液晶表示装置
【課題】 液晶表示装置では、表示品位の低下を抑制することができる。
【解決手段】 本発明に係る液晶表示装置は、第１基板21と、第１基板21に対向配置された第２基板22と、第１基板21と第２基板22との間に配置された液晶層23と、第２基板22上に設けられた第１表示用電極225と、第１表示用電極225を覆うように第２基板22上に設けられた絶縁膜226と、絶縁膜226を介して第１表示用電極225上に配置され、第１表示用電極225との間で電界を形成して画素Ｐを構成するための第２表示用電極227とを備えており、第２表示用電極227は、第１直線部227ａと、第１直線部227ｂに対して傾斜している第２直線部227ｂと、第１直線部227ａと第２直線部227ｂとを接続している屈曲部227ｃとを有しており、屈曲部227ｃの形成領域における絶縁膜226の厚みは、第１直線部227ａおよび第２直線部227ｂの形成領域における絶縁膜226の厚みに比べて小さいことを特徴とする。
【解決手段】 本発明に係る液晶表示装置は、第１基板21と、第１基板21に対向配置された第２基板22と、第１基板21と第２基板22との間に配置された液晶層23と、第２基板22上に設けられた第１表示用電極225と、第１表示用電極225を覆うように第２基板22上に設けられた絶縁膜226と、絶縁膜226を介して第１表示用電極225上に配置され、第１表示用電極225との間で電界を形成して画素Ｐを構成するための第２表示用電極227とを備えており、第２表示用電極227は、第１直線部227ａと、第１直線部227ｂに対して傾斜している第２直線部227ｂと、第１直線部227ａと第２直線部227ｂとを接続している屈曲部227ｃとを有しており、屈曲部227ｃの形成領域における絶縁膜226の厚みは、第１直線部227ａおよび第２直線部227ｂの形成領域における絶縁膜226の厚みに比べて小さいことを特徴とする。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、デジタルカメラ、携帯ゲーム機あるいは携帯型情報端末などの様々な用途に用いられる液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、互いに対向配置させた一対の基板と、これら基板間に設けられた液晶層と、一対の基板のうち一方の基板上に設けられた共通電極と、この共通電極上に絶縁膜を介して設けられた複数の信号電極とを備える。
【０００３】
このような液晶表示装置では、一方の基板上に設けられた信号電極および共通電極に対して電圧を印加すると、信号電極と共通電極との間で横電界を発生させ、この横電界によって液晶層中の液晶分子の配向を制御することで、広視野角化を実現できる。
【０００４】
近年では、液晶表示装置に対してさらなる広視野角化が求められている。さらなる広視野角化を実現させるために、信号電極を屈曲させ、画素を複数の領域に分割することで、それぞれの領域での液晶分子の配向を変えるマルチドメイン技術がある（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７―３１６５３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
最近、液晶表示装置はタッチパネルなどと組み合わせて使用される場合が多く、これによって液晶表示装置が押圧される頻度が高くなっている。
【０００７】
液晶分子の配向を電圧で制御している状態で液晶表示装置に押圧が加わると、ディスクリネーションと呼ばれる液晶分子の配向が乱れた領域が広がり、押圧がなくなっても配向が元に戻らない、もしくは戻るまで時間がかかる現象が発生する。そのため、押圧した部分の形跡が残り、表示品位が低下する。この配向の乱れは液晶分子への電圧制御を解除することで解消させることができる。
【０００８】
しかしながら、電圧による制御が維持されれば、押圧によって回転した液晶分子は、信号電極における屈曲部、直線部の端部または直線部同士を連結する連結部で電位障壁を越えられず、元の状態に戻れないため、ディスクリネーションが消えず、例えばノーマリーブラックの場合は画素の透過率が低下（ノーマリーホワイトの場合は上昇）してしまう問題があった。
【０００９】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、押圧力が加わったときの液晶分子の配向の乱れを低減することで、表示品位の低下を抑制することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る液晶表示装置は、透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され
、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、前記第２表示用電極は、第１直線部と、該第１直線部に対して傾斜している第２直線部と、前記第１直線部と前記第２直線部とを接続している屈曲部とを有しており、該屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部および前記第２直線部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さい、または大きいことを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係る液晶表示装置は、透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、前記第２表示用電極は、第１直線部を有しており、前記第１直線部の端部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部の線状部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さい、または大きいことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の液晶表示装置は、押圧力が加わったときの液晶分子の配向の乱れを低減することで、表示品位の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１の実施形態における液晶表示装置を示す平面図である。
【図２】図１のI−I線に沿った断面図である。
【図３】画素における第２基板の電極を示す平面図である。
【図４】図３のII−II線の断面図である。
【図５】図３のIII−III線の断面図である。
【図６】図３のIV−IV線の断面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態における液晶表示装置を示す断面図である。
【図８】本発明の第３の実施形態における液晶表示装置を示す図であり、図３のII−II線に対応した断面図である。
【図９】本発明の第３の実施形態における液晶表示装置を示す図であり、図３のIII−III線に対応した断面図である。
【図１０】本発明の第３の実施形態における液晶表示装置を示す図であり、図３のIV−IV線の断面図である。
【図１１】本発明の第４の実施形態における液晶表示装置を示す断面図である。
【図１２】本発明の変形例の要部を示す図である。
【図１３】本発明の変形例の要部を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［実施の形態１］
本発明の第１の実施形態における液晶表示装置１について、図１〜図６を参照しながら説明する。
