摺動機構
【課題】長期間に亘って焼き付きを防止することができる摺動機構を提供する。
【解決手段】弁体１０と、前記弁体１０をスライド可能に支持する弁体支持穴５を有する弁本体３と、前記弁体支持穴５の内面と前記弁体１０の外面との一方である弁体１０の外面に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層２０ａとして有する多層皮膜２０とを具備し、前記多層皮膜２０ａの厚みｔが、前記多層皮膜２０ａと前記他方との隙間２１に入り得る異物３０のうちの最大の異物３０ａの最大の外径Ｌ２よりも大きい。
【解決手段】弁体１０と、前記弁体１０をスライド可能に支持する弁体支持穴５を有する弁本体３と、前記弁体支持穴５の内面と前記弁体１０の外面との一方である弁体１０の外面に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層２０ａとして有する多層皮膜２０とを具備し、前記多層皮膜２０ａの厚みｔが、前記多層皮膜２０ａと前記他方との隙間２１に入り得る異物３０のうちの最大の異物３０ａの最大の外径Ｌ２よりも大きい。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば内燃機関のシリンダ内へ燃焼温度を下げる流体（例えば水）を噴射する流体噴射装置などに用いられる水圧機器であって、摺動部分に水が介在する摺動機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
上述した従来の流体噴射装置においては、針状の弁体がその軸心方向へスライド可能に挿入される弁体支持穴に対して前記弁体が摺動する摺動機構を内蔵し、その摺動機構の摺動部分に、潤滑油を供給することにより前記摺動部分の焼付きを防止することが一般的に行われている。
【０００３】
上述した摺動機構として、前記摺動部分の表面に硬質層、例えばステライト材（登録商標）からなる層を肉盛りにより形成した構成が提案されている（例えば、特許文献１参照）。上述したステライト材を用いた場合は、焼き付きの抑制に効果を有するものの十分なレベルではなかった。更に、摺動機構には、潤滑油供給のための手段が必要となり、コスト的に高くなるという難点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１１７８８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本願出願人は、長期間に亘って焼き付きを防止することが可能な摺動機構を見出すべく、前記ステライト材に代えて、それよりも硬質である硬質層を、水圧機器装置における弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動部分に形成したものを用いる実験を行った。
【０００６】
図７は、その実験結果の一例であり、前記硬質層として、ダイヤモンド ライク カーボン（ＤＬＣ）膜を用い、弁体支持穴を有する弁本体及び弁体にＳＵＳ６３０を用いて、弁体を約３５万回スライドさせて耐久試験を行った場合である。
【０００７】
この図７から理解されるように、ＤＬＣ膜１００に、摺動方向Ｂに沿って剥がれた線状傷（黒くなった部分）１０１や、その線状傷１０１に繋がっていて摺動方向Ｂと直交する方向に幅をもって剥がれた引っ掻き傷（黒くなった部分）１０２が発生し、耐久性に問題があることが判明した。
【０００８】
本発明は、このような従来技術の課題を解決するためになされたものであり、長期間に亘って焼き付きを防止することができる摺動機構を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の請求項１に係る摺動機構は、弁体と、前記弁体をスライド可能に支持する弁体支持穴を有する支持部材と、前記弁体支持穴の内面と前記弁体の外面との一方に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層として有する多層皮膜とを具備し、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径よりも大きいことを特徴とする。
【００１０】
本発明の請求項２に係る摺動機構は、請求項１に記載の摺動機構において、前記多層皮膜が形成された前記一方が、前記他方よりも硬いものであることを特徴とする。
【００１１】
本発明の請求項３に係る摺動機構は、請求項２に記載の摺動機構において、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径の０．５倍よりも大きいことを特徴とする。
【００１２】
本発明の請求項４に係る摺動機構は、弁体と、前記弁体をスライド可能に支持する弁体支持穴を有する支持部材と、前記弁体支持穴の内面と前記弁体の外面との一方に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層として有する多層皮膜とを具備し、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法よりも大きいことを特徴とする。
【００１３】
本発明の請求項５に係る摺動機構は、請求項４に記載の摺動機構において、前記多層皮膜が形成された前記一方が、前記他方よりも硬いものであることを特徴とする。
【００１４】
本発明の請求項６に係る摺動機構は、請求項５に記載の摺動機構において、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法の０．５倍よりも大きいことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の摺動機構による場合には、弁体支持穴の内面と弁体の外面との一方に形成した多層皮膜と他方との隙間の寸法よりも大きい外径を有する異物は前記隙間に入り込み得ない。一方、前記隙間とほぼ同一の外径の異物が前記隙間に入っても、その異物の最大外径よりも多層皮膜の厚みの方が大きいので、多層皮膜の下地（弁体支持穴の内面または弁体の外面）が露出することが無い。これにより、弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。
【００１６】
