液晶表示装置の製造方法
【課題】互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくする。
【解決手段】エッチング速度がエッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度に応じて一意的に決定されることに着目し、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一定に維持して、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板１、２のエッチング厚さをエッチング時間で管理すると、パラメータはエッチング時間のみであり、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができる。
【解決手段】エッチング速度がエッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度に応じて一意的に決定されることに着目し、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一定に維持して、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板１、２のエッチング厚さをエッチング時間で管理すると、パラメータはエッチング時間のみであり、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができる。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の液晶表示装置の製造方法には、２枚のガラス基板を個々の表示素子が形成される領域を囲繞するように設けられた単素子シール材を介して貼り合わせ、この貼り合わされた２枚のガラス基板の外周部を外周シール材で封止し、この状態でエッチング槽内のエッチング液中に浸漬して２枚のガラス基板をエッチングし、これにより２枚のガラス基板の厚さを薄くするようにした方法がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記従来の液晶表示装置の製造方法では、エッチング槽内のエッチング液の温度がガラス基板のエッチングの進行つまりガラス基板のエッチング厚さの増加に伴って上昇するので、エッチング槽内のエッチング液の温度を検出し、この温度検出結果に基づいてエッチング終了時点を決定し、ガラス基板の厚さが所望の厚さとなるようにしている。
【０００４】
この場合、エッチング速度はエッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度に左右されるため、エッチング槽内のエッチング液の初期温度及び初期濃度が異なると、ガラス基板の厚さが所望の厚さとなるエッチング終了時点におけるエッチング槽内のエッチング液の温度が異なってしまう。
【０００５】
また、一般的な液晶表示装置の製造方法では、生産性の向上を図るため、完成された液晶表示装置を複数個形成することが可能な面積を有する２枚のガラス基板を複数の単素子シール材を介して貼り合わせて液晶表示装置形成用構成体を形成し、複数枚の液晶表示装置形成用構成体に対してバッチ処理を行うことが多い。
【０００６】
このようなバッチ処理では、複数枚の液晶表示装置形成用構成体をエッチング槽内のエッチング液中に浸漬して同時にエッチングを行うことになる。その場合、エッチング槽内のエッチング液中に浸漬する液晶表示装置形成用構成体のバッチ処理枚数により、エッチングの進行に伴うエッチング槽内のエッチング液の温度上昇が異なり、ガラス基板の厚さが所望の厚さとなるエッチング終了時点におけるエッチング槽内のエッチング液の温度が異なってしまう。
【０００７】
以上のように、ガラス基板の厚さが所望の厚さとなるエッチング終了時点におけるエッチング槽内のエッチング液の温度は、エッチング槽内のエッチング液の初期温度、初期濃度及び液晶表示装置形成用構成体のバッチ処理枚数により異なるので、これらのパラメータに応じた予備実験を行い、その予備実験結果に基づいてガラス基板の厚さが所望の厚さとなるエッチング終了時点におけるエッチング槽内のエッチング液の温度を決定することになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許第６１９７２０９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、エッチング槽内のエッチング液の初期温度、初期濃度及び液晶表示装置形成用構成体のバッチ処理枚数というパラメータの総数は個々の独立パラメータ数の積となり、膨大な数となり、実際的でないという問題がある。さらに、エッチング槽の容積が異なったり、処理に用いるエッチング液の量が予備実験とは異なる場合でもエッチング液の温度とガラス基板のエッチング厚さとの関係が変化すると考えられるから、エッチング装置ごとに、この膨大な数の予備実験を行う必要があり、より一層実際的でないという問題がある。
【００１０】
そこで、この発明は、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができる液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この発明は、上記目的を達成するため、２枚のガラス基板を外周シール材を介して一部開口を設けた状態で互いに貼り合わせる貼り合わせ工程と、前記開口を封止材で封止する封止工程と、上記封止された２枚のガラス基板をエッチング槽内のエッチング液中に浸漬する浸漬工程と、前記エッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度を一定に維持して、前記２枚のガラス基板の所望のエッチング厚さに対応する時間、前記２枚のガラス基板をエッチングして、前記２枚のガラス基板の厚さを薄くするエッチング工程と、を含むことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１２】
この発明によれば、エッチング速度がエッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度に応じて一意的に決定されることに着目し、エッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度を一定に維持して、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板のエッチング厚さをエッチング時間で管理するようにしているので、パラメータはエッチング時間のみであり、したがって互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】（Ａ）はこの発明の一実施形態として製造方法により製造された液晶表示装置の一例の平面図、（Ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図。
【図２】図１に示す液晶表示装置の製造工程を示す図。
