流路切替装置およびその製造方法
【課題】機械的なバルブと比べて構成が簡素で、連続的に流れる液体の流路の開閉や切替えを行うことが可能な流路切替装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】この流路切替装置１は、第１の圧力Ｐ１で液体Ｌを液体導入流路２０に導入すると、液体Ｌは、液体導入流路２０を流れて合流流路２３の疎水性領域２５で止まる。第２の圧力Ｐ２で気体Ｇを気体導入路２２ａに導入すると、疎水性領域２５で止まっていた流体Ｌが第１の液体排出流路２１ａに流れ、気体Ｇは、第２の液体排出流路２１ｂから外部に排出される。
【解決手段】この流路切替装置１は、第１の圧力Ｐ１で液体Ｌを液体導入流路２０に導入すると、液体Ｌは、液体導入流路２０を流れて合流流路２３の疎水性領域２５で止まる。第２の圧力Ｐ２で気体Ｇを気体導入路２２ａに導入すると、疎水性領域２５で止まっていた流体Ｌが第１の液体排出流路２１ａに流れ、気体Ｇは、第２の液体排出流路２１ｂから外部に排出される。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流路切替装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
流路直径０．５ｍｍ以下の微小流路（マイクロチャンネルともいう。）内は、層流となるため、混合、合成、分離等の反応を効率的に行えるというメリットがあることから、近年、微小流路を用いて液体を混合させるマイクロミキサー、２種類の液体を合成させるマイクロリアクタ等の微小流路構造体が注目されている。
【０００３】
このような微小流路構造体において、微小流路を切り替えるバルブとして光触媒による親水・疎水パターンを利用した流路切替装置が知られている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００４】
この流路切替装置は、種類が異なる液体を共通流路を介してリアクションチャンバに導入する２つの液体導入流路と、上記共通流路を介してリアクションチャンバに気体を導入する２つの気体導入流路と、リアクションチャンバに連通された混合用流路とを備えたものである。流路内にＴｉＯ２をコーティングし、マスクを用いた紫外線照射によって共通流路に親水性領域と疎水性領域を形成し、第１の圧力で供給された微小液体を共通流路の親水性領域と疎水領域との間に阻止しておき、気体導入流路から第１の圧力よりも大きい第２の圧力で気体を共通流路に導入することにより、微小液体単位でリアクションチャンバ内に導入して混合させ、混合用流路から排出させる。この構成によれば、機械的なバルブと比べて簡便に作製することができる。また、微小液体単位で混合を行うことができる。
【非特許文献１】ｍｉｃｒｏＴＡＳ２００６（ｐｐ．２４５−２４７）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、機械的なバルブと比べて構成が簡素で、連続的に流れる液体の流路の開閉や切替えを行うことが可能な流路切替装置およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様は、上記目的を達成するため、以下の流路切替装置およびその製造方法を提供する。
【０００７】
［１］液体を導入する液体導入流路と、前記液体を排出する液体排出流路と、前記液体導入流路と前記液体排出流路とを連通する合流部と、前記液体導入流路と前記液体排出流路の内壁を親水性領域とし、前記合流部の内壁を疎水性領域とすることにより、第１の圧力で前記液体導入流路に導入された前記液体を前記疎水性領域の前記合流部で阻止する親水疎水パターンと、前記合流部に連通して設けられ、第２の圧力で気体を前記合流部に導入することにより、前記合流部で阻止されている前記液体を前記液体排出流路に排出させる気体導入流路とを備えた流路切替装置。
【０００８】
［２］液体を導入する液体導入流路と、前記液体を排出する複数の液体排出流路と、前記液体導入流路と前記複数の液体排出流路とを連通する合流部と、前記液体導入流路と前記複数の液体排出流路の内壁を親水性領域とし、前記合流部の内壁を疎水性領域とすることにより、第１の圧力で前記液体導入流路に導入された前記液体を前記疎水性領域の前記合流部で阻止する親水疎水パターンと、前記合流部に連通して設けられ、第２の圧力で気体を前記合流部に導入することにより、前記合流部で阻止されている前記液体を前記複数の液体排出流路のうちの１つの前記液体排出流路に排出させる複数の気体導入流路とを備えた流路切替装置。
【０００９】
［３］前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記液体導入流路および前記液体排出流路の内壁を含む領域に光触媒を担持し、前記液体導入流路および前記液体排出流路に担持された前記光触媒に選択的に紫外線を照射することによって形成された前記［１］又は［２］に記載の流路切替装置。
【００１０】
［４］前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記液体導入流路から前記合流部の一部に広がって形成された前記［１］又は［２］に記載の流路切替装置。
【００１１】
［５］前記液体導入流路および前記液体排出流路が形成され、清浄化された第１の接合面を有する第１の板部材と、清浄化された第２の接合面を前記第１の板部材の前記第１の接合面に直接接触させることにより接合された第２の板部材とを、さらに備えた前記［１］又は［２］に記載の流路切替装置。
【００１２】
［６］前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記第１の板部材に形成された前記液体導入流路および前記液体排出流路の内壁を含む領域にアナターゼ構造の二酸化チタンを担持し、前記二酸化チタンに紫外線を選択的に照射することによって形成され、前記第１および第２の板部材の前記第１の接合面と前記第２の接合面とは、前記二酸化チタンの前記アナターゼ構造が保たれる温度条件下で接合された前記［５］に記載の流路切替装置。
【００１３】