請求項２の発明による場合には、多層皮膜と他方との間に入った異物が、軟質の他方側に深く入り込むため、その他方側が一方側よりも大きく窪み、一方側に形成された多層皮膜が傷付く程度を軽減することができる。
【００１７】
請求項３の発明による場合には、多層皮膜と他方との間に入った異物が、軟質の他方側に深く入り込むため、その他方側が一方側よりも大きく窪み、一方側に形成された多層皮膜が傷付く程度を軽減し、一方側の凹部が異物の最大の外径の半分以下となる。よって、多層皮膜の厚みを、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径の０．５倍にしても、下地が露出することがない。よって、多層皮膜の厚みを前記最大の外径の０．５倍よりも大きくしても良いので、多層皮膜の生成コストを低減することができる。
【００１８】
請求項４の発明による場合には、弁体支持穴の内面と弁体の外面との一方に形成した多層皮膜と他方との隙間における設計上の隙間寸法より外径が大きい異物は前記隙間に入り込み得ない。一方、設計上の隙間寸法とほぼ同一の外径の異物が前記隙間に入っても、多層皮膜の厚みが前記設計上の隙間寸法（異物の外径）よりも大きいので、多層皮膜の下地（弁体支持穴の内面または弁体の外面）が露出することが無い。これにより、弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。ここで、上述した設計上の隙間寸法は、弁体支持穴の軸心と弁体の軸心とが一致する状態で弁体のスライド性、弁体と弁体支持穴との隙間からの流体の漏れの有無、加工精度などを考慮して決定される。
【００１９】
請求項５の発明による場合には、多層皮膜と他方との間に入った異物が、軟質の他方側に深く入り込むため、その他方側が一方側よりも大きく窪み、一方側に形成された多層皮膜が傷付く程度を軽減することができる。
【００２０】
請求項６の発明による場合には、多層皮膜と他方との間に入った異物が、軟質の他方側に深く入り込むため、その他方側が一方側よりも大きく窪み、一方側に形成された多層皮膜が傷付く程度を軽減するから、多層皮膜の厚みを、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法の０．５倍よりも大きくしても、下地が露出することがない。よって、前記隙間寸法を２倍にすることができるため、隙間管理のための加工精度を上げる必要がなく、製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る摺動機構を内蔵する水圧機器装置を示す模式図である。
【図２】第１実施形態に係る摺動機構において弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動部分に異物が入り込んだ状態を示す図である。
【図３】第１実施形態に係る摺動機構において弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動部分が異物により傷付けられた状態を示す図である。
【図４】第１実施形態に係る摺動機構において多層皮膜が異物により傷付けられた様子を示す図である。
【図５】第２実施形態に係る摺動機構において弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動部分に異物が入り込んだ状態を示す図である。
【図６】楕円球状の異物の説明図である。
【図７】従来例のＤＬＣ膜が異物により傷付けられた様子を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に、本発明の実施形態を具体的に説明する。
【００２３】
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係る摺動機構を内蔵する水圧機器装置を示す模式図である。
【００２４】
この水圧機器装置１は、内部に弁体支持穴５及び流体通路７を有する弁本体３と、弁体支持穴５に設けられた弁体１０とを具備し、弁本体３における弁体支持穴５の周囲部分と弁体１０とは摺動機構８を構成する。
【００２５】
弁本体３は、概略的に有底の円筒状に形成されていて、軸心方向Ａに長いものであり、弁本体３の底部３ａには、軸心方向Ａの一方側（図１の下側）に向けて流体、例えば水を他の機器に送る出口７ａが設けられている。ここで、図１に示す水圧機器装置１の一方側（下側）を先端側、一方側とは反対の他方側（上側）を基端側と呼ぶ。
【００２６】
前記弁体支持穴５は、軸心方向Ａと直交する横断面を円形とする内部空洞であり、その弁体支持穴５には、軸心方向Ａへスライド可能に弁体１０が設けられ、弁体１０の基端側の約半分が弁体支持穴５の内部に支持される一方、先端側の残り部分が弁体支持穴５から外側に突出している。この弁体１０は、先端側に開閉弁部１１を有し、この開閉弁部１１が弁本体３の内部に設けた環状の弁座３ｂに当接する位置を閉弁位置としてスライドする。
【００２７】
流体通路７は、前記出口７ａと、出口７ａに繋がる第１通路７ｂと、第１通路７ｂに繋がる第２通路７ｃと、第２通路７ｃに繋がる流体供給口７ｄとを有する。
【００２８】
第１通路７ｂは、前記弁座３ｂよりも先端側にあって横断面を円形とする内部空洞であり、その内径は前記弁体支持穴５の内径よりも小さく、第１通路７ｂの基端に対応する弁本体３の内壁部に前記環状の弁座３ｂが形成されている。
【００２９】
前記第２通路７ｃは、第１通路７ｂと弁体支持穴５との間に位置し、軸心方向Ａと直交する横断面を円形とする内部空洞であり、第２通路７ｃの内径は第１通路７ｂの内径及び弁体支持穴５の内径よりも大きいものである。よって、前記弁体１０の外周（後述する多層皮膜２０）と、その外周に対向する、上記第２通路７ｃの内壁（軸心を向く内面）との間は、隙間を有し非接触となっている。
【００３０】
流体供給口７ｄは、弁本体３の外周壁を貫通して複数、例えば２つ設けられていて、各流体供給口７ｄは上記第２通路７ｃに連通している。各流体供給口７ｄには、流体が外部から供給される。なお、流体供給口７ｄの個数は、複数に限らず単数としてもよい。
【００３１】