【００１５】
液晶表示装置１は、複数の画素Ｐからなる表示領域ＥＤを有する液晶パネル２と、液晶パネル２の表示領域ＥＤに向けて光を出射する光源装置３と、液晶パネル２上に配置される第１偏光板４と、液晶パネル２と光源装置３との間に配置される第２偏光板５とを備えている。
【００１６】
液晶パネル２では、第１基板21と第２基板22とが対向配置され、第１基板21と第２基板22との間に液晶層23が設けられているとともに、この液晶層23を取り囲むように第１基板
21と第２基板22とを接合するシール材24が設けられている。
【００１７】
第１基板21は、画像表示の際に表示面として用いられる外側主面としての第１主面21ａと、第１主面21ａとは反対側に位置する内側主面としての第２主面21ｂとを有している。第１基板21は、例えばガラス、プラスチックなどの透光性を有する材料によって形成される。
【００１８】
第１基板21の第２主面21ｂ上には、遮光膜、カラーフィルタ211などが設けられている。
【００１９】
遮光膜は、第１基板21の第２主面21ｂ上に各画素Ｐの外周に沿って格子状に設けられている。遮光膜の材料は、遮光性の高い色（例えば黒色）の染料あるいは顔料（例えば、カーボンもしくはカーボンを樹脂で被覆した樹脂カーボン）が添加された樹脂、またはクロム、酸化クロムなどの金属が挙げられる。
【００２０】
カラーフィルタ211は、可視光のうち特定の波長の光のみを透過させる機能を有する。複数のカラーフィルタ211は、第１基板21の第２主面21ｂ上に位置しており、各画素Ｐごとに設けられている。各カラーフィルタ211は、赤、緑および青のいずれかの色を有している。また、カラーフィルタ211は、上記の色に限られず、例えば、黄色、白などの色を有してもよい。カラーフィルタ211の材料としては、例えば染料あるいは顔料を添加した樹脂が挙げられる。
【００２１】
第２基板22は、第１基板21の第２主面21ｂに対向する内側主面としての第１主面22ａと、第１主面22ａの反対側に位置する外側主面としての第２主面22ｂとを有している。第２基板22は第１基板21と同様の材料で形成できる。
【００２２】
表示領域ＥＤにおける第２基板22の第１主面22ａ上には、複数のゲート配線221が設けられている。この複数のゲート配線221を覆うようにゲート絶縁膜222が設けられている。また、このゲート絶縁膜222上には、複数のソース配線223が設けられている。また、複数のソース配線223上には、平坦化膜224が設けられている。この平坦化膜224上には第１表示用電極として共通電極225が設けられている。また、この共通電極225を覆うように平坦化膜224上に絶縁膜として層間絶縁膜226が設けられており、層間絶縁膜226上には第２表示用電極として信号電極227が設けられている。
【００２３】
ゲート配線221は、ドライバから供給される電圧を薄膜トランジスタＴＦＴに印加する機能を有する。図３に示すように、ゲート配線221は、第２基板22の第１主面22ａ上にＸ方向に延在している。また、複数のゲート配線221はＹ方向に沿って配列されている。ゲート配線221は、導電性を有する材料によって形成され、例えば、アルミニウム、モリブデン、チタン、ネオジム、クロム、銅またはこれらを含む合金によって形成される。
【００２４】
なお、ゲート配線221は例えば下記方法によって形成される。
【００２５】
まず、スパッタリング法、蒸着法、または化学気相成長法によって、金属材料を第２基板22の第１主面22ａ上に金属膜として形成する。この金属膜の表面に対して感光性樹脂を塗布し、塗布した感光性樹脂に対して露光処理および現像処理を行なうことで、感光性樹脂に所望の形状のパターンを形成する。次いで、金属膜を薬液でエッチングして、金属膜を所望の形状にした後、塗布した感光性樹脂を剥離する。このように、金属材料を成膜およびパターニングすることでゲート配線221を形成できる。
【００２６】
ゲート絶縁膜222はゲート配線221を覆うように第１主面22ａ上に設けられている。ゲー
ト絶縁膜222は、窒化珪素、酸化珪素などの絶縁性を有する材料によって形成される。なお、ゲート絶縁膜222は、上記のスパッタリング法、蒸着法、または化学気相成長法などによって第２基板22の第１主面22ａ上に形成できる。
【００２７】
ソース配線223は、ドライバから供給される信号電圧を薄膜トランジスタＴＦＴを介して信号電極227に印加する機能を有する。図３に示すように、ソース配線223は、ゲート配線221が配列する方向（Ｙ方向）に沿って延在しているとともに、屈曲している。また、複数のソース配線223は、ゲート配線221の延在方向（Ｘ方向）に沿って配列されている。ソース配線223はゲート配線221と同様の材料で形成してもよい。ソース配線223はゲート配線221と同様の方法によって形成できる。
【００２８】
薄膜トランジスタＴＦＴでは、ゲート配線221を介して半導体層に印加される電圧に応じてソース電極およびドレイン電極間の半導体層の抵抗が変化することで、信号電極227への画像信号の書き込みもしくは非書き込みが制御される。
【００２９】
平坦化膜224は、ソース配線223と共通電極225とを電気的に絶縁するとともに、第２基板22の第１主面22ａ上を平坦化させる機能を有する。平坦化膜224は絶縁性材料によって形成され、絶縁材料としては例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂もしくはポリイミド系樹脂などの有機材料または無機材料が挙げられる。
【００３０】
共通電極225は、ドライバから印加された電圧によって信号電極227との間で電界を発生させる機能を有する。共通電極225は平坦化膜224上に設けられている。共通電極225は透光性および導電性を有する材料によって形成され、例えばＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＴＯ、ＡＺＯ、酸化錫、酸化亜鉛または導電性高分子によって形成される。
【００３１】
層間絶縁膜226は、共通電極225と信号電極227とを電気的に絶縁する機能を有する。層間絶縁膜226は共通電極225を覆うように設けられている。層間絶縁膜226はゲート絶縁膜222と同様の材料で形成してもよい。また、本実施形態では、後述するように、層間絶縁膜226の膜厚が均一ではなく部分的に薄くなっている。なお、例えばハーフトーンマスクを使用すれば、工程の追加などの製造上の負荷を増大させることなく、層間絶縁膜226における所望の領域の膜厚だけを変化させることができる。
【００３２】
信号電極227は、ドライバから印加された電圧によって共通電極225との間で電界を発生させる機能を有する。複数の信号電極227は、共通電極225と重なるように層間絶縁膜226上に設けられている。信号電極227は共通電極225と同様の材料で形成してもよい。
【００３３】
図３に示すように、信号電極227は、第１直線部227ａと、第２直線部227ｂと、屈曲部227ｃと、連結部227ｄとを有している。
【００３４】
第１直線部227ａは、直線状の部分であり、ゲート配線221の配列方向（Ｙ方向）に対して傾斜して延在している。また、複数の第１直線部227ａは、一定距離を空けてゲート配線221の延在方向（Ｘ方向）に沿って配列している。また、各画素Ｐにおいて複数の第１直線部227ａの端部は連結部227ｄによって連結されている。
【００３５】
