支持体の上に膜を蒸着するための方法及び設備
無機支持体上に膜を蒸着するための方法において、それが以下の操作を含むことを特徴とする方法：支持体を反応室（６，１０６，２０６）内に導入するか、又は支持体を反応室（６，１０６，２０６）内で走行させる、但し、反応室では少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）が配置され、少なくとも一つの誘電バリヤー（１４，１１４）がこれらの少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）の間に配置される；ＨＦ変圧器を含み、その二次側の端子に少なくとも二つの電極が接続される振幅及び周波数安定電力供給源を使用する；安定高周波電圧を前記変圧器の二次回路に発生する、但し、前記電圧は、少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）の間にフィラメント状プラズマ（１２，１１２，２１２）を発生するようなものである；少なくとも二つの電極を含む回路の固有インダクタと並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）を使用して、前記変圧器の二次側に発生される電圧と電流の間の位相シフトを減少する；混合物（８，１０８，２０８）を反応室（６，１０６，２０６）内に導入する、但し、前記混合物の組成は、プラズマと接触すると、それが分解し、支持体上に膜として蒸着されることができる種を生成するようなものである；安定電力供給源によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又は少なくとも二つの電極を含む回路と並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、有効電力／無効電力の比を高めるように方法の開始時又は方法の間に適合する；発電機回路によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又はインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、放電を維持するための電圧より大きい電圧を持つ時間、結果として電極間に電流が流れる時間を延ばす高調波の生成を促進するように適合する；及び支持体（２）を、前記支持体の少なくとも一つの側上に所望の厚さの膜を得るのに十分な時間の間、室内に保持する。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機支持体の上に膜を蒸着し、前記支持体の特性を変更するための方法に関する。特に、本発明は、ガラスプレート上に膜を同時に蒸着することを目的とする。
【０００２】
また、本発明は、問題の方法を特に連続的に適用するための設備に関する。
【背景技術】
【０００３】
様々な支持体の上に薄膜被覆を蒸着するために様々な方法が使用される。それらは特に、エネルギーが所望の化合物を生成するため及び／又はそれらを支持体に結合するために生成される方法によって異なる。
【０００４】
薄膜被覆の蒸着は、電子工学、耐腐食性及び摩擦被覆、例えば耐火膜（チタン又はアルミニウム窒化物、炭化物及び酸化物）、光学特性（反射防止、太陽光保護、フィルターなど）を有する被覆、他の特別な表面特性（抗微生物、自己クリーニング、親水性、疎水性など）を与える被覆、及び様々な用途（光電池、ＬＥＤ、ＯＬＥＤ、有機光電池など）のための導電性酸化スズ膜のような種々の用途に使用される。
【０００５】
問題の支持体は様々なタイプ、例えばガラス、鋼、セラミック、有機ポリマー、熱可塑性プラスチックなどからなるものであることができる。
【０００６】
特にガラス分野において適用可能な薄膜蒸着技術は次の四つに主に分類されることができる：ゾルゲル；磁気スパッタリング；熱分解噴霧；及びＣＶＤ（化学蒸着）。
【０００７】
ＣＶＤは、熱い支持体上に前もって蒸発された化学的反応体又はプリカーサを送ることにあり、その反応体及びプリカーサは、熱い支持体と接触すると熱分解によって分解する。
【０００８】
この方法はフロートガラスの製造時にオンラインで広く適用される。
【０００９】
従って、薄膜（数十又は数百ｎｍのオーダーの厚さ）、特に酸化物が得られる。得られた膜は緻密で高純度である。一般に、それらは化学的にかつ機械的に極めて安定している。蒸着速度は高い。
【００１０】
しかしながら、蒸着されることができる材料の範囲は限定される。なぜならば揮発されることができかつガラス製造者に利用可能な温度範囲（５００〜７５０℃）内で熱分解するプリカーサを見つけることは難しいからである。
【００１１】
支持体温度を回避し、それゆえＣＶＤで使用されうるプリカーサの範囲、従って蒸着されうる材料の範囲を広げる一つの可能な方法は、通常のＣＶＤ（任意選択的に低温）をプラズマ装置と組み合わせることである。
【００１２】
ＰＥＣＶＤ（プラズマ化学気相成長法）はいかなるプラズマを使用して適用してもよく、コールドプラズマ（平衡でない）又は熱プラズマ（平衡）を使用してもよい。
【００１３】
コールドプラズマが一般に好ましい。プラズマの活性種（電子、イオン、準安定など）は一般的には数ｅＶのエネルギーを持ち、従って化学プリカーサの解離又は活性化を起こしうる。
【００１４】
非平衡プラズマを維持するために、減圧で作用することが必要であることが多い。それゆえ、最も知られたＰＥＣＶＤ技術は低圧プラズマを使用する。
【００１５】
しかしながら、工業的な目的のためにこの方法を適用するために、コストを最小にすることが必要である。それゆえ、低圧プラズマ技術を大気圧に近い圧力範囲内で操作するプラズマ技術に移すことに工業的製造者の一部の関心が大きくなっている。
【００１６】
様々なプラズマタイプがプラズマ技術において知られている：
「グロー放電プラズマ」又は均一プラズマは、極めて均一な薄膜被覆の蒸着を可能にし、相対的に低いエネルギーレベルを要求する。しかしながら、それは長く、安定させるために制限された周波数領域内に制限されなければならない。それはまた、薄膜種の種類をより制限する。プラズマのエネルギーレベルを上げることは電気アークの発生を起こしうる。電極間に誘電プレートを配置することはグロー放電と電気アークの間の中間状態を得ることを可能にする。その状態は「フィラメント状態」と呼ばれる。フィラメントは本質的に不安定であるが、高エネルギーレベルを担持し、処理の時間の減少、従って支持体のスピードの加速を可能にする。他方、それらのランダムな製造のため、材料の逆説的に均一な蒸着速度が得られ、微小放電の極めて高い数値（一般的には１０６／ｃｍ２／秒）が所定の領域の１サイクル時に生成される。
【００１７】
通常のＣＶＤ処理方法の潜在的な可能性を大気圧プラズマ法の潜在的な可能性と合体させる努力がなされている。我々の選択は誘電バリヤー放電（ＤＢＤ）を使用することであった。これは、他のプラズマ法に対して、低圧及び大気圧の両方で操作し、大きい領域に対して連続的な処理を可能にする利点を有する。それは１メガワットまでのオーダーの有効電力を生成することを意味する。
【００１８】
かかる方法は、プラスチックを被覆するために例えばＷＯ２００５／１１３８５６においてずっと低い電力範囲について記載されている。ＷＯ２００４／０１３３７６は光触媒ＴｉＯ２膜の蒸着のための専用のプラズマＣＶＤ法を記載する。この方法は、蒸着された被覆のグロー放電プラズマ後処理を要求する。
【００１９】
引用された両ケースにおいて、方法はあまり良くないエネルギー効率を持つ主要な欠点を有する。発生した電力のほとんどは純粋な損失として散逸される。問題は大部分において放電回路の容量インピーダンスに起因する。その容量インピーダンスは電極間の距離（結果として電極とそれらの間に配置された支持体との間の距離）が大きいほど高い。
【００２０】
ＪＰ２００６／３１６２９９は、様々な組成の膜で両側被覆するための設備を記載する。
【００２１】
ＷＯ２００７／０８９１４６は感熱性の表面（三酢酸セルロース）のグロー放電モードでの処理のための装置を記載する。伴なわれる電力レベルは相対的に低い（３００〜８００Ｗ）。この装置は特定の電力供給タイプ（パルスパワー発生器）を使用する。インピーダンスは、誘導コイルを並列及び直列に使用するだけのために、負荷を安定化させるのではなく、プラズマ放電で発生したプリカーサの分裂の程度を高めるために使用される。
【００２２】
ＪＰ２００７／２７３９１５は、二次側にＲＬＣ回路を与えられた低電力（５００Ｗ）真空プラズマ処理法を記載する。著者は、回路の共振に接近するのを補償するときに処理の効率が良好になることを報告する。
【００２３】
ＥＰ５１１０４４は、ガラス容積の一方の側だけの上に蒸着するための設備を記載する。
【発明の概要】
【００２４】
本発明の第一目的は、ＤＢＤ法を使用して無機支持体上に膜を蒸着するための高電力設備のエネルギー効率を改良することである。
【００２５】
別の目的は、エネルギー効率を不当に劣化させずに蒸着の効率を改良することである。
【００２６】
本発明の別の目的は、この改良が様々なタイプの製造によって課される条件、特に様々な厚さの支持体、異なる膜のタイプなどにかかわらず、その効率を維持することを確実にすることである。
【００２７】
本発明の一つの主題は、無機支持体の上に膜を蒸着するための方法において、それが以下の操作を含むことを特徴とする方法である：
−支持体を反応室内に導入するか、又は支持体を反応室内で走行させる、但し、反応室では少なくとも二つの電極が配置され、少なくとも一つの誘電バリヤーがこれらの少なくとも二つの電極の間に配置される；
−ＨＦ変圧器を含み、その二次側の端子に少なくとも二つの電極が接続される振幅及び周波数安定電力供給源を使用する；
−安定高周波電圧をこの変圧器の二次回路に発生する、但し、前記電圧は、少なくとも二つの電極の間にフィラメント状プラズマを発生するようなものである；
−少なくとも二つの電極を含む回路の固有インダクタと並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）を使用して、変圧器の二次側に発生される電圧と電流の間の位相シフトを減少する；
