帯電防止性の光学フィルム、偏光板、及び画像表示装置
【課題】本発明は、優れた帯電防止性を有し、さらに、耐擦傷性に優れ、かつ帯電防止性の湿度依存性が少ない帯電防止性の光学フィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】透明基材フィルム上に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層（Ａ）を有し、該導電性高分子化合物は、該層（Ａ）内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下である帯電防止性の光学フィルム。
【解決手段】透明基材フィルム上に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層（Ａ）を有し、該導電性高分子化合物は、該層（Ａ）内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下である帯電防止性の光学フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯電防止性の光学フィルム、該帯電防止性の光学フィルムを用いた偏光板、及び該帯電防止性の光学フィルム又は該偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。
【０００３】
このような反射防止フィルムは、最表面に適切な膜厚の低屈折率層、場合により支持体との間に適宜高屈折率層、中屈折率層、ハードコート層などを形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムは最表面に用いられることからディスプレイ装置の保護膜としての機能が期待される。汚れや埃が付着しにくいことや、耐擦傷性が強いことが求められる。厚さ１００ｎｍ前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、及び下層への密着性が必要である。
【０００４】
材料の屈折率を下げるためには、フッ素原子を導入する方法が知られており、特にフッ素含有の架橋性材料を用いる手段が提案されている（特許文献１参照）。しかしながら、屈折率を低下させるために化合物中のフッ素原子の割合を増やすと、フィルム表面がマイナスに帯電しやすくなり、埃が付着しやすいという問題がある。埃付着低減の観点から、反射防止フィルムに導電性層（帯電防止層）を設けることで反射防止フィルムの表面の電荷を漏洩させる方法が知られている。例えば、特許文献２〜４では、層中に金属酸化物からなる導電性粒子を含有させている。この方法は、低屈折率層以外に新たに層を設けることが必要であり、製造時の設備や時間の負荷が大きく、生産性に劣るという問題を有している。また、従来一般に用いられている帯電防止のための金属酸化物からなる導電性粒子は、屈折率が１．６〜２．２程度のものが多いため、これらの粒子を含有する帯電防止層の屈折率が上がってしまう。帯電防止層の屈折率が高くなると、光学フィルムにおいては、隣接層との屈折率の違いにより意図せぬ干渉ムラが生じたり、反射色の色味が強くなるなどの問題が生じる。
【０００５】
帯電防止剤として有機化合物を添加したハードコートフィルムや反射防止フィルムも提案されている。例えば特許文献５及び６には低屈折率層に有機帯電防止剤を使用する技術が開示されており、低屈折率層中において、５〜１０質量％の有機帯電防止剤の使用量で帯電防止性が得られている。しかしながら、当該量の帯電防止剤の使用量でも膜の強度は弱くなってしまい、更に低分子型の帯電防止剤を用いている場合は、帯電防止能の持続性も十分でなかった。また、帯電防止剤の濃度は、低屈折率層内で厚み方向に変化していてもよく、帯電防止成分が低屈折率層の表面で高濃度となるようにし、導電性のパス形成させることも出来ると記載されているが、具体的な実現手段に関する記載はない。したがって、十分な帯電防止性能を発現しながら、膜の硬度や耐擦傷性を維持することは困難であった。更に、帯電防止性化合物の添加量に応じて、屈折率が変化するため、帯電防止性と屈折率の両方を同時に制御することも困難であった。
特許文献７では、比較的少ない量の帯電防止剤で帯電防止性を発現させて耐擦傷性を維持したハードコートフィルムが開示されているが、屈折率は任意に制御できないため、該フィルムを反射防止フィルムの光学干渉層へ適用するには制限がある。また、特許文献８には、導電性金属酸化物被覆層を有する微粒子を低屈折率粒子として使用する技術が開示されているが、該粒子は製造工程が複雑であり、より簡易な技術が求められていた。
また、特許文献９〜１１には含フッ素ポリマーと導電性化合物を同一層内に含む光学フィルムが開示されているが、帯電防止性とその湿度依存性、及び耐擦傷性の観点でさらなる改善が求められる。
以上のように、帯電防止性、耐擦傷性、及び光学機能を同時に満たしながら、生産性の高い反射防止フィルムを製造することは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−２８４０９号公報
【特許文献２】特開２００３−２９４９０４号公報
【特許文献３】特開平１１−９２７５０号公報
【特許文献４】特開２００５−１９６１２２号公報
【特許文献５】特開２００５−３１６４２５号公報
【特許文献６】特開２００７−１８５８２４号公報
【特許文献７】特開２００７−２１６５２５号公報
【特許文献８】特開２００７−２９３３２５号公報
【特許文献９】特開２００５−１１５３５９号公報
【特許文献１０】特開２００７−２７７３１８号公報
【特許文献１１】特開２００１−８１１３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、優れた帯電防止性を有し、更に、耐擦傷性に優れ、かつ帯電防止性の湿度依存性が少ない帯電防止性の光学フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
１．
透明基材フィルム上に、少なくとも、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層（Ａ）を有し、該導電性高分子化合物は、該層（Ａ）内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下である帯電防止性の光学フィルム。
２．
前記導電性高分子化合物が有する親水性基、及び前記含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、前記導電性高分子化合物と前記含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有する上記１に記載の帯電防止性の光学フィルム。
３．
前記層（Ａ）内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をａ、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をｂとしたとき、ａ／ｂが０〜０．４である上記１又は２に記載の帯電防止性の光学フィルム。
４．
前記層（Ａ）を形成する組成物が、該組成物に含まれる全固形分に対して、前記導電性高分子化合物を０．０１〜５質量％含有する、上記１〜３のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
５．
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー（１）と、該モノマーと共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）との共重合体である上記１〜４のいずれかに記載の帯電防止性の光学フィルム。
６．
前記フルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）が下記一般式［１］で表される上記５に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【００１０】
【化１】
【００１１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ２）−を表し、Ｚは水素原子又はフッ素原子を表し、ｍは１〜６の整数、及びｎは２〜４の整数を表す。Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
７．
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の親水性基を有し、前記導電性高分子化合物は、カチオン性基を有する、上記１〜６のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
８．
前記導電性高分子化合物のカチオン性基は、４級アンモニウム塩であることを特徴とする上記７に記載の帯電防止性の光学フィルム。
９．
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、４級アンモニウム塩を親水性基として有し、前記導電性高分子化合物は、アニオン性基を有する、上記１〜６のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１０．
前記導電性高分子化合物のアニオン性基は、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種である上記９に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１１．
前記導電性高分子化合物は、更に、前記バインダーが有する官能基と共有結合し得る官能基を有する上記１〜１０のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１２．
前記層（Ａ）はハードコート層である、上記１〜１１のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１３．
前記ハードコート層の上に、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい層を少なくとも１層有する反射防止フィルムである、上記１２に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１４．
少なくとも１層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか１層は前記層（Ａ）である、上記１〜１１のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１５．
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも１枚が上記１〜１４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルムである偏光板。
１６．
上記１〜１４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム又は上記１５に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する画像表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、優れた帯電防止性を有し、更に、耐擦傷性に優れ、かつ帯電防止性の湿度依存性が少ない帯電防止性の光学フィルムを提供することができる。また、低屈折率層等の反射防止層を積層することで、更に反射防止機能にも優れた光学フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について説明する。ただし、本発明は以下の記載により制限されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１４】
本発明の帯電防止性の光学フィルムは、透明基材フィルム上に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層（Ａ）を有し、該導電性高分子化合物は、該層（Ａ）内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする。
【００１５】
本発明の帯電防止性の光学フィルムの表面抵抗率は１×１０１２Ω／□以下であるが、１×１０１１Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０１０Ω／□以下であることが更に好ましい。
【００１６】
導電性化合物が十分な帯電防止性能を発現するためには、導電性化合物が層内に密に充填されていることが好ましく、更に、層の最表面側に局在していることが好ましい。導電性化合物を層内に密に充填させるために大量に添加すると層の強度が弱くなり、屈折率も変化するため、少量の導電性化合物を密に充填させることが好ましい。通常、導電性化合物の凝集性や局在性は、該化合物自身の性質に依存するのに加えて、同一層内に含まれるバインダーとの組み合わせ、下層との組み合わせ、等により決定されるため、任意に制御することが困難であり、素材の選択肢とその組み合わせが限られる。
本発明によれば、層（Ａ）を形成するための組成物中に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーと含有させることで、含フッ素ポリマーの表面局在性を利用し、更に含フッ素ポリマーと導電性高分子化合物の親和性を利用することで、少量の導電性高分子化合物を層（Ａ）の透明基材フィルムとは反対の表面側に密に局在させることができる。フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、極性の低いフルオロ脂肪族基を有するために透明基材フィルムとは反対の表面側に局在する化合物であり、表面側に局在した含フッ素ポリマー中において、フルオロ脂肪族基は透明基材フィルムとは反対の表面側（上側）を、親水性基は透明基材フィルム側（下側）を向きやすい。一般的な有機化合物をバインダーとして用いた層内や、また、その中に微粒子を分散させた層内において、該含フッ素ポリマー中の親水性基と、親水性基を有する導電性高分子化合物は親和性が高いために、導電性高分子化合物を表面側に集積させることができる。該含フッ素ポリマーの親水性基と、親水性基を有する導電性高分子化合物を設計することで、より高い親和性を得ることができ、より少量の導電性高分子化合物をより高密度に集積させることができる。該含フッ素ポリマーの親水性基は負又は正に荷電し得るイオン性基を有し、それと対をなすイオン性基を有す導電性高分子化合物を組み合わせることが好ましい。
【００１７】
本発明において、層（Ａ）の厚さが０.５μｍ以下である場合には、層（Ａ）の透明基材フィルム側とは、層（Ａ）の透明基材フィルムに近い側の最表面から層（Ａ）の厚さ全体の２０％以内に含まれる任意の領域を表し、層（Ａ）の透明基材フィルムと反対側とは、層（Ａ）の透明基材フィルムに遠い側の最表面から層（Ａ）の厚さ全体の２０％以内に含まれる任意の領域を表す。また、層（Ａ）の厚さが０.５μｍより大きい場合には、層（Ａ）の透明基材フィルム側とは、層（Ａ）の透明基材フィルムに近い側の最表面から深さ１００ｎｍ以内に含まれる任意の領域を表し、層（Ａ）の透明基材フィルムと反対側とは、層（Ａ）の透明基材フィルムに遠い側の最表面から深さ１００ｎｍ以内に含まれる任意の領域を表す。このとき、透明基材フィルム側表面及びその反対側は同一の手段により分析を行い、実質的に同一の深さ領域を分析し、下記の導電性高分子化合物の量（ａ、ｂ）を求めるものとする。
【００１８】
前記層（Ａ）内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をａ、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をｂとしたとき、ａ／ｂが０〜０．４であることが好ましく、０〜０．２であることが更に好ましい。導電性高分子化合物の量（ａ、ｂ）は、ＥＳＣＡ等を用いて膜の表裏の元素分析を行うことで求めることができる。
【００１９】
［親水性基を有する導電性高分子化合物］
導電性高分子化合物とは、媒体中に添加することで、該化合物を添加しない媒体に比べて電気抵抗値を低下し得る高分子化合物である。本発明の光学フィルムにおける層（Ａ）に用いられる導電性化合物は高分子であるため、光学フィルムを使用する環境下での安定性や持続性に優れる。
【００２０】
本発明における導電性高分子化合物は親水性基を有する。該親水性基としては、主成分となるバインダーよりも極性の高い官能基や連結基を選ぶことができるが、負又は正に荷電し得るイオン性基であることが好ましい。カチオン性基としては、４級アンモニウム塩であることが好ましく、アニオン性基としては、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００２１】
導電性高分子化合物は、更に、バインダーの官能基と共有結合し得る官能基を有すると、導電性高分子化合物をバインダー中に固定化することができるため、膜の耐擦傷性を損なわず、帯電防止性能の温湿度依存性を低減でき、更に、ブリードアウトや水洗い、布拭き等による帯電防止剤の脱落を低減できるという理由から、導電性高分子化合物には重合性官能基が導入されていることが好ましい。重合性官能基としては、特に限定されないが、アクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基等が挙げられ、用いるバインダーに応じて選ぶことができる。
導電性高分子化合物としてはイオン系導電性高分子やπ共役系導電性高分子が挙げられる。導電性高分子化合物は前記含フッ素ポリマーが有する親水性基と対をなして局在させるために、イオン性高分子化合物であることが好ましい。
特に、導電性高分子化合物が有する親水性基、及び含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、導電性高分子化合物と含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有することが、好ましい。導電性高分子化合物と含フッ素ポリマーの親和性を損なわないために、バインダーはイオン性基を有さないことが好ましい。
【００２２】
イオン性高分子化合物としては、特公昭４９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２８９３７号、特開平１０−２５１６２１号、特開２００５−１４８６８１号に見られるようなアニオン性高分子化合物；特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５７−１８１７６号、同５７−５６０５９号、特開２００５−１４８６８１号などに見られるような、主鎖中に解離基を持つアイオネン型ポリマー；特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６号、同５８−５６８５８号、特開昭５５−１４５７８３号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同６２−９３４６号、特開２００５−１４８６８１号に見られるような、側鎖中にカチオン性基を持つカチオン性ペンダント型ポリマー；等を挙げることができる。
【００２３】
カチオン性基を有する導電性高分子化合物としては、アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類等を高分子量化した高分子化合物等が好ましく用いられる。
アニオン性基を有する導電性高分子化合物としては、脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸類、アルキルスルホコハク酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、アルキルリン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸エステル塩類、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、特殊カルボン酸型高分子界面活性剤類等を高分子量化した高分子化合物等が好ましく用いられる。
【００２４】
四級アンモニウム系の導電性高分子化合物としては、四級アンモニウム塩基含有重合体、四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤又はその加水分解縮合物がある。このような四級アンモニウム塩基含有重合体の具体例を以下例示する。
（ａ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／他の（メタ）アクリル酸エステルの共重合体、の四級アンモニウム塩、
（ｂ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリルアミド／他の（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体、の四級アンモニウム塩、
（ｃ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／他の（メタ）アクリル酸エステル（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステルの共重合体と、（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
（ｄ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／他の（メタ）アクリル酸エステル（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステル／（メタ）アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体と、（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
（ｅ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／他の（メタ）アクリル酸エステル／（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステル／（メタ）アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩に、更にアミノ基含有ポリジメチルシロキサンを付加したポリマー、
（ｆ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／（メタ）アクリル酸エステル（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステル／メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
（ｇ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリルアミド／（メタ）アクリル酸エステル（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステル／メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、等を例示することができる。
【００２５】
アミノ基を四級アンモニウム塩に変性するための四級化剤としては、ハロゲン化アルキル（メチルクロリド等）、ハロゲン化アルケニル（アリルクロリド等）、ハロゲン化アラルキル（ベンジルクロリド等）、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のアルキル硫酸類、ｐ−トルエンスルホン酸メチル等のスルホン酸エステル類、クロロ酢酸メチル等のα−ハロ脂肪族カルボン酸誘導体、クロロアセトン等のα−ハロケトン類、クロロアセトニトリル等のα−ハロアルキルニトリル等を例示することができる。これらのうち、優れた帯電防止性を得るためには、炭素数４以下のハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルケニル、α−ハロ脂肪族カルボン酸誘導体等を四級化剤として用いるのが好ましい。また、上記（ｆ）のようなＮ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステルと、他の（メタ）アクリル酸エステル及び／又はスチレン類と、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステルと、メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体と（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物を、メチルクロリド、アリルクロリド、クロロ酢酸メチル等の四級化剤で変性した四級アンモニウム塩基含有重合体が特に好ましい。
【００２６】
四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤は、一部市販のものもあるが、帯電防止剤としての機能は一般に低い。これは、その分子量が低いために、無機酸化物粒子の表面に容易に吸着されてしまい、四級アンモニウム基の濃度が低くなってしまうためである。以下に示すように、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルコールと、ＮＣＯ基を有するシランカップリング剤とをウレタン結合で接続した後、適切な四級化剤で四級化した、分子量が４００以上のシランカップリング剤、及び／又はこの加水分解縮合物、あるいはＮ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステルと、ＳＨ基を有するシランカップリング剤のチオエーテル結合での付加物を四級化した分子量が４００以上のシランカップリング剤、又はこのようなシランカップリング剤単独の加水分解縮合物、他のシランカップリング剤との加水分解共縮合物等が好ましい。
【００２７】
