液晶滴下制御装置
【課題】ノズルから基板上に滴下される液晶の量を最小化することで、ドットが発生する可能性を最小化する液晶滴下制御装置を提供する。
【解決手段】内部にガス供給路と液晶供給路が形成され、液晶供給路を通じて流入した液晶をノズルを通じて滴下し、ノズル先端にある液晶は、ガス供給路を通じて供給されるガスによって基板上に滴下するヘッドユニットと；液晶収納容器から液晶を吸入して一時貯蔵する一時液晶収納部と；前記一時液晶収納部から前記ノズル先端に供給される液晶の量を制御し、前記ノズル先端にある液晶を滴下するために必要なガスを調節する二流体制御部とを含む。
【解決手段】内部にガス供給路と液晶供給路が形成され、液晶供給路を通じて流入した液晶をノズルを通じて滴下し、ノズル先端にある液晶は、ガス供給路を通じて供給されるガスによって基板上に滴下するヘッドユニットと；液晶収納容器から液晶を吸入して一時貯蔵する一時液晶収納部と；前記一時液晶収納部から前記ノズル先端に供給される液晶の量を制御し、前記ノズル先端にある液晶を滴下するために必要なガスを調節する二流体制御部とを含む。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶ディスペンサーに係り、特に基板上に液晶を滴下する制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ＬＣＤは板状ガラスにトランジスタのような駆動素子が設けられた下部基板と、板状ガラスにカラーフィルター層などが設けられた上部基板と、下部基板と上部基板とを接合させるシール材と、下部基板と上部基板の間に充填された液晶層と、を含んでなる。このようなＬＣＤは、下部基板に形成された駆動素子によって液晶層の液晶分子を駆動しており、その液晶分子の駆動によってその液晶層を透過する光量を制御することで、情報を表示する。
【０００３】
ＬＣＤの製作方法の一つとして、所定の大きさのガラスに駆動素子を形成して基板を製作し、他のガラスにカラーフィルター層などを形成して他の基板を製作する。そして、両基板の中でいずれか一方の基板にシール材を所定形状のパターンで塗布し、そのシール材の内側領域にドットを配列した形態のパターンで液晶滴を滴下した後、両基板を合着する。この際、両基板が合着されるにつれて、パターニングされた液晶滴は両基板の間によって液晶層をなすことになる。そして、両基板を合着したマザーガラスを切断してＬＣＤを構成する単位液晶パネルを製作することになる。
【０００４】
このような製作方法は、それぞれの機能を持つ製造装備が配列された製造ライン上で進行する。前記製造装備のうち、液晶を滴下する工程及びシール材を吐き出す工程は、ディスペンサーによって行われる。
【０００５】
液晶を滴下する工程をより具体的に説明するために、一般的なディスペンサーの斜視図を示す図１を参照すると、まず、液晶が滴下される基板１００は、フレーム２００上に設置されたステージ３００上に載置される。そして、予め入力されたパターンに沿って、ステージ３００上に位置するヘッドユニット４００が動きながら、ヘッドユニット４００を構成するノズルＮから液晶が滴下される。液晶がノズルＮから自由落下するためには、約１ｍｇ〜３ｍｇ程度の重さが要求される。一方、ヘッドユニット４００は、フレーム２００上に設置されたヘッド支持台５００に沿って動く。ヘッド支持台５００は、折曲状に形成されており、その両端が前記フレーム２００に一方向に移動可能にそれぞれ結合される。この際、ヘッド支持台５００は、ステージ３００を横切るように位置する。前記ステージ３００は、前記フレーム２００上に設置された固定テーブル６００上で一方向に動く。ステージ３００が動く方向は、ヘッド支持台５００に対して垂直方向である。一方、液晶ディスペンサーには、前記液晶の重さを測定する重量測定装置７００がさらに設けられてもよい。
【０００６】
前述した液晶ディスペンサーの構造で説明したように、液晶がノズルＮから自由落下するためには約１ｍｇ〜３ｍｇの重さが要求されているが、マザーガラスを構成する両基板間の間隔はマイクロメートル単位と非常に小さく、両基板の間に満たされる液晶層の厚さもマイクロメートル単位で非常に薄い。
【０００７】
したがって、約１ｍｇ〜３ｍｇの液晶がノズルＮから吐き出される一般的な液晶ディスペンサーの場合、液晶が実際に滴下した領域とその滴下した液晶がリフローされた領域との間には、液晶層の厚さに違いが発生する。このような液晶層の厚さの差は液晶層を透過する光の経路を変えるため、結果として製品に適用した際に画面に染みが発生して、製品の不良をもたらすことになる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、本発明の目的はノズルから基板上に滴下される液晶の量を最小化することで、ドットが発生する可能性を最小化することができる液晶滴下制御装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための本発明の一実施例による液晶滴下制御装置は、内部にガス供給路と液晶供給路とが形成され、液晶供給路を通じて流入した液晶をノズルを通じて滴下させ、ノズル先端にある液晶をガス供給路を通じて供給されるガスによって基板上に滴下するヘッドユニットと；液晶収納容器から液晶を吸入して一時貯蔵する一時液晶収納部と；前記一時液晶収納部から前記ノズル先端に供給される液晶の量を制御し、前記ノズル先端にある液晶を滴下するために必要なガスを調節する二流体制御部と；を含むことを特徴とする。
【００１０】
他の変形実施例として、前記二流体制御部は、前記液晶供給路に供給される液晶の量を制御するための液晶供給量制御部と；ガスタンクと前記ガス供給路との間に位置するガス調節バルブを制御するためのガス制御部と；を含むことができる。
【００１１】
前記二流体制御部あるいは液晶供給量制御部は、共にヘッドユニット内の液晶供給路に０．１ｍｇ〜０．８ｍｇの少量の液晶のみを供給し、供給された少量の液晶が、ガス供給路を通じて供給されるガス噴出圧によって表示パネル上に滴下される。
【発明の効果】
【００１２】
前述したような本発明の実施例によれば、二流体制御部あるいは液晶供給量制御部によって０．１ｍｇ〜０．８ｍｇの少量液晶だけがヘッドユニットのノズル先端に液晶滴として形成され、その液晶滴は、ガス供給路を通じて供給されるガス噴出圧によって表示パネル上に滴下される。したがって、少量の液晶がまるで噴霧方式で表示パネル上に滴下されるような結果が得られることにより、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域とにおける液晶の厚さの差が最小になるので、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低くなる。これは直ちにパネルの表示品質を向上させる結果をもたらす。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一般的な液晶ディスペンサーの斜視図である。
【図２】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の器具的構成を説明する図である。
【図３】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の器具的構成を説明する図である。
【図４】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置のブロック構成図である。
【図５】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の制御過程を説明するタイミング図である。
