波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタ
【課題】積層する膜の総数を少なく、各膜の厚みを薄くし、傾斜した波長分離膜に光の入射で生じるＰ、Ｓ偏光成分の光学特性の分離幅を小さく、かつ光入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域のシフト幅を小さく、阻止帯域を従来よりも広くし、Ｓｉのトータル膜厚を薄くし、Ｓｉによる急峻な透過損失を低減させることができる波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタを得る。
【解決手段】高屈折率材料の第１の薄膜と、低屈折率材料の第２の薄膜と、中間の屈折率材料の第３の薄膜とを複数層積層した構造を有する波長分離膜で、高屈折率材料がシリコンで、低屈折率材料が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種で、中間の屈折率材料が、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種である。
【解決手段】高屈折率材料の第１の薄膜と、低屈折率材料の第２の薄膜と、中間の屈折率材料の第３の薄膜とを複数層積層した構造を有する波長分離膜で、高屈折率材料がシリコンで、低屈折率材料が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種で、中間の屈折率材料が、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種である。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過帯域の波長の光を透過させ、阻止帯域の波長の光を反射させることができる波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバにより双方向に伝送される光を送受信する光送受信モジュールとして、光ファイバの先端面の光軸上に第１の波長の光を光軸方向に通過させ、かつ第２の波長の光を光軸と垂直方向に反射させる光分離プリズムが設けられたモジュールが知られている（特許文献１など）。光分離プリズム内には、光の入射方向に対して４０〜５０度に傾斜して波長分離膜が設けられている。このような波長分離膜は、高屈折率材料からなる第１の薄膜と低屈折率材料からなる第２の薄膜とを交互に積層することにより構成されている。従来は一般に、高屈折率の第１の薄膜としてＴｉＯ２が用いられ、低屈折率の第２の薄膜としてＳｉＯ２が用いられており、これらの薄膜を交互に６０層程度積層して波長分離膜が形成されている。
【０００３】
しかしながら、このようなＴｉＯ２とＳｉＯ２の薄膜を積層して構成された波長分離膜においては、波長分離膜に対する光の入射角度にずれが生じると、透過帯域及び阻止帯域に波長シフトが生じ、所望の光学特性が得られないという問題があった。
【０００４】
さらに、傾斜した波長分離膜に光が入射すると、その透過光及び反射光は、光学的な特性が異なるＰ偏光成分とＳ偏光成分に分離するが、上記の従来の波長分離膜においては、このＰ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅が３００ｎｍ程度と非常に大きいため、透過帯域における特性をＰ偏光成分しか満足させることができないという問題があった。
【０００５】
特許文献２においては、ＴｉＯ２薄膜またはＳｉＯ２薄膜と、Ｓｉ薄膜とを交互に積層した波長分離膜を用いた光分離プリズムが提案されている。しかしながら、これらの積層薄膜においても、高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の総数を減少させていくと、阻止帯域が狭くなったり、光入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅が大きくなるという問題があった。
【特許文献１】特開２０００−１８０６７１号公報
【特許文献２】特開２０００−１６２４１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚みを薄くすることができるとともに、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができ、かつ光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができ、阻止帯域を従来よりも広くすることができるとともに、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くしてＳｉによる吸収の透過損失を低減させることができる波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の波長分離膜は、高屈折率材料からなる第１の薄膜と、低屈折率材料からなる第２の薄膜と、高屈折率材料の屈折率と低屈折率材料の屈折率との間の範囲内である中間の屈折率を有する材料からなる第３の薄膜とを複数層積層した構造を有する波長分離膜であって、高屈折率材料がシリコンであり、低屈折率材料が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種であり、中間の屈折率を有する材料が、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴としている。
【０００８】
本発明の波長分離膜は、上記の第１の薄膜、第２の薄膜、及び第３の薄膜を、複数層積層した構造を有することにより、以下に示す効果を発揮する。
【０００９】
（１）積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚みを薄くすることができる。従って、その結果として、従来よりも波長分離膜全体の厚みを薄くすることができる。
【００１０】
（２）傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができる。
【００１１】
（３）光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができる。
【００１２】
（４）阻止帯域を従来よりも広くすることができる。
【００１３】
（５）従来のＳｉ膜を用いた波長分離膜に比べ、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くすることができ、Ｓｉによる吸収の透過損失を低減することができる。
【００１４】
本発明によれば、上述のように、第１の薄膜と、第２の薄膜及び第３の薄膜との屈折率の差が大きいため、積層する膜の総数を少なくすることができる。例えば、ＳｉＯ２薄膜と、ＴｉＯ２薄膜を積層する従来の波長分離膜の場合、積層数が４４層で、厚みが１０μｍ程度であったものが、本発明によれば、３０〜３６層程度の積層数にすることができ、全体の厚みを５μｍ程度にすることができる。