【図３】図２のステップＳ１〜Ｓ４を説明するために示す液晶表示装置形成用構成体の一部を切り欠いた平面図。
【図４】エッチング装置の一例の概略構成図。
【図５】導電率計の一例の電気回路の要部を示す図。
【図６】導電率計の他の例の要部の斜視図。
【図７】ガラス基板の厚さとエッチング時間との関係を示す図。
【図８】エッチング装置の他の例の概略構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１（Ａ）はこの発明の一実施形態としての製造方法により製造された液晶表示装置の一例の平面図を示し、図１（Ｂ）は図１（Ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図を示す。この液晶表示装置では、２枚のガラス基板１、２がほぼ方形枠状の単素子シール材３を介して貼り合わされ、単素子シール材３の内側における両ガラス基板１、２間に液晶４が単素子シール材３に形成された液晶注入口５を介して封入され、液晶注入口５が封止材６で封止された構造となっている。この場合、下側のガラス基板１の一辺部は上側のガラス基板２から突出されている。また、ガラス基板１、２の厚さは例えば約０．３ｍｍと比較的薄くなっている。
【００１５】
次に、この液晶表示装置の製造方法の一例について、図２に示す製造工程図を参照して説明する。まず、図２のステップＳ１において、図３に示すように、完成された液晶表示装置を複数個（例えば、４×４＝１６個）形成することが可能な面積を有する２枚のガラス基板１、２を用意する。この場合、ガラス基板１、２の厚さは例えば約０．５ｍｍと比較的厚くなっている。
【００１６】
次に、図２のステップＳ２のシール材形成工程において、下側のガラス基板１の上面の各液晶表示装置形成領域に、スクリーン印刷法により、エポキシ系樹脂等からなるほぼ方形枠状の単素子シール材３を形成し、同時に、下側のガラス基板１の上面外周部に同じくエポキシ系樹脂等からなるほぼ方形枠状の外周シール材７を形成する。この場合、単素子シール材３の１箇所には液晶注入口５が形成され、外周シール材７の４箇所には空気逃げ口８が形成されている。
【００１７】
次に、図２のステップＳ３の貼り合わせ工程において、単素子シール材３及び外周シール材７を加熱して硬化させることにより、２枚のガラス基板１、２を互いに貼り合わせる。このとき、外周シール材７の内側における両ガラス基板１、２間に存在する空気が熱膨張するが、この熱膨張した空気の一部が外周シール材７の空気逃げ口８を介して外部に放出され、外周シール材７の破損が防止される。
【００１８】
次に、図２のステップＳ４の封止材形成工程において、外周シール材７の空気逃げ口８を紫外線硬化型のエポキシ変性アクリル系樹脂等からなる封止材９で封止する。ここで、図２のステップＳ４の封止材形成工程を終えた状態における図３に示すものを、以下、液晶表示装置形成用構成体１０という。
【００１９】
次に、図２のステップＳ５のエッチング工程を行うため、図４に概略構成を示すエッチング装置１１を用意する。このエッチング装置１１はエッチング槽１２を備えている。エッチング槽１２内には、ガラスのエッチング液として、フッ酸、水、その他（エッチングの反応を促進する触媒）からなるフッ酸系水溶液（以下、エッチング液という）１３が収容されている。
【００２０】
エッチング槽１２内にはヒータ１４、熱電対等からなる温度センサ１５、コイル状の冷却用配管１６が設けられている。冷却用配管１６の流入側及び流出側は、エッチング槽１２の外部に設けられた流入側配管１７及び流出側配管１８に接続されている。流入側配管１６の途中には冷却水ポンプ１９が介在されている。
【００２１】
エッチング槽１２の外部には導電率計２０が設けられている。導電率計２０の構造については後で説明する。ここで、エッチング液１３の導電率とエッチング液１３中のフッ酸濃度とには相関関係があるため、エッチング液１３の導電率を測定すると、エッチング液１３中のフッ酸濃度を測定することができる。
【００２２】
導電率計２０の下部にはサンプリング配管２１の一端部が接続されている。サンプリング配管２１の他端部はエッチング槽１２の下部に接続されている。サンプリング配管２１の途中にはサンプリングポンプ２２が介在されている。導電率計２０の上部にはエッチング液回収配管２３の一端部が接続されている。エッチング液回収配管２３の他端部はエッチング槽１２内の上部に配置されている。
【００２３】
エッチング槽１２の外部には補給タンク２４が設けられている。補給タンク２４内にはフッ酸２５が収容されている。補給タンク２４内のフッ酸２５は、補給ポンプ２６の駆動により、補給ポンプ２６が介在された補給配管２７を介してエッチング槽１２内に補給されるようになっている。
【００２４】
ここで、温度センサ１５は、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を検出し、温度検出信号を制御部２８に供給する。導電率計２０は、ここに供給されたエッチング液１３の導電率を検出し、導電率（濃度）検出信号を制御部２８に供給する。制御部２８は、これらの検出信号に基づいて後述する演算等を行うほかに、ヒータ１４、ポンプ１９、２２、２６の各駆動を制御するようになっている。
【００２５】
次に、図５は導電率計２０の一例の電気回路の要部を示す。この電気回路は、ホイートストンブリッジによる抵抗測定回路であり、測定対象つまりエッチング液１３の抵抗ＲＸと内部可変抵抗Ｒ０及び内部固定抵抗Ｒ１、Ｒ２とが検流計Ｇとブリッジ形に接続された構造となっている。この場合、Ｒ１＝Ｒ２である。
【００２６】
そして、この導電率計２０では、まず、予備実験として、抵抗値ＲＸが予め分かっている実験用エッチング液が供給された状態において、内部可変抵抗Ｒ０を調整して検流計Ｇに流れる電流Ｉが０になるようにすると、Ｒ０＝ＲＸとなる。次に、Ｒ０＝ＲＸとした状態において、測定すべきエッチング液１３が供給されると、検流計Ｇに流れる電流が変化してＩとなり、このとき抵抗Ｒ1及びＲ2にはともに同じ大きさの電流ｉが流れる。ここで、Ｉ／ｉが１より十分小さいとき、ＲＸの抵抗変化ΔＲはＩに比例するので、ＲＸ＝Ｒ０＋ΔＲから、測定すべきエッチング液１３の抵抗が求められるから、後述の通り、抵抗率とその逆数である導電率が求められる。
【００２７】
次に、図６は導電率計２０の他の例の要部の斜視図を示す。この導電率計２０では、フッ素樹脂等からなる円筒形状のケース３１内に白金、カーボン等からなる短冊形状の一対の電極３２、３３が相対向して設けられた構造となっている。そして、ケース３１内にエッチング液１３が供給された状態において、一対の電極３２、３３間に電流を流すと、オームの法則により、一対の電極３２、３３間に介在されたエッチング液１３の抵抗が測定される。この場合の導電率κは次の式（１）から求められる。ただし、ρはエッチング液１３の抵抗率、Ｒは測定されたエッチング液１３の抵抗、Ｄは一対の電極３２、３３の間隔、Ｓは電極３２、３３の対向面積である。
κ＝１／ρ＝Ｄ／（ＲＳ）……（１）
【００２８】