−混合物を反応室内に導入する、但し、前記混合物の組成は、プラズマと接触すると、それが分解し、支持体の対応する側上に膜として蒸着されることができる種を生成するようなものである；
−安定電力供給源によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又は少なくとも二つの電極を含む回路と並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、有効電力／無効電力の比を高めるように方法の開始時又は方法の間に適合する；
−発電機回路によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又はインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、放電を維持するための電圧より高い電圧を持つ時間、結果として電極間に電流が流れる時間を延ばす高調波の生成を促進するように適合する；及び
−支持体を、前記支持体の少なくとも一方の側上に所望の厚さの膜を得るのに十分な時間の間、室内に保持する。
【００２８】
本発明の方法は「工程（ｓｔｅｐｓ）」よりむしろ「操作（ｏｐｅｒａｔｉｏｎｓ）」に関して規定され、即ち、操作の連続は操作が上で示された順序で必ずしも実施される必要がないことに注意されるべきである。
【００２９】
本発明の方法の第一利点は、フィラメント状プラズマによって供給されるエネルギーが微細に調整されることができ、それによって多くの種類の組成を有する膜が蒸着されることを可能にすることである。
【００３０】
この実施形態の利点は、高調波の意図的な発生にかかわらず、回路内へのインダクタの導入が設備の力率を改良し、従ってその効率をかなり高めることである。この実施形態の別の利点は、蒸着された膜の特性をなお改良しながら、高い蒸着速度を得るために十分な活性エネルギーを発生できることである。
【００３１】
好ましい実施形態によれば、三次及び五次の高調波が本質的に促進される。
【００３２】
この実施形態の一つの利点は、同じ消費電力に対して、方法の効率が大きく改善されることである。
【００３３】
有利な実施形態によれば、方法は以下の操作をさらに含む：電極の位置及び／又は構成は、最適な反応特性を得るように変化される。特に、これらの基準は電気回路の特性を変化するように使用され、それゆえそれらは電流の構成に影響を持つ。
【００３４】
有利な実施形態によれば、方法は、室内の雰囲気が予め決められた圧力にもたらされる操作をさらに含む。
【００３５】
好ましい実施形態によれば、室は開放されており、支持体のための入口領域及び出口領域を含み、それによって本発明の方法を連続表面処理操作に一体化させることができる。
【００３６】
有利には、支持体は絶縁しており、それ自体が少なくとも二つの電極の間に配置された誘電バリヤーを形成する。さらに、もし支持体が代わりに導電性であるなら、これはそれ自体電極の一つを構成してもよい。
【００３７】
混合物は好ましくは噴霧液、ガス又は反応性粉末の形で反応室内に導入される。
【００３８】
設備の電力は好ましくは少なくとも１００ｋＷ、より好ましくは少なくとも２００ｋＷである。好ましくは、設備の電力は少なくとも５００ｋＷである。実際には、設備の電力は１ＭＷ以上までの電力を達成することができる。
【００３９】
本発明の別の主題は、無機支持体上に膜を蒸着するための設備であって、室；室内に支持体を導入するための輸送手段及び支持手段；ＨＦ変圧器を含み、その二次側の端子に少なくとも二つの電極が接続され、前記電極が支持体の各側上に配置される安定高電圧高周波電力供給源；少なくとも二つの電極の間の少なくとも一つの誘電バリヤー；有効電力／無効電力の比を高めることができるＨＦ変圧器の上流に配置された電力供給調整／制御手段；反応性物質を室内に導入するための手段；及び残留物質を抽出するための手段を含む設備において、調整可能なインダクタが、少なくとも二つの電極を含む回路と並列に変圧器の二次回路に配置され、この調整可能なインダクタの特性が、電極間に発生される電圧と高電圧源によって送出される全電流との間の位相シフトを調節することができるようなものであり、変圧器の一次側に配置された電力供給調整手段、及び／又はインダクタを制御するための手段が、電極間に電流が流れる時間を延ばす高調波を生成することができることを特徴とする蒸着設備である。
【００４０】
有利な実施形態によれば、室はその端の両方で開放されており、それによって蒸着工程を連続製造設備内に組み込むことを可能にする。本発明では、室は有利にはフロートガラス製造ライン内に含めることができ、支持体の支持手段は溶融スズの浴を含む。
【００４１】
有利な実施形態によれば、溶融スズの浴は電極の一つを構成する。
【００４２】
有利な実施形態によれば、設備は、アニール炉を含む製造ライン内に組み込まれ、室はこのアニール炉に配置され、支持体の支持手段は少なくとも一つのローラを含む。
【００４３】
有利には、プラズマは、膜が支持体の各側上に同時に蒸着されるような方法で支持体の各側上に一つずつある二つの別個の領域で発生されることができる。
【００４４】
有利な実施形態によれば、設備はインダクタを含む。このインダクタは、マンドレルのまわりに巻かれる、互いに絶縁された導電性要素の束からなるコイル；このマンドレル内に配置されかつこのマンドレルから絶縁され、インサートによって複数の区域に分割された磁気プランジャー芯；プランジャー芯に接続された位置決め装置；プランジャー芯を位置決め装置に接続する絶縁接続手段；及びマンドレルに対する磁気プランジャー芯の位置を調整するように位置決め装置に作用することができる制御システムを含む。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
本発明の他の利点及び特徴は、図を参照して本発明の特別な実施形態の以下の詳細な記述から明らかになるだろう。
【００４６】
【図１】図１は、ガラス支持体上に膜を蒸着するための設備の概略側面図である。
【００４７】
【図２】図２は、プラズマ形成前の図１の設備のための等価な回路図である。
【００４８】
【図３】図３は、プラズマ生成後の図１の設備のための等価な回路図である。
【００４９】
【図４】図４は、本発明による設備のための等価な回路図である。
【００５０】
【図５】図５は、従来の電圧／電流のオシログラムである。
【００５１】
【図６】図６は、設備に特有の電圧／電流のオシログラムである。
【００５２】
【図７】図７は、本発明の設備のための電力供給システムのより詳細な等価な回路図である。
【００５３】
【図８】図８は、本発明によるガラス支持体上への膜蒸着のための両端で開放している設備の一つの実施形態の概略側面図である。
【００５４】
【図９】図９は、絶縁支持体の場合の設備の一実施形態の概略側面図であり、それは、蒸着室で一般に行われる条件下で、支持体自身が誘電バリヤーを形成し、それによって追加の誘電バリヤーを使用しない可能性を与える。
【００５５】
【図１０】図１０は、本発明による設備のための誘導コイルの概略側面図である。
【００５６】
【図１１】図１１は、図１０に示された誘導コイルに使用される巻線のストランドの横断面図である。
【００５７】
図面は必ずしも縮尺通りではない。
【００５８】
一般に、同様の要素は図において同様の参照符号によって示される。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
図１は、本発明による設備の概略図であり、それはここでは「フロートガラス」法によってガラスの連続製造に適用される。特に、処理室は溶融スズの浴の上に配置される。上に表面層を蒸着することを意図される支持体はここでは液体スズの浴４の上を移動するガラス２の連続キャストシートである。移動の方向は図においてシートの平面に対応する。その走行移動中、ガラスシート２は、端の両方（入口及び出口）が開放された「室」６に入る。良く知られたＣＶＤ技術を使用して、反応性混合物８が室６内に導入される。反応体を導入する方法（図１においては向流）は例示によって与えられることに注意されるべきである。他のいかなる形態の導入方法（支持体に垂直など）も除外しない。
【００６０】
凝固したガラスシート２はまだ比較的高い温度にあるので、それは所望の組成の膜の蒸着を促進する追加の熱エネルギーを混合物８に与える。設備の位置に依存して、ガラスシートの温度は６００℃〜７５０℃であるだろう。反応のために利用可能なエネルギーをさらに増加するために、二つの電極が室６に配置される。これらの電極の一つは液体スズの浴４（アースされている）以外に何もなく、他の電極１０はガラスシート２の走行方向に垂直な軸に沿って延びる。図１に描かれた電極の形状は例示によって与えられる。他のいかなる幾何学的形状も除外されない。
【００６１】
高周波高電圧がこれらの電極４，１０の間に適用されるので、（平行線によって概略的に示される）プラズマ１２が発生され、それから室内に導入される反応体８は高いエネルギーを引き寄せ、多くの種類の化合物がガラスシートの上に蒸着されることを可能にする。電圧は好ましくはピーク間で１ｋＶ〜２００ｋＶであり、より好ましくはピーク間で５ｋＶ〜１００ｋＶであり、さらにより好ましくはピーク間で１０ｋＶ〜４０ｋＶである。周波数は好ましくは１０ｋＨｚ〜１０００ｋＨｚであり、より好ましくは２０ｋＨｚ〜４００ｋＨｚ、さらにより好ましくは５０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚである。
【００６２】
二つの電極間に電気アークを直接形成する危険の可能性を低下するために、誘電バリヤー１４を二つの電極４及び１０の位置間で室に配置してもよい。室６は開放タイプであるので、蒸着工程によって発生した熱分解残留物及びダストを除去する強力な抽出手段を使用することも必要である。溶融スズの浴において上述したことは必要な改良を加えてアニール炉に適用し、溶融スズの浴は例えばローラと地面の間に配置された金属電極で置換されることは言うまでもない。この状況において、支持体の温度は２０℃〜６００℃で変化させることができる。
【００６３】