【００１５】
また、Ｓｉ薄膜と、ＳｉＯ２薄膜またはＴｉＯ２薄膜とを積層する従来の波長分離膜の場合、Ｓｉ薄膜の積層数が１４層で、厚みが１４００ｎｍ程度であったものが、本発明によれば、Ｓｉ薄膜の積層数を１０層程度にすることができ、全体の厚みを８００ｎｍ程度にすることができる。
【００１６】
本発明によれば、積層する薄膜の厚みを薄くすることができ、かつ積層する膜の総数を少なくすることができるので、従来よりも製造工程を簡略化することができる。
【００１７】
本発明においては、第１の薄膜に、第２の薄膜または第３の薄膜が隣接するように、第１の薄膜、第２の薄膜及び第３の薄膜が積層されていることが好ましい。
【００１８】
また、本発明において、第３の薄膜は、複数の薄膜を積層することにより構成されていてもよい。具体的には、第３の薄膜は、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる１種の薄膜、または、２種以上を積層させた薄膜から構成されてもよい。本発明において、第２の薄膜は、酸化珪素、フッ化マグネシウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種の低屈折率材料から形成されるが、第３の薄膜が、酸化アルミニウムを含む場合には、第２の薄膜は、酸化珪素またはフッ化マグネシウムから形成される。
【００１９】
本発明において、第１の薄膜は、シリコン薄膜から形成される。シリコン薄膜は、薄膜形成方法及び条件により、その屈折率を変化させることができる。本発明におけるシリコン薄膜は、波長１４９０ｎｍにおいて、２．８５〜４．２０の範囲内の屈折率であることが好ましい。屈折率が小さくなり過ぎると、阻止帯域が狭くなり、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅が大きくなる場合がある。また、屈折率が小さいと、一般にその密度が小さくなるため、水分吸収等の影響を受けやすく、耐環境性が低下する場合がある。シリコン薄膜の屈折率を高くすることにより、耐環境性を高めることができる。しかしながら、シリコン薄膜の屈折率が高くなり過ぎると、光学特性におけるリップルが大きくなる場合がある。
【００２０】
本発明において、各薄膜の厚みは、透過帯域及び阻止帯域の設定により適宜選択されるものであり、特に限定されるものではないが、一般には、５０〜３００ｎｍ程度の膜厚の範囲内で選択され、場合によっては、それ以上の膜厚の薄膜を形成してもよい。また、積層する膜の総数は、特に限定されるものではないが、例えば、２０〜５０層の範囲とすることができる。
【００２１】
本発明において、各薄膜を形成する方法は特に限定されるものではないが、一般には、真空蒸着法、スパッタリング法などの薄膜形成方法で形成することができる。
【００２２】
本発明の光通信用フィルタは、上記本発明の波長分離膜を光入射方向に対して傾斜して配置し、波長分離膜の透過領域の波長の光を透過させ、阻止帯域の波長の光を反射させることを特徴としている。
【００２３】
本発明の光通信用フィルタにおいて、波長分離膜は、光入射方向に対して４０〜５０度に傾斜して配置されることが好ましい。
【００２４】
本発明の光通信用フィルタとしては、後述するような波長分離プリズム、波長分離平板などが挙げられる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚みを薄くすることができるとともに、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができ、かつ光入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができ、阻止帯域を従来よりも広くすることができるとともに、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くして、Ｓｉによる吸収の透過損失を低減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を具体的な実施例により説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００２７】
図１は、本発明に従う光通信用フィルタの一実施例である波長分離プリズムを示す模式的断面図である。図１に示すように、波長分離プリズム１は、直角二等辺三角柱状のガラスなどからなるプリズム片２及び３を、波長分離膜４を介して傾斜面同士で貼り合わせることにより構成されている。貼り合わせには、例えば紫外線硬化型接着剤を用いることができる。貼り合わせるプリズム片の一方の傾斜面上に、本発明に従う波長分離膜４を形成することにより、プリズム片２及び３の傾斜面に波長分離膜４を配置することができる。
【００２８】
図２は、図１に示す波長分離プリズムを用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図である。波長分離プリズム１は、紫外線硬化型接着剤を用いて、フェルール１０の先端に接合されている。フェルール１０内には、光ファイバ１１が設けられている。発光素子であるレーザーダイオード（ＬＤ）１３から出射された波長１４９０ｎｍの光は、レンズ１２により集光され、波長分離プリズム１に入射する。波長分離プリズム１に入射した光は、波長分離膜４の透過帯域の光であるので、波長分離膜４を透過し、光ファイバ１１の端部から入射し、光ファイバ１１内を伝搬する。
【００２９】
一方、光ファイバ１１から出射された波長１３１０ｎｍの光は、波長分離プリズム１に入射し、波長分離膜４の阻止帯域の光であるので、波長分離膜４で反射し、下方に設けられたレンズ１４を通り、受光素子であるフォトダイオード（ＰＤ）１５に入射する。
【００３０】
以上のように、ＬＤ１３から出射した光を透過し、光ファイバ１１から出射した光を反射するように波長分離プリズム１の波長分離膜４を設定しておくことにより、光ファイバ１１を用いた双方向の通信が可能となる。
【００３１】
波長分離プリズム１において、波長分離膜４は、例えば光ファイバ１１とＬＤ１３を結ぶ光軸に対して４５度に傾斜するように配置されている。しかしながら、ＬＤ１３から出射した光はレンズ１２により集光され光ファイバ１１に入射するが、広がりをもった状態で波長分離膜４に入射する。例えば、入射角４５度を中心に±５度の広がりをもった光として入射する。波長分離膜４に対して、入射角４５度±５度の広がりで光が入射するため、光の入射角のずれにより透過帯域及び阻止帯域が大きく波長シフトすると、所望の光学特性が得られない場合がある。
【００３２】
本発明の波長分離膜は、上述のように光入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができるので、光の入射角のずれによる光学特性の影響を低減することができる。また、阻止帯域を従来よりも広くすることができるので、設計上及び管理上の許容度を大きくすることでき、所望の光学特性を容易に得ることができる。