【図６】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の制御過程を説明するタイミング図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、添付図面に基づいて本発明の好適な実施例を詳細に説明する。
【００１５】
まず、本発明の実施例による液晶滴下制御装置は、大別してヘッドユニット、一時液晶収納部及び二流体制御部を含む。前記二流体制御部によって駆動可能なヘッドユニットと一時液晶収納部の器具的構成及び動作とをより詳細に説明するために、添付図面を参照すると、図２及び図３は、本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の器具的構成を示すものである。
【００１６】
図２及び図３を参照すると、ヘッドユニット１２７０には、その内部にガス供給路１２５０と液晶供給路１２６０とが形成され、その液晶供給路１２６０を通じて流入した液晶は、ノズルを通じて基板上に滴下され、ガス供給路１２５０を通じて噴出されるガス圧によって基板上に滴下される。参考として、ヘッドユニット１２７０内のガス供給路１２５０は、ガス供給管を介してガスタンク１２５５に連結されており、そのガス供給管には、ヘッドユニット１２７０に供給されるガスの量を調節するためのガス調節バルブ８００が取り付けられている。ヘッドユニット１２７０内の液晶供給路１２６０も、後述する一時液晶収納部１２９０の液晶流出口１２３０に連結されている。このように、ガス供給路１２５０と液晶供給路１２６０とが内部に形成されているヘッドユニット１２７０は、図１に示すような液晶ディスペンサーのフレーム２００上に設置されるヘッド支持台５００に沿って移動しながら基板上に液晶を滴下する。
【００１７】
一方、液晶収納容器１２００から液晶を吸入して一時貯蔵する一時液晶収納部１２９０は、一時貯蔵された液晶をヘッドユニット１２７０に供給する。このような一時液晶収納部１２９０は、一例として、図２及び図３に示すように、ポンピングホール内でピストンポンピング部１２８０が上下及び回転運動可能なシリンダー組立体構造を有する。一時液晶収納部１２９０には、ピストンポンピング部１２８０が挿入されるポンピングホールと連通するように、液晶流入口１２２０と液晶流出口１２３０が形成されている。液晶流入口１２２０は、チューブを介して液晶収納容器１２００に連結される構造であり、液晶流出口１２３０は、ヘッドユニット１２７０内の液晶供給路１２６０に連結される構造である。そして、ピストンポンピング部１２８０の外周面一部は、液晶の流入と流出とのために一部がカットされた切除部１２４０を有し、液晶流入口１２２０あるいは液晶流出口１２３０と対面する。
【００１８】
このような構造の一時液晶収納部１２９０が液晶収納容器１２００から液晶を受けてヘッドユニット１２７０から滴下するまでの過程を図２及び図３を参照して説明する。
【００１９】
まず、図２に示すように、ピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０は、シリンダーの液晶流入口１２２０と対面するようにピストン１１００を回転させる。この状態で、図４で説明する二流体制御部９００は、ピストン駆動部を制御してピストン１１００を上部に移動させる。ピストン１１００が上部に動くにつれて、ピストンポンピング部１２８０の端面とポンピングホールとの間に形成される液晶吸入空間が増大し、その空間の内外の圧力差によって、液晶収納容器１２００内の液晶１２１０は、液晶流入口１２２０を通じて液晶吸入空間に流入される。
【００２０】
その後、二流体制御部９００は、さらにピストン駆動部を制御して、図３に示すように、ピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０がシリンダーの液晶流出口１２３０と対面するように、ピストン１１００を回転させる。ついで、二流体制御部９００は、上昇していたピストン１１００を下部に移動させる。これにより、液晶吸入空間が次第に減少するにつれてその空間に満たされた液晶は、液晶流出口１２３０を通じてヘッドユニット１２７０に供給される。
【００２１】
このように、液晶収納容器１２００に満たされた液晶１２１０を一時液晶収納部１２９０を通じてヘッドユニット１２７０に供給し、ヘッドユニット１２７０に供給された液晶をさらにガスを利用して基板上に滴下するための二流体制御部９００の動作とその周辺構成とを添付図面の中の図４〜図６を参照して説明する。
【００２２】
図４は、本発明の一実施例による液晶滴下制御装置のブロック構成図を示し、図５及び図６は、本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の制御過程を説明するタイミング図を示す。
【００２３】
図４において、ガス調節バルブ８００は、後述する二流体制御部９００あるいは二元化可能な二流体制御部９００のガス制御部９２０によってバルブ開閉量が制御されることにより、結果としてヘッドユニット１２７０内に供給されるガスの量を調節する。
【００２４】
二流体制御部９００は、図２に示す一時液晶収納部１２９０から液晶供給路１２６０に供給される液晶の量を制御し、その液晶供給路１２６０に供給された液晶がガス供給路１２５０に供給されるガスによって基板（あるいは表示パネルと言える）に滴下されるようにガスを調節する。
【００２５】
このような二流体制御部９００は、具現方法によっては一つのプロセッサで具現することができるが、場合によっては、液晶供給路１２６０に供給される液晶の量を制御するための液晶供給量制御部９１０と、ガス供給路１２５０に供給されるガスの量を制御するためのガス制御部９２０と、に二元化して具現してもよい。図４において、未説明のピストン駆動部１０００は、一時液晶収納部１２９０の一構成要素であるピストン１１００をポンピングホール内で上下移動及び左右回転させるための直線駆動ユニットと回転駆動ユニットとを含むものであり、液晶供給量制御部９１０によって制御される。
【００２６】
以下、図５及び図６を参照して二流体制御部９００が５通りの方式で液晶を滴下する方法をより具体的に説明する。参考として、二流体制御部９００を液晶供給量制御部９１０とガス制御部９２０とに二元化して具現することができるという点を考慮すれば、特別な変形なしに液晶供給量制御部９１０とガス制御部９２０も予め設定された信号（例えば、指定量の液晶供給あるいはガス供給が完了したという信号）を互いに送受信することで、微細な時間差を置いて互いに動作して二流体制御部９００と同等な液晶滴下効果を得ることができる。以下では、二流体制御部９００を主として液晶滴下制御過程を説明する。
【００２７】
（１）第１液晶滴下制御過程
まず、二流体制御部９００は、ピストン駆動部１０００を制御して、図２で説明したような方法で、一時液晶収納部１２９０に一定量の液晶（約３ｍｇ）を収容する。そして、さらにピストン駆動部１０００を制御して、図３に示すように液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０とが対面するように、ピストン１１００を回転させる。ついで、二流体制御部９００は、予め設定された量の液晶が液晶流出口１２３０と液晶供給路１２６０を通じてノズル先端に供給されるように、上昇していたピストン１１００を下方に移動させる。このように、予め設定された量の液晶がノズル先端に供給されるようにピストン１１００を下方に移動させるのに必要なピストン１１００の駆動時間を示すものがまさに図５（ａ）のタイミング図である。参考として、前記‘予め設定された量の液晶’は、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域の厚さの差が最小になる液晶の量で、実験によれば０．１ｍｇ〜０．８ｍｇが好ましい。