［７］互いに接合される第１および第２の接合面をそれぞれ有する第１および第２の板部材を準備し、前記第１の板部材の前記第１の接合面に、液体を導入する液体導入流路用溝と、前記液体を排出する液体排出流路用溝と、前記液体導入流路用溝と前記液体排出流路用溝とを連通する合流部用溝と、気体を前記合流用溝に導入する気体導入用溝とを形成し、前記第１の板部材の各前記溝の壁面を含む領域にアナターゼ構造の二酸化チタンからなる光触媒を担持させ、前記第１および第２の板部材の前記第１および第２の接合面を清浄化し、前記二酸化チタンの前記アナターゼ構造が保たれる温度条件下で、清浄化された前記第１および第２の接合面を直接接触させることにより前記第１および第２の板部材を接合させ、前記各流路に紫外線を選択的に照射することにより、前記液体導入流路用溝および前記液体排出流路用溝の内壁を親水性領域とし、前記合流部用溝の内壁を疎水性領域とする流路切替装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に係る流路切替装置によれば、機械的なバルブと比べて構成が簡素で、連続的に流れる液体の流路の開閉や切替えを行うことが可能になる。
【００１５】
請求項２に係る流路切替装置によれば、導入する液体と気体の圧力制御によって、流路の開閉や切替えを行うことが可能になる。
【００１６】
請求項３に係る流路切替装置によれば、本構成を採用しない構成と比べて親水性状態と疎水性状態を簡単に形成することができる。
【００１７】
請求項４に係る流路切替装置によれば、親水性領域が合流部の一部に広がっていない構成と比べて気体の圧力（第２の圧力）を小さくすることができる。
【００１８】
請求項５に係る流路切替装置によれば、加熱して接合する構成と比べて板部材の熱変形を抑制することができる。
【００１９】
請求項６に係る流路切替装置によれば、ルチル構造と比べて二酸化チタンの高い光触媒性能を発揮することができる。
【００２０】
請求項７に係る流路切替装置の製造方法によれば、機械的なバルブと比べて簡素な構成で、連続的に流れる液体の流路の開閉を行うことが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図１は、本発明の実施の形態に係る流路切替装置の斜視図、図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。
【００２２】
この流路切替装置１は、図２に示す合流流路（合流部）２３を含む流路を有する流路基板２と、流路基板２の上面（第１の接合面）２ａおよび流路の側面および底面に成膜された第１の光触媒膜４Ａと、流路基板２上に接合された蓋基板３と、蓋基板３の下面（第１の接合面）３ａに成膜された第２の光触媒膜４Ｂとを備える。
【００２３】
蓋基板３には、液体が導入される液体導入口３０と、液体が排出される第１および第２の液体排出口３１ａ，３１ｂと、気体が導入される第１および第２の気体導入口３２ａ，３２ｂとが形成されている。
【００２４】
流路基板２および蓋基板３の材料として、Ａｌ，Ｎｉ、Ｃｕ等の金属や、セラミックス、シリコン、誘電体、ガラス等の非金属等を用いることができる。流路基板２および蓋基板３は、同じ材料からなる基板の他に、異なる材料からなる基板を用いてもよい。本実施の形態では、流路基板２および蓋基板３は、ともにガラス基板を用いる。
【００２５】
光触媒膜４Ａ，４Ｂは、アナターゼ構造の二酸化チタン（ＴｉＯ２）からなる。
【００２６】
図３は、流路基板の平面図である。流路基板２の上面２ａには、流路用溝としての液体導入流路２０、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂ、第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂ、および合流流路２３がエッチングによって形成されている。同図中、斜線を施した領域は、第１の光触媒膜４Ａに紫外線を照射して形成された親水性領域２４ａ〜２４ｃであり、第１の光触媒膜４Ａのその他の領域は、疎水性領域２５である。液体導入流路２０に形成された親水性領域２４ａは、合流流路２３の一部に広がるように形成されている。本明細書において、親水性領域とは、疎水性領域よりも接触角が２０°以上小さい領域をいい、例えば、親水性領域の接触角は、０〜２０°であり、疎水性領域の接触角は、４０°〜１５０°である。
【００２７】
液体導入流路２０の一方の端部は、液体導入口３０に連通し、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂの一方の端部は、第１および第２の液体排出口３１ａ，３１ｂに連通し、第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂの一方の端部は、第１および第２の気体導入口３２ａ，３２ｂに連通している。そして、液体導入流路２０、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂ、および第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂの他方の端部は、合流流路２３に連通している。
【００２８】
液体導入流路２０、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂ、および第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂの幅及び高さのサイズは、５００μｍ以下のマイクロチャンネルである。
【００２９】
図４は、蓋基板の平面図である。同図中、斜線を施した領域は、蓋基板３の下面３ａの第２の光触媒膜４Ｂに紫外線を照射して形成された親水性領域３３ａ〜３３ｃであり、第２の光触媒膜４Ｂのその他の領域は、疎水性領域３４である。蓋基板３の下面３ａに形成された親水性領域３３ａ〜３３ｃの位置は、流路基板２の上面２ａに形成された親水性領域２４ａ〜２４ｃに一致している。
【００３０】
（製造方法）
図５（ａ）〜（ｆ）は、流路切替装置１の製造方法の一例を示す。
【００３１】