このタイプの方法において一般に起こる問題は、実験段階から工業生産まで拡大することを望むときにいつでも、プラズマを発生するために消費されるエネルギーに対して得られる低い効率である。結果として、この効率は、方法をエネルギー的に有利にするだけでなく、蒸着された膜の特性を改良しながら高い蒸着速度を得るために十分な活性エネルギーを発生することができるように改良されなければならない。それゆえ、エネルギーに関与する全てのファクターの徹底的な研究が企てられ、それによって問題の設備を図２及び３に示すような二つの等価な回路図に極めて概略的に限定できるようになった。
【００６４】
図２は、点弧前の設備のための極めて簡略化した等価な回路図であり、高い電圧が電極４，１０間に適用される。室６において放電を設置することは、並列及び直列で容量、即ちＣｐ（寄生抵抗Ｒｐと並列に寄生容量）、Ｃｄ（誘電体の容量）、Ｃｖ（ガラスの容量）及びＣｇ（ガスの容量）を加えることに本質的に相当する。
【００６５】
図３は、プラズマが発生されるときの同じ回路図を示す。このときに、Ｃｇは抵抗Ｒｇによって分路を作られ、それはプラズマの抵抗を表す。
【００６６】
放電がない場合（即ち、電極間で適用される電圧が点弧電圧以下である限り）、Ｒｇの値は極めて高く、電源によって送出される全電流は実際には純粋に容量性であり、反応部は上部電極及び／又は下部電極の絶縁体の誘電損失に及び支持体に本質的に依存する。放電時、プラズマを通して流れる「有用な」電流Ｉｇは常に、その容量性成分と比較して低いままである。それゆえ、電圧源の使用は限定され、送出される電力は極めて高い無効電流を生成する際に消失され、一方、放電に「ワット化された」（同相）電力を送出する有効成分（Ｐｗ＝ＲｇＩｇ２）だけが有用である。
【００６７】
まずワット化された電力の不足を補償するために、設備と並列に「エネルギーリザーバ」として作用する誘導コイルＬを配置することが考えられ、容量性負荷によって吸収されるエネルギーと反対の位相で電流を発生することができる。これは、関与するエネルギーのほとんど完全な回収を可能にする。それゆえ、図４に示された等価な回路図が得られる。
【００６８】
しかしながら、このタイプの補償は例えば電流分布線と並列に誘導コイルを配置することによって得られた補償と似ていないし、ポリマーシートを被覆するために使用されるような比較的低い電力のプラズマ（グロー放電プラズマ）を発生するための設備とも似ていないことが指摘されるべきである。これは、ここで関係するものが配電網の場合のように固定された容量性成分ではなく、周波数（ここではキロヘルツ周波数）、支持体の厚さ、及び室内に導入される反応体（それはガス及びプラズマなどの電気及び誘電特性の変動を誘発する）に従って著しく変動可能な負荷であるためである。結果として、高電圧で高電力設備（数百ｋＷのオーダ）で発生した負荷条件に耐えることがもちろんできるだけでなく、各タイプの製造時に課された条件に従って相対的に細かく調整される可能性を持つことができる、極めて特別なタイプの誘導コイルを使用することが必要である。これは、生じた負荷が特に様々な方法パラメータ、例えば反応体の性質、ガラスの厚さ、ガス間隙などによって変化するためである。ガス間隙は好ましくは０．５ｍｍ〜１００ｍｍ、より好ましくは１ｍｍ〜２０ｍｍ、さらにより好ましくは３ｍｍ〜６ｍｍである。
【００６９】
確固とした具体的な方法で本発明の方法を使用する可能性を示す様々な試行は、この方法の有利な予期せぬ結果を輝かせるようにもたらした。
【００７０】
図５は、別の現象がＤＢＤプラズマ膜蒸着設備の凡庸な効率に対して部分的に関係することを示す。ＨＦ高電圧が各半周期で適用されるとき、適用される電圧が点弧電圧Ｖ１以上である期間ｔ１にわたってのみ放電が維持されることができる。この時間間隔は上記のパラメータに密接に関係する。もちろん、この現象は各半周期で繰り返される。それゆえ、方法の効率は半周期の長さに対するｔ１の比率によって制限される。
【００７１】
フーリエの法則によれば、もし電力源が非線形双極子を供給するなら、生じた電流は線形とはならず、複雑な形となり、それは幾つかの曲線の重ね合わせ、即ち「基本」周波数及び高調波の合計を有するものに分解されうる。
【００７２】
本ケースでは、回路に誘導コイルを挿入することにより、図６に示すように、プラズマを通る電流の流れに相当する曲線のゆがみを生じることが見い出された。この曲線はフーリエ級数の原理を使用して基本周波数と高調波の級数に分解されることができ、その最も有意なものはそれらの振幅のために第三及び第五の奇数高調波である。図６でわかるように、電流に相当する曲線は、図５に示された曲線で観察される時間間隔ｔ１よりずっと長い時間間隔ｔ２にわたって一種の「平坦（ｐｌａｔｅａｕ）」を有する。この時間間隔の長さは回路の特性、特にＶＨＶ変圧器の二次側に配置されたインダクタＬのインダクタンス及び周波数を変化することによって最適化されることができる。結果として、本発明の設備では、好適な特性の調整可能な誘導コイルを挿入することによって、全ての他のものを等しいとした場合に、有効電力の増加だけでなく、長い放電時間、結果としてずっと良好なエネルギー効率を得ることができる。
【００７３】
図７は、図４に描かれたものより完全な等価な回路図を示し、設備自体の従来技術と比較した場合の特徴をさらに良好に示す。この回路図を参照すると、安定しかつ最適に補償された電圧／電流曲線（ｃｏｓφ）を持つことを可能にする全ての調整（フィルタリング、補償など）が供給変圧器６０２の一次側６０１で本質的に実施されることがわかる。結果として、この変圧器６０２の二次回路６０４の図６に示された位相シフトを達成するために必要な唯一の調整手段は、プラズマ発生器と並列に配置されかつ極めて高い電圧で作用するように特別に設計された可変誘導コイル６０６である。
【００７４】
それゆえ、電力供給は次の方法で制御される：インバータ６０８（それはＤＣ供給電流をＡＣ電流に変換する）、並列発振回路、及び操作周波数を調整しかつ正確な有効電力を与えるための可変誘導コイルＬＶ１からなる非周期的発電機が使用される。極めて高い電力変圧器の一次回路には、電力制御装置６１０及びその関連安全回路（Ｐ／Ｓ）６１２が配置されている。
【００７５】
図７に示された回路図のおかげで、その後、ＬＶ２，Ｃｒ及びＣｐによって形成された負荷が安定なプラズマを半周期についてかなりの長い時間維持することができる三次及び五次高調波を促進するように非線形のままであるような方法で誘導コイルＬＶ２のインダクタンスを調整することは極めて簡単である（図５及び６参照）。
【００７６】
それゆえ、変圧器の一次側６０１及び二次側６０４でそれぞれ実施される操作は明らかな矛盾で作用する。その目的は、まず（一次側で）設備のｃｏｓφを増加すること（それによってその見掛けの効率を増加すること）であり、さらに、二次側で、この最適値が高調波を発生するように低下され、それは逆説的にプラズマ蒸着の効率を増加する。
【００７７】
もし二次回路内に挿入される極めて高い電力誘導コイルが極めて高い電圧まで上げられることが加えられるなら、かくして設計された設備は当業者には逆説的な一連の特徴を含む。
【００７８】
有効電力は好ましくは少なくとも１０％、より好ましくは少なくとも２５％、さらにより好ましくは少なくとも５０％増加される。放電時間は好ましくは少なくとも１５％、より好ましくは少なくとも３０％、さらにより好ましくは少なくとも６０％増加される。誘導コイルの「最適な」インダクタンスを決定するために、（変圧器を含む）電力供給回路の固有インダクタンスを考慮することが必要であり、前記固有インダクタンスは必ずしも無視できないことが注意されるべきである。電力供給回路がそれ自身の共振周波数を持つので、Ｌのインダクタンスはある条件下では大きく減少されてもよい。
【００７９】
当業者は、変圧器６０２の巻き数を減らし、従ってその全体のサイズもかなり減らすことによってＶＨＶを得るように一次回路において容量電圧３倍器（Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３）を使用することもできることは言うまでもない。
【００８０】
記載した方法の利点のうち、以下のものが述べられうる：
−蒸着効率の向上のため、使用される化学反応体の量を減らすことができる。結果として、製造コスト及び環境に対する衝撃の低下を別として、設備の汚れが少ないことが観察され、それによって追加のコストの節約が行なえる；
−蒸着速度が高くなり、結果として処理時間が少なくなる。結果として、高いスピードで移動する支持体が連続的に処理されることができる。逆に、処理室の幅は減少され、従って無視できない空間の節約が行なえる。最後に、単一の通過でずっと厚い膜を得る可能性があり、それは特にこれらの膜の特性の見地から有利であることが証明されうる；
−プリカーサの良好な分解がプラズマ内で起こる反応時に観察される。結果として、膜中の有機残留物の存在が避けられる。さらに、蒸着された膜はより緻密で、良好に結晶化され、従って蒸着された膜の光学的及び機械的特性の両方が改良される；
−膜の形で支持体上に蒸着される様々な種を増加することもでき、再び環境的な衝撃が少ない。
【００８１】
最後に、図８に示されるように、特性の賢明な選択によって、ガラス２の両側上にそれぞれの上に異なる種が蒸着される場合であっても同時に作用することもできる。なぜならば様々なトリック（物理的分離又は抽出装置を好適に配置する）を使用して二つのプラズマ領域（１１２，２１２）においてガラス２の各側上に異なる反応性物質１０８，２０８を導入する可能性があるからである。さらに、被覆される支持体２と誘電体（１４，１１４）で覆われた二つの電極（１１０，２１０）の間の距離はまた、所望の蒸着基準に従って調整されてもよい。かかる設備のための等価な回路図はより複雑であること、そして本発明による設備の調整可能なインダクタ特性の存在によってのみその特性を制御することができることは言うまでもない。加えて、直列でコンデンサとして作用する二つの間隙の存在は先験的に放電電流を減らし、従って本発明の利益を減らす。
【００８２】