【００２８】
図５（ａ）に示すＴ１時間の間に、一時液晶収納部１２９０のピストン１１００を下方に駆動して、予め設定された量の液晶をノズル先端に供給すると、二流体制御部９００は。ピストン１１００の駆動を止める。この際、ノズル先端に供給される液晶の量は、自由落下可能な量ではないので、基板上に滴下されずにノズル先端に液滴を形成することになる。一方、二流体制御部９００は、図５（ａ）に示すＴ１時間の次のＴ２時間の間に、ヘッドユニット１２７０のガス供給路１２５０にガスが供給されるようにガス調節バルブ８００を制御する。このように、Ｔ２時間の間にヘッドユニット１２７０にガスが供給されれば、ノズル先端に供給された液晶は、ガス圧によって最終的に基板上に滴下される。Ｔ２時間の経過後、ヘッドユニット１２７０は、次の滴下地点に移動し、さらに二流体制御部９００は、Ｔ３時間の間に予め設定された量の液晶がノズルに供給されるようにピストン１１００を下方に移動させ、Ｔ４時間の間にガスを供給して、ノズル先端に供給された少量の液晶が基板上に最終に滴下されるようにする。
【００２９】
すなわち、二流体制御部９００は、予め設定された量の液晶がノズルに供給されるようにした後、ついですぐ予め設定された量のガスを供給する方式（Ｔ１−Ｔ２、Ｔ３−Ｔ４、Ｔ５−Ｔ６、．．．）でピストン駆動部１０００とガス調節バルブ８００とをそれぞれ制御することにより、所望地点の基板上に少量の液晶を順次滴下する。これにより、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域との液晶の厚さの差が最小になり、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低下する結果を得ることができる。
【００３０】
（２）第２液晶滴下制御過程
他の液晶滴下制御過程として、二流体制御部９００は、図５（ｂ）に示すように、予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶とガスとがヘッドユニット１２７０に同時に供給されるように繰り返し制御することもできる。すなわち、二流体制御部９００は、図３に示すように、液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０とが対面するようにピストン１１００を回転させた状態で、予め設定された量の液晶がノズル先端に供給されるように、ピストン１１００を下方に移動させる。このときのピストン駆動時間を図５（ｂ）においてＴ１とすると、二流体制御部９００は、Ｔ１時間にヘッドユニット１２７０のガス供給路１２５０にガスが供給されるようにガス調節バルブ８００を共に制御する。
【００３１】
このように、Ｔ１時間の間にヘッドユニット１２７０にガスが供給されると、その時間の間にノズル先端に供給されて液滴状で保持されている液晶もガス圧によって最終的に基板上に滴下される。そして、Ｔ１時間の経過後、ヘッドユニット１２７０が次の滴下地点に移動し、さらに二流体制御部９００がＴ２時間のうち予め設定された量の液晶がノズルに供給されるようにピストン１１００を下方に移動させると同時に供給すれば、Ｔ２時間にノズル先端に供給された液晶もガス圧によって基板上に滴下される。
【００３２】
このような制御過程を繰り返し行って基板上に液晶を滴下すると、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域との間の液晶の厚さの差が最小になり、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低くなる結果を得ることができるものである。
【００３３】
（３）第３液晶滴下制御過程
さらに他の液晶滴下制御過程として、二流体制御部９００は、図５（ｃ）に示すように、ヘッドユニット１２７０にガスが持続的に供給されるように制御するとともに、時間Ｔ１の間予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶供給が周期的に（Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４）行われるように制御することもできる。
【００３４】
すなわち、二流体制御部９００は、図３に示すように、液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０とが対面するようにピストン１１００を回転させた状態でガス調節バルブ８００を制御することによって、ヘッドユニット１２７０にガスを供給する。ガスが供給されるＴ１時間の間に二流体制御部９００は、図５（ｃ）に示すようなＴ２時間に予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶がノズル先端に供給されるように、ピストン１１００を下方に移動させる。ピストン１１００が下方に移動すれば、それによりヘッドユニット１２７０のノズル先端には漸次液晶が供給されて液滴状で保持され、ガス圧によって最終的に基板上に滴下される。Ｔ２時間の経過後、ヘッドユニット１２７０が次の滴下地点に移動し、さらに二流体制御部９００がＴ３時間の間に予め設定された量の液晶がノズルに供給されるようにピストン１１００を下方に移動させれば、Ｔ３時間にノズル先端に供給された液晶もガス圧によって基板上に滴下される。
【００３５】
このような制御過程を繰り返し行って基板上に液晶を滴下すると、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域とにおける液晶の厚さの差が最小になり、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低くなる結果を得ることができる。
【００３６】
（４）第４液晶滴下制御過程
さらに他の液晶滴下制御過程として、二流体制御部９００は、図６（ａ）のように、ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶を供給しているうち、予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶が周期的に滴下されるようにガス供給を繰り返し制御（Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４）することもできる。
【００３７】
すなわち、二流体制御部９００は、図３に示すように、液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０とが対面するようにピストン１１００を回転させた状態で、図６（ａ）に示すＴ１時間の間にピストン１１００を下方に移動させることで、ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶を続けて供給する。ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶が供給されるＴ１時間の間に二流体制御部９００は予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶がノズルから滴下されることができるタイミングＴ２、Ｔ３、Ｔ４にガスが供給されるようにガス調節バルブ８００を制御する。このような方式によれば、Ｔ１時間の間にノズル先端には漸次液晶が供給される。そして、予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）がノズル先端に液滴として保持されている時期であるＴ２、Ｔ３、Ｔ４時間に合わせて供給されるガス圧によって、最終に予め設定された量の液晶が基板上に滴下される。Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４時間の間にはヘッドユニット１２７０の移動を伴う。