このように構成された流体通路７は、外部から流体供給口７ｄに流体が供給され、その供給された流体が、第２通路７ｃ及び第１通路７ｂを経て出口７ａへ送られるようになっていて、前記弁体１０が前記閉弁位置側へ向けてスライドし開閉弁部１１が弁座３ｂに当接すると、この当接により第１通路７ｂと第２通路７ｃとの間が遮断されて閉状態になる。一方、弁体１０が閉弁位置よりも基端側に移動すると、つまり開閉弁部１１が弁座３ｂから離れると、第１通路７ｂと第２通路７ｃとの間が連通して開状態になる。そして、開状態にあっては、外部から流体供給口７ｄに供給される流体が、第２通路７ｃ及び第１通路７ｂを経て出口７ａから他の機器に供給される。一方、閉状態にあっては、出口７ａからの流体の供給が停止される。
【００３２】
上記弁体支持穴５の基端側には弁体１０の脱落を防止する抜止部材６が取付けられている。上記抜止部材６には、抜き孔６ａが貫通状態で形成されており、この抜き孔６ａは弁体支持穴５内の流体の出入れを許容して弁体１０のスライドを支障無く行わせるためのものである。
【００３３】
前記弁体１０は、軸心方向Ａと直交する横断面を円形状に形成したもので、先端部１２を中実に、基端部１３を中空にして形成され、先端部１２の先端側には前記開閉弁部１１が設けられている。この開閉弁部１１は、先端側になる程に小径となる円錐台形状に形成されている。
【００３４】
この弁体１０は、図示しない電磁バルブに通電すると電磁力の働きにより開閉弁部１１が弁座３ｂから離れるように軸心方向Ａにスライドし、流体通路７を開状態にする開弁状態になる。一方、電磁バルブを断電すると、中空の基端部１３の内側に設けたばね１５により開閉弁部１１が弁座３ｂに当接するように押圧付勢力を受け、これにより流体通路７を閉状態にする閉弁状態になる。なお、中空の基端部１３は、ばね１５を所定姿勢に拘束することが可能であれば省略しても構わない。
【００３５】
前記弁体１０における開閉弁部１１よりも基端側部分の外周は、弁体支持穴５の内周面に対して互いに摺動する部分であり、その弁体１０の摺動部分の外表面には、多層皮膜２０が形成されている。上記多層皮膜２０は、弁体１０の摩耗や破損を抑制するものであって、図２に示すように複数の皮膜を有し、弁体支持穴５の内面に接触する側の最表面層２０ａは弁本体３の硬度よりも硬い硬質層となっている。例えば、弁本体３の材質はＳＵＳ６３０からなり、最表面層２０ａの材質はそれより硬いＤＬＣからなる。なお、最表面層２０ａとしては、クロームメッキ層やセラミックコーティング層などを用いることができる。
【００３６】
上記多層皮膜２０は、弁体１０が前記軸心方向Ａへスライドすることにより弁体支持穴５に対して摺動する。また、多層皮膜２０は、最表面層２０ａよりも下側の膜として、例えばＷ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂ、ＣｒおよびＡｌよりなる群から選択される少なくとも１種の金属製の膜を含む。
【００３７】
この多層皮膜２０が形成された弁体１０の材質は、例えばシリコロイＸＶＩ（登録商標）からなり、弁体１０の方が、弁本体３よりも硬いものである。
【００３８】
図２に示すように上記弁体１０に形成された多層皮膜２０と弁体支持穴５の内面との間には隙間２１が形成される。その隙間２１は、設計上の隙間寸法に設定されている。その設計上の隙間寸法としては、弁体支持穴５の軸心と弁体１０の軸心とが一致する状態で弁体１０のスライド性、弁体１０と弁体支持穴５との隙間からの流体の漏れの有無、加工精度などを考慮して決定される。
【００３９】
この隙間２１は、弁体１０の軸心が弁体支持穴５の軸心に対して偏心することにより、弁体１０の周方向位置によって寸法が変化する場合がある。このときの隙間２１の最大値をＬ１とする。
【００４０】
また、上記隙間２１には、流体（水）に含まれる異物３０が入り得る。異物３０は、流体（水）に含まれたものや配管内の酸化物が主たる発生源であり、その流体（水）としては、例えば水清浄度が５級から１２級（ＮＡＳ１６３８汚染基準）のものが使用される。
【００４１】
ここで、上記異物３０として、例えば球状のものを例に挙げて説明する。
【００４２】
弁体１０が弁体支持穴５に対して偏心し、弁本体３と弁体１０との隙間２１が最大となった値を最大値Ｌ１とする。この最大値Ｌ１の隙間２１に入り得る異物のうち、最大の異物３０ａの外径をＬ２とし、この異物３０ａが隙間２１に入ったとする。上記多層皮膜２０の厚みｔは、この異物３０ａの前記最大の外径Ｌ２（図２参照）よりも大きくなるように形成される。
【００４３】
次に、このように構成された第１実施形態に係る水圧機器装置１の摺動機構８における焼き付き防止の内容につき説明する。
【００４４】
上述した球状の異物３０は、その外径が前記隙間２１の最大値Ｌ１よりも大きい場合、隙間２１に入り込み得ない。一方、隙間２１の最大値Ｌ１とほぼ同一である最大の外径Ｌ２の異物３０ａまたは外径が最大外径Ｌ２よりも小さい異物３０は最大値Ｌ１の隙間２１に入り得る。この場合において、その異物３０ａの最大外径Ｌ２よりも多層皮膜２０の厚みｔの方が大きいので、異物３０ａによる多層皮膜２０の剥落部分が多層皮膜２０の下地である弁体１０に届かず、弁体１０が露出することがない。これにより、多層皮膜２０と弁体支持穴５の内面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。
【００４５】
また、第１実施形態にあっては、多層皮膜２０が弁体１０側に形成され、前記多層皮膜２０が形成された前記弁体１０が、前記弁体支持穴５の内面部分の材質（弁本体３の材質）よりも硬いものであるので、図３に示すように多層皮膜２０と弁体支持穴５との間に入った異物３０が、軟質の弁体支持穴５の内面側に深く入り込む。つまり、異物３０が多層皮膜２０に入り込んだ深さＤ１よりも異物３０が弁体支持穴５の内面に入り込んだ深さＤ２が大になる。このため、弁体支持穴５の内面側が多層皮膜２０側よりも大きく窪み、多層皮膜２０が傷付く程度を軽減することができる。
【００４６】
すなわち、弁体１０と弁本体３の下地が同じ材質で形成されている場合に、多層皮膜を考慮しないと、弁体１０と弁本体３とが押し付けられたときに、ほぼ均等にそれぞれ弁体１０と弁本体３に異物３０ａが下地に入り込む。これに対し、弁体１０の下地が、弁本体３の材質よりも硬いもので形成されることで、弁体１０に異物３０ａが入り込む深さを隙間２１の最大値Ｌ１の半分よりも深くなることを低減してくれる。
【００４７】
