
（ポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｄの合成）
窒素ガス封入下、トルエン５１部及びメチルイソブチルケトン４９部を５００ｍｌフラスコ内で８０℃まで昇温した。これとは別にメタクリル酸２６部、ダイセル化学工業製、プラクセルＦＭ−５（ポリカプロラクトンメタクリルエステル）３６部、ポリシロキサンＢ９部、信越化学工業（株）製、Ｘ−２２−１７４ＤＸ（片末端メタクリル変性ポリジメチルシロキサン）２０部、日本ヒドラジン工業（株）製、ＡＢＮ−Ｅ（アゾビスー２−メチルブチロニトリル）１部を混合撹拌した。この混合液を先のトルエン及びメチルイソブチルケトンの混合液に２時間かけて滴下し、その後８時間の反応を経て、固形分５０％のポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｄを得た。
【０１３８】
（塗布液４の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｄ８６部及び武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液４を調製した。
【０１３９】
（塗布液６の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ｃ１１０部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３４部を混合し、塗布液６を調製した。
【０１４０】
（塗布液７の調製）
上記作製したポリジメチルシロキサン系グラフト共重合体Ａ９０部及び、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液７を調製した。
【０１４１】
（塗布液８の調製）
上記作製したポリシロキサンＡ１００部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液８を調製した。
【０１４２】
（塗布液９の調製）
上記作製したポリシロキサンＡ１００部、ダイセル化学工業（株）製、プラクセル４１０Ｄ、分子量１０００、ＯＨ価２２０（４官能カプロラクトンポリオール）１４部、武田薬品工業（株）製、タクネートＤ−１７０Ｎ（架橋剤ＨＭＤＩイソシアヌレート、固形分１００％、イソシアネート２０．７％）３７部を混合し、塗布液９を調製した。
【０１４３】
〔フィルムミラーの作製〕
（フィルムミラー１１の作製）
重量平均分子量１０００００、数平均分子量５００００の熱可塑性ポリメタクリル酸メチル樹脂フィルム（以下、単にアクリルフィルムともいう）の製膜時に紫外線吸収剤（、ＴＩＮＵＶＩＮ９２８、ＢＡＳＦジャパン社製）をアクリルフィルムに１０質量％含有させて、５０μｍの厚さの樹脂基材（フィルムＡ）を作製した。
【０１４４】
フィルムＡ上に、表面層として、上記調製した塗布液１をドライ膜厚で１０μｍとなるように康井精機製ＣＰＣ−ＸＬ１４．５／Ｍ／Ｗを用いて、ラインスピード１５ｍ／ｍｉｎ、テンション３Ｎ／全幅、乾燥温度８５℃の条件で塗布、乾燥し、その後８０℃で１６８時間保管して、３００ｍのロール品のフィルムＢ１を作製した。
【０１４５】
（フィルムＣの作製）
フィルムＢ１の表面層とは反対側の面に、接着層として、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ６μｍの層を形成し、フィルムＣを作製した。
【０１４６】
フィルムＣの接着層上に、金属反射層として、真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成し、フィルムＤとした。
【０１４７】
東洋インキ（株）製、ＢＰＳ−５２９６（固形分５０％）、硬化剤ＢＸＸ４７７３を１／０．００５の比率で混合して粘着液を調製した。この粘着液を厚さ２５μｍとなるようにフィルムＤの銀反射層の上に塗布し、剥離シートとする厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムとラミネート圧力２Ｍｐａで張り合わせて本発明のフィルムミラー１１とした。
【０１４８】
（フィルムミラー１２〜１４の作製）
フィルムミラー１１の作製において、塗布液１を塗布液２〜４に換えた以外は同様にしてそれぞれフィルムＢ２〜Ｂ４とした。塗布液１を塗布液２に変更した以外は同様にして、フィルムミラー１２〜１４を作製した。
【０１４９】
（フィルムミラー１５の作製）
（フィルムＢ５の作製）
フィルムミラー１１の作製において、フィルムＢ１をフィルムＡに換えた以外は同様にしてフィルムミラー１５を作製した。
【０１５０】
（フィルムミラー１６〜１９の作製）
フィルムミラー１１の作製において、フィルムＢ１の作製に使った塗布液１を塗布液６〜９に換えた以外は同様にしてそれぞれフィルムミラー１６〜１９を作製した。
【０１５１】
〔フィルムミラーの評価〕
作製したフィルムＢ１〜９、フィルムミラー１１〜１９について下記の評価を行った。
【０１５２】
（ブロッキング状態〕
フィルムＡ、フィルムＢ１〜Ｂ９について、各フィルム全長３００ｍ、幅３００ｍｍを７６ｃｍコアに巻きつけた状態でブロッキング状態を目視で観察し、下記基準で評価した。