【００３８】
このような制御過程によっても前述した制御過程のようにドット不良発生の確率が低くなる結果を得ることができる。
【００３９】
（５）第５液晶滴下制御過程
さらに他の液晶滴下制御過程として、二流体制御部９００は、図６（ｂ）のように、ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶を供給している間（Ｔ１）に予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶が滴下されるようにガスを一緒に供給することもできる。
【００４０】
すなわち、二流体制御部９００は、図３に示すように、液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０が対面するようにピストン１１００を回転させた状態で、図６（ｂ）に示すＴ１時間の間にピストン１１００を下方に移動させることで、ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶を続けて供給する。ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶が供給されているＴ１時間の間に、二流体制御部９００は、予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶がノズルから滴下されるようにガス調節バルブ８００を制御する。このような方式によれば、Ｔ１時間の間にノズル先端には漸次液晶が供給されて液滴状で保持され始め、共に供給されるガスの圧力によって、最終に予め設定された量の液晶が基板上に滴下される。この場合、前記ガス圧は前記予め設定された量の液晶がノズル先端から落ちるような圧力である。
【００４１】
このような制御過程を繰り返し行って基板上に液晶を滴下すれば、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域との間の液晶の厚さの差が最小になり、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低くなる結果を得ることができる。
【００４２】
以上、本発明を添付図面に示す一実施例を参照して説明したが、これは例示のためのものに過ぎなく、当該技術分野の通常の知識を持った者であれば、これから多様な変形及び同等な他の実施例が可能であるという点を理解することができるであろう。したがって、本発明の真正な技術的保護範囲は特許請求の範囲によってだけ決まるべきものであろう。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明は、ノズルから基板上に滴下される液晶の量を最小化することで、ドットが発生する可能性を最小化する液晶滴下制御装置に適用可能である。
【符号の説明】
【００４４】
１００ 基板
２００ フレーム
３００ ステージ
４００ ヘッドユニット
５００ ヘッド支持台
６００ 固定テーブル
７００ 重量測定装置
８００ ガス調節バルブ
９００ 二流体制御部
９１０ 液晶供給量制御部
９２０ ガス制御部
１１００ ピストン
１２００ 液晶収納容器
１２１０ 液晶
１２２０ 液晶流入口
１２３０ 液晶流出口
１２４０ 切除部
１２５０ ガス供給路
１２５５ ガスタンク
１２６０ 液晶供給路
１２７０ ヘッドユニット
１２８０ ピストンポンピング部
１２９０ 一時液晶収納部
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶ディスペンサーに係り、特に基板上に液晶を滴下する制御装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、ＬＣＤは板状ガラスにトランジスタのような駆動素子が設けられた下部基板と、板状ガラスにカラーフィルター層などが設けられた上部基板と、下部基板と上部基板とを接合させるシール材と、下部基板と上部基板の間に充填された液晶層と、を含んでなる。このようなＬＣＤは、下部基板に形成された駆動素子によって液晶層の液晶分子を駆動しており、その液晶分子の駆動によってその液晶層を透過する光量を制御することで、情報を表示する。
【０００３】
ＬＣＤの製作方法の一つとして、所定の大きさのガラスに駆動素子を形成して基板を製作し、他のガラスにカラーフィルター層などを形成して他の基板を製作する。そして、両基板の中でいずれか一方の基板にシール材を所定形状のパターンで塗布し、そのシール材の内側領域にドットを配列した形態のパターンで液晶滴を滴下した後、両基板を合着する。この際、両基板が合着されるにつれて、パターニングされた液晶滴は両基板の間によって液晶層をなすことになる。そして、両基板を合着したマザーガラスを切断してＬＣＤを構成する単位液晶パネルを製作することになる。
【０００４】
このような製作方法は、それぞれの機能を持つ製造装備が配列された製造ライン上で進行する。前記製造装備のうち、液晶を滴下する工程及びシール材を吐き出す工程は、ディスペンサーによって行われる。
【０００５】
液晶を滴下する工程をより具体的に説明するために、一般的なディスペンサーの斜視図を示す図１を参照すると、まず、液晶が滴下される基板１００は、フレーム２００上に設置されたステージ３００上に載置される。そして、予め入力されたパターンに沿って、ステージ３００上に位置するヘッドユニット４００が動きながら、ヘッドユニット４００を構成するノズルＮから液晶が滴下される。液晶がノズルＮから自由落下するためには、約１ｍｇ〜３ｍｇ程度の重さが要求される。一方、ヘッドユニット４００は、フレーム２００上に設置されたヘッド支持台５００に沿って動く。ヘッド支持台５００は、折曲状に形成されており、その両端が前記フレーム２００に一方向に移動可能にそれぞれ結合される。この際、ヘッド支持台５００は、ステージ３００を横切るように位置する。前記ステージ３００は、前記フレーム２００上に設置された固定テーブル６００上で一方向に動く。ステージ３００が動く方向は、ヘッド支持台５００に対して垂直方向である。一方、液晶ディスペンサーには、前記液晶の重さを測定する重量測定装置７００がさらに設けられてもよい。
【０００６】
前述した液晶ディスペンサーの構造で説明したように、液晶がノズルＮから自由落下するためには約１ｍｇ〜３ｍｇの重さが要求されているが、マザーガラスを構成する両基板間の間隔はマイクロメートル単位と非常に小さく、両基板の間に満たされる液晶層の厚さもマイクロメートル単位で非常に薄い。
【０００７】
したがって、約１ｍｇ〜３ｍｇの液晶がノズルＮから吐き出される一般的な液晶ディスペンサーの場合、液晶が実際に滴下した領域とその滴下した液晶がリフローされた領域との間には、液晶層の厚さに違いが発生する。このような液晶層の厚さの差は液晶層を透過する光の経路を変えるため、結果として製品に適用した際に画面に染みが発生して、製品の不良をもたらすことになる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
したがって、本発明の目的はノズルから基板上に滴下される液晶の量を最小化することで、ドットが発生する可能性を最小化することができる液晶滴下制御装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