まず、図５（ａ）に示すように、流路基板２となるガラス基板２００の上面２ａに、図５（ｂ）に示すように、半導体製造方法に用いるフォトリソグラフィー法を用いて流路パターンのエッチングを行い、幅１００μｍ、深さ１００μｍの液体導入流路２０、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂ、第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂ、および合流流路２３を形成し、流路基板２を作製する。エッチングには、化学薬品を用いて被加工物を溶かし込むウエットエッチングや、イオンを利用して被加工物を気化して取り除くドライエッチング等を用いることができる。本実施の形態では、フッ化水素酸でエッチングを行うウエットエッチングを用いる。
【００３２】
次に、図５（ｃ）に示すように、液体導入流路２０、液体排出流路２１ａ，２１ｂ、気体導入流路２２ａ，２２ｂおよび合流流路２３の側面２６ａ，２６ｂ、底面２６ｃ、および流路基板２の上面２ａに、スパッタ法によりアナターゼ構造の二酸化チタン（ＴｉＯ２）からなる第１の光触媒膜４Ａを成膜する。
【００３３】
一方、図５（ｄ）に示すガラス基板からなる蓋基板３の下面３ａに、図５（ｅ）に示すように、スパッタ法によりアナターゼ構造の二酸化チタン（ＴｉＯ２）からなる第２の光触媒膜４Ｂを成膜する。
【００３４】
第１および第２の光触媒膜４Ａ，４ＢのＴｉＯ２は、１μｍの厚さで成膜した。これらのＴｉＯ２がともに光触媒活性が高いアナタース構造であることをＸ線回折の測定で確認した。
【００３５】
流路基板２および蓋基板３を第１および第２の光触媒膜４Ａ，４Ｂで対向させて常温接合により接合する。すなわち、第１および第２の光触媒膜４Ａ，４Ｂが成膜された流路基板２および蓋基板３を真空槽内に配置し、真空槽内を排気して高真空状態または超真空状態にする。本実施の形態では、真空度１×１０−４Ｐａの高真空状態とする。次に、流路基板２および蓋基板３の接合する面に１．２ｋＶ／１０ｍＡのＡｒ原子ビームの照射して表面を清浄化し、荷重を加えて接合する。この常温接合で、触媒活性能が低いルチル構造にならず触媒活性能の高いアナターゼ構造の二酸化チタンを成膜した流路２０，２１ａ，２１ｂ，２２ａ，２２ｂ，２３が形成できる。
【００３６】
ここで「常温接合」とは、清浄化した接合面同士を常温（例えば、１５〜２５℃）雰囲気中で接触させ、原子同士を直接結合させる接合方法をいい、表面活性化接合ともいう。接合の際は、無荷重でもよい。なお、常温接合の他に、清浄化された接合面同士を二酸化チタンのアナターゼ構造が保たれる程度の温度（例えば、１００℃以下）で加熱して接合してもよい。
【００３７】
二酸化チタンは、ｎ型半導体であるため、そのバンドギャップに相当する波長３８０ｎｍ以下の波長の紫外線が照射されると、正孔が生成されて表面に移動する。正孔は強い酸化力を持つので表面に吸着されている有機物が酸化分解される。このような光触媒作用は、アナターゼ構造がルチル構造よりも強く発揮される。
【００３８】
次に、図５（ｇ）に示すように、紫外線６を２５ｍＷ／ｃｍ２で１０分間マスク５を介して第１および第２の光触媒膜４Ａ，４Ｂに部分的に照射する。
【００３９】
図６は、マスクの平面図である。金属等からなるマスク５には、開口５ａ，５ｂ，５ｃが形成されている。このマスク５の開口５ａ，５ｂ，５ｃを介して紫外線６を第１および第２の光触媒膜４Ａ，４Ｂに部分的に照射することにより、図３、図４に斜線で施して示したように、親水性領域２４ａ〜２４ｃ、３３ａ〜３３ｃが形成される。
【００４０】
図７は、接触角５０°における流路半径と圧力障壁との関係を示す図である。同図は、次のラプラス−ヤングの式（１）に従ったものである。以下の説明では、疎水性領域の接触角を５０°として説明する。
Ｐ＝２γ・ｃｏｓθ／Ｒ ・・・（１）
但し、Ｐ：圧力障壁、γ：表面張力、Ｒ：流路半径、θ：接触角
【００４１】
同図から、流路の幅が狭くなる程圧力障壁が大きくなることが分かる。例えば、流路の幅が１００μｍ、すなわち流路半径が５０μｍ（５．００Ｅ−０５ｍ）のときの圧力障壁は、１８７０Ｐａとなる。
【００４２】
図８は、流路半径５０μｍ（５．００Ｅ−０５ｍ）における接触角と圧力障壁との関係を示す図である。同図も上記ラプラス−ヤングの式（１）に従ったものである。同図から、接触角が小さくなるに従って圧力障壁が大きくなることが分かる。例えば、接触角が５０°のときの圧力障壁は、１８７０Ｐａとなる。
【００４３】
（流路切替装置の動作）
次に、図９を参照して流路切替装置の動作を説明する。
【００４４】
まず、図９（ａ）に示すように、上述したラプラス−ヤングの式（１）に従って接触角と流路半径に応じた圧力（圧力障壁）Ｐｓ（例えば１．４５ｋＰａ）以下の第１の圧力Ｐ１で液体Ｌを液体導入口３０から液体導入流路２０に導入すると、液体Ｌは液体導入流路２０を流れて合流流路２３の親水性領域２４ａと疎水性領域２５との間で止まる。
【００４５】
次に、図９（ｂ）に示すように、液体Ｌへの圧力をＰｓよりも大きい圧力Ｐ１０にすると、液体Ｌは合流流路２３を通過して第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂを流れ、第１および第２の液体排出口３１ａ，３１ｂから排出される。このように本流路切替装置１が開閉バルブとして機能する。
【００４６】
図９（ａ）に示す状態において、液体Ｌへの第１の圧力Ｐ１との組合せによる圧力が圧力Ｐｓよりも大きくなる第２の圧力Ｐ２（例えば１．４ｋＰａ）で気体Ｇを第１の気体導入口３２ａから第１の気体導入流路２２ａに導入すると、図９（ｃ）に示すように、合流流路２３で滞留している液体Ｌの先端部Ｌａが、液体導入流路２０から加えられた第１の圧力Ｐ１と第１の気体導入流路２２ａから加えられた第２の圧力Ｐ２とによって第１の液体排出流路２１ａ側へ偏った形で変形する。このとき気体Ｇによって押された液体Ｌの体積分が第１の液体排出流路２１ａへ偏り、液体導入流路２０から供給される液体Ｌは、合流流路２３の疎水状態の部分を越えて親水化された第１の液体排出流路２１ａへ流れ、第１の液体排出口３１ａから外部へ排出される。一方、第１の気体導入流路２２ａから加えた加圧気体Ｇは、第２の液体排出流路２１ｂへ流れ、第２の液体排出口３１ｂから外部へ排出される。
【００４７】
また、図９（ａ）に示す状態において、加圧気体Ｇを第２の圧力Ｐ２で第２の気体導入流路２２ｂに導入すれば、液体導入流路２０から供給される液体Ｌは、第２の液体排出流路２１ｂへ流れ、第２の液体排出口３１ｂから外部へ排出される。第２の気体導入流路２２ｂから加えた加圧気体Ｇは、第１の液体排出流路２１ａへ流れ、第１の液体排出口３１ａから外部へ排出される。