【００３３】
また、本発明の波長分離膜は、上述のように、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができる。このため、Ｐ偏光成分及びＳ偏光成分の両方に対して透過帯域特性を満足させることができる。
【００３４】
図２に示す実施例では、波長分離プリズム１を、フェルール１０の先端に接合しているが、波長分離プリズム１は、フェルール１０とレンズ１２の間に配置してもよい。
【００３５】
図３は、本発明に従う波長分離膜を用いた波長分離平板を示す模式的断面図である。図３に示すように、波長分離平板５は、ガラスなどからなる透光性基板７の一方面上に波長分離膜４を形成し、他方面上に反射防止膜（ＡＲ膜）６を形成することにより構成されている。波長分離膜４としては、本発明に従う波長分離膜を形成することができ、反射防止膜６としては、例えば、ＴｉＯ２もしくはＴａ２Ｏ５とＳｉＯ２の４層交互層からなる膜を形成することができる。なお、図２に示す波長分離プリズム１においても、波長分離膜４のＬＤ１３側に反射防止膜を形成することが好ましい。
【００３６】
図４は、図３に示す波長分離平板５を用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図である。図４に示す光送受信モジュールにおいては、光ファイバ１１とＬＤ１３を結ぶ光軸に対して、波長分離膜４及びＡＲ膜６が４５度に傾斜するように波長分離平板５が設置されている。図４に示す光送受信モジュールにおいても、図２に示す光送受信モジュールと同様に、ＬＤ１３から出射された光を光ファイバ１１内に入射し伝搬させることができ、光ファイバ１１から出射される光を波長分離膜４で反射して、ＰＤ１５に入射させることができる。
【００３７】
図４に示す光送受信モジュールにおいても、波長分離平板５の波長分離膜４に入射する光は、入射角４５度を中心に、例えば±５度の広がりをもった光が入射するが、本発明に従う波長分離膜を用いることにより、光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができるので、入射角のずれによる光学特性の低下を抑制することができる。また、阻止帯域を従来よりも広くすることができるので、所望の光学特性を容易に得ることができる。
【００３８】
また、本発明の波長分離膜は、上述のように、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができる。このため、Ｐ偏光成分及びＳ偏光成分の両方に対して透過帯域特性を満足させることができる。
【００３９】
（実施例１〜１１及び比較例１〜３）
第１の薄膜、第２の薄膜、及び第３の薄膜として、表１に示す膜材質を用いて、表２及び表３に示す順序及び膜厚で、各薄膜をガラス基板上に形成し、波長分離膜を形成した。
【００４０】
表１に示すように、実施例７〜１１においては、第３の薄膜として、Ｎｂ２Ｏ５膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜、Ｔａ２Ｏ５膜、もしくは、ＨｆＯ２膜からなる単層の薄膜、または、これらの膜とＡｌ２Ｏ３膜とを積層させた複層の薄膜を用いている。
【００４１】
上記各実施例及び各比較例において、各薄膜は、真空蒸着法により形成した。また波長分離膜全体の厚みは、表２及び表３に示す通りである。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【表２】
【００４４】
【表３】
【００４５】
なお、上記各実施例及び各比較例において用いた各薄膜の波長１４９０ｎｍにおける屈折率は以下の通りである。
【００４６】
Ｓｉ薄膜：３．５９
ＳｉＯ２薄膜：１．４５
ＭｇＦ２薄膜：１．３６
Ａｌ２Ｏ３薄膜：１．６４
Ｔａ２Ｏ５薄膜：２．１３
Ｎｂ２Ｏ５薄膜：２．２３
ＺｒＯ２薄膜：２．０４
ＴｉＯ２薄膜：２．２９
ＨｆＯ２薄膜：２．０３
以上のようにして作製した実施例１〜１１及び比較例１〜３の各波長分離膜について、光学特性を評価した。
【００４７】
図５〜図１８は、実施例１〜１１及び比較例１〜３のそれぞれの光学特性図である。対応関係は、表１に示す通りである。光学特性図において、横軸は波長（ｎｍ）を示し、縦軸は透過率（％）を示している。細線で示す「Ｓ−４５度」は、Ｓ偏光成分の４５度入射時の波長と透過率の関係を示している。太線で示す「Ｐ−４５度」は、Ｐ偏光成分の４５度入射時の波長と透過率の関係を示している。細い点線で示す「Ｓ−４３度」は、Ｓ偏光成分の４３度入射時の波長と透過率の関係を示している。太い点線で示す「Ｐ−４３度」は、Ｐ偏光成分の４３度入射時の波長と透過率の関係を示している。
【００４８】
比較例１は、Ｓｉ膜とＳｉＯ２膜を積層した従来の波長分離膜に対応するものであるが、図１６に示すように、光入射角のずれによる透過率の波長シフトは小さいものの、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅が大きくなっている。
【００４９】
比較例２は、Ｓｉ膜とＴｉＯ２膜を積層した従来の波長分離膜に対応するものであるが、図１７に示すように、光入射角のずれによる透過率の波長シフトが大きくなっている。図１７においては、Ｐ偏光成分のみが示されているが、Ｓ偏光成分は、１８００ｎｍより長波長側に位置しているため、図示されていない。従って、比較例２においては、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅がかなり大きくなっている。
【００５０】
比較例３は、ＴｉＯ２膜とＳｉＯ２膜を積層した従来の波長分離膜に対応するものであるが、図１８に示すように、光の入射角のずれによる透過率の波長シフトは大きく、またＰ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅がかなり大きくなっている。
【００５１】
本発明に従う実施例１〜１１においては、図５〜図１５に示すように、光の入射角のずれによる透過率の波長シフトが小さく、かつ阻止帯域も広くなっている。また、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅も小さくなっている。
【００５２】
従って、本発明によれば、光の入射角による透過率の波長シフトを小さくすることができ、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅を小さくすることができる。
【００５３】
また、表２及び表３に示すように、本発明に従う実施例１〜１１の波長分離膜は、比較例１〜３に示す従来の波長分離膜に比べ、積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚み薄くすることができる。従って、トータルの膜厚を薄くすることができる。