このような四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤の具体例を例示すると、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノ脂肪族アルコール（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエタノール、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプロパノール等）とＮＣＯ基を含有するトリアルコキシシラン（γ−トリメトキシシリルプロピルイソシアネート等）の反応物の四級アンモニウム塩、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメタクリレート等）とメルカプト基を有するトリアルコキシシラン（γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等）との反応物の四級アンモニウム塩、これらの単独加水分解縮合物、これらと他のシランカップリング剤との共加水分解縮合物等を挙げることができる。他のシランカップリング剤としては、既に例示したアルキレンオキシド鎖を有するシランカップリング剤や、ラジカル重合可能なシランカップリング剤が特に好ましい。
【００２８】
以下に、イオン性高分子化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例ＩＰ−７〜２１における添え字（ｍ、ｐ、ｑ（ｑ１、ｑ２、ｑ３含む）、ｒ、ｘ、ｙ、ｚ）は、高分子中での各繰り返し単位のモル比を表す。
【００２９】
【化２】
【００３０】
【化３】
【００３１】
【化４】
【００３２】
【化５】
【００３３】
【化６】
【００３４】
【化７】
【００３５】
【化８】
【００３６】
【化９】
【００３７】
他の導電性高分子化合物としては、エチレンオキシド鎖を有する多価アルコール又はその誘導体を例示することができる。このような化合物の代表例をいくつか具体的に示すと、ポリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート等のポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート、多価アルコール（グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等）のアルキレンオキシド付加体、及びその（メタ）アクリル酸エステル等を挙げることができる。他の導電性高分子化合物として、ポリリン酸ナトリウム塩等のリン酸塩を挙げることができる。
【００３８】
他の導電性高分子化合物として、π共役系導電性重合体を例示することができる。π共役系導電性高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば特に制限されない。π共役系導電性高分子は、化合物安定性、高導電性という理由から、π共役系複素環式化合物又はπ共役系複素環式化合物の誘導体であることが好ましい。π共役系導電性高分子としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、ポリアズレン、芳香族共役系のポリフェニレン、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、これらの導電性ポリマーの誘導体、及び、これらの共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体からなる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。空気中での安定性の点からは、ポリピロール、ポリチオフェン及びポリアニリン又はこれらの誘導体が好ましく、ポリチオフェン、ポリアニリン、又はこれらの誘導体（すなわち、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、及びポリアニリン誘導体）がより好ましい。
【００３９】
本発明における導電性高分子化合物は、好ましくは質量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００であり、より好ましくは２，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは３，０００〜３００，０００である。該質量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー等により測定することができる。
【００４０】
前記層（Ａ）を形成する組成物に含まれる全固形分に対して、導電性高分子化合物は０．０１〜５質量％含有されることが好ましい。バインダーが本来有している強度と光学性能を損なうことなく、十分な帯電防止機能を発現するためには、層（Ａ）の厚みに応じて、導電性高分子化合物の含量を調整することが好ましい。
【００４１】
前記層（Ａ）が後述するハードコート層である場合は、該層の厚みは０．５〜５０μｍの範囲から選ばれることが好ましく、該層の全固形分に対して、導電性高分子化合物は０．０１〜３質量％であることが好ましく、０．０１〜１質量％であることが更に好ましい。
前記層（Ａ）が後述する光学干渉層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、等）である場合は、該層の厚みは０．０５〜０．２μｍの範囲から選ばれることが好ましく、該層の全固形分に対して、導電性高分子化合物は０．１〜５質量％であることが好ましく、０．１〜３質量％であることが更に好ましい。
【００４２】
［フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマー］
本発明の光学フィルムにおける層（Ａ）を形成するための組成物に含有されるフルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマー（「含フッ素ポリマー」、「フルオロ脂肪族基含有ポリマー」ともいう）について説明する。
【００４３】
含フッ素ポリマーが有する親水性基としては、主成分となるバインダーよりも極性の高い官能基や連結基を選ぶことができ、イオン性基や水酸基、（ポリ）エーテル基などが挙げられるが、該親水性基は上記導電性高分子化合物と親和性を有することが好ましく、イオン性基であることが更に好ましい。イオン性基としては、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなるアニオン性基や、４級アンモニウム塩類からなるカチオン性基から選ばれることが好ましい。
【００４４】
含フッ素ポリマーが有するフルオロ脂肪族基としては、水素原子の一部がフッ素原子に置換された直鎖状、分岐状、環状等の脂肪族基が挙げられるが、脂肪族基の水素原子／フッ素原子比は０〜０．５であることが好ましく、０〜０．３であることがより好ましい。
【００４５】
本発明におけるフルオロ脂肪族基含有ポリマーは、重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー（１）と、該モノマー（１）と共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）との共重合体であることが、ポリマーの分子量やモノマーの組成比を調整した分子設計が容易であるという理由から好ましい。
【００４６】
重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー（１）としては、分子内にアクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基等の重合性基を１つ以上有し、更に親水性基を１つ以上有すモノマーが挙げられるが、重合性基を一つ有す単官能モノマーであることが好ましい。
【００４７】
該モノマー（１）と共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）としては、下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが好適に用いられる。
【００４８】
【化１０】
【００４９】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ２）−を表し、Ｚは水素原子又はフッ素原子を表し、ｍは１〜６の整数、及びｎは２〜４の整数を表す。Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【００５０】
本発明に用いることのできる含フッ素ポリマーアニオン性基及びフルオロ脂肪族基を含有するポリマーの具体例やそれらの製造方法については、特開２００５−１７９６３６号、特開２００５−１８１９７７号、特開２００６−２５１６４２号等に詳細な記載がある。同様に、カチオン性基を有す重合性モノマーを用いることでカチオン基及びフルオロ脂肪族基を含有するポリマーも製造できる。
【００５１】
前記層（Ａ）を形成する組成物に含まれる全固形分に対して、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは０．１〜１０質量％であることが好ましい。該範囲の下限値以上であれば、フルオロ脂肪族基含有ポリマーが表面を覆う量が十分となり、該範囲の上限値以下であれば、表面に局在させることができ、層内部にはほどんど存在しなくなるため、フィルムからの泣き出しが発生しにくくなったり、導電性高分子化合物を表面側により集積させることができるため好ましい。
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの質量平均分子量は３，０００〜１００，０００であることが好ましく、６，０００〜８０，０００であることが更に好ましい。
【００５２】
フルオロ脂肪族基含有ポリマーはレベリング剤としても機能することができ、上記添加量や分子量の範囲にすることで、塗布時や乾燥時のムラやハジキを低減させる効果も有し、より均一で欠陥のない塗膜を得ることができる。
【００５３】
以下に本発明に好ましく使用できるフルオロ脂肪族基含有ポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によって何ら限定されるものではない。ここで、式中の数値は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはＧＰＣにより測定された標準ポリスチレン換算の質量平均分子量である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ等の数値は質量比を表す。下記化合物の他の具体例としては、特開２００５−１８１９７７号の［００６２］〜［００６４］記載のＰ−１〜３０、特開２００６−２５１６４２号の［００６８］〜［００７１］記載のＰ−１〜３０、等が挙げられる。
【００５４】
【化１１】
【００５５】
【化１２】
【００５６】
【化１３】
【００５７】
【化１４】
【００５８】
【化１５】
【００５９】
【化１６】
【００６０】
【化１７】
【００６１】
【化１８】
【００６２】
【化１９】
【００６３】
【化２０】
【００６４】
【化２１】
【００６５】
［バインダー］
層（Ａ）を形成するための組成物にはバインダーが含まれる。バインダーは、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性化合物の一方又は両者から選ばれることが好ましい。すなわち、バインダー形成材料として重合性化合物（モノマー又はオリゴマー）やポリマーを含む組成物塗料を支持体上に塗布し、架橋反応又は重合反応させることにより層（Ａ）を形成するのが好ましい。重合性化合物は電離放射線硬化性であることが好ましく、官能基としては、光（紫外線）、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。１分子内に２つ以上の重合性基を含有する多官能化合物であることが好ましい。
【００６６】
低屈折率バインダーとして、フッ素原子及び重合性不飽和基を分子内に有する重合性化合物を用いることができ、特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００２３〕から〔００２７〕に記載の化合物、特開２００８−１３４５８５号公報の段落番号〔００５４〕から〔００７９〕に記載の化合物、特許３８９００２２号公報の段落番号〔０００８〕から〔００１７〕に記載の化合物、特開平１１−８０３１２号公報の段落番号〔００１１〕から〔００１３〕に記載の化合物などが挙げられる。
【００６７】
フッ素原子を含まない重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。
【００６８】
更にはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【００６９】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００７０】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、特開２００９−９８６５８号公報の段落番号〔０１１９〕に記載されており、本発明においても同様である。
【００７１】
更に、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等もあげられる。
【００７２】
モノマーバインダーとしては、例えば特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
【００７３】
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
【００７４】
（ポリマーバインダー）
バインダーとしては、多官能モノマーや多官能オリゴマーだけでなく、反応性硬化樹脂を反応させてなる、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることもできる。ポリマーバインダーについては、特開２００８−２６２１８７号公報の段落番号〔０１９４〕〜〔０２００〕に記載されており、本発明においても同様である。
【００７５】
［帯電防止性の光学フィルム］
（帯電防止性の光学フィルムの製造方法）
本発明の帯電防止性の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まず層（Ａ）を形成するための塗布用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明基材フィルム上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【００７６】
塗布後、光照射あるいは加熱して、塗布組成物から形成される層を硬化する。必要に応じて、透明基材フィルム上にあらかじめその他の層（以下に述べるフィルムを構成する層、例えば、ハードコート層、防眩層、中屈折率層、高屈折率層など）を塗設しておき、その上に層を形成することができる。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。
【００７７】
（光学フィルムの層構成）
本発明の光学フィルムは、透明基材フィルム上に、層（Ａ）、及び目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けることにより作製することができる。好ましい態様としては、層（Ａ）がハードコート層である態様、該ハードコート層上に該ハードコート層よりも屈折率の小さい層を有する反射防止フィルムの態様、及び透明基材フィルム上に少なくとも１層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか１層が前記層（Ａ）である態様が挙げられる。透明基材フィルム上に少なくとも１層の光学干渉層を有する反射防止フィルムは、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムとすることができる。
反射防止フィルムは、最も単純な構成では、透明支持体上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、透明支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、透明支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、透明支持体側から高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（透明支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する透明支持体上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
【００７８】
本発明の光学フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。下記層構成において、支持体とは透明基材フィルムを表し、支持体以外のいずれかの少なくとも１層が本発明における層（Ａ）である。
・支持体／ハードコート層、
・支持体／低屈折率層、
・支持体／防眩層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／低屈折率層、
・支持体／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
【００７９】
本発明の反射防止フィルムの好ましい態様の一つは、透明支持体上に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層がこの順に透明支持体側から積層されており、該中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６５であり、該中屈折率層の厚さが５０．０ｎｍ〜７０．０ｎｍであり、該高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、該高屈折率層の厚さが９０．０ｎｍ〜１１５．０ｎｍであり、該低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、該低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍである。
【００８０】
本発明の反射防止フィルムは、上記構成の中でも、以下に示す構成（１）又は構成（２）が、特に好ましい。
構成（１）：中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６４であり、中屈折率層の厚さが５５．０ｎｍ〜６５．０ｎｍであり、高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、高屈折率層の厚さが１０５．０ｎｍ〜１１５．０ｎｍであり、低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍを有する低屈折率層である反射防止フィルム。
構成（２）：中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６５であり、中屈折率層の厚さが５５．０ｎｍ〜６５．０ｎｍであり、高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、高屈折率層の厚さが９０．０ｎｍ〜１００．０ｎｍであり、低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍである反射防止フィルム。
【００８１】
各層の屈折率と厚みを上記範囲内とすることで反射色の変動をより小さくできる。構成（１）は反射色の変動を小さく抑えつつ、反射率を特に低くすることができる構成であり、特に好ましい。また、構成（２）は反射率の変動が構成（１）よりも更に小さく抑えられる構成であり、膜厚変動に対するロバスト性に優れるため、特に好ましい。
【００８２】
そして、本発明においては、設計波長λ（＝５５０ｎｍ：視感度が最も高い波長域の代表）に対して、上記中屈折率層が下式（Ｉ）を、上記高屈折率層が下式（ＩＩ）を、上記低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足することが好ましい。
【００８３】
式（Ｉ） λ／４×０．６８＜ｎ１ｄ１＜λ／４×０．７４
式（ＩＩ） λ／２×０．６６＜ｎ２ｄ２＜λ／２×０．７２
式（ＩＩＩ） λ／４×０．８４＜ｎ３ｄ３＜λ／４×０．９２
【００８４】
（但し、式中、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３＜ｎ１＜ｎ２である）
【００８５】
上記式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）を満足する場合には、反射率が低くなり、かつ反射色の変化を抑制することができるために好ましい。また、これにより、指紋や皮脂等の油脂成分が付着した際に色味の変化が少ないために汚れが視認されにくくなるために好ましい。
【００８６】
波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、ｂ＊値がそれぞれ０≦ａ＊≦８、かつ、−１０≦ｂ＊≦０の範囲内にすること、更には上記の色味変動範囲内で、各層のうち任意の層の層厚が２．５％変動したときの色差ΔＥを下記式（５）の範囲にすることで、反射色のニュートラル性が良好で、製品ごとに反射色に差がなく、かつ、指紋や皮脂等の油脂成分が表面に付着した際に汚れが目立たなくなるため好ましい。本発明における重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、及び含フッ素多官能アクリレートを含有した低屈折率層と上記層構成とを組み合わせて用いることで、多層干渉膜構成にしてもマジックや指紋、皮脂等の油脂成分が付着しにくく、付着しても拭き取りやすくかつ目立たなくすることが可能となる。
【００８７】
式（５）：
ΔＥ＝｛（Ｌ＊−Ｌ＊’）２＋（ａ＊−ａ＊’）２＋（ｂ＊−ｂ＊’）２｝１／２≦３ （Ｌ＊’、ａ＊’、ｂ＊’は設計膜厚時の反射光の色味）
【００８８】
また、画像表示装置の表面に設置した場合、鏡面反射率の平均値を０．５％以下とすることにより、映り込みを著しく低減することができ、好ましい。
【００８９】
鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”（日本分光（株）製）にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角θ（θ＝５〜４５°、５°間隔）における出射角−θの鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。更に、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の各入射角の入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価することができる。
【００９０】
各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を３〜５μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定することができる。本明細書では、「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ 部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。 各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）や、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、ＴＥＭによる膜厚測定が望ましい。その場合は、１０箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
【００９１】
本発明の光学フィルムは、製造時の形態がフィルムをロール状に巻き取った形態をしているのが好ましい。その場合に、反射色の色味のニュートラリティーを得るためには、任意の１０００ｍ長の範囲の層厚の平均値ｄ（平均値）、最小値ｄ（最小値）、及び最大値ｄ（最大値）をパラメーターとする下記式（６）で算出される層厚分布の値が、薄膜層の各層につき、５％以下であるのが好ましく、より好ましくは４％以下、更に好ましくは３％以下、より更に好ましくは２．５％以下、２％以下が特に好ましい。
【００９２】
式（６）：（最大値ｄ−最小値ｄ）×１００／平均値ｄ
【００９３】
次に、本発明の光学フィルムにおける透明基材フィルム及び各層について詳細に説明する。
［透明基材フィルム］
本発明における透明基材フィルム（透明支持体ともいう）としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。
【００９４】
透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることが更に好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常１００ｍ〜５０００ｍ、好ましくは５００ｍ〜３０００ｍのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることが更に好ましい。
透明支持体については、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１６３］〜［０１６９］に記載されており、本発明においても同様である。
【００９５】
（ハードコート層）
本発明の光学フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
【００９６】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６０である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