前記課題を解決するための本発明の一実施例による液晶滴下制御装置は、内部にガス供給路と液晶供給路とが形成され、液晶供給路を通じて流入した液晶をノズルを通じて滴下させ、ノズル先端にある液晶をガス供給路を通じて供給されるガスによって基板上に滴下するヘッドユニットと；液晶収納容器から液晶を吸入して一時貯蔵する一時液晶収納部と；前記一時液晶収納部から前記ノズル先端に供給される液晶の量を制御し、前記ノズル先端にある液晶を滴下するために必要なガスを調節する二流体制御部と；を含むことを特徴とする。
【００１０】
他の変形実施例として、前記二流体制御部は、前記液晶供給路に供給される液晶の量を制御するための液晶供給量制御部と；ガスタンクと前記ガス供給路との間に位置するガス調節バルブを制御するためのガス制御部と；を含むことができる。
【００１１】
前記二流体制御部あるいは液晶供給量制御部は、共にヘッドユニット内の液晶供給路に０．１ｍｇ〜０．８ｍｇの少量の液晶のみを供給し、供給された少量の液晶が、ガス供給路を通じて供給されるガス噴出圧によって表示パネル上に滴下される。
【発明の効果】
【００１２】
前述したような本発明の実施例によれば、二流体制御部あるいは液晶供給量制御部によって０．１ｍｇ〜０．８ｍｇの少量液晶だけがヘッドユニットのノズル先端に液晶滴として形成され、その液晶滴は、ガス供給路を通じて供給されるガス噴出圧によって表示パネル上に滴下される。したがって、少量の液晶がまるで噴霧方式で表示パネル上に滴下されるような結果が得られることにより、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域とにおける液晶の厚さの差が最小になるので、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低くなる。これは直ちにパネルの表示品質を向上させる結果をもたらす。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】一般的な液晶ディスペンサーの斜視図である。
【図２】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の器具的構成を説明する図である。
【図３】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の器具的構成を説明する図である。
【図４】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置のブロック構成図である。
【図５】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の制御過程を説明するタイミング図である。
【図６】本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の制御過程を説明するタイミング図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、添付図面に基づいて本発明の好適な実施例を詳細に説明する。
【００１５】
まず、本発明の実施例による液晶滴下制御装置は、大別してヘッドユニット、一時液晶収納部及び二流体制御部を含む。前記二流体制御部によって駆動可能なヘッドユニットと一時液晶収納部の器具的構成及び動作とをより詳細に説明するために、添付図面を参照すると、図２及び図３は、本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の器具的構成を示すものである。
【００１６】
図２及び図３を参照すると、ヘッドユニット１２７０には、その内部にガス供給路１２５０と液晶供給路１２６０とが形成され、その液晶供給路１２６０を通じて流入した液晶は、ノズルを通じて基板上に滴下され、ガス供給路１２５０を通じて噴出されるガス圧によって基板上に滴下される。参考として、ヘッドユニット１２７０内のガス供給路１２５０は、ガス供給管を介してガスタンク１２５５に連結されており、そのガス供給管には、ヘッドユニット１２７０に供給されるガスの量を調節するためのガス調節バルブ８００が取り付けられている。ヘッドユニット１２７０内の液晶供給路１２６０も、後述する一時液晶収納部１２９０の液晶流出口１２３０に連結されている。このように、ガス供給路１２５０と液晶供給路１２６０とが内部に形成されているヘッドユニット１２７０は、図１に示すような液晶ディスペンサーのフレーム２００上に設置されるヘッド支持台５００に沿って移動しながら基板上に液晶を滴下する。
【００１７】
一方、液晶収納容器１２００から液晶を吸入して一時貯蔵する一時液晶収納部１２９０は、一時貯蔵された液晶をヘッドユニット１２７０に供給する。このような一時液晶収納部１２９０は、一例として、図２及び図３に示すように、ポンピングホール内でピストンポンピング部１２８０が上下及び回転運動可能なシリンダー組立体構造を有する。一時液晶収納部１２９０には、ピストンポンピング部１２８０が挿入されるポンピングホールと連通するように、液晶流入口１２２０と液晶流出口１２３０が形成されている。液晶流入口１２２０は、チューブを介して液晶収納容器１２００に連結される構造であり、液晶流出口１２３０は、ヘッドユニット１２７０内の液晶供給路１２６０に連結される構造である。そして、ピストンポンピング部１２８０の外周面一部は、液晶の流入と流出とのために一部がカットされた切除部１２４０を有し、液晶流入口１２２０あるいは液晶流出口１２３０と対面する。
【００１８】
このような構造の一時液晶収納部１２９０が液晶収納容器１２００から液晶を受けてヘッドユニット１２７０から滴下するまでの過程を図２及び図３を参照して説明する。
【００１９】
まず、図２に示すように、ピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０は、シリンダーの液晶流入口１２２０と対面するようにピストン１１００を回転させる。この状態で、図４で説明する二流体制御部９００は、ピストン駆動部を制御してピストン１１００を上部に移動させる。ピストン１１００が上部に動くにつれて、ピストンポンピング部１２８０の端面とポンピングホールとの間に形成される液晶吸入空間が増大し、その空間の内外の圧力差によって、液晶収納容器１２００内の液晶１２１０は、液晶流入口１２２０を通じて液晶吸入空間に流入される。
【００２０】
その後、二流体制御部９００は、さらにピストン駆動部を制御して、図３に示すように、ピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０がシリンダーの液晶流出口１２３０と対面するように、ピストン１１００を回転させる。ついで、二流体制御部９００は、上昇していたピストン１１００を下部に移動させる。これにより、液晶吸入空間が次第に減少するにつれてその空間に満たされた液晶は、液晶流出口１２３０を通じてヘッドユニット１２７０に供給される。
【００２１】
このように、液晶収納容器１２００に満たされた液晶１２１０を一時液晶収納部１２９０を通じてヘッドユニット１２７０に供給し、ヘッドユニット１２７０に供給された液晶をさらにガスを利用して基板上に滴下するための二流体制御部９００の動作とその周辺構成とを添付図面の中の図４〜図６を参照して説明する。
【００２２】
図４は、本発明の一実施例による液晶滴下制御装置のブロック構成図を示し、図５及び図６は、本発明の一実施例による液晶滴下制御装置の制御過程を説明するタイミング図を示す。
【００２３】
図４において、ガス調節バルブ８００は、後述する二流体制御部９００あるいは二元化可能な二流体制御部９００のガス制御部９２０によってバルブ開閉量が制御されることにより、結果としてヘッドユニット１２７０内に供給されるガスの量を調節する。