このため、多層皮膜２０の厚みｔを異物３０ａの最大外径Ｌ２の０．５倍にしても、下地が露出する虞が少なくなり、多層皮膜２０の生成コストを低減することができる。つまり、多層皮膜２０を厚くすると、多層皮膜２０自体の歪みにより割れを生じることがあり、多層皮膜２０を厚くすることは高度な生産技術とコストを要するが、多層皮膜２０の厚みｔを半分にし得ることで、上述のように多層皮膜２０の生成コストを低減することができる。更には、逆の見方をすれば、多層皮膜２０の厚みｔをそのままにすれば、最大外径が２倍の異物３０ａに対応すること、つまり隙間２１を２倍にすることも可能となる。これにより、隙間２１の寸法管理のための加工精度を下げることができ、弁体１０および弁本体３の製造コストを低減することができる。
【００４８】
図４は、第１実施形態において弁体１０を１００万回スライドさせ、多層皮膜２０が異物３０により傷付けられた様子を示す図である。
【００４９】
この図４より理解されるように、第１実施形態による場合には、多層皮膜２０が剥がれ難く、多層皮膜２０が剥がれて形成された傷（黒くなった部分）２２が軽減されている。よって、多層皮膜２０と弁体支持穴５の内面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。
【００５０】
（第２実施形態）
上述した第１実施形態では、多層皮膜２０の厚みｔを、最大値Ｌ１の隙間２１に入り得る異物のうち、最大外径Ｌ２を有する異物３０ａの前記最大外径Ｌ２を基準とし、その基準よりも大きくなるようにしているが、この第２実施形態にあっては、図５に示すように、前記隙間２１を設計上の隙間寸法Ｌ４に設定するとともに、多層皮膜２０の厚みｔをその設計上の隙間寸法Ｌ４よりも大きく形成している。上記設計上の隙間寸法Ｌ４は、前述のように弁体支持穴５の軸心と弁体１０の軸心とが一致する状態で弁体１０のスライド性、弁体１０と弁体支持穴５との隙間からの流体の漏れの有無、加工精度などを考慮して決定される。なお、他の部分は、第１実施形態と同様に構成している。
【００５１】
この第２実施形態にあっては、上記設計上の隙間寸法Ｌ４より外径が大きい球状の異物３０は前記隙間２１に入り込み得ない。一方、設計上の隙間寸法Ｌ４とほぼ同一の外径または設計上の隙間寸法Ｌ４より小さい外径の異物３０は、前記隙間２１に入り得るものの、多層皮膜２０の厚みｔが設計上の隙間寸法Ｌ４（異物３０の外径）より大きいので、異物３０による多層皮膜２０の剥落部分が多層皮膜２０の下地である弁体１０に届かず、弁体１０の外面が露出することがない。これにより、多層皮膜２０と弁体支持穴５の内面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。
【００５２】
なお、上述した第１、第２実施形態では球状の異物３０と多層皮膜２０と隙間２１との関係について説明しているが、本発明はこれに限らず、楕円球状（卵形）の異物と多層皮膜と隙間との関係についても、以下のように考えることで対応することができる。
【００５３】
図６は、楕円球状（卵形）の異物３０Ａの説明図である。この図では異物３０Ａの最小外径をＬ５、最大外径をＬ６としている。第１実施形態に対しては、図２に示すＬ１をＬ５に対応させて定め、同じくｔはＬ６よりも大きい値に定める。一方、第２実施形態に対しては、図５に示すｔをＬ６よりも大きい値に定めることで対応することができる。
【００５４】
また、上述した第１、第２実施形態では多層皮膜２０を弁体１０側に形成しているが、本発明はこれとは逆に弁本体３側（弁体支持穴５の内面）に多層皮膜２０を形成してもよい。この場合は、弁本体３に弁体１０よりも硬い材料を用いるのが好ましい。
【００５５】
更にまた、上述した第１、第２実施形態では弁体１０のスライドを電磁弁により行う構成としているが、本発明はこれに限らない。例えば、弁体１０の基端側と先端側とのそれぞれに別々の圧力を作用させ、これらの圧力差により弁体１０をスライドさせる構成、または、抜き孔６ａからパイロット圧を導入する構成としてもよい。
【００５６】
更に、上述した第１、第２実施形態では舶用エンジンのシリンダ内へ燃焼温度を下げる水を噴射する流体噴射装置に設けられた水圧機器装置１の摺動機構８を焼き付き防止しているが、本発明はこれに限らず、シリンダやスプール弁などの他の摺動機構部の焼き付き防止にも同様に適用することができる。
【符号の説明】
【００５７】
１ 水圧機器装置
３ 弁本体
５ 弁体支持穴
８ 摺動機構
１０ 弁体
２０ 多層皮膜
２０ａ 最表面層
２１ 隙間
３０ 球状の異物
３０Ａ 楕円球状の異物
ｔ 多層皮膜の厚み
Ｌ１ 隙間寸法
Ｌ２ 最大外径
Ｌ４ 設計上の隙間寸法
Ｌ５ 楕円球状の異物の最小外径
Ｌ６ 楕円球状の異物の最大外径
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば内燃機関のシリンダ内へ燃焼温度を下げる流体（例えば水）を噴射する流体噴射装置などに用いられる水圧機器であって、摺動部分に水が介在する摺動機構に関する。
【背景技術】
【０００２】
上述した従来の流体噴射装置においては、針状の弁体がその軸心方向へスライド可能に挿入される弁体支持穴に対して前記弁体が摺動する摺動機構を内蔵し、その摺動機構の摺動部分に、潤滑油を供給することにより前記摺動部分の焼付きを防止することが一般的に行われている。
【０００３】
上述した摺動機構として、前記摺動部分の表面に硬質層、例えばステライト材（登録商標）からなる層を肉盛りにより形成した構成が提案されている（例えば、特許文献１参照）。上述したステライト材を用いた場合は、焼き付きの抑制に効果を有するものの十分なレベルではなかった。更に、摺動機構には、潤滑油供給のための手段が必要となり、コスト的に高くなるという難点がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−１１７８８７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本願出願人は、長期間に亘って焼き付きを防止することが可能な摺動機構を見出すべく、前記ステライト材に代えて、それよりも硬質である硬質層を、水圧機器装置における弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動部分に形成したものを用いる実験を行った。