【００９７】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、更に好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００９８】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。 電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。 光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。具体的には前記（重合性不飽和基を有する多官能モノマー）で挙げた化合物を好ましく用いることができる。
【００９９】
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。
【０１００】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。屈折率を制御するための無機微粒子としてはシリカ微粒子を用いる事が支持体とハードコート層の干渉による色味ムラを抑制するという観点から好ましい。
【０１０１】
（防眩層）
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１０２】
［高屈折率層及び中屈折率層］
高屈折率層の屈折率は、前記のように１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
【０１０３】
上記中屈折率層は、上記高屈折率層と屈折率を異ならせた以外は同様の材料を用いて同様に調整できるので、以下、特に高屈折率層について説明する。
上記高屈折率層は、無機微粒子、３官能以上の重合性基を有する硬化性化合物（以下、「バインダー」と称する場合もある）、溶媒及び重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性化合物や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱及び／又は電離放射線による重合反応により硬化性化合物を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。
【０１０４】
（無機微粒子）
上記無機微粒子としては、金属の酸化物を含有する無機微粒子が好ましく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ及びＳｂから選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物を含有する無機微粒子がより好ましい。また、層（Ａ）に導入する導電性高分子化合物によって発現される帯電防止性を補助するために、中屈折率層及び高屈折率層のうち少なくともいずれかが、導電性の無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。また、導電性の観点からは、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｓｎのうちの少なくとも１種類の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子を用いることが好ましい。導電性の無機微粒子としては、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から少なくとも一つ選択される金属酸化物が更に好ましい。
無機微粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整することができる。層中の無機微粒子の平均粒径は、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、１〜１２０ｎｍであることが好ましく、更に好ましくは１〜６０ｎｍ、２〜４０ｎｍが更に好ましい。この範囲内で、ヘイズを抑え、分散安定性、表面の適度の凹凸による上層との密着性が良好となり、好ましい。
【０１０５】
酸化ジルコニウムを主成分とする無機微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０であることが好ましく、２．００〜２．４０であることが更に好ましく、２．００〜２．２０であることが最も好ましい。
【０１０６】
無機微粒子の添加量は、添加する層により異なり、中屈折率層では中屈折率層全体の固形分に対し、２０〜６０質量％が好ましく、２５〜５５質量％がより好ましく、３０〜５０質量％が更に好ましい。高屈折率層では高屈折率層全体の固形分に対し、４０〜９０質量％が好ましく、５０〜８５質量％がより好ましく、６０〜８０質量％が更に好ましい。
【０１０７】
無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。 無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ２／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ２／ｇであることが更に好ましく、３０〜１５０ｍ２／ｇであることが最も好ましい。
【０１０８】
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。無機微粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、及び分散物の安定剤は特開２００６−１７８７０号公報の［００５８］〜［００８３］に記載されている。
【０１０９】
無機微粒子の分散は、分散機を用いて分散することができる。分散機の例には、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
無機微粒子は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は１０〜１２０ｎｍである。好ましくは２０〜１００ｎｍであり、更に好ましくは３０〜９０ｎｍ、特に好ましくは３０〜８０ｎｍである。 無機微粒子を２００ｎｍ以下に微細化することで透明性を損なわない高屈折率層及び中屈折率層を形成できる。
【０１１０】
（硬化性化合物）
硬化性化合物としては、重合性化合物が好ましく、重合性化合物としては電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましく用いられる。これらの化合物中の官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。 光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１１１】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、（重合性不飽和基を有する多官能モノマー）で述べた化合物を好適に用いる事ができる。
【０１１２】
高屈折率層には、前記の成分（無機微粒子、硬化性化合物、重合開始剤、光増感剤など）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子、などを添加することもできる。
【０１１３】
本発明に用いる高屈折率層及び中屈折率層は、上記のようにして分散媒体中に無機微粒子を分散した分散液に、更にマトリックス形成に必要なバインダー前駆体である硬化性化合物（例えば、前述の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、硬化性化合物の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
【０１１４】
更に、高屈折率層及び中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時又は塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。 このようにして作製した高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。更に高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機微粒子を含有する高屈折率層及び中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
【０１１５】
高屈折率層の形成において、硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応は、酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。 高屈折率層を酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性、更には、高屈折率層と高屈折率層と隣接する層との接着性を改良することができる。 好ましくは酸素濃度が６体積％以下の雰囲気で硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。
【０１１６】
上述したように、中屈折率層は、高屈折率層と同様の材料を用いかつ同様にして得ることができる。
具体的には、中屈折率層、高屈折率層が前記式（Ｉ）、式（ＩＩ）の膜厚と屈折率を満足するように微粒子の種類、樹脂の種類を選択すると共にその配合比率を決め、主な組成を決定することが一例として挙げられる。
【０１１７】
上記全ての層を形成するための塗布組成物には、低屈折率層用組成物と同様の溶剤を用いることができる。
【０１１８】
［低屈折率層］
本発明における低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．４７であることが好ましい。多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の屈折率は１．３３〜１．３８であることが望ましく、更に望ましくは１．３５〜１．３７が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
【０１１９】
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９５゜以上であることが好ましい。更に好ましくは１０２゜以上である。特に、接触角が１０５°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、水の接触角が１０２°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることがより好ましく、２３ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが特に好ましく、２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、水の接触角が１０５°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。
【０１２０】
（低屈折率層の形成）
低屈折率層は、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が０．５体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が０．１体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が０．０５体積％以下、最も好ましくは０．０２体積％以下である。
【０１２１】
酸素濃度を１体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０１２２】
本発明において、層（Ａ）がこれまでに述べた層とは別の層である場合には、層（Ａ）は各層の間に位置する層として、又は透明支持体の最も近くに位置する層との間に位置する層として、又は、フィルム表面に近い層の上層として、設けることができる。
【０１２３】
本発明において、反射防止フィルムが有するこれまでに述べた層の少なくとも１層を層（Ａ）とすることができる。特に、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、又はハードコート層の少なくともいずれかの層に導電性を付与させ層（Ａ）とすることがプロセスを簡略化できることから非常に好ましい。この場合には、層（Ａ）はその層の膜厚と屈折率が先に述べた中屈折率層、高屈折率層の条件を満たすように材料の選択をすることが好ましい。
【０１２４】
（有機溶媒）
導電性層形成用硬化性組成物に用いられる有機溶媒は、前述のように、導電性無機酸化物粒子を分散させる分散媒として用いられる。有機溶媒の配合量は、導電性無機酸化物粒子１００質量部に対し、好ましくは、２０〜４，０００質量部、更に好ましくは、１００〜１，０００質量部である。溶媒量が２０質量部未満であると、粘度が高いため均一の反応が困難であることがあり、４，０００質量部を超えると、塗布性が低下することがある。
【０１２５】
このような有機溶媒としては、例えば、常圧での沸点が２００℃以下の溶媒を挙げることができる。具体的には、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類が用いられ、これらは、１種単独で又は２種以上を組合わせて用いることができる。中でも、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類が好ましい。
【０１２６】
ここで、アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、ｎ―ブタノール、ｔｅｒｔ―ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等を挙げることができる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。エーテル類としては、例えば、ジブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を挙げることができる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等を挙げることができる。炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。アミド類としては、例えば、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ―メチルピロリドン等を挙げることができる。中でも、イソプロピルアルコール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、乳酸エチル等が好ましい。
【０１２７】
［偏光板用保護フィルム］
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１２８】
反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
【０１２９】
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、（１）予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の光学フィルムを構成する各層を塗設する手法、（２）透明支持体の一方の面に反射防止層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理する手法、（３）透明支持体の一方の面に各層の一部を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理した後に残りの層を塗設する手法、の３手法があげられるが、（１）は各層を塗設するべき面まで親水化され、透明支持体と反射防止層との密着性の確保が困難となるため、（２）の手法が特に好ましい。
【０１３０】
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が前記本発明の光学フィルムであることを特徴とする。
【０１３１】
光学フィルムの透明支持体が、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０１３２】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
【０１３３】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記反射防止フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０１３４】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０１３５】
本発明の光学フィルムの構成の中でも特に以下の反射防止フィルムの構成（３）、又は（４）とすることにより低反射率で反射色が均一でニュートラルであり、指紋や皮脂が付着した際に拭き取れやすく、かつ目立ちにくい優れた防汚性を示し、耐擦傷性にも優れるため、好ましい。
【０１３６】
構成（３）透明支持体：トリセルロースアセテートフィルム（屈折率：１．４９、膜厚８０μｍ）ハードコート層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤（屈折率１．４９、膜厚１０μｍ）中屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．６２、膜厚６０ｎｍ）高屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．７２、膜厚１１０ｎｍ）低屈折率層：重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー（フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物）、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、光重合開始剤（屈折率：１．３６、膜厚９０ｎｍ）
構成（４）透明支持体：トリセルロースアセテートフィルム（屈折率：１．４９、膜厚８０μｍ）ハードコート層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤（屈折率１．４９、膜厚１０μｍ）中屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、リン含有酸化錫微粒子又はアンチモンドープ酸化錫微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．６３５、膜厚６０ｎｍ、）高屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．７２、膜厚９５ｎｍ）低屈折率層：重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー（フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物）、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、光重合開始剤（屈折率：１．３６、膜厚９０ｎｍ）
【０１３７】
また、本発明の画像表示装置は、前記本発明の反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする。
【実施例】
【０１３８】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによっていささかも限定して解釈されるものではない。
【０１３９】
〔ハードコート層用塗布液の調製〕
（塗布液ＨＣ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−１）とした。ＨＣ−１に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー（ＣＰ−１）の含率は０．１質量％であった。導電性ポリマー及びフルオロ脂肪族基含有ポリマーの質量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ分析を行い、ポリスチレン換算して求めた。
【０１４０】
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−１）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５９質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製、固形分濃度３０質量％）
６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１、Ｍｗ＝２３，０００） １質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−１、Ｍｗ＝１５，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１４１】
【化２２】
【０１４２】
（塗布液ＨＣ−２の調製）
上記ハードコート層塗布液（ＨＣ−１）において、固形分中のカチオン系導電性ポリマー（ＣＰ−１）の含率を０．５質量％とする以外はＨＣ−１の調製と同様にして、ハードコート層塗布液（ＨＣ−２）を調製した。
（塗布液ＨＣ−３の調製）
上記ハードコート層塗布液（ＨＣ−１）において、固形分中のカチオン系導電性ポリマー（ＣＰ−１）の含率を３．０質量％とする以外はＨＣ−１の調製と同様にして、ハードコート層塗布液（ＨＣ−３）を調製した。
【０１４３】
（塗布液ＨＣ−４の調製）
ポリ（４−スチレンスルホン酸ナトリウム）水溶液に、塩酸を添加してナトリウム塩を遊離酸にし、透析により過剰な塩酸及び塩化ナトリウムを除去した。その後減圧乾燥によりポリスチレンスルホン酸を得た。これを導電性ポリマー（ＣＰ−２）とした。
【０１４４】
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−４）とした。ＨＣ−４に含まれる全固形分に対して、（ＣＰ−２）の含率は０．８質量％であった。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−４）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５２質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−２、Ｍｗ＝３９，０００） ８質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−２、Ｍｗ＝２５，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１４５】
【化２３】
【０１４６】
（塗布液ＨＣ−５の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−５）とした。ＨＣ−５に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー（ＣＰ−３）の含率は０．６質量％であった。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−５）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５４質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−３、Ｍｗ＝４１，０００） ６質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−３、Ｍｗ＝１９，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１４７】
【化２４】
【０１４８】
（塗布液ＨＣ−６の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−６）とした。ＨＣ−６に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー（ＣＰ−４）の含率は０．６質量％であった。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−６）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５４質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−４、Ｍｗ＝３１，０００） ６質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−４、Ｍｗ＝１３，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１４９】
【化２５】
【０１５０】
（塗布液ＨＣ−７の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−７）とした。ＨＣ−７に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー（ＣＰ−１）の含率は０．５質量％であった。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−７）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５４質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） ５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−５、Ｍｗ＝２９，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５１】
【化２６】
【０１５２】