【０１５３】
◎：ブロッキングの発生がない
○：ブロッキングが若干ある
△：ブロッキングが少しある
×：ブロッキングが多く発生している
（表面状態）
作製したフィルムミラー１１〜１９の剥離シートを剥離し、縦１．５ｍ×横４００ｍｍのアルミ基材と重ね、２本のローラーの間隙を通し、２．０Ｍｐａの圧力にて１０ｍ／ｍｉｎ．の速度で貼り付けた。
【０１５４】
アルミ基材に貼り付けたフィルムミラー表面全体を目視で観察し、１ｍ２当たりに発生した膜浮、皺の数を測定し、下記基準で評価した。
【０１５５】
○：膜浮または皺の発生がない
△：１〜２か所、膜浮または皺がある
×：３か所以上、膜浮または皺がある
（正反射率の変動）
作製したフィルムミラー１１〜１９の剥離シートを剥離し、縦１．５ｍ×横４００ｍｍのアルミ基材と重ね、２本のローラーの間隙を通し、２．０Ｍｐａの圧力にて１０ｍ／ｍｉｎ．の速度で貼り付けた。
【０１５６】
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、アルミ基材に貼り付けたフィルムミラーについて、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、３５０〜７００ｎｍの平均反射率として測定した。各サンプル２０か所を測定し、最大値と最低値の差を測定し、下記基準で評価した。
【０１５７】
◎：正反射率の最大値と最低値の差が１％未満
○：正反射率の最大値と最低値の差が１％以上３％未満
△：正反射率の最大値と最低値の差が３％以上５％未満
×：正反射率の最大値と最低値の差が５％以上
評価の結果を表１に示す。
【０１５８】
【表１】
【０１５９】
表１から、本発明のフィルムミラー１１〜１４は、比較例のフィルムミラー１５〜１９に較べ、表面状態が良好で、正反射率の変動が少ないことが分かる。これは、本発明フィルムミラーにおいては、アルミ基材への貼り付け時に２本のローラーからの不要な応力がフィルムミラーに加わらず、表面状態を良好に保ったまま安定に貼り付けることができたためと考えられる。
【０１６０】
実施例２
〔フィルムミラーの作製〕
（フィルムミラー２１の作製）
厚さ４０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、ポリエステル系樹脂とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分比率で１０：２に混合した樹脂を、グラビアコート法によりコーティングして、接着層として、厚さ０．１μｍの層を形成し、さらにその上に真空蒸着法により厚さ８０ｎｍの銀反射層を形成しフィルムＥとした。
【０１６１】
東洋インキ（株）製、ＬＩＳ−６０１（固形分５０％）と硬化剤ＣＲ−００１、酢酸エチルを１／０．１／１．１８の比率で混合し、さらに酢酸エチル液で塗布に最適となる粘度に希釈して接着液を調製した。
【０１６２】
得られた接着液をフィルムＥの銀反射層上に、康井精機製ＣＰＣ−ＸＬ１４．５／Ｍ／Ｗを用いて、ラインスピード１０ｍ／ｍｉｎ、テンション３Ｎ／全幅、乾燥温度６０〜８０℃の条件で塗布、乾燥し、ラミネート圧力２．０Ｍｐａで接着層の厚さが６μｍとなるようにした後、実施例１で作製したフィルムＢ１のアクリルフィルムと貼り合わせ、フィルムミラー２１を作製した。
【０１６３】
（フィルムミラー２２〜２４の作製）
フィルムミラー２１の作製において、フィルムＢ１をフィルムＢ２〜Ｂ４に変更した以外は同様にして、それぞれフィルムミラー２２〜２４を作製した。
【０１６４】
（フィルムミラー２５の作製）
フィルムミラー２１の作製において、フィルムＢ１をフィルムＡに変更した以外は同様にして、フィルムミラー２５を作製した。
【０１６５】
（フィルムミラー２６〜２９の作製）
フィルムミラー２１の作製において、フィルムＢ１をフィルムＢ６〜Ｂ９に変更した以外は同様にして、それぞれフィルムミラー２６〜２９を作製した。
【０１６６】
〔フィルムミラーの評価〕
（うねり）
フィルムＥと、フィルムＢ１〜４、フィルムＢ６〜９、フィルムＡ４を貼り合わせたフィルムミラーの表面全体の貼合不良を目視で観察し、下記基準で評価した。
【０１６７】
○：凹凸のうねりがない
△：凹凸のうねりがわずかにある
×：大きな凹凸のうねりがある、または小さな凹凸のうねりが多数ある
（剥がれ）
フィルムＥとフィルムＢを貼り合わせたフィルムミラーを、９０℃、９０％ＲＨ、１６８ｈｒの環境下に放置後、接着面の剥がれを目視で観察し、下記基準で評価した。
【０１６８】
○：剥がれがない
△：フィルムの端部の一部に僅かに剥がれがある
×：フィルムの剥がれ面積が全体の５％に達している
評価の結果を表２に示す。
【０１６９】
【表２】
【０１７０】
表２から、本発明のフィルムミラー２１〜２４は、比較例のフィルムミラー２５〜２９に較べ、貼り合わせ状態が良好で、貼り合わせの剥がれが少ないことが分かる。これは、フィルム搬送時のブロッキングが軽減され、貼り合わせ時に不要な膜内応力がなくなったためと考えている。
【０１７１】
実施例３
〔フィルムミラーの作製〕
（フィルムミラー３１の作製）