【０００６】
図７は、その実験結果の一例であり、前記硬質層として、ダイヤモンド ライク カーボン（ＤＬＣ）膜を用い、弁体支持穴を有する弁本体及び弁体にＳＵＳ６３０を用いて、弁体を約３５万回スライドさせて耐久試験を行った場合である。
【０００７】
この図７から理解されるように、ＤＬＣ膜１００に、摺動方向Ｂに沿って剥がれた線状傷（黒くなった部分）１０１や、その線状傷１０１に繋がっていて摺動方向Ｂと直交する方向に幅をもって剥がれた引っ掻き傷（黒くなった部分）１０２が発生し、耐久性に問題があることが判明した。
【０００８】
本発明は、このような従来技術の課題を解決するためになされたものであり、長期間に亘って焼き付きを防止することができる摺動機構を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の請求項１に係る摺動機構は、弁体と、前記弁体をスライド可能に支持する弁体支持穴を有する支持部材と、前記弁体支持穴の内面と前記弁体の外面との一方に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層として有する多層皮膜とを具備し、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径よりも大きいことを特徴とする。
【００１０】
本発明の請求項２に係る摺動機構は、請求項１に記載の摺動機構において、前記多層皮膜が形成された前記一方が、前記他方よりも硬いものであることを特徴とする。
【００１１】
本発明の請求項３に係る摺動機構は、請求項２に記載の摺動機構において、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径の０．５倍よりも大きいことを特徴とする。
【００１２】
本発明の請求項４に係る摺動機構は、弁体と、前記弁体をスライド可能に支持する弁体支持穴を有する支持部材と、前記弁体支持穴の内面と前記弁体の外面との一方に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層として有する多層皮膜とを具備し、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法よりも大きいことを特徴とする。
【００１３】
本発明の請求項５に係る摺動機構は、請求項４に記載の摺動機構において、前記多層皮膜が形成された前記一方が、前記他方よりも硬いものであることを特徴とする。
【００１４】
本発明の請求項６に係る摺動機構は、請求項５に記載の摺動機構において、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法の０．５倍よりも大きいことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の摺動機構による場合には、弁体支持穴の内面と弁体の外面との一方に形成した多層皮膜と他方との隙間の寸法よりも大きい外径を有する異物は前記隙間に入り込み得ない。一方、前記隙間とほぼ同一の外径の異物が前記隙間に入っても、その異物の最大外径よりも多層皮膜の厚みの方が大きいので、多層皮膜の下地（弁体支持穴の内面または弁体の外面）が露出することが無い。これにより、弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。
【００１６】
請求項２の発明による場合には、多層皮膜と他方との間に入った異物が、軟質の他方側に深く入り込むため、その他方側が一方側よりも大きく窪み、一方側に形成された多層皮膜が傷付く程度を軽減することができる。
【００１７】
請求項３の発明による場合には、多層皮膜と他方との間に入った異物が、軟質の他方側に深く入り込むため、その他方側が一方側よりも大きく窪み、一方側に形成された多層皮膜が傷付く程度を軽減し、一方側の凹部が異物の最大の外径の半分以下となる。よって、多層皮膜の厚みを、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径の０．５倍にしても、下地が露出することがない。よって、多層皮膜の厚みを前記最大の外径の０．５倍よりも大きくしても良いので、多層皮膜の生成コストを低減することができる。
【００１８】
請求項４の発明による場合には、弁体支持穴の内面と弁体の外面との一方に形成した多層皮膜と他方との隙間における設計上の隙間寸法より外径が大きい異物は前記隙間に入り込み得ない。一方、設計上の隙間寸法とほぼ同一の外径の異物が前記隙間に入っても、多層皮膜の厚みが前記設計上の隙間寸法（異物の外径）よりも大きいので、多層皮膜の下地（弁体支持穴の内面または弁体の外面）が露出することが無い。これにより、弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。ここで、上述した設計上の隙間寸法は、弁体支持穴の軸心と弁体の軸心とが一致する状態で弁体のスライド性、弁体と弁体支持穴との隙間からの流体の漏れの有無、加工精度などを考慮して決定される。
【００１９】
請求項５の発明による場合には、多層皮膜と他方との間に入った異物が、軟質の他方側に深く入り込むため、その他方側が一方側よりも大きく窪み、一方側に形成された多層皮膜が傷付く程度を軽減することができる。
【００２０】
請求項６の発明による場合には、多層皮膜と他方との間に入った異物が、軟質の他方側に深く入り込むため、その他方側が一方側よりも大きく窪み、一方側に形成された多層皮膜が傷付く程度を軽減するから、多層皮膜の厚みを、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法の０．５倍よりも大きくしても、下地が露出することがない。よって、前記隙間寸法を２倍にすることができるため、隙間管理のための加工精度を上げる必要がなく、製造コストを低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る摺動機構を内蔵する水圧機器装置を示す模式図である。
【図２】第１実施形態に係る摺動機構において弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動部分に異物が入り込んだ状態を示す図である。