第２直線部227ｂは、直線状の部分であり、ゲート配線221の配列方向（Ｙ方向）に対して傾斜して延在している。また、第２直線部227ｂは第１直線部227ａに対して傾斜している。また、複数の第２直線部227ｂは一定距離を空けてゲート配線221の延在方向（Ｘ方向）に沿って配列している。また、各画素Ｐにおいて複数の第２直線部227ｂの端部は連結部227ｄによって接続されている。
【００３６】
屈曲部227ｃは第１直線部227ａと第２直線部227ｂとを接続している。屈曲部227ｃは、ゲート配線221の配列方向（Ｙ方向）での第１直線部227ａと第２直線部227ｂとの間に位置している。
【００３７】
図４および図５に示すように、液晶表示装置１では、屈曲部227ｃの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｃは、第１直線部227ａの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴａおよび第２直線部227ｂの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｂに比べて小さく設定されている。これにより、屈曲部227ｃの形成領域における液晶層23のギャップが大きくなり、屈曲部227ｃ近傍におけるＹ方向の電界が弱くなることで、屈曲部227ｃ近傍では液晶分子が回転しやすくなり、押圧力により液晶分子の配向が乱れても配向が戻りやすくなるので、第１直線部227ａもしくは第２直線部227ｂ側に広がったディスクリネーションは消滅しやすくなり、例えばノーマリーブラックでは画素Ｐの透過率の低下を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。
【００３８】
また、層間絶縁膜226の厚みＴaおよび層間絶縁膜226の厚みＴｂに対する層間絶縁膜226の厚みＴｃの変化量は、例えば１０％〜９０％の範囲内で設定されている。
【００３９】
なお、本実施形態では図３の領域Ｅｃにおいて膜厚が薄くなっており、領域ＥｃのＹ方向の大きさは例えば３μｍ以上に設定されている。
【００４０】
また、図５に示すように、Ｘ方向に沿った断面において、屈曲部227ｃ近傍での層間絶縁膜226の膜厚Ｔは漸次小さくなっている。これにより、層間絶縁膜226は、第１直線部227ａから屈曲部227ｃを挟んで第２直線部227ｂにかけて、その膜厚が急激に小さくならない。すなわち、層間絶縁膜226に傾斜角度の大きな部位が形成されていないので、押圧されることによって屈曲部227ｃ近傍の電極に対し応力が局所的に集中することを低減できる。
【００４１】
連結部227ｄは、直線状の部分であり、ソース配線223の配列方向（Ｘ方向）に沿って延在している。また、連結部227ｄは複数の第１直線部227ａの端部を接続しているとともに、複数の第２直線部227ｂの端部を接続している。
【００４２】
液晶表示装置１では、第１直線部227ａの端部、第２直線部227ｂの端部および連結部227ｄの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｄは、第１直線部227ａの線状部の形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴaおよび第２直線部227ｂの線状部の形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｂに比べて小さく設定されている。これにより、連結部227ｄの形成領域のおける液晶層のギャップが大きくなり、連結部227ｄ近傍における電界が線状部に比べて弱くなることで、連結部227ｄ近傍では電界による液晶分子の抑制力が弱まり、押圧力により液晶分子の配向が乱れても配向が戻りやすくなるので、第１直線部227ａもしくは第２直線部227ｂ側に広がったディスクリネーションは消滅しやすくなり、例えばノーマリーブラックでは画素Ｐの透過率の低下を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。
【００４３】
また、層間絶縁膜226の厚みＴａおよび層間絶縁膜226の厚みＴｂに対する層間絶縁膜226の厚みＴｄの変化量は、例えば10％〜90％の範囲内で設定されている。
【００４４】
なお、本実施形態では図３の領域Ｅｄにおいて膜厚が薄くなっており、領域ＥｄのＹ方向での大きさは３μｍ以上に設定されている。
【００４５】
液晶層23は、第１基板21と第２基板22との間に設けられている。液晶層23は、ネマティック液晶、コレステリック液晶、またはスメクティック液晶などの液晶分子を含んでいる。
【００４６】
シール材24は、第１基板21と第２基板22とを貼り合わせる機能を有する。シール材24は、平面視して表示領域ＥＤを取り囲むようにして第１基板21と第２基板22との間に設けられている。このシール材24は、エポキシ樹脂などの有機材料によって形成される。
【００４７】
光源装置３は、液晶パネル２の表示領域ＥＤに向けて光を出射する機能を有する。光源装置３は、光源31と、導光板32とを有している。なお、本実施形態における光源装置３では、光源31にＬＥＤなどの点光源を採用しているが、冷陰極管などの線光源を採用してもよい。
【００４８】
第１偏光板４は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第１偏光板４は、液晶パネル２の第１基板21の第１主面21ａに対向するように配置されている。
【００４９】
第２偏光板５は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第２偏光板５は、第２基板22の第２主面22ｂに対向するように配置されている。
【００５０】
［実施の形態２］
図７は、第２の実施形態における液晶表示装置１Ａの要部を示す図である。具体的には、図７は図３のII−II線の断面に対応した図である。
【００５１】
液晶表示装置１Ａは、液晶表示装置１に比べて、屈曲部227ｃの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｃは、隣り合う屈曲部227ｃ間に位置する領域での層間絶縁膜226の厚みＴeに比べて小さい点が異なる。
【００５２】
液晶表示装置１Ａでも、液晶表示装置１で説明した効果と同様の効果を奏する。
【００５３】
［実施の形態３］
図８〜図１０は、第３の実施形態における液晶表示装置１Ｂの要部を示す図である。図８は図３のII-II線の断面に対応した図であり、図９は図３のIII−III線の断面に対応した図であり、図１０は図３のIV−IV線の断面に対応した図である。
【００５４】
液晶表示装置１Ｂは、液晶表示装置１に比べて下記の点で異なる。
【００５５】
図８および図９に示すように、液晶表示装置１Ｂでは、屈曲部227ｃの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｃは、第１直線部227ａの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴaおよび第２直線部227ｂの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｂに比べて大きく設定されている。
【００５６】
これにより、信号電極227の屈曲部227ｃと共通電極225との間の距離が離れ、屈曲部227ｃ近傍での電界が弱くなることで電位障壁が低下し、液晶分子が回転しやすくなり、押圧力によって液晶分子の配向が乱れても配向が戻りやすくなるので、直線部227a、227b領域に広がったディスクリネーションは消滅しやすくなり、例えばノーマリーブラックでは、画素Ｐの透過率の低下を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。