（塗布液ＨＣ−８の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−８）とした。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−８）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７６０質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５３】
（塗布液ＨＣ−９の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−９）とした。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−９）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５５質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） ５質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５４】
（塗布液ＨＣ−１０の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−１０）とした。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−１０）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５２質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−２） ８質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５５】
（塗布液ＨＣ−１１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−１１）とした。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−１１）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ６１０質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） １５０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５６】
（塗布液ＨＣ−１２の調製）
上記ハードコート層塗布液（ＨＣ−５）において、フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−３）の代わりに、下記の親水性基を有さないフルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−６、Ｍｗ＝２０，０００）を用いる以外はＨＣ−５の調製と同様にして、ハードコート層塗布液（ＨＣ−１２）を調製した。
【０１５７】
【化２７】
【０１５８】
〔中屈折率層用塗布液の調製〕
（塗布液Ｍｎ−１の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液（Ｍｎ−１）を調製した。
【０１５９】
（塗布液Ｍｎ−２の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．２８質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、上記導電性ポリマー（ＣＰ−１）０．１２質量部、上記フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−１）０．１質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液（Ｍｎ−２）を調製した。
【０１６０】
〔高屈折率層用塗布液の調製〕
（塗布液Ｈｎ−１の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）１５．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．５質量部、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液（Ｈｎ−１）を調製した。
【０１６１】
（塗布液Ｈｎ−２の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）１５．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．１質量部、上記導電性ポリマー（ＣＰ−１）０．２質量部、上記フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−１）０．２質量部、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液（Ｈｎ−２）を調製した。
【０１６２】
（塗布液Ｈｎ−３の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）１５．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．４質量部、上記導電性ポリマー（ＣＰ−１）０．２質量部、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液（Ｈｎ−３）を調製した。
【０１６３】
（塗布液Ｈｎ−４の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）１４．２質量部に、上記導電性ポリマー（ＣＰ−１）１．３質量部、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液（Ｈｎ−４）を調製した。
【０１６４】
〔低屈折率層用塗布液の調製〕
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０１６５】
【化２８】
【０１６６】
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
【０１６７】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ２）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ２）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２であり、ＧＰＣ分析から求めた質量平均分子量は約５００００であった。
【０１６８】
（中空シリカ粒子分散液の調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部を加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ｓを得た。得られた分散液のＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５％以下であった。
【０１６９】
（塗布液Ｌｎ−１の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−１）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−１）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ７質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
【０１７０】
【化２９】
【０１７１】
（塗布液Ｌｎ−２の調製）
各成分を下記のように混合し、ＭＥＫに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−２）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−２）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ４．３質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） １．２質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−１） １．５質量部
【０１７２】
（塗布液Ｌｎ−３の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−３）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−３）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ４．５質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−２） １．５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−２） ２．０質量部
【０１７３】
（塗布液Ｌｎ−４の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−４）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−４）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ５．８質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） １．２質量部
【０１７４】
（塗布液Ｌｎ−５の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−５）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−５）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ５．５質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−２） １．５質量部
【０１７５】
（塗布液Ｌｎ−６の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−６）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−６）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） １質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） ６質量部
【０１７６】
〔反射防止フィルムの作製〕
上記のように調製した塗布液を用いて、下記のように各層を形成した。表１に示す通りに各層を積層して、実施例１〜１５、比較例１〜１１のハードコートフィルム及び反射防止フィルムを作製した。
【０１７７】
（ハードコート層の形成）
層厚８０μｍの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層を形成した。
【０１７８】
（中屈折率層の形成）
上記作製したハードコート層の上に、前記中屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥し、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６０ｎｍの中屈折率層を形成した。
【０１７９】
（高屈折率層の形成）
上記作製した中屈折率層の上に、前記高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥し、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１１０ｎｍの高屈折率層を形成した。
【０１８０】
（低屈折率層の形成）
上記作製したハードコート層、又は、高屈折率層の上に、前記低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥し、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ９０ｎｍの低屈折率層を形成した。
【０１８１】
（導電性化合物の表面存在比の測定）
上記各層用の導電性化合物を含む塗布液を、上記各層と同じ膜厚になるようにガラス板上に塗布して、紫外線照射して各層を形成した。ガラス板より各層を剥離して、ガラス板側表面及び反対側表面のＥＳＣＡ測定（島津製作所（株）製ＥＳＣＡ−３４００、真空度１×１０−５Ｐａ、Ｘ線源；ターゲットＭｇ、電圧１２ｋＶ、電流２０ｍＡ）を行い、最表面から深さ１０ｎｍ程度までに含まれる元素を調べた。ガラス板側のＮ／Ｃ又はＳ／Ｃをａ、反対側のＮ／Ｃ又はＳ／Ｃをｂとして、ａ／ｂを求めた。
【０１８２】
（反射防止フィルムの評価）
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８３】
（１）表面抵抗値測定
２５℃、６０％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に同条件下で表面抵抗値を円電極法で測定した。表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）で示す。
【０１８４】
（２）ゴミ付着性
反射防止フィルムの透明支持体側をＣＲＴ（ＫＶ−２５ＤＳ６５、ソニー（株）製）の表面に貼り付け、０．５μｍ以上の埃及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ３（立法フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋（２５℃、６０％ＲＨ）で２４時間使用した。反射防止フィルム１００ｃｍ２当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が５０個未満の場合を◎、５０〜１９９個の場合を○、２００〜５００個の場合を△、５００個より多い場合を×として評価した。
【０１８５】
（３）スチールウール耐傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ２、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
◎ ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない
○ ：非常に注意深く見ると、僅かに弱い傷が見える。
× ：注意深く見なくても、傷が見える。
【０１８６】
（４）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出した。平均反射率が１％より小さいものを◎、１〜３％のものを○、３％より大きいものを×とした。
【０１８７】
【表１】
【０１８８】
実施例１〜３のハードコートフィルムは、帯電防止性が高く、ゴミ付着量が少なく、更に、耐擦傷性に優れた。一方、比較例１のハードコートフィルムは、耐擦傷性は優れるが、帯電防止性が低く、ゴミ付着量が多かった。
【０１８９】
ハードコート層上に低屈折率層を形成した実施例４〜１１の反射防止フィルムは、帯電防止性が高く、ゴミ付着量が少ない。更に、耐擦傷性に優れ、反射率が低い優れた反射防止性能を示した。一方、比較例２、３、５、６、８の反射防止フィルムは、反射防止性能や耐擦傷性は優れるが、帯電防止性が低く、ゴミ付着量が多かった。比較例４、７の反射防止フィルムは、帯電防止性は優れるが、耐擦傷性が悪かった。
【０１９０】
ハードコート層上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に形成した実施例１２〜１５の反射防止フィルムは、帯電防止性が高く、ゴミ付着量が少ない。更に、耐擦傷性に優れ、反射率が極めて低く、反射色味もニュートラルであり、優れた反射防止性能を示した。一方、比較例９、１０の反射防止フィルムは、反射防止性能は優れるが、帯電防止性が低く、ゴミ付着量が多かった。比較例１１の反射防止フィルムは、帯電防止性は優れるが、耐擦傷性が悪かった。
【０１９１】
実施例５の反射防止フィルムにおいて、ＨＣ−４中のＣＰ−２の代わりにｐ−トルエンスルホン酸を用いて、比較例１２の反射防止フィルムを作製した。ｌｏｇＳＲは１３．２であり、ゴミ付着性は×であった。更に、実施例１〜１５のフィルムは、２５℃、６０％ＲＨの環境から２５℃、３０％ＲＨの環境に変更し、２時間置いた後のｌｏｇＳＲの上昇は１以内であったが、比較例１２のフィルムのｌｏｇＳＲの上昇は２．０であり、湿度依存性が大きかった。
【０１９２】
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗することにより鹸化処理した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、同様にして鹸化処理した実施例及び及び比較例の反射防止フィルムとで、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。
【０１９３】
（液晶表示装置の作製）
ＶＡ型液晶表示装置（ＬＣ−３７ＧＳ１０、シャープ（株）製）に設けられている偏光板及び及び位相差膜を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例及び比較例の反射防止フィルムを有する液晶表示装置を作製した。なお、反射防止フィルムが視認側になるように貼り付けた。
【０１９４】
上記ようにして作製された実施例の反射防止フィルム付き偏光板及び画像表示装置は、それぞれ貼り付けた反射防止フィルムと同様、実施例は比較例に比べ、優れた反射防止性、防塵性、耐擦傷性を示した。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、帯電防止性の光学フィルム、該帯電防止性の光学フィルムを用いた偏光板、及び該帯電防止性の光学フィルム又は該偏光板をディスプレイの最表面に用いた画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
反射防止フィルムは一般に、陰極管表示装置（ＣＲＴ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や液晶表示装置（ＬＣＤ）のようなディスプレイ装置において、外光の反射によるコントラスト低下や像の映り込みを防止するために、光学干渉の原理を用いて反射率を低減するようにディスプレイの最表面に配置される。
【０００３】
このような反射防止フィルムは、最表面に適切な膜厚の低屈折率層、場合により支持体との間に適宜高屈折率層、中屈折率層、ハードコート層などを形成することにより作製できる。低い反射率を実現するために低屈折率層にはできるだけ屈折率の低い材料が望まれる。また反射防止フィルムは最表面に用いられることからディスプレイ装置の保護膜としての機能が期待される。汚れや埃が付着しにくいことや、耐擦傷性が強いことが求められる。厚さ１００ｎｍ前後の薄膜において高い耐擦傷性を実現するためには、皮膜自体の強度、及び下層への密着性が必要である。
【０００４】
材料の屈折率を下げるためには、フッ素原子を導入する方法が知られており、特にフッ素含有の架橋性材料を用いる手段が提案されている（特許文献１参照）。しかしながら、屈折率を低下させるために化合物中のフッ素原子の割合を増やすと、フィルム表面がマイナスに帯電しやすくなり、埃が付着しやすいという問題がある。埃付着低減の観点から、反射防止フィルムに導電性層（帯電防止層）を設けることで反射防止フィルムの表面の電荷を漏洩させる方法が知られている。例えば、特許文献２〜４では、層中に金属酸化物からなる導電性粒子を含有させている。この方法は、低屈折率層以外に新たに層を設けることが必要であり、製造時の設備や時間の負荷が大きく、生産性に劣るという問題を有している。また、従来一般に用いられている帯電防止のための金属酸化物からなる導電性粒子は、屈折率が１．６〜２．２程度のものが多いため、これらの粒子を含有する帯電防止層の屈折率が上がってしまう。帯電防止層の屈折率が高くなると、光学フィルムにおいては、隣接層との屈折率の違いにより意図せぬ干渉ムラが生じたり、反射色の色味が強くなるなどの問題が生じる。
【０００５】
帯電防止剤として有機化合物を添加したハードコートフィルムや反射防止フィルムも提案されている。例えば特許文献５及び６には低屈折率層に有機帯電防止剤を使用する技術が開示されており、低屈折率層中において、５〜１０質量％の有機帯電防止剤の使用量で帯電防止性が得られている。しかしながら、当該量の帯電防止剤の使用量でも膜の強度は弱くなってしまい、更に低分子型の帯電防止剤を用いている場合は、帯電防止能の持続性も十分でなかった。また、帯電防止剤の濃度は、低屈折率層内で厚み方向に変化していてもよく、帯電防止成分が低屈折率層の表面で高濃度となるようにし、導電性のパス形成させることも出来ると記載されているが、具体的な実現手段に関する記載はない。したがって、十分な帯電防止性能を発現しながら、膜の硬度や耐擦傷性を維持することは困難であった。更に、帯電防止性化合物の添加量に応じて、屈折率が変化するため、帯電防止性と屈折率の両方を同時に制御することも困難であった。
特許文献７では、比較的少ない量の帯電防止剤で帯電防止性を発現させて耐擦傷性を維持したハードコートフィルムが開示されているが、屈折率は任意に制御できないため、該フィルムを反射防止フィルムの光学干渉層へ適用するには制限がある。また、特許文献８には、導電性金属酸化物被覆層を有する微粒子を低屈折率粒子として使用する技術が開示されているが、該粒子は製造工程が複雑であり、より簡易な技術が求められていた。
また、特許文献９〜１１には含フッ素ポリマーと導電性化合物を同一層内に含む光学フィルムが開示されているが、帯電防止性とその湿度依存性、及び耐擦傷性の観点でさらなる改善が求められる。
以上のように、帯電防止性、耐擦傷性、及び光学機能を同時に満たしながら、生産性の高い反射防止フィルムを製造することは困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−２８４０９号公報
【特許文献２】特開２００３−２９４９０４号公報
【特許文献３】特開平１１−９２７５０号公報
【特許文献４】特開２００５−１９６１２２号公報
【特許文献５】特開２００５−３１６４２５号公報
【特許文献６】特開２００７−１８５８２４号公報
【特許文献７】特開２００７−２１６５２５号公報
【特許文献８】特開２００７−２９３３２５号公報
【特許文献９】特開２００５−１１５３５９号公報
【特許文献１０】特開２００７−２７７３１８号公報
【特許文献１１】特開２００１−８１１３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、優れた帯電防止性を有し、更に、耐擦傷性に優れ、かつ帯電防止性の湿度依存性が少ない帯電防止性の光学フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解消すべく鋭意検討した結果、下記構成とすることにより前記課題を解決し目的を達成しうることを知見し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
１．
透明基材フィルム上に、少なくとも、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層（Ａ）を有し、該導電性高分子化合物は、該層（Ａ）内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下である帯電防止性の光学フィルム。
２．
前記導電性高分子化合物が有する親水性基、及び前記含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、前記導電性高分子化合物と前記含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有する上記１に記載の帯電防止性の光学フィルム。
３．
前記層（Ａ）内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をａ、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をｂとしたとき、ａ／ｂが０〜０．４である上記１又は２に記載の帯電防止性の光学フィルム。
４．
前記層（Ａ）を形成する組成物が、該組成物に含まれる全固形分に対して、前記導電性高分子化合物を０．０１〜５質量％含有する、上記１〜３のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
５．
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー（１）と、該モノマーと共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）との共重合体である上記１〜４のいずれかに記載の帯電防止性の光学フィルム。
６．
前記フルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）が下記一般式［１］で表される上記５に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【００１０】
【化１】
【００１１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ２）−を表し、Ｚは水素原子又はフッ素原子を表し、ｍは１〜６の整数、及びｎは２〜４の整数を表す。Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
７．
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の親水性基を有し、前記導電性高分子化合物は、カチオン性基を有する、上記１〜６のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