【００５４】
また、本発明に従う実施例１〜１１においては、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くすることができる。このため、Ｓｉによる吸収の透過損失を低減することができる。
【００５５】
（実施例１２及び実施例１３）
表１及び表３に示す実施例１０の膜構成において、Ｓｉ薄膜の屈折率を２．８８とし、それ以外は、実施例１０と同様にして、実施例１２の波長分離膜を作製した。
【００５６】
また、同様に、実施例１０の膜構成において、Ｓｉ薄膜の屈折率を４．１９とする以外は、実施例１０と同様にして、実施例１３の波長分離膜を作製した。
【００５７】
なお、Ｓｉ薄膜の屈折率は、Ｓｉ薄膜を形成する際の蒸着レートを調整することで変化させ、Ｓｉ薄膜の蒸着レートを高めることにより、４．１９の屈折率を有するＳｉ薄膜を、Ｓｉ薄膜の蒸着レートを低下させることにより、２．８８の屈折率を有するＳｉ薄膜を形成した。
【００５８】
実施例１２の波長分離膜の光学特性を図１９に、実施例１３の波長分離膜の光学特性を図２０に示す。
【００５９】
図１９に示すように、実施例１２の波長分離膜においては、Ｓｉ薄膜の屈折率が低いため、他の実施例に比べ、阻止帯域が狭くなっている。また、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅が大きくなっている。
【００６０】
また、図２０に示すように、実施例１３の波長分離膜においては、Ｓｉ薄膜の屈折率が高いため、透過帯域におけるリップルが大きくなっている。
【００６１】
以上のように、本発明に従えば、積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚みを薄くすることができるとともに、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができ、かつ光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができ、阻止帯域を従来よりも広くすることができるとともに、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くしてＳｉによる吸収の透過損失を低下させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明に従う光通信用フィルタの一実施例である波長分離プリズムを示す模式的断面図。
【図２】図１に示す実施例の波長分離プリズムを用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図。
【図３】本発明に従う光通信用フィルタの他の実施例である波長分離平板を示す模式的断面図。
【図４】図３に示す実施例の波長分離平板を用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図。
【図５】本発明に従う実施例１の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図６】本発明に従う実施例２の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図７】本発明に従う実施例３の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図８】本発明に従う実施例４の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図９】本発明に従う実施例５の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１０】本発明に従う実施例６の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１１】本発明に従う実施例７の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１２】本発明に従う実施例８の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１３】本発明に従う実施例９の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１４】本発明に従う実施例１０の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１５】本発明に従う実施例１１の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１６】比較例１の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１７】比較例２の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１８】比較例３の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１９】本発明に従う実施例１２の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図２０】本発明に従う実施例１３の波長分離膜の光学特性を示す図。
【符号の説明】
【００６３】
１…波長分離プリズム
２，３…プリズム片
４…波長分離膜
５…波長分離平板
６…反射防止膜
７…透光性基板
１０…フェルール
１１…光ファイバ
１２…レンズ
１３…レーザーダイオード（ＬＤ）
１４…レンズ
１５…フォトダイオード（ＰＤ）
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過帯域の波長の光を透過させ、阻止帯域の波長の光を反射させることができる波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバにより双方向に伝送される光を送受信する光送受信モジュールとして、光ファイバの先端面の光軸上に第１の波長の光を光軸方向に通過させ、かつ第２の波長の光を光軸と垂直方向に反射させる光分離プリズムが設けられたモジュールが知られている（特許文献１など）。光分離プリズム内には、光の入射方向に対して４０〜５０度に傾斜して波長分離膜が設けられている。このような波長分離膜は、高屈折率材料からなる第１の薄膜と低屈折率材料からなる第２の薄膜とを交互に積層することにより構成されている。従来は一般に、高屈折率の第１の薄膜としてＴｉＯ２が用いられ、低屈折率の第２の薄膜としてＳｉＯ２が用いられており、これらの薄膜を交互に６０層程度積層して波長分離膜が形成されている。
【０００３】
しかしながら、このようなＴｉＯ２とＳｉＯ２の薄膜を積層して構成された波長分離膜においては、波長分離膜に対する光の入射角度にずれが生じると、透過帯域及び阻止帯域に波長シフトが生じ、所望の光学特性が得られないという問題があった。