【００２４】
二流体制御部９００は、図２に示す一時液晶収納部１２９０から液晶供給路１２６０に供給される液晶の量を制御し、その液晶供給路１２６０に供給された液晶がガス供給路１２５０に供給されるガスによって基板（あるいは表示パネルと言える）に滴下されるようにガスを調節する。
【００２５】
このような二流体制御部９００は、具現方法によっては一つのプロセッサで具現することができるが、場合によっては、液晶供給路１２６０に供給される液晶の量を制御するための液晶供給量制御部９１０と、ガス供給路１２５０に供給されるガスの量を制御するためのガス制御部９２０と、に二元化して具現してもよい。図４において、未説明のピストン駆動部１０００は、一時液晶収納部１２９０の一構成要素であるピストン１１００をポンピングホール内で上下移動及び左右回転させるための直線駆動ユニットと回転駆動ユニットとを含むものであり、液晶供給量制御部９１０によって制御される。
【００２６】
以下、図５及び図６を参照して二流体制御部９００が５通りの方式で液晶を滴下する方法をより具体的に説明する。参考として、二流体制御部９００を液晶供給量制御部９１０とガス制御部９２０とに二元化して具現することができるという点を考慮すれば、特別な変形なしに液晶供給量制御部９１０とガス制御部９２０も予め設定された信号（例えば、指定量の液晶供給あるいはガス供給が完了したという信号）を互いに送受信することで、微細な時間差を置いて互いに動作して二流体制御部９００と同等な液晶滴下効果を得ることができる。以下では、二流体制御部９００を主として液晶滴下制御過程を説明する。
【００２７】
（１）第１液晶滴下制御過程
まず、二流体制御部９００は、ピストン駆動部１０００を制御して、図２で説明したような方法で、一時液晶収納部１２９０に一定量の液晶（約３ｍｇ）を収容する。そして、さらにピストン駆動部１０００を制御して、図３に示すように液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０とが対面するように、ピストン１１００を回転させる。ついで、二流体制御部９００は、予め設定された量の液晶が液晶流出口１２３０と液晶供給路１２６０を通じてノズル先端に供給されるように、上昇していたピストン１１００を下方に移動させる。このように、予め設定された量の液晶がノズル先端に供給されるようにピストン１１００を下方に移動させるのに必要なピストン１１００の駆動時間を示すものがまさに図５（ａ）のタイミング図である。参考として、前記‘予め設定された量の液晶’は、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域の厚さの差が最小になる液晶の量で、実験によれば０．１ｍｇ〜０．８ｍｇが好ましい。
【００２８】
図５（ａ）に示すＴ１時間の間に、一時液晶収納部１２９０のピストン１１００を下方に駆動して、予め設定された量の液晶をノズル先端に供給すると、二流体制御部９００は。ピストン１１００の駆動を止める。この際、ノズル先端に供給される液晶の量は、自由落下可能な量ではないので、基板上に滴下されずにノズル先端に液滴を形成することになる。一方、二流体制御部９００は、図５（ａ）に示すＴ１時間の次のＴ２時間の間に、ヘッドユニット１２７０のガス供給路１２５０にガスが供給されるようにガス調節バルブ８００を制御する。このように、Ｔ２時間の間にヘッドユニット１２７０にガスが供給されれば、ノズル先端に供給された液晶は、ガス圧によって最終的に基板上に滴下される。Ｔ２時間の経過後、ヘッドユニット１２７０は、次の滴下地点に移動し、さらに二流体制御部９００は、Ｔ３時間の間に予め設定された量の液晶がノズルに供給されるようにピストン１１００を下方に移動させ、Ｔ４時間の間にガスを供給して、ノズル先端に供給された少量の液晶が基板上に最終に滴下されるようにする。
【００２９】
すなわち、二流体制御部９００は、予め設定された量の液晶がノズルに供給されるようにした後、ついですぐ予め設定された量のガスを供給する方式（Ｔ１−Ｔ２、Ｔ３−Ｔ４、Ｔ５−Ｔ６、．．．）でピストン駆動部１０００とガス調節バルブ８００とをそれぞれ制御することにより、所望地点の基板上に少量の液晶を順次滴下する。これにより、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域との液晶の厚さの差が最小になり、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低下する結果を得ることができる。
【００３０】
（２）第２液晶滴下制御過程
他の液晶滴下制御過程として、二流体制御部９００は、図５（ｂ）に示すように、予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶とガスとがヘッドユニット１２７０に同時に供給されるように繰り返し制御することもできる。すなわち、二流体制御部９００は、図３に示すように、液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０とが対面するようにピストン１１００を回転させた状態で、予め設定された量の液晶がノズル先端に供給されるように、ピストン１１００を下方に移動させる。このときのピストン駆動時間を図５（ｂ）においてＴ１とすると、二流体制御部９００は、Ｔ１時間にヘッドユニット１２７０のガス供給路１２５０にガスが供給されるようにガス調節バルブ８００を共に制御する。
【００３１】
このように、Ｔ１時間の間にヘッドユニット１２７０にガスが供給されると、その時間の間にノズル先端に供給されて液滴状で保持されている液晶もガス圧によって最終的に基板上に滴下される。そして、Ｔ１時間の経過後、ヘッドユニット１２７０が次の滴下地点に移動し、さらに二流体制御部９００がＴ２時間のうち予め設定された量の液晶がノズルに供給されるようにピストン１１００を下方に移動させると同時に供給すれば、Ｔ２時間にノズル先端に供給された液晶もガス圧によって基板上に滴下される。
【００３２】
このような制御過程を繰り返し行って基板上に液晶を滴下すると、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域との間の液晶の厚さの差が最小になり、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低くなる結果を得ることができるものである。
【００３３】
（３）第３液晶滴下制御過程
さらに他の液晶滴下制御過程として、二流体制御部９００は、図５（ｃ）に示すように、ヘッドユニット１２７０にガスが持続的に供給されるように制御するとともに、時間Ｔ１の間予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶供給が周期的に（Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４）行われるように制御することもできる。
【００３４】
すなわち、二流体制御部９００は、図３に示すように、液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０とが対面するようにピストン１１００を回転させた状態でガス調節バルブ８００を制御することによって、ヘッドユニット１２７０にガスを供給する。ガスが供給されるＴ１時間の間に二流体制御部９００は、図５（ｃ）に示すようなＴ２時間に予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶がノズル先端に供給されるように、ピストン１１００を下方に移動させる。ピストン１１００が下方に移動すれば、それによりヘッドユニット１２７０のノズル先端には漸次液晶が供給されて液滴状で保持され、ガス圧によって最終的に基板上に滴下される。Ｔ２時間の経過後、ヘッドユニット１２７０が次の滴下地点に移動し、さらに二流体制御部９００がＴ３時間の間に予め設定された量の液晶がノズルに供給されるようにピストン１１００を下方に移動させれば、Ｔ３時間にノズル先端に供給された液晶もガス圧によって基板上に滴下される。