【００５７】
また、層間絶縁膜226の厚みＴａおよび層間絶縁膜226の厚みＴｂに対する層間絶縁膜226の厚みＴｃの変化量は例えば10％以上で設定されている。
【００５８】
図９に示すように、液晶表示装置１Ｂでは、Ｘ方向に沿った断面において、屈曲部227ｃ近傍での層間絶縁膜226の膜厚Ｔは漸次大きくなっている。これにより、層間絶縁膜226は、第１直線部227ａから屈曲部227ｃを挟んで第２直線部227ｂにかけて、その膜厚が急
激に大きくならない。すなわち、層間絶縁膜226に傾斜角度の大きな部位が存在しないので、押圧によって屈曲部227ｃ近傍の電極に対し応力が局所的に集中することを低減できる。
【００５９】
また、図10に示すように、連結部227ｄの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｄは厚くなっている。
【００６０】
液晶表示装置１Ｂでは、第１直線部227ａの端部、第２直線部227ｂの端部および連結部227ｄの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｄは、第１直線部227ａの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴａおよび第２直線部227ｂの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｂに比べて大きく設定されている。これにより、信号電極227の連結部227ｄと共通電極225との間の距離が離れ、連結部227ｄ近傍での電界が直線部227a，227ｂの線状部に比べて弱くなることで電位障壁が低下し、連結部227ｄ近傍では電界による液晶分子の抑制力が弱まり、押圧力によって液晶分子の配向が乱れても配向が戻りやすくなるので、直線部227a、227b領域に広がったディスクリネーションは消滅しやすくなり、例えばノーマリーブラックでは、画素Ｐの透過率の低下を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。
【００６１】
また、層間絶縁膜226の厚みＴａおよび層間絶縁膜226の厚みＴｂに対する層間絶縁膜226の厚みＴｄの変化量は例えば10％以上で設定されている。
【００６２】
［実施の形態４］
図11は、第４の実施形態における液晶表示装置１Ｃの要部を示す断面図である。具体的には、図11は図３のII−II線の断面に対応した図である。
【００６３】
液晶表示装置１Ｃは、液晶表示装置１Ｂに比べて、屈曲部227ｃの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｃは、隣り合う屈曲部227ｃ間の領域での層間絶縁膜226の厚みＴeよりも大きい点が異なる。
【００６４】
液晶表示装置１Ｃでも、液晶表示装置１Ｂで説明した効果と同様の効果を奏する。
【００６５】
本発明は上記の実施の形態１〜４に特に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更および改良が可能である。
【００６６】
上記実施形態では、信号電極227が第１直線部227ａもしくは第２直線部227ｂの端部で連結部227ｄで接続されているが、図12に示すように、端部で連結させずに屈曲部227ｃで連結部227ｄに連結させてもよい。
【００６７】
この場合、図12の領域Ｅｃにおいて、屈曲部227ｃおよび屈曲部227ｃ間の連結部227ｄでの層間絶縁膜226の膜厚を直線部227a、227ｂでの層間絶縁膜226の膜厚よりも小さく、もしくは大きくすることで、押圧力に対する耐久性が向上する。
【００６８】
また、上記実施形態ではデュアルドメイン方式について説明したが、本発明は、図１３に示すようにシングルドメイン方式についても適用できる。
【００６９】
この場合、図13の領域Ｅｃにおいて、第１直線部227ａの端部および連結電極227ｄでの膜厚を直線部の線状部での層間絶縁膜226の膜厚よりも小さく、または大きくすることで、上記第１もしくは第２実施形態で説明した効果と同様な効果を奏する。
【００７０】
上記実施形態では、第１表示用電極を共通電極225とし、第２表示用電極を信号電極227として説明したが、第１表示用電極を信号電極227とし、第２表示用電極を信号電極225と
してもよい。すなわち、この場合、共通電極225は層間絶縁膜226を介して信号電極227上に形成されるとともに、直線部、屈曲部および連結部を有することになる。
【符号の説明】
【００７１】
１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃ 液晶表示装置
Ｐ 画素
ＥＤ 表示領域
21 第１基板
22 第２基板
227 信号電極（第２表示用電極）
227ａ 第１直線部
227ｂ 第２直線部
227ｃ 屈曲部
227ｄ 連結部
225 共通電極（第１表示用電極）
226 層間絶縁膜（絶縁膜）
23 液晶層
【技術分野】
【０００１】
本発明は、携帯電話、デジタルカメラ、携帯ゲーム機あるいは携帯型情報端末などの様々な用途に用いられる液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、互いに対向配置させた一対の基板と、これら基板間に設けられた液晶層と、一対の基板のうち一方の基板上に設けられた共通電極と、この共通電極上に絶縁膜を介して設けられた複数の信号電極とを備える。
【０００３】
このような液晶表示装置では、一方の基板上に設けられた信号電極および共通電極に対して電圧を印加すると、信号電極と共通電極との間で横電界を発生させ、この横電界によって液晶層中の液晶分子の配向を制御することで、広視野角化を実現できる。
【０００４】
近年では、液晶表示装置に対してさらなる広視野角化が求められている。さらなる広視野角化を実現させるために、信号電極を屈曲させ、画素を複数の領域に分割することで、それぞれの領域での液晶分子の配向を変えるマルチドメイン技術がある（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７―３１６５３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
最近、液晶表示装置はタッチパネルなどと組み合わせて使用される場合が多く、これによって液晶表示装置が押圧される頻度が高くなっている。
【０００７】
液晶分子の配向を電圧で制御している状態で液晶表示装置に押圧が加わると、ディスクリネーションと呼ばれる液晶分子の配向が乱れた領域が広がり、押圧がなくなっても配向が元に戻らない、もしくは戻るまで時間がかかる現象が発生する。そのため、押圧した部分の形跡が残り、表示品位が低下する。この配向の乱れは液晶分子への電圧制御を解除することで解消させることができる。
【０００８】
しかしながら、電圧による制御が維持されれば、押圧によって回転した液晶分子は、信号電極における屈曲部、直線部の端部または直線部同士を連結する連結部で電位障壁を越えられず、元の状態に戻れないため、ディスクリネーションが消えず、例えばノーマリーブラックの場合は画素の透過率が低下（ノーマリーホワイトの場合は上昇）してしまう問題があった。