【００４８】
［他の実施の形態］
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されず、その発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々と変形実施が可能である。
【００４９】
例えば、上記実施の形態では、流路基板に流路用溝を形成したが、流路基板を複数の基板から構成し、貫通穴を形成した基板と何も加工していない基板、又は溝を形成した基板とを接合したものを用いてもよい。
【００５０】
また、上記実施の形態では、流路基板の流路用溝と基板上面に光触媒膜を成膜したが、流路用溝の側面と底面のみに光触媒膜を成膜してもよい。また、上記実施の形態では、蓋基板の下面全体に光触媒膜を成膜したが、流路用溝に対応する表面部分のみに光触媒膜を成膜してもよい。
【００５１】
また、上記実施の形態では、液体導入流路を１つ、気体導入流路を２つ、液体排出流路を２つとしたが、これらの数に限定されない。例えば、液体導入流路、気体導入流路、液体排出流路をそれぞれ１つでもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】図１は、本発明の実施の形態に係る流路切替装置の斜視図である。
【図２】図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】図３は、流路基板の平面図である。
【図４】図４は、蓋基板の平面図である。
【図５】図５（ａ）〜（ｆ）は、流路構造体の製造方法の一例を示す図である。
【図６】図６は、マスクの平面図である。
【図７】図７は、接触角５０°における流路半径と圧力障壁との関係を示す図である。
【図８】図８は、流路半径５０μｍ（５．００Ｅ−０５）における接触角と圧力障壁との関係を示す図である。
【図９】図９（ａ）〜（ｄ）は、本発明の実施の形態に係る流路切替装置の動作を説明するための図である。
【符号の説明】
【００５３】
１ 流路切替装置
２ 流路基板
２ａ 上面
３ 蓋基板
３ａ 下面
４Ａ 第１の光触媒膜
４Ｂ 第２の光触媒膜
５ マスク
５ａ，５ｂ，５ｃ 開口
６ 紫外線
２０ 液体導入流路
２１ａ，２１ｂ 液体排出流路
２２ａ，２２ｂ 気体導入流路
２３ 合流流路
２４ａ〜２４ｃ 親水性領域
２５ 疎水性領域
２６ａ，２６ｂ 側面
２６ｃ 底面
３０ 液体導入口
３１ａ，３１ｂ 液体排出口
３２ａ，３２ｂ 気体導入口
３３ａ〜３３ｃ 親水性領域
３４ 疎水性領域
２００ ガラス基板
Ｇ 気体
Ｌ 液体
Ｌａ 液体の先端部
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流路切替装置およびその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
流路直径０．５ｍｍ以下の微小流路（マイクロチャンネルともいう。）内は、層流となるため、混合、合成、分離等の反応を効率的に行えるというメリットがあることから、近年、微小流路を用いて液体を混合させるマイクロミキサー、２種類の液体を合成させるマイクロリアクタ等の微小流路構造体が注目されている。
【０００３】
このような微小流路構造体において、微小流路を切り替えるバルブとして光触媒による親水・疎水パターンを利用した流路切替装置が知られている（例えば、非特許文献１参照）。
【０００４】
この流路切替装置は、種類が異なる液体を共通流路を介してリアクションチャンバに導入する２つの液体導入流路と、上記共通流路を介してリアクションチャンバに気体を導入する２つの気体導入流路と、リアクションチャンバに連通された混合用流路とを備えたものである。流路内にＴｉＯ２をコーティングし、マスクを用いた紫外線照射によって共通流路に親水性領域と疎水性領域を形成し、第１の圧力で供給された微小液体を共通流路の親水性領域と疎水領域との間に阻止しておき、気体導入流路から第１の圧力よりも大きい第２の圧力で気体を共通流路に導入することにより、微小液体単位でリアクションチャンバ内に導入して混合させ、混合用流路から排出させる。この構成によれば、機械的なバルブと比べて簡便に作製することができる。また、微小液体単位で混合を行うことができる。
【非特許文献１】ｍｉｃｒｏＴＡＳ２００６（ｐｐ．２４５−２４７）
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、機械的なバルブと比べて構成が簡素で、連続的に流れる液体の流路の開閉や切替えを行うことが可能な流路切替装置およびその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様は、上記目的を達成するため、以下の流路切替装置およびその製造方法を提供する。
【０００７】
［１］液体を導入する液体導入流路と、前記液体を排出する液体排出流路と、前記液体導入流路と前記液体排出流路とを連通する合流部と、前記液体導入流路と前記液体排出流路の内壁を親水性領域とし、前記合流部の内壁を疎水性領域とすることにより、第１の圧力で前記液体導入流路に導入された前記液体を前記疎水性領域の前記合流部で阻止する親水疎水パターンと、前記合流部に連通して設けられ、第２の圧力で気体を前記合流部に導入することにより、前記合流部で阻止されている前記液体を前記液体排出流路に排出させる気体導入流路とを備えた流路切替装置。
【０００８】
［２］液体を導入する液体導入流路と、前記液体を排出する複数の液体排出流路と、前記液体導入流路と前記複数の液体排出流路とを連通する合流部と、前記液体導入流路と前記複数の液体排出流路の内壁を親水性領域とし、前記合流部の内壁を疎水性領域とすることにより、第１の圧力で前記液体導入流路に導入された前記液体を前記疎水性領域の前記合流部で阻止する親水疎水パターンと、前記合流部に連通して設けられ、第２の圧力で気体を前記合流部に導入することにより、前記合流部で阻止されている前記液体を前記複数の液体排出流路のうちの１つの前記液体排出流路に排出させる複数の気体導入流路とを備えた流路切替装置。
【０００９】