８．
前記導電性高分子化合物のカチオン性基は、４級アンモニウム塩であることを特徴とする上記７に記載の帯電防止性の光学フィルム。
９．
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、４級アンモニウム塩を親水性基として有し、前記導電性高分子化合物は、アニオン性基を有する、上記１〜６のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１０．
前記導電性高分子化合物のアニオン性基は、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種である上記９に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１１．
前記導電性高分子化合物は、更に、前記バインダーが有する官能基と共有結合し得る官能基を有する上記１〜１０のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１２．
前記層（Ａ）はハードコート層である、上記１〜１１のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１３．
前記ハードコート層の上に、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい層を少なくとも１層有する反射防止フィルムである、上記１２に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１４．
少なくとも１層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか１層は前記層（Ａ）である、上記１〜１１のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
１５．
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも１枚が上記１〜１４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルムである偏光板。
１６．
上記１〜１４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム又は上記１５に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する画像表示装置。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、優れた帯電防止性を有し、更に、耐擦傷性に優れ、かつ帯電防止性の湿度依存性が少ない帯電防止性の光学フィルムを提供することができる。また、低屈折率層等の反射防止層を積層することで、更に反射防止機能にも優れた光学フィルムを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明について説明する。ただし、本発明は以下の記載により制限されるものではない。なお、本明細書において、数値が物性値、特性値等を表す場合に、「（数値１）〜（数値２）」という記載は「（数値１）以上（数値２）以下」の意味を表す。また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、「アクリレート及びメタクリレートの少なくともいずれか」の意味を表す。「（メタ）アクリル酸」等も同様である。
【００１４】
本発明の帯電防止性の光学フィルムは、透明基材フィルム上に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層（Ａ）を有し、該導電性高分子化合物は、該層（Ａ）内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下であることを特徴とする。
【００１５】
本発明の帯電防止性の光学フィルムの表面抵抗率は１×１０１２Ω／□以下であるが、１×１０１１Ω／□以下であることがより好ましく、１×１０１０Ω／□以下であることが更に好ましい。
【００１６】
導電性化合物が十分な帯電防止性能を発現するためには、導電性化合物が層内に密に充填されていることが好ましく、更に、層の最表面側に局在していることが好ましい。導電性化合物を層内に密に充填させるために大量に添加すると層の強度が弱くなり、屈折率も変化するため、少量の導電性化合物を密に充填させることが好ましい。通常、導電性化合物の凝集性や局在性は、該化合物自身の性質に依存するのに加えて、同一層内に含まれるバインダーとの組み合わせ、下層との組み合わせ、等により決定されるため、任意に制御することが困難であり、素材の選択肢とその組み合わせが限られる。
本発明によれば、層（Ａ）を形成するための組成物中に、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーと含有させることで、含フッ素ポリマーの表面局在性を利用し、更に含フッ素ポリマーと導電性高分子化合物の親和性を利用することで、少量の導電性高分子化合物を層（Ａ）の透明基材フィルムとは反対の表面側に密に局在させることができる。フルオロ脂肪族基含有ポリマーは、極性の低いフルオロ脂肪族基を有するために透明基材フィルムとは反対の表面側に局在する化合物であり、表面側に局在した含フッ素ポリマー中において、フルオロ脂肪族基は透明基材フィルムとは反対の表面側（上側）を、親水性基は透明基材フィルム側（下側）を向きやすい。一般的な有機化合物をバインダーとして用いた層内や、また、その中に微粒子を分散させた層内において、該含フッ素ポリマー中の親水性基と、親水性基を有する導電性高分子化合物は親和性が高いために、導電性高分子化合物を表面側に集積させることができる。該含フッ素ポリマーの親水性基と、親水性基を有する導電性高分子化合物を設計することで、より高い親和性を得ることができ、より少量の導電性高分子化合物をより高密度に集積させることができる。該含フッ素ポリマーの親水性基は負又は正に荷電し得るイオン性基を有し、それと対をなすイオン性基を有す導電性高分子化合物を組み合わせることが好ましい。
【００１７】
本発明において、層（Ａ）の厚さが０.５μｍ以下である場合には、層（Ａ）の透明基材フィルム側とは、層（Ａ）の透明基材フィルムに近い側の最表面から層（Ａ）の厚さ全体の２０％以内に含まれる任意の領域を表し、層（Ａ）の透明基材フィルムと反対側とは、層（Ａ）の透明基材フィルムに遠い側の最表面から層（Ａ）の厚さ全体の２０％以内に含まれる任意の領域を表す。また、層（Ａ）の厚さが０.５μｍより大きい場合には、層（Ａ）の透明基材フィルム側とは、層（Ａ）の透明基材フィルムに近い側の最表面から深さ１００ｎｍ以内に含まれる任意の領域を表し、層（Ａ）の透明基材フィルムと反対側とは、層（Ａ）の透明基材フィルムに遠い側の最表面から深さ１００ｎｍ以内に含まれる任意の領域を表す。このとき、透明基材フィルム側表面及びその反対側は同一の手段により分析を行い、実質的に同一の深さ領域を分析し、下記の導電性高分子化合物の量（ａ、ｂ）を求めるものとする。
【００１８】
前記層（Ａ）内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をａ、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をｂとしたとき、ａ／ｂが０〜０．４であることが好ましく、０〜０．２であることが更に好ましい。導電性高分子化合物の量（ａ、ｂ）は、ＥＳＣＡ等を用いて膜の表裏の元素分析を行うことで求めることができる。
【００１９】
［親水性基を有する導電性高分子化合物］
導電性高分子化合物とは、媒体中に添加することで、該化合物を添加しない媒体に比べて電気抵抗値を低下し得る高分子化合物である。本発明の光学フィルムにおける層（Ａ）に用いられる導電性化合物は高分子であるため、光学フィルムを使用する環境下での安定性や持続性に優れる。
【００２０】
本発明における導電性高分子化合物は親水性基を有する。該親水性基としては、主成分となるバインダーよりも極性の高い官能基や連結基を選ぶことができるが、負又は正に荷電し得るイオン性基であることが好ましい。カチオン性基としては、４級アンモニウム塩であることが好ましく、アニオン性基としては、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種であることが好ましい。
【００２１】
導電性高分子化合物は、更に、バインダーの官能基と共有結合し得る官能基を有すると、導電性高分子化合物をバインダー中に固定化することができるため、膜の耐擦傷性を損なわず、帯電防止性能の温湿度依存性を低減でき、更に、ブリードアウトや水洗い、布拭き等による帯電防止剤の脱落を低減できるという理由から、導電性高分子化合物には重合性官能基が導入されていることが好ましい。重合性官能基としては、特に限定されないが、アクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合を有する基、エポキシ基等が挙げられ、用いるバインダーに応じて選ぶことができる。
導電性高分子化合物としてはイオン系導電性高分子やπ共役系導電性高分子が挙げられる。導電性高分子化合物は前記含フッ素ポリマーが有する親水性基と対をなして局在させるために、イオン性高分子化合物であることが好ましい。
特に、導電性高分子化合物が有する親水性基、及び含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、導電性高分子化合物と含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有することが、好ましい。導電性高分子化合物と含フッ素ポリマーの親和性を損なわないために、バインダーはイオン性基を有さないことが好ましい。
【００２２】
イオン性高分子化合物としては、特公昭４９−２３８２８号、同４９−２３８２７号、同４７−２８９３７号、特開平１０−２５１６２１号、特開２００５−１４８６８１号に見られるようなアニオン性高分子化合物；特公昭５５−７３４号、特開昭５０−５４６７２号、特公昭５９−１４７３５号、同５７−１８１７５号、同５７−１８１７６号、同５７−５６０５９号、特開２００５−１４８６８１号などに見られるような、主鎖中に解離基を持つアイオネン型ポリマー；特公昭５３−１３２２３号、同５７−１５３７６号、同５８−５６８５８号、特開昭５５−１４５７８３号、同５５−６５９５０号、同５５−６７７４６号、同６２−９３４６号、特開２００５−１４８６８１号に見られるような、側鎖中にカチオン性基を持つカチオン性ペンダント型ポリマー；等を挙げることができる。
【００２３】
カチオン性基を有する導電性高分子化合物としては、アルキルアミン類、第４級アンモニウム塩類等を高分子量化した高分子化合物等が好ましく用いられる。
アニオン性基を有する導電性高分子化合物としては、脂肪酸塩類、アルキル硫酸エステル塩類、アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸類、アルキルスルホコハク酸塩類、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩類、アルキルリン酸塩類、ポリオキシエチレンアルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルアリル硫酸エステル塩類、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物、特殊カルボン酸型高分子界面活性剤類等を高分子量化した高分子化合物等が好ましく用いられる。
【００２４】
四級アンモニウム系の導電性高分子化合物としては、四級アンモニウム塩基含有重合体、四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤又はその加水分解縮合物がある。このような四級アンモニウム塩基含有重合体の具体例を以下例示する。
（ａ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／他の（メタ）アクリル酸エステルの共重合体、の四級アンモニウム塩、
（ｂ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリルアミド／他の（メタ）アクリル酸エステルとの共重合体、の四級アンモニウム塩、
（ｃ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／他の（メタ）アクリル酸エステル（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステルの共重合体と、（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
（ｄ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／他の（メタ）アクリル酸エステル（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステル／（メタ）アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体と、（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
（ｅ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／他の（メタ）アクリル酸エステル／（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステル／（メタ）アクリロイル末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩に、更にアミノ基含有ポリジメチルシロキサンを付加したポリマー、
（ｆ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル／（メタ）アクリル酸エステル（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステル／メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、
（ｇ）Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリルアミド／（メタ）アクリル酸エステル（／スチレン類）／ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステル／メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体、と（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物、の四級アンモニウム塩、等を例示することができる。
【００２５】
アミノ基を四級アンモニウム塩に変性するための四級化剤としては、ハロゲン化アルキル（メチルクロリド等）、ハロゲン化アルケニル（アリルクロリド等）、ハロゲン化アラルキル（ベンジルクロリド等）、ジメチル硫酸、ジエチル硫酸等のアルキル硫酸類、ｐ−トルエンスルホン酸メチル等のスルホン酸エステル類、クロロ酢酸メチル等のα−ハロ脂肪族カルボン酸誘導体、クロロアセトン等のα−ハロケトン類、クロロアセトニトリル等のα−ハロアルキルニトリル等を例示することができる。これらのうち、優れた帯電防止性を得るためには、炭素数４以下のハロゲン化アルキル、ハロゲン化アルケニル、α−ハロ脂肪族カルボン酸誘導体等を四級化剤として用いるのが好ましい。また、上記（ｆ）のようなＮ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステルと、他の（メタ）アクリル酸エステル及び／又はスチレン類と、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリル酸エステルと、メルカプト末端ポリジメチルシロキサンの共重合体と（メタ）アクリロイル基含有イソシアネート化合物との付加物を、メチルクロリド、アリルクロリド、クロロ酢酸メチル等の四級化剤で変性した四級アンモニウム塩基含有重合体が特に好ましい。
【００２６】
四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤は、一部市販のものもあるが、帯電防止剤としての機能は一般に低い。これは、その分子量が低いために、無機酸化物粒子の表面に容易に吸着されてしまい、四級アンモニウム基の濃度が低くなってしまうためである。以下に示すように、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルコールと、ＮＣＯ基を有するシランカップリング剤とをウレタン結合で接続した後、適切な四級化剤で四級化した、分子量が４００以上のシランカップリング剤、及び／又はこの加水分解縮合物、あるいはＮ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステルと、ＳＨ基を有するシランカップリング剤のチオエーテル結合での付加物を四級化した分子量が４００以上のシランカップリング剤、又はこのようなシランカップリング剤単独の加水分解縮合物、他のシランカップリング剤との加水分解共縮合物等が好ましい。
【００２７】
このような四級アンモニウム塩基含有シランカップリング剤の具体例を例示すると、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノ脂肪族アルコール（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノエタノール、Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノプロパノール等）とＮＣＯ基を含有するトリアルコキシシラン（γ−トリメトキシシリルプロピルイソシアネート等）の反応物の四級アンモニウム塩、Ｎ、Ｎ−ジアルキルアミノアルキル（メタ）アクリル酸エステル（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノメタクリレート等）とメルカプト基を有するトリアルコキシシラン（γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン等）との反応物の四級アンモニウム塩、これらの単独加水分解縮合物、これらと他のシランカップリング剤との共加水分解縮合物等を挙げることができる。他のシランカップリング剤としては、既に例示したアルキレンオキシド鎖を有するシランカップリング剤や、ラジカル重合可能なシランカップリング剤が特に好ましい。
【００２８】
以下に、イオン性高分子化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例ＩＰ−７〜２１における添え字（ｍ、ｐ、ｑ（ｑ１、ｑ２、ｑ３含む）、ｒ、ｘ、ｙ、ｚ）は、高分子中での各繰り返し単位のモル比を表す。
【００２９】
【化２】
【００３０】
【化３】
【００３１】
【化４】
【００３２】
【化５】
【００３３】
【化６】
【００３４】
【化７】
【００３５】
【化８】
【００３６】
【化９】
【００３７】
他の導電性高分子化合物としては、エチレンオキシド鎖を有する多価アルコール又はその誘導体を例示することができる。このような化合物の代表例をいくつか具体的に示すと、ポリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート等のポリアルキレングリコールモノ（メタ）アクリレート、多価アルコール（グリセリン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール等）のアルキレンオキシド付加体、及びその（メタ）アクリル酸エステル等を挙げることができる。他の導電性高分子化合物として、ポリリン酸ナトリウム塩等のリン酸塩を挙げることができる。
【００３８】
他の導電性高分子化合物として、π共役系導電性重合体を例示することができる。π共役系導電性高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であれば特に制限されない。π共役系導電性高分子は、化合物安定性、高導電性という理由から、π共役系複素環式化合物又はπ共役系複素環式化合物の誘導体であることが好ましい。π共役系導電性高分子としては、脂肪族共役系のポリアセチレン、ポリアセン、ポリアズレン、芳香族共役系のポリフェニレン、複素環式共役系のポリピロール、ポリチオフェン、ポリイソチアナフテン、含ヘテロ原子共役系のポリアニリン、ポリチエニレンビニレン、混合型共役系のポリ（フェニレンビニレン）、分子中に複数の共役鎖を持つ共役系である複鎖型共役系、これらの導電性ポリマーの誘導体、及び、これらの共役高分子鎖を飽和高分子にグラフト又はブロック共重した高分子である導電性複合体からなる群より選択される少なくとも一種を挙げることができる。空気中での安定性の点からは、ポリピロール、ポリチオフェン及びポリアニリン又はこれらの誘導体が好ましく、ポリチオフェン、ポリアニリン、又はこれらの誘導体（すなわち、ポリチオフェン、ポリアニリン、ポリチオフェン誘導体、及びポリアニリン誘導体）がより好ましい。
【００３９】
本発明における導電性高分子化合物は、好ましくは質量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００であり、より好ましくは２，０００〜５００，０００であり、更に好ましくは３，０００〜３００，０００である。該質量平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフィー等により測定することができる。
【００４０】
前記層（Ａ）を形成する組成物に含まれる全固形分に対して、導電性高分子化合物は０．０１〜５質量％含有されることが好ましい。バインダーが本来有している強度と光学性能を損なうことなく、十分な帯電防止機能を発現するためには、層（Ａ）の厚みに応じて、導電性高分子化合物の含量を調整することが好ましい。
【００４１】
前記層（Ａ）が後述するハードコート層である場合は、該層の厚みは０．５〜５０μｍの範囲から選ばれることが好ましく、該層の全固形分に対して、導電性高分子化合物は０．０１〜３質量％であることが好ましく、０．０１〜１質量％であることが更に好ましい。
前記層（Ａ）が後述する光学干渉層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、等）である場合は、該層の厚みは０．０５〜０．２μｍの範囲から選ばれることが好ましく、該層の全固形分に対して、導電性高分子化合物は０．１〜５質量％であることが好ましく、０．１〜３質量％であることが更に好ましい。
【００４２】
［フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマー］
本発明の光学フィルムにおける層（Ａ）を形成するための組成物に含有されるフルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマー（「含フッ素ポリマー」、「フルオロ脂肪族基含有ポリマー」ともいう）について説明する。
【００４３】
含フッ素ポリマーが有する親水性基としては、主成分となるバインダーよりも極性の高い官能基や連結基を選ぶことができ、イオン性基や水酸基、（ポリ）エーテル基などが挙げられるが、該親水性基は上記導電性高分子化合物と親和性を有することが好ましく、イオン性基であることが更に好ましい。イオン性基としては、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなるアニオン性基や、４級アンモニウム塩類からなるカチオン性基から選ばれることが好ましい。
【００４４】
含フッ素ポリマーが有するフルオロ脂肪族基としては、水素原子の一部がフッ素原子に置換された直鎖状、分岐状、環状等の脂肪族基が挙げられるが、脂肪族基の水素原子／フッ素原子比は０〜０．５であることが好ましく、０〜０．３であることがより好ましい。
【００４５】
本発明におけるフルオロ脂肪族基含有ポリマーは、重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー（１）と、該モノマー（１）と共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）との共重合体であることが、ポリマーの分子量やモノマーの組成比を調整した分子設計が容易であるという理由から好ましい。
【００４６】
重合可能な官能基及び親水性基を含有するモノマー（１）としては、分子内にアクリル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基等の重合性基を１つ以上有し、更に親水性基を１つ以上有すモノマーが挙げられるが、重合性基を一つ有す単官能モノマーであることが好ましい。
【００４７】
該モノマー（１）と共重合可能な官能基及びフルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）としては、下記一般式［１］で表されるフルオロ脂肪族基含有モノマーが好適に用いられる。
【００４８】
【化１０】
【００４９】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ２）−を表し、Ｚは水素原子又はフッ素原子を表し、ｍは１〜６の整数、及びｎは２〜４の整数を表す。Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【００５０】
本発明に用いることのできる含フッ素ポリマーアニオン性基及びフルオロ脂肪族基を含有するポリマーの具体例やそれらの製造方法については、特開２００５−１７９６３６号、特開２００５−１８１９７７号、特開２００６−２５１６４２号等に詳細な記載がある。同様に、カチオン性基を有す重合性モノマーを用いることでカチオン基及びフルオロ脂肪族基を含有するポリマーも製造できる。
【００５１】