次に、図４に示すエッチング装置１１のエッチング槽１２内のエッチング液１３の温度制御について説明する。エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度が温度センサ１５で検出されると、その温度検出信号が制御部２８に供給される。制御部２８は、温度センサ１５から供給された温度検出信号に基づいて、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度がある設定温度（例えば６０℃、公差±１℃）未満であるか否かを判断し、ある設定温度未満である場合には、ヒータ１４を駆動させ、エッチング槽１２内のエッチング液１３を加熱してその温度がある設定温度となるようにする。
【００２９】
一方、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度がエッチングの進行に伴い上昇してある設定温度よりも高くなった場合には、制御部２８は、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度がある設定温度よりも高くなったと判断し、冷却水ポンプ１９を駆動させ、冷却水配管１６に冷却水が供給され、エッチング槽１２内のエッチング液１３を冷却してその温度がある設定温度となるようにする。
【００３０】
なお、特に、ヒータ１４の駆動制御は、ＰＩＤ(Proportinal
Integral Differential)制御法により行うようにしてもよい。ＰＩＤ制御法は、比例制御、積分制御及び微分制御の３つの組み合わせで制御するものであり、木目細かでスムーズな制御を実現することができる。特に、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を一定に維持した状態において、後述の如く、液晶表示装置形成用構成体１０の浸漬やフッ酸２５の補給等の外乱により、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度が急激に低下したとき、ある設定温度に短時間で戻すことができる。
【００３１】
次に、エッチング槽１２内のエッチング液１３の濃度制御について説明する。サンプリングポンプ２２が駆動すると、エッチング槽１２内のエッチング液１３がサンプリング配管５２を介して導電率計２０内に供給される。この場合、サンプリングポンプ２２の駆動中は、導電率計２０内をエッチング液１３が常時ほぼ一定の速度で流れ、エッチング液回収配管２３を介してエッチング槽１２内に回収される。
【００３２】
そして、導電率計２０では、ここに供給されたエッチング液１３の導電率を検出し、その導電率検出結果を制御部２８に供給する。制御部２８は、導電率計２０から供給された導電率検出結果に基づいて、エッチング液１３中のフッ酸濃度がある設定濃度未満であるか否かを判断し、ある設定濃度未満である場合には、補給ポンプ２６を駆動させ、補給タンク２４内のフッ酸２５を補給配管２７を介してエッチング槽１２内に補給し、エッチング槽１２内のエッチング液１３中のフッ酸濃度がある設定濃度となるようにする。
【００３３】
ここで、一例として、エッチング液１３がフッ酸８０％、水１５％、その他（エッチングの反応を促進する触媒）５％からなるフッ酸系水溶液である場合、エッチング液１３中のフッ酸濃度は８０％である。そして、ある設定濃度は、公差も含めて、８０±４％である。なお、補給ポンプ２６の停止は、実験データに基づいた量のフッ酸２５を補給したら、自動的に行われる。
【００３４】
次に、図４に示すエッチング装置の動作について説明する。エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度がある設定温度及びある設定濃度とされた状態において、エッチング槽１２内のエッチング液１３中に液晶表示装置形成用構成体１０をここでは１枚浸漬する。すると、液晶表示装置形成用構成体１０の２枚のガラス基板１、２がエッチングされ、その厚さが徐々に薄くなる。
【００３５】
ここで、予備実験結果について説明する。エッチング槽１２内のエッチング液１３中のフッ酸濃度を８０±４％と一定に維持し、且つ、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を６０℃、４０℃、２５℃（ただし、いずれの場合も公差±１℃）と一定に維持した状態において、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２をエッチングしてその厚さとエッチング時間との関係を調べたところ、図７に示す結果が得られた。この場合、ガラス基板１、２の当初の厚さは約０．５ｍｍとした。
【００３６】
図７から明らかなように、エッチング槽１２内のエッチング液１３中のフッ酸濃度が８０±４％と一定に維持された状態において、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を６０℃、４０℃、２５℃と一定に維持すると、当該温度が高いほどエッチング速度が速いが、いずれの温度条件の場合も、ガラス基板１、２の厚さはエッチング時間によって一義的に決まる。
【００３７】
この結果、１枚の液晶表示装置形成用構成体１０の当初の厚さ約０．５ｍｍのガラス基板１、２の厚さを約０．３ｍｍと薄くしたい場合には、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を６０℃、４０℃、２５℃と一定に維持すると、エッチング時間が約２１０秒、約４００秒、約６００秒となった時点で、液晶表示装置形成用構成体１０をエッチング槽１２内のエッチング液１３中から取り出してエッチングを終了すると、いずれの温度条件の場合も、ガラス基板１、２の厚さを約０．３ｍｍと薄くすることができる。
【００３８】
この場合、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一定に維持して、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２のエッチング厚さをエッチング時間で管理しているので、パラメータはエッチング時間のみであり、したがって液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができ、ひいては予備実験数を少なくすることができる。
【００３９】
すなわち、予備実験としては、エッチング槽１２内のエッチング液１３の設定温度を６０±１℃とする場合には、エッチング槽１２内のエッチング液１３のフッ酸設定濃度を８０±４％とした状態において、１回行うと、図７に示す６０℃の場合の結果が得られ、１回で済むことになる。当該設定温度をさらに４０±１℃及び２５±１℃とする場合には、予備実験をさらに２回行えばよく、予備実験数を少なくすることができる。
【００４０】