［３］前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記液体導入流路および前記液体排出流路の内壁を含む領域に光触媒を担持し、前記液体導入流路および前記液体排出流路に担持された前記光触媒に選択的に紫外線を照射することによって形成された前記［１］又は［２］に記載の流路切替装置。
【００１０】
［４］前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記液体導入流路から前記合流部の一部に広がって形成された前記［１］又は［２］に記載の流路切替装置。
【００１１】
［５］前記液体導入流路および前記液体排出流路が形成され、清浄化された第１の接合面を有する第１の板部材と、清浄化された第２の接合面を前記第１の板部材の前記第１の接合面に直接接触させることにより接合された第２の板部材とを、さらに備えた前記［１］又は［２］に記載の流路切替装置。
【００１２】
［６］前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記第１の板部材に形成された前記液体導入流路および前記液体排出流路の内壁を含む領域にアナターゼ構造の二酸化チタンを担持し、前記二酸化チタンに紫外線を選択的に照射することによって形成され、前記第１および第２の板部材の前記第１の接合面と前記第２の接合面とは、前記二酸化チタンの前記アナターゼ構造が保たれる温度条件下で接合された前記［５］に記載の流路切替装置。
【００１３】
［７］互いに接合される第１および第２の接合面をそれぞれ有する第１および第２の板部材を準備し、前記第１の板部材の前記第１の接合面に、液体を導入する液体導入流路用溝と、前記液体を排出する液体排出流路用溝と、前記液体導入流路用溝と前記液体排出流路用溝とを連通する合流部用溝と、気体を前記合流用溝に導入する気体導入用溝とを形成し、前記第１の板部材の各前記溝の壁面を含む領域にアナターゼ構造の二酸化チタンからなる光触媒を担持させ、前記第１および第２の板部材の前記第１および第２の接合面を清浄化し、前記二酸化チタンの前記アナターゼ構造が保たれる温度条件下で、清浄化された前記第１および第２の接合面を直接接触させることにより前記第１および第２の板部材を接合させ、前記各流路に紫外線を選択的に照射することにより、前記液体導入流路用溝および前記液体排出流路用溝の内壁を親水性領域とし、前記合流部用溝の内壁を疎水性領域とする流路切替装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
請求項１に係る流路切替装置によれば、機械的なバルブと比べて構成が簡素で、連続的に流れる液体の流路の開閉や切替えを行うことが可能になる。
【００１５】
請求項２に係る流路切替装置によれば、導入する液体と気体の圧力制御によって、流路の開閉や切替えを行うことが可能になる。
【００１６】
請求項３に係る流路切替装置によれば、本構成を採用しない構成と比べて親水性状態と疎水性状態を簡単に形成することができる。
【００１７】
請求項４に係る流路切替装置によれば、親水性領域が合流部の一部に広がっていない構成と比べて気体の圧力（第２の圧力）を小さくすることができる。
【００１８】
請求項５に係る流路切替装置によれば、加熱して接合する構成と比べて板部材の熱変形を抑制することができる。
【００１９】
請求項６に係る流路切替装置によれば、ルチル構造と比べて二酸化チタンの高い光触媒性能を発揮することができる。
【００２０】
請求項７に係る流路切替装置の製造方法によれば、機械的なバルブと比べて簡素な構成で、連続的に流れる液体の流路の開閉を行うことが可能になる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２１】
図１は、本発明の実施の形態に係る流路切替装置の斜視図、図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。
【００２２】
この流路切替装置１は、図２に示す合流流路（合流部）２３を含む流路を有する流路基板２と、流路基板２の上面（第１の接合面）２ａおよび流路の側面および底面に成膜された第１の光触媒膜４Ａと、流路基板２上に接合された蓋基板３と、蓋基板３の下面（第１の接合面）３ａに成膜された第２の光触媒膜４Ｂとを備える。
【００２３】
蓋基板３には、液体が導入される液体導入口３０と、液体が排出される第１および第２の液体排出口３１ａ，３１ｂと、気体が導入される第１および第２の気体導入口３２ａ，３２ｂとが形成されている。
【００２４】
流路基板２および蓋基板３の材料として、Ａｌ，Ｎｉ、Ｃｕ等の金属や、セラミックス、シリコン、誘電体、ガラス等の非金属等を用いることができる。流路基板２および蓋基板３は、同じ材料からなる基板の他に、異なる材料からなる基板を用いてもよい。本実施の形態では、流路基板２および蓋基板３は、ともにガラス基板を用いる。
【００２５】
光触媒膜４Ａ，４Ｂは、アナターゼ構造の二酸化チタン（ＴｉＯ２）からなる。
【００２６】
図３は、流路基板の平面図である。流路基板２の上面２ａには、流路用溝としての液体導入流路２０、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂ、第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂ、および合流流路２３がエッチングによって形成されている。同図中、斜線を施した領域は、第１の光触媒膜４Ａに紫外線を照射して形成された親水性領域２４ａ〜２４ｃであり、第１の光触媒膜４Ａのその他の領域は、疎水性領域２５である。液体導入流路２０に形成された親水性領域２４ａは、合流流路２３の一部に広がるように形成されている。本明細書において、親水性領域とは、疎水性領域よりも接触角が２０°以上小さい領域をいい、例えば、親水性領域の接触角は、０〜２０°であり、疎水性領域の接触角は、４０°〜１５０°である。
【００２７】