前記層（Ａ）を形成する組成物に含まれる全固形分に対して、前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーは０．１〜１０質量％であることが好ましい。該範囲の下限値以上であれば、フルオロ脂肪族基含有ポリマーが表面を覆う量が十分となり、該範囲の上限値以下であれば、表面に局在させることができ、層内部にはほどんど存在しなくなるため、フィルムからの泣き出しが発生しにくくなったり、導電性高分子化合物を表面側により集積させることができるため好ましい。
前記フルオロ脂肪族基含有ポリマーの質量平均分子量は３，０００〜１００，０００であることが好ましく、６，０００〜８０，０００であることが更に好ましい。
【００５２】
フルオロ脂肪族基含有ポリマーはレベリング剤としても機能することができ、上記添加量や分子量の範囲にすることで、塗布時や乾燥時のムラやハジキを低減させる効果も有し、より均一で欠陥のない塗膜を得ることができる。
【００５３】
以下に本発明に好ましく使用できるフルオロ脂肪族基含有ポリマーの具体例を示すが、本発明はこれらの具体例によって何ら限定されるものではない。ここで、式中の数値は、それぞれ各モノマーの組成比を示す質量百分率であり、ＭｗはＧＰＣにより測定された標準ポリスチレン換算の質量平均分子量である。ａ、ｂ、ｃ、ｄ等の数値は質量比を表す。下記化合物の他の具体例としては、特開２００５−１８１９７７号の［００６２］〜［００６４］記載のＰ−１〜３０、特開２００６−２５１６４２号の［００６８］〜［００７１］記載のＰ−１〜３０、等が挙げられる。
【００５４】
【化１１】
【００５５】
【化１２】
【００５６】
【化１３】
【００５７】
【化１４】
【００５８】
【化１５】
【００５９】
【化１６】
【００６０】
【化１７】
【００６１】
【化１８】
【００６２】
【化１９】
【００６３】
【化２０】
【００６４】
【化２１】
【００６５】
［バインダー］
層（Ａ）を形成するための組成物にはバインダーが含まれる。バインダーは、熱硬化性樹脂又は電離放射線硬化性化合物の一方又は両者から選ばれることが好ましい。すなわち、バインダー形成材料として重合性化合物（モノマー又はオリゴマー）やポリマーを含む組成物塗料を支持体上に塗布し、架橋反応又は重合反応させることにより層（Ａ）を形成するのが好ましい。重合性化合物は電離放射線硬化性であることが好ましく、官能基としては、光（紫外線）、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。１分子内に２つ以上の重合性基を含有する多官能化合物であることが好ましい。
【００６６】
低屈折率バインダーとして、フッ素原子及び重合性不飽和基を分子内に有する重合性化合物を用いることができ、特開２００６−２８４０９号公報の段落番号〔００２３〕から〔００２７〕に記載の化合物、特開２００８−１３４５８５号公報の段落番号〔００５４〕から〔００７９〕に記載の化合物、特許３８９００２２号公報の段落番号〔０００８〕から〔００１７〕に記載の化合物、特開平１１−８０３１２号公報の段落番号〔００１１〕から〔００１３〕に記載の化合物などが挙げられる。
【００６７】
フッ素原子を含まない重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、ネオペンチルグリコールアクリレート、１，６−ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等のポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート等の多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類；
２，２−ビス｛４−（アクリロキシ・ジエトキシ）フェニル｝プロパン、２−２−ビス｛４−（アクリロキシ・ポリプロポキシ）フェニル｝プロパン等のエチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類；
等を挙げることができる。
【００６８】
更にはエポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類も、光重合性多官能モノマーとして、好ましく用いられる。
【００６９】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。更に好ましくは、１分子中に３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する多官能モノマーが好ましい。例えば、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００７０】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類の具体化合物としては、特開２００９−９８６５８号公報の段落番号〔０１１９〕に記載されており、本発明においても同様である。
【００７１】
更に、３個以上の（メタ）アクリロイル基を有する樹脂、例えば比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物などのオリゴマー又はプレポリマー等もあげられる。
【００７２】
モノマーバインダーとしては、例えば特開２００５−７６００５号、同２００５−３６１０５号に記載されたデンドリマーや、例えば特開２００５−６０４２５号記載のようなノルボルネン環含有モノマーを用いることもできる。
【００７３】
多官能モノマーは、二種類以上を併用してもよい。これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射又は加熱により行うことができる。
【００７４】
（ポリマーバインダー）
バインダーとしては、多官能モノマーや多官能オリゴマーだけでなく、反応性硬化樹脂を反応させてなる、架橋しているポリマーをバインダーとして用いることもできる。ポリマーバインダーについては、特開２００８−２６２１８７号公報の段落番号〔０１９４〕〜〔０２００〕に記載されており、本発明においても同様である。
【００７５】
［帯電防止性の光学フィルム］
（帯電防止性の光学フィルムの製造方法）
本発明の帯電防止性の光学フィルムは以下の方法で形成することができるが、この方法に制限されない。まず層（Ａ）を形成するための塗布用組成物が調製される。次に、該組成物をディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等により透明基材フィルム上に塗布し、加熱・乾燥する。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許第２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【００７６】
塗布後、光照射あるいは加熱して、塗布組成物から形成される層を硬化する。必要に応じて、透明基材フィルム上にあらかじめその他の層（以下に述べるフィルムを構成する層、例えば、ハードコート層、防眩層、中屈折率層、高屈折率層など）を塗設しておき、その上に層を形成することができる。このようにして本発明の光学フィルムが得られる。
【００７７】
（光学フィルムの層構成）
本発明の光学フィルムは、透明基材フィルム上に、層（Ａ）、及び目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けることにより作製することができる。好ましい態様としては、層（Ａ）がハードコート層である態様、該ハードコート層上に該ハードコート層よりも屈折率の小さい層を有する反射防止フィルムの態様、及び透明基材フィルム上に少なくとも１層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか１層が前記層（Ａ）である態様が挙げられる。透明基材フィルム上に少なくとも１層の光学干渉層を有する反射防止フィルムは、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して積層された反射防止フィルムとすることができる。
反射防止フィルムは、最も単純な構成では、透明支持体上に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、反射防止層を、透明支持体よりも屈折率の高い高屈折率層と、透明支持体よりも屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて構成することが好ましい。構成例としては、透明支持体側から高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（透明支持体よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層を有する透明支持体上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
【００７８】
本発明の光学フィルムのより具体的な層構成の例を下記に示す。下記層構成において、支持体とは透明基材フィルムを表し、支持体以外のいずれかの少なくとも１層が本発明における層（Ａ）である。
・支持体／ハードコート層、
・支持体／低屈折率層、
・支持体／防眩層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／低屈折率層、
・支持体／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・支持体／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
【００７９】
本発明の反射防止フィルムの好ましい態様の一つは、透明支持体上に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層がこの順に透明支持体側から積層されており、該中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６５であり、該中屈折率層の厚さが５０．０ｎｍ〜７０．０ｎｍであり、該高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、該高屈折率層の厚さが９０．０ｎｍ〜１１５．０ｎｍであり、該低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、該低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍである。
【００８０】
本発明の反射防止フィルムは、上記構成の中でも、以下に示す構成（１）又は構成（２）が、特に好ましい。
構成（１）：中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６４であり、中屈折率層の厚さが５５．０ｎｍ〜６５．０ｎｍであり、高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、高屈折率層の厚さが１０５．０ｎｍ〜１１５．０ｎｍであり、低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍを有する低屈折率層である反射防止フィルム。
構成（２）：中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６５であり、中屈折率層の厚さが５５．０ｎｍ〜６５．０ｎｍであり、高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、高屈折率層の厚さが９０．０ｎｍ〜１００．０ｎｍであり、低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍである反射防止フィルム。
【００８１】
各層の屈折率と厚みを上記範囲内とすることで反射色の変動をより小さくできる。構成（１）は反射色の変動を小さく抑えつつ、反射率を特に低くすることができる構成であり、特に好ましい。また、構成（２）は反射率の変動が構成（１）よりも更に小さく抑えられる構成であり、膜厚変動に対するロバスト性に優れるため、特に好ましい。
【００８２】
そして、本発明においては、設計波長λ（＝５５０ｎｍ：視感度が最も高い波長域の代表）に対して、上記中屈折率層が下式（Ｉ）を、上記高屈折率層が下式（ＩＩ）を、上記低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足することが好ましい。
【００８３】
式（Ｉ） λ／４×０．６８＜ｎ１ｄ１＜λ／４×０．７４
式（ＩＩ） λ／２×０．６６＜ｎ２ｄ２＜λ／２×０．７２
式（ＩＩＩ） λ／４×０．８４＜ｎ３ｄ３＜λ／４×０．９２
【００８４】
（但し、式中、ｎ１は中屈折率層の屈折率であり、ｄ１は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ２は高屈折率層の屈折率であり、ｄ２は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３は低屈折率層の屈折率であり、ｄ３は低屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ３＜ｎ１＜ｎ２である）
【００８５】
上記式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）を満足する場合には、反射率が低くなり、かつ反射色の変化を抑制することができるために好ましい。また、これにより、指紋や皮脂等の油脂成分が付着した際に色味の変化が少ないために汚れが視認されにくくなるために好ましい。
【００８６】
波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、ｂ＊値がそれぞれ０≦ａ＊≦８、かつ、−１０≦ｂ＊≦０の範囲内にすること、更には上記の色味変動範囲内で、各層のうち任意の層の層厚が２．５％変動したときの色差ΔＥを下記式（５）の範囲にすることで、反射色のニュートラル性が良好で、製品ごとに反射色に差がなく、かつ、指紋や皮脂等の油脂成分が表面に付着した際に汚れが目立たなくなるため好ましい。本発明における重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、及び含フッ素多官能アクリレートを含有した低屈折率層と上記層構成とを組み合わせて用いることで、多層干渉膜構成にしてもマジックや指紋、皮脂等の油脂成分が付着しにくく、付着しても拭き取りやすくかつ目立たなくすることが可能となる。
【００８７】
式（５）：
ΔＥ＝｛（Ｌ＊−Ｌ＊’）２＋（ａ＊−ａ＊’）２＋（ｂ＊−ｂ＊’）２｝１／２≦３ （Ｌ＊’、ａ＊’、ｂ＊’は設計膜厚時の反射光の色味）
【００８８】
また、画像表示装置の表面に設置した場合、鏡面反射率の平均値を０．５％以下とすることにより、映り込みを著しく低減することができ、好ましい。
【００８９】
鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計“Ｖ−５５０”（日本分光（株）製）にアダプター“ＡＲＶ−４７４”を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角θ（θ＝５〜４５°、５°間隔）における出射角−θの鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。更に、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の各入射角の入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価することができる。
【００９０】
各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を３〜５μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定することができる。本明細書では、「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルター５４６（ｅ）ｎｍ 部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルターを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。 各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計“ＦＥ−３０００”（大塚電子（株）製）や、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、ＴＥＭによる膜厚測定が望ましい。その場合は、１０箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
【００９１】
本発明の光学フィルムは、製造時の形態がフィルムをロール状に巻き取った形態をしているのが好ましい。その場合に、反射色の色味のニュートラリティーを得るためには、任意の１０００ｍ長の範囲の層厚の平均値ｄ（平均値）、最小値ｄ（最小値）、及び最大値ｄ（最大値）をパラメーターとする下記式（６）で算出される層厚分布の値が、薄膜層の各層につき、５％以下であるのが好ましく、より好ましくは４％以下、更に好ましくは３％以下、より更に好ましくは２．５％以下、２％以下が特に好ましい。
【００９２】
式（６）：（最大値ｄ−最小値ｄ）×１００／平均値ｄ
【００９３】
次に、本発明の光学フィルムにおける透明基材フィルム及び各層について詳細に説明する。
［透明基材フィルム］
本発明における透明基材フィルム（透明支持体ともいう）としては、透明樹脂フィルム、透明樹脂板、透明樹脂シートなど、特に限定は無い。透明樹脂フィルムとしては、セルロースアシレートフィルム（例えば、セルローストリアセテートフィルム（屈折率１．４８）、セルロースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム）、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリアクリル系樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエステルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）アクリルニトリルフィルムポリオレフィン、脂環式構造を有するポリマー（ノルボルネン系樹脂（アートン：商品名、ＪＳＲ社製、非晶質ポリオレフィン（ゼオネックス：商品名、日本ゼオン社製））、などが挙げられる。このうちトリアセチルセルロース、ポリエチレンテレフタレート、脂環式構造を有するポリマーが好ましく、特にトリアセチルセルロースが好ましい。
透明支持体の厚さは通常２５μｍ〜１０００μｍ程度のものを用いることができるが、好ましくは２５μｍ〜２５０μｍであり、３０μｍ〜９０μｍであることがより好ましい。
【００９４】
透明支持体の幅は任意のものを使うことができるが、ハンドリング、得率、生産性の点から通常は１００〜５０００ｍｍのものが用いられ、８００〜３０００ｍｍであることが好ましく、１０００〜２０００ｍｍであることが更に好ましい。透明支持体はロール形態の長尺で取り扱うことができ、通常１００ｍ〜５０００ｍ、好ましくは５００ｍ〜３０００ｍのものである。
透明支持体の表面は平滑であることが好ましく、平均粗さＲａの値が１μｍ以下であることが好ましく、０．０００１〜０．５μｍであることが好ましく、０．００１〜０．１μｍであることが更に好ましい。
透明支持体については、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１６３］〜［０１６９］に記載されており、本発明においても同様である。
【００９５】
（ハードコート層）
本発明の光学フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
【００９６】
本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６０である。本発明では、ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層あるので、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
【００９７】
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、更に好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【００９８】
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。 電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。 光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。具体的には前記（重合性不飽和基を有する多官能モノマー）で挙げた化合物を好ましく用いることができる。
【００９９】
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。
【０１００】
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。屈折率を制御するための無機微粒子としてはシリカ微粒子を用いる事が支持体とハードコート層の干渉による色味ムラを抑制するという観点から好ましい。
【０１０１】
（防眩層）
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１０２】
［高屈折率層及び中屈折率層］
高屈折率層の屈折率は、前記のように１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
【０１０３】
上記中屈折率層は、上記高屈折率層と屈折率を異ならせた以外は同様の材料を用いて同様に調整できるので、以下、特に高屈折率層について説明する。
上記高屈折率層は、無機微粒子、３官能以上の重合性基を有する硬化性化合物（以下、「バインダー」と称する場合もある）、溶媒及び重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性化合物や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱及び／又は電離放射線による重合反応により硬化性化合物を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。
【０１０４】
（無機微粒子）
上記無機微粒子としては、金属の酸化物を含有する無機微粒子が好ましく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ及びＳｂから選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物を含有する無機微粒子がより好ましい。また、層（Ａ）に導入する導電性高分子化合物によって発現される帯電防止性を補助するために、中屈折率層及び高屈折率層のうち少なくともいずれかが、導電性の無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。また、導電性の観点からは、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｓｎのうちの少なくとも１種類の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子を用いることが好ましい。導電性の無機微粒子としては、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から少なくとも一つ選択される金属酸化物が更に好ましい。
無機微粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整することができる。層中の無機微粒子の平均粒径は、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、１〜１２０ｎｍであることが好ましく、更に好ましくは１〜６０ｎｍ、２〜４０ｎｍが更に好ましい。この範囲内で、ヘイズを抑え、分散安定性、表面の適度の凹凸による上層との密着性が良好となり、好ましい。
【０１０５】
酸化ジルコニウムを主成分とする無機微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０であることが好ましく、２．００〜２．４０であることが更に好ましく、２．００〜２．２０であることが最も好ましい。
【０１０６】
無機微粒子の添加量は、添加する層により異なり、中屈折率層では中屈折率層全体の固形分に対し、２０〜６０質量％が好ましく、２５〜５５質量％がより好ましく、３０〜５０質量％が更に好ましい。高屈折率層では高屈折率層全体の固形分に対し、４０〜９０質量％が好ましく、５０〜８５質量％がより好ましく、６０〜８０質量％が更に好ましい。
【０１０７】
無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。 無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ２／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ２／ｇであることが更に好ましく、３０〜１５０ｍ２／ｇであることが最も好ましい。
【０１０８】
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。無機微粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、及び分散物の安定剤は特開２００６−１７８７０号公報の［００５８］〜［００８３］に記載されている。
【０１０９】
無機微粒子の分散は、分散機を用いて分散することができる。分散機の例には、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