ガラスのプレカット容積のように不連続な支持体に関する開放した設備に、必要な変更を加えて連続ガラスキャスティング設備のために上述したことを適用することは言うまでもない（設備は例えば強化ライン内に組み込むことができる）。図８の室は、別個のガラス容積上に不連続な膜を蒸着する方法のために設計された閉鎖室によって置換されることができる。この場合において、一つ又は二つの閉鎖装置は大気圧で作用することを可能にするか、又は大気圧から十分に離れた圧力（一般的には、１０−１Ｐａ〜１１０ｋＰａ）で作用することを可能にする（図１に示された設備の場合において、周囲圧力から離れて移動するために強力な抽出装置を使用することが必要である）。減圧で操作する方法の場合には、反応体（１０８，２０８）は、操作者の健康をいかなる点でも危険にさらすことなしに、低い蒸気圧を有するもの及び／又は毒性の強いものを使用することができる。かかる設備は例えば磁気スパッタリングタイプの低圧で作用する膜蒸着ライン内に組み入れることができる。
【００８３】
支持体の両側でフィラメント状プラズマを発生することと関連した利点は多数ある。実際、両側を処理された支持体に対する技術的適用の数はずっと増加している。
【００８４】
図９は、図７に示された設備の変形例である。もし支持体が絶縁性であるなら、追加の誘電体（１４，１１４）をなしで済ますことができる。
【００８５】
図１０は、本発明の設備のための補償誘導コイル２０の一実施形態の簡略図である。この誘導コイル２０は、マンドレル２４のまわりに巻かれた巻線２２から本質的に作られる。その端子を横切る電圧は６０ｋＶであってもよいので、巻線を支持するマンドレルのために使用される材料の選択は極めて重要である。有利には、Ａｃｃｕｌｏｎが使用された。制御システムによって制御された位置決め装置２８に機械的に接続されかつ入念に絶縁されたプランジャー芯２６はこのマンドレル２４の内側に配置される。この誘導コイルが使用時に直面しなければならない特定の操作条件に照らすと、その実際の構成における一連の新機軸が採用される。従って、巻線２２は一束の銅線３０で作られ（図１１参照）、それは（表皮効果を考慮して）ＨＦ電流のための流れ断面を増加し、かつ加熱を減らすように絶縁されている。従って、５０個の相互に絶縁されたストランドからなる導電体の束を製造することによって全ＨＦ電流を５０の数で割ることができる。巻きピッチは、巻き間のアーク放電の危険ができるだけ低いように固定される。それゆえ、単一層から作られる巻線が好ましいが、それは装置全体が大きいという結果を招く。磁気芯２６の位置、それゆえ誘導コイル２０のインダクタンスは、この操作が操作者に対する危険なしで実施されることができるように遠隔制御によって調整される。
【００８６】
本発明は上で示しかつ記載された例示的実施形態に制限されないことは当業者に明らかである。本発明は、新規な特徴の各々及びそれらの組み合わせを含む。参照符号の存在は限定と見なすことはできない。用語「含む、備える（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」又は用語「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」は、述べられたもの以外の他の要素の存在をいかなる点でも除外できない。要素を導入するための不定冠詞（「ａ」又は「ａｎ」）の使用は複数のこれらの要素の存在を除外しない。本発明は特定の実施形態に関して記載され、それは純粋に例示であり、限定であると見なしてはならない。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、無機支持体の上に膜を蒸着し、前記支持体の特性を変更するための方法に関する。特に、本発明は、ガラスプレート上に膜を同時に蒸着することを目的とする。
【０００２】
また、本発明は、問題の方法を特に連続的に適用するための設備に関する。
【背景技術】
【０００３】
様々な支持体の上に薄膜被覆を蒸着するために様々な方法が使用される。それらは特に、エネルギーが所望の化合物を生成するため及び／又はそれらを支持体に結合するために生成される方法によって異なる。
【０００４】
薄膜被覆の蒸着は、電子工学、耐腐食性及び摩擦被覆、例えば耐火膜（チタン又はアルミニウム窒化物、炭化物及び酸化物）、光学特性（反射防止、太陽光保護、フィルターなど）を有する被覆、他の特別な表面特性（抗微生物、自己クリーニング、親水性、疎水性など）を与える被覆、及び様々な用途（光電池、ＬＥＤ、ＯＬＥＤ、有機光電池など）のための導電性酸化スズ膜のような種々の用途に使用される。
【０００５】
問題の支持体は様々なタイプ、例えばガラス、鋼、セラミック、有機ポリマー、熱可塑性プラスチックなどからなるものであることができる。
【０００６】
特にガラス分野において適用可能な薄膜蒸着技術は次の四つに主に分類されることができる：ゾルゲル；磁気スパッタリング；熱分解噴霧；及びＣＶＤ（化学蒸着）。
【０００７】
ＣＶＤは、熱い支持体上に前もって蒸発された化学的反応体又はプリカーサを送ることにあり、その反応体及びプリカーサは、熱い支持体と接触すると熱分解によって分解する。
【０００８】
この方法はフロートガラスの製造時にオンラインで広く適用される。
【０００９】
従って、薄膜（数十又は数百ｎｍのオーダーの厚さ）、特に酸化物が得られる。得られた膜は緻密で高純度である。一般に、それらは化学的にかつ機械的に極めて安定している。蒸着速度は高い。
【００１０】
しかしながら、蒸着されることができる材料の範囲は限定される。なぜならば揮発されることができかつガラス製造者に利用可能な温度範囲（５００〜７５０℃）内で熱分解するプリカーサを見つけることは難しいからである。
【００１１】
支持体温度を回避し、それゆえＣＶＤで使用されうるプリカーサの範囲、従って蒸着されうる材料の範囲を広げる一つの可能な方法は、通常のＣＶＤ（任意選択的に低温）をプラズマ装置と組み合わせることである。
【００１２】
ＰＥＣＶＤ（プラズマ化学気相成長法）はいかなるプラズマを使用して適用してもよく、コールドプラズマ（平衡でない）又は熱プラズマ（平衡）を使用してもよい。
【００１３】
コールドプラズマが一般に好ましい。プラズマの活性種（電子、イオン、準安定など）は一般的には数ｅＶのエネルギーを持ち、従って化学プリカーサの解離又は活性化を起こしうる。
【００１４】
非平衡プラズマを維持するために、減圧で作用することが必要であることが多い。それゆえ、最も知られたＰＥＣＶＤ技術は低圧プラズマを使用する。
【００１５】
しかしながら、工業的な目的のためにこの方法を適用するために、コストを最小にすることが必要である。それゆえ、低圧プラズマ技術を大気圧に近い圧力範囲内で操作するプラズマ技術に移すことに工業的製造者の一部の関心が大きくなっている。
【００１６】
様々なプラズマタイプがプラズマ技術において知られている：
「グロー放電プラズマ」又は均一プラズマは、極めて均一な薄膜被覆の蒸着を可能にし、相対的に低いエネルギーレベルを要求する。しかしながら、それは長く、安定させるために制限された周波数領域内に制限されなければならない。それはまた、薄膜種の種類をより制限する。プラズマのエネルギーレベルを上げることは電気アークの発生を起こしうる。電極間に誘電プレートを配置することはグロー放電と電気アークの間の中間状態を得ることを可能にする。その状態は「フィラメント状態」と呼ばれる。フィラメントは本質的に不安定であるが、高エネルギーレベルを担持し、処理の時間の減少、従って支持体のスピードの加速を可能にする。他方、それらのランダムな製造のため、材料の逆説的に均一な蒸着速度が得られ、微小放電の極めて高い数値（一般的には１０６／ｃｍ２／秒）が所定の領域の１サイクル時に生成される。
【００１７】
通常のＣＶＤ処理方法の潜在的な可能性を大気圧プラズマ法の潜在的な可能性と合体させる努力がなされている。我々の選択は誘電バリヤー放電（ＤＢＤ）を使用することであった。これは、他のプラズマ法に対して、低圧及び大気圧の両方で操作し、大きい領域に対して連続的な処理を可能にする利点を有する。それは１メガワットまでのオーダーの有効電力を生成することを意味する。
【００１８】
かかる方法は、プラスチックを被覆するために例えばＷＯ２００５／１１３８５６においてずっと低い電力範囲について記載されている。ＷＯ２００４／０１３３７６は光触媒ＴｉＯ２膜の蒸着のための専用のプラズマＣＶＤ法を記載する。この方法は、蒸着された被覆のグロー放電プラズマ後処理を要求する。
【００１９】
引用された両ケースにおいて、方法はあまり良くないエネルギー効率を持つ主要な欠点を有する。発生した電力のほとんどは純粋な損失として散逸される。問題は大部分において放電回路の容量インピーダンスに起因する。その容量インピーダンスは電極間の距離（結果として電極とそれらの間に配置された支持体との間の距離）が大きいほど高い。
【００２０】
ＪＰ２００６／３１６２９９は、様々な組成の膜で両側被覆するための設備を記載する。
【００２１】
ＷＯ２００７／０８９１４６は感熱性の表面（三酢酸セルロース）のグロー放電モードでの処理のための装置を記載する。伴なわれる電力レベルは相対的に低い（３００〜８００Ｗ）。この装置は特定の電力供給タイプ（パルスパワー発生器）を使用する。インピーダンスは、誘導コイルを並列及び直列に使用するだけのために、負荷を安定化させるのではなく、プラズマ放電で発生したプリカーサの分裂の程度を高めるために使用される。
【００２２】
ＪＰ２００７／２７３９１５は、二次側にＲＬＣ回路を与えられた低電力（５００Ｗ）真空プラズマ処理法を記載する。著者は、回路の共振に接近するのを補償するときに処理の効率が良好になることを報告する。
【００２３】
ＥＰ５１１０４４は、ガラス容積の一方の側だけの上に蒸着するための設備を記載する。
【発明の概要】
【００２４】
本発明の第一目的は、ＤＢＤ法を使用して無機支持体上に膜を蒸着するための高電力設備のエネルギー効率を改良することである。
【００２５】
別の目的は、エネルギー効率を不当に劣化させずに蒸着の効率を改良することである。
【００２６】
本発明の別の目的は、この改良が様々なタイプの製造によって課される条件、特に様々な厚さの支持体、異なる膜のタイプなどにかかわらず、その効率を維持することを確実にすることである。
【００２７】
本発明の一つの主題は、無機支持体の上に膜を蒸着するための方法において、それが以下の操作を含むことを特徴とする方法である：