液体導入流路２０の一方の端部は、液体導入口３０に連通し、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂの一方の端部は、第１および第２の液体排出口３１ａ，３１ｂに連通し、第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂの一方の端部は、第１および第２の気体導入口３２ａ，３２ｂに連通している。そして、液体導入流路２０、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂ、および第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂの他方の端部は、合流流路２３に連通している。
【００２８】
液体導入流路２０、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂ、および第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂの幅及び高さのサイズは、５００μｍ以下のマイクロチャンネルである。
【００２９】
図４は、蓋基板の平面図である。同図中、斜線を施した領域は、蓋基板３の下面３ａの第２の光触媒膜４Ｂに紫外線を照射して形成された親水性領域３３ａ〜３３ｃであり、第２の光触媒膜４Ｂのその他の領域は、疎水性領域３４である。蓋基板３の下面３ａに形成された親水性領域３３ａ〜３３ｃの位置は、流路基板２の上面２ａに形成された親水性領域２４ａ〜２４ｃに一致している。
【００３０】
（製造方法）
図５（ａ）〜（ｆ）は、流路切替装置１の製造方法の一例を示す。
【００３１】
まず、図５（ａ）に示すように、流路基板２となるガラス基板２００の上面２ａに、図５（ｂ）に示すように、半導体製造方法に用いるフォトリソグラフィー法を用いて流路パターンのエッチングを行い、幅１００μｍ、深さ１００μｍの液体導入流路２０、第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂ、第１および第２の気体導入流路２２ａ，２２ｂ、および合流流路２３を形成し、流路基板２を作製する。エッチングには、化学薬品を用いて被加工物を溶かし込むウエットエッチングや、イオンを利用して被加工物を気化して取り除くドライエッチング等を用いることができる。本実施の形態では、フッ化水素酸でエッチングを行うウエットエッチングを用いる。
【００３２】
次に、図５（ｃ）に示すように、液体導入流路２０、液体排出流路２１ａ，２１ｂ、気体導入流路２２ａ，２２ｂおよび合流流路２３の側面２６ａ，２６ｂ、底面２６ｃ、および流路基板２の上面２ａに、スパッタ法によりアナターゼ構造の二酸化チタン（ＴｉＯ２）からなる第１の光触媒膜４Ａを成膜する。
【００３３】
一方、図５（ｄ）に示すガラス基板からなる蓋基板３の下面３ａに、図５（ｅ）に示すように、スパッタ法によりアナターゼ構造の二酸化チタン（ＴｉＯ２）からなる第２の光触媒膜４Ｂを成膜する。
【００３４】
第１および第２の光触媒膜４Ａ，４ＢのＴｉＯ２は、１μｍの厚さで成膜した。これらのＴｉＯ２がともに光触媒活性が高いアナタース構造であることをＸ線回折の測定で確認した。
【００３５】
流路基板２および蓋基板３を第１および第２の光触媒膜４Ａ，４Ｂで対向させて常温接合により接合する。すなわち、第１および第２の光触媒膜４Ａ，４Ｂが成膜された流路基板２および蓋基板３を真空槽内に配置し、真空槽内を排気して高真空状態または超真空状態にする。本実施の形態では、真空度１×１０−４Ｐａの高真空状態とする。次に、流路基板２および蓋基板３の接合する面に１．２ｋＶ／１０ｍＡのＡｒ原子ビームの照射して表面を清浄化し、荷重を加えて接合する。この常温接合で、触媒活性能が低いルチル構造にならず触媒活性能の高いアナターゼ構造の二酸化チタンを成膜した流路２０，２１ａ，２１ｂ，２２ａ，２２ｂ，２３が形成できる。
【００３６】
ここで「常温接合」とは、清浄化した接合面同士を常温（例えば、１５〜２５℃）雰囲気中で接触させ、原子同士を直接結合させる接合方法をいい、表面活性化接合ともいう。接合の際は、無荷重でもよい。なお、常温接合の他に、清浄化された接合面同士を二酸化チタンのアナターゼ構造が保たれる程度の温度（例えば、１００℃以下）で加熱して接合してもよい。
【００３７】
二酸化チタンは、ｎ型半導体であるため、そのバンドギャップに相当する波長３８０ｎｍ以下の波長の紫外線が照射されると、正孔が生成されて表面に移動する。正孔は強い酸化力を持つので表面に吸着されている有機物が酸化分解される。このような光触媒作用は、アナターゼ構造がルチル構造よりも強く発揮される。
【００３８】
次に、図５（ｇ）に示すように、紫外線６を２５ｍＷ／ｃｍ２で１０分間マスク５を介して第１および第２の光触媒膜４Ａ，４Ｂに部分的に照射する。
【００３９】
図６は、マスクの平面図である。金属等からなるマスク５には、開口５ａ，５ｂ，５ｃが形成されている。このマスク５の開口５ａ，５ｂ，５ｃを介して紫外線６を第１および第２の光触媒膜４Ａ，４Ｂに部分的に照射することにより、図３、図４に斜線で施して示したように、親水性領域２４ａ〜２４ｃ、３３ａ〜３３ｃが形成される。
【００４０】
図７は、接触角５０°における流路半径と圧力障壁との関係を示す図である。同図は、次のラプラス−ヤングの式（１）に従ったものである。以下の説明では、疎水性領域の接触角を５０°として説明する。
Ｐ＝２γ・ｃｏｓθ／Ｒ ・・・（１）
但し、Ｐ：圧力障壁、γ：表面張力、Ｒ：流路半径、θ：接触角
【００４１】
同図から、流路の幅が狭くなる程圧力障壁が大きくなることが分かる。例えば、流路の幅が１００μｍ、すなわち流路半径が５０μｍ（５．００Ｅ−０５ｍ）のときの圧力障壁は、１８７０Ｐａとなる。
【００４２】
図８は、流路半径５０μｍ（５．００Ｅ−０５ｍ）における接触角と圧力障壁との関係を示す図である。同図も上記ラプラス−ヤングの式（１）に従ったものである。同図から、接触角が小さくなるに従って圧力障壁が大きくなることが分かる。例えば、接触角が５０°のときの圧力障壁は、１８７０Ｐａとなる。
【００４３】
（流路切替装置の動作）
次に、図９を参照して流路切替装置の動作を説明する。
【００４４】
まず、図９（ａ）に示すように、上述したラプラス−ヤングの式（１）に従って接触角と流路半径に応じた圧力（圧力障壁）Ｐｓ（例えば１．４５ｋＰａ）以下の第１の圧力Ｐ１で液体Ｌを液体導入口３０から液体導入流路２０に導入すると、液体Ｌは液体導入流路２０を流れて合流流路２３の親水性領域２４ａと疎水性領域２５との間で止まる。
【００４５】