無機微粒子は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は１０〜１２０ｎｍである。好ましくは２０〜１００ｎｍであり、更に好ましくは３０〜９０ｎｍ、特に好ましくは３０〜８０ｎｍである。 無機微粒子を２００ｎｍ以下に微細化することで透明性を損なわない高屈折率層及び中屈折率層を形成できる。
【０１１０】
（硬化性化合物）
硬化性化合物としては、重合性化合物が好ましく、重合性化合物としては電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましく用いられる。これらの化合物中の官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。 光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【０１１１】
光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、（重合性不飽和基を有する多官能モノマー）で述べた化合物を好適に用いる事ができる。
【０１１２】
高屈折率層には、前記の成分（無機微粒子、硬化性化合物、重合開始剤、光増感剤など）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子、などを添加することもできる。
【０１１３】
本発明に用いる高屈折率層及び中屈折率層は、上記のようにして分散媒体中に無機微粒子を分散した分散液に、更にマトリックス形成に必要なバインダー前駆体である硬化性化合物（例えば、前述の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、硬化性化合物の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
【０１１４】
更に、高屈折率層及び中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時又は塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。 このようにして作製した高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。更に高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機微粒子を含有する高屈折率層及び中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
【０１１５】
高屈折率層の形成において、硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応は、酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。 高屈折率層を酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性、更には、高屈折率層と高屈折率層と隣接する層との接着性を改良することができる。 好ましくは酸素濃度が６体積％以下の雰囲気で硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。
【０１１６】
上述したように、中屈折率層は、高屈折率層と同様の材料を用いかつ同様にして得ることができる。
具体的には、中屈折率層、高屈折率層が前記式（Ｉ）、式（ＩＩ）の膜厚と屈折率を満足するように微粒子の種類、樹脂の種類を選択すると共にその配合比率を決め、主な組成を決定することが一例として挙げられる。
【０１１７】
上記全ての層を形成するための塗布組成物には、低屈折率層用組成物と同様の溶剤を用いることができる。
【０１１８】
［低屈折率層］
本発明における低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．４７であることが好ましい。多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の屈折率は１．３３〜１．３８であることが望ましく、更に望ましくは１．３５〜１．３７が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
【０１１９】
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９５゜以上であることが好ましい。更に好ましくは１０２゜以上である。特に、接触角が１０５°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、水の接触角が１０２°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることがより好ましく、２３ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが特に好ましく、２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、水の接触角が１０５°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。
【０１２０】
（低屈折率層の形成）
低屈折率層は、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた最外層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が０．５体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が０．１体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が０．０５体積％以下、最も好ましくは０．０２体積％以下である。
【０１２１】
酸素濃度を１体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
【０１２２】
本発明において、層（Ａ）がこれまでに述べた層とは別の層である場合には、層（Ａ）は各層の間に位置する層として、又は透明支持体の最も近くに位置する層との間に位置する層として、又は、フィルム表面に近い層の上層として、設けることができる。
【０１２３】
本発明において、反射防止フィルムが有するこれまでに述べた層の少なくとも１層を層（Ａ）とすることができる。特に、低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層、又はハードコート層の少なくともいずれかの層に導電性を付与させ層（Ａ）とすることがプロセスを簡略化できることから非常に好ましい。この場合には、層（Ａ）はその層の膜厚と屈折率が先に述べた中屈折率層、高屈折率層の条件を満たすように材料の選択をすることが好ましい。
【０１２４】
（有機溶媒）
導電性層形成用硬化性組成物に用いられる有機溶媒は、前述のように、導電性無機酸化物粒子を分散させる分散媒として用いられる。有機溶媒の配合量は、導電性無機酸化物粒子１００質量部に対し、好ましくは、２０〜４，０００質量部、更に好ましくは、１００〜１，０００質量部である。溶媒量が２０質量部未満であると、粘度が高いため均一の反応が困難であることがあり、４，０００質量部を超えると、塗布性が低下することがある。
【０１２５】
このような有機溶媒としては、例えば、常圧での沸点が２００℃以下の溶媒を挙げることができる。具体的には、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類、炭化水素類、アミド類が用いられ、これらは、１種単独で又は２種以上を組合わせて用いることができる。中でも、アルコール類、ケトン類、エーテル類、エステル類が好ましい。
【０１２６】
ここで、アルコール類としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、イソブタノール、ｎ―ブタノール、ｔｅｒｔ―ブタノール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ベンジルアルコール、フェネチルアルコール等を挙げることができる。ケトン類としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等を挙げることができる。エーテル類としては、例えば、ジブチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等を挙げることができる。エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル等を挙げることができる。炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレン等を挙げることができる。アミド類としては、例えば、ホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ―メチルピロリドン等を挙げることができる。中でも、イソプロピルアルコール、エトキシエタノール、ブトキシエタノール、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、酢酸ブチル、乳酸エチル等が好ましい。
【０１２７】
［偏光板用保護フィルム］
光学フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、薄膜層を有する側とは反対側の透明支持体の表面、すなわち偏光膜と貼り合わせる側の表面を親水化することで、ポリビニルアルコールを主成分とする偏光膜との接着性を改良することができる。
偏光子の２枚の保護フィルムのうち、光学フィルム以外のフィルムが、光学異方層を含んでなる光学補償層を有する光学補償フィルムであることも好ましい。光学補償フィルム（位相差フィルム）は、液晶表示画面の視野角特性を改良することができる。
光学補償フィルムとしては、公知のものを用いることができるが、視野角を広げるという点では、特開２００１−１０００４２号公報に記載されている光学補償フィルムが好ましい。
【０１２８】
反射防止フィルムを偏光膜の表面保護フィルム（偏光板用保護フィルム）として用いる場合、透明支持体としては、トリアセチルセルロースフィルムを用いることが特に好ましい。
【０１２９】
本発明における偏光板用保護フィルムを作製する手法としては、（１）予め鹸化処理した透明支持体の一方の面に上記の光学フィルムを構成する各層を塗設する手法、（２）透明支持体の一方の面に反射防止層を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理する手法、（３）透明支持体の一方の面に各層の一部を塗設した後、偏光膜と貼り合わせる側又は両面を鹸化処理した後に残りの層を塗設する手法、の３手法があげられるが、（１）は各層を塗設するべき面まで親水化され、透明支持体と反射防止層との密着性の確保が困難となるため、（２）の手法が特に好ましい。
【０１３０】
［偏光板］
次に、本発明の偏光板について説明する。本発明の偏光板は、偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも一方が前記本発明の光学フィルムであることを特徴とする。
【０１３１】
光学フィルムの透明支持体が、必要に応じてポリビニルアルコールからなる接着剤層等を介して偏光膜に接着しており、偏光膜のもう一方の側にも保護フィルムを有する構成が好ましい。もう一方の保護フィルムの偏光膜と反対側の面には粘着剤層を有していても良い。
【０１３２】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムとして用いることにより、物理強度、耐光性に優れた反射防止機能を有する偏光板が作製でき、大幅なコスト削減、表示装置の薄手化が可能となる。
【０１３３】
また、本発明の偏光板は、光学補償機能を有することもできる。その場合、２枚の表面保護フィルムの表面及び裏面のいずれかの一面側のみを上記反射防止フィルムを用いて形成されており、該偏光板の光学フィルムを有する側とは他面側の表面保護フィルムが光学補償フィルムであることが好ましい。
【０１３４】
本発明の光学フィルムを偏光板用保護フィルムの一方に、光学異方性のある光学補償フィルムを偏光膜の保護フィルムのもう一方に用いた偏光板を作製することにより、更に、液晶表示装置の明室でのコントラスト、上下左右の視野角を改善することができる。
【０１３５】
本発明の光学フィルムの構成の中でも特に以下の反射防止フィルムの構成（３）、又は（４）とすることにより低反射率で反射色が均一でニュートラルであり、指紋や皮脂が付着した際に拭き取れやすく、かつ目立ちにくい優れた防汚性を示し、耐擦傷性にも優れるため、好ましい。
【０１３６】
構成（３）透明支持体：トリセルロースアセテートフィルム（屈折率：１．４９、膜厚８０μｍ）ハードコート層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤（屈折率１．４９、膜厚１０μｍ）中屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．６２、膜厚６０ｎｍ）高屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．７２、膜厚１１０ｎｍ）低屈折率層：重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー（フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物）、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、光重合開始剤（屈折率：１．３６、膜厚９０ｎｍ）
構成（４）透明支持体：トリセルロースアセテートフィルム（屈折率：１．４９、膜厚８０μｍ）ハードコート層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、シリカゾル、光重合開始剤（屈折率１．４９、膜厚１０μｍ）中屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、リン含有酸化錫微粒子又はアンチモンドープ酸化錫微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．６３５、膜厚６０ｎｍ、）高屈折率層：重合性不飽和基を有する多官能モノマー、酸化ジルコニウム微粒子、光重合開始剤（屈折率：１．７２、膜厚９５ｎｍ）低屈折率層：重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、中空シリカ微粒子、重合性不飽和基を有する多官能モノマー（フッ素を含有する化合物及びフッ素を含有しない化合物）、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、光重合開始剤（屈折率：１．３６、膜厚９０ｎｍ）
【０１３７】
また、本発明の画像表示装置は、前記本発明の反射防止フィルム又は偏光板をディスプレイの最表面に有することを特徴とする。
【実施例】
【０１３８】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明の範囲はこれによっていささかも限定して解釈されるものではない。
【０１３９】
〔ハードコート層用塗布液の調製〕
（塗布液ＨＣ−１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−１）とした。ＨＣ−１に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー（ＣＰ−１）の含率は０．１質量％であった。導電性ポリマー及びフルオロ脂肪族基含有ポリマーの質量平均分子量（Ｍｗ）は、ＧＰＣ分析を行い、ポリスチレン換算して求めた。
【０１４０】
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−１）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５９質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製、固形分濃度３０質量％）
６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１、Ｍｗ＝２３，０００） １質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−１、Ｍｗ＝１５，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１４１】
【化２２】
【０１４２】
（塗布液ＨＣ−２の調製）
上記ハードコート層塗布液（ＨＣ−１）において、固形分中のカチオン系導電性ポリマー（ＣＰ−１）の含率を０．５質量％とする以外はＨＣ−１の調製と同様にして、ハードコート層塗布液（ＨＣ−２）を調製した。
（塗布液ＨＣ−３の調製）
上記ハードコート層塗布液（ＨＣ−１）において、固形分中のカチオン系導電性ポリマー（ＣＰ−１）の含率を３．０質量％とする以外はＨＣ−１の調製と同様にして、ハードコート層塗布液（ＨＣ−３）を調製した。
【０１４３】
（塗布液ＨＣ−４の調製）
ポリ（４−スチレンスルホン酸ナトリウム）水溶液に、塩酸を添加してナトリウム塩を遊離酸にし、透析により過剰な塩酸及び塩化ナトリウムを除去した。その後減圧乾燥によりポリスチレンスルホン酸を得た。これを導電性ポリマー（ＣＰ−２）とした。
【０１４４】
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−４）とした。ＨＣ−４に含まれる全固形分に対して、（ＣＰ−２）の含率は０．８質量％であった。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−４）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５２質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−２、Ｍｗ＝３９，０００） ８質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−２、Ｍｗ＝２５，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１４５】
【化２３】
【０１４６】
（塗布液ＨＣ−５の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−５）とした。ＨＣ−５に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー（ＣＰ−３）の含率は０．６質量％であった。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−５）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５４質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−３、Ｍｗ＝４１，０００） ６質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−３、Ｍｗ＝１９，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１４７】
【化２４】
【０１４８】
（塗布液ＨＣ−６の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−６）とした。ＨＣ−６に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー（ＣＰ−４）の含率は０．６質量％であった。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−６）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５４質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−４、Ｍｗ＝３１，０００） ６質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−４、Ｍｗ＝１３，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１４９】
【化２５】
【０１５０】
（塗布液ＨＣ−７の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−７）とした。ＨＣ−７に含まれる全固形分に対して、導電性ポリマー（ＣＰ−１）の含率は０．５質量％であった。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−７）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５４質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） ５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−５、Ｍｗ＝２９，０００）１０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５１】
【化２６】
【０１５２】
（塗布液ＨＣ−８の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−８）とした。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−８）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７６０質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５３】
（塗布液ＨＣ−９の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−９）とした。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−９）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５５質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） ５質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５４】
（塗布液ＨＣ−１０の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−１０）とした。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−１０）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ７５２質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−２） ８質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５５】
（塗布液ＨＣ−１１の調製）
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層塗布液（ＨＣ−１１）とした。
＜ハードコート層塗布液（ＨＣ−１１）の組成＞
部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製） ６１０質量部
シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製） ６００質量部
光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ５０質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） １５０質量部
メチルエチルケトン ４８０質量部
シクロヘキサノン １００質量部
【０１５６】
（塗布液ＨＣ−１２の調製）
上記ハードコート層塗布液（ＨＣ−５）において、フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−３）の代わりに、下記の親水性基を有さないフルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−６、Ｍｗ＝２０，０００）を用いる以外はＨＣ−５の調製と同様にして、ハードコート層塗布液（ＨＣ−１２）を調製した。
【０１５７】
【化２７】
【０１５８】
〔中屈折率層用塗布液の調製〕
（塗布液Ｍｎ−１の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液（Ｍｎ−１）を調製した。
【０１５９】
（塗布液Ｍｎ−２の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．２８質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、上記導電性ポリマー（ＣＰ−１）０．１２質量部、上記フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−１）０．１質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液（Ｍｎ−２）を調製した。
【０１６０】
〔高屈折率層用塗布液の調製〕
（塗布液Ｈｎ−１の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）１５．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．５質量部、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液（Ｈｎ−１）を調製した。
【０１６１】