【０００９】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、押圧力が加わったときの液晶分子の配向の乱れを低減することで、表示品位の低下を抑制することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係る液晶表示装置は、透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され
、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、前記第２表示用電極は、第１直線部と、該第１直線部に対して傾斜している第２直線部と、前記第１直線部と前記第２直線部とを接続している屈曲部とを有しており、該屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部および前記第２直線部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さい、または大きいことを特徴とする。
【００１１】
また、本発明に係る液晶表示装置は、透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、前記第２表示用電極は、第１直線部を有しており、前記第１直線部の端部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部の線状部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さい、または大きいことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の液晶表示装置は、押圧力が加わったときの液晶分子の配向の乱れを低減することで、表示品位の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の第１の実施形態における液晶表示装置を示す平面図である。
【図２】図１のI−I線に沿った断面図である。
【図３】画素における第２基板の電極を示す平面図である。
【図４】図３のII−II線の断面図である。
【図５】図３のIII−III線の断面図である。
【図６】図３のIV−IV線の断面図である。
【図７】本発明の第２の実施形態における液晶表示装置を示す断面図である。
【図８】本発明の第３の実施形態における液晶表示装置を示す図であり、図３のII−II線に対応した断面図である。
【図９】本発明の第３の実施形態における液晶表示装置を示す図であり、図３のIII−III線に対応した断面図である。
【図１０】本発明の第３の実施形態における液晶表示装置を示す図であり、図３のIV−IV線の断面図である。
【図１１】本発明の第４の実施形態における液晶表示装置を示す断面図である。
【図１２】本発明の変形例の要部を示す図である。
【図１３】本発明の変形例の要部を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
［実施の形態１］
本発明の第１の実施形態における液晶表示装置１について、図１〜図６を参照しながら説明する。
【００１５】
液晶表示装置１は、複数の画素Ｐからなる表示領域ＥＤを有する液晶パネル２と、液晶パネル２の表示領域ＥＤに向けて光を出射する光源装置３と、液晶パネル２上に配置される第１偏光板４と、液晶パネル２と光源装置３との間に配置される第２偏光板５とを備えている。
【００１６】
液晶パネル２では、第１基板21と第２基板22とが対向配置され、第１基板21と第２基板22との間に液晶層23が設けられているとともに、この液晶層23を取り囲むように第１基板
21と第２基板22とを接合するシール材24が設けられている。
【００１７】
第１基板21は、画像表示の際に表示面として用いられる外側主面としての第１主面21ａと、第１主面21ａとは反対側に位置する内側主面としての第２主面21ｂとを有している。第１基板21は、例えばガラス、プラスチックなどの透光性を有する材料によって形成される。
【００１８】
第１基板21の第２主面21ｂ上には、遮光膜、カラーフィルタ211などが設けられている。
【００１９】
遮光膜は、第１基板21の第２主面21ｂ上に各画素Ｐの外周に沿って格子状に設けられている。遮光膜の材料は、遮光性の高い色（例えば黒色）の染料あるいは顔料（例えば、カーボンもしくはカーボンを樹脂で被覆した樹脂カーボン）が添加された樹脂、またはクロム、酸化クロムなどの金属が挙げられる。
【００２０】
カラーフィルタ211は、可視光のうち特定の波長の光のみを透過させる機能を有する。複数のカラーフィルタ211は、第１基板21の第２主面21ｂ上に位置しており、各画素Ｐごとに設けられている。各カラーフィルタ211は、赤、緑および青のいずれかの色を有している。また、カラーフィルタ211は、上記の色に限られず、例えば、黄色、白などの色を有してもよい。カラーフィルタ211の材料としては、例えば染料あるいは顔料を添加した樹脂が挙げられる。
【００２１】
第２基板22は、第１基板21の第２主面21ｂに対向する内側主面としての第１主面22ａと、第１主面22ａの反対側に位置する外側主面としての第２主面22ｂとを有している。第２基板22は第１基板21と同様の材料で形成できる。
【００２２】
表示領域ＥＤにおける第２基板22の第１主面22ａ上には、複数のゲート配線221が設けられている。この複数のゲート配線221を覆うようにゲート絶縁膜222が設けられている。また、このゲート絶縁膜222上には、複数のソース配線223が設けられている。また、複数のソース配線223上には、平坦化膜224が設けられている。この平坦化膜224上には第１表示用電極として共通電極225が設けられている。また、この共通電極225を覆うように平坦化膜224上に絶縁膜として層間絶縁膜226が設けられており、層間絶縁膜226上には第２表示用電極として信号電極227が設けられている。
【００２３】
ゲート配線221は、ドライバから供給される電圧を薄膜トランジスタＴＦＴに印加する機能を有する。図３に示すように、ゲート配線221は、第２基板22の第１主面22ａ上にＸ方向に延在している。また、複数のゲート配線221はＹ方向に沿って配列されている。ゲート配線221は、導電性を有する材料によって形成され、例えば、アルミニウム、モリブデン、チタン、ネオジム、クロム、銅またはこれらを含む合金によって形成される。
【００２４】
なお、ゲート配線221は例えば下記方法によって形成される。
【００２５】
まず、スパッタリング法、蒸着法、または化学気相成長法によって、金属材料を第２基板22の第１主面22ａ上に金属膜として形成する。この金属膜の表面に対して感光性樹脂を塗布し、塗布した感光性樹脂に対して露光処理および現像処理を行なうことで、感光性樹脂に所望の形状のパターンを形成する。次いで、金属膜を薬液でエッチングして、金属膜を所望の形状にした後、塗布した感光性樹脂を剥離する。このように、金属材料を成膜およびパターニングすることでゲート配線221を形成できる。
【００２６】
ゲート絶縁膜222はゲート配線221を覆うように第１主面22ａ上に設けられている。ゲー
ト絶縁膜222は、窒化珪素、酸化珪素などの絶縁性を有する材料によって形成される。なお、ゲート絶縁膜222は、上記のスパッタリング法、蒸着法、または化学気相成長法などによって第２基板22の第１主面22ａ上に形成できる。
【００２７】