東洋インキ（株）製、ＢＰＳ−５２９６（固形分５０％）、硬化剤ＢＸＸ４７７３を１／０．００５の比率で混合して粘着液を調製した。この粘着液を厚さ２５μｍとなるように、実施例２で作製したフィルムミラー２１のポリエチレンテレフタレートフィルムの上に塗布し、剥離シートとする厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムとラミネート圧力２Ｍｐａで張り合わせて、フィルムミラー３１を作製した。
【０１７２】
（フィルムミラー３２〜３９の作製）
フィルムミラー３１の作製において、フィルムミラー２１を実施例２で作製したフィルムミラー２２〜２４に変更した以外は同様にして、それぞれフィルムミラー３２〜３４を作製した。
【０１７３】
〔フィルムミラーの評価〕
作製したフィルムミラーの剥離シートを剥離し、縦１．５ｍ×横４００ｍｍのアルミ基材と重ね、２本のローラーの間隙を通し、２．０Ｍｐａの圧力にて１０ｍ／ｍｉｎの速度で貼り付け、実施例１と同様に表面状態と正反射率を評価した。
【０１７４】
（耐湿耐光試験）
作製したフィルムミラーについて、８５℃、８５％ＲＨの条件で１０日間放置後、岩崎電気製アイスーパーＵＶテスターを用いて、４０℃の環境下で７日間紫外線照射を行った。これらの試験を３回繰り返した後、実施例１の正反射率の変動と同様の方法により正反射率を測定した。強制劣化試験前後のフィルムミラーの正反射率の低下率を算出し、下記基準で評価した。
【０１７５】
５：正反射率の低下率が５％未満
４：正反射率の低下率が５％以上１０％未満
３：正反射率の低下率が１０％以上１５％未満
２：正反射率の低下率が１５％以上２０％未満
１：正反射率の低下率が２０％以上
評価の結果を表３に示す。
【０１７６】
【表３】
【０１７７】
表３から、本発明のフィルムミラー３１〜３４は、比較例のフィルムミラー３５〜３９に較べ、表面状態が良好で、正反射率の変動が少ないことが分かる。これは、アルミ基材への貼り付け時に２本のローラーからの不要な応力がフィルムミラーに加わらず、表面状態を良好に保ったまま安定に貼り付けることができ、耐湿熱光試験後でも良好な状態を保つことができたためと考えられる。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用光反射フィルム。
【請求項２】
前記ポリシロキサンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用光反射フィルム。
【請求項３】
前記ポリカプロラクトンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることを特徴とする請求項１または２に記載の太陽熱発電用光反射フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用光反射フィルムを用いた太陽熱発電用反射装置であって、前記太陽熱発電用光反射フィルムの樹脂基材を挟んで前記表面層を有する側とは反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に太陽熱発電用光反射フィルムを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【請求項１】
太陽光入射側の最表面に、ポリシロキサン、ポリカプロラクトン及びポリジメチルシロキサン系共重合体を構成要素とする共重合体を含有する表面層と、１層以上の樹脂基材と金属反射層を有することを特徴とする太陽熱発電用光反射フィルム。
【請求項２】
前記ポリシロキサンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることを特徴とする請求項１に記載の太陽熱発電用光反射フィルム。
【請求項３】
前記ポリカプロラクトンが、ポリジメチルシロキサン系共重合体の骨格に含まれていることを特徴とする請求項１または２に記載の太陽熱発電用光反射フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の太陽熱発電用光反射フィルムを用いた太陽熱発電用反射装置であって、前記太陽熱発電用光反射フィルムの樹脂基材を挟んで前記表面層を有する側とは反対側の樹脂基材面に塗設された粘着層を介して、金属基材上に太陽熱発電用光反射フィルムを貼り付けて形成されたことを特徴とする太陽熱発電用反射装置。
【公開番号】特開２０１２−５３３８２（Ｐ２０１２−５３３８２Ａ）
【公開日】平成２４年３月１５日（２０１２．３．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−１９７４８２（Ｐ２０１０−１９７４８２）
【出願日】平成２２年９月３日（２０１０．９．３）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２４年３月１５日（２０１２．３．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年９月３日（２０１０．９．３）
【出願人】（３０３０００４０８）コニカミノルタオプト株式会社 (3,255)
【Ｆターム（参考）】
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