なお、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一定に維持したときは、複数枚の液晶表示装置形成用構成体１０をバッチ処理する場合についても、各液晶表示装置形成用構成体１０のエッチング速度は何れも、上述した１つの液晶表示装置形成用構成体１０のエッチング速度と同じであるから、この場合も、予備実験数を少なくすることができる。また、エッチング槽１２の容積が異なったり、処理に用いるエッチング液の量が予備実験とは異なる場合でも、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２のエッチング厚さをエッチング時間で管理することができるので、エッチング槽１２ごとに予備実験を行う必要はない。
【００４１】
かくして、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２の厚さを薄くしたら、液晶表示装置形成用構成体１０をエッチング槽１２内のエッチング液１３中から取り出し、エッチングを終了する。次に、図２のステップＳ６の切断工程において、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２を、ガラスカッター等の切断手段によって封止材９を取り除くように切断した後に、封止材９が取り除かれたガラス基板１、２を切断して個片化する。
【００４２】
ここで、封止材９は、ガラス基板１、２を単素子シール材３を介して接合した後に設けられるため、その一部がガラス基板１、２の表面に対して突出して形成されるが、ガラス基板１、２を個片化する前に封止材９を取り除くことによって、個片化する際にガラスカッターの刃の部分がこれらの封止材９に当たってガラス基板１、２の端部が切断されないことに起因する、ガラス基板１、２の意図しない割れなどの破壊を防ぐことができる。
【００４３】
次に、図２のステップＳ７の液晶注入工程において、図１（Ａ）、（Ｂ）に示すように、単素子シール材３の内側における両ガラス基板１、２間に液晶４を単素子シール材３の液晶注入口５を介して注入し、次いで、ステップＳ８の液晶注入口封止工程において、液晶注入口５を封止材６で封止すると、図１（Ａ）、（Ｂ）に示す液晶表示装置が得られる。
【００４４】
次に、図８はエッチング装置１１の他の例の概略構成図を示す。このエッチング装置１１において、図４に示すエッチング装置１１と異なる点は、導電率計２０をエッチング槽１２内のエッチング液１３中に配置し、サンプリング配管２１、サンプリングポンプ２２及びエッチング液回収配管２３を省略した点である。このようにした場合には、サンプリング配管２１、サンプリングポンプ２２及びエッチング液回収配管２３を省略することができるので、構成を簡略化することができる。
【００４５】
ところで、図４及び図８にそれぞれ示すエッチング装置１１において、エッチング槽１２を揺動手段（図示せず）で上下方向に揺動させながらエッチングを行うようにしてもよい。このようにした場合には、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一様化することができる。
【００４６】
また、図４及び図８にそれぞれ示すエッチング装置１１において、エッチング槽１２内のエッチング液１３を超音波振動手段（図示せず）で超音波振動させながらエッチングを行うようにしてもよい。このようにした場合には、エッチング槽１２内にエッチングにより発生した気泡がガラス基板１、２の表面に付着することに起因する局所的なエッチング遅れを、超音波振動でガラス基板１、２の表面に付着した気泡を剥がすことにより、防止することができ、また、ガラス基板１、２の表面に付着した有機物の汚れを落としやすくすることができる。
【符号の説明】
【００４７】
１、２ ガラス基板
３ 単素子シール材
４ 液晶
５ 液晶注入口
６ 封止材
７ 外周シール材
８ 空気逃げ口
９ 封止材
１０ 液晶表示装置形成用構成体
１１ エッチング装置
１２ エッチング槽
１３ エッチング液
１４ ヒータ
１５ 温度センサ
１６ 冷却水配管
１９ 冷却水ポンプ
２０ 導電率計
２１ サンプリング配管
２２ サンプリングポンプ
２３ エッチング液回収配管
２４ 補給タンク
２５ フッ酸
２６ 補給ポンプ
２７ 補給配管
２８ 制御部
【技術分野】
【０００１】
この発明は液晶表示装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来の液晶表示装置の製造方法には、２枚のガラス基板を個々の表示素子が形成される領域を囲繞するように設けられた単素子シール材を介して貼り合わせ、この貼り合わされた２枚のガラス基板の外周部を外周シール材で封止し、この状態でエッチング槽内のエッチング液中に浸漬して２枚のガラス基板をエッチングし、これにより２枚のガラス基板の厚さを薄くするようにした方法がある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
上記従来の液晶表示装置の製造方法では、エッチング槽内のエッチング液の温度がガラス基板のエッチングの進行つまりガラス基板のエッチング厚さの増加に伴って上昇するので、エッチング槽内のエッチング液の温度を検出し、この温度検出結果に基づいてエッチング終了時点を決定し、ガラス基板の厚さが所望の厚さとなるようにしている。
【０００４】
この場合、エッチング速度はエッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度に左右されるため、エッチング槽内のエッチング液の初期温度及び初期濃度が異なると、ガラス基板の厚さが所望の厚さとなるエッチング終了時点におけるエッチング槽内のエッチング液の温度が異なってしまう。
【０００５】
また、一般的な液晶表示装置の製造方法では、生産性の向上を図るため、完成された液晶表示装置を複数個形成することが可能な面積を有する２枚のガラス基板を複数の単素子シール材を介して貼り合わせて液晶表示装置形成用構成体を形成し、複数枚の液晶表示装置形成用構成体に対してバッチ処理を行うことが多い。
【０００６】
このようなバッチ処理では、複数枚の液晶表示装置形成用構成体をエッチング槽内のエッチング液中に浸漬して同時にエッチングを行うことになる。その場合、エッチング槽内のエッチング液中に浸漬する液晶表示装置形成用構成体のバッチ処理枚数により、エッチングの進行に伴うエッチング槽内のエッチング液の温度上昇が異なり、ガラス基板の厚さが所望の厚さとなるエッチング終了時点におけるエッチング槽内のエッチング液の温度が異なってしまう。
【０００７】
以上のように、ガラス基板の厚さが所望の厚さとなるエッチング終了時点におけるエッチング槽内のエッチング液の温度は、エッチング槽内のエッチング液の初期温度、初期濃度及び液晶表示装置形成用構成体のバッチ処理枚数により異なるので、これらのパラメータに応じた予備実験を行い、その予備実験結果に基づいてガラス基板の厚さが所望の厚さとなるエッチング終了時点におけるエッチング槽内のエッチング液の温度を決定することになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許第６１９７２０９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、エッチング槽内のエッチング液の初期温度、初期濃度及び液晶表示装置形成用構成体のバッチ処理枚数というパラメータの総数は個々の独立パラメータ数の積となり、膨大な数となり、実際的でないという問題がある。さらに、エッチング槽の容積が異なったり、処理に用いるエッチング液の量が予備実験とは異なる場合でもエッチング液の温度とガラス基板のエッチング厚さとの関係が変化すると考えられるから、エッチング装置ごとに、この膨大な数の予備実験を行う必要があり、より一層実際的でないという問題がある。