次に、図９（ｂ）に示すように、液体Ｌへの圧力をＰｓよりも大きい圧力Ｐ１０にすると、液体Ｌは合流流路２３を通過して第１および第２の液体排出流路２１ａ，２１ｂを流れ、第１および第２の液体排出口３１ａ，３１ｂから排出される。このように本流路切替装置１が開閉バルブとして機能する。
【００４６】
図９（ａ）に示す状態において、液体Ｌへの第１の圧力Ｐ１との組合せによる圧力が圧力Ｐｓよりも大きくなる第２の圧力Ｐ２（例えば１．４ｋＰａ）で気体Ｇを第１の気体導入口３２ａから第１の気体導入流路２２ａに導入すると、図９（ｃ）に示すように、合流流路２３で滞留している液体Ｌの先端部Ｌａが、液体導入流路２０から加えられた第１の圧力Ｐ１と第１の気体導入流路２２ａから加えられた第２の圧力Ｐ２とによって第１の液体排出流路２１ａ側へ偏った形で変形する。このとき気体Ｇによって押された液体Ｌの体積分が第１の液体排出流路２１ａへ偏り、液体導入流路２０から供給される液体Ｌは、合流流路２３の疎水状態の部分を越えて親水化された第１の液体排出流路２１ａへ流れ、第１の液体排出口３１ａから外部へ排出される。一方、第１の気体導入流路２２ａから加えた加圧気体Ｇは、第２の液体排出流路２１ｂへ流れ、第２の液体排出口３１ｂから外部へ排出される。
【００４７】
また、図９（ａ）に示す状態において、加圧気体Ｇを第２の圧力Ｐ２で第２の気体導入流路２２ｂに導入すれば、液体導入流路２０から供給される液体Ｌは、第２の液体排出流路２１ｂへ流れ、第２の液体排出口３１ｂから外部へ排出される。第２の気体導入流路２２ｂから加えた加圧気体Ｇは、第１の液体排出流路２１ａへ流れ、第１の液体排出口３１ａから外部へ排出される。
【００４８】
［他の実施の形態］
なお、本発明は、上記実施の形態に限定されず、その発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々と変形実施が可能である。
【００４９】
例えば、上記実施の形態では、流路基板に流路用溝を形成したが、流路基板を複数の基板から構成し、貫通穴を形成した基板と何も加工していない基板、又は溝を形成した基板とを接合したものを用いてもよい。
【００５０】
また、上記実施の形態では、流路基板の流路用溝と基板上面に光触媒膜を成膜したが、流路用溝の側面と底面のみに光触媒膜を成膜してもよい。また、上記実施の形態では、蓋基板の下面全体に光触媒膜を成膜したが、流路用溝に対応する表面部分のみに光触媒膜を成膜してもよい。
【００５１】
また、上記実施の形態では、液体導入流路を１つ、気体導入流路を２つ、液体排出流路を２つとしたが、これらの数に限定されない。例えば、液体導入流路、気体導入流路、液体排出流路をそれぞれ１つでもよい。
【図面の簡単な説明】
【００５２】
【図１】図１は、本発明の実施の形態に係る流路切替装置の斜視図である。
【図２】図２は、図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】図３は、流路基板の平面図である。
【図４】図４は、蓋基板の平面図である。
【図５】図５（ａ）〜（ｆ）は、流路構造体の製造方法の一例を示す図である。
【図６】図６は、マスクの平面図である。
【図７】図７は、接触角５０°における流路半径と圧力障壁との関係を示す図である。
【図８】図８は、流路半径５０μｍ（５．００Ｅ−０５）における接触角と圧力障壁との関係を示す図である。
【図９】図９（ａ）〜（ｄ）は、本発明の実施の形態に係る流路切替装置の動作を説明するための図である。
【符号の説明】
【００５３】
１ 流路切替装置
２ 流路基板
２ａ 上面
３ 蓋基板
３ａ 下面
４Ａ 第１の光触媒膜
４Ｂ 第２の光触媒膜
５ マスク
５ａ，５ｂ，５ｃ 開口
６ 紫外線
２０ 液体導入流路
２１ａ，２１ｂ 液体排出流路
２２ａ，２２ｂ 気体導入流路
２３ 合流流路
２４ａ〜２４ｃ 親水性領域
２５ 疎水性領域
２６ａ，２６ｂ 側面
２６ｃ 底面
３０ 液体導入口
３１ａ，３１ｂ 液体排出口
３２ａ，３２ｂ 気体導入口
３３ａ〜３３ｃ 親水性領域
３４ 疎水性領域
２００ ガラス基板
Ｇ 気体
Ｌ 液体
Ｌａ 液体の先端部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体を導入する液体導入流路と、
前記液体を排出する液体排出流路と、
前記液体導入流路と前記液体排出流路とを連通する合流部と、
前記液体導入流路と前記液体排出流路の内壁を親水性領域とし、前記合流部の内壁を疎水性領域とすることにより、第１の圧力で前記液体導入流路に導入された前記液体を前記疎水性領域の前記合流部で阻止する親水疎水パターンと、
前記合流部に連通して設けられ、第２の圧力で気体を前記合流部に導入することにより、前記合流部で阻止されている前記液体を前記液体排出流路に排出させる気体導入流路とを備えた流路切替装置。
【請求項２】
液体を導入する液体導入流路と、
前記液体を排出する複数の液体排出流路と、
前記液体導入流路と前記複数の液体排出流路とを連通する合流部と、
前記液体導入流路と前記複数の液体排出流路の内壁を親水性領域とし、前記合流部の内壁を疎水性領域とすることにより、第１の圧力で前記液体導入流路に導入された前記液体を前記疎水性領域の前記合流部で阻止する親水疎水パターンと、
前記合流部に連通して設けられ、第２の圧力で気体を前記合流部に導入することにより、前記合流部で阻止されている前記液体を前記複数の液体排出流路のうちの１つの前記液体排出流路に排出させる複数の気体導入流路とを備えた流路切替装置。
【請求項３】
前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記液体導入流路および前記液体排出流路の内壁を含む領域に光触媒を担持し、前記液体導入流路および前記液体排出流路に担持された前記光触媒に選択的に紫外線を照射することによって形成された請求項１又は２に記載の流路切替装置。
【請求項４】
前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記液体導入流路から前記合流部の一部に広がって形成された請求項１又は２に記載の流路切替装置。
【請求項５】
前記液体導入流路および前記液体排出流路が形成され、清浄化された第１の接合面を有する第１の板部材と、