【０００４】
さらに、傾斜した波長分離膜に光が入射すると、その透過光及び反射光は、光学的な特性が異なるＰ偏光成分とＳ偏光成分に分離するが、上記の従来の波長分離膜においては、このＰ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅が３００ｎｍ程度と非常に大きいため、透過帯域における特性をＰ偏光成分しか満足させることができないという問題があった。
【０００５】
特許文献２においては、ＴｉＯ２薄膜またはＳｉＯ２薄膜と、Ｓｉ薄膜とを交互に積層した波長分離膜を用いた光分離プリズムが提案されている。しかしながら、これらの積層薄膜においても、高屈折率薄膜と低屈折率薄膜の総数を減少させていくと、阻止帯域が狭くなったり、光入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅が大きくなるという問題があった。
【特許文献１】特開２０００−１８０６７１号公報
【特許文献２】特開２０００−１６２４１３号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚みを薄くすることができるとともに、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができ、かつ光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができ、阻止帯域を従来よりも広くすることができるとともに、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くしてＳｉによる吸収の透過損失を低減させることができる波長分離膜及びそれを用いた光通信用フィルタを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の波長分離膜は、高屈折率材料からなる第１の薄膜と、低屈折率材料からなる第２の薄膜と、高屈折率材料の屈折率と低屈折率材料の屈折率との間の範囲内である中間の屈折率を有する材料からなる第３の薄膜とを複数層積層した構造を有する波長分離膜であって、高屈折率材料がシリコンであり、低屈折率材料が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種であり、中間の屈折率を有する材料が、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴としている。
【０００８】
本発明の波長分離膜は、上記の第１の薄膜、第２の薄膜、及び第３の薄膜を、複数層積層した構造を有することにより、以下に示す効果を発揮する。
【０００９】
（１）積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚みを薄くすることができる。従って、その結果として、従来よりも波長分離膜全体の厚みを薄くすることができる。
【００１０】
（２）傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができる。
【００１１】
（３）光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができる。
【００１２】
（４）阻止帯域を従来よりも広くすることができる。
【００１３】
（５）従来のＳｉ膜を用いた波長分離膜に比べ、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くすることができ、Ｓｉによる吸収の透過損失を低減することができる。
【００１４】
本発明によれば、上述のように、第１の薄膜と、第２の薄膜及び第３の薄膜との屈折率の差が大きいため、積層する膜の総数を少なくすることができる。例えば、ＳｉＯ２薄膜と、ＴｉＯ２薄膜を積層する従来の波長分離膜の場合、積層数が４４層で、厚みが１０μｍ程度であったものが、本発明によれば、３０〜３６層程度の積層数にすることができ、全体の厚みを５μｍ程度にすることができる。
【００１５】
また、Ｓｉ薄膜と、ＳｉＯ２薄膜またはＴｉＯ２薄膜とを積層する従来の波長分離膜の場合、Ｓｉ薄膜の積層数が１４層で、厚みが１４００ｎｍ程度であったものが、本発明によれば、Ｓｉ薄膜の積層数を１０層程度にすることができ、全体の厚みを８００ｎｍ程度にすることができる。
【００１６】
本発明によれば、積層する薄膜の厚みを薄くすることができ、かつ積層する膜の総数を少なくすることができるので、従来よりも製造工程を簡略化することができる。
【００１７】
本発明においては、第１の薄膜に、第２の薄膜または第３の薄膜が隣接するように、第１の薄膜、第２の薄膜及び第３の薄膜が積層されていることが好ましい。
【００１８】
また、本発明において、第３の薄膜は、複数の薄膜を積層することにより構成されていてもよい。具体的には、第３の薄膜は、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる１種の薄膜、または、２種以上を積層させた薄膜から構成されてもよい。本発明において、第２の薄膜は、酸化珪素、フッ化マグネシウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種の低屈折率材料から形成されるが、第３の薄膜が、酸化アルミニウムを含む場合には、第２の薄膜は、酸化珪素またはフッ化マグネシウムから形成される。
【００１９】
本発明において、第１の薄膜は、シリコン薄膜から形成される。シリコン薄膜は、薄膜形成方法及び条件により、その屈折率を変化させることができる。本発明におけるシリコン薄膜は、波長１４９０ｎｍにおいて、２．８５〜４．２０の範囲内の屈折率であることが好ましい。屈折率が小さくなり過ぎると、阻止帯域が狭くなり、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅が大きくなる場合がある。また、屈折率が小さいと、一般にその密度が小さくなるため、水分吸収等の影響を受けやすく、耐環境性が低下する場合がある。シリコン薄膜の屈折率を高くすることにより、耐環境性を高めることができる。しかしながら、シリコン薄膜の屈折率が高くなり過ぎると、光学特性におけるリップルが大きくなる場合がある。
【００２０】
本発明において、各薄膜の厚みは、透過帯域及び阻止帯域の設定により適宜選択されるものであり、特に限定されるものではないが、一般には、５０〜３００ｎｍ程度の膜厚の範囲内で選択され、場合によっては、それ以上の膜厚の薄膜を形成してもよい。また、積層する膜の総数は、特に限定されるものではないが、例えば、２０〜５０層の範囲とすることができる。
【００２１】
本発明において、各薄膜を形成する方法は特に限定されるものではないが、一般には、真空蒸着法、スパッタリング法などの薄膜形成方法で形成することができる。
【００２２】
本発明の光通信用フィルタは、上記本発明の波長分離膜を光入射方向に対して傾斜して配置し、波長分離膜の透過領域の波長の光を透過させ、阻止帯域の波長の光を反射させることを特徴としている。