【００１０】
そこで、この発明は、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができる液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この発明は、上記目的を達成するため、２枚のガラス基板を外周シール材を介して一部開口を設けた状態で互いに貼り合わせる貼り合わせ工程と、前記開口を封止材で封止する封止工程と、上記封止された２枚のガラス基板をエッチング槽内のエッチング液中に浸漬する浸漬工程と、前記エッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度を一定に維持して、前記２枚のガラス基板の所望のエッチング厚さに対応する時間、前記２枚のガラス基板をエッチングして、前記２枚のガラス基板の厚さを薄くするエッチング工程と、を含むことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１２】
この発明によれば、エッチング速度がエッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度に応じて一意的に決定されることに着目し、エッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度を一定に維持して、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板のエッチング厚さをエッチング時間で管理するようにしているので、パラメータはエッチング時間のみであり、したがって互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】（Ａ）はこの発明の一実施形態として製造方法により製造された液晶表示装置の一例の平面図、（Ｂ）はそのＢ−Ｂ線に沿う断面図。
【図２】図１に示す液晶表示装置の製造工程を示す図。
【図３】図２のステップＳ１〜Ｓ４を説明するために示す液晶表示装置形成用構成体の一部を切り欠いた平面図。
【図４】エッチング装置の一例の概略構成図。
【図５】導電率計の一例の電気回路の要部を示す図。
【図６】導電率計の他の例の要部の斜視図。
【図７】ガラス基板の厚さとエッチング時間との関係を示す図。
【図８】エッチング装置の他の例の概略構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１（Ａ）はこの発明の一実施形態としての製造方法により製造された液晶表示装置の一例の平面図を示し、図１（Ｂ）は図１（Ａ）のＢ−Ｂ線に沿う断面図を示す。この液晶表示装置では、２枚のガラス基板１、２がほぼ方形枠状の単素子シール材３を介して貼り合わされ、単素子シール材３の内側における両ガラス基板１、２間に液晶４が単素子シール材３に形成された液晶注入口５を介して封入され、液晶注入口５が封止材６で封止された構造となっている。この場合、下側のガラス基板１の一辺部は上側のガラス基板２から突出されている。また、ガラス基板１、２の厚さは例えば約０．３ｍｍと比較的薄くなっている。
【００１５】
次に、この液晶表示装置の製造方法の一例について、図２に示す製造工程図を参照して説明する。まず、図２のステップＳ１において、図３に示すように、完成された液晶表示装置を複数個（例えば、４×４＝１６個）形成することが可能な面積を有する２枚のガラス基板１、２を用意する。この場合、ガラス基板１、２の厚さは例えば約０．５ｍｍと比較的厚くなっている。
【００１６】
次に、図２のステップＳ２のシール材形成工程において、下側のガラス基板１の上面の各液晶表示装置形成領域に、スクリーン印刷法により、エポキシ系樹脂等からなるほぼ方形枠状の単素子シール材３を形成し、同時に、下側のガラス基板１の上面外周部に同じくエポキシ系樹脂等からなるほぼ方形枠状の外周シール材７を形成する。この場合、単素子シール材３の１箇所には液晶注入口５が形成され、外周シール材７の４箇所には空気逃げ口８が形成されている。
【００１７】
次に、図２のステップＳ３の貼り合わせ工程において、単素子シール材３及び外周シール材７を加熱して硬化させることにより、２枚のガラス基板１、２を互いに貼り合わせる。このとき、外周シール材７の内側における両ガラス基板１、２間に存在する空気が熱膨張するが、この熱膨張した空気の一部が外周シール材７の空気逃げ口８を介して外部に放出され、外周シール材７の破損が防止される。
【００１８】
次に、図２のステップＳ４の封止材形成工程において、外周シール材７の空気逃げ口８を紫外線硬化型のエポキシ変性アクリル系樹脂等からなる封止材９で封止する。ここで、図２のステップＳ４の封止材形成工程を終えた状態における図３に示すものを、以下、液晶表示装置形成用構成体１０という。
【００１９】
次に、図２のステップＳ５のエッチング工程を行うため、図４に概略構成を示すエッチング装置１１を用意する。このエッチング装置１１はエッチング槽１２を備えている。エッチング槽１２内には、ガラスのエッチング液として、フッ酸、水、その他（エッチングの反応を促進する触媒）からなるフッ酸系水溶液（以下、エッチング液という）１３が収容されている。
【００２０】
エッチング槽１２内にはヒータ１４、熱電対等からなる温度センサ１５、コイル状の冷却用配管１６が設けられている。冷却用配管１６の流入側及び流出側は、エッチング槽１２の外部に設けられた流入側配管１７及び流出側配管１８に接続されている。流入側配管１６の途中には冷却水ポンプ１９が介在されている。
【００２１】
エッチング槽１２の外部には導電率計２０が設けられている。導電率計２０の構造については後で説明する。ここで、エッチング液１３の導電率とエッチング液１３中のフッ酸濃度とには相関関係があるため、エッチング液１３の導電率を測定すると、エッチング液１３中のフッ酸濃度を測定することができる。
【００２２】
導電率計２０の下部にはサンプリング配管２１の一端部が接続されている。サンプリング配管２１の他端部はエッチング槽１２の下部に接続されている。サンプリング配管２１の途中にはサンプリングポンプ２２が介在されている。導電率計２０の上部にはエッチング液回収配管２３の一端部が接続されている。エッチング液回収配管２３の他端部はエッチング槽１２内の上部に配置されている。
【００２３】
エッチング槽１２の外部には補給タンク２４が設けられている。補給タンク２４内にはフッ酸２５が収容されている。補給タンク２４内のフッ酸２５は、補給ポンプ２６の駆動により、補給ポンプ２６が介在された補給配管２７を介してエッチング槽１２内に補給されるようになっている。
【００２４】