【図３】第１実施形態に係る摺動機構において弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動部分が異物により傷付けられた状態を示す図である。
【図４】第１実施形態に係る摺動機構において多層皮膜が異物により傷付けられた様子を示す図である。
【図５】第２実施形態に係る摺動機構において弁体支持穴の内面と弁体の外面との摺動部分に異物が入り込んだ状態を示す図である。
【図６】楕円球状の異物の説明図である。
【図７】従来例のＤＬＣ膜が異物により傷付けられた様子を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に、本発明の実施形態を具体的に説明する。
【００２３】
（第１実施形態）
図１は、本発明の第１実施形態に係る摺動機構を内蔵する水圧機器装置を示す模式図である。
【００２４】
この水圧機器装置１は、内部に弁体支持穴５及び流体通路７を有する弁本体３と、弁体支持穴５に設けられた弁体１０とを具備し、弁本体３における弁体支持穴５の周囲部分と弁体１０とは摺動機構８を構成する。
【００２５】
弁本体３は、概略的に有底の円筒状に形成されていて、軸心方向Ａに長いものであり、弁本体３の底部３ａには、軸心方向Ａの一方側（図１の下側）に向けて流体、例えば水を他の機器に送る出口７ａが設けられている。ここで、図１に示す水圧機器装置１の一方側（下側）を先端側、一方側とは反対の他方側（上側）を基端側と呼ぶ。
【００２６】
前記弁体支持穴５は、軸心方向Ａと直交する横断面を円形とする内部空洞であり、その弁体支持穴５には、軸心方向Ａへスライド可能に弁体１０が設けられ、弁体１０の基端側の約半分が弁体支持穴５の内部に支持される一方、先端側の残り部分が弁体支持穴５から外側に突出している。この弁体１０は、先端側に開閉弁部１１を有し、この開閉弁部１１が弁本体３の内部に設けた環状の弁座３ｂに当接する位置を閉弁位置としてスライドする。
【００２７】
流体通路７は、前記出口７ａと、出口７ａに繋がる第１通路７ｂと、第１通路７ｂに繋がる第２通路７ｃと、第２通路７ｃに繋がる流体供給口７ｄとを有する。
【００２８】
第１通路７ｂは、前記弁座３ｂよりも先端側にあって横断面を円形とする内部空洞であり、その内径は前記弁体支持穴５の内径よりも小さく、第１通路７ｂの基端に対応する弁本体３の内壁部に前記環状の弁座３ｂが形成されている。
【００２９】
前記第２通路７ｃは、第１通路７ｂと弁体支持穴５との間に位置し、軸心方向Ａと直交する横断面を円形とする内部空洞であり、第２通路７ｃの内径は第１通路７ｂの内径及び弁体支持穴５の内径よりも大きいものである。よって、前記弁体１０の外周（後述する多層皮膜２０）と、その外周に対向する、上記第２通路７ｃの内壁（軸心を向く内面）との間は、隙間を有し非接触となっている。
【００３０】
流体供給口７ｄは、弁本体３の外周壁を貫通して複数、例えば２つ設けられていて、各流体供給口７ｄは上記第２通路７ｃに連通している。各流体供給口７ｄには、流体が外部から供給される。なお、流体供給口７ｄの個数は、複数に限らず単数としてもよい。
【００３１】
このように構成された流体通路７は、外部から流体供給口７ｄに流体が供給され、その供給された流体が、第２通路７ｃ及び第１通路７ｂを経て出口７ａへ送られるようになっていて、前記弁体１０が前記閉弁位置側へ向けてスライドし開閉弁部１１が弁座３ｂに当接すると、この当接により第１通路７ｂと第２通路７ｃとの間が遮断されて閉状態になる。一方、弁体１０が閉弁位置よりも基端側に移動すると、つまり開閉弁部１１が弁座３ｂから離れると、第１通路７ｂと第２通路７ｃとの間が連通して開状態になる。そして、開状態にあっては、外部から流体供給口７ｄに供給される流体が、第２通路７ｃ及び第１通路７ｂを経て出口７ａから他の機器に供給される。一方、閉状態にあっては、出口７ａからの流体の供給が停止される。
【００３２】
上記弁体支持穴５の基端側には弁体１０の脱落を防止する抜止部材６が取付けられている。上記抜止部材６には、抜き孔６ａが貫通状態で形成されており、この抜き孔６ａは弁体支持穴５内の流体の出入れを許容して弁体１０のスライドを支障無く行わせるためのものである。
【００３３】
前記弁体１０は、軸心方向Ａと直交する横断面を円形状に形成したもので、先端部１２を中実に、基端部１３を中空にして形成され、先端部１２の先端側には前記開閉弁部１１が設けられている。この開閉弁部１１は、先端側になる程に小径となる円錐台形状に形成されている。
【００３４】
この弁体１０は、図示しない電磁バルブに通電すると電磁力の働きにより開閉弁部１１が弁座３ｂから離れるように軸心方向Ａにスライドし、流体通路７を開状態にする開弁状態になる。一方、電磁バルブを断電すると、中空の基端部１３の内側に設けたばね１５により開閉弁部１１が弁座３ｂに当接するように押圧付勢力を受け、これにより流体通路７を閉状態にする閉弁状態になる。なお、中空の基端部１３は、ばね１５を所定姿勢に拘束することが可能であれば省略しても構わない。
【００３５】
前記弁体１０における開閉弁部１１よりも基端側部分の外周は、弁体支持穴５の内周面に対して互いに摺動する部分であり、その弁体１０の摺動部分の外表面には、多層皮膜２０が形成されている。上記多層皮膜２０は、弁体１０の摩耗や破損を抑制するものであって、図２に示すように複数の皮膜を有し、弁体支持穴５の内面に接触する側の最表面層２０ａは弁本体３の硬度よりも硬い硬質層となっている。例えば、弁本体３の材質はＳＵＳ６３０からなり、最表面層２０ａの材質はそれより硬いＤＬＣからなる。なお、最表面層２０ａとしては、クロームメッキ層やセラミックコーティング層などを用いることができる。
【００３６】
上記多層皮膜２０は、弁体１０が前記軸心方向Ａへスライドすることにより弁体支持穴５に対して摺動する。また、多層皮膜２０は、最表面層２０ａよりも下側の膜として、例えばＷ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｎｂ、ＣｒおよびＡｌよりなる群から選択される少なくとも１種の金属製の膜を含む。
【００３７】
この多層皮膜２０が形成された弁体１０の材質は、例えばシリコロイＸＶＩ（登録商標）からなり、弁体１０の方が、弁本体３よりも硬いものである。
【００３８】