ソース配線223は、ドライバから供給される信号電圧を薄膜トランジスタＴＦＴを介して信号電極227に印加する機能を有する。図３に示すように、ソース配線223は、ゲート配線221が配列する方向（Ｙ方向）に沿って延在しているとともに、屈曲している。また、複数のソース配線223は、ゲート配線221の延在方向（Ｘ方向）に沿って配列されている。ソース配線223はゲート配線221と同様の材料で形成してもよい。ソース配線223はゲート配線221と同様の方法によって形成できる。
【００２８】
薄膜トランジスタＴＦＴでは、ゲート配線221を介して半導体層に印加される電圧に応じてソース電極およびドレイン電極間の半導体層の抵抗が変化することで、信号電極227への画像信号の書き込みもしくは非書き込みが制御される。
【００２９】
平坦化膜224は、ソース配線223と共通電極225とを電気的に絶縁するとともに、第２基板22の第１主面22ａ上を平坦化させる機能を有する。平坦化膜224は絶縁性材料によって形成され、絶縁材料としては例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂もしくはポリイミド系樹脂などの有機材料または無機材料が挙げられる。
【００３０】
共通電極225は、ドライバから印加された電圧によって信号電極227との間で電界を発生させる機能を有する。共通電極225は平坦化膜224上に設けられている。共通電極225は透光性および導電性を有する材料によって形成され、例えばＩＴＯ、ＩＺＯ、ＡＴＯ、ＡＺＯ、酸化錫、酸化亜鉛または導電性高分子によって形成される。
【００３１】
層間絶縁膜226は、共通電極225と信号電極227とを電気的に絶縁する機能を有する。層間絶縁膜226は共通電極225を覆うように設けられている。層間絶縁膜226はゲート絶縁膜222と同様の材料で形成してもよい。また、本実施形態では、後述するように、層間絶縁膜226の膜厚が均一ではなく部分的に薄くなっている。なお、例えばハーフトーンマスクを使用すれば、工程の追加などの製造上の負荷を増大させることなく、層間絶縁膜226における所望の領域の膜厚だけを変化させることができる。
【００３２】
信号電極227は、ドライバから印加された電圧によって共通電極225との間で電界を発生させる機能を有する。複数の信号電極227は、共通電極225と重なるように層間絶縁膜226上に設けられている。信号電極227は共通電極225と同様の材料で形成してもよい。
【００３３】
図３に示すように、信号電極227は、第１直線部227ａと、第２直線部227ｂと、屈曲部227ｃと、連結部227ｄとを有している。
【００３４】
第１直線部227ａは、直線状の部分であり、ゲート配線221の配列方向（Ｙ方向）に対して傾斜して延在している。また、複数の第１直線部227ａは、一定距離を空けてゲート配線221の延在方向（Ｘ方向）に沿って配列している。また、各画素Ｐにおいて複数の第１直線部227ａの端部は連結部227ｄによって連結されている。
【００３５】
第２直線部227ｂは、直線状の部分であり、ゲート配線221の配列方向（Ｙ方向）に対して傾斜して延在している。また、第２直線部227ｂは第１直線部227ａに対して傾斜している。また、複数の第２直線部227ｂは一定距離を空けてゲート配線221の延在方向（Ｘ方向）に沿って配列している。また、各画素Ｐにおいて複数の第２直線部227ｂの端部は連結部227ｄによって接続されている。
【００３６】
屈曲部227ｃは第１直線部227ａと第２直線部227ｂとを接続している。屈曲部227ｃは、ゲート配線221の配列方向（Ｙ方向）での第１直線部227ａと第２直線部227ｂとの間に位置している。
【００３７】
図４および図５に示すように、液晶表示装置１では、屈曲部227ｃの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｃは、第１直線部227ａの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴａおよび第２直線部227ｂの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｂに比べて小さく設定されている。これにより、屈曲部227ｃの形成領域における液晶層23のギャップが大きくなり、屈曲部227ｃ近傍におけるＹ方向の電界が弱くなることで、屈曲部227ｃ近傍では液晶分子が回転しやすくなり、押圧力により液晶分子の配向が乱れても配向が戻りやすくなるので、第１直線部227ａもしくは第２直線部227ｂ側に広がったディスクリネーションは消滅しやすくなり、例えばノーマリーブラックでは画素Ｐの透過率の低下を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。
【００３８】
また、層間絶縁膜226の厚みＴaおよび層間絶縁膜226の厚みＴｂに対する層間絶縁膜226の厚みＴｃの変化量は、例えば１０％〜９０％の範囲内で設定されている。
【００３９】
なお、本実施形態では図３の領域Ｅｃにおいて膜厚が薄くなっており、領域ＥｃのＹ方向の大きさは例えば３μｍ以上に設定されている。
【００４０】
また、図５に示すように、Ｘ方向に沿った断面において、屈曲部227ｃ近傍での層間絶縁膜226の膜厚Ｔは漸次小さくなっている。これにより、層間絶縁膜226は、第１直線部227ａから屈曲部227ｃを挟んで第２直線部227ｂにかけて、その膜厚が急激に小さくならない。すなわち、層間絶縁膜226に傾斜角度の大きな部位が形成されていないので、押圧されることによって屈曲部227ｃ近傍の電極に対し応力が局所的に集中することを低減できる。
【００４１】
連結部227ｄは、直線状の部分であり、ソース配線223の配列方向（Ｘ方向）に沿って延在している。また、連結部227ｄは複数の第１直線部227ａの端部を接続しているとともに、複数の第２直線部227ｂの端部を接続している。
【００４２】
液晶表示装置１では、第１直線部227ａの端部、第２直線部227ｂの端部および連結部227ｄの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｄは、第１直線部227ａの線状部の形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴaおよび第２直線部227ｂの線状部の形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｂに比べて小さく設定されている。これにより、連結部227ｄの形成領域のおける液晶層のギャップが大きくなり、連結部227ｄ近傍における電界が線状部に比べて弱くなることで、連結部227ｄ近傍では電界による液晶分子の抑制力が弱まり、押圧力により液晶分子の配向が乱れても配向が戻りやすくなるので、第１直線部227ａもしくは第２直線部227ｂ側に広がったディスクリネーションは消滅しやすくなり、例えばノーマリーブラックでは画素Ｐの透過率の低下を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。
【００４３】
また、層間絶縁膜226の厚みＴａおよび層間絶縁膜226の厚みＴｂに対する層間絶縁膜226の厚みＴｄの変化量は、例えば10％〜90％の範囲内で設定されている。
【００４４】
なお、本実施形態では図３の領域Ｅｄにおいて膜厚が薄くなっており、領域ＥｄのＹ方向での大きさは３μｍ以上に設定されている。
【００４５】
液晶層23は、第１基板21と第２基板22との間に設けられている。液晶層23は、ネマティック液晶、コレステリック液晶、またはスメクティック液晶などの液晶分子を含んでいる。
【００４６】