ここで、温度センサ１５は、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を検出し、温度検出信号を制御部２８に供給する。導電率計２０は、ここに供給されたエッチング液１３の導電率を検出し、導電率（濃度）検出信号を制御部２８に供給する。制御部２８は、これらの検出信号に基づいて後述する演算等を行うほかに、ヒータ１４、ポンプ１９、２２、２６の各駆動を制御するようになっている。
【００２５】
次に、図５は導電率計２０の一例の電気回路の要部を示す。この電気回路は、ホイートストンブリッジによる抵抗測定回路であり、測定対象つまりエッチング液１３の抵抗ＲＸと内部可変抵抗Ｒ０及び内部固定抵抗Ｒ１、Ｒ２とが検流計Ｇとブリッジ形に接続された構造となっている。この場合、Ｒ１＝Ｒ２である。
【００２６】
そして、この導電率計２０では、まず、予備実験として、抵抗値ＲＸが予め分かっている実験用エッチング液が供給された状態において、内部可変抵抗Ｒ０を調整して検流計Ｇに流れる電流Ｉが０になるようにすると、Ｒ０＝ＲＸとなる。次に、Ｒ０＝ＲＸとした状態において、測定すべきエッチング液１３が供給されると、検流計Ｇに流れる電流が変化してＩとなり、このとき抵抗Ｒ1及びＲ2にはともに同じ大きさの電流ｉが流れる。ここで、Ｉ／ｉが１より十分小さいとき、ＲＸの抵抗変化ΔＲはＩに比例するので、ＲＸ＝Ｒ０＋ΔＲから、測定すべきエッチング液１３の抵抗が求められるから、後述の通り、抵抗率とその逆数である導電率が求められる。
【００２７】
次に、図６は導電率計２０の他の例の要部の斜視図を示す。この導電率計２０では、フッ素樹脂等からなる円筒形状のケース３１内に白金、カーボン等からなる短冊形状の一対の電極３２、３３が相対向して設けられた構造となっている。そして、ケース３１内にエッチング液１３が供給された状態において、一対の電極３２、３３間に電流を流すと、オームの法則により、一対の電極３２、３３間に介在されたエッチング液１３の抵抗が測定される。この場合の導電率κは次の式（１）から求められる。ただし、ρはエッチング液１３の抵抗率、Ｒは測定されたエッチング液１３の抵抗、Ｄは一対の電極３２、３３の間隔、Ｓは電極３２、３３の対向面積である。
κ＝１／ρ＝Ｄ／（ＲＳ）……（１）
【００２８】
次に、図４に示すエッチング装置１１のエッチング槽１２内のエッチング液１３の温度制御について説明する。エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度が温度センサ１５で検出されると、その温度検出信号が制御部２８に供給される。制御部２８は、温度センサ１５から供給された温度検出信号に基づいて、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度がある設定温度（例えば６０℃、公差±１℃）未満であるか否かを判断し、ある設定温度未満である場合には、ヒータ１４を駆動させ、エッチング槽１２内のエッチング液１３を加熱してその温度がある設定温度となるようにする。
【００２９】
一方、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度がエッチングの進行に伴い上昇してある設定温度よりも高くなった場合には、制御部２８は、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度がある設定温度よりも高くなったと判断し、冷却水ポンプ１９を駆動させ、冷却水配管１６に冷却水が供給され、エッチング槽１２内のエッチング液１３を冷却してその温度がある設定温度となるようにする。
【００３０】
なお、特に、ヒータ１４の駆動制御は、ＰＩＤ(Proportinal
Integral Differential)制御法により行うようにしてもよい。ＰＩＤ制御法は、比例制御、積分制御及び微分制御の３つの組み合わせで制御するものであり、木目細かでスムーズな制御を実現することができる。特に、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を一定に維持した状態において、後述の如く、液晶表示装置形成用構成体１０の浸漬やフッ酸２５の補給等の外乱により、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度が急激に低下したとき、ある設定温度に短時間で戻すことができる。
【００３１】
次に、エッチング槽１２内のエッチング液１３の濃度制御について説明する。サンプリングポンプ２２が駆動すると、エッチング槽１２内のエッチング液１３がサンプリング配管５２を介して導電率計２０内に供給される。この場合、サンプリングポンプ２２の駆動中は、導電率計２０内をエッチング液１３が常時ほぼ一定の速度で流れ、エッチング液回収配管２３を介してエッチング槽１２内に回収される。
【００３２】
そして、導電率計２０では、ここに供給されたエッチング液１３の導電率を検出し、その導電率検出結果を制御部２８に供給する。制御部２８は、導電率計２０から供給された導電率検出結果に基づいて、エッチング液１３中のフッ酸濃度がある設定濃度未満であるか否かを判断し、ある設定濃度未満である場合には、補給ポンプ２６を駆動させ、補給タンク２４内のフッ酸２５を補給配管２７を介してエッチング槽１２内に補給し、エッチング槽１２内のエッチング液１３中のフッ酸濃度がある設定濃度となるようにする。
【００３３】
ここで、一例として、エッチング液１３がフッ酸８０％、水１５％、その他（エッチングの反応を促進する触媒）５％からなるフッ酸系水溶液である場合、エッチング液１３中のフッ酸濃度は８０％である。そして、ある設定濃度は、公差も含めて、８０±４％である。なお、補給ポンプ２６の停止は、実験データに基づいた量のフッ酸２５を補給したら、自動的に行われる。
【００３４】
次に、図４に示すエッチング装置の動作について説明する。エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度がある設定温度及びある設定濃度とされた状態において、エッチング槽１２内のエッチング液１３中に液晶表示装置形成用構成体１０をここでは１枚浸漬する。すると、液晶表示装置形成用構成体１０の２枚のガラス基板１、２がエッチングされ、その厚さが徐々に薄くなる。
【００３５】
ここで、予備実験結果について説明する。エッチング槽１２内のエッチング液１３中のフッ酸濃度を８０±４％と一定に維持し、且つ、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を６０℃、４０℃、２５℃（ただし、いずれの場合も公差±１℃）と一定に維持した状態において、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２をエッチングしてその厚さとエッチング時間との関係を調べたところ、図７に示す結果が得られた。この場合、ガラス基板１、２の当初の厚さは約０．５ｍｍとした。
【００３６】