清浄化された第２の接合面を前記第１の板部材の前記第１の接合面に直接接触させることにより接合された第２の板部材とを、さらに備えた請求項１又は２に記載の流路切替装置。
【請求項６】
前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記第１の板部材に形成された前記液体導入流路および前記液体排出流路の内壁を含む領域にアナターゼ構造の二酸化チタンを担持し、前記二酸化チタンに紫外線を選択的に照射することによって形成され、
前記第１および第２の板部材の前記第１の接合面と前記第２の接合面とは、前記二酸化チタンの前記アナターゼ構造が保たれる温度条件下で接合された請求項５に記載の流路切替装置。
【請求項７】
互いに接合される第１および第２の接合面をそれぞれ有する第１および第２の板部材を準備し、
前記第１の板部材の前記第１の接合面に、液体を導入する液体導入流路用溝と、前記液体を排出する液体排出流路用溝と、前記液体導入流路用溝と前記液体排出流路用溝とを連通する合流部用溝と、気体を前記合流用溝に導入する気体導入用溝とを形成し、
前記第１の板部材の各前記溝の壁面を含む領域にアナターゼ構造の二酸化チタンからなる光触媒を担持させ、
前記第１および第２の板部材の前記第１および第２の接合面を清浄化し、
前記二酸化チタンの前記アナターゼ構造が保たれる温度条件下で、清浄化された前記第１および第２の接合面を直接接触させることにより前記第１および第２の板部材を接合させ、
前記各流路に紫外線を選択的に照射することにより、前記液体導入流路用溝および前記液体排出流路用溝の内壁を親水性領域とし、前記合流部用溝の内壁を疎水性領域とする流路切替装置の製造方法。
【請求項１】
液体を導入する液体導入流路と、
前記液体を排出する液体排出流路と、
前記液体導入流路と前記液体排出流路とを連通する合流部と、
前記液体導入流路と前記液体排出流路の内壁を親水性領域とし、前記合流部の内壁を疎水性領域とすることにより、第１の圧力で前記液体導入流路に導入された前記液体を前記疎水性領域の前記合流部で阻止する親水疎水パターンと、
前記合流部に連通して設けられ、第２の圧力で気体を前記合流部に導入することにより、前記合流部で阻止されている前記液体を前記液体排出流路に排出させる気体導入流路とを備えた流路切替装置。
【請求項２】
液体を導入する液体導入流路と、
前記液体を排出する複数の液体排出流路と、
前記液体導入流路と前記複数の液体排出流路とを連通する合流部と、
前記液体導入流路と前記複数の液体排出流路の内壁を親水性領域とし、前記合流部の内壁を疎水性領域とすることにより、第１の圧力で前記液体導入流路に導入された前記液体を前記疎水性領域の前記合流部で阻止する親水疎水パターンと、
前記合流部に連通して設けられ、第２の圧力で気体を前記合流部に導入することにより、前記合流部で阻止されている前記液体を前記複数の液体排出流路のうちの１つの前記液体排出流路に排出させる複数の気体導入流路とを備えた流路切替装置。
【請求項３】
前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記液体導入流路および前記液体排出流路の内壁を含む領域に光触媒を担持し、前記液体導入流路および前記液体排出流路に担持された前記光触媒に選択的に紫外線を照射することによって形成された請求項１又は２に記載の流路切替装置。
【請求項４】
前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記液体導入流路から前記合流部の一部に広がって形成された請求項１又は２に記載の流路切替装置。
【請求項５】
前記液体導入流路および前記液体排出流路が形成され、清浄化された第１の接合面を有する第１の板部材と、
清浄化された第２の接合面を前記第１の板部材の前記第１の接合面に直接接触させることにより接合された第２の板部材とを、さらに備えた請求項１又は２に記載の流路切替装置。
【請求項６】
前記親水疎水パターンの前記親水性領域は、前記第１の板部材に形成された前記液体導入流路および前記液体排出流路の内壁を含む領域にアナターゼ構造の二酸化チタンを担持し、前記二酸化チタンに紫外線を選択的に照射することによって形成され、
前記第１および第２の板部材の前記第１の接合面と前記第２の接合面とは、前記二酸化チタンの前記アナターゼ構造が保たれる温度条件下で接合された請求項５に記載の流路切替装置。
【請求項７】
互いに接合される第１および第２の接合面をそれぞれ有する第１および第２の板部材を準備し、
前記第１の板部材の前記第１の接合面に、液体を導入する液体導入流路用溝と、前記液体を排出する液体排出流路用溝と、前記液体導入流路用溝と前記液体排出流路用溝とを連通する合流部用溝と、気体を前記合流用溝に導入する気体導入用溝とを形成し、
前記第１の板部材の各前記溝の壁面を含む領域にアナターゼ構造の二酸化チタンからなる光触媒を担持させ、
前記第１および第２の板部材の前記第１および第２の接合面を清浄化し、
前記二酸化チタンの前記アナターゼ構造が保たれる温度条件下で、清浄化された前記第１および第２の接合面を直接接触させることにより前記第１および第２の板部材を接合させ、
前記各流路に紫外線を選択的に照射することにより、前記液体導入流路用溝および前記液体排出流路用溝の内壁を親水性領域とし、前記合流部用溝の内壁を疎水性領域とする流路切替装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【公開番号】特開２００９−１１５７５０（Ｐ２００９−１１５７５０Ａ）
【公開日】平成２１年５月２８日（２００９．５．２８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００７−２９２０６１（Ｐ２００７−２９２０６１）
【出願日】平成１９年１１月９日（２００７．１１．９）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２１年５月２８日（２００９．５．２８）
【国際特許分類】
【出願日】平成１９年１１月９日（２００７．１１．９）
【出願人】（０００００５４９６）富士ゼロックス株式会社 (21,908)
【Ｆターム（参考）】
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