シール材24は、第１基板21と第２基板22とを貼り合わせる機能を有する。シール材24は、平面視して表示領域ＥＤを取り囲むようにして第１基板21と第２基板22との間に設けられている。このシール材24は、エポキシ樹脂などの有機材料によって形成される。
【００４７】
光源装置３は、液晶パネル２の表示領域ＥＤに向けて光を出射する機能を有する。光源装置３は、光源31と、導光板32とを有している。なお、本実施形態における光源装置３では、光源31にＬＥＤなどの点光源を採用しているが、冷陰極管などの線光源を採用してもよい。
【００４８】
第１偏光板４は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第１偏光板４は、液晶パネル２の第１基板21の第１主面21ａに対向するように配置されている。
【００４９】
第２偏光板５は、所定の振動方向の光を選択的に透過させる機能を有する。この第２偏光板５は、第２基板22の第２主面22ｂに対向するように配置されている。
【００５０】
［実施の形態２］
図７は、第２の実施形態における液晶表示装置１Ａの要部を示す図である。具体的には、図７は図３のII−II線の断面に対応した図である。
【００５１】
液晶表示装置１Ａは、液晶表示装置１に比べて、屈曲部227ｃの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｃは、隣り合う屈曲部227ｃ間に位置する領域での層間絶縁膜226の厚みＴeに比べて小さい点が異なる。
【００５２】
液晶表示装置１Ａでも、液晶表示装置１で説明した効果と同様の効果を奏する。
【００５３】
［実施の形態３］
図８〜図１０は、第３の実施形態における液晶表示装置１Ｂの要部を示す図である。図８は図３のII-II線の断面に対応した図であり、図９は図３のIII−III線の断面に対応した図であり、図１０は図３のIV−IV線の断面に対応した図である。
【００５４】
液晶表示装置１Ｂは、液晶表示装置１に比べて下記の点で異なる。
【００５５】
図８および図９に示すように、液晶表示装置１Ｂでは、屈曲部227ｃの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｃは、第１直線部227ａの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴaおよび第２直線部227ｂの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｂに比べて大きく設定されている。
【００５６】
これにより、信号電極227の屈曲部227ｃと共通電極225との間の距離が離れ、屈曲部227ｃ近傍での電界が弱くなることで電位障壁が低下し、液晶分子が回転しやすくなり、押圧力によって液晶分子の配向が乱れても配向が戻りやすくなるので、直線部227a、227b領域に広がったディスクリネーションは消滅しやすくなり、例えばノーマリーブラックでは、画素Ｐの透過率の低下を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。
【００５７】
また、層間絶縁膜226の厚みＴａおよび層間絶縁膜226の厚みＴｂに対する層間絶縁膜226の厚みＴｃの変化量は例えば10％以上で設定されている。
【００５８】
図９に示すように、液晶表示装置１Ｂでは、Ｘ方向に沿った断面において、屈曲部227ｃ近傍での層間絶縁膜226の膜厚Ｔは漸次大きくなっている。これにより、層間絶縁膜226は、第１直線部227ａから屈曲部227ｃを挟んで第２直線部227ｂにかけて、その膜厚が急
激に大きくならない。すなわち、層間絶縁膜226に傾斜角度の大きな部位が存在しないので、押圧によって屈曲部227ｃ近傍の電極に対し応力が局所的に集中することを低減できる。
【００５９】
また、図10に示すように、連結部227ｄの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｄは厚くなっている。
【００６０】
液晶表示装置１Ｂでは、第１直線部227ａの端部、第２直線部227ｂの端部および連結部227ｄの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｄは、第１直線部227ａの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴａおよび第２直線部227ｂの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｂに比べて大きく設定されている。これにより、信号電極227の連結部227ｄと共通電極225との間の距離が離れ、連結部227ｄ近傍での電界が直線部227a，227ｂの線状部に比べて弱くなることで電位障壁が低下し、連結部227ｄ近傍では電界による液晶分子の抑制力が弱まり、押圧力によって液晶分子の配向が乱れても配向が戻りやすくなるので、直線部227a、227b領域に広がったディスクリネーションは消滅しやすくなり、例えばノーマリーブラックでは、画素Ｐの透過率の低下を抑制でき、表示品位の低下を抑制できる。
【００６１】
また、層間絶縁膜226の厚みＴａおよび層間絶縁膜226の厚みＴｂに対する層間絶縁膜226の厚みＴｄの変化量は例えば10％以上で設定されている。
【００６２】
［実施の形態４］
図11は、第４の実施形態における液晶表示装置１Ｃの要部を示す断面図である。具体的には、図11は図３のII−II線の断面に対応した図である。
【００６３】
液晶表示装置１Ｃは、液晶表示装置１Ｂに比べて、屈曲部227ｃの形成領域での層間絶縁膜226の厚みＴｃは、隣り合う屈曲部227ｃ間の領域での層間絶縁膜226の厚みＴeよりも大きい点が異なる。
【００６４】
液晶表示装置１Ｃでも、液晶表示装置１Ｂで説明した効果と同様の効果を奏する。
【００６５】
本発明は上記の実施の形態１〜４に特に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々の変更および改良が可能である。
【００６６】
上記実施形態では、信号電極227が第１直線部227ａもしくは第２直線部227ｂの端部で連結部227ｄで接続されているが、図12に示すように、端部で連結させずに屈曲部227ｃで連結部227ｄに連結させてもよい。
【００６７】
この場合、図12の領域Ｅｃにおいて、屈曲部227ｃおよび屈曲部227ｃ間の連結部227ｄでの層間絶縁膜226の膜厚を直線部227a、227ｂでの層間絶縁膜226の膜厚よりも小さく、もしくは大きくすることで、押圧力に対する耐久性が向上する。
【００６８】
また、上記実施形態ではデュアルドメイン方式について説明したが、本発明は、図１３に示すようにシングルドメイン方式についても適用できる。
【００６９】
この場合、図13の領域Ｅｃにおいて、第１直線部227ａの端部および連結電極227ｄでの膜厚を直線部の線状部での層間絶縁膜226の膜厚よりも小さく、または大きくすることで、上記第１もしくは第２実施形態で説明した効果と同様な効果を奏する。
【００７０】
上記実施形態では、第１表示用電極を共通電極225とし、第２表示用電極を信号電極227として説明したが、第１表示用電極を信号電極227とし、第２表示用電極を信号電極225と
してもよい。すなわち、この場合、共通電極225は層間絶縁膜226を介して信号電極227上に形成されるとともに、直線部、屈曲部および連結部を有することになる。
【符号の説明】
【００７１】
１、１Ａ、１Ｂ、１Ｃ 液晶表示装置
Ｐ 画素
ＥＤ 表示領域
21 第１基板
22 第２基板