−支持体を反応室内に導入するか、又は支持体を反応室内で走行させる、但し、反応室では少なくとも二つの電極が配置され、少なくとも一つの誘電バリヤーがこれらの少なくとも二つの電極の間に配置される；
−ＨＦ変圧器を含み、その二次側の端子に少なくとも二つの電極が接続される振幅及び周波数安定電力供給源を使用する；
−安定高周波電圧をこの変圧器の二次回路に発生する、但し、前記電圧は、少なくとも二つの電極の間にフィラメント状プラズマを発生するようなものである；
−少なくとも二つの電極を含む回路の固有インダクタと並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）を使用して、変圧器の二次側に発生される電圧と電流の間の位相シフトを減少する；
−混合物を反応室内に導入する、但し、前記混合物の組成は、プラズマと接触すると、それが分解し、支持体の対応する側上に膜として蒸着されることができる種を生成するようなものである；
−安定電力供給源によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又は少なくとも二つの電極を含む回路と並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、有効電力／無効電力の比を高めるように方法の開始時又は方法の間に適合する；
−発電機回路によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又はインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、放電を維持するための電圧より高い電圧を持つ時間、結果として電極間に電流が流れる時間を延ばす高調波の生成を促進するように適合する；及び
−支持体を、前記支持体の少なくとも一方の側上に所望の厚さの膜を得るのに十分な時間の間、室内に保持する。
【００２８】
本発明の方法は「工程（ｓｔｅｐｓ）」よりむしろ「操作（ｏｐｅｒａｔｉｏｎｓ）」に関して規定され、即ち、操作の連続は操作が上で示された順序で必ずしも実施される必要がないことに注意されるべきである。
【００２９】
本発明の方法の第一利点は、フィラメント状プラズマによって供給されるエネルギーが微細に調整されることができ、それによって多くの種類の組成を有する膜が蒸着されることを可能にすることである。
【００３０】
この実施形態の利点は、高調波の意図的な発生にかかわらず、回路内へのインダクタの導入が設備の力率を改良し、従ってその効率をかなり高めることである。この実施形態の別の利点は、蒸着された膜の特性をなお改良しながら、高い蒸着速度を得るために十分な活性エネルギーを発生できることである。
【００３１】
好ましい実施形態によれば、三次及び五次の高調波が本質的に促進される。
【００３２】
この実施形態の一つの利点は、同じ消費電力に対して、方法の効率が大きく改善されることである。
【００３３】
有利な実施形態によれば、方法は以下の操作をさらに含む：電極の位置及び／又は構成は、最適な反応特性を得るように変化される。特に、これらの基準は電気回路の特性を変化するように使用され、それゆえそれらは電流の構成に影響を持つ。
【００３４】
有利な実施形態によれば、方法は、室内の雰囲気が予め決められた圧力にもたらされる操作をさらに含む。
【００３５】
好ましい実施形態によれば、室は開放されており、支持体のための入口領域及び出口領域を含み、それによって本発明の方法を連続表面処理操作に一体化させることができる。
【００３６】
有利には、支持体は絶縁しており、それ自体が少なくとも二つの電極の間に配置された誘電バリヤーを形成する。さらに、もし支持体が代わりに導電性であるなら、これはそれ自体電極の一つを構成してもよい。
【００３７】
混合物は好ましくは噴霧液、ガス又は反応性粉末の形で反応室内に導入される。
【００３８】
設備の電力は好ましくは少なくとも１００ｋＷ、より好ましくは少なくとも２００ｋＷである。好ましくは、設備の電力は少なくとも５００ｋＷである。実際には、設備の電力は１ＭＷ以上までの電力を達成することができる。
【００３９】
本発明の別の主題は、無機支持体上に膜を蒸着するための設備であって、室；室内に支持体を導入するための輸送手段及び支持手段；ＨＦ変圧器を含み、その二次側の端子に少なくとも二つの電極が接続され、前記電極が支持体の各側上に配置される安定高電圧高周波電力供給源；少なくとも二つの電極の間の少なくとも一つの誘電バリヤー；有効電力／無効電力の比を高めることができるＨＦ変圧器の上流に配置された電力供給調整／制御手段；反応性物質を室内に導入するための手段；及び残留物質を抽出するための手段を含む設備において、調整可能なインダクタが、少なくとも二つの電極を含む回路と並列に変圧器の二次回路に配置され、この調整可能なインダクタの特性が、電極間に発生される電圧と高電圧源によって送出される全電流との間の位相シフトを調節することができるようなものであり、変圧器の一次側に配置された電力供給調整手段、及び／又はインダクタを制御するための手段が、電極間に電流が流れる時間を延ばす高調波を生成することができることを特徴とする蒸着設備である。
【００４０】
有利な実施形態によれば、室はその端の両方で開放されており、それによって蒸着工程を連続製造設備内に組み込むことを可能にする。本発明では、室は有利にはフロートガラス製造ライン内に含めることができ、支持体の支持手段は溶融スズの浴を含む。
【００４１】
有利な実施形態によれば、溶融スズの浴は電極の一つを構成する。
【００４２】
有利な実施形態によれば、設備は、アニール炉を含む製造ライン内に組み込まれ、室はこのアニール炉に配置され、支持体の支持手段は少なくとも一つのローラを含む。
【００４３】
有利には、プラズマは、膜が支持体の各側上に同時に蒸着されるような方法で支持体の各側上に一つずつある二つの別個の領域で発生されることができる。
【００４４】
有利な実施形態によれば、設備はインダクタを含む。このインダクタは、マンドレルのまわりに巻かれる、互いに絶縁された導電性要素の束からなるコイル；このマンドレル内に配置されかつこのマンドレルから絶縁され、インサートによって複数の区域に分割された磁気プランジャー芯；プランジャー芯に接続された位置決め装置；プランジャー芯を位置決め装置に接続する絶縁接続手段；及びマンドレルに対する磁気プランジャー芯の位置を調整するように位置決め装置に作用することができる制御システムを含む。
【図面の簡単な説明】
【００４５】
本発明の他の利点及び特徴は、図を参照して本発明の特別な実施形態の以下の詳細な記述から明らかになるだろう。
【００４６】
【図１】図１は、ガラス支持体上に膜を蒸着するための設備の概略側面図である。
【００４７】
【図２】図２は、プラズマ形成前の図１の設備のための等価な回路図である。
【００４８】
【図３】図３は、プラズマ生成後の図１の設備のための等価な回路図である。
【００４９】
【図４】図４は、本発明による設備のための等価な回路図である。
【００５０】
【図５】図５は、従来の電圧／電流のオシログラムである。
【００５１】
【図６】図６は、設備に特有の電圧／電流のオシログラムである。
【００５２】
【図７】図７は、本発明の設備のための電力供給システムのより詳細な等価な回路図である。
【００５３】
【図８】図８は、本発明によるガラス支持体上への膜蒸着のための両端で開放している設備の一つの実施形態の概略側面図である。
【００５４】
【図９】図９は、絶縁支持体の場合の設備の一実施形態の概略側面図であり、それは、蒸着室で一般に行われる条件下で、支持体自身が誘電バリヤーを形成し、それによって追加の誘電バリヤーを使用しない可能性を与える。
【００５５】
【図１０】図１０は、本発明による設備のための誘導コイルの概略側面図である。
【００５６】
【図１１】図１１は、図１０に示された誘導コイルに使用される巻線のストランドの横断面図である。
【００５７】
図面は必ずしも縮尺通りではない。
【００５８】
一般に、同様の要素は図において同様の参照符号によって示される。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
図１は、本発明による設備の概略図であり、それはここでは「フロートガラス」法によってガラスの連続製造に適用される。特に、処理室は溶融スズの浴の上に配置される。上に表面層を蒸着することを意図される支持体はここでは液体スズの浴４の上を移動するガラス２の連続キャストシートである。移動の方向は図においてシートの平面に対応する。その走行移動中、ガラスシート２は、端の両方（入口及び出口）が開放された「室」６に入る。良く知られたＣＶＤ技術を使用して、反応性混合物８が室６内に導入される。反応体を導入する方法（図１においては向流）は例示によって与えられることに注意されるべきである。他のいかなる形態の導入方法（支持体に垂直など）も除外しない。
【００６０】
凝固したガラスシート２はまだ比較的高い温度にあるので、それは所望の組成の膜の蒸着を促進する追加の熱エネルギーを混合物８に与える。設備の位置に依存して、ガラスシートの温度は６００℃〜７５０℃であるだろう。反応のために利用可能なエネルギーをさらに増加するために、二つの電極が室６に配置される。これらの電極の一つは液体スズの浴４（アースされている）以外に何もなく、他の電極１０はガラスシート２の走行方向に垂直な軸に沿って延びる。図１に描かれた電極の形状は例示によって与えられる。他のいかなる幾何学的形状も除外されない。
【００６１】
高周波高電圧がこれらの電極４，１０の間に適用されるので、（平行線によって概略的に示される）プラズマ１２が発生され、それから室内に導入される反応体８は高いエネルギーを引き寄せ、多くの種類の化合物がガラスシートの上に蒸着されることを可能にする。電圧は好ましくはピーク間で１ｋＶ〜２００ｋＶであり、より好ましくはピーク間で５ｋＶ〜１００ｋＶであり、さらにより好ましくはピーク間で１０ｋＶ〜４０ｋＶである。周波数は好ましくは１０ｋＨｚ〜１０００ｋＨｚであり、より好ましくは２０ｋＨｚ〜４００ｋＨｚ、さらにより好ましくは５０ｋＨｚ〜２００ｋＨｚである。
【００６２】