（塗布液Ｈｎ−２の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）１５．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．１質量部、上記導電性ポリマー（ＣＰ−１）０．２質量部、上記フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−１）０．２質量部、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液（Ｈｎ−２）を調製した。
【０１６２】
（塗布液Ｈｎ−３の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）１５．５質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．４質量部、上記導電性ポリマー（ＣＰ−１）０．２質量部、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液（Ｈｎ−３）を調製した。
【０１６３】
（塗布液Ｈｎ−４の調製）
ＺｒＯ２微粒子含有ハードコート剤（上記デソライトＺ７４０４）１４．２質量部に、上記導電性ポリマー（ＣＰ−１）１．３質量部、メチルエチルケトン６１．９質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液（Ｈｎ−４）を調製した。
【０１６４】
〔低屈折率層用塗布液の調製〕
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
【０１６５】
【化２８】
【０１６６】
上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
【０１６７】
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ２）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ２）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２であり、ＧＰＣ分析から求めた質量平均分子量は約５００００であった。
【０１６８】
（中空シリカ粒子分散液の調製）
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シェル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部を加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ｓを得た。得られた分散液のＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５％以下であった。
【０１６９】
（塗布液Ｌｎ−１の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−１）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−１）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ７質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
【０１７０】
【化２９】
【０１７１】
（塗布液Ｌｎ−２の調製）
各成分を下記のように混合し、ＭＥＫに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−２）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−２）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ４．３質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） １．２質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−１） １．５質量部
【０１７２】
（塗布液Ｌｎ−３の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−３）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−３）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ４．５質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−２） １．５質量部
フルオロ脂肪族基含有ポリマー（ＦＰ−２） ２．０質量部
【０１７３】
（塗布液Ｌｎ−４の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−４）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−４）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ５．８質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） １．２質量部
【０１７４】
（塗布液Ｌｎ−５の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−５）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−５）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ５．５質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−２） １．５質量部
【０１７５】
（塗布液Ｌｎ−６の調製）
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液（Ｌｎ−６）を作製した。
＜低屈折率層塗布液（Ｌｎ−６）の組成＞
パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） １質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製） ５質量部
含フッ素重合性化合物Ｍ−１ ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ｓ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製） ３質量部
導電性ポリマー（ＣＰ−１） ６質量部
【０１７６】
〔反射防止フィルムの作製〕
上記のように調製した塗布液を用いて、下記のように各層を形成した。表１に示す通りに各層を積層して、実施例１〜１５、比較例１〜１１のハードコートフィルム及び反射防止フィルムを作製した。
【０１７７】
（ハードコート層の形成）
層厚８０μｍの透明支持体としてのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、屈折率１．４８）上に、前記ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層を形成した。
【０１７８】
（中屈折率層の形成）
上記作製したハードコート層の上に、前記中屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥し、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６０ｎｍの中屈折率層を形成した。
【０１７９】
（高屈折率層の形成）
上記作製した中屈折率層の上に、前記高屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥し、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１１０ｎｍの高屈折率層を形成した。
【０１８０】
（低屈折率層の形成）
上記作製したハードコート層、又は、高屈折率層の上に、前記低屈折率層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。９０℃で３０秒間乾燥し、酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら、２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ２、照射量６００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ９０ｎｍの低屈折率層を形成した。
【０１８１】
（導電性化合物の表面存在比の測定）
上記各層用の導電性化合物を含む塗布液を、上記各層と同じ膜厚になるようにガラス板上に塗布して、紫外線照射して各層を形成した。ガラス板より各層を剥離して、ガラス板側表面及び反対側表面のＥＳＣＡ測定（島津製作所（株）製ＥＳＣＡ−３４００、真空度１×１０−５Ｐａ、Ｘ線源；ターゲットＭｇ、電圧１２ｋＶ、電流２０ｍＡ）を行い、最表面から深さ１０ｎｍ程度までに含まれる元素を調べた。ガラス板側のＮ／Ｃ又はＳ／Ｃをａ、反対側のＮ／Ｃ又はＳ／Ｃをｂとして、ａ／ｂを求めた。
【０１８２】
（反射防止フィルムの評価）
以下の方法により反射防止フィルムの諸特性の評価を行った。結果を表３に示す。
【０１８３】
（１）表面抵抗値測定
２５℃、６０％ＲＨ条件下に試料を２時間置いた後に同条件下で表面抵抗値を円電極法で測定した。表面抵抗値の常用対数（ｌｏｇＳＲ）で示す。
【０１８４】
（２）ゴミ付着性
反射防止フィルムの透明支持体側をＣＲＴ（ＫＶ−２５ＤＳ６５、ソニー（株）製）の表面に貼り付け、０．５μｍ以上の埃及びティッシュペーパー屑を、１ｆｔ３（立法フィート）当たり１００〜２００万個有する部屋（２５℃、６０％ＲＨ）で２４時間使用した。反射防止フィルム１００ｃｍ２当たり、付着した埃とティッシュペーパー屑の数を測定し、それぞれの結果の平均値が５０個未満の場合を◎、５０〜１９９個の場合を○、２００〜５００個の場合を△、５００個より多い場合を×として評価した。
【０１８５】
（３）スチールウール耐傷性評価
ラビングテスターを用いて、以下の条件でこすりテストを行うことで、耐擦傷性の指標とすることができる。評価環境条件：２５℃、６０％ＲＨ こすり材：スチールウール（日本スチールウール（株）製、ゲレードＮｏ．００００）試料と接触するテスターのこすり先端部（１ｃｍ×１ｃｍ）に巻いて、バンド固定。移動距離（片道）：１３ｃｍ、こすり速度：１３ｃｍ／秒、荷重：５００ｇ／ｃｍ２、先端部接触面積：１ｃｍ×１ｃｍ、こすり回数：１０往復。こすり終えた試料の裏側に油性黒インキを塗り、反射光で目視観察して、こすり部分の傷を評価した。
◎ ：非常に注意深く見ても、全く傷が見えない
○ ：非常に注意深く見ると、僅かに弱い傷が見える。
× ：注意深く見なくても、傷が見える。
【０１８６】
（４）鏡面反射率
分光光度計Ｖ−５５０（日本分光（株）製）にアダプターＡＲＶ−４７４を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における出射角５度の鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出した。平均反射率が１％より小さいものを◎、１〜３％のものを○、３％より大きいものを×とした。
【０１８７】
【表１】
【０１８８】
実施例１〜３のハードコートフィルムは、帯電防止性が高く、ゴミ付着量が少なく、更に、耐擦傷性に優れた。一方、比較例１のハードコートフィルムは、耐擦傷性は優れるが、帯電防止性が低く、ゴミ付着量が多かった。
【０１８９】
ハードコート層上に低屈折率層を形成した実施例４〜１１の反射防止フィルムは、帯電防止性が高く、ゴミ付着量が少ない。更に、耐擦傷性に優れ、反射率が低い優れた反射防止性能を示した。一方、比較例２、３、５、６、８の反射防止フィルムは、反射防止性能や耐擦傷性は優れるが、帯電防止性が低く、ゴミ付着量が多かった。比較例４、７の反射防止フィルムは、帯電防止性は優れるが、耐擦傷性が悪かった。
【０１９０】
ハードコート層上に、中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層をこの順に形成した実施例１２〜１５の反射防止フィルムは、帯電防止性が高く、ゴミ付着量が少ない。更に、耐擦傷性に優れ、反射率が極めて低く、反射色味もニュートラルであり、優れた反射防止性能を示した。一方、比較例９、１０の反射防止フィルムは、反射防止性能は優れるが、帯電防止性が低く、ゴミ付着量が多かった。比較例１１の反射防止フィルムは、帯電防止性は優れるが、耐擦傷性が悪かった。
【０１９１】
実施例５の反射防止フィルムにおいて、ＨＣ−４中のＣＰ−２の代わりにｐ−トルエンスルホン酸を用いて、比較例１２の反射防止フィルムを作製した。ｌｏｇＳＲは１３．２であり、ゴミ付着性は×であった。更に、実施例１〜１５のフィルムは、２５℃、６０％ＲＨの環境から２５℃、３０％ＲＨの環境に変更し、２時間置いた後のｌｏｇＳＲの上昇は１以内であったが、比較例１２のフィルムのｌｏｇＳＲの上昇は２．０であり、湿度依存性が大きかった。
【０１９２】
（偏光板の作製）
１．５ｍｏｌ／Ｌ、５５℃のＮａＯＨ水溶液中に２分間浸漬したあと中和、水洗することにより鹸化処理した、８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製）と、同様にして鹸化処理した実施例及び及び比較例の反射防止フィルムとで、ポリビニルアルコールにヨウ素を吸着させ、延伸して作製した偏光子の両面を接着、保護して偏光板を作製した。
【０１９３】
（液晶表示装置の作製）
ＶＡ型液晶表示装置（ＬＣ−３７ＧＳ１０、シャープ（株）製）に設けられている偏光板及び及び位相差膜を剥がし、代わりに上記で作製した偏光板を透過軸が製品に貼られていた偏光板と一致するように貼り付けて、実施例及び比較例の反射防止フィルムを有する液晶表示装置を作製した。なお、反射防止フィルムが視認側になるように貼り付けた。
【０１９４】
上記ようにして作製された実施例の反射防止フィルム付き偏光板及び画像表示装置は、それぞれ貼り付けた反射防止フィルムと同様、実施例は比較例に比べ、優れた反射防止性、防塵性、耐擦傷性を示した。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材フィルム上に、少なくとも、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層（Ａ）を有し、該導電性高分子化合物は、該層（Ａ）内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下である帯電防止性の光学フィルム。
【請求項２】
前記導電性高分子化合物が有する親水性基、及び前記含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、前記導電性高分子化合物と前記含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有する請求項１に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項３】
前記層（Ａ）内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をａ、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をｂとしたとき、ａ／ｂが０〜０．４である請求項１又は２に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項４】
前記層（Ａ）を形成する組成物が、該組成物に含まれる全固形分に対して、前記導電性高分子化合物を０．０１〜５質量％含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項５】
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、重合可能な官能基および親水性基を含有するモノマー（１）と、該モノマーと共重合可能な官能基およびフルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）との共重合体である請求項１〜４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項６】
前記フルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）が下記一般式［１］で表される請求項５に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【化１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ２）−を表し、Ｚは水素原子又はフッ素原子を表し、ｍは１〜６の整数、及びｎは２〜４の整数を表す。Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【請求項７】
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の親水性基を有し、前記導電性高分子化合物は、カチオン性基を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項８】
前記導電性高分子化合物のカチオン性基は、４級アンモニウム塩であることを特徴とする請求項７に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項９】
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、４級アンモニウム塩を親水性基として有し、前記導電性高分子化合物は、アニオン性基を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１０】
前記導電性高分子化合物のアニオン性基は、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項９に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１１】
前記導電性高分子化合物は、さらに、前記バインダーが有する官能基と共有結合し得る官能基を有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１２】
前記層（Ａ）はハードコート層である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１３】
前記ハードコート層の上に、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい層を少なくとも１層有する反射防止フィルムである、請求項１２に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１４】
少なくとも１層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか１層は前記層（Ａ）である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１５】
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも１枚が請求項１〜１４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルムである偏光板。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルムまたは請求項１５に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する画像表示装置。
【請求項１】
透明基材フィルム上に、少なくとも、バインダーと、親水性基を有する導電性高分子化合物と、フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーとを含む組成物から形成される層（Ａ）を有し、該導電性高分子化合物は、該層（Ａ）内の厚さ方向において、該透明基材フィルム側よりも該透明基材フィルムとは反対側に多く存在し、表面抵抗率が１×１０１２Ω／□以下である帯電防止性の光学フィルム。
【請求項２】
前記導電性高分子化合物が有する親水性基、及び前記含フッ素ポリマーが有する親水性基がイオン性基であり、前記導電性高分子化合物と前記含フッ素ポリマーとは、それぞれ反対に荷電し得るイオン性基を有する請求項１に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項３】
前記層（Ａ）内において、透明基材フィルム側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をａ、透明基材フィルムとは反対側表面に存在する前記導電性高分子化合物の量をｂとしたとき、ａ／ｂが０〜０．４である請求項１又は２に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項４】
前記層（Ａ）を形成する組成物が、該組成物に含まれる全固形分に対して、前記導電性高分子化合物を０．０１〜５質量％含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項５】
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、重合可能な官能基および親水性基を含有するモノマー（１）と、該モノマーと共重合可能な官能基およびフルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）との共重合体である請求項１〜４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項６】
前記フルオロ脂肪族基を含有するモノマー（２）が下記一般式［１］で表される請求項５に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【化１】
（式中、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは酸素原子、イオウ原子又は−Ｎ（Ｒ２）−を表し、Ｚは水素原子又はフッ素原子を表し、ｍは１〜６の整数、及びｎは２〜４の整数を表す。Ｒ２は水素原子または炭素数１〜４のアルキル基を表す。）
【請求項７】
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種の親水性基を有し、前記導電性高分子化合物は、カチオン性基を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項８】
前記導電性高分子化合物のカチオン性基は、４級アンモニウム塩であることを特徴とする請求項７に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項９】
前記フルオロ脂肪族基及び親水性基を含有する含フッ素ポリマーは、４級アンモニウム塩を親水性基として有し、前記導電性高分子化合物は、アニオン性基を有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１０】
前記導電性高分子化合物のアニオン性基は、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ３Ｈ）、ホスホノ基［−ＰＯ（ＯＨ）２］及びそれらの塩からなる群より選ばれる少なくとも１種である請求項９に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１１】
前記導電性高分子化合物は、さらに、前記バインダーが有する官能基と共有結合し得る官能基を有する請求項１〜１０のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１２】
前記層（Ａ）はハードコート層である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１３】
前記ハードコート層の上に、前記ハードコート層よりも屈折率の小さい層を少なくとも１層有する反射防止フィルムである、請求項１２に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１４】
少なくとも１層の光学干渉層を有する反射防止フィルムであって、該光学干渉層の少なくともいずれか１層は前記層（Ａ）である、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルム。
【請求項１５】
偏光膜と該偏光膜の両面を保護する２枚の保護フィルムを有する偏光板であって、該保護フィルムの少なくとも１枚が請求項１〜１４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルムである偏光板。
【請求項１６】
請求項１〜１４のいずれか１項に記載の帯電防止性の光学フィルムまたは請求項１５に記載の偏光板をディスプレイの最表面に有する画像表示装置。
【公開番号】特開２０１１−１８０５２３（Ｐ２０１１−１８０５２３Ａ）
【公開日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−４６８６９（Ｐ２０１０−４６８６９）
【出願日】平成２２年３月３日（２０１０．３．３）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年９月１５日（２０１１．９．１５）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月３日（２０１０．３．３）
【出願人】（３０６０３７３１１）富士フイルム株式会社 (25,513)
【Ｆターム（参考）】
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