【００３５】
このような制御過程を繰り返し行って基板上に液晶を滴下すると、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域とにおける液晶の厚さの差が最小になり、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低くなる結果を得ることができる。
【００３６】
（４）第４液晶滴下制御過程
さらに他の液晶滴下制御過程として、二流体制御部９００は、図６（ａ）のように、ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶を供給しているうち、予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶が周期的に滴下されるようにガス供給を繰り返し制御（Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４）することもできる。
【００３７】
すなわち、二流体制御部９００は、図３に示すように、液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０とが対面するようにピストン１１００を回転させた状態で、図６（ａ）に示すＴ１時間の間にピストン１１００を下方に移動させることで、ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶を続けて供給する。ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶が供給されるＴ１時間の間に二流体制御部９００は予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶がノズルから滴下されることができるタイミングＴ２、Ｔ３、Ｔ４にガスが供給されるようにガス調節バルブ８００を制御する。このような方式によれば、Ｔ１時間の間にノズル先端には漸次液晶が供給される。そして、予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）がノズル先端に液滴として保持されている時期であるＴ２、Ｔ３、Ｔ４時間に合わせて供給されるガス圧によって、最終に予め設定された量の液晶が基板上に滴下される。Ｔ２、Ｔ３、Ｔ４時間の間にはヘッドユニット１２７０の移動を伴う。
【００３８】
このような制御過程によっても前述した制御過程のようにドット不良発生の確率が低くなる結果を得ることができる。
【００３９】
（５）第５液晶滴下制御過程
さらに他の液晶滴下制御過程として、二流体制御部９００は、図６（ｂ）のように、ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶を供給している間（Ｔ１）に予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶が滴下されるようにガスを一緒に供給することもできる。
【００４０】
すなわち、二流体制御部９００は、図３に示すように、液晶流出口１２３０とピストンポンピング部１２８０の切除部１２４０が対面するようにピストン１１００を回転させた状態で、図６（ｂ）に示すＴ１時間の間にピストン１１００を下方に移動させることで、ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶を続けて供給する。ヘッドユニット１２７０のノズルに液晶が供給されているＴ１時間の間に、二流体制御部９００は、予め設定された量（０．１ｍｇ〜０．８ｍｇ）の液晶がノズルから滴下されるようにガス調節バルブ８００を制御する。このような方式によれば、Ｔ１時間の間にノズル先端には漸次液晶が供給されて液滴状で保持され始め、共に供給されるガスの圧力によって、最終に予め設定された量の液晶が基板上に滴下される。この場合、前記ガス圧は前記予め設定された量の液晶がノズル先端から落ちるような圧力である。
【００４１】
このような制御過程を繰り返し行って基板上に液晶を滴下すれば、液晶が滴下した領域と液晶がリフローされた領域との間の液晶の厚さの差が最小になり、液晶滴下によるドット不良発生の確率が低くなる結果を得ることができる。
【００４２】
以上、本発明を添付図面に示す一実施例を参照して説明したが、これは例示のためのものに過ぎなく、当該技術分野の通常の知識を持った者であれば、これから多様な変形及び同等な他の実施例が可能であるという点を理解することができるであろう。したがって、本発明の真正な技術的保護範囲は特許請求の範囲によってだけ決まるべきものであろう。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明は、ノズルから基板上に滴下される液晶の量を最小化することで、ドットが発生する可能性を最小化する液晶滴下制御装置に適用可能である。
【符号の説明】
【００４４】
１００ 基板
２００ フレーム
３００ ステージ
４００ ヘッドユニット
５００ ヘッド支持台
６００ 固定テーブル
７００ 重量測定装置
８００ ガス調節バルブ
９００ 二流体制御部
９１０ 液晶供給量制御部
９２０ ガス制御部
１１００ ピストン
１２００ 液晶収納容器
１２１０ 液晶
１２２０ 液晶流入口
１２３０ 液晶流出口
１２４０ 切除部
１２５０ ガス供給路
１２５５ ガスタンク
１２６０ 液晶供給路
１２７０ ヘッドユニット
１２８０ ピストンポンピング部
１２９０ 一時液晶収納部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部にガス供給路と液晶供給路が形成され、液晶供給路を通じて流入した液晶がノズル先端に液滴を形成するように構成され、ノズル先端にある液晶をガス供給路を通じて供給されるガスによって基板上に滴下するヘッドユニットと；
液晶収納容器から液晶を吸入して一時貯蔵する一時液晶収納部と；
前記一時液晶収納部から前記ノズル先端に供給される液晶の量を制御し、前記ノズル先端にある液晶を滴下するために必要なガスを調節する二流体制御部と；
を含むことを特徴とする、液晶滴下制御装置。
【請求項２】
前記二流体制御部は、
前記液晶供給路に供給される液晶の量を制御するための液晶供給量制御部と；
ガスタンクと前記ガス供給路との間に位置するガス調節バルブを制御するためのガス制御部と；
を含むことを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項３】
前記ガス制御部は、前記液晶供給量制御部から、予め設定された量の液晶の供給が完了したという信号を受信する毎に、予め設定された量のガスを供給制御することを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項４】
前記ガス制御部は、前記液晶供給量制御部が予め設定された量の液晶を供給する時間の間に共に駆動して予め設定された量のガスを供給制御することを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項５】