二つの電極間に電気アークを直接形成する危険の可能性を低下するために、誘電バリヤー１４を二つの電極４及び１０の位置間で室に配置してもよい。室６は開放タイプであるので、蒸着工程によって発生した熱分解残留物及びダストを除去する強力な抽出手段を使用することも必要である。溶融スズの浴において上述したことは必要な改良を加えてアニール炉に適用し、溶融スズの浴は例えばローラと地面の間に配置された金属電極で置換されることは言うまでもない。この状況において、支持体の温度は２０℃〜６００℃で変化させることができる。
【００６３】
このタイプの方法において一般に起こる問題は、実験段階から工業生産まで拡大することを望むときにいつでも、プラズマを発生するために消費されるエネルギーに対して得られる低い効率である。結果として、この効率は、方法をエネルギー的に有利にするだけでなく、蒸着された膜の特性を改良しながら高い蒸着速度を得るために十分な活性エネルギーを発生することができるように改良されなければならない。それゆえ、エネルギーに関与する全てのファクターの徹底的な研究が企てられ、それによって問題の設備を図２及び３に示すような二つの等価な回路図に極めて概略的に限定できるようになった。
【００６４】
図２は、点弧前の設備のための極めて簡略化した等価な回路図であり、高い電圧が電極４，１０間に適用される。室６において放電を設置することは、並列及び直列で容量、即ちＣｐ（寄生抵抗Ｒｐと並列に寄生容量）、Ｃｄ（誘電体の容量）、Ｃｖ（ガラスの容量）及びＣｇ（ガスの容量）を加えることに本質的に相当する。
【００６５】
図３は、プラズマが発生されるときの同じ回路図を示す。このときに、Ｃｇは抵抗Ｒｇによって分路を作られ、それはプラズマの抵抗を表す。
【００６６】
放電がない場合（即ち、電極間で適用される電圧が点弧電圧以下である限り）、Ｒｇの値は極めて高く、電源によって送出される全電流は実際には純粋に容量性であり、反応部は上部電極及び／又は下部電極の絶縁体の誘電損失に及び支持体に本質的に依存する。放電時、プラズマを通して流れる「有用な」電流Ｉｇは常に、その容量性成分と比較して低いままである。それゆえ、電圧源の使用は限定され、送出される電力は極めて高い無効電流を生成する際に消失され、一方、放電に「ワット化された」（同相）電力を送出する有効成分（Ｐｗ＝ＲｇＩｇ２）だけが有用である。
【００６７】
まずワット化された電力の不足を補償するために、設備と並列に「エネルギーリザーバ」として作用する誘導コイルＬを配置することが考えられ、容量性負荷によって吸収されるエネルギーと反対の位相で電流を発生することができる。これは、関与するエネルギーのほとんど完全な回収を可能にする。それゆえ、図４に示された等価な回路図が得られる。
【００６８】
しかしながら、このタイプの補償は例えば電流分布線と並列に誘導コイルを配置することによって得られた補償と似ていないし、ポリマーシートを被覆するために使用されるような比較的低い電力のプラズマ（グロー放電プラズマ）を発生するための設備とも似ていないことが指摘されるべきである。これは、ここで関係するものが配電網の場合のように固定された容量性成分ではなく、周波数（ここではキロヘルツ周波数）、支持体の厚さ、及び室内に導入される反応体（それはガス及びプラズマなどの電気及び誘電特性の変動を誘発する）に従って著しく変動可能な負荷であるためである。結果として、高電圧で高電力設備（数百ｋＷのオーダ）で発生した負荷条件に耐えることがもちろんできるだけでなく、各タイプの製造時に課された条件に従って相対的に細かく調整される可能性を持つことができる、極めて特別なタイプの誘導コイルを使用することが必要である。これは、生じた負荷が特に様々な方法パラメータ、例えば反応体の性質、ガラスの厚さ、ガス間隙などによって変化するためである。ガス間隙は好ましくは０．５ｍｍ〜１００ｍｍ、より好ましくは１ｍｍ〜２０ｍｍ、さらにより好ましくは３ｍｍ〜６ｍｍである。
【００６９】
確固とした具体的な方法で本発明の方法を使用する可能性を示す様々な試行は、この方法の有利な予期せぬ結果を輝かせるようにもたらした。
【００７０】
図５は、別の現象がＤＢＤプラズマ膜蒸着設備の凡庸な効率に対して部分的に関係することを示す。ＨＦ高電圧が各半周期で適用されるとき、適用される電圧が点弧電圧Ｖ１以上である期間ｔ１にわたってのみ放電が維持されることができる。この時間間隔は上記のパラメータに密接に関係する。もちろん、この現象は各半周期で繰り返される。それゆえ、方法の効率は半周期の長さに対するｔ１の比率によって制限される。
【００７１】
フーリエの法則によれば、もし電力源が非線形双極子を供給するなら、生じた電流は線形とはならず、複雑な形となり、それは幾つかの曲線の重ね合わせ、即ち「基本」周波数及び高調波の合計を有するものに分解されうる。
【００７２】
本ケースでは、回路に誘導コイルを挿入することにより、図６に示すように、プラズマを通る電流の流れに相当する曲線のゆがみを生じることが見い出された。この曲線はフーリエ級数の原理を使用して基本周波数と高調波の級数に分解されることができ、その最も有意なものはそれらの振幅のために第三及び第五の奇数高調波である。図６でわかるように、電流に相当する曲線は、図５に示された曲線で観察される時間間隔ｔ１よりずっと長い時間間隔ｔ２にわたって一種の「平坦（ｐｌａｔｅａｕ）」を有する。この時間間隔の長さは回路の特性、特にＶＨＶ変圧器の二次側に配置されたインダクタＬのインダクタンス及び周波数を変化することによって最適化されることができる。結果として、本発明の設備では、好適な特性の調整可能な誘導コイルを挿入することによって、全ての他のものを等しいとした場合に、有効電力の増加だけでなく、長い放電時間、結果としてずっと良好なエネルギー効率を得ることができる。
【００７３】
図７は、図４に描かれたものより完全な等価な回路図を示し、設備自体の従来技術と比較した場合の特徴をさらに良好に示す。この回路図を参照すると、安定しかつ最適に補償された電圧／電流曲線（ｃｏｓφ）を持つことを可能にする全ての調整（フィルタリング、補償など）が供給変圧器６０２の一次側６０１で本質的に実施されることがわかる。結果として、この変圧器６０２の二次回路６０４の図６に示された位相シフトを達成するために必要な唯一の調整手段は、プラズマ発生器と並列に配置されかつ極めて高い電圧で作用するように特別に設計された可変誘導コイル６０６である。
【００７４】
それゆえ、電力供給は次の方法で制御される：インバータ６０８（それはＤＣ供給電流をＡＣ電流に変換する）、並列発振回路、及び操作周波数を調整しかつ正確な有効電力を与えるための可変誘導コイルＬＶ１からなる非周期的発電機が使用される。極めて高い電力変圧器の一次回路には、電力制御装置６１０及びその関連安全回路（Ｐ／Ｓ）６１２が配置されている。
【００７５】
図７に示された回路図のおかげで、その後、ＬＶ２，Ｃｒ及びＣｐによって形成された負荷が安定なプラズマを半周期についてかなりの長い時間維持することができる三次及び五次高調波を促進するように非線形のままであるような方法で誘導コイルＬＶ２のインダクタンスを調整することは極めて簡単である（図５及び６参照）。
【００７６】
それゆえ、変圧器の一次側６０１及び二次側６０４でそれぞれ実施される操作は明らかな矛盾で作用する。その目的は、まず（一次側で）設備のｃｏｓφを増加すること（それによってその見掛けの効率を増加すること）であり、さらに、二次側で、この最適値が高調波を発生するように低下され、それは逆説的にプラズマ蒸着の効率を増加する。
【００７７】
もし二次回路内に挿入される極めて高い電力誘導コイルが極めて高い電圧まで上げられることが加えられるなら、かくして設計された設備は当業者には逆説的な一連の特徴を含む。
【００７８】
有効電力は好ましくは少なくとも１０％、より好ましくは少なくとも２５％、さらにより好ましくは少なくとも５０％増加される。放電時間は好ましくは少なくとも１５％、より好ましくは少なくとも３０％、さらにより好ましくは少なくとも６０％増加される。誘導コイルの「最適な」インダクタンスを決定するために、（変圧器を含む）電力供給回路の固有インダクタンスを考慮することが必要であり、前記固有インダクタンスは必ずしも無視できないことが注意されるべきである。電力供給回路がそれ自身の共振周波数を持つので、Ｌのインダクタンスはある条件下では大きく減少されてもよい。
【００７９】
当業者は、変圧器６０２の巻き数を減らし、従ってその全体のサイズもかなり減らすことによってＶＨＶを得るように一次回路において容量電圧３倍器（Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３）を使用することもできることは言うまでもない。
【００８０】
記載した方法の利点のうち、以下のものが述べられうる：
−蒸着効率の向上のため、使用される化学反応体の量を減らすことができる。結果として、製造コスト及び環境に対する衝撃の低下を別として、設備の汚れが少ないことが観察され、それによって追加のコストの節約が行なえる；
−蒸着速度が高くなり、結果として処理時間が少なくなる。結果として、高いスピードで移動する支持体が連続的に処理されることができる。逆に、処理室の幅は減少され、従って無視できない空間の節約が行なえる。最後に、単一の通過でずっと厚い膜を得る可能性があり、それは特にこれらの膜の特性の見地から有利であることが証明されうる；
−プリカーサの良好な分解がプラズマ内で起こる反応時に観察される。結果として、膜中の有機残留物の存在が避けられる。さらに、蒸着された膜はより緻密で、良好に結晶化され、従って蒸着された膜の光学的及び機械的特性の両方が改良される；
−膜の形で支持体上に蒸着される様々な種を増加することもでき、再び環境的な衝撃が少ない。
【００８１】
最後に、図８に示されるように、特性の賢明な選択によって、ガラス２の両側上にそれぞれの上に異なる種が蒸着される場合であっても同時に作用することもできる。なぜならば様々なトリック（物理的分離又は抽出装置を好適に配置する）を使用して二つのプラズマ領域（１１２，２１２）においてガラス２の各側上に異なる反応性物質１０８，２０８を導入する可能性があるからである。さらに、被覆される支持体２と誘電体（１４，１１４）で覆われた二つの電極（１１０，２１０）の間の距離はまた、所望の蒸着基準に従って調整されてもよい。かかる設備のための等価な回路図はより複雑であること、そして本発明による設備の調整可能なインダクタ特性の存在によってのみその特性を制御することができることは言うまでもない。加えて、直列でコンデンサとして作用する二つの間隙の存在は先験的に放電電流を減らし、従って本発明の利益を減らす。