227 信号電極（第２表示用電極）
227ａ 第１直線部
227ｂ 第２直線部
227ｃ 屈曲部
227ｄ 連結部
225 共通電極（第１表示用電極）
226 層間絶縁膜（絶縁膜）
23 液晶層
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、
前記第２表示用電極は、第１直線部と、該第１直線部に対して傾斜している第２直線部と、前記第１直線部と前記第２直線部とを接続している屈曲部とを有しており、
該屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部および前記第２直線部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、前記第２表示用電極は、第１直線部を有しており、
前記第１直線部の端部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部の線状部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
前記第２表示用電極は、一定方向に配列する複数の前記第１直線部と、前記一定方向に配列する複数の前記第２直線部と、各前記第１直線部と各前記第２直線部とを接続しており、前記一定方向に配列する複数の前記屈曲部とを有し、
前記屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、隣り合う前記屈曲部間の領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さい請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、
前記第２表示用電極は、第１直線部と、該第１直線部に対して傾斜している第２直線部と、前記第１直線部と前記第２直線部とを接続している屈曲部とを有しており、
該屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部および前記第２直線部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、前記第２表示用電極は、第１直線部を有しており、
前記第１直線部の端部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部の線状部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
前記第２表示用電極は、一定方向に配列する複数の前記第１直線部と、前記一定方向に配列する複数の前記第２直線部と、各前記第１直線部と各前記第２直線部とを接続しており、前記一定方向に配列する複数の前記屈曲部とを有し、
前記屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、隣り合う前記屈曲部間の領域におけ
る前記絶縁膜の厚みに比べて大きい請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項１】
透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、
前記第２表示用電極は、第１直線部と、該第１直線部に対して傾斜している第２直線部と、前記第１直線部と前記第２直線部とを接続している屈曲部とを有しており、
該屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部および前記第２直線部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、前記第２表示用電極は、第１直線部を有しており、
前記第１直線部の端部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部の線状部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項３】
前記第２表示用電極は、一定方向に配列する複数の前記第１直線部と、前記一定方向に配列する複数の前記第２直線部と、各前記第１直線部と各前記第２直線部とを接続しており、前記一定方向に配列する複数の前記屈曲部とを有し、
前記屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、隣り合う前記屈曲部間の領域における前記絶縁膜の厚みに比べて小さい請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、
前記第２表示用電極は、第１直線部と、該第１直線部に対して傾斜している第２直線部と、前記第１直線部と前記第２直線部とを接続している屈曲部とを有しており、
該屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部および前記第２直線部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
透光性を有する第１基板と、該第１基板に対向配置された透光性を有する第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置された液晶層と、前記第２基板上に設けられた第１表示用電極と、前記第１表示用電極を覆うように前記第２基板上に設けられた絶縁膜と、前記絶縁膜を介して前記第１表示用電極上に配置され、前記第１表示用電極との間で電界を形成して画素を構成するための第２表示用電極とを備えており、前記第２表示用電極は、第１直線部を有しており、
前記第１直線部の端部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、前記第１直線部の線状部の形成領域における前記絶縁膜の厚みに比べて大きいことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
前記第２表示用電極は、一定方向に配列する複数の前記第１直線部と、前記一定方向に配列する複数の前記第２直線部と、各前記第１直線部と各前記第２直線部とを接続しており、前記一定方向に配列する複数の前記屈曲部とを有し、
前記屈曲部の形成領域における前記絶縁膜の厚みは、隣り合う前記屈曲部間の領域におけ
る前記絶縁膜の厚みに比べて大きい請求項４に記載の液晶表示装置。
【図１】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【図２】
【図３】
【図４】
【図５】
【図６】
【図７】
【図８】
【図９】
【図１０】
【図１１】
【図１２】
【図１３】
【公開番号】特開２０１３−９７１０６（Ｐ２０１３−９７１０６Ａ）
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２０１１−２３８６９３（Ｐ２０１１−２３８６９３）
【出願日】平成２３年１０月３１日（２０１１．１０．３１）
【出願人】（０００００６６３３）京セラ株式会社 (13,660)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２５年５月２０日（２０１３．５．２０）
【国際特許分類】
【出願日】平成２３年１０月３１日（２０１１．１０．３１）
【出願人】（０００００６６３３）京セラ株式会社 (13,660)
【Ｆターム（参考）】
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