前記液晶供給量制御部は、前記ガス制御部がガスを供給している間に、予め設定された量の液晶供給を周期的に繰り返し行うことを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項６】
前記ガス制御部は、前記液晶供給量制御部が液晶を供給している間に、予め設定された量の液晶が周期的に滴下されるようにガス供給を繰り返し制御することを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項７】
前記ガス制御部は、前記液晶供給量制御部が液晶を供給している間に、予め設定された量の液晶が滴下されるようにガスを供給制御することを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項８】
前記予め設定された液晶の量は、０．１ｍｇ〜０．８ｍｇであることを特徴とする、請求項３ないし７のいずれか１項に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項９】
前記二流体制御部は、予め設定された量の液晶が供給されるようにした後、予め設定された量のガスを供給する方式で制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１０】
前記二流体制御部は、予め設定された量の液晶とガスが同時に供給されるように繰り返し制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１１】
前記二流体制御部は、ガス供給が継続するように制御し、その時間の間に、予め設定された量の液晶が周期的に供給されるように制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１２】
前記二流体制御部は、液晶を供給している間に、予め設定された量の液晶が周期的に滴下されるようにガス供給を繰り返し制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１３】
前記二流体制御部は、液晶を供給している間に、予め設定された量の液晶が滴下されるようにガスを共に供給制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１４】
前記予め設定された液晶の量は、０．１ｍｇ〜０．８ｍｇであることを特徴とする、請求項９ないし１３のいずれか１項に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１】
内部にガス供給路と液晶供給路が形成され、液晶供給路を通じて流入した液晶がノズル先端に液滴を形成するように構成され、ノズル先端にある液晶をガス供給路を通じて供給されるガスによって基板上に滴下するヘッドユニットと；
液晶収納容器から液晶を吸入して一時貯蔵する一時液晶収納部と；
前記一時液晶収納部から前記ノズル先端に供給される液晶の量を制御し、前記ノズル先端にある液晶を滴下するために必要なガスを調節する二流体制御部と；
を含むことを特徴とする、液晶滴下制御装置。
【請求項２】
前記二流体制御部は、
前記液晶供給路に供給される液晶の量を制御するための液晶供給量制御部と；
ガスタンクと前記ガス供給路との間に位置するガス調節バルブを制御するためのガス制御部と；
を含むことを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項３】
前記ガス制御部は、前記液晶供給量制御部から、予め設定された量の液晶の供給が完了したという信号を受信する毎に、予め設定された量のガスを供給制御することを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項４】
前記ガス制御部は、前記液晶供給量制御部が予め設定された量の液晶を供給する時間の間に共に駆動して予め設定された量のガスを供給制御することを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項５】
前記液晶供給量制御部は、前記ガス制御部がガスを供給している間に、予め設定された量の液晶供給を周期的に繰り返し行うことを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項６】
前記ガス制御部は、前記液晶供給量制御部が液晶を供給している間に、予め設定された量の液晶が周期的に滴下されるようにガス供給を繰り返し制御することを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項７】
前記ガス制御部は、前記液晶供給量制御部が液晶を供給している間に、予め設定された量の液晶が滴下されるようにガスを供給制御することを特徴とする、請求項２に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項８】
前記予め設定された液晶の量は、０．１ｍｇ〜０．８ｍｇであることを特徴とする、請求項３ないし７のいずれか１項に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項９】
前記二流体制御部は、予め設定された量の液晶が供給されるようにした後、予め設定された量のガスを供給する方式で制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１０】
前記二流体制御部は、予め設定された量の液晶とガスが同時に供給されるように繰り返し制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１１】
前記二流体制御部は、ガス供給が継続するように制御し、その時間の間に、予め設定された量の液晶が周期的に供給されるように制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１２】
前記二流体制御部は、液晶を供給している間に、予め設定された量の液晶が周期的に滴下されるようにガス供給を繰り返し制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１３】
前記二流体制御部は、液晶を供給している間に、予め設定された量の液晶が滴下されるようにガスを共に供給制御することを特徴とする、請求項１に記載の液晶滴下制御装置。
【請求項１４】
前記予め設定された液晶の量は、０．１ｍｇ〜０．８ｍｇであることを特徴とする、請求項９ないし１３のいずれか１項に記載の液晶滴下制御装置。
【図１】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図２】
【図３】
【図４】
【公開番号】特開２０１１−１２３４６０（Ｐ２０１１−１２３４６０Ａ）
【公開日】平成２３年６月２３日（２０１１．６．２３）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−５０３８（Ｐ２０１０−５０３８）
【出願日】平成２２年１月１３日（２０１０．１．１３）
【出願人】（５０３２５９７７２）トップ エンジニアリング カンパニー，リミテッド (62)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２３年６月２３日（２０１１．６．２３）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年１月１３日（２０１０．１．１３）
【出願人】（５０３２５９７７２）トップ エンジニアリング カンパニー，リミテッド (62)
【Ｆターム（参考）】
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