【００８２】
ガラスのプレカット容積のように不連続な支持体に関する開放した設備に、必要な変更を加えて連続ガラスキャスティング設備のために上述したことを適用することは言うまでもない（設備は例えば強化ライン内に組み込むことができる）。図８の室は、別個のガラス容積上に不連続な膜を蒸着する方法のために設計された閉鎖室によって置換されることができる。この場合において、一つ又は二つの閉鎖装置は大気圧で作用することを可能にするか、又は大気圧から十分に離れた圧力（一般的には、１０−１Ｐａ〜１１０ｋＰａ）で作用することを可能にする（図１に示された設備の場合において、周囲圧力から離れて移動するために強力な抽出装置を使用することが必要である）。減圧で操作する方法の場合には、反応体（１０８，２０８）は、操作者の健康をいかなる点でも危険にさらすことなしに、低い蒸気圧を有するもの及び／又は毒性の強いものを使用することができる。かかる設備は例えば磁気スパッタリングタイプの低圧で作用する膜蒸着ライン内に組み入れることができる。
【００８３】
支持体の両側でフィラメント状プラズマを発生することと関連した利点は多数ある。実際、両側を処理された支持体に対する技術的適用の数はずっと増加している。
【００８４】
図９は、図７に示された設備の変形例である。もし支持体が絶縁性であるなら、追加の誘電体（１４，１１４）をなしで済ますことができる。
【００８５】
図１０は、本発明の設備のための補償誘導コイル２０の一実施形態の簡略図である。この誘導コイル２０は、マンドレル２４のまわりに巻かれた巻線２２から本質的に作られる。その端子を横切る電圧は６０ｋＶであってもよいので、巻線を支持するマンドレルのために使用される材料の選択は極めて重要である。有利には、Ａｃｃｕｌｏｎが使用された。制御システムによって制御された位置決め装置２８に機械的に接続されかつ入念に絶縁されたプランジャー芯２６はこのマンドレル２４の内側に配置される。この誘導コイルが使用時に直面しなければならない特定の操作条件に照らすと、その実際の構成における一連の新機軸が採用される。従って、巻線２２は一束の銅線３０で作られ（図１１参照）、それは（表皮効果を考慮して）ＨＦ電流のための流れ断面を増加し、かつ加熱を減らすように絶縁されている。従って、５０個の相互に絶縁されたストランドからなる導電体の束を製造することによって全ＨＦ電流を５０の数で割ることができる。巻きピッチは、巻き間のアーク放電の危険ができるだけ低いように固定される。それゆえ、単一層から作られる巻線が好ましいが、それは装置全体が大きいという結果を招く。磁気芯２６の位置、それゆえ誘導コイル２０のインダクタンスは、この操作が操作者に対する危険なしで実施されることができるように遠隔制御によって調整される。
【００８６】
本発明は上で示しかつ記載された例示的実施形態に制限されないことは当業者に明らかである。本発明は、新規な特徴の各々及びそれらの組み合わせを含む。参照符号の存在は限定と見なすことはできない。用語「含む、備える（ｃｏｍｐｒｉｓｅｓ）」又は用語「含む（ｉｎｃｌｕｄｅｓ）」は、述べられたもの以外の他の要素の存在をいかなる点でも除外できない。要素を導入するための不定冠詞（「ａ」又は「ａｎ」）の使用は複数のこれらの要素の存在を除外しない。本発明は特定の実施形態に関して記載され、それは純粋に例示であり、限定であると見なしてはならない。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機支持体上に膜を蒸着するための方法において、それが以下の操作を含むことを特徴とする方法：
−支持体を反応室（６，１０６，２０６）内に導入するか、又は支持体を反応室（６，１０６，２０６）内で走行させる、但し、反応室では少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）が配置され、少なくとも一つの誘電バリヤー（１４，１１４）がこれらの少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）の間に配置される；
−ＨＦ変圧器を含み、その二次側の端子に少なくとも二つの電極が接続される振幅及び周波数安定電力供給源を使用する；
−安定高周波電圧を前記変圧器の二次回路に発生する、但し、前記電圧は、少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）の間にフィラメント状プラズマ（１２，１１２，２１２）を発生するようなものである；
−少なくとも二つの電極を含む回路の固有インダクタと並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）を使用して、前記変圧器の二次側に発生される電圧と電流の間の位相シフトを減少する；
−混合物（８，１０８，２０８）を反応室（６，１０６，２０６）内に導入する、但し、前記混合物の組成は、プラズマと接触すると、それが分解し、支持体上に膜として蒸着されることができる種を生成するようなものである；
−安定電力供給源によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又は少なくとも二つの電極を含む回路と並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、有効電力／無効電力の比を高めるように方法の開始時又は方法の間に適合する；
−発電機回路によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又はインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、放電を維持するための電圧より大きい電圧を持つ時間、結果として電極間に電流が流れる時間を延ばす高調波の生成を促進するように適合する；及び
−支持体（２）を、前記支持体の少なくとも一つの側上に所望の厚さの膜を得るのに十分な時間の間、室内に保持する。
【請求項２】
三次及び五次の高調波が本質的に促進されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも一つの電極（１０，１１０，２１０）の位置及び／又は構成が最適な反応特性を得るように変化される操作をさらに含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
室（６，１０６，２０６）内の雰囲気が予め決められた圧力にもたらされる操作をさらに含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
室（６，１０６）が開放されており、支持体のための入口領域及び出口領域を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
室（２０６）がその端の両方で閉じられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
支持体（２）が絶縁性であり、それ自体が誘電バリヤーを形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
支持体（２）が導電性であり、それ自体が電極を形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
設備の電力が少なくとも１００ｋＷを有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
設備の電力が少なくとも２００ｋＷを有することを特徴とする請求項９に記載の蒸着設備。
【請求項１１】
設備の電力が少なくとも５００ｋＷを有することを特徴とする請求項１０に記載の蒸着設備。
【請求項１２】
無機支持体（２）上に膜を蒸着するための設備であって、室（６，１０６，２０６）；室内に支持体を導入するための輸送手段（４）及び支持手段；ＨＦ変圧器を含み、その二次側の端子に少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）が接続され、前記電極が支持体（２）の各側上に配置される安定高電圧高周波電力供給源；少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）の間に配置された少なくとも一つの誘電バリヤー（１４，１１４）；有効電力／無効電力の比を高めることができるＨＦ変圧器の上流に配置された電力供給調整／制御手段；反応性物質を室（６，１０６，２０６）内に導入するための手段（８，１０８，２０８）；及び残留物質を抽出するための手段を含む設備において、調整可能なインダクタ（Ｌ）が、少なくとも二つの電極を含む回路と並列に変圧器の二次回路に配置され、この調整可能なインダクタ（Ｌ）の特性が、電極（１０，１１０，２１０）間に発生される電圧と高電圧源によって送出される全電流との間の位相シフトを調節することができるようなものであり、変圧器の一次側に配置された電力供給調整手段、及び／又はインダクタ（Ｌ）を制御するための手段が、電極間に電流が流れる時間を延ばす高調波を生成することができることを特徴とする蒸着設備。
【請求項１３】
室（６，１０６）がその端の両方で開放されていることを特徴とする請求項１２に記載の蒸着設備。
【請求項１４】
室（２０６）がその端の両方で閉じられていることを特徴とする請求項１２に記載の蒸着設備。
【請求項１５】
室（６，１０６）がフロートガラス製造ライン内に含まれ、支持体支持手段が溶融スズの浴（４）を含むことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の蒸着設備。
【請求項１６】
溶融スズの浴（４）が電極（１０）の一つを構成することを特徴とする請求項１５に記載の蒸着設備。
【請求項１７】
請求項１２または１３に記載の蒸着設備において、それがアニール炉を含む製造ライン内に含まれ、室が前記アニール炉に配置され、支持体支持手段が少なくとも一つのローラを含むことを特徴とする蒸着設備。
【請求項１８】