【００２３】
本発明の光通信用フィルタにおいて、波長分離膜は、光入射方向に対して４０〜５０度に傾斜して配置されることが好ましい。
【００２４】
本発明の光通信用フィルタとしては、後述するような波長分離プリズム、波長分離平板などが挙げられる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚みを薄くすることができるとともに、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができ、かつ光入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができ、阻止帯域を従来よりも広くすることができるとともに、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くして、Ｓｉによる吸収の透過損失を低減させることができる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２６】
以下、本発明を具体的な実施例により説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００２７】
図１は、本発明に従う光通信用フィルタの一実施例である波長分離プリズムを示す模式的断面図である。図１に示すように、波長分離プリズム１は、直角二等辺三角柱状のガラスなどからなるプリズム片２及び３を、波長分離膜４を介して傾斜面同士で貼り合わせることにより構成されている。貼り合わせには、例えば紫外線硬化型接着剤を用いることができる。貼り合わせるプリズム片の一方の傾斜面上に、本発明に従う波長分離膜４を形成することにより、プリズム片２及び３の傾斜面に波長分離膜４を配置することができる。
【００２８】
図２は、図１に示す波長分離プリズムを用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図である。波長分離プリズム１は、紫外線硬化型接着剤を用いて、フェルール１０の先端に接合されている。フェルール１０内には、光ファイバ１１が設けられている。発光素子であるレーザーダイオード（ＬＤ）１３から出射された波長１４９０ｎｍの光は、レンズ１２により集光され、波長分離プリズム１に入射する。波長分離プリズム１に入射した光は、波長分離膜４の透過帯域の光であるので、波長分離膜４を透過し、光ファイバ１１の端部から入射し、光ファイバ１１内を伝搬する。
【００２９】
一方、光ファイバ１１から出射された波長１３１０ｎｍの光は、波長分離プリズム１に入射し、波長分離膜４の阻止帯域の光であるので、波長分離膜４で反射し、下方に設けられたレンズ１４を通り、受光素子であるフォトダイオード（ＰＤ）１５に入射する。
【００３０】
以上のように、ＬＤ１３から出射した光を透過し、光ファイバ１１から出射した光を反射するように波長分離プリズム１の波長分離膜４を設定しておくことにより、光ファイバ１１を用いた双方向の通信が可能となる。
【００３１】
波長分離プリズム１において、波長分離膜４は、例えば光ファイバ１１とＬＤ１３を結ぶ光軸に対して４５度に傾斜するように配置されている。しかしながら、ＬＤ１３から出射した光はレンズ１２により集光され光ファイバ１１に入射するが、広がりをもった状態で波長分離膜４に入射する。例えば、入射角４５度を中心に±５度の広がりをもった光として入射する。波長分離膜４に対して、入射角４５度±５度の広がりで光が入射するため、光の入射角のずれにより透過帯域及び阻止帯域が大きく波長シフトすると、所望の光学特性が得られない場合がある。
【００３２】
本発明の波長分離膜は、上述のように光入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができるので、光の入射角のずれによる光学特性の影響を低減することができる。また、阻止帯域を従来よりも広くすることができるので、設計上及び管理上の許容度を大きくすることでき、所望の光学特性を容易に得ることができる。
【００３３】
また、本発明の波長分離膜は、上述のように、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができる。このため、Ｐ偏光成分及びＳ偏光成分の両方に対して透過帯域特性を満足させることができる。
【００３４】
図２に示す実施例では、波長分離プリズム１を、フェルール１０の先端に接合しているが、波長分離プリズム１は、フェルール１０とレンズ１２の間に配置してもよい。
【００３５】
図３は、本発明に従う波長分離膜を用いた波長分離平板を示す模式的断面図である。図３に示すように、波長分離平板５は、ガラスなどからなる透光性基板７の一方面上に波長分離膜４を形成し、他方面上に反射防止膜（ＡＲ膜）６を形成することにより構成されている。波長分離膜４としては、本発明に従う波長分離膜を形成することができ、反射防止膜６としては、例えば、ＴｉＯ２もしくはＴａ２Ｏ５とＳｉＯ２の４層交互層からなる膜を形成することができる。なお、図２に示す波長分離プリズム１においても、波長分離膜４のＬＤ１３側に反射防止膜を形成することが好ましい。
【００３６】
図４は、図３に示す波長分離平板５を用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図である。図４に示す光送受信モジュールにおいては、光ファイバ１１とＬＤ１３を結ぶ光軸に対して、波長分離膜４及びＡＲ膜６が４５度に傾斜するように波長分離平板５が設置されている。図４に示す光送受信モジュールにおいても、図２に示す光送受信モジュールと同様に、ＬＤ１３から出射された光を光ファイバ１１内に入射し伝搬させることができ、光ファイバ１１から出射される光を波長分離膜４で反射して、ＰＤ１５に入射させることができる。
【００３７】
図４に示す光送受信モジュールにおいても、波長分離平板５の波長分離膜４に入射する光は、入射角４５度を中心に、例えば±５度の広がりをもった光が入射するが、本発明に従う波長分離膜を用いることにより、光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができるので、入射角のずれによる光学特性の低下を抑制することができる。また、阻止帯域を従来よりも広くすることができるので、所望の光学特性を容易に得ることができる。
【００３８】
また、本発明の波長分離膜は、上述のように、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができる。このため、Ｐ偏光成分及びＳ偏光成分の両方に対して透過帯域特性を満足させることができる。
【００３９】
（実施例１〜１１及び比較例１〜３）
第１の薄膜、第２の薄膜、及び第３の薄膜として、表１に示す膜材質を用いて、表２及び表３に示す順序及び膜厚で、各薄膜をガラス基板上に形成し、波長分離膜を形成した。
【００４０】