図７から明らかなように、エッチング槽１２内のエッチング液１３中のフッ酸濃度が８０±４％と一定に維持された状態において、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を６０℃、４０℃、２５℃と一定に維持すると、当該温度が高いほどエッチング速度が速いが、いずれの温度条件の場合も、ガラス基板１、２の厚さはエッチング時間によって一義的に決まる。
【００３７】
この結果、１枚の液晶表示装置形成用構成体１０の当初の厚さ約０．５ｍｍのガラス基板１、２の厚さを約０．３ｍｍと薄くしたい場合には、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度を６０℃、４０℃、２５℃と一定に維持すると、エッチング時間が約２１０秒、約４００秒、約６００秒となった時点で、液晶表示装置形成用構成体１０をエッチング槽１２内のエッチング液１３中から取り出してエッチングを終了すると、いずれの温度条件の場合も、ガラス基板１、２の厚さを約０．３ｍｍと薄くすることができる。
【００３８】
この場合、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一定に維持して、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２のエッチング厚さをエッチング時間で管理しているので、パラメータはエッチング時間のみであり、したがって液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができ、ひいては予備実験数を少なくすることができる。
【００３９】
すなわち、予備実験としては、エッチング槽１２内のエッチング液１３の設定温度を６０±１℃とする場合には、エッチング槽１２内のエッチング液１３のフッ酸設定濃度を８０±４％とした状態において、１回行うと、図７に示す６０℃の場合の結果が得られ、１回で済むことになる。当該設定温度をさらに４０±１℃及び２５±１℃とする場合には、予備実験をさらに２回行えばよく、予備実験数を少なくすることができる。
【００４０】
なお、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一定に維持したときは、複数枚の液晶表示装置形成用構成体１０をバッチ処理する場合についても、各液晶表示装置形成用構成体１０のエッチング速度は何れも、上述した１つの液晶表示装置形成用構成体１０のエッチング速度と同じであるから、この場合も、予備実験数を少なくすることができる。また、エッチング槽１２の容積が異なったり、処理に用いるエッチング液の量が予備実験とは異なる場合でも、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２のエッチング厚さをエッチング時間で管理することができるので、エッチング槽１２ごとに予備実験を行う必要はない。
【００４１】
かくして、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２の厚さを薄くしたら、液晶表示装置形成用構成体１０をエッチング槽１２内のエッチング液１３中から取り出し、エッチングを終了する。次に、図２のステップＳ６の切断工程において、液晶表示装置形成用構成体１０のガラス基板１、２を、ガラスカッター等の切断手段によって封止材９を取り除くように切断した後に、封止材９が取り除かれたガラス基板１、２を切断して個片化する。
【００４２】
ここで、封止材９は、ガラス基板１、２を単素子シール材３を介して接合した後に設けられるため、その一部がガラス基板１、２の表面に対して突出して形成されるが、ガラス基板１、２を個片化する前に封止材９を取り除くことによって、個片化する際にガラスカッターの刃の部分がこれらの封止材９に当たってガラス基板１、２の端部が切断されないことに起因する、ガラス基板１、２の意図しない割れなどの破壊を防ぐことができる。
【００４３】
次に、図２のステップＳ７の液晶注入工程において、図１（Ａ）、（Ｂ）に示すように、単素子シール材３の内側における両ガラス基板１、２間に液晶４を単素子シール材３の液晶注入口５を介して注入し、次いで、ステップＳ８の液晶注入口封止工程において、液晶注入口５を封止材６で封止すると、図１（Ａ）、（Ｂ）に示す液晶表示装置が得られる。
【００４４】
次に、図８はエッチング装置１１の他の例の概略構成図を示す。このエッチング装置１１において、図４に示すエッチング装置１１と異なる点は、導電率計２０をエッチング槽１２内のエッチング液１３中に配置し、サンプリング配管２１、サンプリングポンプ２２及びエッチング液回収配管２３を省略した点である。このようにした場合には、サンプリング配管２１、サンプリングポンプ２２及びエッチング液回収配管２３を省略することができるので、構成を簡略化することができる。
【００４５】
ところで、図４及び図８にそれぞれ示すエッチング装置１１において、エッチング槽１２を揺動手段（図示せず）で上下方向に揺動させながらエッチングを行うようにしてもよい。このようにした場合には、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一様化することができる。
【００４６】
また、図４及び図８にそれぞれ示すエッチング装置１１において、エッチング槽１２内のエッチング液１３を超音波振動手段（図示せず）で超音波振動させながらエッチングを行うようにしてもよい。このようにした場合には、エッチング槽１２内にエッチングにより発生した気泡がガラス基板１、２の表面に付着することに起因する局所的なエッチング遅れを、超音波振動でガラス基板１、２の表面に付着した気泡を剥がすことにより、防止することができ、また、ガラス基板１、２の表面に付着した有機物の汚れを落としやすくすることができる。
【符号の説明】
【００４７】
１、２ ガラス基板
３ 単素子シール材
４ 液晶
５ 液晶注入口
６ 封止材
７ 外周シール材
８ 空気逃げ口
９ 封止材
１０ 液晶表示装置形成用構成体
１１ エッチング装置
１２ エッチング槽
１３ エッチング液
１４ ヒータ
１５ 温度センサ
１６ 冷却水配管
１９ 冷却水ポンプ
２０ 導電率計
２１ サンプリング配管
２２ サンプリングポンプ
２３ エッチング液回収配管
２４ 補給タンク
２５ フッ酸
２６ 補給ポンプ
２７ 補給配管
２８ 制御部
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚のガラス基板の外周部を外周シール材で封止する封止工程と、
上記封止された２枚のガラス基板をエッチング槽内のエッチング液中に浸漬する浸漬工程と、
前記エッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度を一定に維持して、前記２枚のガラス基板の所望のエッチング厚さに対応する時間、前記２枚のガラス基板をエッチングして、前記２枚のガラス基板の厚さを薄くするエッチング工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記エッチング工程における前記エッチング槽内のエッチング液の温度の一定の維持は、
前記エッチング槽内のエッチング液の温度を温度検出手段で検出する温度検出工程と、