図２に示すように上記弁体１０に形成された多層皮膜２０と弁体支持穴５の内面との間には隙間２１が形成される。その隙間２１は、設計上の隙間寸法に設定されている。その設計上の隙間寸法としては、弁体支持穴５の軸心と弁体１０の軸心とが一致する状態で弁体１０のスライド性、弁体１０と弁体支持穴５との隙間からの流体の漏れの有無、加工精度などを考慮して決定される。
【００３９】
この隙間２１は、弁体１０の軸心が弁体支持穴５の軸心に対して偏心することにより、弁体１０の周方向位置によって寸法が変化する場合がある。このときの隙間２１の最大値をＬ１とする。
【００４０】
また、上記隙間２１には、流体（水）に含まれる異物３０が入り得る。異物３０は、流体（水）に含まれたものや配管内の酸化物が主たる発生源であり、その流体（水）としては、例えば水清浄度が５級から１２級（ＮＡＳ１６３８汚染基準）のものが使用される。
【００４１】
ここで、上記異物３０として、例えば球状のものを例に挙げて説明する。
【００４２】
弁体１０が弁体支持穴５に対して偏心し、弁本体３と弁体１０との隙間２１が最大となった値を最大値Ｌ１とする。この最大値Ｌ１の隙間２１に入り得る異物のうち、最大の異物３０ａの外径をＬ２とし、この異物３０ａが隙間２１に入ったとする。上記多層皮膜２０の厚みｔは、この異物３０ａの前記最大の外径Ｌ２（図２参照）よりも大きくなるように形成される。
【００４３】
次に、このように構成された第１実施形態に係る水圧機器装置１の摺動機構８における焼き付き防止の内容につき説明する。
【００４４】
上述した球状の異物３０は、その外径が前記隙間２１の最大値Ｌ１よりも大きい場合、隙間２１に入り込み得ない。一方、隙間２１の最大値Ｌ１とほぼ同一である最大の外径Ｌ２の異物３０ａまたは外径が最大外径Ｌ２よりも小さい異物３０は最大値Ｌ１の隙間２１に入り得る。この場合において、その異物３０ａの最大外径Ｌ２よりも多層皮膜２０の厚みｔの方が大きいので、異物３０ａによる多層皮膜２０の剥落部分が多層皮膜２０の下地である弁体１０に届かず、弁体１０が露出することがない。これにより、多層皮膜２０と弁体支持穴５の内面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。
【００４５】
また、第１実施形態にあっては、多層皮膜２０が弁体１０側に形成され、前記多層皮膜２０が形成された前記弁体１０が、前記弁体支持穴５の内面部分の材質（弁本体３の材質）よりも硬いものであるので、図３に示すように多層皮膜２０と弁体支持穴５との間に入った異物３０が、軟質の弁体支持穴５の内面側に深く入り込む。つまり、異物３０が多層皮膜２０に入り込んだ深さＤ１よりも異物３０が弁体支持穴５の内面に入り込んだ深さＤ２が大になる。このため、弁体支持穴５の内面側が多層皮膜２０側よりも大きく窪み、多層皮膜２０が傷付く程度を軽減することができる。
【００４６】
すなわち、弁体１０と弁本体３の下地が同じ材質で形成されている場合に、多層皮膜を考慮しないと、弁体１０と弁本体３とが押し付けられたときに、ほぼ均等にそれぞれ弁体１０と弁本体３に異物３０ａが下地に入り込む。これに対し、弁体１０の下地が、弁本体３の材質よりも硬いもので形成されることで、弁体１０に異物３０ａが入り込む深さを隙間２１の最大値Ｌ１の半分よりも深くなることを低減してくれる。
【００４７】
このため、多層皮膜２０の厚みｔを異物３０ａの最大外径Ｌ２の０．５倍にしても、下地が露出する虞が少なくなり、多層皮膜２０の生成コストを低減することができる。つまり、多層皮膜２０を厚くすると、多層皮膜２０自体の歪みにより割れを生じることがあり、多層皮膜２０を厚くすることは高度な生産技術とコストを要するが、多層皮膜２０の厚みｔを半分にし得ることで、上述のように多層皮膜２０の生成コストを低減することができる。更には、逆の見方をすれば、多層皮膜２０の厚みｔをそのままにすれば、最大外径が２倍の異物３０ａに対応すること、つまり隙間２１を２倍にすることも可能となる。これにより、隙間２１の寸法管理のための加工精度を下げることができ、弁体１０および弁本体３の製造コストを低減することができる。
【００４８】
図４は、第１実施形態において弁体１０を１００万回スライドさせ、多層皮膜２０が異物３０により傷付けられた様子を示す図である。
【００４９】
この図４より理解されるように、第１実施形態による場合には、多層皮膜２０が剥がれ難く、多層皮膜２０が剥がれて形成された傷（黒くなった部分）２２が軽減されている。よって、多層皮膜２０と弁体支持穴５の内面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。
【００５０】
（第２実施形態）
上述した第１実施形態では、多層皮膜２０の厚みｔを、最大値Ｌ１の隙間２１に入り得る異物のうち、最大外径Ｌ２を有する異物３０ａの前記最大外径Ｌ２を基準とし、その基準よりも大きくなるようにしているが、この第２実施形態にあっては、図５に示すように、前記隙間２１を設計上の隙間寸法Ｌ４に設定するとともに、多層皮膜２０の厚みｔをその設計上の隙間寸法Ｌ４よりも大きく形成している。上記設計上の隙間寸法Ｌ４は、前述のように弁体支持穴５の軸心と弁体１０の軸心とが一致する状態で弁体１０のスライド性、弁体１０と弁体支持穴５との隙間からの流体の漏れの有無、加工精度などを考慮して決定される。なお、他の部分は、第１実施形態と同様に構成している。
【００５１】
この第２実施形態にあっては、上記設計上の隙間寸法Ｌ４より外径が大きい球状の異物３０は前記隙間２１に入り込み得ない。一方、設計上の隙間寸法Ｌ４とほぼ同一の外径または設計上の隙間寸法Ｌ４より小さい外径の異物３０は、前記隙間２１に入り得るものの、多層皮膜２０の厚みｔが設計上の隙間寸法Ｌ４（異物３０の外径）より大きいので、異物３０による多層皮膜２０の剥落部分が多層皮膜２０の下地である弁体１０に届かず、弁体１０の外面が露出することがない。これにより、多層皮膜２０と弁体支持穴５の内面との摺動状態を長期に亘って維持することが可能になり、長期間に亘る焼き付き防止をすることができる。
【００５２】
なお、上述した第１、第２実施形態では球状の異物３０と多層皮膜２０と隙間２１との関係について説明しているが、本発明はこれに限らず、楕円球状（卵形）の異物と多層皮膜と隙間との関係についても、以下のように考えることで対応することができる。
【００５３】