表１に示すように、実施例７〜１１においては、第３の薄膜として、Ｎｂ２Ｏ５膜、ＺｒＯ２膜、ＴｉＯ２膜、Ｔａ２Ｏ５膜、もしくは、ＨｆＯ２膜からなる単層の薄膜、または、これらの膜とＡｌ２Ｏ３膜とを積層させた複層の薄膜を用いている。
【００４１】
上記各実施例及び各比較例において、各薄膜は、真空蒸着法により形成した。また波長分離膜全体の厚みは、表２及び表３に示す通りである。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【表２】
【００４４】
【表３】
【００４５】
なお、上記各実施例及び各比較例において用いた各薄膜の波長１４９０ｎｍにおける屈折率は以下の通りである。
【００４６】
Ｓｉ薄膜：３．５９
ＳｉＯ２薄膜：１．４５
ＭｇＦ２薄膜：１．３６
Ａｌ２Ｏ３薄膜：１．６４
Ｔａ２Ｏ５薄膜：２．１３
Ｎｂ２Ｏ５薄膜：２．２３
ＺｒＯ２薄膜：２．０４
ＴｉＯ２薄膜：２．２９
ＨｆＯ２薄膜：２．０３
以上のようにして作製した実施例１〜１１及び比較例１〜３の各波長分離膜について、光学特性を評価した。
【００４７】
図５〜図１８は、実施例１〜１１及び比較例１〜３のそれぞれの光学特性図である。対応関係は、表１に示す通りである。光学特性図において、横軸は波長（ｎｍ）を示し、縦軸は透過率（％）を示している。細線で示す「Ｓ−４５度」は、Ｓ偏光成分の４５度入射時の波長と透過率の関係を示している。太線で示す「Ｐ−４５度」は、Ｐ偏光成分の４５度入射時の波長と透過率の関係を示している。細い点線で示す「Ｓ−４３度」は、Ｓ偏光成分の４３度入射時の波長と透過率の関係を示している。太い点線で示す「Ｐ−４３度」は、Ｐ偏光成分の４３度入射時の波長と透過率の関係を示している。
【００４８】
比較例１は、Ｓｉ膜とＳｉＯ２膜を積層した従来の波長分離膜に対応するものであるが、図１６に示すように、光入射角のずれによる透過率の波長シフトは小さいものの、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅が大きくなっている。
【００４９】
比較例２は、Ｓｉ膜とＴｉＯ２膜を積層した従来の波長分離膜に対応するものであるが、図１７に示すように、光入射角のずれによる透過率の波長シフトが大きくなっている。図１７においては、Ｐ偏光成分のみが示されているが、Ｓ偏光成分は、１８００ｎｍより長波長側に位置しているため、図示されていない。従って、比較例２においては、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅がかなり大きくなっている。
【００５０】
比較例３は、ＴｉＯ２膜とＳｉＯ２膜を積層した従来の波長分離膜に対応するものであるが、図１８に示すように、光の入射角のずれによる透過率の波長シフトは大きく、またＰ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅がかなり大きくなっている。
【００５１】
本発明に従う実施例１〜１１においては、図５〜図１５に示すように、光の入射角のずれによる透過率の波長シフトが小さく、かつ阻止帯域も広くなっている。また、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅も小さくなっている。
【００５２】
従って、本発明によれば、光の入射角による透過率の波長シフトを小さくすることができ、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅を小さくすることができる。
【００５３】
また、表２及び表３に示すように、本発明に従う実施例１〜１１の波長分離膜は、比較例１〜３に示す従来の波長分離膜に比べ、積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚み薄くすることができる。従って、トータルの膜厚を薄くすることができる。
【００５４】
また、本発明に従う実施例１〜１１においては、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くすることができる。このため、Ｓｉによる吸収の透過損失を低減することができる。
【００５５】
（実施例１２及び実施例１３）
表１及び表３に示す実施例１０の膜構成において、Ｓｉ薄膜の屈折率を２．８８とし、それ以外は、実施例１０と同様にして、実施例１２の波長分離膜を作製した。
【００５６】
また、同様に、実施例１０の膜構成において、Ｓｉ薄膜の屈折率を４．１９とする以外は、実施例１０と同様にして、実施例１３の波長分離膜を作製した。
【００５７】
なお、Ｓｉ薄膜の屈折率は、Ｓｉ薄膜を形成する際の蒸着レートを調整することで変化させ、Ｓｉ薄膜の蒸着レートを高めることにより、４．１９の屈折率を有するＳｉ薄膜を、Ｓｉ薄膜の蒸着レートを低下させることにより、２．８８の屈折率を有するＳｉ薄膜を形成した。
【００５８】
実施例１２の波長分離膜の光学特性を図１９に、実施例１３の波長分離膜の光学特性を図２０に示す。
【００５９】
図１９に示すように、実施例１２の波長分離膜においては、Ｓｉ薄膜の屈折率が低いため、他の実施例に比べ、阻止帯域が狭くなっている。また、Ｐ偏光成分とＳ偏光成分の分離幅が大きくなっている。
【００６０】
また、図２０に示すように、実施例１３の波長分離膜においては、Ｓｉ薄膜の屈折率が高いため、透過帯域におけるリップルが大きくなっている。
【００６１】
以上のように、本発明に従えば、積層する膜の総数を少なくすることができ、積層する各膜の厚みを薄くすることができるとともに、傾斜した波長分離膜に光を入射することで生じるＰ偏光成分とＳ偏光成分の光学特性の分離幅を小さくすることができ、かつ光の入射角のずれによる透過帯域及び阻止帯域の波長シフト幅を小さくすることができ、阻止帯域を従来よりも広くすることができるとともに、Ｓｉのトータルの膜厚を薄くしてＳｉによる吸収の透過損失を低下させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１】本発明に従う光通信用フィルタの一実施例である波長分離プリズムを示す模式的断面図。
【図２】図１に示す実施例の波長分離プリズムを用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図。
【図３】本発明に従う光通信用フィルタの他の実施例である波長分離平板を示す模式的断面図。
【図４】図３に示す実施例の波長分離平板を用いた光送受信モジュールを示す模式的断面図。