この温度検出結果に基づいて加熱手段による加熱あるいは冷却手段による冷却により行う温度調整工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記エッチング液はフッ酸系水溶液であり、前記エッチング槽内のエッチング液の濃度の一定の維持は、前記エッチング槽内のエッチング液中のフッ酸の濃度を濃度検出手段で検出する濃度検出工程と、
この濃度検出結果に基づいて前記エッチング槽内にフッ酸を補給することにより行う濃度調整工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記エッチング工程は、前記エッチング槽を揺動する揺動工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記エッチング工程は、前記エッチング槽内のエッチング液を超音波振動させながら行う超音波振動工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記封止工程は、前記２枚のガラス基板を前記外周シール材を介して一部開口を設けた状態で互いに貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記開口を封止材で封止する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記２枚のガラス基板の間に介在された前記封止材を、前記２枚のガラス基板の外周部における少なくとも前記封止材が設けられた辺を切断することによって除去する封止材除去工程と、
その後、前記封止材が取り除かれた２枚のガラス基板を切断することによって個片化する個片化工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記２枚のガラス基板は、完成された液晶表示装置を複数個形成することが可能な面積を有し、その間に介在された複数の単素子シール材及び前記外周シール材を介して互いに貼り合わされて、液晶表示装置形成用構成体を形成していることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記液晶表示装置形成用構成体を複数枚同時にエッチングするバッチ処理工程を含むことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項１】
２枚のガラス基板の外周部を外周シール材で封止する封止工程と、
上記封止された２枚のガラス基板をエッチング槽内のエッチング液中に浸漬する浸漬工程と、
前記エッチング槽内のエッチング液の温度及び濃度を一定に維持して、前記２枚のガラス基板の所望のエッチング厚さに対応する時間、前記２枚のガラス基板をエッチングして、前記２枚のガラス基板の厚さを薄くするエッチング工程と、
を含むことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項２】
前記エッチング工程における前記エッチング槽内のエッチング液の温度の一定の維持は、
前記エッチング槽内のエッチング液の温度を温度検出手段で検出する温度検出工程と、
この温度検出結果に基づいて加熱手段による加熱あるいは冷却手段による冷却により行う温度調整工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項３】
前記エッチング液はフッ酸系水溶液であり、前記エッチング槽内のエッチング液の濃度の一定の維持は、前記エッチング槽内のエッチング液中のフッ酸の濃度を濃度検出手段で検出する濃度検出工程と、
この濃度検出結果に基づいて前記エッチング槽内にフッ酸を補給することにより行う濃度調整工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項４】
前記エッチング工程は、前記エッチング槽を揺動する揺動工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項５】
前記エッチング工程は、前記エッチング槽内のエッチング液を超音波振動させながら行う超音波振動工程を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項６】
前記封止工程は、前記２枚のガラス基板を前記外周シール材を介して一部開口を設けた状態で互いに貼り合わせる貼り合わせ工程と、
前記開口を封止材で封止する工程と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項７】
前記２枚のガラス基板の間に介在された前記封止材を、前記２枚のガラス基板の外周部における少なくとも前記封止材が設けられた辺を切断することによって除去する封止材除去工程と、
その後、前記封止材が取り除かれた２枚のガラス基板を切断することによって個片化する個片化工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項８】
前記２枚のガラス基板は、完成された液晶表示装置を複数個形成することが可能な面積を有し、その間に介在された複数の単素子シール材及び前記外周シール材を介して互いに貼り合わされて、液晶表示装置形成用構成体を形成していることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項９】
前記液晶表示装置形成用構成体を複数枚同時にエッチングするバッチ処理工程を含むことを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置の製造方法。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【公開番号】特開２０１０−１９１４４６（Ｐ２０１０−１９１４４６Ａ）
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１０−６４７１２（Ｐ２０１０−６４７１２）
【出願日】平成２２年３月１９日（２０１０．３．１９）
【分割の表示】特願２００６−５８９４０（Ｐ２００６−５８９４０）の分割
【原出願日】平成１８年３月６日（２００６．３．６）
【出願人】（０００００１４４３）カシオ計算機株式会社 (8,748)
【出願人】（５０１２５５５４９）三和フロスト工業株式会社 (3)
【出願人】（０００２１４２７２）長瀬産業株式会社 (137)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年９月２日（２０１０．９．２）
【国際特許分類】
【出願日】平成２２年３月１９日（２０１０．３．１９）
【分割の表示】特願２００６−５８９４０（Ｐ２００６−５８９４０）の分割
【原出願日】平成１８年３月６日（２００６．３．６）
【出願人】（０００００１４４３）カシオ計算機株式会社 (8,748)
【出願人】（５０１２５５５４９）三和フロスト工業株式会社 (3)
【出願人】（０００２１４２７２）長瀬産業株式会社 (137)
【Ｆターム（参考）】
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