請求項１２または１３に記載の蒸着設備において、それが調質ライン内に含まれることを特徴とする蒸着設備。
【請求項１９】
請求項１２，１３及び１５のいずれかに記載の蒸着設備において、それが低圧で作用する蒸着ライン内に含まれることを特徴とする蒸着設備。
【請求項２０】
プラズマは、膜が支持体の各側上に同時に蒸着されるような方法で支持体の各側上にある二つの別個の領域で発生されることを特徴とする請求項１２〜１４，１７〜１９のいずれかに記載の蒸着設備。
【請求項２１】
請求項１２〜２０のいずれかに記載の蒸着設備において、インダクタが以下のものを含むことを特徴とする蒸着設備：
−マンドレル（２４）のまわりに巻かれる、互いに絶縁された導電性要素（３０）の束からなるコイル（２２）；
−このマンドレル（２４）内に配置されかつこのマンドレル（２４）から絶縁された磁気プランジャー芯（２６）；
−プランジャー芯（２６）に接続された位置決め装置（２８）；
−プランジャー芯（２６）を位置決め装置に接続する絶縁接続手段；及び
−マンドレル（２４）に対して磁気プランジャー芯（２６）の位置を調整するように位置決め装置に作用することができる制御システム。
【請求項１】
無機支持体上に膜を蒸着するための方法において、それが以下の操作を含むことを特徴とする方法：
−支持体を反応室（６，１０６，２０６）内に導入するか、又は支持体を反応室（６，１０６，２０６）内で走行させる、但し、反応室では少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）が配置され、少なくとも一つの誘電バリヤー（１４，１１４）がこれらの少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）の間に配置される；
−ＨＦ変圧器を含み、その二次側の端子に少なくとも二つの電極が接続される振幅及び周波数安定電力供給源を使用する；
−安定高周波電圧を前記変圧器の二次回路に発生する、但し、前記電圧は、少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）の間にフィラメント状プラズマ（１２，１１２，２１２）を発生するようなものである；
−少なくとも二つの電極を含む回路の固有インダクタと並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）を使用して、前記変圧器の二次側に発生される電圧と電流の間の位相シフトを減少する；
−混合物（８，１０８，２０８）を反応室（６，１０６，２０６）内に導入する、但し、前記混合物の組成は、プラズマと接触すると、それが分解し、支持体上に膜として蒸着されることができる種を生成するようなものである；
−安定電力供給源によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又は少なくとも二つの電極を含む回路と並列に配置された調整可能なインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、有効電力／無効電力の比を高めるように方法の開始時又は方法の間に適合する；
−発電機回路によって送出される電圧及び／又は周波数、及び／又はインダクタ（Ｌ）のインダクタンスを、放電を維持するための電圧より大きい電圧を持つ時間、結果として電極間に電流が流れる時間を延ばす高調波の生成を促進するように適合する；及び
−支持体（２）を、前記支持体の少なくとも一つの側上に所望の厚さの膜を得るのに十分な時間の間、室内に保持する。
【請求項２】
三次及び五次の高調波が本質的に促進されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
少なくとも一つの電極（１０，１１０，２１０）の位置及び／又は構成が最適な反応特性を得るように変化される操作をさらに含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
室（６，１０６，２０６）内の雰囲気が予め決められた圧力にもたらされる操作をさらに含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の方法。
【請求項５】
室（６，１０６）が開放されており、支持体のための入口領域及び出口領域を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
室（２０６）がその端の両方で閉じられていることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の方法。
【請求項７】
支持体（２）が絶縁性であり、それ自体が誘電バリヤーを形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
支持体（２）が導電性であり、それ自体が電極を形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
設備の電力が少なくとも１００ｋＷを有することを特徴とする請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
設備の電力が少なくとも２００ｋＷを有することを特徴とする請求項９に記載の蒸着設備。
【請求項１１】
設備の電力が少なくとも５００ｋＷを有することを特徴とする請求項１０に記載の蒸着設備。
【請求項１２】
無機支持体（２）上に膜を蒸着するための設備であって、室（６，１０６，２０６）；室内に支持体を導入するための輸送手段（４）及び支持手段；ＨＦ変圧器を含み、その二次側の端子に少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）が接続され、前記電極が支持体（２）の各側上に配置される安定高電圧高周波電力供給源；少なくとも二つの電極（１０，１１０，２１０）の間に配置された少なくとも一つの誘電バリヤー（１４，１１４）；有効電力／無効電力の比を高めることができるＨＦ変圧器の上流に配置された電力供給調整／制御手段；反応性物質を室（６，１０６，２０６）内に導入するための手段（８，１０８，２０８）；及び残留物質を抽出するための手段を含む設備において、調整可能なインダクタ（Ｌ）が、少なくとも二つの電極を含む回路と並列に変圧器の二次回路に配置され、この調整可能なインダクタ（Ｌ）の特性が、電極（１０，１１０，２１０）間に発生される電圧と高電圧源によって送出される全電流との間の位相シフトを調節することができるようなものであり、変圧器の一次側に配置された電力供給調整手段、及び／又はインダクタ（Ｌ）を制御するための手段が、電極間に電流が流れる時間を延ばす高調波を生成することができることを特徴とする蒸着設備。
【請求項１３】
室（６，１０６）がその端の両方で開放されていることを特徴とする請求項１２に記載の蒸着設備。
【請求項１４】
室（２０６）がその端の両方で閉じられていることを特徴とする請求項１２に記載の蒸着設備。
【請求項１５】
室（６，１０６）がフロートガラス製造ライン内に含まれ、支持体支持手段が溶融スズの浴（４）を含むことを特徴とする請求項１２又は１３に記載の蒸着設備。
【請求項１６】
溶融スズの浴（４）が電極（１０）の一つを構成することを特徴とする請求項１５に記載の蒸着設備。
【請求項１７】
請求項１２または１３に記載の蒸着設備において、それがアニール炉を含む製造ライン内に含まれ、室が前記アニール炉に配置され、支持体支持手段が少なくとも一つのローラを含むことを特徴とする蒸着設備。
【請求項１８】
請求項１２または１３に記載の蒸着設備において、それが調質ライン内に含まれることを特徴とする蒸着設備。
【請求項１９】
請求項１２，１３及び１５のいずれかに記載の蒸着設備において、それが低圧で作用する蒸着ライン内に含まれることを特徴とする蒸着設備。
【請求項２０】
プラズマは、膜が支持体の各側上に同時に蒸着されるような方法で支持体の各側上にある二つの別個の領域で発生されることを特徴とする請求項１２〜１４，１７〜１９のいずれかに記載の蒸着設備。
【請求項２１】
請求項１２〜２０のいずれかに記載の蒸着設備において、インダクタが以下のものを含むことを特徴とする蒸着設備：
−マンドレル（２４）のまわりに巻かれる、互いに絶縁された導電性要素（３０）の束からなるコイル（２２）；
−このマンドレル（２４）内に配置されかつこのマンドレル（２４）から絶縁された磁気プランジャー芯（２６）；
−プランジャー芯（２６）に接続された位置決め装置（２８）；
−プランジャー芯（２６）を位置決め装置に接続する絶縁接続手段；及び
−マンドレル（２４）に対して磁気プランジャー芯（２６）の位置を調整するように位置決め装置に作用することができる制御システム。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【公表番号】特表２０１１−５２８０６６（Ｐ２０１１−５２８０６６Ａ）
【公表日】平成２３年１１月１０日（２０１１．１１．１０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−５１７９３２（Ｐ２０１１−５１７９３２）
【出願日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００９／０５９１５５
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／００７１３３
【国際公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【出願人】（５１０１９１９１９）エージーシー グラス ユーロップ (27)
【Ｆターム（参考）】
【公表日】平成２３年１１月１０日（２０１１．１１．１０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際出願番号】ＰＣＴ／ＥＰ２００９／０５９１５５
【国際公開番号】ＷＯ２０１０／００７１３３
【国際公開日】平成２２年１月２１日（２０１０．１．２１）
【出願人】（５１０１９１９１９）エージーシー グラス ユーロップ (27)
【Ｆターム（参考）】
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