【図５】本発明に従う実施例１の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図６】本発明に従う実施例２の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図７】本発明に従う実施例３の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図８】本発明に従う実施例４の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図９】本発明に従う実施例５の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１０】本発明に従う実施例６の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１１】本発明に従う実施例７の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１２】本発明に従う実施例８の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１３】本発明に従う実施例９の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１４】本発明に従う実施例１０の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１５】本発明に従う実施例１１の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１６】比較例１の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１７】比較例２の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１８】比較例３の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図１９】本発明に従う実施例１２の波長分離膜の光学特性を示す図。
【図２０】本発明に従う実施例１３の波長分離膜の光学特性を示す図。
【符号の説明】
【００６３】
１…波長分離プリズム
２，３…プリズム片
４…波長分離膜
５…波長分離平板
６…反射防止膜
７…透光性基板
１０…フェルール
１１…光ファイバ
１２…レンズ
１３…レーザーダイオード（ＬＤ）
１４…レンズ
１５…フォトダイオード（ＰＤ）
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高屈折率材料からなる第１の薄膜と、低屈折率材料からなる第２の薄膜と、前記高屈折率材料の屈折率と前記低屈折率材料の屈折率との間の範囲内である中間の屈折率を有する材料からなる第３の薄膜とを複数層積層した構造を有する波長分離膜であって、
前記高屈折率材料がシリコンであり、前記低屈折率材料が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種であり、前記中間の屈折率を有する材料が、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする波長分離膜。
【請求項２】
前記第１の薄膜に、前記第２の薄膜または前記第３の薄膜が隣接するように積層されていることを特徴とする請求項１に記載の波長分離膜。
【請求項３】
前記第３の薄膜が、複数の薄膜を積層することにより構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の波長分離膜。
【請求項４】
積層する膜の合計が、２０〜５０層の範囲内であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の波長分離膜。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の波長分離膜を光の入射方向に対して傾斜して配置し、前記波長分離膜の透過帯域の波長の光を透過させ、阻止帯域の波長の光を反射させることを特徴とする光通信用フィルタ。
【請求項６】
前記波長分離膜が、光の入射方向に対して、４０〜５０度に傾斜して配置されていることを特徴とする請求項５に記載の光通信用フィルタ。
【請求項１】
高屈折率材料からなる第１の薄膜と、低屈折率材料からなる第２の薄膜と、前記高屈折率材料の屈折率と前記低屈折率材料の屈折率との間の範囲内である中間の屈折率を有する材料からなる第３の薄膜とを複数層積層した構造を有する波長分離膜であって、
前記高屈折率材料がシリコンであり、前記低屈折率材料が、酸化珪素、フッ化マグネシウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種であり、前記中間の屈折率を有する材料が、酸化チタン、酸化タンタル、酸化ニオブ、酸化ジルコニウム、酸化ハフニウム、及び酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする波長分離膜。
【請求項２】
前記第１の薄膜に、前記第２の薄膜または前記第３の薄膜が隣接するように積層されていることを特徴とする請求項１に記載の波長分離膜。
【請求項３】
前記第３の薄膜が、複数の薄膜を積層することにより構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の波長分離膜。
【請求項４】
積層する膜の合計が、２０〜５０層の範囲内であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の波長分離膜。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の波長分離膜を光の入射方向に対して傾斜して配置し、前記波長分離膜の透過帯域の波長の光を透過させ、阻止帯域の波長の光を反射させることを特徴とする光通信用フィルタ。
【請求項６】
前記波長分離膜が、光の入射方向に対して、４０〜５０度に傾斜して配置されていることを特徴とする請求項５に記載の光通信用フィルタ。
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図１４】
【図１５】
【図１６】
【図１７】
【図１８】
【図１９】
【図２０】
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２００９−１５６９５４（Ｐ２００９−１５６９５４Ａ）
【公開日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−３３２５８９（Ｐ２００７−３３２５８９）
【出願日】平成１９年１２月２５日（２００７．１２．２５）
【出願人】（０００２３２２４３）日本電気硝子株式会社 (1,447)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年７月１６日（２００９．７．１６）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１２月２５日（２００７．１２．２５）
【出願人】（０００２３２２４３）日本電気硝子株式会社 (1,447)
【Ｆターム（参考）】
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