図６は、楕円球状（卵形）の異物３０Ａの説明図である。この図では異物３０Ａの最小外径をＬ５、最大外径をＬ６としている。第１実施形態に対しては、図２に示すＬ１をＬ５に対応させて定め、同じくｔはＬ６よりも大きい値に定める。一方、第２実施形態に対しては、図５に示すｔをＬ６よりも大きい値に定めることで対応することができる。
【００５４】
また、上述した第１、第２実施形態では多層皮膜２０を弁体１０側に形成しているが、本発明はこれとは逆に弁本体３側（弁体支持穴５の内面）に多層皮膜２０を形成してもよい。この場合は、弁本体３に弁体１０よりも硬い材料を用いるのが好ましい。
【００５５】
更にまた、上述した第１、第２実施形態では弁体１０のスライドを電磁弁により行う構成としているが、本発明はこれに限らない。例えば、弁体１０の基端側と先端側とのそれぞれに別々の圧力を作用させ、これらの圧力差により弁体１０をスライドさせる構成、または、抜き孔６ａからパイロット圧を導入する構成としてもよい。
【００５６】
更に、上述した第１、第２実施形態では舶用エンジンのシリンダ内へ燃焼温度を下げる水を噴射する流体噴射装置に設けられた水圧機器装置１の摺動機構８を焼き付き防止しているが、本発明はこれに限らず、シリンダやスプール弁などの他の摺動機構部の焼き付き防止にも同様に適用することができる。
【符号の説明】
【００５７】
１ 水圧機器装置
３ 弁本体
５ 弁体支持穴
８ 摺動機構
１０ 弁体
２０ 多層皮膜
２０ａ 最表面層
２１ 隙間
３０ 球状の異物
３０Ａ 楕円球状の異物
ｔ 多層皮膜の厚み
Ｌ１ 隙間寸法
Ｌ２ 最大外径
Ｌ４ 設計上の隙間寸法
Ｌ５ 楕円球状の異物の最小外径
Ｌ６ 楕円球状の異物の最大外径
【特許請求の範囲】
【請求項１】
弁体と、
前記弁体をスライド可能に支持する弁体支持穴を有する支持部材と、
前記弁体支持穴の内面と前記弁体の外面との一方に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層として有する多層皮膜とを具備し、
前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径よりも大きいことを特徴とする摺動機構。
【請求項２】
請求項１に記載の摺動機構において、前記多層皮膜が形成された前記一方が、前記他方よりも硬いものであることを特徴とする摺動機構。
【請求項３】
請求項２に記載の摺動機構において、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径の０．５倍よりも大きいことを特徴とする摺動機構。
【請求項４】
弁体と、
前記弁体をスライド可能に支持する弁体支持穴を有する支持部材と、
前記弁体支持穴の内面と前記弁体の外面との一方に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層として有する多層皮膜とを具備し、
前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法よりも大きいことを特徴とする摺動機構。
【請求項５】
請求項４に記載の摺動機構において、前記多層皮膜が形成された前記一方が、前記他方よりも硬いものであることを特徴とする摺動機構。
【請求項６】
請求項５に記載の摺動機構において、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法の０．５倍よりも大きいことを特徴とする摺動機構。
【請求項１】
弁体と、
前記弁体をスライド可能に支持する弁体支持穴を有する支持部材と、
前記弁体支持穴の内面と前記弁体の外面との一方に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層として有する多層皮膜とを具備し、
前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径よりも大きいことを特徴とする摺動機構。
【請求項２】
請求項１に記載の摺動機構において、前記多層皮膜が形成された前記一方が、前記他方よりも硬いものであることを特徴とする摺動機構。
【請求項３】
請求項２に記載の摺動機構において、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との隙間に入り得る異物のうちの最大の外径を有する異物の前記外径の０．５倍よりも大きいことを特徴とする摺動機構。
【請求項４】
弁体と、
前記弁体をスライド可能に支持する弁体支持穴を有する支持部材と、
前記弁体支持穴の内面と前記弁体の外面との一方に多層で形成され、他方よりも硬い硬質層を最表面層として有する多層皮膜とを具備し、
前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法よりも大きいことを特徴とする摺動機構。
【請求項５】
請求項４に記載の摺動機構において、前記多層皮膜が形成された前記一方が、前記他方よりも硬いものであることを特徴とする摺動機構。
【請求項６】
請求項５に記載の摺動機構において、前記多層皮膜の厚みが、前記多層皮膜と前記他方との設計上の隙間寸法の０．５倍よりも大きいことを特徴とする摺動機構。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【公開番号】特開２０１１−１３７４９５（Ｐ２０１１−１３７４９５Ａ）
【公開日】平成２３年７月１４日（２０１１．７．１４）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００９−２９６８６４（Ｐ２００９−２９６８６４）
【出願日】平成２１年１２月２８日（２００９．１２．２８）
【出願人】（５０３４０５６８９）ナブテスコ株式会社 (737)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年７月１４日（２０１１．７．１４）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年１２月２８日（２００９．１２．２８）
【出願人】（５０３４０５６８９）ナブテスコ株式会社 (737)
【Ｆターム（参考）】
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